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JP2937471B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
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JP2937471B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JP2937471B2
JP2937471B2 JP33284790A JP33284790A JP2937471B2 JP 2937471 B2 JP2937471 B2 JP 2937471B2 JP 33284790 A JP33284790 A JP 33284790A JP 33284790 A JP33284790 A JP 33284790A JP 2937471 B2 JP2937471 B2 JP 2937471B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、診断対象回路と、それの動作診断を可能と
する診断用回路とを含むウェーハ状若しくはチップ状の
半導体集積回路、さらにはそれに含まれる診断対象回路
のウェーハプロービング試験と同等の診断を非接触状態
で可能とする技術に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a wafer-like or chip-like semiconductor integrated circuit including a circuit to be diagnosed, and a diagnostic circuit capable of diagnosing the operation of the circuit. The present invention relates to a technology that enables a diagnosis equivalent to a wafer probing test of a included circuit to be diagnosed in a non-contact state.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体集積回路の動作診断は、診断対象とされる半導
体集積回路に試験パターンあるいは信号などの診断用情
報を入力し、半導体集積回路からのた出力値と期待値と
比較して半導体集積回路の機能の良否を判定したり、入
出力信号を測定するもので、そのひとつにウェーハプロ
ービング試験がある。このウェーハプロービング試験
は、チップ切り出し前のウェーハ状態で半導体集積回路
のボンディングパッドなどに探針を機械的に接触させて
電気的特性を測定する試験であり、この試験においては
試験装置と接続して使用されるウェーハプローバが必要
とされる。このウェーハプローバによって、上記ボンデ
ィングパッドに接触された探針を介して試験装置からの
信号の入出力,電源の供給が可能とされ、この探針を順
次移動させることによってウェーハ上の複数の半導体集
積回路を次々と試験することができる。
The operation diagnosis of a semiconductor integrated circuit is performed by inputting diagnostic information such as a test pattern or a signal to a semiconductor integrated circuit to be diagnosed and comparing the output value from the semiconductor integrated circuit with an expected value to evaluate the function of the semiconductor integrated circuit. The wafer probing test is used to judge the quality of the data and to measure the input / output signals. This wafer probing test is a test in which a probe is mechanically brought into contact with a bonding pad or the like of a semiconductor integrated circuit in a wafer state before a chip is cut out to measure electrical characteristics. The wafer prober used is required. The wafer prober enables input / output of signals from a test apparatus and supply of power through a probe that is in contact with the bonding pad. By sequentially moving the probe, a plurality of semiconductor integrated devices on the wafer can be integrated. Circuits can be tested one after another.

尚、ウェーハプロービング試験について記載された文
献の例としては、昭和59年11月30日にオーム社より発行
らえた「LSIハンドブック」がある。
As an example of a document describing a wafer probing test, there is an "LSI Handbook" issued by Ohmsha on November 30, 1984.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

上記従来技術について本発明者が検討したところによ
れば、以下のような問題点のあることが見いだされた。
According to the study by the present inventor on the above prior art, the following problems were found.

上記ウェ−ハプロービング試験においては、ボンディ
ングパッドに探針を接触させることになるので、それに
よってボンディングパッドに傷を与える虞がある。ま
た、同時に試験できるのは現在探針が接触されているた
だひとつの半導体集積回路のみであり、その試験が終了
する毎に探針の移動が必要とされるので、一つのウェー
ハにおけるすべての半導体集積回路の試験を完了するの
に長時間を要する。
In the wafer probing test described above, the probe is brought into contact with the bonding pad, which may damage the bonding pad. In addition, only one semiconductor integrated circuit with which the probe is currently in contact can be tested at the same time, and the probe needs to be moved each time the test is completed. It takes a long time to complete an integrated circuit test.

本発明の目的は、電極パッドに損傷を与えることがな
く、また、一つのウェーハにおけるすべての半導体集積
回路の動作診断を短時間で完了することができる技術を
提供することにある。
An object of the present invention is to provide a technique capable of completing operation diagnosis of all semiconductor integrated circuits on one wafer in a short time without damaging electrode pads.

