JP2939178B2 - Method for smoothing particle filling surface in particle filling device - Google Patents
Method for smoothing particle filling surface in particle filling deviceInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、触媒、穀粒、飼料
などの粒子を反応容器や貯蔵サイロ等に粒子散布装置と
充填監視モニタを備える粒子充填装置を使用して充填す
るに際しての充填面の簡易な平滑化方法に関するもので
あり、特には石油精製設備に代表される各種反応容器内
に粒子散布装置と充填監視モニタを備える粒子充填装置
を使用して触媒を充填するに際しての触媒の充填面の平
滑化方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a filling surface for filling particles such as catalysts, grains and feeds into a reaction vessel or a storage silo by using a particle dispersing device and a particle filling device having a filling monitoring monitor. The present invention relates to a simple smoothing method, and particularly to a method for filling a catalyst in a reaction vessel represented by a petroleum refining facility by using a particle filling apparatus having a particle dispersion apparatus and a filling monitoring monitor. The present invention relates to a method for smoothing a surface.
【0002】[0002]
【従来の技術】例えば、各種材料の合成・分解のために
触媒が使用される。一例として、石油工業においては、
触媒を使用して重質軽油を原料としオクタン価の高いガ
ソリンにする方法や多量の水素の存在下で触媒を使用し
て脱硫と分解とを同時に行わせる方法等触媒を使用する
ことが多い。触媒としては、接触分解法では、例えば固
体の酸性シリカ、アルミナ触媒、ゼオライト触媒等が使
用される。一般的には、直径:0.5mm〜3.0m
m、長さ:3.35mm〜10mmの円柱状のものや若
しくは円を3〜4つ重ね合わせた断面形状のものが使用
され、上記のサイズのアルミナ、アルミナ−シリカ、ゼ
オライト、シリカなどの担体に活性金属を担持したもの
が使用される。こうした場合、反応容器(充填塔)に触
媒が充填されるが、触媒の充填状態が操業の効率を左右
するので、均一な充填を達成する目的で反応容器中央上
方部に触媒散布装置を設置し、そこから触媒を空間的に
落下せしめる散布充填が行われている。2. Description of the Related Art For example, a catalyst is used for synthesizing and decomposing various materials. As an example, in the petroleum industry,
In many cases, a catalyst is used, such as a method of using a heavy gas oil as a raw material to produce gasoline having a high octane number, or a method of simultaneously performing desulfurization and decomposition using a catalyst in the presence of a large amount of hydrogen. As the catalyst, in the catalytic cracking method, for example, solid acidic silica, alumina catalyst, zeolite catalyst and the like are used. Generally, diameter: 0.5 mm to 3.0 m
m, a column having a length of 3.35 mm to 10 mm or a cross-section having three to four circles stacked on each other is used, and a carrier such as alumina, alumina-silica, zeolite or silica having the above size is used. What supports an active metal is used. In such a case, the reaction vessel (packing tower) is filled with the catalyst. However, since the state of the catalyst influences the efficiency of the operation, a catalyst spraying device is installed at the upper center of the reaction vessel in order to achieve uniform filling. Spray filling is performed to allow the catalyst to spatially drop from there.
【0003】しかし、散布充填を行っても、粒子充填面
は一般に凹凸状に波打ち、平坦な充填面は得られない。
凹凸状態が規定の水準を超えると、操業効率が低下する
ので充填装置に備えられた散布パラメータを制御するな
どして凹凸を修正するようにしなければならない。特に
触媒の場合、触媒の空間存在密度の理想化並びに充填面
におけるデンスローディング(触媒の軸方向を水平面と
しての触媒の高密度充填)範囲内での充填速度制御が必
要である。従来、散布された粒子の充填面の凹凸状態の
測定は、反応容器が深いため容易ではなく、充填装置設
置面より巻き尺で適宜の測定点を選んで実測により測定
していた。測定は例えば間隔30分に1回そして測定点
数12点として実施された。そのため、測定に時間を取
りしかも大まかで、更には測定精度は悪く、±50mm
となりまた充填面分布は最大400mmにもなった。充
填操作を測定のたびに停止せねばならず、充填操作効率
が悪かった。[0003] However, even if the spray filling is carried out, the particle filling surface generally undulates in an uneven shape, and a flat filling surface cannot be obtained.
If the unevenness exceeds a prescribed level, the operating efficiency is reduced. Therefore, it is necessary to correct the unevenness by controlling the spraying parameters provided in the filling device. In particular, in the case of a catalyst, it is necessary to idealize the spatial existence density of the catalyst and to control the filling speed within a range of dens loading (high-density filling of the catalyst with the catalyst axial direction as a horizontal plane) on the filling surface. Conventionally, it is not easy to measure the unevenness of the filling surface of the dispersed particles because the depth of the reaction vessel is deep, and an appropriate measurement point is selected by a tape measure from the installation surface of the filling device and measured by actual measurement. The measurement was performed, for example, once every 30 minutes and with 12 measurement points. Therefore, it takes time to measure and is rough, and the measurement accuracy is poor, ± 50 mm
And the distribution of the filling surface was 400 mm at the maximum. The filling operation had to be stopped for each measurement, and the filling operation efficiency was poor.
【0004】従って、容器内に散布される粒子の充填面
を均一にするために、それに先立って充填面の凹凸状態
をリアルタイムで一層正確に監視・測定する技術の開発
が要望された。例えば、触媒の充填では充填面凹凸状態
の±20mmの測定精度が要求されていた。こうした要
望に答えて、本発明者らは先に、レーザ光で容器内の粒
子充填面を走査しながら、一定の間隔で操作点からの反
射光を検知して三角法により堆積高さを測定する方式を
開発した。この方式は、容器内に粒子を充填する際レー
ザ光で充填面を走査し、反射光を検知しそして測定時の
特定の走査点の位置、レーザ光出射位置及びレーザ光検
知位置から三角法により堆積高さを測定し、その際レー
ザ光のビーム径を粒子の断面積以上で且つ目標精度に応
じて選択することを特徴とするものであり、粒子を充填
する容器に粒子充填高さより上方の水準に取付けられ
る、レーザ光で粒子充填面を走査するため、粒子の断面
積以上で且つ目標精度に応じて選択されるレーザ光ビー
ム径を有するレーザ光の発生及び走査装置及び走査点か
らのレーザ反射光を検出する撮像装置と、測定時の特定
の前記走査点の位置、前記レーザ光発生及び走査装置の
位置及び前記撮像装置の位置から三角法により走査点の
深さを計算する計算装置と、充填面深さ分布を含むデー
タを表示する表示装置とを備える充填監視モニタを使用
する。[0004] Therefore, there has been a demand for the development of a technique for more accurately monitoring and measuring the unevenness of the filling surface in real time, in order to make the filling surface of the particles dispersed in the container uniform, prior to that. For example, when the catalyst is filled, a measurement accuracy of ± 20 mm of the unevenness of the filling surface has been required. In response to these demands, the present inventors first measured the deposition height by triangulation by detecting reflected light from operating points at regular intervals while scanning the particle filling surface in the container with laser light. We developed a method to do it. This method scans the filling surface with laser light when filling particles into the container, detects reflected light, and triangulates from the specific scanning point position, laser light emission position and laser light detection position at the time of measurement. The deposition height is measured, and at that time, the beam diameter of the laser beam is selected to be equal to or larger than the cross-sectional area of the particles and according to the target accuracy. A laser beam generated from a scanning device and a scanning point and a laser beam having a laser beam diameter larger than the cross-sectional area of the particles and selected according to the target accuracy for scanning the particle-filled surface with the laser light, which is mounted at a standard level An imaging device that detects reflected light, and a calculation device that calculates the depth of the scanning point by trigonometry from the position of the specific scanning point at the time of measurement, the position of the laser light generation and the position of the scanning device, and the position of the imaging device. , Charge Using the fill Monitor and a display device for displaying data including the surface depth distribution.
【0005】こうして、容器への粒子の充填に際してレ
ーザ光で粒子充填面を走査し、反射光を検知し、所定の
測定間隔で所要の測定点数において各走査点の堆積深さ
を三角法で測定し、充填面の高さ分布、中心を通る任意
の断面トレンド等を含む充填面情報をリアルタイムで表
示することが可能となった。Thus, when filling the container with particles, the particle-filled surface is scanned with laser light, reflected light is detected, and the deposition depth of each scanning point is measured by a triangular method at a predetermined number of measurement points at predetermined measurement intervals. In addition, it is possible to display the filling surface information including the height distribution of the filling surface, an arbitrary cross-sectional trend passing through the center, and the like in real time.
【0006】他方、粒子散布装置として、多くの型式の
ものがこれまで使用されている。例えば、調整可能な開
閉扉を備える側面スリットと底面における下部スリット
とを備え、底面には回転円盤が取付けられ、側面及び下
部スリットの開度及び回転円盤の回転数を調整すること
により散布状態を制御することができる型式のものが使
用されている。[0006] On the other hand, many types of particle dispersing devices have been used. For example, it has a side slit with an adjustable opening and closing door and a lower slit on the bottom surface, a rotating disk is attached to the bottom surface, and the spraying state is adjusted by adjusting the opening of the side and lower slits and the number of rotations of the rotating disk. A type that can be controlled is used.
【0007】粒子(触媒)散布装置の他の例としては、
Densi Cat 方式、UOP方式及びCOP方式があり、い
ずれの方式もホッパと触媒散布のための羽根を備えてい
る。Densi Cat 方式は複数枚のゴム羽根を使用し、羽根
の開度と羽根による散乱に基づく全方向均一散布方式で
ある。UOP方式は2〜4枚の直線羽根による遠心力を
利用するものである。COP方式は、楕円板にガイド付
きの1〜3層羽根を使用するものであり、飛散距離に分
布をもたせる方式である。そのほか、特公平1−228
07号は、触媒放出器を反応塔内に昇降可能に吊り下
げ、この触媒放出器と粒子充填面との距離が所定距離範
囲に納まるように触媒放出器を上昇させながら反応塔内
に触媒を順次充填する方法を開示し、そこで使用される
触媒充填装置として、反応塔に吊されたゴンドラに、モ
ータとモータにより回転駆動される浅皿状部材から構成
される触媒放出器を載せ、浅皿状部材を所定間隔に設け
られた立上がったウエアとこれらのウエア間において設
けられたスリットを有するものとした触媒充填装置を記
載している。Another example of a particle (catalyst) spraying apparatus is as follows.
There are Densi Cat system, UOP system and COP system. Each system has a hopper and a blade for spraying catalyst. The Densi Cat method uses multiple rubber blades and is an omnidirectional uniform spraying system based on the blade opening and scattering by the blades. The UOP system utilizes the centrifugal force of two to four straight blades. The COP method uses a 1 to 3 layered blade with a guide on an elliptic plate, and has a distribution of scattering distance. In addition, 1-228
No. 07 suspends the catalyst discharger in the reaction tower so as to be able to move up and down, and raises the catalyst discharger so that the distance between the catalyst discharger and the particle packing surface falls within a predetermined distance range. Disclose a method of sequentially filling, as a catalyst filling device used therein, put a catalyst discharger composed of a motor and a shallow dish-shaped member that is rotationally driven by a motor on a gondola suspended in a reaction tower, It describes a catalyst filling device in which the shaped members have raised wear provided at predetermined intervals and slits provided between these wears.
