JP2931064B2

JP2931064B2 - 置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合物及びその製造方法並びに置換ピリジンスルホンアミド系化合物の製造方法

Info

Publication number: JP2931064B2
Application number: JP26339290A
Authority: JP
Inventors: 康弘辻井; 隆雄粟津; 弘仁林; 勝前田; 敏博田中
Original assignee: Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Current assignee: Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Priority date: 1990-10-01
Filing date: 1990-10-01
Publication date: 1999-08-09
Anticipated expiration: 2014-08-09
Also published as: JPH04139170A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、除草剤の有効成分として有用な、後記一般
式（IV）で表わされる置換ピリジンスルホンアミド系化
合物（以下置換ピリジンスルホンアミド系化合物と略
す）を製造するための中間体として有用な、後記一般式
（Ｉ）で表わされる置換ピリジンスルホニルカーバメー
ト系化合物及びその製造方法並びに該中間体を用いた前
記置換ピリジンスルホンアミド系化合物の製造方法に関
する。

（先行技術及び本発明に至った経緯）前記置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合物に
近接した化合物は、特開昭62−223180号公報に開示され
ている。ここで開示されている化合物は後記一般式
（Ｉ）中、Ｒがフェニル基のもの（R¹及びR²はともにメ
チル基である）であるが、このものは、反応条件次第で
は反応中に分解したりして、生成取得できなかったり、
また、たとえ生成取得できたとしても室温における通常
の保存状態でさえ分解するというような種々の問題を有
している。

このようなことから本発明者等は、後記一般式（Ｉ）
中、Ｒがフェニル基以外のものについて種々検討したと
ころ、Ｒがアルキル基である置換ピリジンスルホニルカ
ーバメート系化合物が高収率かつ安定に生成取得でき、
さらにそれが除草剤の有効成分として有用な置換ピリジ
ンスルホンアミド系化合物を製造するための中間体とし
て非常に有用であることを見出し、本発明を完成した。

（発明の開示）本発明は、一般式（Ｉ）；（式中、Ｒ、R¹及びR²は各々アルキル基である）で表わ
される置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合物
（以下ASDM−Ｃと略す）、一般式（II）；（式中、R¹及びR²は前述の通りである）と、一般式（III）;XCOOR……（III）（式中、Ｒは前述の
通りであり、Ｘはハロゲン原子である）で表わされる化
合物とを反応させること特徴とする、ASDM−Ｃの製造方
法、及びASDM−Ｃと２−アミノ−4,6−ジメトキシピリ
ミジンとを反応させることを特徴とする、一般式（IV）；（式中、R¹及びR²は前述の通りである）で表わされる、
置換ピリジンスルホンアミド系化合物の製造方法に関す
る。

前記一般式（Ｉ）〜（IV）中Ｒ、R¹及びR²で表わされ
るアルキル基としては、炭素数１〜６を有するもの、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが
挙げられ、それらは直鎖又は枝分れ脂肪鎖の幾何異性の
ものを含み、なかでもＲとしてはエチル基が望ましい。

前記一般式（III）中Ｘで表わされるハロゲン原子と
しては、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられ、な
かでも塩素原子が望ましい。

本発明に係るASDM−Ｃの製造方法を以下に詳述する。

（式中、Ｒ、R¹、R²及びＸは前述の通りである）。

一般式（III）で表わされる化合物の使用量は一概に
規定できないが、一般式（II）で表わされる化合物に対
して通常１〜２倍モル、望ましくは1.2〜1.5倍モルであ
る。

上記反応で使用される塩基としては例えば、無水炭酸
カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙
げられ、その使用量は一概に規定できないが、一般式
（II）で表わされる化合物に対して通常２〜４倍当量、
望ましくは2.4〜3.0倍当量である。

また、上記反応で使用される溶媒としては例えば、ア
セトンなどのケトン類、アセトニトリルなどのニトリル
類、前記溶媒と水との混合物などが挙げられ、その使用
量は一概に規定できないが、一般式（II）で表わされる
化合物1gに対して通常３〜20ml、望ましくは５〜10mlで
ある。

上記反応の反応条件は一概に規定できないが、反応温
度は通常10〜100℃、反応時間は通常0.5〜10時間であ
る。

上記製造方法で得られるASDM−Ｃを原料として使用し
て、下記製造方法により、一般式（IV）で表わされる置
換ピリジンスルホンアミド系化合物を製造することがで
きる。