本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は本発
明書の記述並びに添付図面から明らかになるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概
要を簡単に説明すれば下記の通りである。
The outline of a representative invention among the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

すなわち、診断対象回路と、この診断対象回路の動作
診断を可能とする診断用回路とが同一のウェーハに複数
形成するとき、診断用情報を記憶する記憶部と、この診
断用情報が上記診断対象回路に与えられた場合の当該診
断対象回路の出力結果とその期待値とを比較することに
より当該診断対象回路の良否判断を可能とする論理回路
部と、外部からの診断開始指示信号の取り込み及び診断
結果の外部出力を当該ウェーハに対して非接触状態で可
能とするインターフェース部とを含んで上記診断用回路
を形成するものである。さらに具体的な態様では、外部
から光学的に与えられる診断開始指示を感知する受光部
と、上記診断結果を光学的に出力する発光部とを含んで
上記インタフェース部を形成することができる。このと
き、動作診断において外部から当該半導体集積回路への
電源供給を不要とするには、動作診断のための電源とさ
れる太陽電池を上記ウェーハに設けるようにすると良
い。動作診断後において上記診断用回路は、特別な場合
を除いて不要とされるため、それを診断対象回路とは別
チップとして切り出し可能に形成することもできるが、
上記診断対象回路をウェーハから切り出した後において
も上記インタフェース部を積極的に利用可能する場合、
あるいは当該インタフェース部が含まれることによって
特に問題を生じない場合には、ウェーハから一つの診断
用回路とそれに対応する診断用回路とを一つの半導体チ
ップとして切り出し可能に形成することもできる。
That is, when a plurality of circuits to be diagnosed and a plurality of circuits for diagnosis that enable operation diagnosis of the circuit to be diagnosed are formed on the same wafer, a storage unit for storing diagnostic information; A logic circuit unit that enables the quality judgment of the circuit to be diagnosed by comparing the output result of the circuit to be diagnosed when given to the circuit with its expected value; The diagnostic circuit is formed by including an interface unit that enables an external output of a diagnostic result to the wafer in a non-contact state. In a more specific aspect, the interface unit can be formed including a light receiving unit that senses a diagnosis start instruction optically given from the outside and a light emitting unit that optically outputs the diagnosis result. At this time, in order to eliminate the need for external power supply to the semiconductor integrated circuit in the operation diagnosis, it is preferable to provide a solar cell as a power supply for the operation diagnosis on the wafer. After the operation diagnosis, the diagnostic circuit is not required except in special cases, so that it can be formed so as to be cut out as a separate chip from the circuit to be diagnosed,
In the case where the interface unit can be actively used even after the circuit to be diagnosed is cut out from the wafer,
Alternatively, if no problem is caused by the inclusion of the interface section, one diagnostic circuit and a corresponding diagnostic circuit can be formed as one semiconductor chip so as to be cut out from the wafer.

〔作 用〕(Operation)

上記した手段によれば、上記診断用回路に含まれるイ
ンタフェース部は、外部からの診断開始指示及び診断結
果の外部認識を、当該半導体集積回路が含まれるウェー
ハに対して比接触状態で可能とし、このことが、ボンデ
ィングパッドなどの電極パッドに損傷を与えずに動作診
断を可能とする。また、上記診断用回路は診断対象回路
に対応して複数形成され、それによって複数の診断対象
回路の同時診断が可能とされ、そのことが、一つのウェ
ーハにおけるすべての半導体集積回路の動作診断に要す
る時間を短縮するように作用する。
According to the above-described means, the interface unit included in the diagnostic circuit enables a diagnosis start instruction from the outside and external recognition of the diagnosis result in a state of relative contact with the wafer including the semiconductor integrated circuit, This enables operation diagnosis without damaging electrode pads such as bonding pads. Further, a plurality of the above-mentioned diagnostic circuits are formed corresponding to the diagnosis target circuit, thereby enabling simultaneous diagnosis of a plurality of diagnosis target circuits, which is useful for the operation diagnosis of all the semiconductor integrated circuits on one wafer. It acts to reduce the time required.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には本発明の一実施例に係るLSIが示される。 FIG. 1 shows an LSI according to an embodiment of the present invention.

