JP2930758B2 - グラフトコポリマー組成物 - Google Patents
グラフトコポリマー組成物Info
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L51/00—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L51/06—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to homopolymers or copolymers of aliphatic hydrocarbons containing only one carbon-to-carbon double bond
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Description
【０００１】本発明はプロピレンポリマー物質の幹又は
基幹上にスチレンポリマーがグラフトしたグラフトコポ
リマーを含む組成物に関し、より詳しくは連続相として
のプロピレンポリマー物質及び分散相としてのスチレン
ポリマーを特徴とするヘテロ相構造を示すグラフトコポ
リマーを基にした組成物に関する。ポリマー幹上の活性
グラフト化部位でモノマーを重合することにより形成さ
れたグラフトコポリマーは１つの化学種であるけれど
も、しかしそれらが成分ポリマーの性質の単純平均より
はむしろグラフトポリマー並びに幹ポリマーの特有性質
を示すことができるのでポリマーハイブリッドの興味深
い種類を構成する。ポリマーの物理的ブレンドと比較し
たときに、グラフトコポリマーはその中のセグメント間
化学結合のために通常分散相のドメイン大きさが安定で
あり、およそ大きさの程度により小さいことができる小
さいヘテロ相形態を示す。さらに、相間の付着力が良好
である。不混和性ポリマー例えばポリプロピレンとポリ
スチレンの物理的ブレンドは、ブレンド中の不混和性ポ
リマー間の高い界面張力及び劣る付着力に関連する問題
をある程度軽減できる相容化剤例えば適当に選ばれたブ
ロックコポリマーの包含を必要とする。ブレンド中のポ
リマーに対する相容化剤として少量のスチレン類ブロッ
クコポリマーゴムを含むポリプロピロピレとポリスチレ
ンの物理的ブレンドが米国特許第 4,386,187号中に記載
されている。
基幹上にスチレンポリマーがグラフトしたグラフトコポ
リマーを含む組成物に関し、より詳しくは連続相として
のプロピレンポリマー物質及び分散相としてのスチレン
ポリマーを特徴とするヘテロ相構造を示すグラフトコポ
リマーを基にした組成物に関する。ポリマー幹上の活性
グラフト化部位でモノマーを重合することにより形成さ
れたグラフトコポリマーは１つの化学種であるけれど
も、しかしそれらが成分ポリマーの性質の単純平均より
はむしろグラフトポリマー並びに幹ポリマーの特有性質
を示すことができるのでポリマーハイブリッドの興味深
い種類を構成する。ポリマーの物理的ブレンドと比較し
たときに、グラフトコポリマーはその中のセグメント間
化学結合のために通常分散相のドメイン大きさが安定で
あり、およそ大きさの程度により小さいことができる小
さいヘテロ相形態を示す。さらに、相間の付着力が良好
である。不混和性ポリマー例えばポリプロピレンとポリ
スチレンの物理的ブレンドは、ブレンド中の不混和性ポ
リマー間の高い界面張力及び劣る付着力に関連する問題
をある程度軽減できる相容化剤例えば適当に選ばれたブ
ロックコポリマーの包含を必要とする。ブレンド中のポ
リマーに対する相容化剤として少量のスチレン類ブロッ
クコポリマーゴムを含むポリプロピロピレとポリスチレ
ンの物理的ブレンドが米国特許第 4,386,187号中に記載
されている。
【０００２】プロピレン及びスチレンポリマーの「化学
的」ブレンドを基にした、すなわちスチレンポリマー／
プロピレンポリマー物質の幹のグラフトコポリマーを基
にした構造用プラスチックはグラフトコポリマー中の微
小ドメイン構造から生ずる利益のために、またプロピレ
ンポリマー及びスチレンポリマー相の間に必要な付着力
が外部試剤、すなわち相容化剤、の作用によるよりはむ
しろグラフトコポリマー自体中の化学結合に由来するの
で当該技術における要求を満たすであろう。しかし今日
まで、これらのグラフトコポリマーについて示唆された
用途は主に不混和性ポリマー系に対する相容化剤及びガ
ムプラスチック組成物の成分に制限された。
的」ブレンドを基にした、すなわちスチレンポリマー／
プロピレンポリマー物質の幹のグラフトコポリマーを基
にした構造用プラスチックはグラフトコポリマー中の微
小ドメイン構造から生ずる利益のために、またプロピレ
ンポリマー及びスチレンポリマー相の間に必要な付着力
が外部試剤、すなわち相容化剤、の作用によるよりはむ
しろグラフトコポリマー自体中の化学結合に由来するの
で当該技術における要求を満たすであろう。しかし今日
まで、これらのグラフトコポリマーについて示唆された
用途は主に不混和性ポリマー系に対する相容化剤及びガ
ムプラスチック組成物の成分に制限された。
【０００３】米国特許第 3,314,904号はスチレン／（ポ
リエチレン又はポリプロピレン）のグラフトコポリマ
ー、詳しくは、スチレン、アクリロニトリル、及びポリ
エチレン又はポリプロピレンのグラフトインターポリマ
ー、を製造し、そのグラフトコポリマーを一定の選んだ
相容性ゴム状物質とブレンドすることによる「ガムプラ
スチック」の形成を記載している。グラフトコポリマー
のグラフトしたスチレン又はスチレン−アクリロニトリ
ル含量は７５〜９５％、好ましくは８５〜９５％、より
好ましくは９０〜９５％である。従って、グラフトコポ
リマーは主に結合したスチレン又は結合したスチレン−
アクリロニトリルであり、ポリプロピレンから製造され
たコポリマー中でポリプロピレンは単に小量成分であ
り、分散相として存在する。従って、結合したスチレン
又はスチレン−アクリロニトリルの性質が優勢である。
そのグラフトコポリマーはポリオレフィンを高エネルギ
ーイオン化放射線にさらし、次いで照射されたポリオレ
フィンをスチレン又はスチレン及びアクリロニトリルに
接触させることにより製造される。
リエチレン又はポリプロピレン）のグラフトコポリマ
ー、詳しくは、スチレン、アクリロニトリル、及びポリ
エチレン又はポリプロピレンのグラフトインターポリマ
ー、を製造し、そのグラフトコポリマーを一定の選んだ
相容性ゴム状物質とブレンドすることによる「ガムプラ
スチック」の形成を記載している。グラフトコポリマー
のグラフトしたスチレン又はスチレン−アクリロニトリ
ル含量は７５〜９５％、好ましくは８５〜９５％、より
好ましくは９０〜９５％である。従って、グラフトコポ
リマーは主に結合したスチレン又は結合したスチレン−
アクリロニトリルであり、ポリプロピレンから製造され
たコポリマー中でポリプロピレンは単に小量成分であ
り、分散相として存在する。従って、結合したスチレン
又はスチレン−アクリロニトリルの性質が優勢である。
そのグラフトコポリマーはポリオレフィンを高エネルギ
ーイオン化放射線にさらし、次いで照射されたポリオレ
フィンをスチレン又はスチレン及びアクリロニトリルに
接触させることにより製造される。
【０００４】しかし、プロピレンポリマーの望ましい性
質例えば優れた耐薬品性、良好な耐湿性などを有する独
立型（stand-alone)構造用プラスチックとして使用する
にはスチレンポリマー／プロピレンポリマー物質幹のグ
ラフトコポリマーはプロピレンポリマーが連続相である
ヘテロ相形態を示さねばならない。これはグラフトコポ
リマーのスチレンポリマー含量が約６５重量パーセント
を越えず、同時にプロピレンポリマーの剛性を必要程度
に改良するだけ高いことを必要とする。