前記２−アミノ−4,6−ジメトキシピリミジンの使用
量は一概に規定できないが、ASDM−Ｃに対して通常１〜
２モルである。

上記反応で使用される溶媒としては例えば、ベンゼ
ン、トルエンなどの芳香族炭化水素類が挙げられ、その
使用量は一概に規定できないが、ASDM−C1gに対して通
常３〜30ml、望ましくは５〜15mlである。

上記反応の反応条件は一概に規定できないが、反応温
度は通常、使用する溶媒の還流温度であり、反応時間は
通常１〜15時間である。

（実施例）本発明をより詳しく述べるため、以下に実施例を記載
するが、これらは本発明を限定するものではない。

実施例1. エチル｛３−〔（N,N−ジメチルアミノカル
ボニル）−２−ピリジニル〕スルホニル｝カーバメート
の合成３四つ口フラスコに、２−アミノスルホニル−N,N
−ジメチルニコチンアミド 206.1g（0.9mol）、無水炭
酸カリウム161.5g（1.17mol）及びアセトニトリル２
を仕込み、室温でクロル炭酸エチルエステル122.1g（1.
13mol）を20分間を要して撹拌下に滴下した。

その後、還流温度で１時間反応させ、次いでアセトニ
トリルを留去した。四つ口フラスコに水500mlを加え反
応物を溶解させ、濃塩酸でpH2以下に調整して結晶を析
出させた。

得られた結晶を濾過、水洗後乾燥し、融点160〜164℃
の目的物246gを得た（収率90.8％）。

実施例2. Ｎ−〔（4,6−ジメトキシピリミジン−２−
イル）アミノカルボニル〕−３−ジメチルアミノカルボ
ニル−２−ピリジンスルホンアミドの合成 200ml四つ口フラスコに前記実施例１で得た目的物5.1
g（0.017mol）、２−アミノ−4,6−ジメトキシピリミジ
ン2.6g（0.017mol）及びトルエン50mlを仕込み、還流
下、留出物を20ml/時間の割合で留去し、同時に同じ割
合でトルエンを投入しながら５時間反応させた。

反応終了後、20℃まで冷却して1.5％水酸化ナトリウ
ム水溶液を投入し、15分間撹拌した。

その後、水層をトルエン層と分液し、50％硫酸でpH2
に調整して結晶を析出させた。

得られた結晶を濾取した後、乾燥し目的物6.62gを得
た（収率94.9％）。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者田中敏博滋賀県草津市西渋川２丁目３番１号石原産業株式会社中央研究所内審査官齋藤恵 (56)参考文献特開昭62−223180（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C07D 213/00 - 213/82 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（Ｉ）；（式中、Ｒ、R¹及びR²は各々アルキル基である）で表わ
される、置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合
物。
【請求項２】Ｒがエチル基であり、R¹及びR²がともにメ
チル基である、請求項１に記載の置換ピリジンスルホニ
ルカーバメート系化合物。
【請求項３】一般式（II）；（式中、R¹及びR²は各々アルキル基である）で表わされ
る化合物と、一般式（III）； XCOOR ……（III）（式中、Ｒはアルキル基であり、Ｘはハロゲン原子であ
る）で表わされる化合物とを反応させることを特徴とす
る、一般式（Ｉ）；（式中、Ｒ、R¹及びR²は前述の通りである）で表わされ
る、置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合物の製
造方法。
【請求項４】Ｒがエチル基であり、R¹及びR²がともにメ
チル基である、請求項３に記載の置換ピリジンスルホニ
ルカーバメート系化合物の製造方法。
【請求項５】一般式（Ｉ）；（式中、Ｒ、R¹及びR²は各々アルキル基である）で表わ
される置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合物
と、２−アミノ−4,6−ジメトキシピリミジンとを反応
させることを特徴とする、一般式（IV）；（式中、R¹及びR²は前述の通りである）で表わされる、
置換ピリジンスルホンアミド系化合物の製造方法。
【請求項６】Ｒがエチル基であり、R¹及びR²がともにメ
チル基である、請求項５に記載の置換ピリジンスルホン
アミド系化合物の製造方法。