同図において1はウェーハであり、このウェーハ1に
は、診断対象とされる診断対象回路3Aと、この診断対象
回路3Aの動作診断を可能とする診断用回路3Bとが複数形
成されている。診断対象回路3Aとそれに対応する診断用
回路3Bとは、第1図において拡大して示されるように、
後述するダイシングにおいて一つの半導体チップ2とし
て切り出し可能に形成される。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a wafer. On the wafer 1, a plurality of diagnosis target circuits 3A to be diagnosed and a plurality of diagnosis circuits 3B capable of diagnosing the operation of the diagnosis target circuit 3A are formed. The diagnosis target circuit 3A and the corresponding diagnosis circuit 3B are shown in an enlarged manner in FIG.
It is formed so as to be cut out as one semiconductor chip 2 in dicing described later.

上記診断対象回路3Aは特に制限されないが、ゲートア
レイ方式で形成されるロジック部とされ、それと上記診
断用回路3Bとが、アルミニウム配線層A1によって結合さ
れている。
Although the diagnosis target circuit 3A is not particularly limited, it is a logic unit formed by a gate array method, and the logic unit and the diagnosis circuit 3B are connected by an aluminum wiring layer A1.

上記診断用回路3Bは特に制限されないが、次のように
構成される。
Although not particularly limited, the diagnostic circuit 3B is configured as follows.

4は上記診断用回路3Aの動作診断において電源とされ
る太陽電池であり、外部から波長αの光を受けることに
よって所定の電位を発生する。発生された電位はLSI各
部に印加可能とされる。5は診断用情報としてのテスト
パターン情報及び期待値情報が記憶されたROM(リード
・オンリ・メモリ)であり、テストパターン情報は診断
対象回路3Aに伝達可能とされ、期待値情報は論理部6に
伝達可能とされる。論理部6は、診断対象回路3Aにテス
トパターン情報が与えられた場合の当該診断対象回路3A
の出力とその期待値とを比較することによって当該診断
対象回路3Aの動作診断を可能とする。この論理部6に
は、外部からの診断指示信号の取り込み及び診断結果の
外部出力を当該ウェーハ1に対して非接触状態で可能と
するインタフェース部90が結合される。このインタフェ
ース部90は、特に制限されないが、波長βの光に対して
感度を有する受光部7と、波長γの光を発生可能な発光
部8とを含む。受光部7は、受光素子例えば受光ダイオ
ード70と、その出力信号の処理回路とを有し、発光部7
は、発光素子例えば発光ダイオード80と、その駆動回路
とを有する。受光ダイオード70と発光ダイオード80とは
LSI製作と同じプロセスで作り込むことができる。そし
てその場合の波長はダイオードを構成する材料によって
決定される。例えばGa1−xAlxAs系ならばAl混合比の制
御により波長を750乃至905nmの範囲で設定可能とされ
る。上記受光部7によって波長βの光が受光された場
合、上記論理部6は、上記診断対象回路3Aの動作診断を
開始する。そして、この動作診断において診断対象回路
3Aの動作が正常と判断された場合、当該論理部6によっ
て発光部8が駆動され、それによって当該発光部8から
波長γの光が発せられる。
Reference numeral 4 denotes a solar cell that is used as a power source in the operation diagnosis of the diagnostic circuit 3A, and generates a predetermined potential by receiving light having a wavelength α from the outside. The generated potential can be applied to each part of the LSI. Reference numeral 5 denotes a ROM (Read Only Memory) in which test pattern information and expected value information as diagnostic information are stored. The test pattern information can be transmitted to the diagnosis target circuit 3A. It can be transmitted to. When the test pattern information is given to the diagnosis target circuit 3A, the logic unit 6 performs the diagnosis target circuit 3A.
The operation diagnosis of the diagnosis target circuit 3A can be performed by comparing the output of the diagnosis target circuit 3A with the expected value. The logic unit 6 is coupled to an interface unit 90 that enables the external input of a diagnostic instruction signal and the external output of a diagnostic result to the wafer 1 in a non-contact state. The interface unit 90 includes, but is not limited to, a light receiving unit 7 having sensitivity to light having a wavelength β and a light emitting unit 8 capable of generating light having a wavelength γ. The light receiving unit 7 includes a light receiving element, for example, a light receiving diode 70, and a processing circuit for an output signal thereof.
Has a light emitting element, for example, a light emitting diode 80, and a driving circuit thereof. Light-receiving diode 70 and light-emitting diode 80
It can be built in the same process as LSI manufacturing. The wavelength in that case is determined by the material constituting the diode. For example, in the case of a Ga1-xAlxAs system, the wavelength can be set in the range of 750 to 905 nm by controlling the Al mixing ratio. When the light having the wavelength β is received by the light receiving unit 7, the logic unit 6 starts the operation diagnosis of the diagnosis target circuit 3A. In this operation diagnosis, a circuit to be diagnosed is
When it is determined that the operation of 3A is normal, the light emitting unit 8 is driven by the logic unit 6, and the light having the wavelength γ is emitted from the light emitting unit 8.

