JP2932243B2 - Cavitation nozzle for spraying dry powder and coating method using the nozzle - Google Patents
Cavitation nozzle for spraying dry powder and coating method using the nozzleInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、液晶基盤のスペーサー
加工をするドライパウダー散布装置において、一方方向
に旋回する旋回流エアキャビテーションを生じるノズル
と、他方方向に旋回する旋回流エアキャビテーションを
生じるノズルとを組設したドライパウダー散布用キャビ
テーションノズルと、そのノズルを用いたドライパウダ
ーの塗布方法に関するものであって、更に詳細には、第
1旋回流エアキャビテーションを生じる第1ノズルと、
第1旋回流エアキャビテーションと逆方向に旋回する第
2旋回流エアキャビテーションを生じる第2ノズルを組
設したドライ散布用キャビテーションノズルと、そのノ
ズルを用いたドライパウダーの塗布方法に関するもので
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a nozzle for producing a swirling air cavitation swirling in one direction and a nozzle for producing a swirling air cavitation swirling in the other direction in a dry powder spraying apparatus for processing a spacer for a liquid crystal substrate. The present invention relates to a cavitation nozzle for spraying dry powder, and a method of applying a dry powder using the nozzle, and more specifically, a first nozzle that generates a first swirling air cavitation,
The present invention relates to a cavitation nozzle for dry spraying, in which a second nozzle for generating a second swirling air cavitation swirling in a direction opposite to the first swirling air cavitation is provided, and to a method of applying a dry powder using the nozzle.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、この種のドライパウダー散布用ノ
ズルは、エア導入ノズルとエア導出ノズルを挿嵌するド
ライパウダー混合室に、一定量のドライパウダーを撹拌
しながら押出し、エア導入ノズルにより適度に調節され
て導入されたエアと混合し、エア導出ノズルからドライ
パウダーを散布するものであった。2. Description of the Related Art Conventionally, a dry powder spraying nozzle of this type is extruded while stirring a certain amount of dry powder into a dry powder mixing chamber in which an air introduction nozzle and an air discharge nozzle are inserted, and is appropriately adjusted by an air introduction nozzle. In this case, the powder was mixed with air introduced by adjusting the air flow, and the dry powder was sprayed from the air outlet nozzle.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】然し乍、前述の従来技
術のように、ドライパウダーを撹拌しながらエアと混合
する構造のものでは、ドライパウダーの量とそれに混合
するエアの量は一定にすることはできても、混合室内に
エアと混合されずにドライパウダーが滞留することがあ
り、又、ドライパウダーの分散性、及び、分散精度にも
均一性がなく、更に、分散領域も狭く、大型化された液
晶基盤、並びに、高精度のスペーサー加工には対処し難
いものであった。However, in a structure in which dry powder is mixed with air while stirring it, as in the above-mentioned prior art, the amount of dry powder and the amount of air mixed therewith are kept constant. Even if it can be done, dry powder may stay in the mixing chamber without being mixed with air, and the dispersibility of the dry powder, and the dispersion accuracy are not uniform, and the dispersion area is narrow, It is difficult to cope with a large-sized liquid crystal substrate and high-precision spacer processing.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は、前述の課題に
鑑みて、鋭意研鎖の結果、円筒形状のドライパウダー導
入口を有する漏斗形状のノズル用ホッパーと、ノズル用
ホッパーのドライパウダー導入口の外側に間隙を設けて
内包すると共に下方に垂下させた円筒形状の第1エア噴
射口を有する第1ノズルと、第1ノズルの上方に接続さ
せ一方方向に旋回する第1旋回エア流と第1旋回流エア
キャビテーションとを生じさせる第1エア供給系と、第
1ノズルのエア噴射口の外側に間隙を設けて内包すると
共に下方に垂下させた円筒形状の第2エア噴射口を有す
る第2ノズルと、第2ノズルの上方に接続させ他方方向
に旋回する第2旋回エア流と第2旋回流エアキャビテー
ションとを生じさせる第2エア供給系とを具備したもの
である。DISCLOSURE OF THE INVENTION In view of the above-mentioned problems, the present invention provides a funnel-shaped nozzle hopper having a cylindrical dry powder inlet and a dry powder introduction of a nozzle hopper. A first nozzle having a cylindrical first air injection port that is provided with a gap outside the mouth and that hangs down, and a first swirling air flow that is connected above the first nozzle and turns in one direction; A first air supply system for generating the first swirling air cavitation; and a second air supply system including a cylindrical second air injection port which is enclosed and provided with a gap outside the air injection port of the first nozzle and is downwardly suspended. It comprises a second nozzle and a second air supply system connected above the second nozzle and configured to generate a second swirling air flow and a second swirling air cavitation swirling in the other direction.