【0008】斯界では、粒子の搬送と関連して、粒子に
損傷・破壊を与えず、平坦な粒子充填面(粒子を散布す
る高さの一様化)、容易、単純な制御性、容易な取扱い
・設置性、高速な粒子搬送を達成することができ、しか
も粒子の空間存在密度の均一化並びに粒子の高密度充填
(デンスローディング)を可能とする新たな粒子散布方
式への要望が存在する。例えば、次のような事項が求め
られている: (イ)容易な取扱い・設置性:セッティング時間がなる
べく短いこと(1時間以内)。 (ロ)充填に際し、粒子にダメージを与えないこと。 (ハ)粒子充填面の均一化:デンスローディングかつ均
一であること。 (ニ)充填速度:高速な粒子搬送(1ton /5min )。[0008] In the art, in connection with the transport of particles, the particles are not damaged or destroyed, and a flat particle-filled surface (uniform distribution of the particles), easy, simple controllability, and easy control. There is a demand for a new particle dispersion method that can achieve handling / installability and high-speed particle transport, and also enables uniform spatial existence density of particles and high-density packing of particles (densloading). . For example, the following items are required: (b) Easy handling and installation: Setting time should be as short as possible (within 1 hour). (B) Do not damage the particles when filling. (C) Uniformity of particle filling surface: Dens loading and uniformity. (D) Filling speed: high-speed particle transport (1 ton / 5 min).
【0009】こうした要望に答えて、本発明者は最近、
ホッパーの下側にスリットを有する一軸回転楕円円盤を
備えた非常に単純な構造の粒子散布装置において、スリ
ット形状を工夫することにより、こうした課題を解決し
うる粒子散布装置の開発に成功した。この装置は、外側
カバーと、外側カバー内部に該外側カバーにより支持さ
れそして下端を開口したホッパーと、該ホッパーに支持
されそして該ホッパー中央を通して該開口から外側に延
伸する回転軸を具備するモータと、該モータ回転軸の下
端に止着されそして前記ホッパーから落下する粒子を受
け取る一軸回転楕円円盤を備え、該一軸回転楕円円盤に
粒子を放出するスリットが形成され、その場合該スリッ
トの形状が一軸回転楕円円盤中央領域にホッパーから落
下した粒子が円盤から回転力を受け円盤の回転数に一致
するまでの間に移動する粒子の移動軌跡と、円盤中心か
ら半径方向への移動距離に対して回転方向への遅延角度
がその半径位置から充填面に向けて散布される粒子必要
量に一致する軌跡の関数との和で表わされるスリット形
状であることを特徴とするものである。In response to such a demand, the present inventor has recently
In a particle dispersing device with a very simple structure provided with a uniaxial spheroidal disk having a slit on the lower side of the hopper, a particle dispersing device capable of solving such a problem was successfully developed by devising a slit shape. The apparatus includes an outer cover, a hopper supported inside the outer cover by the outer cover and having an open lower end, a motor having a rotating shaft supported by the hopper and extending outwardly from the opening through the center of the hopper. A uniaxial spheroid disk fixed to the lower end of the motor rotation shaft and receiving particles falling from the hopper, wherein the uniaxial spheroid disk is formed with a slit for discharging particles, and the shape of the slit is uniaxial. Particles falling from the hopper into the center area of the spheroidal disk receive rotational force from the disk and move until they reach the number of rotations of the disk. Slit shape represented by the sum of the function of the trajectory whose delay angle in the direction corresponds to the required amount of particles sprayed from its radial position toward the filling surface It is characterized in that it.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、こうし
た粒子散布装置と充填監視モニタを備える粒子充填装置
においても、粒子充填面の平滑化を実現することはなか
なか困難である。斯界では、こうした装置を使用して、
簡易に粒子充填面の平滑化を実現する方法の確立が必要
とされている。However, it is very difficult to achieve a smooth particle-filled surface even with a particle-filling device having such a particle-dispersing device and a filling monitoring monitor. In the art, using such devices,
There is a need to establish a method for easily realizing the smoothness of the particle-filled surface.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明者は、一定の状態
で散布を行なうときすり鉢状の充填面を形成することが
できそしてすり鉢状の大きさを制御することのできるパ
ラメータを有する粒子散布装置と充填監視モニタを備え
る粒子充填装置において、すり鉢の大きさを次第に縮小
することにより簡易に粒子充填面の平滑化を実現するこ
とができることを確認した。この知見に基づいて、本発
明は、一定の状態で散布を行なうときすり鉢状の充填面
を形成することができそしてすり鉢状の大きさを制御す
ることのできるパラメータを有する粒子散布装置と連続
的に充填面全体を把握することのできる充填監視モニタ
を備える粒子充填装置における粒子充填面の平滑化方法
であって、前記充填監視モニタで連続的に充填面の形成
状態を把握しながら、前記粒子散布装置により一定の状
態で散布を行ってすり鉢状の充填面を形成し、該粒子散
布装置のパラメータを間欠的にもしくは連続的に制御し
てすり鉢状の大きさを順次小さくしてすり鉢状充填面の
内部に所定の間隔でもしくは連続的に充填面を順次堆積
し、充填面を平滑化することを特徴とする粒子充填装置
における粒子充填面の平滑化方法を提供する。この場
合、充填容器に一定の状態で一定時間の間粒子の散布を
行い形成されるすり鉢状の充填面の中央の高さ(h(c
t))と周辺の充填面の高さ(h(edge))との比
を(h(edge)/h(ct))と表したとき、粒子
散布装置のパラメータを制御することにより、一定の状
態で散布を行い形成されるすり鉢状の充填面の形状を2
≧h(edge)/h(ct)≧1とする。この粒子充
填面の平滑化の操作は繰り返し行っても良い。粒子の有
用例は触媒である。SUMMARY OF THE INVENTION The present inventor has determined that when spraying under constant conditions, a particle sprayer having a parameter capable of forming a mortar-like filling surface and controlling the mortar-like size is provided. It has been confirmed that the particle filling apparatus including the apparatus and the filling monitoring monitor can easily realize the smoothing of the particle filling surface by gradually reducing the size of the mortar. Based on this finding, the present invention relates to a continuous application of a particle dispersing device having a parameter capable of forming a mortar-shaped filling surface and controlling the mortar-shaped size when spraying in a constant state. A method for smoothing a particle-filled surface in a particle-filling device having a filling monitoring monitor capable of grasping the entire filling surface, wherein the filling monitoring monitor continuously grasps the state of formation of the filling surface, A mortar-like filling surface is formed by spraying in a constant state with a scatterer, and the parameters of the particle scatterer are intermittently or continuously controlled to gradually reduce the mortar-like size to form a mortar-like filling. Provided is a method for smoothing a particle-filled surface in a particle-filling apparatus, characterized by sequentially depositing filled surfaces at predetermined intervals or continuously inside the surface and smoothing the filled surface. This place
In this case, particles are scattered in the filling container in a constant state for a fixed time, and the height of the center of the mortar-shaped filling surface (h (c
When the ratio of (t)) to the height (h (edge)) of the surrounding filling surface is expressed as (h (edge) / h (ct)), a constant value is obtained by controlling the parameters of the particle scattering device. The shape of the mortar-shaped filling surface formed by spraying in the state
≧ h (edge) / h (ct) ≧ 1 . Operation of smoothing of particle packing surface of this may be repeated. A useful example of a particle is a catalyst.
【0012】粒子散布装置としては、一定の状態で散布
を行なうときすり鉢状の充填面を形成することができそ
してすり鉢状の大きさを制御することができるパラメー
タを有するものならいずれも使用することができ、特に
粒子の最大飛散距離が充填容器の壁面となるような状態
で充填容器に粒子の散布を行うとき、すり鉢状の充填面
を形成することができそして一定の状態で散布を行い形
成されるすり鉢状の充填面の形状を2≧h(edge)
/h(ct)≧1の範囲に制御できる粒子充填装置を用
いることができる。その好適例は、調整可能な開閉扉を
備える側面スリットと底面における下部スリットを備
え、底面には回転円盤が取付けられ、側面及び下部スリ
ットの開度及び回転円盤の回転数を調整することにより
散布状態を制御することができる型式のもの、並びに外
側カバーと、外側カバー内部に該外側カバーにより支持
されそして下端を開口したホッパーと、該ホッパーに支
持されそして該ホッパー中央を通して該開口から外側に
延伸する回転軸を具備するモータと、該モータ回転軸の
下端に止着されそして前記ホッパーから落下する粒子を
受け取る一軸回転楕円円盤を備え、該一軸回転楕円円盤
に粒子を放出するスリットが形成され、その場合該スリ
ットの形状が一軸回転楕円円盤中央領域にホッパーから
落下した粒子が円盤から回転力を受け円盤の回転数に一
致するまでの間に移動する粒子の移動軌跡と、円盤中心
から半径方向への移動距離に対して回転方向への遅延角
度がその半径位置から充填面に向けて散布される粒子必
要量に一致する軌跡の関数との和で表わされるスリット
形状である型式のものである。[0012] As the particle dispersing device, any device that can form a mortar-shaped filling surface when spraying in a constant state and has a parameter that can control the size of the mortar is used. can be, especially when the maximum dispersion distance of the particles perform spray of particles to fill the container in a state such that the wall of the charging container, it is possible to form a cone-shaped filler surface and subjected to spraying in a constant state formation The shape of the mortar-shaped filling surface is 2 ≧ h (edge)
/ H (ct) ≧ 1 can be used. The preferred example is provided with a side slit having an adjustable opening / closing door and a lower slit on the bottom surface, a rotating disk is attached to the bottom surface, and spraying is performed by adjusting the opening degree of the side and lower slits and the rotation speed of the rotating disk. A type whose condition can be controlled, and an outer cover, a hopper supported by the outer cover inside the outer cover and having an open lower end, and supported by the hopper and extending outwardly from the opening through the center of the hopper. A motor having a rotating shaft, and a uniaxial spheroid disk fixed to the lower end of the motor rotating shaft and receiving particles falling from the hopper, wherein a slit for discharging particles is formed in the uniaxial spheroid disk, In this case, the shape of the slit is such that the particles dropped from the hopper into the central region of the uniaxial spheroidal disk receive the rotational force from the disk and rotate. Particles that are scattered from the radial position toward the filling surface from the radial position to the movement trajectory of the particles moving until the rotation speed of the disk is reached, and the delay angle in the rotation direction with respect to the movement distance in the radial direction from the center of the disk It is of the type that has a slit shape expressed by the sum of a trajectory function that matches the required amount.