質例えば優れた耐薬品性、良好な耐湿性などを有する独
立型（stand-alone)構造用プラスチックとして使用する
にはスチレンポリマー／プロピレンポリマー物質幹のグ
ラフトコポリマーはプロピレンポリマーが連続相である
ヘテロ相形態を示さねばならない。これはグラフトコポ
リマーのスチレンポリマー含量が約６５重量パーセント
を越えず、同時にプロピレンポリマーの剛性を必要程度
に改良するだけ高いことを必要とする。
【０００５】スチレンポリマー／プロピレンポリマー幹
のグラフトコポリマーの独立型構造用プラスチックとし
てのポリマーの物理的ブレンドに比べた利点は、グラフ
トコポリマーに性質の良好なバランスを与える方法が見
いだされれば一層よく利用できるであろう。本発明は、
重量基準で、（ａ）プロピレンポリマー物質の幹上にグ
ラフトした約１０〜６５重量パーセントのスチレンポリ
マーを含むグラフトコポリマー約６０〜９５パーセン
ト、及び補足的に（ｂ）（１）約２０〜１００重量パー
セントの (i)少くとも１種のモノアルケニル芳香族炭化
水素−共役ジエンブロックコポリマー、(ii) (i)の水素
化生成物である少くとも１種のブロックコポリマー又は
(iii) 少くとも１種の (i)のブロックコポリマーと少く
とも１種の(ii)のブロックコポリマーの混合物；及び
（２）約８０〜０重量パーセントのオレフィンコポリマ
ーゴム例えばＥＰＭ（エチレン−プロピレンモノマーゴ
ム）又はＥＰＤＭ（エチレン−プロピレン−ジエンモノ
マーゴム）を含むゴム成分約４０〜５パーセントを含む
グラフトコポリマーを基にした硬質熱可塑性組成物を提
供する。「ブロックコポリマー」という語は後に定義さ
れるような前記 (i)、(ii)又は(iii) を示す。グラフト
コポリマー及びゴム成分１００部当り約８０部（合計）
までの添加剤例えば充填剤、補強剤などが組成物中に含
まれることができる。さらに、組成物はグラフトコポリ
マー及びゴム成分１００部当り約５〜３０部のプロピレ
ンポリマー物質を含むことができ、適当なプロピレンポ
リマー物質はグラフトコポリマーの製造に有用なプロピ
レンポリマー物質に対して示すとおりである。
のグラフトコポリマーの独立型構造用プラスチックとし
てのポリマーの物理的ブレンドに比べた利点は、グラフ
トコポリマーに性質の良好なバランスを与える方法が見
いだされれば一層よく利用できるであろう。本発明は、
重量基準で、（ａ）プロピレンポリマー物質の幹上にグ
ラフトした約１０〜６５重量パーセントのスチレンポリ
マーを含むグラフトコポリマー約６０〜９５パーセン
ト、及び補足的に（ｂ）（１）約２０〜１００重量パー
セントの (i)少くとも１種のモノアルケニル芳香族炭化
水素−共役ジエンブロックコポリマー、(ii) (i)の水素
化生成物である少くとも１種のブロックコポリマー又は
(iii) 少くとも１種の (i)のブロックコポリマーと少く
とも１種の(ii)のブロックコポリマーの混合物；及び
（２）約８０〜０重量パーセントのオレフィンコポリマ
ーゴム例えばＥＰＭ（エチレン−プロピレンモノマーゴ
ム）又はＥＰＤＭ（エチレン−プロピレン−ジエンモノ
マーゴム）を含むゴム成分約４０〜５パーセントを含む
グラフトコポリマーを基にした硬質熱可塑性組成物を提
供する。「ブロックコポリマー」という語は後に定義さ
れるような前記 (i)、(ii)又は(iii) を示す。グラフト
コポリマー及びゴム成分１００部当り約８０部（合計）
までの添加剤例えば充填剤、補強剤などが組成物中に含
まれることができる。さらに、組成物はグラフトコポリ
マー及びゴム成分１００部当り約５〜３０部のプロピレ
ンポリマー物質を含むことができ、適当なプロピレンポ
リマー物質はグラフトコポリマーの製造に有用なプロピ
レンポリマー物質に対して示すとおりである。
【０００６】本発明の組成物のグラフトコポリマー成分
中のプロピレンポリマー物質の幹上に存在するグラフト
したポリマーを示すために用いた「スチレンポリマー」
という語は（ａ）スチレンあるいは少くとも１つのＣ1
〜Ｃ4 線状又は枝分れアルキル環置換基を有するアルキ
ルスチレン、殊にｐ−アルキルスチレンのホモポリマ
ー；（ｂ）（ａ）のモノマーの相互のすべての割合にお
けるコポリマー；及び（ｃ）少くとも１つの（ａ）のモ
ノマーとそのα−メチル誘導体例えばα−メチルスチレ
ンとの、α−メチル誘導体がコポリマーの重量の約１〜
４０％を構成するコポリマーを示す。
中のプロピレンポリマー物質の幹上に存在するグラフト
したポリマーを示すために用いた「スチレンポリマー」
という語は（ａ）スチレンあるいは少くとも１つのＣ1
〜Ｃ4 線状又は枝分れアルキル環置換基を有するアルキ
ルスチレン、殊にｐ−アルキルスチレンのホモポリマ
ー；（ｂ）（ａ）のモノマーの相互のすべての割合にお
けるコポリマー；及び（ｃ）少くとも１つの（ａ）のモ
ノマーとそのα−メチル誘導体例えばα−メチルスチレ
ンとの、α−メチル誘導体がコポリマーの重量の約１〜
４０％を構成するコポリマーを示す。
【０００７】モノアルケニル芳香族炭化水素−共役ジエ
ンブロックコポリマーとのブレンドによるプロピレンポ
リマー物質の基幹上スチレンポリマーのグラフトコポリ
マーの変性は意外にも、オレフィンコポリマーゴム単独
による変性に比べて異常に高度にグラフトコポリマーの
衝撃強度及び延性を改良することが見いだされた。さら
に、モノアルケニル芳香族炭化水素−共役ジエンブロッ
クコポリマーを含むゴム変性剤で変性が一層有効に達成
され、すなわち衝撃強度及び変性の所与程度の改良をゴ
ム変性剤の一層低い添加レベルで達成でき、従ってグラ
フトコポリマーの剛性がより多く保持される。
ンブロックコポリマーとのブレンドによるプロピレンポ
リマー物質の基幹上スチレンポリマーのグラフトコポリ
マーの変性は意外にも、オレフィンコポリマーゴム単独
による変性に比べて異常に高度にグラフトコポリマーの
衝撃強度及び延性を改良することが見いだされた。さら
に、モノアルケニル芳香族炭化水素−共役ジエンブロッ
クコポリマーを含むゴム変性剤で変性が一層有効に達成
され、すなわち衝撃強度及び変性の所与程度の改良をゴ
ム変性剤の一層低い添加レベルで達成でき、従ってグラ
フトコポリマーの剛性がより多く保持される。
【０００８】この組成物の１態様において、ブロックコ
ポリマーはすべてのゴム成分を含む。あるいは、ゴム成
分の約１〜８０重量パーセントがオレフィンコポリマー
ゴム例えばＥＰＭ又はＥＰＤＭであり、残部すなわち約
９９〜２０パーセントがモノアルケニル芳香族炭化水素
−共役ジエンブロックコポリマーである。後者の態様に
おいて、組合わせゴム成分がＥＰＭ又はＥＰＤＭ単独に
よる変性に比べて有利であるだけでなく、また意外にも
多くの場合に、組成物中のゴム成分の所与全量に対する
モノアルケニル芳香族炭化水素−共役ジエンブロックコ
ポリマー及びＥＰＭ又はＥＰＤＭの使用は、ブロックコ
ポリマー単独で得られるよりも大きい改良をグラフトコ
ポリマーの衝撃強度及び延性に与える。
ポリマーはすべてのゴム成分を含む。あるいは、ゴム成
分の約１〜８０重量パーセントがオレフィンコポリマー
ゴム例えばＥＰＭ又はＥＰＤＭであり、残部すなわち約
９９〜２０パーセントがモノアルケニル芳香族炭化水素
−共役ジエンブロックコポリマーである。後者の態様に
おいて、組合わせゴム成分がＥＰＭ又はＥＰＤＭ単独に
よる変性に比べて有利であるだけでなく、また意外にも
多くの場合に、組成物中のゴム成分の所与全量に対する
モノアルケニル芳香族炭化水素−共役ジエンブロックコ
ポリマー及びＥＰＭ又はＥＰＤＭの使用は、ブロックコ
ポリマー単独で得られるよりも大きい改良をグラフトコ
ポリマーの衝撃強度及び延性に与える。
【０００９】本発明の組成物の主成分はプロピレンポリ
マー物質の幹上に約１０〜６５、好ましくは約１０〜５