【0005】更に、前記ドライパウダー散布用キャビテ
ーションノズルノズルを用いて、第1エア供給系と第2
エア供給系とから同時にエアを供給し、第1ノズル内に
一方方向に旋回する第1旋回エア流と第1旋回流エアキ
ャビテーションとを生じさせ、第2ノズル内に他方方向
に旋回する第2旋回エア流と第2旋回流エアキャビテー
ションとを生じさせながら、ノズル用ホッパーに一定量
のドライパウダーを供給すると共に、ドライパウダーを
ドライパウダー導入口から落下させて塗布するものであ
る。Further, a first air supply system and a second air supply system are provided by using the cavitation nozzle for spraying dry powder.
The air is simultaneously supplied from an air supply system to generate a first swirling air flow and a first swirling air cavitation in the first nozzle in one direction, and a second swirling air cavitation in the second nozzle in the other direction. While generating a swirling air flow and a second swirling flow air cavitation, a predetermined amount of dry powder is supplied to the nozzle hopper, and the dry powder is dropped from the dry powder introduction port to be applied.
【0006】[0006]
【発明の目的】本発明の目的は、夫々風圧量調節自在の
独立したエア供給系を接続し、一方方向と他方方向とに
夫々旋回する旋回流エアキャビテーションを生じるノズ
ルを組設することにより、ドライパウダーの分散密度と
分散角度、並びに、分散領域を調整自在の分散精度に優
れたドライパウダー散布用キャビテーションノズルを提
供することにあり、今日、益々大型化される液晶基盤の
高精度のスペーサー加工を可能とするドライパウダー散
布用キャビテーションノズルを提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to connect independent air supply systems each having an adjustable air pressure, and to assemble nozzles that generate swirling air cavitation that swirls in one direction and the other, respectively. In order to provide a cavitation nozzle for spraying dry powder with excellent dispersion accuracy that can adjust the dispersion density and dispersion angle of the dry powder and the dispersion area, high-precision spacer processing of liquid crystal substrates, which are becoming increasingly larger today. It is an object of the present invention to provide a cavitation nozzle for spraying dry powder, which enables the cavitation nozzle.
【0007】[0007]
【発明の作用】本発明は、第1エア供給系を作動させる
ことによりノズル用ホッパーの導入口の下方に第1旋回
流エアキャビテーションを生じさせると共に、第2エア
供給系を作動させることにより第1ノズルのエア噴射口
の下方に第1旋回流エアキャビテーションと逆旋回する
第2旋回流エアキャビテーションを発生させ、ノズル用
ホッパーの供給口からドライパウダーを供給することに
より、ドライパウダーが第1ノズルの第1旋回流エアキ
ャビテーションにより撹拌されると共に、第1旋回流エ
アキャビテーションの先端部に到達して第2ノズルの第
2旋回流エアキャビテーション中に分散され、更に、第
2ノズルの第2旋回流エアキャビテーションが分散され
たドライパウダーを再度撹拌して、液晶基盤上に散布で
きるものであり、夫々のエア供給系の風圧調整をして夫
々の旋回流エアキャビテーションの風圧量を変化させる
ことにより、ドライパウダーの分散密度と分散角度、並
びに、 分散領域を細微に調整することができるもので
ある。According to the present invention, by operating the first air supply system, the first swirling air cavitation is generated below the inlet of the nozzle hopper, and the second air supply system is operated by operating the second air supply system. A second swirling air cavitation that reverses the first swirling air cavitation is generated below the air injection port of one nozzle, and the dry powder is supplied from the supply port of the nozzle hopper, whereby the first nozzle is driven by the first nozzle. Is stirred by the first swirl air cavitation, reaches the tip of the first swirl air cavitation, is dispersed during the second swirl air cavitation of the second nozzle, and further, the second swirl of the second nozzle The dry powder in which the flow air cavitation is dispersed can be stirred again and sprayed on the liquid crystal substrate, By adjusting the wind pressure of each air supply system and changing the wind pressure amount of each swirling air cavitation, it is possible to finely adjust the dispersion density and dispersion angle of the dry powder and the dispersion area. .
【0008】[0008]
【実施例】以下、実施例の図面によって、本発明のドラ
イパウダー散布用キャビテーションノズルを具体的に説
明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The cavitation nozzle for spraying dry powder according to the present invention will be specifically described below with reference to the drawings of the embodiments.
【0009】図1は、本発明のドライパウダー散布用キ
ャビテーションノズルの概要平面図であり、図2は、本
発明のドライパウダー散布用キャビテーションノズルの
実施例を説明するための概要説明図である。FIG. 1 is a schematic plan view of a cavitation nozzle for spraying dry powder of the present invention, and FIG. 2 is a schematic explanatory view for explaining an embodiment of a cavitation nozzle for spraying dry powder of the present invention.