第2図には本実施例における動作診断の様子が示され
る。
FIG. 2 shows a state of operation diagnosis in this embodiment.

同図において9は波長αの光10を発生する第1の光
源、11は波長βの光を発生する第2の光源、14は波長γ
の光13に対して感度を有するカメラ、20は上記ウェーハ
1のカッティングを行うダイシング装置である。上記1,
第2の光源9,10はウェーハ1を照射可能な位置に配置さ
れ、上記カメラ14はウェーハ1を撮影可能な位置に配置
される。このカメラ14による撮影情報は、後段のダイシ
ング装置20に取り込まれるようになっている。ダイシン
グ装置20は、上記カメラ14の撮影情報に基づいて、ウェ
ーハ1上で波長γの光を発している発光ダイオード80の
位置座標を演算により求める座標演算部21と、ウェーハ
1上に形成されたチップを個々に分割すると共に、上記
座標演算部21の演算結果に基づいて、点灯されている発
光ダイオード80が含まれる半導体集積回路のみを取り出
すチップ切り出し部22とを含む。
In the figure, reference numeral 9 denotes a first light source that generates light 10 having a wavelength α, 11 denotes a second light source that generates light having a wavelength β, and 14 denotes a wavelength γ.
A camera 20 having a sensitivity to the light 13 is a dicing device for cutting the wafer 1. Above 1,
The second light sources 9 and 10 are arranged at positions where the wafer 1 can be irradiated, and the camera 14 is arranged at a position where the wafer 1 can be photographed. The photographing information by the camera 14 is taken into the dicing device 20 at the subsequent stage. The dicing apparatus 20 is formed on the wafer 1 based on the photographing information of the camera 14 and a coordinate calculator 21 for calculating the position coordinates of the light emitting diode 80 emitting light of wavelength γ on the wafer 1. And a chip cutout section for extracting only a semiconductor integrated circuit including the light-emitting diode based on the calculation result of the coordinate calculation section.

本実施例において、診断対象回路3Aの動作診断及びチ
ップ切り出しは次のように行われる。
In the present embodiment, the operation diagnosis of the diagnosis target circuit 3A and the chip cutting are performed as follows.

第3図には上記動作診断の流れが示される。 FIG. 3 shows a flow of the operation diagnosis.

第1の光源9が点灯されることにより、波長αの光10
がウェーハ1に照射される(ステップST1)。この光10
が太陽電池4に照射されることによって発生された電位
は回路3A,3Bの各部に供給され、それによって各部が動
作可能状態とされる。尚、上記波長αの光10の照射は、
当該ウェーハ1における複数の診断対象回路3Aの動作診
断が完了されるまで継続される。
When the first light source 9 is turned on, the light 10 having the wavelength α
Is irradiated on the wafer 1 (step ST1). This light 10
Is applied to each of the circuits 3A and 3B, whereby the respective parts are made operable. The irradiation of the light 10 having the wavelength α is
The operation is continued until the operation diagnosis of the plurality of diagnosis target circuits 3A in the wafer 1 is completed.