５重量パーセントのスチレンポリマーがグラフトしたグ
ラフトコポリマーであり、そのグラフトコポリマーはプ
ロピレンポリマー連続又はマトリックス相及びスチレン
ポリマー分散相を特徴とするヘテロ相形態を示す。重量
基準で組成物の約６０〜９５、好ましくは約７０〜９０
パーセントがグラフトコポリマーからなる。組成物の約
５〜４０、好ましくは約１０〜３０重量パーセント含ま
れるゴム成分がグラフトコポリマーと混合又はブレンド
される。ゴム成分５重量パーセント末端を含む組成物は
本発明の最も広い範囲内にある。
マー物質の幹上に約１０〜６５、好ましくは約１０〜５
５重量パーセントのスチレンポリマーがグラフトしたグ
ラフトコポリマーであり、そのグラフトコポリマーはプ
ロピレンポリマー連続又はマトリックス相及びスチレン
ポリマー分散相を特徴とするヘテロ相形態を示す。重量
基準で組成物の約６０〜９５、好ましくは約７０〜９０
パーセントがグラフトコポリマーからなる。組成物の約
５〜４０、好ましくは約１０〜３０重量パーセント含ま
れるゴム成分がグラフトコポリマーと混合又はブレンド
される。ゴム成分５重量パーセント末端を含む組成物は
本発明の最も広い範囲内にある。
【００１０】ゴム成分は重量基準で少くとも約２０、好
ましくは少くとも約５０パーセントのモノアルケニル芳
香族炭化水素−共役ジエンブロックコポリマーからな
る。このブロックコポリマーはＡ−Ｂ（又は２ブロッ
ク）構造、線状Ａ−Ｂ−Ａ（又は３ブロック）構造、ラ
ジアル（Ａ−Ｂ）n 型（たゞし、ｎ＝３〜２０である）
又はこれらの構造型の組合わせ（たゞし、各Ａブロック
はモノアルケニル芳香族炭化水素ポリマーブロック例え
ばスチレンポリマーであり、Ｂは不飽和ゴムブロック例
えばポリマーブタジエン又はイソプレンである）の熱可
塑性エラストマーである。この型の種々の銘柄のコポリ
マーが市販されている。それらの銘柄は構造、中間及び
末端ブロックの分子量及びモノアルケニル芳香族炭化水
素とゴムとの比、が異なる。２種又はそれ以上のブロッ
クコポリマー（その１つ又はそれ以上が水素化されるこ
とができる）の混合物において、構造型は同一又は異な
ることができる。
ましくは少くとも約５０パーセントのモノアルケニル芳
香族炭化水素−共役ジエンブロックコポリマーからな
る。このブロックコポリマーはＡ−Ｂ（又は２ブロッ
ク）構造、線状Ａ−Ｂ−Ａ（又は３ブロック）構造、ラ
ジアル（Ａ−Ｂ）n 型（たゞし、ｎ＝３〜２０である）
又はこれらの構造型の組合わせ（たゞし、各Ａブロック
はモノアルケニル芳香族炭化水素ポリマーブロック例え
ばスチレンポリマーであり、Ｂは不飽和ゴムブロック例
えばポリマーブタジエン又はイソプレンである）の熱可
塑性エラストマーである。この型の種々の銘柄のコポリ
マーが市販されている。それらの銘柄は構造、中間及び
末端ブロックの分子量及びモノアルケニル芳香族炭化水
素とゴムとの比、が異なる。２種又はそれ以上のブロッ
クコポリマー（その１つ又はそれ以上が水素化されるこ
とができる）の混合物において、構造型は同一又は異な
ることができる。
【００１１】典型的なモノアルケニル芳香族炭化水素モ
ノマーはスチレン、環置換Ｃ1 〜4 線状又は枝分れアル
キルスチレン、及びビニルトルエンである。スチレンが
好ましい。適当な共役ジエンはブタジエン及びイソプレ
ンである。ブロックコポリマーの平均分子量は一般に約
45,000〜260,000 ｇ／モルの範囲内にあり、約50,000〜
125,000 ｇ／モルの範囲内の平均分子量は、それらが衝
撃強度と剛性の最良のバランスを有するブレンド組成物
を与える基準で好ましい。また、不飽和及び飽和ゴムブ
ロックを有するブロックコポリマーを使用できるけれど
も、飽和ゴムブロックを有するコポリマーが、またそれ
らを含む組成物の衝撃／剛性バランスに基いて好まし
い。ブロックコポリマー中のモノアルケニル芳香族炭化
水素と共役ジエンゴムとの重量比は、典型的には約５／
９５〜５０／５０、好ましくは約１０／９０〜４０／６
０の範囲内にある。
ノマーはスチレン、環置換Ｃ1 〜4 線状又は枝分れアル
キルスチレン、及びビニルトルエンである。スチレンが
好ましい。適当な共役ジエンはブタジエン及びイソプレ
ンである。ブロックコポリマーの平均分子量は一般に約
45,000〜260,000 ｇ／モルの範囲内にあり、約50,000〜
125,000 ｇ／モルの範囲内の平均分子量は、それらが衝
撃強度と剛性の最良のバランスを有するブレンド組成物
を与える基準で好ましい。また、不飽和及び飽和ゴムブ
ロックを有するブロックコポリマーを使用できるけれど
も、飽和ゴムブロックを有するコポリマーが、またそれ
らを含む組成物の衝撃／剛性バランスに基いて好まし
い。ブロックコポリマー中のモノアルケニル芳香族炭化
水素と共役ジエンゴムとの重量比は、典型的には約５／
９５〜５０／５０、好ましくは約１０／９０〜４０／６
０の範囲内にある。
【００１２】後記の実施例は、プロピレンポリマー物質
上にスチレンポリマーがグラフトしたグラフトコポリマ
ーの衝撃強度及び延性における顕著な改良が、それに１
００パーセントブロックコポリマーゴムをブレンドする
と達成されることを示す。この組成物中のゴム成分もま
た、少くとも約２０、好ましくは少くとも５０パーセン
トの成分が少くとも１種のモノアルケニル芳香族炭化水
素−共役ジエンブロックコポリマーであれば２つ又はそ
れ以上の型のポリマーゴムを含むことができる。殊に好
ましいゴム成分はモノアルケニル芳香族炭化水素−共役
ジエンブロックコポリマー２０〜７０、より好ましくは
約５０〜７０パーセント及びＥＰＭ又はＥＰＤＭオレフ
ィンコポリマーゴム約８０〜３０、より好ましくは約５
０〜３０パーセントからなるものである。ブロックコポ
リマー及び、オレフィンコポリマーゴムに代わるブチル
ゴム又はブタジエン−スチレンのランダムコポリマー
（ＳＢＲ）からなるゴム成分をこの組成物中に使用でき
る。
上にスチレンポリマーがグラフトしたグラフトコポリマ
ーの衝撃強度及び延性における顕著な改良が、それに１
００パーセントブロックコポリマーゴムをブレンドする
と達成されることを示す。この組成物中のゴム成分もま
た、少くとも約２０、好ましくは少くとも５０パーセン
トの成分が少くとも１種のモノアルケニル芳香族炭化水
素−共役ジエンブロックコポリマーであれば２つ又はそ
れ以上の型のポリマーゴムを含むことができる。殊に好
ましいゴム成分はモノアルケニル芳香族炭化水素−共役
ジエンブロックコポリマー２０〜７０、より好ましくは
約５０〜７０パーセント及びＥＰＭ又はＥＰＤＭオレフ
ィンコポリマーゴム約８０〜３０、より好ましくは約５
０〜３０パーセントからなるものである。ブロックコポ
リマー及び、オレフィンコポリマーゴムに代わるブチル
ゴム又はブタジエン−スチレンのランダムコポリマー
（ＳＢＲ）からなるゴム成分をこの組成物中に使用でき
る。
【００１３】本発明の好ましい組成物中に使用されるエ
チレン／プロピレンモノマーゴムは典型的には約２５／
７５〜７５／２５、好ましくは約４０／６０〜６０／４
０の範囲内のエチレン／プロピレン重量パーセント比及
び約2.０〜6.０、好ましくは約2.５〜4.０dl／ｇの範囲
内の固有粘度を有するエラストマーである。グラフトコ
ポリマーの幹又は基幹を形成するプロピレンポリマー物
質は（ａ）プロピレンのホモポリマー；（ｂ）プロピレ
ンとエチレン及びＣ4 〜Ｃ10 １−オレフィンからなる
群から選ばれるオレフィンとの、オレフィンがエチレン
であるときに最大重合エチレン含量が約１０（好ましく
は約４）重量パーセントであり、オレフィンがＣ4 〜Ｃ
10 １−オレフィンであるときにその最大重合含量が約
２０（好ましくは約１６）重量パーセントであるランダ
ムコポリマー；（ｃ）プロピレンとエチレン及びＣ4 〜