【0013】充填監視モニタとしては、例えばテレビジ
ョン型監視装置等、連続的に充填面全体を把握すること
のできるものならいずれも使用しうるが、粒子を充填す
る容器に粒子充填高さより上方の水準に取付けられる、
レーザ光で粒子充填面を走査するため粒子の断面積以上
で且つ目標精度に応じて選択されるレーザ光ビーム径を
有するレーザ光の発生及び走査装置及び走査点からのレ
ーザ反射光を検出する撮像装置と、測定時の特定の前記
走査点の位置、前記レーザ光発生及び走査装置の位置及
び前記撮像装置の位置から三角法により走査点の深さを
計算する計算装置と、充填面深さ分布を含むデータを表
示する表示装置とを備えるレーザ走査型式のものが好ま
しい。As the filling monitoring monitor, any monitor such as a television type monitoring device which can continuously grasp the entire filling surface can be used. Mounted on a standard,
Generation of laser light having a laser light beam diameter greater than the cross-sectional area of the particles and selected according to the target accuracy for scanning the particle-filled surface with laser light, and a scanning device and imaging for detecting laser reflected light from a scanning point Apparatus, a specific scanning point position at the time of measurement, a calculation apparatus for calculating the scanning point depth by trigonometry from the laser light generation and scanning apparatus position and the imaging apparatus position, the filling surface depth distribution And a display device for displaying data including a laser scanning type.
【0014】作用として、一定の状態で散布を行なうと
きすり鉢状の充填面を形成することができそしてすり鉢
状の大きさを制御することのできるパラメータを有する
粒子散布装置と連続的に充填面全体を把握することので
きる充填監視モニタを備える粒子充填装置において、堆
積されるすり鉢状の充填面の大きさを次第に縮小してい
く。すなわち、充填監視モニタで連続的に充填面の形成
状態を把握しながら、前記粒子散布装置により一定の状
態で散布を行ってすり鉢状の充填面を形成し、該粒子散
布装置のパラメータを間欠的にもしくは連続的に制御し
てすり鉢状の大きさを順次小さくしてすり鉢状充填面の
内側に所定の間隔でもしくは連続的に充填面を順次堆積
し、充填面を平滑化する。なお、この平滑化の操作を繰
り返し行っても構わない。In operation, a particle-dispersing device having parameters capable of forming a mortar-shaped filling surface when spraying in a constant state and capable of controlling the size of the mortar-like shape, and a continuous filling surface. In a particle filling apparatus provided with a filling monitoring monitor capable of grasping the size, the size of the mortar-shaped filling surface to be deposited is gradually reduced. That is, while continuously grasping the state of formation of the filling surface with the filling monitoring monitor, the particle spraying device performs spraying in a constant state to form a mortar-shaped filling surface, and the parameters of the particle scattering device are intermittently changed. By continuously or continuously controlling the size of the mortar shape, the filling surface is sequentially deposited at predetermined intervals or continuously inside the mortar-shaped filling surface, and the filling surface is smoothed. This smoothing operation may be repeated.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下、実施例として触媒粒子を反
応容器内へ散布充填する場合について説明する。図1
(a)は、反応容器1において上方部中央に設置されそ
して触媒粒子Cを空間的に散布充填する散布装置3と、
形成された触媒粒子の充填面Sの状態を連続的に監視す
るための充填監視モニタ4とを備える充填装置2を示
す。散布装置3としては、一定の状態で散布を行なうと
きすり鉢状の充填面を形成することができそしてすり鉢
状の大きさを制御することのできるパラメータ(例えば
回転数)を有する型式のものならば、いずれも使用する
ことができる。特に触媒粒子Cの最大飛散距離がその充
填面において反応容器1の壁面となるような状態で反応
容器1に触媒粒子の散布を行うとき、すり鉢状の充填面
を形成することができそしてすり鉢状の大きさを制御す
ることができるパラメータを有する散布装置3が好まし
く使用できる。更に、粒子散布装置3は、粒子散布装置
のパラメータを制御することにより、充填容器に粒子を
充填する高さの範囲において、一定の状態で散布を行っ
て形成されるすり鉢状の充填面の形状を2≧h(edg
e)/h(ct)≧1の範囲に制御が容易な粒子散布装
置を用いる。形成されるすり鉢状の充填面の形状がこの
範囲から外れると充填面の平滑化は困難となり、特にh
(edge)/h(ct)<1となると充填面の平滑化
はほとんど不可能となる。また、h(edge)/h
(ct)=1では、何らかの影響によりh(edge)
/h(ct)<1となることが考えられるため、できれ
ば、2≧h(edge)/h(ct)>1で行うことが
好ましい。つまり、散布を行って形成される充填面の形
状は、2≧h(edge)/h(ct)≧1の間で変動
しながら充填面の平滑化を行うこととなる。ここで、h
(edge)/h(ct)とは、充填容器に粒子を充填
する高さの範囲のある高さにおいて一定の状態で一定時
間散布を継続したときに、充填面の中央の高さ(h(c
t))と周辺の充填面の高さ(h(edge))との比
(h(edge)/h(ct))である(図10
(b))。充填監視モニタ4としては、連続的に充填面
S全体を把握することができる型式のものならいずれも
使用できる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a case where catalyst particles are dispersed and filled in a reaction vessel will be described as an example. FIG.
(A) is a spraying device 3 installed at the center of the upper part of the reaction vessel 1 and spatially spraying and filling the catalyst particles C;
1 shows a filling device 2 including a filling monitoring monitor 4 for continuously monitoring the state of a filling surface S of formed catalyst particles. If the spraying device 3 is of a type having a parameter (for example, rotation speed) capable of forming a mortar-shaped filling surface when spraying in a constant state and controlling the size of the mortar-like shape, , Any of which can be used. In particular, when the catalyst particles are sprayed on the reaction vessel 1 in a state where the maximum scattering distance of the catalyst particles C becomes the wall surface of the reaction vessel 1 at the filling surface, a mortar-shaped filling surface can be formed and The spraying device 3 having a parameter capable of controlling the size of the sprayer can be preferably used. Further, the particle scattering device 3 controls the parameters of the particle scattering device to form a mortar-shaped filling surface formed by performing spraying in a constant state in a range of a height at which the filling container is filled with particles. To 2 ≧ h (edg
e) Use a particle dispersing device that is easy to control in the range of / h (ct) ≧ 1 . Smoothing the shape of the bowl-shaped filling surface is made forms the filling surface deviates from this range it becomes difficult, especially h
When (edge) / h (ct) <1, it is almost impossible to smooth the filling surface. Also, h (edge) / h
When (ct) = 1, h (edge)
/ H (ct) <1 is conceivable, so if possible, it is preferable to perform 2 ≧ h (edge) / h (ct)> 1. That is, the shape of the filling surface formed by spraying is smoothed while varying between 2 ≧ h (edge) / h (ct) ≧ 1. Where h
(Edge) / h (ct) is the height of the center of the filling surface (h (h ( c
t)) and the height (h (edge)) of the peripheral filling surface (h (edge) / h (ct)) (FIG. 10).
(B)). As the filling monitoring monitor 4, any type can be used as long as it can continuously grasp the entire filling surface S.
【0016】図5はそうした散布装置3の例を示し、
(a)はその側面図そして(b)は底面スリットを示
す。散布装置の側面には4か所の側面スリット21が設
けられておりそして底面22には(b)に示す下部スリ
ット23が設けられている。底面には回転円盤24が取
付けられている。側面スリットには調整可能な開閉扉2
5が設けられる。また、下部スリット23も調整可能で
ある。得られた充填面情報に基づいて、側面及び下部ス
リットの開度及び回転円盤の回転数を調整することによ
り散布状態を制御することができる。FIG. 5 shows an example of such a spraying device 3,
(A) shows the side view and (b) shows the bottom slit. Four side slits 21 are provided on the side surface of the spraying device, and a lower slit 23 shown in FIG. A rotating disk 24 is attached to the bottom surface. Adjustable door 2 on the side slit
5 are provided. Also, the lower slit 23 can be adjusted. The spraying state can be controlled by adjusting the degree of opening of the side and lower slits and the number of rotations of the rotating disk based on the obtained filling surface information.
【0017】図1に戻って、充填監視モニタ4として
は、例えばテレビジョン監視装置も使用しうるが、ここ
では、散布装置3とほぼ同じ高さ水準で反応容器壁に取
付けられたレーザ発生及び走査装置5と撮像装置9とを
備えるレーザ走査型のものが例示されている。レーザ発
生及び走査装置5は走査レーザビーム6を発生する。撮
像装置9は所定視野内でレーザ反射光を検知する。更
に、測定時の特定の走査点の位置、レーザ光発生及び走
査装置の位置及び撮像装置の位置から三角法により走査
点における充填面の深さを計算する計算装置としてのコ
ンピュータ11及び充填面深さ分布を含むデータを表示
する装置としてのCRT13が、反応容器外部の適宜の
位置の監視室内に設置され、レーザ発生及び走査装置と
撮像装置とに信号線15で接続されている。図1(b)
は、散布装置3、レーザ発生及び走査装置5及び撮像装
置9の水準から下方に充填面Sを見た断面図であり、走
査レーザビーム6による充填面Sの走査の様相を示す。
走査レーザビーム6により充填面を一端から他端まで左
右に走査しながら、一定間隔で走査点の反射光を検出す
ることにより充填面の監視が行われる。Returning to FIG. 1, for example, a television monitor may be used as the filling monitor 4, but here a laser generator and a laser mounted on the reaction vessel wall at substantially the same level as the spraying device 3 are used. A laser scanning type including a scanning device 5 and an imaging device 9 is illustrated. The laser generation and scanning device 5 generates a scanning laser beam 6. The imaging device 9 detects the laser reflected light within a predetermined visual field. Further, a computer 11 as a calculating device for calculating the depth of the filling surface at the scanning point by trigonometry from the position of the specific scanning point at the time of measurement, the position of the laser beam and the position of the scanning device, and the position of the imaging device, and the filling surface depth A CRT 13 as a device for displaying data including the distribution is installed in a monitoring room at an appropriate position outside the reaction vessel, and is connected to a laser generation / scanning device and an imaging device by a signal line 15. FIG. 1 (b)
Is a sectional view of the filling surface S viewed from below the level of the spraying device 3, the laser generation and scanning device 5 and the imaging device 9, and shows a state of scanning the filling surface S by the scanning laser beam 6. FIG.
Monitoring of the filling surface is performed by detecting reflected light at scanning points at regular intervals while scanning the filling surface from one end to the other with the scanning laser beam 6 from side to side.