【0010】本発明は、液晶基盤Eのスペーサー加工を
するドライパウダー散布装置において、一方方向に旋回
する旋回流エアキャビテーションを生じるノズルと、他
方方向に旋回する旋回流エアキャビテーションを生じる
ノズルとを組設したドライパウダー散布用キャビテーシ
ョンノズルであって、更に詳細には、第1旋回流エアキ
ャビテーションを生じる第1ノズルのエア噴射口と、第
1旋回流エアキャビテーションと逆方向に旋回する第2
旋回流エアキャビテーションを生じる第2ノズルを組設
したドライ散布用キャビテーションノズルと、そのノズ
ルを用いたドライパウダーの塗布方法に関するものであ
り、円筒形状のドライパウダー導入口1aを有する漏斗
形状のノズル用ホッパー1と、該ノズル用ホッパー1の
ドライパウダー導入口1aの外側に間隙を設けて内包す
ると共に下方に垂下させた円筒形状の第1エア噴射口2
aを有する第1ノズル2と、該第1ノズル2の上方に接
続させ一方方向に旋回する第1旋回エア流と第1旋回流
エアキャビテーションCとを生じさせる第1エア供給系
3と、前記第1ノズル2のエア噴射口2aの外側に間隙
を設けて内包すると共に下方に垂下させた円筒形状の第
2エア噴射口4aを有する第2ノズル4と、該第2ノズ
ル4の上方に接続させ他方方向に旋回する第2旋回エア
流と第2旋回流エアキャビテーションC’とを生じさせ
る第2エア供給系5とを具備したものである。According to the present invention, in a dry powder spraying apparatus for processing a spacer of a liquid crystal substrate E, a nozzle generating a swirling air cavitation swirling in one direction and a nozzle generating a swirling air cavitation swirling in the other direction are combined. A cavitation nozzle for spraying dry powder provided, more specifically, an air injection port of the first nozzle that generates a first swirl air cavitation, and a second swirl that rotates in a direction opposite to the first swirl air cavitation.
The present invention relates to a cavitation nozzle for dry spraying, in which a second nozzle that generates swirling air cavitation is assembled, and a method for applying dry powder using the nozzle, for a funnel-shaped nozzle having a cylindrical dry powder inlet 1a. A hopper 1 and a cylindrical first air injection port 2 which is enclosed and provided with a gap outside the dry powder introduction port 1a of the nozzle hopper 1 and is hung downward.
a first nozzle 2 having a and a first air supply system 3 connected above the first nozzle 2 to generate a first swirling air flow and a first swirling air cavitation C which are swirled in one direction; A second nozzle 4 having a cylindrical second air injection port 4a which is enclosed with a gap provided outside the air injection port 2a of the first nozzle 2 and which is suspended downward, and is connected above the second nozzle 4; And a second air supply system 5 for generating a second swirling air flow that swirls in the other direction and a second swirling air cavitation C ′.
【0011】更に、ドライパウダーDの塗布方法であっ
て、円筒形状のドライパウダー導入口1aを有する漏斗
形状のノズル用ホッパー1と、該ノズル用ホッパー1の
ドライパウダー導入口1aの外側に間隙を設けて内包す
ると共に下方に垂下させた円筒形状の第1エア噴射口2
aを有する第1ノズル2と、該第1ノズル2の上方に接
続させ一方方向に旋回する第1旋回エア流と第1旋回流
エアキャビテーションCとを生じさせる第1エア供給系
3と、前記第1ノズル2のエア噴射口2aの外側に間隙
を設けて内包すると共に下方に垂下させた円筒形状の第
2エア噴射口4aを有する第2ノズル4と、該第2ノズ
ル4の上方に接続させ他方方向に旋回する第2旋回エア
流と第2旋回流エアキャビテーションC’とを生じさせ
る第2エア供給系5とを具備したドライパウダー散布用
キャビテーションノズルノズルを用いて、第1エア供給
系3と第2エア供給系5とから同時にエアを供給し、第
1ノズル2内に一方方向に旋回する第1旋回エア流と第
1旋回流エアキャビテーションCとを生じさせ、第2ノ
ズル4内に他方方向に旋回する第2旋回エア流と第2旋
回流エアキャビテーションC’とを生じさせながら、ノ
ズル用ホッパー1に一定量のドライパウダーDを供給す
ると共に、該ドライパウダーDをドライパウダー導入口
1aから落下させて塗布するものである。Further, in the method of applying dry powder D, a funnel-shaped nozzle hopper 1 having a cylindrical dry powder inlet 1a and a gap outside the dry powder inlet 1a of the nozzle hopper 1 are provided. A cylindrical first air injection port 2 which is provided and included and is downwardly hung down.