次に、第2の光源11から波長βの光12がウェーハ1に
照射される。この光12が受光ダイオード80によって受光
されることにより、診断用回路3Bが動作され、それによ
り診断対象回路3Aの動作診断が開始される(ステップST
2)。この動作診断においては、テストパターンROM5か
らテストパターン(例えばABCD)が所定の順序に従って
診断対象回路3Aに入力される。そしてそれによって当該
診断対象回路3Aから出力された値とその期待値(Z)と
が論理部6において比較される(ステップST3)。この
比較において、上記診断対象回路3Aの出力が期待値と一
致する(YES)と判断された場合には、それは当該診断
回路3Aが正常動作されていることを意味するから、その
ときの論理部6の診断結果に基づいて発光ダイオード80
が駆動され、それによって当該ダイオード80から波長γ
の光が発生される(ステップST4)。また、上記論理部
6での比較において上記診断回路3Aの出力が期待値と一
致しない(NO)と判断された場合には、上記発光素子80
は駆動されず、よって波長γの光13は発生されない(ス
テップST5)。
Next, the wafer 1 is irradiated with light 12 having a wavelength β from the second light source 11. When the light 12 is received by the light receiving diode 80, the diagnostic circuit 3B is operated, whereby the operation diagnosis of the diagnosis target circuit 3A is started (step ST).
2). In this operation diagnosis, a test pattern (for example, ABCD) is input to the diagnosis target circuit 3A from the test pattern ROM 5 in a predetermined order. Then, the value output from the diagnosis target circuit 3A is compared with the expected value (Z) in the logic unit 6 (step ST3). In this comparison, if it is determined that the output of the diagnosis target circuit 3A matches the expected value (YES), it means that the diagnosis circuit 3A is operating normally, and the logic unit at that time is determined. The light emitting diode 80 based on the diagnosis result of 6.
Is driven, whereby the wavelength γ is output from the diode 80.
Is generated (step ST4). If it is determined in the comparison by the logic section 6 that the output of the diagnostic circuit 3A does not match the expected value (NO), the light emitting element 80
Is not driven, so that the light 13 having the wavelength γ is not generated (step ST5).

以上の動作診断は、第1の光源9からの光10がウェー
ハ1に照射されることによって、当該ウェーハ1におけ
るすべての診断用回路3Bにおいてほぼ同時に開始され
る。つまり、ウェーハ1におけるすべての診断対象回路
3Aに対応して診断用回路3Bが設けられているので、上記
第1の光源9からの光10の照射によって当該ウェーハ1
におけるすべての診断対象回路3Aが個別的に、且つ、ほ
ぼ同時に開始される。
The above operation diagnosis is started almost simultaneously in all the diagnostic circuits 3B in the wafer 1 by irradiating the wafer 1 with the light 10 from the first light source 9. That is, all the circuits to be diagnosed in the wafer 1
Since the diagnostic circuit 3B is provided corresponding to 3A, the wafer 1 is irradiated by the light 10 from the first light source 9 described above.
Are started individually and almost simultaneously.

そして、以上の動作診断が完了された時点で、カメラ
14によりウェーハ1が撮影され、その画像情報がダイシ
ング装置20に入力される。それにより、当該ダイシング
装置20では、座標演算部21により、点灯されている発光
ダイオード80の位置座標が求められ、得られた座標情報
に基づいてチップ切り出しが行われる。発光ダイオード
80が点灯されているということは、当該ダイオード80を
含む診断対象回路3Bは正常動作する良品ということであ
るから、上記ダイシング装置20でのチップ切り出しにお
いて取り出されるのは良品のみとされる。
When the above operation diagnosis is completed, the camera
The wafer 1 is photographed by 14, and the image information is input to the dicing device 20. As a result, in the dicing apparatus 20, the coordinate calculation unit 21 obtains the position coordinates of the light-emitting diode 80 that is turned on, and performs chip cutting based on the obtained coordinate information. Light emitting diode
The fact that 80 is lit means that the diagnosis target circuit 3B including the diode 80 is a non-defective product that normally operates, and thus only non-defective products are extracted in the dicing apparatus 20 by the chip cutting.

本実施例によれば以下の作用効果がある。 According to this embodiment, the following operation and effect can be obtained.