【0018】図2は、レーザ発生及び走査装置5及び撮
像装置7の容器壁への取付け様相を示す。レーザ発生及
び走査装置5は、例えばHe−Neレーザ、半導体レー
ザのような適宜のレーザ源7とレーザ光を充填面を走査
するように左右前後に走査するレーザスキャナ8とから
構成される。プリズムのような光学的手段の傾きを順次
変更することによりレーザビームの出射方向を変更する
ことができる。レーザ源7及びレーザスキャナ8は触媒
粒子充填中触媒のダストが発生するため防塵対策として
エアーライン16に接続される防塵カバー17内部及び
その直下にそれぞれ配置されそして防塵用エアーがエア
ーライン16から防塵カバー17を通して常時吹き出さ
れる。防塵カバー17は適宜の固定金具18により反応
容器壁に取付けられる。撮像装置9は代表的にはCCD
カメラ10であり、同じくエアーライン16に接続され
る防塵カバー19内部に配置され、固定金具20により
反応容器壁に取付けられる。これらは中央に充填装置
(図示省略)を支持するトレイ上に支持される。FIG. 2 shows how the laser generating and scanning device 5 and the image pickup device 7 are attached to the container wall. The laser generation and scanning device 5 includes an appropriate laser source 7 such as a He-Ne laser or a semiconductor laser, and a laser scanner 8 that scans the filling surface with laser light back and forth and right and left. The emission direction of the laser beam can be changed by sequentially changing the inclination of optical means such as a prism. The laser source 7 and the laser scanner 8 are arranged inside the dustproof cover 17 connected to the air line 16 and directly below the dustproof cover 17 as dustproof measures because dust of the catalyst is generated during the filling of the catalyst particles. It is always blown out through the cover 17. The dust cover 17 is attached to the wall of the reaction vessel by an appropriate fixture 18. The imaging device 9 is typically a CCD
The camera 10 is disposed inside a dust-proof cover 19 also connected to the air line 16, and attached to the reaction vessel wall by a fixing bracket 20. These are supported on a tray that supports a filling device (not shown) at the center.
【0019】カメラの視野は、反応容器の内径、CCD
の撮像面の寸法、カメラの焦点距離、充填面までの距離
に依存し、例えば反応容器の内径が4mで、CCDの撮
像面の寸法が1/2インチ型、焦点距離f=12mm撮
像レンズの場合、回収画像縦方向の視野は充填面距離:
−10mでは3mとなりそして充填面距離:−5mでは
1.5mとなり、全時間域で反応容器内部全景が監視で
きない状況が存在しうる。そうした場合には、複数のカ
メラ、場合によっては複数のレーザ発生及び走査装置が
使用されうる。例えば、焦点距離9mm撮像レンズを使
用する場合、4カメラ×2レーザ方式、3カメラ×1レ
ーザ方式等が考慮されうる。図3は4カメラ×2レーザ
方式を示したものである。−5mの視野及び−10mの
視野が点線で示されている。4カメラ×2レーザ方式の
方が3カメラ×1レーザ方式よりもカメラ〜レーザ間隔
を広くとれ、広範囲、高精度の測定が可能となる。The field of view of the camera is the inner diameter of the reaction vessel, CCD
For example, the inner diameter of the reaction container is 4 m, the size of the CCD imaging surface is イ ン チ inch, and the focal length f = 12 mm. If the collected image, the vertical view is the filling surface distance:
At -10 m, it becomes 3 m and at filling surface distance: -5 m, it becomes 1.5 m, and there may be situations where the whole view inside the reaction vessel cannot be monitored in the entire time range. In such a case, multiple cameras and possibly multiple laser generating and scanning devices may be used. For example, when a 9 mm focal length imaging lens is used, a 4 camera × 2 laser system, a 3 camera × 1 laser system, or the like can be considered. FIG. 3 shows a 4 camera × 2 laser system. The -5 m field and the -10 m field are indicated by dotted lines. The 4-camera × 2-laser system allows a wider camera-laser interval than the 3-camera × 1-laser system, and allows for a wide range and high-precision measurement.
【0020】レーザビームの走査による充填面の測定に
おいては、レーザビームが容器底部の充填面に確実に届
く必要がある。即ち、容器空間を落下する触媒粒子によ
ってレーザビームが遮断されることのないようにしなけ
ればならない。触媒粒子の大きさを例えば1.27mm
直径×3mm長さ、2.12mm直径×5mm長さ、充
填量を例えば600mm/時間、そして充填容器から充
填面最下層までの距離を例えば10mとし、触媒粒子の
最密充填を仮定して粒子粒子の存在確率を試算したとこ
ろ、直径の小さいレーザビームでは数秒に1回程度レー
ザビームが触媒粒子に遮断されることが判明した。レー
ザビーム径を触媒粒子の断面積以上、好ましくは10倍
以上とすることによりレーザビームの走査による充填面
の測定が可能であることが確認された。レーザビームの
上限は、必要とする測定精度(数cm以下)とレーザ走
査点スポットの輝度から決定されるべきであり、本発明
目的には通常の反応容器で2〜3cmが上限である。例
えば精度5cmの達成にはレーザビームの直径の上限は
3cmである。ここで、触媒粒子の断面積は、粒子の最
大投影面積(粒子に平行光を照射した時にできる影の面
積の最大値)である。In measuring the filling surface by scanning with a laser beam, it is necessary that the laser beam surely reaches the filling surface at the bottom of the container. That is, it is necessary to prevent the laser beam from being interrupted by the catalyst particles falling in the container space. The size of the catalyst particles is, for example, 1.27 mm
Diameter x 3 mm length, 2.12 mm diameter x 5 mm length, filling amount is, for example, 600 mm / hour, and distance from the filling container to the lowermost layer of the filling surface is, for example, 10 m. As a result of a trial calculation of the particle existence probability, it was found that the laser beam was interrupted by the catalyst particles about once every several seconds with a laser beam having a small diameter. It has been confirmed that the filling surface can be measured by scanning with a laser beam by setting the laser beam diameter to be equal to or more than the cross-sectional area of the catalyst particles, preferably 10 times or more. The upper limit of the laser beam should be determined from the required measurement accuracy (several cm or less) and the brightness of the spot of the laser scanning point. For the purpose of the present invention, the upper limit is usually 2 to 3 cm in a normal reaction vessel. For example, to achieve an accuracy of 5 cm, the upper limit of the diameter of the laser beam is 3 cm. Here, the cross-sectional area of the catalyst particles is the maximum projected area of the particles (the maximum value of the area of the shadow formed when the particles are irradiated with parallel light).
【0021】レーザスキャナの制御及び撮像装置からの
画像処理及び三角測量計算は専用のコンピュータにより
処理を行う。処理データは、磁気ディスク、光磁気ディ
スク等のストレージマシンに保存すると共に、CRT画
面上にリアルタイム表示される。CRT画面には様々の
充填情報が表示されうる。図4は、一例としての充填面
モニタの基本画面構成図である。充填面の分布状態、選
択された特定の断面の充填面表示等がリアルタイム表示
される。こうして得られた充填面分布情報により、充填
面の分布が一定となるように充填装置からの散布状態が
修正される。The control of the laser scanner, the image processing from the imaging device, and the triangulation calculation are performed by a dedicated computer. The processed data is stored in a storage machine such as a magnetic disk or a magneto-optical disk and is displayed on a CRT screen in real time. Various filling information can be displayed on the CRT screen. FIG. 4 is a basic screen configuration diagram of the filling surface monitor as an example. The distribution state of the filling surface, the filling surface display of the selected specific cross section, and the like are displayed in real time. Based on the filling surface distribution information obtained in this way, the state of distribution from the filling device is corrected so that the distribution of the filling surface is constant.
【0022】図6〜図8に、先に述べたDensi Cat 方
式、UOP方式及びCOP方式の散布装置を参考までに
示しておく。いずれの方式もホッパと触媒散布のための
羽根を備えている。Densi Cat 方式は複数枚のゴム羽根
を使用し、羽根の開度と羽根による散乱に基づく全方向
均一散布方式である。UOP方式は2〜4枚の直線羽根
による遠心力を利用するものである。COP方式は、楕
円板にガイド付きの1〜3層羽根を使用するものであ
り、飛散距離に分布をもたせる方式である。FIGS. 6 to 8 show the above-mentioned Densi Cat type, UOP type and COP type spraying apparatuses for reference. Both systems have a hopper and vanes for spraying the catalyst. The Densi Cat method uses multiple rubber blades and is an omnidirectional uniform spraying system based on the blade opening and scattering by the blades. The UOP system utilizes the centrifugal force of two to four straight blades. The COP method uses a 1 to 3 layered blade with a guide on an elliptic plate, and has a distribution of scattering distance.
【0023】図9を参照すると、先に言及したように、
本発明者により新たに開発されそして本発明において使
用するに好ましい散布装置の別の例が示してある。粒子
散布装置3は外側カバー32を備えている。外側カバー
32内部中央には、ホッパー33が支持手段38により
外側カバーから支持されている。ホッパー33は、スト
ッカー(図示なし)とはホース40で接続されている。
回転軸34を具備するモータ35がホッパーに取りつけ
られている。回転軸34は、ホッパー中央を通してホッ
パー33の下端開口から外側に延伸する。回転軸34周
囲のホッパー下端開口部が粒子を落下せしめるオリフィ
ス39を構成する。一軸回転楕円のほぼ半部分を構成す
る回転円盤36がモータ回転軸4の下端に頭を下側にし
て止着されそして前記ホッパーから落下する粒子を受け
取る。図示の例では、回転円盤はオリフィス39が嵌入
する開口部を残して閉鎖されている。回転円盤36の底
面には、粒子を放出するスリット37が形成され、その
場合該スリットの形状は一軸回転楕円円盤中央にホッパ
ーから落下した粒子が円盤から回転力を受け円盤の回転
数に一致するまでの間に移動する粒子の移動軌跡と、円
盤中心から半径方向への移動距離に対して回転方向への
遅延角度がその半径位置において散布される粒子必要量
に一致する軌跡の関数との和で表わされる軌跡となるよ
うに形成されている。Referring to FIG. 9, as mentioned earlier,
Another example of a spraying device newly developed by the inventor and preferred for use in the present invention is shown. The particle scattering device 3 has an outer cover 32. At the center inside the outer cover 32, a hopper 33 is supported by the supporting means 38 from the outer cover. The hopper 33 is connected to a stocker (not shown) by a hose 40.
A motor 35 having a rotating shaft 34 is mounted on the hopper. The rotation shaft 34 extends outward from the lower end opening of the hopper 33 through the center of the hopper. An opening in the lower end of the hopper around the rotation shaft 34 constitutes an orifice 39 for dropping particles. A rotating disk 36, which makes up almost half of the uniaxial spheroid, is secured to the lower end of the motor rotating shaft 4 head-down and receives particles falling from the hopper. In the illustrated example, the rotating disk is closed leaving an opening into which the orifice 39 fits. A slit 37 for discharging particles is formed on the bottom surface of the rotating disk 36. In this case, the shape of the slit matches the number of rotations of the disk when the particles dropped from the hopper at the center of the uniaxial spheroidal disk receive rotational force from the disk. The sum of the movement trajectory of the particle moving up to and the function of the trajectory whose delay angle in the rotational direction with respect to the movement distance in the radial direction from the center of the disk matches the required amount of particles scattered at that radial position It is formed so that it may become the locus represented by.