a first nozzle 2 having a and a first air supply system 3 connected above the first nozzle 2 to generate a first swirling air flow and a first swirling air cavitation C which are swirled in one direction; A second nozzle 4 having a cylindrical second air injection port 4a which is enclosed with a gap provided outside the air injection port 2a of the first nozzle 2 and which is suspended downward, and is connected above the second nozzle 4; The first air supply system is provided using a dry powder spraying cavitation nozzle having a second air supply system 5 for generating a second swirling air flow swirling in the other direction and a second swirling air cavitation C ′. 3 and the second air supply system 5 to simultaneously supply air to generate a first swirling air flow and a first swirling air cavitation C which are swirled in one direction in the first nozzle 2, To the other direction While generating a second swirling air flow and a second swirling air cavitation C ′, a certain amount of dry powder D is supplied to the nozzle hopper 1 and the dry powder D is supplied from the dry powder inlet 1 a. It is applied by dropping.
【0012】即ち、本発明のドライパウダー散布用キャ
ビテーションノズルのノズル用ホッパー1は、略逆円錐
形状のドライパウダー受給口1bと、該ドライパウダー
受給口1bの下方に円筒形状に垂下させたドライパウダ
ー導入口1aによって形成される漏斗形状のものであ
り、ドライパウダーDを後述する第1ノズル2、及び、
第2ノズル4に供給するものである。That is, the nozzle hopper 1 of the cavitation nozzle for spraying dry powder according to the present invention comprises a dry powder receiving port 1b having a substantially inverted conical shape, and a dry powder suspended in a cylindrical shape below the dry powder receiving port 1b. It is a funnel-shaped one formed by the inlet 1a, and a first nozzle 2, which will be described later.
This is supplied to the second nozzle 4.
【0013】本発明の第1ノズル2は中心辺に前記ノズ
ル用ホッパー1のドライパウダー導入口1aを間隙を有
して内包させ、前記ドライパウダー導入口1aの下方に
は第1旋回流エアキャビテーションCを発生させるに充
分な空間を有して円筒状に垂下させた第1エア噴射口2
aを形成しているもので、つまり、第1ノズル2の上面
へは第1貫通孔2bを穿設してノズル用ホッパー1の下
方を貫通させているものである。The first nozzle 2 of the present invention includes a dry powder inlet 1a of the nozzle hopper 1 at a center side thereof with a gap therebetween, and a first swirling air cavitation below the dry powder inlet 1a. The first air injection port 2 which has a space enough to generate C and is suspended in a cylindrical shape.
a, that is, a first through-hole 2b is formed in the upper surface of the first nozzle 2 to penetrate below the nozzle hopper 1.
【0014】そして、第1ノズル2の上方には後述する
一方方向に旋回する第1旋回エア流と第1旋回流エアキ
ャビテーションCとを生じさせる第1エア供給系3と接
続させる単数又は複数の第1エア導入孔2cを開口させ
ているものである。Above the first nozzle 2, one or a plurality of air sources connected to a first air supply system 3 for generating a first swirling air flow and a first swirling air cavitation C which will be described later in one direction. The first air introduction hole 2c is opened.
【0015】前記第1エア導入孔2cは第1エア噴射口
2aに内包されるノズル用ホッパー1のドライパウダー
導入口1aの軸方向の中心線からどちらか一方にずれる
ようにして開口させて一方方向に旋回する第1旋回エア
流と第1旋回流エアキャビテーションCとを生じさせる
ものである。The first air introduction hole 2c is opened so as to be shifted to one of the axial center lines of the dry powder introduction port 1a of the nozzle hopper 1 included in the first air injection port 2a. A first swirling air flow and a first swirling air cavitation C that swirl in the direction are generated.
【0016】次に、第1エア供給系3は風圧量調整自在
のエアポンプ及びエアコンプレッサー3aとエアホース
3bを介してジョイント部3cで第1エア導入孔2cと
接続されており、第1エア導入孔2cにエアを供給する
ものである。Next, the first air supply system 3 is connected to the first air introduction hole 2c via a joint 3c via an air pump and an air compressor 3a and an air hose 3b capable of adjusting the air pressure. 2c is to supply air.
【0017】本発明の第2ノズル4は中心辺に前記第1
ノズル2の第1エア噴射口2aを間隙を有して内包さ
せ、前記第1エア噴射口2aの下方には第2旋回流エア
キャビテーションC’を発生させるに充分な空間を有し
て円筒状に垂下させた第2エア噴射口4aを形成してい
るもので、つまり、第2ノズル4の上面へは第2貫通孔
4bを穿設して第1ノズル2を貫通させているものであ
る。The second nozzle 4 of the present invention has the first side at the center side.
The first air injection port 2a of the nozzle 2 is included with a gap therebetween, and has a sufficient space below the first air injection port 2a to generate the second swirling air cavitation C '. In other words, the second air injection port 4a is formed so as to hang down, that is, a second through hole 4b is formed in the upper surface of the second nozzle 4 to allow the first nozzle 2 to penetrate. .