Ｃ8 １−オレフィンからなる群から選ばれるオレフィン
との、最大重合Ｃ4 〜Ｃ8 １−オレフィン含量が約２０
（好ましくは約１６）重量パーセントであり、エチレン
がオレフィンの１つであるときに最大重合エチレン含量
が約５（好ましくは約４）重量パーセントであるランダ
ムターポリマー；又は（ｄ）反応器中で、又は物理的ブ
レンドによりエチレン−プロピレンモノマーゴムで耐衝
撃性改良された、変性ポリマーのエチレン−プロピレン
モノマーゴム含量が約５〜３０パーセントの範囲内にあ
り、ゴムのエチレン含量が約７〜７０、好ましくは約１
０〜４０パーセントであるプロピレンのホモポリマー又
はランダムコポリマー（ｂ）である。Ｃ4 〜Ｃ10 １−
オレフィンには線状及び枝分れＣ4 〜Ｃ10 １−オレフ
ィン例えば１−ブテン、１−ペンテン、３−メチル−１
−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、
３，４−ジメチル−１−ブテン、１−ヘプテン、３−メ
チル−１−ヘキセンなどが含まれる。プロピレンホモポ
リマー及び耐衝撃性改良されたプロピレンホモポリマー
は好ましいプロピレンポリマー物質である。好ましくは
ないけれども、約２〜８％のジエン含量を有するエチレ
ン−プロピレン−ジエンモノマーゴムで耐衝撃性改良さ
れたプロピレンホモポリマー及びランダムコポリマーも
また本発明の最も広い観点内でプロピレンポリマー物質
として使用できる。適当なジエンはジシクロペンタジエ
ン、１，６−ヘキサジエン及びエチリデンノルボルネン
である。
チレン／プロピレンモノマーゴムは典型的には約２５／
７５〜７５／２５、好ましくは約４０／６０〜６０／４
０の範囲内のエチレン／プロピレン重量パーセント比及
び約2.０〜6.０、好ましくは約2.５〜4.０dl／ｇの範囲
内の固有粘度を有するエラストマーである。グラフトコ
ポリマーの幹又は基幹を形成するプロピレンポリマー物
質は（ａ）プロピレンのホモポリマー；（ｂ）プロピレ
ンとエチレン及びＣ4 〜Ｃ10 １−オレフィンからなる
群から選ばれるオレフィンとの、オレフィンがエチレン
であるときに最大重合エチレン含量が約１０（好ましく
は約４）重量パーセントであり、オレフィンがＣ4 〜Ｃ
10 １−オレフィンであるときにその最大重合含量が約
２０（好ましくは約１６）重量パーセントであるランダ
ムコポリマー；（ｃ）プロピレンとエチレン及びＣ4 〜
Ｃ8 １−オレフィンからなる群から選ばれるオレフィン
との、最大重合Ｃ4 〜Ｃ8 １−オレフィン含量が約２０
（好ましくは約１６）重量パーセントであり、エチレン
がオレフィンの１つであるときに最大重合エチレン含量
が約５（好ましくは約４）重量パーセントであるランダ
ムターポリマー；又は（ｄ）反応器中で、又は物理的ブ
レンドによりエチレン−プロピレンモノマーゴムで耐衝
撃性改良された、変性ポリマーのエチレン−プロピレン
モノマーゴム含量が約５〜３０パーセントの範囲内にあ
り、ゴムのエチレン含量が約７〜７０、好ましくは約１
０〜４０パーセントであるプロピレンのホモポリマー又
はランダムコポリマー（ｂ）である。Ｃ4 〜Ｃ10 １−
オレフィンには線状及び枝分れＣ4 〜Ｃ10 １−オレフ
ィン例えば１−ブテン、１−ペンテン、３−メチル−１
−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、
３，４−ジメチル−１−ブテン、１−ヘプテン、３−メ
チル−１−ヘキセンなどが含まれる。プロピレンホモポ
リマー及び耐衝撃性改良されたプロピレンホモポリマー
は好ましいプロピレンポリマー物質である。好ましくは
ないけれども、約２〜８％のジエン含量を有するエチレ
ン−プロピレン−ジエンモノマーゴムで耐衝撃性改良さ
れたプロピレンホモポリマー及びランダムコポリマーも
また本発明の最も広い観点内でプロピレンポリマー物質
として使用できる。適当なジエンはジシクロペンタジエ
ン、１，６−ヘキサジエン及びエチリデンノルボルネン
である。
【００１４】前に記載したように、本発明の組成物のグ
ラフトコポリマー成分中のプロピレンポリマー物質の幹
上に存在するグラフトしたポリマーはスチレンポリマー
である。グラフトコポリマーのスチレンポリマー部分は
グラフトコポリマーの重量の約１０〜６５、好ましくは
約１０〜５５、最も好ましくは約２５〜５０パーセント
を構成する。その結果、グラフトコポリマーの形態はプ
ロピレンポリマー物質が連続又はマトリックス相であ
り、スチレンポリマーが分散相であるようなものであ
る。
ラフトコポリマー成分中のプロピレンポリマー物質の幹
上に存在するグラフトしたポリマーはスチレンポリマー
である。グラフトコポリマーのスチレンポリマー部分は
グラフトコポリマーの重量の約１０〜６５、好ましくは
約１０〜５５、最も好ましくは約２５〜５０パーセント
を構成する。その結果、グラフトコポリマーの形態はプ
ロピレンポリマー物質が連続又はマトリックス相であ
り、スチレンポリマーが分散相であるようなものであ
る。
【００１５】この組成物の主成分を形成するグラフトコ
ポリマーは種々の方法の１つにより製造することができ
る。これらの方法の１つはプロピレンポリマー物質上
に、グラフト化モノマーの存在下に又は後にモノマーに
より処理する活性グラフト化部位を形成することを含
む。グラフト化部位は過酸化物又は遊離基重合開始剤で
ある他の化合物による処理により、あるいは高エネルギ
ーイオン化放射線による照射により生成させることがで
きる。化学的又は放射線処理の結果ポリマー中に生じた
遊離基はポリマー上に活性グラフト化部位を形成し、こ
の部位でモノマーの重合を開始する。過酸化物開始グラ
フト化法により生じたグラフトコポリマーが好ましい。
ポリマーは種々の方法の１つにより製造することができ
る。これらの方法の１つはプロピレンポリマー物質上
に、グラフト化モノマーの存在下に又は後にモノマーに
より処理する活性グラフト化部位を形成することを含
む。グラフト化部位は過酸化物又は遊離基重合開始剤で
ある他の化合物による処理により、あるいは高エネルギ
ーイオン化放射線による照射により生成させることがで
きる。化学的又は放射線処理の結果ポリマー中に生じた
遊離基はポリマー上に活性グラフト化部位を形成し、こ
の部位でモノマーの重合を開始する。過酸化物開始グラ
フト化法により生じたグラフトコポリマーが好ましい。
【００１６】過酸化物開始法において、プロピレンポリ
マー物質は約６０〜１２５℃、好ましくは約８０〜１２
０℃の温度で、使用温度で約１〜２４０分、好ましくは
約５〜１００分、より好ましくは約１０〜４０分の分解
半減期を有する開始剤約0.１〜６、好ましくは約0.２〜
3.０pph （プロピレンポリマー物質１００重量部当り重
量部）で処理される。有機過酸化物、殊にアルコキシ基
を生ずるもの、が開始剤の好ましい種類を構成する。こ
れらには過酸化アシル例えば過酸化ベンゾイル及びジベ
ンゾイル；過酸化ジアルキル及びアラルキル例えば過酸
化ジ−ｔ−ブチル、過酸化ジクミル、過酸化クミルブチ
ル、１，１−ジ−ｔ−ブチルペルオキシ−３，５，５−
トリメチルシクロヘキサン、２，５−ジメチル−２，５
−ジ−ｔ−ブチルペルオキシヘキサン及びビス（α−ｔ
−ブチル−ペルオキシイソプロピルベンゼン）；ペルオ
キシエステル例えばｔ−ブチルペルオキシピバラート、
過安息香酸ｔ−ブチル、２，５−ジメチルヘキシル２，
５−ジ（ペルベンゾアート）ｔ−ブチルジ（ペルフタラ
ート）、ｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノア
ート、及び１，１−ジメチル−３−ヒドロキシブチルペ
ルオキシ−２−エチルヘキサノアート；並びにペルオキ
シカーボネート例えばジ（２−エチルヘキシル）ペルオ