(1)第1の光源9が点灯されることにより、波長αの
光10がウェーハ1に照射され、この光10が太陽電池4に
照射されることによって発生された電位は回路3A,3Bの
各部に供給され、それによって各部が動作可能状態とさ
れる。この状態で、第2の光源11から波長βの光12がウ
ェーハ1に照射され、それが受光ダイオード80によって
受光されることにより、診断用回路3Bが動作され、それ
により診断対象回路3Aの動作診断が開始される。この動
作診断の結果は発光ダイオード80によって外部出力可能
とされ、それによって当該診断結果の把握が可能とされ
る。このように光学的に情報のやり取りを可能とするこ
とにより、ウェーハ1に対して非接触状態で診断対象回
路3Aの動作診断が可能とされるので、従来のウェーハプ
ロービング試験のようにボンディングパッドを探針によ
り損傷させる虞はないし、ウェーハ1に不所望な応力を
与えることもない。
(1) When the first light source 9 is turned on, light 10 having a wavelength α is irradiated on the wafer 1, and the light 10 is irradiated on the solar cell 4, and the potential generated by the light 10 is applied to the circuits 3A and 3B. It is supplied to each part, and thereby each part is made operable. In this state, the wafer 1 is irradiated with the light 12 having the wavelength β from the second light source 11 and is received by the light receiving diode 80, whereby the diagnostic circuit 3B is operated, whereby the operation of the diagnosis target circuit 3A is performed. Diagnosis is started. The result of the operation diagnosis can be output to the outside by the light emitting diode 80, whereby the diagnosis result can be grasped. Since the information can be optically exchanged in this manner, the operation diagnosis of the diagnosis target circuit 3A can be performed in a non-contact state with respect to the wafer 1, so that the bonding pads can be used as in the conventional wafer probing test. There is no risk of damage due to the probe, and no undesirable stress is applied to the wafer 1.

(2)また、ウェーハ1におけるすべての診断対象回路
3Aに対応して診断用回路3B及びインタフェース部90が設
けられ、上記第2の光源11からの光12の照射によって当
該ウェーハ1におけるすべての診断対象回路3Aの動作診
断が個別的に、且つ、ほぼ同時に開始されるので、当該
ウェーハ1におけるすべての診断対象回路3Aの動作診断
を短時間で行うことができる。
(2) All the circuits to be diagnosed on the wafer 1
A diagnosis circuit 3B and an interface unit 90 are provided corresponding to 3A, and the operation diagnosis of all the diagnosis target circuits 3A on the wafer 1 is individually performed by irradiation of the light 12 from the second light source 11, and Since the operations are started almost simultaneously, the operation diagnosis of all the diagnosis target circuits 3A in the wafer 1 can be performed in a short time.

(3)動作診断終了後にカメラ14によりウェーハ1が撮
影され、その画像情報がダイシング装置20に入力され
と、当該ダイシング装置20では、点灯されている発光ダ
イオード80の位置座標が求められ、得られた座標情報に
基づいて当該発光ダイオード80が含まれるチップ、すな
わち良品とされるチップの切り出しが行われるので、回
路の動作診断から良品チップの切り出しまでの自動化が
可能とされる。
(3) After the operation diagnosis, the wafer 1 is photographed by the camera 14 and the image information is input to the dicing device 20. In the dicing device 20, the position coordinates of the light emitting diode 80 that is turned on are obtained and obtained. Since a chip including the light emitting diode 80, that is, a non-defective chip is cut out based on the coordinate information, automation from a circuit operation diagnosis to a non-defective chip can be performed.

(4)一つの診断用回路3Aとそれに対応する診断用回路
3Bとが一つの半導体チップとして切り出されるので、チ
ップ切り出し後に当該診断用回路3Bを利用することによ
り再び診断対象回路3Aの動作診断を行うことも可能とさ
れる。
(4) One diagnostic circuit 3A and the corresponding diagnostic circuit
Since 3B is cut out as one semiconductor chip, the operation diagnosis of the diagnosis target circuit 3A can be performed again by using the diagnostic circuit 3B after cutting out the chip.

(5)ウェーハに太陽電池4を設けることにより、診断
時の電源供給のための探針接触をも不要となるので、上
記(1)の効果がより顕著とされる。
(5) By providing the solar cell 4 on the wafer, the probe contact for power supply at the time of diagnosis is not required, so that the above-mentioned effect (1) is more remarkable.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づい
て具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるもの
ではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更
することができる。
Although the invention made by the present inventors has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited thereto, and can be variously modified without departing from the gist thereof.