【0024】オリフィス径は交換可能とされ、その最大
コンダクタンスは回転円盤上に粒子が滞留するのを防止
するために回転円盤のスリットコンダクタンスの80%
以下であることが必要である。ホッパーサイズはオリフ
ィス径により決定される。モータとしては、電気モータ
ー、エアーモーターどちらでも使用可能であり、トルク
に余裕があることが所望される。回転数制御は、サーボ
方式などを用い、また充填中に回転数を微小変化(イン
チング)させて、充填面の平滑化を図るために、プログ
ラム制御可能であることが好ましい。また、インチング
は、数値解析的に求めた一軸回転楕円円盤上に設けたス
リットが実際にはスリット幅を有し完全な理想形状でな
いことによって生じるずれをカバーする簡単で効率的な
一手法として有効である。The diameter of the orifice is exchangeable, and its maximum conductance is 80% of the slit conductance of the rotating disk in order to prevent particles from staying on the rotating disk.
It must be: The hopper size is determined by the orifice diameter. As the motor, either an electric motor or an air motor can be used, and it is desired that the motor has a sufficient torque. It is preferable that the control of the number of revolutions is performed by using a servo method or the like, and is programmable so that the number of revolutions can be minutely changed (inching) during filling to smooth the filling surface. Also, inching is effective as a simple and efficient method to cover the deviation caused by the fact that the slit provided on the uniaxial spheroid disk obtained by numerical analysis has a slit width that is not a perfect ideal shape. It is.
【0025】回転円盤及びスリットの形状は、粒子の回
転円盤直下での粒子の垂直方向の空間存在分布が、水平
方向に対して、二次の等差級数的、または二次的な分布
となるようにすることが必要である。回転円盤の形状は
断面が一軸回転楕円体である必要があり、a=b、c<
a 、好ましくは0.3a<c<a、より好ましくは
0.5a<c<aである(ここで、a、bは一軸回転楕
円円盤の半径(長軸、短軸)そしてcは一軸回転楕円円
盤の高さ(深さ))。遠心力で粒子が円盤上を登ってい
くことが必要であり、これ以外の形状では、均一分散が
不可となりまた粒子が滞留しやすい。スリットの形状に
関しては、ある(r、θ、z)上におけるスリットの
形状は、その面積がrの二次関数であること(r2 +
d、r2 +er+f)が必要であり、に粒子の搬送
曲線を重畳した形状をとる。スリットの数は円盤の大き
さ、散布能力に応じて、粒子を均一に分散させるように
適当数設けられる。The shape of the rotating disk and the slit is such that the vertical spatial existence distribution of the particles immediately below the rotating disk of the particles becomes a quadratic geometric series or a secondary distribution with respect to the horizontal direction. It is necessary to do so. The shape of the rotating disk must be a uniaxial spheroid in cross section, and a = b, c <
a, preferably 0.3a <c <a, more preferably 0.5a <c <a (where a and b are radii (long axis and short axis) of a uniaxial spheroidal disc and c is uniaxial rotation Height (depth) of the elliptical disk). It is necessary for the particles to climb on the disk by centrifugal force. With other shapes, uniform dispersion becomes impossible, and the particles tend to stay. Regarding the shape of the slit, the shape of the slit on a certain (r, θ, z) is such that its area is a quadratic function of r (r 2 +
d, r 2 + er + f) is required, and the shape takes a shape in which the particle transfer curve is superimposed. An appropriate number of slits are provided according to the size of the disk and the spraying ability so as to uniformly disperse the particles.
【0026】粒子の散布性能を向上させるために、
(a)回転軸に円盤底部に隣り合って分散板41を設置
すること、(b)粒子の破壊を防止するために回転軸を
少なくともホッパー内部において外鞘体42で覆い、シ
ールすること、(c)一軸回転楕円円盤面が傾斜あるい
は移動可能であるようにアクチュエーター43によりホ
ッパーを外側から傾斜あるいは移動可能に支持するこ
と、(d)外側カバーに固定用脚44を装備すること、
(e)外側カバーの頂部に吊具31を装備することとい
った変更例を使用することができる。分散板41を設け
た場合は、粒子に剪断力、衝撃力を与えず、粒子を均一
に分散させる作用を奏する。但し、分散板は回転軸シー
ル部に取り付けられ、回転はしないものとされる。粒子
の破壊を防止するために回転軸を少なくともホッパー内
部において柔軟な外鞘体42で覆い、シールすることが
好ましい。更に、望ましくは、回転円盤面の傾きを調整
制御可能(+15°〜−15°)あるいは回転円盤面と
オリフィスとを相対的に移動可能とする。回転円盤面を
傾斜させる場合、アクチュエーター43により、ホッパ
ー、回転円盤ごと傾斜可能とし、粒子面の傾斜を調整す
る。アクチュエーター43としては部分球面ジョイント
の使用が適当で、傾斜の中心と回転円盤(一軸回転楕円
体)の中心が一致していることが好ましい。これは、粒
子の散布中心がずれないようにするためである。移動の
場合には、アクチュエーター43としては、例えばシリ
ンダ−ピストン方式の移動手段が採用される。電動式、
エアー式いずれも使用できる。吊り下げ機構としては、
フックを備えた適宜の昇降装置が使用され、吊り下げ時
の揺動を防止するために、固定用脚14を使用すること
が好ましい。固定用脚は、内蔵可能とされ、例えば開脚
型、けんすい型等が充填塔の構造に応じて採用される。
更に固定用脚は交換可能とするのが好ましい。In order to improve the particle scattering performance,
(A) installing a dispersion plate 41 adjacent to the bottom of the disk on the rotating shaft; (b) covering and sealing the rotating shaft with an outer sheath 42 at least inside the hopper to prevent particle destruction; c) The hopper is tiltably or movably supported from the outside by an actuator 43 so that the uniaxial spheroidal disk surface can be tilted or moved, and (d) the outer cover is provided with fixing legs 44.
(E) Modifications, such as mounting a hanger 31 on the top of the outer cover, can be used. When the dispersing plate 41 is provided, an effect of uniformly dispersing the particles without exerting a shearing force or an impact force on the particles is exerted. However, the dispersion plate is attached to the rotating shaft seal portion and does not rotate. Preferably, the rotating shaft is covered and sealed with a flexible outer sheath 42 at least inside the hopper in order to prevent breakage of the particles. More preferably, the inclination of the rotating disk surface can be adjusted and controlled (+ 15 ° to −15 °), or the rotating disk surface and the orifice can be relatively moved. When the rotating disk surface is tilted, the hopper and the rotating disk can be tilted together with the actuator 43 to adjust the tilt of the particle surface. It is appropriate to use a partial spherical joint as the actuator 43, and it is preferable that the center of the inclination coincides with the center of the rotating disk (uniaxial spheroid). This is to prevent the scattering center of the particles from shifting. In the case of movement, for example, a cylinder-piston type moving means is employed as the actuator 43. Motorized,
Any air type can be used. As the suspension mechanism,
It is preferable to use an appropriate lifting device equipped with a hook, and to use the fixing leg 14 in order to prevent swinging during suspension. The fixing leg can be built-in, and for example, an open leg type, a sansui type, or the like is adopted according to the structure of the packed tower.
Further, the fixing legs are preferably replaceable.
【0027】しかしながら、こうした散布パラメータを
調節することができる粒子散布装置と充填面を連続的に
監視することのできる充填監視モニタを備える粒子充填
装置においても、粒子充填面の平滑化を実現することは
なかなか困難である。斯界では、こうした装置を使用し
て、簡易に粒子充填面の平滑化を実現する方法の確立が
必要とされている。本発明に従えば、一定の状態で(例
えば無制御の状態で)散布を行なうときすり鉢状の充填
面を形成することができそしてすり鉢状の大きさを制御
することのできるパラメータを有する粒子散布装置と充
填監視モニタを備える粒子充填装置において、すり鉢の
大きさを次第に縮小することにより簡易に粒子充填面の
平滑化を実現することができる。充填監視モニタで連続
的に充填面の形成状態を把握しながら、前記粒子散布装
置により一定の状態で散布を行ってすり鉢状の充填面を
形成し、その後粒子散布装置のパラメータを間欠的にも
しくは連続的に制御してすり鉢状の大きさを順次小さく
してすり鉢状充填面の内側に所定の間隔でもしくは連続
的に充填面を順次堆積し、充填面を平滑化を図る。な
お、この平滑化の操作を繰り返し行っても構わない。However, even in a particle filling apparatus having such a particle dispersion apparatus capable of adjusting the dispersion parameters and a filling monitoring monitor capable of continuously monitoring the filling surface, the smoothing of the particle filling surface is realized. It is very difficult. In the art, there is a need to establish a method for easily smoothing the particle-filled surface using such a device. In accordance with the present invention, particle spraying having a parameter that can form a mortar-like filling surface when spraying under constant conditions (eg, under uncontrolled conditions) and that can control the mortar-like size. In a particle filling apparatus provided with an apparatus and a filling monitoring monitor, smoothing of the particle filling surface can be easily realized by gradually reducing the size of the mortar. While continuously grasping the state of formation of the filling surface with the filling monitoring monitor, the particle spraying device forms a mortar-shaped filling surface by spraying in a constant state, and then intermittently or intermittently sets the parameters of the particle scattering device. The size of the mortar-like shape is gradually reduced by continuous control, and the filling surfaces are sequentially deposited at predetermined intervals or continuously inside the mortar-like filling surface, thereby smoothing the filling surface. This smoothing operation may be repeated.
【0028】図10は、本発明の充填面の平滑化概念の
模式図である。粒子散布装置により一定の状態で散布を
行ってすり鉢状の充填面S1を形成し、次いでそのすり
鉢状充填面S1の内側にすり鉢状の大きさを小さくした
第2のすり鉢状充填面S2を形成し、次いで第2のすり
鉢状充填面S2の内側にすり鉢状の大きさを小さくした
第3のすり鉢状充填面S3を形成する。ここでは、3つ
の充填面を示したが、実際にはもっと細かく段階的にも
しくは連続的に制御すれば容易に充填面の平滑化を実現
することができる。例えば、図11に示すような凹凸の
ある充填面を形成すると、散布領域の外周部に傾斜部を
持つのでその部分を考慮しなければならず、平滑化は困
難である。充填面を平滑にするための制御性を考慮する
と、充填容器に粒子を充填する高さの範囲において、一
定の状態で散布を行って形成されるすり鉢状の充填面S
1の形状を2≧h(edge)/h(ct)≧1として
充填面の平滑化を行う。形成されるすり鉢状の充填面S
1の形状がこの範囲から外れると充填面の平滑化は困難
となり、特にh(edge)/h(ct)<1となると
充填面の平滑化はほとんど不可能となる。また、h(e
dge)/h(ct)=1では、何らかの影響によりh
(edge)/h(ct)<1となることが考えられる
ため、できれば、2≧h(edge)/h(ct)>1
で行うことが好ましい。つまり、散布を行って形成され
る充填面の形状は、2≧h(edge)/h(ct)≧
1の間で変動しながら充填面の平滑化を行うこととな
る。FIG. 10 is a schematic diagram of the concept of smoothing the filling surface of the present invention. Spraying is performed in a constant state by a particle dispersing device to form a mortar-shaped filling surface S1, and then a second mortar-shaped filling surface S2 having a reduced mortar-like size is formed inside the mortar-shaped filling surface S1. Then, a third mortar-shaped filling surface S3 having a reduced size is formed inside the second mortar-shaped filling surface S2. Here, three filling surfaces are shown, but in practice, smoothing of the filling surface can be easily realized by finer stepwise or continuous control. For example, when a filling surface having irregularities as shown in FIG. 11 is formed, an inclined portion is provided at the outer peripheral portion of the spraying region, so that the portion must be taken into consideration, and smoothing is difficult. In consideration of the controllability for smoothing the filling surface, a mortar-shaped filling surface S formed by performing spraying in a constant state in a range of the height at which the particles are filled in the filling container.