キシジカーボネート、ジ（ｎ−プロピル）ペルオキシジ
カーボネート及びジ（４−ｔ−ブチル−シクロヘキシ
ル）ペルオキシジカーボネートが含まれる。
マー物質は約６０〜１２５℃、好ましくは約８０〜１２
０℃の温度で、使用温度で約１〜２４０分、好ましくは
約５〜１００分、より好ましくは約１０〜４０分の分解
半減期を有する開始剤約0.１〜６、好ましくは約0.２〜
3.０pph （プロピレンポリマー物質１００重量部当り重
量部）で処理される。有機過酸化物、殊にアルコキシ基
を生ずるもの、が開始剤の好ましい種類を構成する。こ
れらには過酸化アシル例えば過酸化ベンゾイル及びジベ
ンゾイル；過酸化ジアルキル及びアラルキル例えば過酸
化ジ−ｔ−ブチル、過酸化ジクミル、過酸化クミルブチ
ル、１，１−ジ−ｔ−ブチルペルオキシ−３，５，５−
トリメチルシクロヘキサン、２，５−ジメチル−２，５
−ジ−ｔ−ブチルペルオキシヘキサン及びビス（α−ｔ
−ブチル−ペルオキシイソプロピルベンゼン）；ペルオ
キシエステル例えばｔ−ブチルペルオキシピバラート、
過安息香酸ｔ−ブチル、２，５−ジメチルヘキシル２，
５−ジ（ペルベンゾアート）ｔ−ブチルジ（ペルフタラ
ート）、ｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノア
ート、及び１，１−ジメチル−３−ヒドロキシブチルペ
ルオキシ−２−エチルヘキサノアート；並びにペルオキ
シカーボネート例えばジ（２−エチルヘキシル）ペルオ
キシジカーボネート、ジ（ｎ−プロピル）ペルオキシジ
カーボネート及びジ（４−ｔ−ブチル−シクロヘキシ
ル）ペルオキシジカーボネートが含まれる。
【００１７】開始剤処理の期間に一致し又はそれに続く
時間にわたり、重なり又は重ならないで、プロピレンポ
リマー物質は使用されるプロピレンポリマー物質及びグ
ラフト化モノマー（類）の全重量を基にして約１０〜７
０重量パーセントのグラフト化モノマー（類）で、モノ
マー添加レベルで約4.５を越えない、好ましくは約4.０
を越えない、より好ましくは3.０pph 毎分を越えない添
加速度で処理される。モノマーが開始剤添加期間後に添
加されるならば、好ましくは約2.５開始剤半減期より以
上に開始剤とモノマー添加の期間を離さない。
時間にわたり、重なり又は重ならないで、プロピレンポ
リマー物質は使用されるプロピレンポリマー物質及びグ
ラフト化モノマー（類）の全重量を基にして約１０〜７
０重量パーセントのグラフト化モノマー（類）で、モノ
マー添加レベルで約4.５を越えない、好ましくは約4.０
を越えない、より好ましくは3.０pph 毎分を越えない添
加速度で処理される。モノマーが開始剤添加期間後に添
加されるならば、好ましくは約2.５開始剤半減期より以
上に開始剤とモノマー添加の期間を離さない。
【００１８】グラフト期間後、生じたグラフトしたプロ
ピレンポリマー物質から未反応モノマーを除去し、好ま
しくは加熱により、一般に少くとも約１１０℃の温度で
少くとも約５分間、好ましくは少くとも約１２０℃で少
くとも約２０分間、未反応開始剤を分解させ、残留遊離
基を失活させる。実質的に非酸化性環境が操作中維持さ
れる。
ピレンポリマー物質から未反応モノマーを除去し、好ま
しくは加熱により、一般に少くとも約１１０℃の温度で
少くとも約５分間、好ましくは少くとも約１２０℃で少
くとも約２０分間、未反応開始剤を分解させ、残留遊離
基を失活させる。実質的に非酸化性環境が操作中維持さ
れる。
【００１９】活性グラフト化部位が照射により生成され
る方法において、プロピレンポリマー物質は約１０〜８
５℃の範囲内の温度で高エネルギーイオン化放射線で照
射され、照射されたポリマー物質は１０〜１００℃、好
ましくは約１０〜７０℃、より好ましくは約１０〜５０
℃の温度で少くとも約３分間、好ましくはセミバッチ操
作で少くとも約１０分間、また好ましくは連続操作で約
３０〜６０分間、使用されるプロピレンポリマー物質及
びグラフト化モノマー（類）の全重量を基にして約１０
〜７０重量パーセントのグラフト化モノマー（類）で処
理される。その後、同時に又は引続き任意の順序で、生
じたグラフトされたプロピレンポリマー物質中の実質的
にすべての残留遊離基が失活され未反応モノマーが該物
質から除去される。プロピレンポリマー物質は実質的に
非酸化性環境中に、例えば不活性ガス下に、操作中少く
とも残留遊離基の失活が終った後まで維持される。遊離
基の失活は加熱により、例えば少くとも約１１０℃、好
ましくは約１２０℃の温度で、一般に少くとも約２０分
間行なわれる。
る方法において、プロピレンポリマー物質は約１０〜８
５℃の範囲内の温度で高エネルギーイオン化放射線で照
射され、照射されたポリマー物質は１０〜１００℃、好
ましくは約１０〜７０℃、より好ましくは約１０〜５０
℃の温度で少くとも約３分間、好ましくはセミバッチ操
作で少くとも約１０分間、また好ましくは連続操作で約
３０〜６０分間、使用されるプロピレンポリマー物質及
びグラフト化モノマー（類）の全重量を基にして約１０
〜７０重量パーセントのグラフト化モノマー（類）で処
理される。その後、同時に又は引続き任意の順序で、生
じたグラフトされたプロピレンポリマー物質中の実質的
にすべての残留遊離基が失活され未反応モノマーが該物
質から除去される。プロピレンポリマー物質は実質的に
非酸化性環境中に、例えば不活性ガス下に、操作中少く
とも残留遊離基の失活が終った後まで維持される。遊離
基の失活は加熱により、例えば少くとも約１１０℃、好
ましくは約１２０℃の温度で、一般に少くとも約２０分
間行なわれる。
【００２０】この組成物中に用いる好ましいグラフトコ
ポリマーは（ａ）少くとも約0.０７、より好ましくは少
くとも約0.１２、最も好ましくは少くとも約0.２０の、
細孔の４０％以上、より好ましくは５０％以上、最も好
ましくは９０％以上が１ミクロンより大きい直径を有す
る細孔容積分率；（ｂ）少くとも0.１m2／ｇの表面積；
及び（ｃ）約0.４〜７mmの範囲内の重量平均直径 (weig
ht average diameter)を有するプロピレンポリマー粒子
から得られた均一にグラフトされた粒子の形態にある。
ポリマーは（ａ）少くとも約0.０７、より好ましくは少
くとも約0.１２、最も好ましくは少くとも約0.２０の、
細孔の４０％以上、より好ましくは５０％以上、最も好
ましくは９０％以上が１ミクロンより大きい直径を有す
る細孔容積分率；（ｂ）少くとも0.１m2／ｇの表面積；
及び（ｃ）約0.４〜７mmの範囲内の重量平均直径 (weig
ht average diameter)を有するプロピレンポリマー粒子
から得られた均一にグラフトされた粒子の形態にある。
【００２１】ゴム成分がモノアルケニル芳香族炭化水素
−共役ジエンブロックコポリマー及びエチレン／プロピ
レンモノマーゴムを含む本発明の好ましい組成物は２つ
のゴム成分とグラフトコポリマーとの物理的ブレンドで
あることができる。組成物がモノアルケニル芳香族炭化
水素−共役ジエンブロックコポリマーと、組成物中へ混
合することを望むＥＰＭのすべて又は一部を与えるに足
る量のエチレン／プロピレンモノマーゴムで耐衝撃性改
良されたプロピレンホモポリマー又はランダムコポリマ
ー上にスチレンポリマーがグラフトされたグラフトコポ
リマーとのブレンドであるとき、組成物中にＥＰＭのす
べて又は若干はグラフトコポリマー自体の成分である。
−共役ジエンブロックコポリマー及びエチレン／プロピ
レンモノマーゴムを含む本発明の好ましい組成物は２つ
のゴム成分とグラフトコポリマーとの物理的ブレンドで
あることができる。組成物がモノアルケニル芳香族炭化
水素−共役ジエンブロックコポリマーと、組成物中へ混
合することを望むＥＰＭのすべて又は一部を与えるに足