例えば上記実施例では診断対象回路3Aと診断用回路3B
とを1チップとして切り出すようにしたが、動作診断後
において当該診断用回路3Bが不要とされる場合にはそれ
らを互いに別チップとして切り出すことにより、当該診
断対象回路3Aのチップサイズの小形化を図るようにして
も良い。
For example, in the above embodiment, the diagnosis target circuit 3A and the diagnosis circuit 3B
Are cut out as one chip. However, if the diagnosis circuit 3B is unnecessary after the operation diagnosis, the diagnosis circuit 3B is cut out as a separate chip to reduce the chip size of the diagnosis target circuit 3A. You may make it aim.

また上記実施例では、動作診断結果を光学的に外部認
識可能にインタフェース部90を構成したが、電子ビーム
(EB)をプローブとして使用する電子ビーム試験技術を
利用することもできる。この技術によれば、走査型電子
顕微鏡で観測される電位コントラストを利用して回路内
の配線電位を直接測定することが可能とされ、これを利
用すれば、第1図の発光部8を省略することができる。
また、当該発光部8に代えて超音波を発生可能な超音波
振動子を設けるようにすれば、診断対象回路3Aの良否を
当該振動子からの超音波出力の有無により認識すること
ができる。以上の電子ビームや超音波を利用しても、チ
ップに対して非接触状態で診断対象回路の動作診断が可
能とされ、上記実施例と同様の効果を得ることができ
る。
In the above-described embodiment, the interface unit 90 is configured so that the operation diagnosis result can be optically recognized externally. However, an electron beam test technique using an electron beam (EB) as a probe may be used. According to this technique, it is possible to directly measure the wiring potential in the circuit using the potential contrast observed by the scanning electron microscope, and if this is used, the light emitting unit 8 in FIG. 1 can be omitted. can do.
Further, if an ultrasonic transducer capable of generating ultrasonic waves is provided instead of the light emitting section 8, the quality of the diagnosis target circuit 3A can be recognized based on the presence or absence of the ultrasonic output from the transducer. Even if the above-described electron beam or ultrasonic wave is used, the operation diagnosis of the circuit to be diagnosed can be performed in a non-contact state with the chip, and the same effect as in the above embodiment can be obtained.

さらに、チップの小形化を図るため、太陽電池4を診
断対象回路3Aや診断用回路3Bの上に配置するようにして
も良いし、あるいは、チップの縁辺部など回路形成に寄
与しない部分に太陽電池を形成し、それを、当該チップ
における各回路の共通電源とするようにしても良い。
Furthermore, in order to reduce the size of the chip, the solar cell 4 may be arranged on the circuit 3A for diagnosis or the circuit 3B for diagnosis, or the solar cell 4 may be placed on a portion that does not contribute to circuit formation, such as the edge of the chip. A battery may be formed and used as a common power supply for each circuit in the chip.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発
明をその背景となった論理LSIに適用した場合について
説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、
半導体メモリなどを含むワンチップマイクロコンピュー
タなどのような各種LSIに適用することができる。本発
明は、少なくとも診断対象回路とそれの診断用回路とが
同一のウェーハに複数形成される条件のものに適用する
ことができる。
In the above description, the case where the invention made by the inventor is mainly applied to the logic LSI serving as the background has been described, but the present invention is not limited thereto.
The present invention can be applied to various LSIs such as a one-chip microcomputer including a semiconductor memory. The present invention can be applied to a circuit in which at least a plurality of circuits to be diagnosed and diagnostic circuits thereof are formed on the same wafer.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによ
って得られる結果を簡単に説明すれば下記の通りであ
る。
The result obtained by a representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