It intends line smoothing filling surface 1 shaped as a 2 ≧ h (edge) / h (ct) ≧ 1. Mortar-shaped filling surface S to be formed
If the shape of 1 is out of this range, it becomes difficult to smooth the filling surface. In particular, if h (edge) / h (ct) <1, it becomes almost impossible to smooth the filling surface. Also, h (e
dge) / h (ct) = 1, h
(Edge) / h (ct) <1 is conceivable, so if possible, 2 ≧ h (edge) / h (ct)> 1
It is preferable to carry out in. That is, the shape of the filling surface formed by spraying is 2 ≧ h (edge) / h (ct) ≧
The smoothing of the filling surface is performed while fluctuating between 1.
【0029】粒子散布装置の散布条件を変更するパラメ
ータとしては、図5の散布装置では回転円盤の回転数を
調節することにより、図6〜8に示した散布装置では回
転羽根の回転数を調節することによりそして図9の散布
装置では回転円盤の回転数を調節することにより散布半
径及び散布量を変更することができる。このほか、回転
円盤(羽根)自体を直径に異なるものに段階的に変更す
ることもできる。回転円盤(羽根)への粒子供給量を段
階的に調節することもできる。散布状態を充填監視モニ
タで表示装置で認識しながらパラメータを変更して平滑
化を行う。また、図5、図6〜8に示した従来の粒子散
布装置では、h(edge)/h(ct)の値は充填面
の高さにより大きく変動するが、充填面の高さに応じて
適切な範囲となるように回転数や粒子供給量等のパラメ
ータを変更する。As parameters for changing the spraying conditions of the particle spraying apparatus, the number of rotations of the rotating disk is adjusted in the spraying apparatus shown in FIG. 5, and the number of rotations of the rotating blades is adjusted in the spraying apparatus shown in FIGS. In the spraying apparatus of FIG. 9, the spray radius and the spray amount can be changed by adjusting the rotation speed of the rotating disk. In addition, the rotating disk (blade) itself can be changed stepwise to one having a different diameter. The amount of particles supplied to the rotating disk (blades) can also be adjusted stepwise. The parameter is changed and smoothing is performed while the spraying state is recognized on the display device by the filling monitor. Further, in the conventional particle dispersing apparatus shown in FIGS. 5 and 6 to 8, the value of h (edge) / h (ct) greatly varies depending on the height of the filling surface. The parameters such as the number of revolutions and the amount of supplied particles are changed so as to be in an appropriate range.
【0030】前述した図9の散布装置と関連して、その
回転円盤及びスリットの形状について補足説明を加えて
おく。図12に示すように、回転円盤は1軸回転楕円体
の半割として想定する。回転円盤が角速度ωで回転して
いる時その中に投じた質点mは遠心力により半径rの線
上まで移動し、釣り合う。半径rは数式4で表すことが
できる。In connection with the spraying device shown in FIG. 9, a supplementary explanation will be given on the shape of the rotating disk and the slit. As shown in FIG. 12, the rotating disk is assumed to be a half of a uniaxial spheroid. When the rotating disk is rotating at an angular velocity ω, the mass point m cast therein moves to a line with a radius r by centrifugal force and is balanced. The radius r can be represented by Equation 4.
【0031】[0031]
【数4】 (Equation 4)
【0032】ここでrは角速度ωの時の回転円盤内の粒
子の最遠位置と考えられる。図13(a)は回転円盤の
中心からr位置にあるスリットから散布された粒子の水
平方向の移送を示したもので、線速度rωで放出された
粒子のt秒後の回転中心からの距離は数式5で示され
る。Here, r is considered to be the farthest position of the particle in the rotating disk at the angular velocity ω. FIG. 13 (a) shows the horizontal transfer of particles scattered from the slit located r from the center of the rotating disk, and the distance of the particles emitted at a linear velocity rω from the rotation center after t seconds. Is represented by Expression 5.
【0033】[0033]
【数5】 (Equation 5)
【0034】ここで、数式4のrを代入すると、数式6
となる。Here, by substituting r in Equation 4, Equation 6 is obtained.
Becomes
【0035】[0035]
【数6】 (Equation 6)
【0036】ところで、図13(b)のように高さhの
充填面に放出された粒子が到達する時間tは数式7で表
される。By the way, as shown in FIG. 13B, the time t at which the particles discharged to the filling surface having the height h reach is expressed by the following equation (7).
【0037】[0037]
【数7】 (Equation 7)
【0038】これを数式6に代入すると、次の数式8の
関係が得られる。By substituting this into Equation 6, the following Equation 8 is obtained.
【0039】[0039]
【数8】 (Equation 8)
【0040】角速度ωにおける粒子の散布範囲は0〜R
であることがわかる。The dispersion range of the particles at the angular velocity ω is 0 to R
It can be seen that it is.
【0041】回転円盤上のスリットは散布直後の粒子が
r2 分布となる条件が要求される。粒子散布実験により
円盤上の穴位置(回転中心からの距離)にかかわらずコ
ンダクタンスが一定であることが確認されている。この
ことをもとに回転円盤上のスリット形状を考察する。考
え方を単純化する為にr0 に落下した粒子はただちに角
速度ωを与えられ、質点のバランス点rまで一瞬のうち
に移動すると考える。粒子は図14の中央斜線範囲に連
続的に供給され、r点まで移動することになる。ところ
で、図15に示すように半径r、2r、3rにある穴か
ら出る粒子は概ねThe slit on the rotating disk is required to have a condition that the particles immediately after being sprayed have an r 2 distribution. It has been confirmed by particle scattering experiments that the conductance is constant regardless of the hole position (distance from the center of rotation) on the disk. Based on this, the shape of the slit on the rotating disk will be considered. In order to simplify the idea, it is assumed that the particles that have dropped to r 0 are immediately given the angular velocity ω and move instantaneously to the balance point r of the mass point. The particles are continuously supplied to the hatched area in the center of FIG. 14 and move to the point r. By the way, as shown in FIG. 15, particles coming out of holes at radii r, 2r, and 3r are generally
【0042】[0042]
【数9】 (Equation 9)
【0043】に従った位置dx ωtに落下する。但し、
tは数式7により求まる値である。ここで、図16
(a)及び(b)において、半径rの位置にあるスリッ
トAからは扇状斜線部の粒子が散布されることになる
が、その散布範囲は散布面のA領域である。A領域のd
x はRであり、この面積SA はIt falls to the position d x ωt according to the above. However,
t is a value obtained by Expression 7. Here, FIG.
In (a) and (b), particles in the fan-shaped oblique line portion are scattered from the slit A at the position of the radius r, and the scatter range is the A region on the scatter surface. D of area A
x is R, and this area S A is
【0044】[0044]
【数10】 (Equation 10)
【0045】となる。次に、扇状斜線部の粒子がスリッ
トB(2r)より散布されるとすると散布範囲は散布面
の円環状のB領域となる。B領域のdx は2Rなのでこ
の領域の面積SB は次のように表される。Is as follows. Next, assuming that the particles in the fan-shaped oblique line portion are scattered from the slit B (2r), the scatter area is an annular B region on the scatter surface. Since d x of the B region is 2R, the area S B of this region is expressed as follows.
【0046】[0046]
【数11】 [Equation 11]
【0047】ところが、スリットAから出る粒子量もス
リットBから出る粒子量も扇状斜線部で供給される量で
あり、同量である。従って、2rの位置にあるスリット
BはスリットAとは位相をずらした上、SB /SA 倍開
口角を大きくとる必要のあることが判る。理想的にはHowever, the amount of particles coming out of the slit A and the amount of particles coming out of the slit B are the amounts supplied in the fan-shaped hatched portion, and are the same. Therefore, it can be seen that the slit B at the position 2r needs to be out of phase with the slit A and have a large S B / S A opening angle. Ideally
【0048】[0048]
【数12】 (Equation 12)
【0049】のような級数的解となる。散布直後の粒子
の空間分布がr2 分布ということの意味は数式11及び
12に示した第1項のことを示している。The series solution is as follows. The meaning that the spatial distribution of the particles immediately after the dispersion is the r 2 distribution indicates the first term shown in Expressions 11 and 12.
【0050】図17のそれぞれの粒子供給部から供給さ
れた粒子が全て対応するスリットから出ると仮定すると
理想的なスリットの形状曲線は数式11や12に示され
る級数の曲線となる。これを簡素化して第2項を無視す
ればまさにrに対する2乗曲線となる。Assuming that all of the particles supplied from the respective particle supply units in FIG. 17 come out of the corresponding slits, the ideal slit shape curve is a series curve shown in equations (11) and (12). If this is simplified and the second term is ignored, a square curve with respect to r is obtained.
【0051】そして、円盤上に粒子が残留しない条件は
図18に示すNo. 1スリットの終点EとNo. 2スリット
の開始点Sがオーバーラップしていることであることが
判る。又、オーバーラップ限界rの値は粒子散布の際の
最低回転数での質点のバランス点である必要がある。更
に、0<rx ≦rの範囲のスリットのコンダクタンスの
合計がオリフィスのコンダクタンスよりも大でないと粒
子が回転円盤内に溜ってしまうことになる。これらがス
リット形状に求められる基本的な要件であり、あとは粒
子が回転円盤内をすべる運動を検討し、その結果に本要
件を重畳すればよい。図19はスリット形状の計算結果
例を示す。It can be seen that the condition under which no particles remain on the disk is that the end point E of the No. 1 slit and the start point S of the No. 2 slit shown in FIG. 18 overlap. Further, the value of the overlap limit r needs to be a balance point of the mass point at the minimum rotation speed at the time of dispersing particles. Further, unless the sum of the conductances of the slits in the range of 0 <r x ≦ r is larger than the conductance of the orifice, particles will accumulate in the rotating disk. These are the basic requirements for the slit shape. After that, the motion of the particles sliding in the rotating disk should be examined, and this requirement should be superimposed on the result. FIG. 19 shows an example of calculation results of the slit shape.