る量のエチレン／プロピレンモノマーゴムで耐衝撃性改
良されたプロピレンホモポリマー又はランダムコポリマ
ー上にスチレンポリマーがグラフトされたグラフトコポ
リマーとのブレンドであるとき、組成物中にＥＰＭのす
べて又は若干はグラフトコポリマー自体の成分である。
【００２２】充填剤並びに補強剤、例えばカーボンブラ
ック及びガラス繊維、並びに無機粉末例えば炭酸カルシ
ウム、タルク、雲母及びガラスを本発明の組成物中に、
全グラフトコポリマー及びゴム成分１００重量部当り約
８０重量部までの濃度レベルで含ませることができる。
そのような充填剤が与える経済的利益に加えて、一層大
きい剛性及び高い熱変形温度を達成することができる。
ック及びガラス繊維、並びに無機粉末例えば炭酸カルシ
ウム、タルク、雲母及びガラスを本発明の組成物中に、
全グラフトコポリマー及びゴム成分１００重量部当り約
８０重量部までの濃度レベルで含ませることができる。
そのような充填剤が与える経済的利益に加えて、一層大
きい剛性及び高い熱変形温度を達成することができる。
【００２３】組成物の成分は普通の混合装置例えば押出
機又はバンバリーミキサー中でブレンド又は混合するこ
とができる。以下の実施例は例示のために提供され、本
発明のグラフトコポリマーを基にした組成物の種々の態
様を記載する。実施例及び対照例のすべてにおいて、グ
ラフトコポリマー及びモノアルケニル芳香族炭化水素−
共役ジエンブロックコポリマー、並びに使用される他の
変性剤はブラベンダー二軸スクリュー押出機中の単パス
又はダブルパスで混合され、押出され（実施例１５及び
対照７）；バンバリーミキサー中で配合されてブラベン
ダー一軸スクリュー中の単パスで押出され（実施例２及
び１３）；又はバンバリーミキサー中で配合されてブラ
ベンダー二軸スクリュー中の単パスで押出された（実施
例１、２、４〜１２及び１４、並びに対照１〜６）。Ｐ
−ＥＰＱとして知られる安定剤組成物（0.２重量％）
〔その主成分はテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイトであ
る〕をすべてのバッチに、酸化を最小にするため配合前
に加えた。押出機温度は、２５０〜２６５℃であった溶
融ゾーンを除いて２００〜２４５℃の範囲内にあった。
押出されたブレンドは試験片（引張試験片、曲げ試験
片、及び0.３２×7.６×7.６cmプラック）に成形した。
機又はバンバリーミキサー中でブレンド又は混合するこ
とができる。以下の実施例は例示のために提供され、本
発明のグラフトコポリマーを基にした組成物の種々の態
様を記載する。実施例及び対照例のすべてにおいて、グ
ラフトコポリマー及びモノアルケニル芳香族炭化水素−
共役ジエンブロックコポリマー、並びに使用される他の
変性剤はブラベンダー二軸スクリュー押出機中の単パス
又はダブルパスで混合され、押出され（実施例１５及び
対照７）；バンバリーミキサー中で配合されてブラベン
ダー一軸スクリュー中の単パスで押出され（実施例２及
び１３）；又はバンバリーミキサー中で配合されてブラ
ベンダー二軸スクリュー中の単パスで押出された（実施
例１、２、４〜１２及び１４、並びに対照１〜６）。Ｐ
−ＥＰＱとして知られる安定剤組成物（0.２重量％）
〔その主成分はテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイトであ
る〕をすべてのバッチに、酸化を最小にするため配合前
に加えた。押出機温度は、２５０〜２６５℃であった溶
融ゾーンを除いて２００〜２４５℃の範囲内にあった。
押出されたブレンドは試験片（引張試験片、曲げ試験
片、及び0.３２×7.６×7.６cmプラック）に成形した。
【００２４】成形した試験片の評価に用いた試験法はＡ
ＳＴＭ Ｄ−２５６（ノッチ付アイゾット衝撃）、ＡＳ
ＴＭ Ｄ−６３８（引張強さ）、ＡＳＴＭ Ｄ−６３８
（破断点伸び）、ＡＳＴＭ Ｄ−７９０（曲げ弾性
率）、及びＡＳＴＭ Ｄ−６４８（ＨＤＴ、１８２０kP
a ）であった。 実施例１〜６ 本発明の６組成物を前記のように製造して試験した。こ
れらの組成物においてブロックコポリマーはスチレンブ
ロックコポリマー（ＳＢＣ）であった。モノアルケニル
芳香族炭化水素−共役ジエンブロックコポリマーを含ま
ない６対照組成物もまた同様に製造して試験した。組成
物は、ｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルキキサノアー
ト（ペルオキシエステル）の酸素を含まないミネラルス
ピリット溶液を加熱したポリプロピレン（１００℃）上
に噴霧し、短時間保持した後スチレンを噴霧した前記過
酸化物開始グラフト重合法により製造したプロピレンホ
モポリマー幹上にスチレンホモポリマーがグラフトした
グラフトコポリマーを含有した。次のグラフト化条件を
用いてグラフトコポリマーを製造した：（ａ）実施例１
及び６並びに対照１及び２：１pph ペルオキシエステ
ル、保持１５分、５４pph スチレンを1.６４pph ／分で
添加、１００℃で３時間保持、次いで１３５℃で４時間
窒素パージで失活及び乾燥；（ｂ）実施例２、４及び５
並びに対照３〜６：2.３５pph ペルオキシエステル、保
持１０分、及び８4.４pph スチレンを2.４pph ／分で添
加、他は（ａ）と同じ；（ｃ）実施例３：0.７９pph ペ
ルオキシエステル及びスチレン添加後、窒素パージ前１
０４℃で２時間保持、他は（ｂ）と同じ。pph ペルオキ
シエステル値はすべて活性基準である。
ＳＴＭ Ｄ−２５６（ノッチ付アイゾット衝撃）、ＡＳ
ＴＭ Ｄ−６３８（引張強さ）、ＡＳＴＭ Ｄ−６３８
（破断点伸び）、ＡＳＴＭ Ｄ−７９０（曲げ弾性
率）、及びＡＳＴＭ Ｄ−６４８（ＨＤＴ、１８２０kP
a ）であった。 実施例１〜６ 本発明の６組成物を前記のように製造して試験した。こ
れらの組成物においてブロックコポリマーはスチレンブ
ロックコポリマー（ＳＢＣ）であった。モノアルケニル
芳香族炭化水素−共役ジエンブロックコポリマーを含ま
ない６対照組成物もまた同様に製造して試験した。組成
物は、ｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルキキサノアー
ト（ペルオキシエステル）の酸素を含まないミネラルス
ピリット溶液を加熱したポリプロピレン（１００℃）上
に噴霧し、短時間保持した後スチレンを噴霧した前記過
酸化物開始グラフト重合法により製造したプロピレンホ
モポリマー幹上にスチレンホモポリマーがグラフトした
グラフトコポリマーを含有した。次のグラフト化条件を
用いてグラフトコポリマーを製造した：（ａ）実施例１
及び６並びに対照１及び２：１pph ペルオキシエステ
ル、保持１５分、５４pph スチレンを1.６４pph ／分で
添加、１００℃で３時間保持、次いで１３５℃で４時間
窒素パージで失活及び乾燥；（ｂ）実施例２、４及び５
並びに対照３〜６：2.３５pph ペルオキシエステル、保
持１０分、及び８4.４pph スチレンを2.４pph ／分で添
加、他は（ａ）と同じ；（ｃ）実施例３：0.７９pph ペ
ルオキシエステル及びスチレン添加後、窒素パージ前１
０４℃で２時間保持、他は（ｂ）と同じ。pph ペルオキ
シエステル値はすべて活性基準である。
【００２５】グラフトポリマーの製造に用いたプロピレ
ンポリマーは、次の特性：呼称メルトフローレート（Ａ
ＳＴＭ法Ｄ１２３８−８２、条件Ｌ）８ｄｇ／分；固有
粘度〔エリオット（Ｊ．Ｈ．Elliott)ほか、ジャーナル
・オブ・アプライド・ポリマー・サイエンス（Ｊ．Appl
ied Polymer Scr.)、１４、２９４７〜２９６３（１９
８０）の方法−１３５℃でデカヒドロナフタレン中に溶
解したポリマー〕2.４dl／ｇ；表面積（B. E. T.) 0.３