【0018】そして、第2ノズル4の上方には後述する
他方方向に旋回する第2旋回エア流と第2旋回流エアキ
ャビテーションC’とを生じさせる第2エア供給系5と
接続させる単数又は複数の第2エア導入孔4cを開口さ
せているものである。[0018] Above the second nozzle 4, one or more connected to a second air supply system 5 for generating a second swirling air flow and a second swirling air cavitation C 'to be swirled in the other direction described later. The second air introduction hole 4c is opened.
【0019】前記第2エア導入孔4cは第2エア噴射口
4aに内包される第1ノズル2の第1エア噴射口2aの
軸方向の中心線から前記第1エア導入孔2cと逆向きに
ずれるようにして開口させて他方方向に旋回する第2旋
回エア流と第2旋回流エアキャビテーションC’とを生
じさせるものである。The second air introduction hole 4c is oriented in a direction opposite to the first air introduction hole 2c from the axial center line of the first air injection port 2a of the first nozzle 2 included in the second air injection port 4a. The second swirling air flow and the second swirling air cavitation C ′ which are opened so as to be deviated and swirl in the other direction are generated.
【0020】次に、第2エア供給系5は風圧量調整自在
のエアポンプ及びエアコンプレッサー5aとエアホース
5bを介してジョイント部5cで第2エア導入孔4cと
接続されており、第2エア導入孔4cにエアを供給する
ものである。Next, the second air supply system 5 is connected to the second air introduction hole 4c at a joint 5c via an air pump and an air compressor 5a and an air hose 5b capable of adjusting the air pressure. 4c is supplied with air.
【0021】本発明のドライパウダー散布用キャビテー
ションノズルは、液晶基盤Eのスペーサー加工を施すド
ライパウダー散布装置のドライパウダー散布用ノズルで
あり、第2図に示すように、ドライパウダー散布装置本
体6のスペーサー加工工程を設定自在に制御するプログ
ラム部Pと、床面に液晶基盤Eを乗載してスペーサー加
工をするためのドライパウダー散布室7と、該ドライパ
ウダー散布室7の頂部の中心辺に穿設されたノズル取付
孔7aと、ドライパウダー散布室7の側面に穿設される
排気孔8と、該排気孔8を開閉自在の排気ダンパー9と
を有しているものである。The dry powder dispersing cavitation nozzle of the present invention is a dry powder dispersing nozzle of a dry powder dispersing device for performing spacer processing of a liquid crystal substrate E, and as shown in FIG. A program section P for freely controlling the spacer processing step, a dry powder spraying chamber 7 for mounting the liquid crystal substrate E on the floor to perform spacer processing, and a central portion at the top of the dry powder spraying chamber 7 at the center. It has a nozzle mounting hole 7a formed, an exhaust hole 8 formed on the side surface of the dry powder spraying chamber 7, and an exhaust damper 9 capable of opening and closing the exhaust hole 8.
【0022】そして、ドライパウダー散布装置本体6の
ノズル取付孔7aに本発明のドライパウダー散布用キャ
ビテーションノズルを取付け、ドライパウダー散布用キ
ャビテーションノズルのノズル用ホッパー1の上方にド
ライパウダーDを供給するドライパウダー供給用ホッパ
ー10を配したドライパウダー供給装置11を配設して
いるものである。Then, the cavitation nozzle for dry powder spraying of the present invention is attached to the nozzle mounting hole 7a of the main body 6 of the dry powder spraying device, and the dry powder D is supplied above the nozzle hopper 1 of the cavitation nozzle for dry powder spraying. A dry powder supply device 11 provided with a powder supply hopper 10 is provided.
【0023】次に、ドライパウダー散布装置本体6のプ
ログラム部Pにより、ドライパウダーDの散布密度、散
布角度、並びに、散布領域、及び、第1エア供給系3と
第2エア供給系5の夫々の風圧量、散布されたドライパ
ウダーDの沈下時間等を全て設定し、スペーサー加工を
する液晶基盤Eをドライパウダー散布室7の床面に乗載
するものである。Next, the program density P of the dry powder spraying apparatus main body 6, the spray density, the spray angle, and the spray area of the dry powder D, and the first air supply system 3 and the second air supply system 5, respectively. , The settling time of the sprayed dry powder D, etc. are all set, and the liquid crystal substrate E for spacer processing is mounted on the floor of the dry powder spraying chamber 7.