【0052】次に、回転円盤基線が円盤内を移動する粒
子の搬送曲線と一致する曲線であることが必要である。
この曲線の数式化について考察する。いま、半径aの回
転円盤皿(a=b=c)が角速度ωで回転している。こ
の回転軸からr0 離れた点Aにオリフィスより落下した
1個の粒子についての軌跡を考える。ここで、粒子と回
転円盤間の摩擦係数(動摩擦係数)は一定であり、初期
状態の粒子の回転運動の角速度は0である。粒子と回転
円盤が接触するとその瞬間にr0 位置に相当する遠心力
を受ける。遠心力は次の数式13で与えられる。Next, it is necessary that the rotating disk base line is a curve that coincides with the transport curve of the particles moving in the disk.
Consider the formula of this curve. Now, a rotating disk (a = b = c) having a radius a is rotating at an angular velocity ω. Consider the trajectory of one particle that has dropped from the orifice at point A that is r 0 away from the rotation axis. Here, the friction coefficient (dynamic friction coefficient) between the particle and the rotating disk is constant, and the angular velocity of the rotational motion of the particle in the initial state is zero. When the particle and the rotating disk contacts subjected to centrifugal force corresponding to r 0 position at that moment. The centrifugal force is given by the following equation (13).
【0053】[0053]
【数13】 (Equation 13)
【0054】ところで完全な摩擦で粒子が円盤と同じ角
速度をもつ場合はυ1 =ωr0 であるが、摩擦によるエ
ネルギーの伝達にロスがあるから、エネルギーの伝達係
数αを考慮すると、次のように表される。When the particles have the same angular velocity as the disk due to perfect friction, υ 1 = ωr 0. However, since there is a loss in the transmission of energy due to friction, considering the energy transmission coefficient α, Is represented by
【0055】[0055]
【数14】 [Equation 14]
【0056】すなわち遠心力f0 は数式15で表され
る。That is, the centrifugal force f 0 is expressed by the following equation (15).
【0057】[0057]
【数15】 (Equation 15)
【0058】a=b=cの回転円盤上の質点のバランス
点は数式16で表される。The balance point of the mass point on the rotating disk of a = b = c is expressed by the following equation (16).
【0059】[0059]
【数16】 (Equation 16)
【0060】以上の考察の結果から、粒子と回転円盤の
相対的な運動は図20に示すような一軸回転楕円体円盤
を投影した極座標系において、数式17で表すことがで
きる。As a result of the above consideration, the relative motion between the particle and the rotating disk can be expressed by Expression 17 in a polar coordinate system which projects a uniaxial spheroidal disk as shown in FIG.
【0061】[0061]
【数17】 [Equation 17]
【0062】回転円盤の回転数は実際には充填する高さ
によって変化させて用いるが、ここの回転円盤の定常状
態の回転数mは、定常的に使用する回転数のことであ
る。また、Bはホッパーから落下した粒子が回転円盤に
より回転力を付与されて回転円盤と同じ回転数となるま
でに移動したときの角度であり計算によりもとめること
ができる。The rotation speed of the rotating disk is actually changed according to the filling height, and the rotating speed m in the steady state of the rotating disk here is the rotating speed used constantly. B is the angle at which the particles dropped from the hopper are moved by the rotating disk until the particles rotate to the same rotational speed as the rotating disk, and can be obtained by calculation.
【0063】こうして、一軸回転楕円円盤中央に落下し
た粒子が円盤から回転力を受け円盤の回転数に一致する
までの間に移動する粒子の移動軌跡を上記の極座標系に
おいて次の関数で表わすことができる。In this manner, the locus of movement of the particle which has fallen to the center of the uniaxial spheroidal disk while receiving the rotational force from the disk and moving until the particle coincides with the rotation speed of the disk is expressed by the following function in the above polar coordinate system. Can be.
【0064】[0064]
【数18】 (Equation 18)
【0065】また、円盤中心から半径方向への移動距離
に対して回転方向への遅延角度がその半径位置において
散布される粒子必要量に一致する軌跡の関数を上記の極
座標系において次の関数で表わされる軌跡とすることが
できる。The trajectory function in which the delay angle in the rotational direction with respect to the moving distance in the radial direction from the center of the disk coincides with the required amount of particles to be scattered at the radial position is represented by the following function in the above polar coordinate system. It can be a trajectory represented.
【0066】[0066]
【数19】 [Equation 19]
【0067】円盤中心から半径方向への移動距離に対し
て回転方向への遅延角度がその半径位置において散布さ
れる粒子必要量に一致する軌跡の関数はまた上記の極座
標系において次の関数で表わされる軌跡とすることがで
きる。The function of the trajectory in which the delay angle in the rotational direction with respect to the moving distance in the radial direction from the center of the disk coincides with the required amount of the particles to be scattered at the radial position is represented by the following function in the above polar coordinate system. Trajectory.
【0068】[0068]
【数20】 (Equation 20)
【0069】一軸回転楕円円盤のスリットの形状を上述
の式18と式19または式18と式20で表すことによ
り、一定の状態で散布を行ったとき形成されるすり鉢状
の充填面の形状を2≧h(edge)/h(ct)≧1
の範囲に制御することが容易な粒子充填装置を実現でき
る。By expressing the shape of the slit of the uniaxial spheroidal disk by the above-mentioned equations (18) and (19) or equations (18) and (20), the shape of the mortar-shaped filling surface formed when spraying is performed in a fixed state is determined. 2 ≧ h (edge) / h (ct) ≧ 1
A particle filling device that can be easily controlled within the range described above can be realized.
【0070】[0070]
(実施例1)円盤a=20cm、c=12cm、スリッ
ト枚数=4枚、スリット幅=8mm、オリフィス径=9
5mmφの、図9の型式の粒子散布装置(スリット形状
は上述した考えに基づいて決定、図21)を備える充填
装置を使用して、直径4mの充填塔にそれぞれ高さ2.
4m、1.6m、0.6mの位置に充填装置を取付け、
それぞれの高さにおいて充填装置からでた直径0.5〜
1.5mm、長さ3〜5mmの円筒状のセラミックス触
媒粒子(断面積:0.0152cm2 〜0.0783c
m2 )の最大飛散距離が丁度充填塔の壁面と一致する回
転円盤の回転数で、約1.5ton の触媒粒子を0.12
5ton/min の速度で散布し、そのときの充填面の形状か
ら円盤の触媒散布特性を求めた。表1は、4区画目を基
準とした各区画の触媒粒子の散布量を高さごとに示した
ものである。なお、この区画は、充填塔の中心を0区画
目、充填塔の壁面を5区画目とし、その間を充填塔の中
心から等距離間隔で1区画目、2区画目、3区画目、4
区画目として表わしたものである(図22)。また、高
さは充填装置を0mと基準にして表わしている。表1に
示すように、一定の状態で散布を行ったとき形成される
すり鉢状の充填面の形状h(edge)/h(ct)
は、1〜2の範囲に制御されている。(Example 1) Disk a = 20 cm, c = 12 cm, number of slits = 4, slit width = 8 mm, orifice diameter = 9
Using a packing device of 5 mmφ, equipped with a particle distribution device of the type of FIG. 9 (slit shape determined on the basis of the above-mentioned idea, FIG. 21), a height of 1.
Attach the filling device at 4m, 1.6m, 0.6m,
0.5 to 0.5 mm from the filling device at each height
1.5 mm, 3 to 5 mm long cylindrical ceramic catalyst particles (cross-sectional area: 0.0152 cm 2 to 0.0783 c
m 2 ) is the number of revolutions of the rotating disk whose maximum scattering distance exactly matches the wall surface of the packed tower.
The catalyst was sprayed at a speed of 5 ton / min, and the catalyst spraying characteristics of the disk were determined from the shape of the packing surface at that time. Table 1 shows the scattering amount of the catalyst particles in each section with respect to the fourth section for each height. In this section, the center of the packed tower is the 0th section, the wall of the packed tower is the 5th section, and the first section, the 2nd section, the 3rd section, and the 4th section are equally spaced from the center of the packed tower.
This is represented as a division (FIG. 22). In addition, the height is expressed based on the filling device as 0 m. As shown in Table 1, the shape h (edge) / h (ct) of the mortar-shaped filling surface formed when spraying is performed in a constant state.
Is controlled in the range of 1-2.
【0071】[0071]
【表1】 [Table 1]
【0072】表1の実験結果をもとに、−3.6mから
−1.5mの高さまで触媒充填を行う場合の触媒散布の
制御パターンを単純化して示したものが、図22であ
る。図22の単純化の方法は、−3.6mから−3.0
mまで表1の−3.60mのデータによる特性で無制御
散布(充填塔の壁面までが常に最大飛散距離となるよう
に回転数のみ制御)を行い、−3.0mの時点で充填面
の平滑化操作を行う。その後、−3.0mから−2.0
mまで表1の−2.40mのデータで無制御散布を行
い、−2.0mの時点で充填面の平滑化操作を行う。同
様に、−1.0mの時点でも平坦化操作を行った場合の
各高さにおいて得られる平坦化操作(飛散距離と時間比
率)を示したものである。FIG. 22 shows a simplified control pattern of the catalyst dispersion when the catalyst is filled from -3.6 m to -1.5 m based on the experimental results in Table 1. The method of simplification in FIG. 22 is from -3.6 m to -3.0.
Uncontrolled spraying (only the number of revolutions is controlled so that the distance to the wall of the packed tower always becomes the maximum scattering distance) is performed with the characteristics according to the data of -3.60 m in Table 1 up to m. Perform a smoothing operation. Then, from -3.0m to -2.0
Uncontrolled spraying is performed with data of -2.40 m in Table 1 up to m, and a smoothing operation of the filling surface is performed at -2.0 m. Similarly, it shows the flattening operation (scattering distance and time ratio) obtained at each height when the flattening operation is performed even at the time of -1.0 m.
【0073】図22からの結果から、例えば−2.0m
においては、−3.0mから−2.0mまでの充填に要
した時間(100%)に対して、1.2区画目が最大飛
散距離となるように、2%の時間散布を行い、その後
3.0区画目が最大飛散距離となるように、5.5%の
時間散布を行うことでほぼ平坦な充填面が得られること
を示している。このようにして求めた散布範囲と時間を
より細かく分散させると、例えば単位時間を5分間とす
ると、−3mから−2mの間の充填では、5区画目(壁
面)が最大飛散距離となる散布を5分間(300秒(1
00%))行った後、1.2区画目が最大距離となる散
布を6秒(2%)行い、更に3.0区画目が最大飛散距
離となる散布を17秒(5.5%)行った後、5区画目
(壁面)が最大飛散距離となる散布に戻る散布パターン
を繰り返す。その結果として、図22に示す充填面より
も平滑化された面が得られることになる。従って、充填
面の形状は、2≧h(edge)/h(ct)≧1の範
囲で変動する。From the result shown in FIG. 22, for example, -2.0 m
In, for the time required for filling from -3.0 m to -2.0 m (100%), spraying was performed for 2% of the time so that the 1.2th division had the maximum scattering distance, and thereafter, It shows that an approximately flat filling surface can be obtained by performing the spraying for 5.5% of the time so that the 3.0 section becomes the maximum scattering distance. If the scatter range and time obtained in this way are more finely dispersed, for example, if the unit time is 5 minutes, the scatter at which the fifth section (wall surface) has the maximum scatter distance in the filling between -3 m and -2 m. For 5 minutes (300 seconds (1
00%)), after that, the spraying was performed for 6 seconds (2%) at which the 1.2th section had the maximum distance, and the spraying was further performed at 17 seconds (5.5%) at which the 3.0th section had the maximum scattering distance. After performing, the spraying pattern in which the fifth section (wall surface) returns to the spraying with the maximum scattering distance is repeated. As a result, a surface smoother than the filling surface shown in FIG. 22 is obtained. Therefore, the shape of the filling surface varies in the range of 2 ≧ h (edge) / h (ct) ≧ 1.