４m2／ｇ；重量平均直径2.０mm；及び細孔容積分率（水
銀ポロシメトリー法）0.３３を有する一般に球状粒子の
形態における微粉多孔性プロピレンホモポリマー〔ＬＢ
Ｄ−４０６Ａ、ハイモント・イタリア（ＨＩＭＯＮＴ
Italia S. r. l. ) から市販〕であった。多孔性粒子中
の細孔の９０％以上が直径１ミクロン以上であった。
ンポリマーは、次の特性：呼称メルトフローレート（Ａ
ＳＴＭ法Ｄ１２３８−８２、条件Ｌ）８ｄｇ／分；固有
粘度〔エリオット（Ｊ．Ｈ．Elliott)ほか、ジャーナル
・オブ・アプライド・ポリマー・サイエンス（Ｊ．Appl
ied Polymer Scr.)、１４、２９４７〜２９６３（１９
８０）の方法−１３５℃でデカヒドロナフタレン中に溶
解したポリマー〕2.４dl／ｇ；表面積（B. E. T.) 0.３
４m2／ｇ；重量平均直径2.０mm；及び細孔容積分率（水
銀ポロシメトリー法）0.３３を有する一般に球状粒子の
形態における微粉多孔性プロピレンホモポリマー〔ＬＢ
Ｄ−４０６Ａ、ハイモント・イタリア（ＨＩＭＯＮＴ
Italia S. r. l. ) から市販〕であった。多孔性粒子中
の細孔の９０％以上が直径１ミクロン以上であった。
【００２６】実施例１〜６の組成物及び６対照組成物で
行なった評価の結果は表１中に示される。
行なった評価の結果は表１中に示される。
【００２７】
【表１】
【００２８】
【表２】
【００２９】実施例７〜１４ 組成物は実施例１中に記載した操作及び成分を用いて製
造したが、しかしこれらの実施例においてゴム成分は２
成分で組立てた。次のグラフト化条件を用いてグラフト
コポリマーを製造した：（ａ）実施例７、１１及び１
２、並びに対照７：１pph ペルオキシエステル、保持１
０〜１５分、５４pph スチレンを1.６〜1.８pph ／分で
添加、１００℃で３時間保持、次いで１３５℃（たゞし
実施例１２及び対照７において１００℃）で４時間窒素
パージで失活及び乾燥；（ｂ）実施例８〜１０及び１
３：2.３５pph ペルオキシエステル、保持１０分、８4.
４pph スチレンを2.４pph ／分で添加、他は（ａ）と同
じ；（ｃ）実施例１４：0.７９pph ペルオキシエステ
ル、スチレン添加後窒素パージ前１０４℃で２時間保
持、他は（ｂ）と同じ。
造したが、しかしこれらの実施例においてゴム成分は２
成分で組立てた。次のグラフト化条件を用いてグラフト
コポリマーを製造した：（ａ）実施例７、１１及び１
２、並びに対照７：１pph ペルオキシエステル、保持１
０〜１５分、５４pph スチレンを1.６〜1.８pph ／分で
添加、１００℃で３時間保持、次いで１３５℃（たゞし
実施例１２及び対照７において１００℃）で４時間窒素
パージで失活及び乾燥；（ｂ）実施例８〜１０及び１
３：2.３５pph ペルオキシエステル、保持１０分、８4.
４pph スチレンを2.４pph ／分で添加、他は（ａ）と同
じ；（ｃ）実施例１４：0.７９pph ペルオキシエステ
ル、スチレン添加後窒素パージ前１０４℃で２時間保
持、他は（ｂ）と同じ。
【００３０】これらの組成物及びモノアルケニル芳香族
炭化水素−共役ジエンブロックコポリマーを含まない対
照組成物に行なった評価の結果は表２中に総括される。
炭化水素−共役ジエンブロックコポリマーを含まない対
照組成物に行なった評価の結果は表２中に総括される。
【００３１】
【表３】
【００３２】
【表４】
【００３３】実施例１５ 実施例１中に記載した操作及び成分を繰返したが、しか
し用いたプロピレンポリマーは約3.６％のエチレン含量
を有するエチレン／プロピレンランダムコポリマーであ
り、スチレンは前に記載した高エネルギーイオン化放射
線によりランダムコポリマー上に生じた遊離基部位でグ
ラフト重合させた。放射線量は４Ｍrdであり、放射線室
は室温（約２３℃）であった。照射が終った２分後に照
射したコポリマー上に１４７pph スチレンを室温（２３
℃）で、２３pph ／分の速度で6.５分間噴霧し、スチレ
ン及び照射したコポリマーをこの温度で３０分までの間
かくはんした。その後反応器温度を１４０℃に上げ、か
くはんをさらに３０分間続けて残留遊離基を失活させ
た。過剰のモノマーは窒素パージにより除去した。窒素
雰囲気は放射線室中及びグラフト化反応器中に維持した
（0.００４容量％以下の酸素レベル）。生じたグラフト
コポリマー中のグラフトレベル（ポリスチレン）は４４
pph であった。
し用いたプロピレンポリマーは約3.６％のエチレン含量
を有するエチレン／プロピレンランダムコポリマーであ
り、スチレンは前に記載した高エネルギーイオン化放射
線によりランダムコポリマー上に生じた遊離基部位でグ
ラフト重合させた。放射線量は４Ｍrdであり、放射線室
は室温（約２３℃）であった。照射が終った２分後に照
射したコポリマー上に１４７pph スチレンを室温（２３
℃）で、２３pph ／分の速度で6.５分間噴霧し、スチレ
ン及び照射したコポリマーをこの温度で３０分までの間
かくはんした。その後反応器温度を１４０℃に上げ、か
くはんをさらに３０分間続けて残留遊離基を失活させ
た。過剰のモノマーは窒素パージにより除去した。窒素
雰囲気は放射線室中及びグラフト化反応器中に維持した
（0.００４容量％以下の酸素レベル）。生じたグラフト
コポリマー中のグラフトレベル（ポリスチレン）は４４
pph であった。
【００３４】ブレンド組成物は次の性質を有した。 ノッチ付アイゾット衝撃、２３℃ ： 2.８ft−lbf ／in ： （１５０Ｊ／ｍ） 曲げ弾性率（１％割線） ： １１０，７００psi ： （７６３ＭPa) 引張強さ ： ２４４５psi ： （１6.８ＭPa） 伸 び（破断点） ： ７３％ 実施例１６〜１７ 実施例１（実施例１６）及び７（実施例１７）に記載し
た操作及び成分を繰返したが、しかしグラフトコポリマ
ーの製造においてスチレンとα−メチルスチレンの混合
物をポリプロピレン上に噴霧した。グラフトコポリマー
の製造に用いた条件は次のとおりであった：1.５７pph
ペルオキシエステル、保持１０分、７６pph スチレン及
び8.４pph α−メチルスチレンを2.４pph ／分で添加、
１０２℃で３時間保持、次いで１３３℃で４時間窒素パ
ージ。
た操作及び成分を繰返したが、しかしグラフトコポリマ
ーの製造においてスチレンとα−メチルスチレンの混合
物をポリプロピレン上に噴霧した。グラフトコポリマー
の製造に用いた条件は次のとおりであった：1.５７pph
ペルオキシエステル、保持１０分、７６pph スチレン及
び8.４pph α−メチルスチレンを2.４pph ／分で添加、
１０２℃で３時間保持、次いで１３３℃で４時間窒素パ
ージ。
【００３５】グラフトコポリマー中のグラフトレベル
（全スチレン／α−メチルスチレンコポリマー）は約４
５％であった。グラフトコポリマー中のスチレン／α−
メチルスチレン比は約９／１であった。結果は表３中に
示される。 表 ３ 実施例１６ 実施例１７ 対照８ 対照９ グラフトコポリマー（重量％） 85 85 100 85 ＳＢＣ（重量％） 15 7.5 -- -- ＥＰＭ（重量％） -- 7.5 -- 15 ノッチ付アイゾット衝撃、23℃ f−lbf ／in 1.9 1.8 0.3 0.5 (Ｊ／ｍ） (101) (94) (17) (27) 曲げ弾性率psi 、 216,300 219,000 352,800 246,300 １％割線−（ＭPa） (1492) (1510) (2433) (1699) 引張強さ psi 4294 4006 6138 4055 （ＭPa） (29.6) (27.6) (42.3) (28.0) 伸び（破断点）（％） 65 96 3.9 3.5 ＨＤＴ、264psi(1820kPa)(℃) 63.5 63 69 68 開示した本発明の他の特徴、利点及び態様は前記開示を