【0024】先ず、第1エア供給系3を作動させて、第
1ノズル2内のノズル用ホッパー1のドライパウダー導
入口1aの外周辺の間隙に一方方向に旋回する第1エア
旋回流を生じさせるものであり、この第1エア旋回流は
ノズル用ホッパー1のドライパウダー導入口1aの下方
に第1旋回流エアキャビテーションCを生じながら第1
エア噴射口2aから旋回噴射されるものである。First, the first air supply system 3 is operated to generate a first air swirling flow which swirls in one direction in a gap around the dry powder inlet 1a of the nozzle hopper 1 in the first nozzle 2. The first swirling air flow is generated while the first swirling air cavitation C is generated below the dry powder inlet 1a of the nozzle hopper 1.
The swirling injection is performed from the air injection port 2a.
【0025】それと同時に第2供給系5も作動させて、
第2ノズル4内の第1ノズル2のエア噴射口2aの外周
辺の間隙に前記第1エア旋回流と逆方向の他方方向に旋
回する第2エアエア旋回流を生じさせるものであり、こ
の第2エア旋回流は第1ノズル2のエア噴射口2aの下
方に第2旋回流エアキャビテーションC′を生じながら
第2エア噴出口4aから旋回噴射されるものである。At the same time, the second supply system 5 is also operated,
A second air swirling flow swirling in the other direction opposite to the first air swirling flow is generated in a gap around the air injection port 2 a of the first nozzle 2 in the second nozzle 4. The two-air swirl flow is swirl-injected from the second air outlet 4a while generating a second swirl air cavitation C 'below the air injection port 2a of the first nozzle 2.
【0026】この時、第2キャビテーションC′は第1
キャビテーションCを内包する状態となるものである。At this time, the second cavitation C 'is the first
The cavitation C is included.
【0027】次に、ドライパウダー供給装置11のドラ
イパウダー供給用ホッパー10からプログラム部Pによ
り予め設定された量のドライパウダーDがノズル用ホッ
パー1に供給されるものである。Next, a predetermined amount of dry powder D is supplied from the dry powder supply hopper 10 of the dry powder supply device 11 to the nozzle hopper 1 by the program section P.
【0028】そして、ノズル用ホッパー1に供給された
ドライパウダーDは、該ノズル用ホッパー1のドライパ
ウダー導入口1aの下方に生じる第1旋回流エアキャビ
テーションCの中に落下して撹拌されながら、該第1キ
ャビテーションCの中の下方部に到達し、次いで、逆方
向に旋回する第2旋回流エアキャビテーションC′の中
に分散されるものである。The dry powder D supplied to the nozzle hopper 1 falls into the first swirling air cavitation C generated below the dry powder inlet 1a of the nozzle hopper 1 while being stirred. It reaches the lower part in the first cavitation C, and is then dispersed in the second swirling air cavitation C 'which swirls in the opposite direction.
【0029】前記第2旋回流エアキャビテーションC′
の中に分散されたドライパウダーDは、該第2旋回流エ
アキャビテーションC′により再度撹拌されながら、該
第2旋回流エアキャビテーションC′の下方からドライ
パウダー散布装置本体6のドライパウダー散布室7の床
面に乗載された液晶基盤Eの上面に散布されるものであ
る。The second swirling air cavitation C '
The dry powder D dispersed therein is stirred again by the second swirling air cavitation C ', and from below the second swirling air cavitation C', the dry powder spraying chamber 7 of the dry powder spraying device main body 6 is dried. Are sprayed on the upper surface of the liquid crystal substrate E mounted on the floor surface of the liquid crystal display.
【0030】そして、ドライパウダーDの浮遊の沈下時
間が経過した後、排気ダンパー9を開動させて排気し、
ドライパウダー散布装置本体内6の床面に乗載させた液
晶基盤Eのスペーサー加工が終了となるものである。After the settling time of the floating of the dry powder D has elapsed, the exhaust damper 9 is opened to exhaust air.
The spacer processing of the liquid crystal substrate E mounted on the floor of the inside of the dry powder spraying apparatus main body 6 is completed.
【0031】又、本発明のドライ散布用キャビテーショ
ンノズルは、第1エア供給系3及び、第2エア供給系5
の夫々の風圧量を調節し、第1旋回流エアキャビテーシ
ョンCと第2旋回流エアキャビテーションC′の夫々を
調整することにより、散布するドライパウダーDの分散
密度と分散角度、並びに、分散領域を細微に調節するこ
とができるものである。The cavitation nozzle for dry spraying according to the present invention comprises a first air supply system 3 and a second air supply system 5.
By adjusting the respective wind pressure amounts of the first and second swirling flow air cavitations C and C ′, the dispersion density and the dispersion angle of the dry powder D to be sprayed, and the dispersion area can be reduced. It can be finely adjusted.