すなわち、診断用回路に含まれるインタフェース部に
より、外部からの診断開始指示及び診断結果の外部認識
が、当該半導体集積回路を含むウェーハに対して比接触
状態で可能とされ、それによって、電極パッドに損傷を
与えずに動作診断が可能とされる。また、上記診断用回
路は診断対象回路に対応して複数形成され、それによっ
て複数の診断対象回路の同時診断が可能とされるので、
一つのウェーハにおけるすべての半導体集積回路の動作
診断に要する時間を大幅に短縮することができる。
That is, by the interface unit included in the diagnostic circuit, a diagnostic start instruction from the outside and external recognition of the diagnostic result can be made in a specific contact state with respect to the wafer including the semiconductor integrated circuit, and thereby, the electrode pad The operation diagnosis can be performed without damage. Further, since a plurality of the diagnostic circuits are formed corresponding to the diagnosis target circuit, thereby enabling simultaneous diagnosis of the plurality of diagnosis target circuits,
The time required for operation diagnosis of all the semiconductor integrated circuits on one wafer can be greatly reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例であるLSIが形成されるウェ
ーハ及びその主要部の構成説明図、 第2図は第1図に示されるLSIの動作診断の説明図、 第3図は上記動作診断の流れ図である。 1……ウェーハ、2……チップ、3A……診断対象回路、
3B……診断用回路、4……太陽電池、5……ROM、6…
…論理部、7……受光部、8……発光部、70……受光ダ
イオード、80……発光ダイオード、90……インタフェー
ス部。
FIG. 1 is an explanatory view of the structure of a wafer on which an LSI according to an embodiment of the present invention is formed and its main part, FIG. 2 is an explanatory view of an operation diagnosis of the LSI shown in FIG. 1, and FIG. It is a flowchart of operation | movement diagnosis. 1 ... Wafer, 2 ... Chip, 3A ... Diagnosis target circuit,
3B ... Diagnostic circuit, 4 ... Solar cell, 5 ... ROM, 6 ...
... Logic section, 7... Light receiving section, 8... Light emitting section, 70... Light receiving diode, 80.

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】診断対象回路と、この診断対象回路の動作
診断を可能とする診断用回路とが同一のウェーハに複数
形成された半導体集積回路において、上記診断用回路
は、診断用情報を記憶する記憶部と、この診断用情報が
上記診断対象回路に与えられた場合の当該診断対象回路
の出力結果とその期待値とを比較することにより当該診
断対象回路の良否判断を可能とする論理回路部と、外部
からの診断開始指示信号の取り込み及び診断結果の外部
出力を当該ウェーハに対して非接触状態で可能とするイ
ンタフェース部とを含んで成ることを特徴とする半導体
集積回路。
1. A semiconductor integrated circuit having a plurality of diagnostic circuits and a plurality of diagnostic circuits capable of diagnosing the operation of the diagnostic circuit are formed on the same wafer, wherein the diagnostic circuit stores diagnostic information. And a logic circuit which can determine the quality of the circuit under diagnosis by comparing the output result of the circuit under diagnosis with the expected value when the information for diagnosis is given to the circuit under diagnosis. A semiconductor integrated circuit comprising: a unit; and an interface unit configured to allow external input of a diagnosis start instruction signal and external output of a diagnosis result in a non-contact state with respect to the wafer.
【請求項2】上記インタフェース部には、外部から光学
的に与えられる診断開始指示を感知する受光部と、上記
診断結果を光学的に出力する発光部とが含まれる請求項
1記載の半導体集積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the interface section includes a light receiving section for sensing a diagnosis start instruction optically given from the outside, and a light emitting section for optically outputting the diagnosis result. circuit.
【請求項3】動作診断のための電源とされる太陽電池が
上記ウェーハに設けられた請求項1又は2記載の半導体
集積回路。
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein a solar cell serving as a power supply for operation diagnosis is provided on said wafer.
【請求項4】上記診断用回路とそれに対応する診断対象
回路とは互いに別チップとして切り出し可能に形成され
た請求項1,2,又は3記載の半導体集積回路。
4. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein said diagnostic circuit and the corresponding diagnostic circuit are formed as separate chips so as to be cut out from each other.
【請求項5】請求項1,2,又は3記載の半導体集積回路か
ら一つの診断用回路とそれに対応する診断用回路とが一
つの半導体チップとして切り出されて成る半導体集積回
路。
5. A semiconductor integrated circuit, wherein one diagnostic circuit and a corresponding diagnostic circuit are cut out as one semiconductor chip from the semiconductor integrated circuit according to claim 1, 2, or 3.
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