読んだ後当業者に容易に明らかになろう。これに関し
て、本発明の特定態様がかなり詳しく記載されたけれど
も、これらの態様の変形及び改変は、記載し、特許請求
した本発明の精神及び範囲から逸脱することなく行なう
ことができる。
（全スチレン／α−メチルスチレンコポリマー）は約４
５％であった。グラフトコポリマー中のスチレン／α−
メチルスチレン比は約９／１であった。結果は表３中に
示される。 表 ３ 実施例１６ 実施例１７ 対照８ 対照９ グラフトコポリマー（重量％） 85 85 100 85 ＳＢＣ（重量％） 15 7.5 -- -- ＥＰＭ（重量％） -- 7.5 -- 15 ノッチ付アイゾット衝撃、23℃ f−lbf ／in 1.9 1.8 0.3 0.5 (Ｊ／ｍ） (101) (94) (17) (27) 曲げ弾性率psi 、 216,300 219,000 352,800 246,300 １％割線−（ＭPa） (1492) (1510) (2433) (1699) 引張強さ psi 4294 4006 6138 4055 （ＭPa） (29.6) (27.6) (42.3) (28.0) 伸び（破断点）（％） 65 96 3.9 3.5 ＨＤＴ、264psi(1820kPa)(℃) 63.5 63 69 68 開示した本発明の他の特徴、利点及び態様は前記開示を
読んだ後当業者に容易に明らかになろう。これに関し
て、本発明の特定態様がかなり詳しく記載されたけれど
も、これらの態様の変形及び改変は、記載し、特許請求
した本発明の精神及び範囲から逸脱することなく行なう
ことができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 53:02 23:22） (Ｃ０８Ｌ 51/06 53:02 9:06） (72)発明者 ポール ディー タターカ アメリカ合衆国 メリーランド州 21014 ベル エアー ハーフォード カウンティー グローヴナー コート 906 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C08L 51/06 C08L 53/02 C08L 23/16 C08L 23/22 C08L 9/06
Claims (21)
- 【請求項１】 重量基準で、（ａ）プロピレンポリマー
物質の幹上にグラフトした約１０〜６５重量パーセント
のスチレンポリマーを含むグラフトコポリマー約６０〜
９５パーセント、及び（ｂ）（１）約２０〜１００重量
パーセントの（i)少くとも１種のモノアルケニル芳香族
炭化水素−共役ジエンブロックコポリマー、(ii) (i)の
水素化生成物である少くとも１種のブロックコポリマー
又は(iii) 少くとも１種の (i)のブロックコポリマーと
少くとも１種の(ii)のブロックコポリマーの混合物；及
び（２）約８０〜０重量パーセントのオレフィンコポリ
マーゴムを含むゴム成分約４０〜５パーセントを含む組
成物。 - 【請求項２】 成分（ａ）が約７０〜９０パーセントの
量で存在し、成分（ｂ）が約３０〜１０パーセントの量
で存在する、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項３】 成分（ｂ）がモノアルケニル芳香族炭化
水素−共役ジエンブロックコポリマー約２０〜７０重量
パーセント及びオレフィンコポリマーゴム約８０〜３０
重量パーセントである、請求項（１）に記載の組成物。 - 【請求項４】 成分（ａ）のプロピレンポリマー物質が
プロピレンホモポリマー、他の１−オレフィンとのプロ
ピレンランダムコポリマー、及びエチレン−プロピレン
モノマーゴムで耐衝撃性改良されたプロピレンホモポリ
マーからなる群から選ばれる、請求項１に記載の組成
物。 - 【請求項５】 プロピレンポリマー物質がホモポリマー
である、請求項４に記載の組成物。 - 【請求項６】 オレフィンコポリマーゴムが約１〜約８
０パーセントの量で存在し、エチレン−プロピレンモノ
マーゴム又はエチレン−プロピレン−ジエンモノマーゴ
ムである、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項７】 オレフィンコポリマーゴムのすべて又は
一部が耐衝撃性改良されたプロピレンポリマー物質によ
り与えられる、請求項６に記載の組成物。 - 【請求項８】 オレフィンコポリマーゴムがエチレン−
プロピレンモノマーゴムである、請求項７に記載の組成
物。 - 【請求項９】 成分（ｂ）がモノアルケニル芳香族炭化
水素−共役ジエンブロックコポリマー約５０〜７０重量
パーセント及びオレフィンコポリマーゴム約５０〜３０
重量パーセントである、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項１０】 ブチルゴム又はブタジエン−スチレン
のランダムコポリマーがオレフィンコポリマーゴムの代
りに使用される、請求項６に記載の組成物。 - 【請求項１１】 プロピレンポリマー物質の幹上にグラ
フトしたスチレンポリマーの重量がグラフトコポリマー
の重量の約１０〜５５パーセントである、請求項１に記
載の組成物。 - 【請求項１２】 プロピレンポリマー物質の幹上にグラ
フトしたスチレンポリマーの重量がグラフトコポリマー
の重量の約２５〜５０パーセントである、請求項１に記
載の組成物。 - 【請求項１３】 プロピレンポリマー物質の幹上にグラ
フトしたスチレンポリマーがポリスチレンである、請求
項１に記載の組成物。 - 【請求項１４】 スチレンポリマーがスチレンとα−メ
チルスチレン又はｐ−メチルスチレンとのコポリマーで
ある、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項１５】 モノアルケニル芳香族炭化水素−共役
ジエンブロックコポリマーがＡ−Ｂ又はＡ−Ｂ−Ａ型
（たヾし各Ａはポリマーモノアルケニル芳香族炭化水素
−共役ジエンブロックであり、Ｂは共役ジエンのポリマ
ーゴムブロックである）である、請求項１に記載の組成
物。 - 【請求項１６】 各Ａがポリマースチレンブロックであ
る、請求項１５に記載の組成物。 - 【請求項１７】 Ｂブロックが水素化される、請求項１
５に記載の組成物。 - 【請求項１８】 グラフトコポリマーがプロピレンポリ
マー物質上のスチレンの過酸化物開始グラフト重合の生
成物である、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項１９】 さらに、成分（ａ）及び（ｂ）１００
重量部当り、充填剤、補強剤及び無機粉末からなる群か
ら選ばれる１種又はそれ以上の添加剤約８０重量部まで
を含む、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項２０】 さらに、成分（ａ）及び（ｂ）１００
部当り、プロピレンポリマー物質約５〜３０部を含む、
請求項１に記載の組成物。 - 【請求項２１】 請求項１〜２０のいずれか一項に記載
の組成物を含む製造物品。
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| US07/499,115 US4990558A (en) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | Graft copolymer compositions |
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| JP2930758B2 true JP2930758B2 (ja) | 1999-08-03 |
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