【0032】[0032]
【発明の効果】前述の如く構成した本発明のドライパウ
ダー散布用キャビテーションノズルは、ドライパウダー
の投入されるノズル用ホッパーの下方に第1エア供給系
の作動により第1旋回流エアキャビテーションを発生さ
せ、第2エア供給系の作動により第1旋回流エアキャビ
テーションを内包するように逆旋回する第2旋回流エア
キャビテーションを第1ノズルの下方に発生させ、ドラ
イパウダーをノズル用ホッパーから供給することによ
り、第1旋回流エアキャビテーションがドライパウダー
を撹拌しながら分散し、更に、第1旋回流エアキャビテ
ーションを通過したドライパウダーを逆旋回する第2旋
回流エアキャビテーションが微細に再撹拌して分散する
ことにより、ドライパウダーの分散均一性を極めて向上
し、更に、第1エア供給系と第2供給系とを夫々風圧量
調整自在に独立させ、夫々の旋回流の風圧力調整をする
ことにより、ドライパウダーの分散密度と分散角度、並
びに、分散領域の細微調整を可能とし、今日、益々大型
化される液晶基盤に対応し、且つ、分散精度の優れたス
ペーサー加工を実現するものであり、極めて有意義な効
果を奏するものである。According to the cavitation nozzle for spraying dry powder of the present invention constructed as described above, the first swirl air cavitation is generated by the operation of the first air supply system below the hopper for the nozzle into which the dry powder is charged. A second swirling air cavitation is generated below the first nozzle to reversely swirl so as to include the first swirling air cavitation by the operation of the second air supply system, and dry powder is supplied from the nozzle hopper. The first swirling air cavitation disperses while agitating the dry powder, and further, the second swirling air cavitation that reversely swirls the dry powder that has passed through the first swirling air cavitation is finely re-stirred and dispersed. As a result, the dispersion uniformity of the dry powder is significantly improved. The feed system and the second feed system are each independently adjustable so that the wind pressure can be adjusted, and the wind pressure of each swirling flow can be adjusted to enable fine adjustment of the dispersion density and dispersion angle of the dry powder and the dispersion area. Today, the present invention realizes spacer processing which is compatible with an increasingly larger liquid crystal substrate and has excellent dispersion accuracy, and has an extremely significant effect.
【図1】図1は、本発明のドライパウダー散布用キャビ
テーションノズルの概要平面図である。FIG. 1 is a schematic plan view of a cavitation nozzle for spraying dry powder of the present invention.
【図2】図2は、本発明のドライパウダー散布用キャビ
テーションノズルの実施例を説明するための概要説明図
である。FIG. 2 is a schematic explanatory view for explaining an embodiment of a cavitation nozzle for spraying dry powder according to the present invention.
C 第1旋回流エアキャビテーション C′ 第2旋回流エアキャビテーション D ドライパウダー E 液晶基盤 1 ノズル用ホッパー 1a ドライパウダー導入口 1b ドライパウダー受給口 2 第1ノズル 2a 第1エア噴射口 2b 第1貫通孔 2c 第1エア導入孔 3 第1エア供給系 3a エアポンプ及びエアコンプレッサー 3b エアホース3c ジョイント 4 第2ノズル 4a 第2エア噴射口 4b 第2貫通孔 4c 第2エア導入孔 5 第2エア供給系 5a エアポンプ及びエアコンプレッサー 5b エアホース 5c ジョイント 6 ドライパウダー散布装置本体 7 ドライパウダー散布室 7a ノズル取付孔 8 排気孔 9 排気ダンパー 10 ホッパー 11 ドライパウダー供給装置 P プログラム部 C First swirl air cavitation C 'Second swirl air cavitation D Dry powder E Liquid crystal substrate 1 Nozzle hopper 1a Dry powder inlet 1b Dry powder receiving port 2 First nozzle 2a First air injection port 2b First through hole 2c 1st air introduction hole 3 1st air supply system 3a air pump and air compressor 3b air hose 3c joint 4 2nd nozzle 4a 2nd air injection port 4b 2nd through hole 4c 2nd air introduction hole 5 2nd air supply system 5a air pump And air compressor 5b air hose 5c joint 6 dry powder spraying device main body 7 dry powder spraying chamber 7a nozzle mounting hole 8 exhaust hole 9 exhaust damper 10 hopper 11 dry powder supply device P program section
Claims (2)
ウダー散布装置のドライパウダー散布用ノズルにおい
て、円筒形状のドライパウダー導入口を有する漏斗形状
のノズル用ホッパーと、該ノズル用ホッパーのドライパ
ウダー導入口の外側に間隙を設けて内包すると共に下方
に垂下させた円筒形状の第1エア噴射口を有する第1ノ
ズルと、該第1ノズルの上方に接続させ一方方向に旋回
する第1旋回エア流と第1旋回流エアキャビテーション
とを生じさせる第1エア供給系と、前記第1ノズルのエ
ア噴射口の外側に間隙を設けて内包すると共に下方に垂
下させた円筒形状の第2エア噴射口を有する第2ノズル
と、該第2ノズルの上方に接続させ他方方向に旋回する
第2旋回エア流と第2旋回流エアキャビテーションとを
生じさせる第2エア供給系とを具備したことを特徴とす
るドライパウダー散布用キャビテーションノズル。1. A funnel-shaped nozzle hopper having a cylindrical dry powder inlet and a dry powder inlet of the nozzle hopper in a dry powder spraying nozzle of a dry powder spraying device for processing a spacer for a liquid crystal substrate. A first nozzle having a cylindrical first air injection port which is provided with a gap on the outside of the nozzle and which hangs downward, and a first swirling air flow which is connected above the first nozzle and turns in one direction. A first air supply system for generating the first swirling air cavitation; and a cylindrical second air injection port which is enclosed and provided with a gap outside the air injection port of the first nozzle and which is suspended downward. A second nozzle, a second air connected above the second nozzle and configured to generate a second swirling airflow and a second swirling air cavitation swirling in the other direction; Cavitation nozzle dry powder spray, characterized by comprising a feeding system.
ウダー散布装置のドライパウダー散布用ノズルにおい
て、円筒形状のドライパウダー導入口を有する漏斗形状
のノズル用ホッパーと、該ノズル用ホッパーのドライパ
ウダー導入口の外側に間隙を設けて内包すると共に下方
に垂下させた円筒形状の第1エア噴射口を有する第1ノ
ズルと、該第1ノズルの上方に接続させ一方方向に旋回
する第1旋回エア流と第1旋回流エアキャビテーション
とを生じさせる第1エア供給系と、前記第1ノズルのエ
ア噴射口の外側に間隙を設けて内包すると共に下方に垂
下させた円筒形状の第2エア噴射口を有する第2ノズル
と、該第2ノズルの上方に接続させ他方方向に旋回する
第2旋回エア流と第2旋回流エアキャビテーションとを
生じさせる第2エア供給系とを具備したドライパウダー
散布用キャビテーションノズルノズルを用いて、第1エ
ア供給系と第2エア供給系とから同時にエアを供給し、
第1ノズル内に一方方向に旋回する第1旋回エア流と第
1旋回流エアキャビテーションとを生じさせ、第2ノズ
ル内に他方方向に旋回する第2旋回エア流と第2旋回流
エアキャビテーションとを生じさせながら、ノズル用ホ
ッパーに一定量のドライパウダーを供給すると共に、該
ドライパウダーをドライパウダー導入口から落下させて
塗布することを特徴とするドライパウダー散布用キャビ
テーションノズルを用いた塗布方法。2. A funnel-shaped nozzle hopper having a cylindrical dry powder inlet, and a dry powder inlet of the nozzle hopper in a dry powder spraying nozzle of a dry powder spraying device for processing a spacer for a liquid crystal substrate. A first nozzle having a cylindrical first air injection port which is provided with a gap on the outside of the nozzle and which hangs downward, and a first swirling air flow which is connected above the first nozzle and turns in one direction. A first air supply system for generating the first swirling air cavitation; and a cylindrical second air injection port which is enclosed and provided with a gap outside the air injection port of the first nozzle and which is suspended downward. A second nozzle, a second air connected above the second nozzle and configured to generate a second swirling airflow and a second swirling air cavitation swirling in the other direction; Using cavitation nozzle nozzle for dry powder spraying equipped and feeding system, and simultaneously supplies air from a first air supply system and the second air supply system,
A first swirling air flow and a first swirling air cavitation swirling in one direction in the first nozzle, and a second swirling air flow and a second swirling air cavitation swirling in the other direction in the second nozzle. A method of applying a cavitation nozzle for spraying dry powder, comprising supplying a fixed amount of dry powder to a nozzle hopper while dropping the dry powder from a dry powder inlet, and applying the dry powder.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18317795A JP2932243B2 (en) | 1995-06-13 | 1995-06-13 | Cavitation nozzle for spraying dry powder and coating method using the nozzle |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18317795A JP2932243B2 (en) | 1995-06-13 | 1995-06-13 | Cavitation nozzle for spraying dry powder and coating method using the nozzle |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08338996A JPH08338996A (en) | 1996-12-24 |
| JP2932243B2 true JP2932243B2 (en) | 1999-08-09 |
Family
ID=16131130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18317795A Expired - Fee Related JP2932243B2 (en) | 1995-06-13 | 1995-06-13 | Cavitation nozzle for spraying dry powder and coating method using the nozzle |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2932243B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990076053A (en) * | 1998-03-27 | 1999-10-15 | 윤종용 | Spacer spreader for liquid crystal display |
-
1995
- 1995-06-13 JP JP18317795A patent/JP2932243B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08338996A (en) | 1996-12-24 |
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