【0074】(実施例2)実施例1の充填装置を用い、
塔径4.1m、高さ15m、三層構造(各層3.6m)
の間接脱流装置に実施例1の触媒粒子を散布充填した
(散布範囲;−3.6m〜−2.5m)。なお、間接脱
流装置の底部には、支持触媒が予め散布されその充填面
はならされている。また、触媒粒子の堆積面をレーザビ
ームにより走査しそして充填面の状態を測定した。測定
点数は100点とし、測定間隔は30秒に1回とした。
測定は、半導体レーザビームスキャンとCCDカメラに
よる充填面の三角測量によった。レーザビームは35m
Wの半導体レーザを使用した。カメラは、焦点距離35
mmの1/2インチ38万画素モノクロCCDカメラを
使用した(最低被写体照度:0.2Lux)。512×
512ピクセル画像処理装置を使用した。(なお、レー
ザスポットの座標は、0.1ピクセル単位の認識精度で
決定した。)Example 2 Using the filling device of Example 1,
Tower diameter 4.1m, height 15m, three-layer structure (each layer 3.6m)
Was spray-filled with the catalyst particles of Example 1 (spraying range; -3.6 m to -2.5 m). In addition, a supporting catalyst is sprayed in advance on the bottom of the indirect deflow device, and its filling surface is leveled. Further, the surface on which the catalyst particles were deposited was scanned with a laser beam, and the state of the packed surface was measured. The number of measurement points was 100, and the measurement interval was once every 30 seconds.
The measurement was based on semiconductor laser beam scanning and triangulation of the filling surface with a CCD camera. Laser beam is 35m
A W semiconductor laser was used. The camera has a focal length of 35
mm monochrome CCD camera of 380,000 pixels was used (minimum subject illuminance: 0.2 Lux). 512x
A 512 pixel image processor was used. (Note that the coordinates of the laser spot were determined with a recognition accuracy of 0.1 pixel unit.)
【0075】充填装置の基本回転数(充填面の高さにお
ける最大飛散距離が壁面である回転数)は、充填面の高
さに従って、表2のように制御した。表2の充填面高さ
は、充填装置の位置から充填面までの距離までを表わし
たものであり、最大飛散距離と充填面高さと回転数との
関係を示したものである。The basic rotation speed of the filling device (the rotation speed at which the maximum scattering distance at the height of the filling surface is the wall surface) was controlled as shown in Table 2 according to the height of the filling surface. The filling surface height in Table 2 represents the distance from the position of the filling device to the filling surface, and shows the relationship between the maximum scattering distance, the filling surface height, and the rotation speed.
【0076】[0076]
【表2】 [Table 2]
【0077】また、充填面の平坦化操作は5分間を単位
時間として、実施例1で求めた値を基準とし、更に充填
監視モニタで測定され、30秒ごとに更新される100
点の測定点の充填面の高さを確認しながら、充填面の過
不足量を調整した。図23は、充填結果の一例を示した
もので、実線が充填面の一断面を経時的に抜粋した充填
監視モニタの測定結果(連続してサンプリングした結果
の中から約15分間隔で抽出した測定結果)であり、点
線が作業者が巻尺で確認した実測値である(なお、充填
終了時と充填開始時のデータを除き、実線と点線は同時
に測定した値を示したものではないため若干のずれを生
じている。)。図23のように、この方法により充填面
の高低差を5cm程度に収めることが確認された。In addition, the filling surface flattening operation is performed with a unit time of 5 minutes, based on the value obtained in the first embodiment, and further measured by the filling monitor and updated every 30 seconds.
The amount of the filling surface was adjusted while checking the height of the filling surface at the measurement point. FIG. 23 shows an example of the filling result. A solid line indicates a measurement result of the filling monitoring monitor which is one section of the filling surface extracted with time (extracted at intervals of about 15 minutes from a result of continuous sampling). Measurement results), and the dotted line is the actual measurement value that the operator confirmed on the tape measure (except for the data at the end of filling and at the beginning of filling, the solid line and the dotted line do not show the values measured at the same time, so Is shifted.) As shown in FIG. 23, it was confirmed that the height difference of the filling surface was reduced to about 5 cm by this method.
【0078】[0078]
【発明の効果】一定の状態で(例えば無制御の状態で)
散布を行なうときすり鉢状の充填面を形成することがで
きそしてすり鉢状の大きさを制御することのできるパラ
メータを有する粒子散布装置と充填監視モニタを備える
粒子充填装置を使用して、すり鉢の大きさを次第に縮小
することにより簡易に粒子充填面の平滑化を実現するこ
とができる。According to the present invention, in a constant state (for example, in an uncontrolled state)
The size of the mortar is determined using a particle-dispersing device having a parameter capable of forming a mortar-shaped filling surface and controlling the mortar-shaped size when spraying and a particle-filling device having a filling monitoring monitor. By gradually reducing the size, smoothing of the particle-filled surface can be easily realized.
【図1】図1(a)は、本発明において使用されるの粒
子充填装置の一例の正面方向からの部分断面図であり、
そして図1(b)は走査レーザビームによる充填面の走
査の様相を示す説明図である。FIG. 1 (a) is a partial cross-sectional view from the front direction of an example of a particle filling device used in the present invention,
FIG. 1B is an explanatory view showing a state of scanning the filling surface by the scanning laser beam.
【図2】レーザ発生及び走査装置並びに撮像装置の容器
壁への取付け様相を示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory view showing how a laser generation and scanning device and an imaging device are attached to a container wall.
【図3】4カメラ×2レーザ方式のレーザ及びカメラ配
置例を示し、−5mの視野及び−10mの視野を点線で
示す。FIG. 3 shows an example of a laser and camera arrangement of a 4 camera × 2 laser system, and a -5 m field of view and a -10 m field of view are indicated by dotted lines.
【図4】充填面監視モニタの基本画面構成図である。FIG. 4 is a basic screen configuration diagram of a filling surface monitoring monitor.
【図5】本発明で使用しうる充填装置例を示し、(a)
は側面図そして(b)は底面スリットを示す。FIG. 5 shows an example of a filling device that can be used in the present invention, and (a)
Shows a side view and (b) shows a bottom slit.
【図6】Densi Cat 方式触媒散布装置の概念図である。FIG. 6 is a conceptual diagram of a Densi Cat type catalyst spraying device.
【図7】UOP方式触媒散布装置の概念図であり、
(a)は正面断面図そして(b)は羽根の上面図であ
る。FIG. 7 is a conceptual diagram of a UOP type catalyst dispersion device,
(A) is a front sectional view, and (b) is a top view of the blade.
【図8】COP方式触媒散布装置の概念図であり、
(a)は正面断面図そして(b)は羽根の上面図であ
る。FIG. 8 is a conceptual diagram of a COP type catalyst spraying apparatus,
(A) is a front sectional view, and (b) is a top view of the blade.
【図9】本発明において使用されるの粒子充填装置の別
の例の正面方向からの部分断面図である。FIG. 9 is a partial cross-sectional view from the front of another example of the particle filling apparatus used in the present invention.
【図10】(a)は本発明の充填面の平滑化概念の模式
図であり、そして(b)は本発明におけるh(ct)及
びh(edge)の定義を示す説明図である。FIG. 10 (a) is a schematic diagram of the concept of smoothing the filling surface of the present invention, and FIG. 10 (b) is an explanatory diagram showing the definitions of h (ct) and h (edge) in the present invention.
【図11】平滑化の困難な充填面の例を示す。FIG. 11 shows an example of a filling surface that is difficult to smooth.
【図12】回転計の質点を説明する説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram illustrating mass points of a tachometer.
【図13】粒子散布状況を示す説明図であり、(a)は
粒子水平移送をそして(b)は粒子垂直移送を示す。FIGS. 13A and 13B are explanatory diagrams showing a particle scattering state, wherein FIG. 13A shows horizontal transfer of particles and FIG. 13B shows vertical transfer of particles.
【図14】粒子供給エリアと搬送の関係を示す説明図で
ある。FIG. 14 is an explanatory diagram showing a relationship between a particle supply area and conveyance.
【図15】粒子散布範囲を説明する説明図である。FIG. 15 is an explanatory diagram illustrating a particle scattering range.
【図16】スリット散布面との関係を示す説明図であ
り、(a)は回転円盤を示しそして(b)は散布面を示
す。FIGS. 16A and 16B are explanatory diagrams showing a relationship with a slit spray surface, wherein FIG. 16A shows a rotating disk and FIG. 16B shows a spray surface.
【図17】必要なスリット開口角を説明する説明図であ
る。FIG. 17 is an explanatory diagram illustrating a required slit opening angle.
【図18】No. 1スリットの終点EとNo. 2スリットの
開始点Sがオーバーラップしていること示す理想化され
たスリット曲線である。FIG. 18 is an idealized slit curve showing that the end point E of the No. 1 slit and the start point S of the No. 2 slit overlap.
【図19】スリット形状の計算結果例を示す。FIG. 19 shows a calculation result example of a slit shape.
【図20】回転円盤を投影した極座標系を示したもので
ある。FIG. 20 shows a polar coordinate system obtained by projecting a rotating disk.
【図21】実施例における回転円盤のスリット形状の極
座標系における模式図である。FIG. 21 is a schematic diagram in a polar coordinate system of a slit shape of a rotating disk in the embodiment.
【図22】実施例1と関連しての充填面の堆積の様相を
示すグラフである。FIG. 22 is a graph showing an aspect of deposition of a filling surface in connection with Example 1.
【図23】実施例2と関連しての充填結果を示すグラフ
であり、実線が充填面の一断面を経時的に抜粋した充填
監視モニタの測定結果であり、点線が作業者が巻尺で確
認した実測値である。FIG. 23 is a graph showing a filling result in connection with Example 2, wherein a solid line is a measurement result of a filling monitoring monitor which extracts one section of the filling surface with time, and a dotted line is a worker confirms with a tape measure. This is the measured value.
C 触媒粒子 S 触媒粒子充填面 1 反応容器 2 充填装置 3 散布装置 4 充填監視モニタ 5 レーザ発生及び走査装置 6 走査レーザビーム 7 レーザ源 8 レーザスキャナ 9 撮像装置 10 カメラ 11 コンピュータ 13 CRT 15 信号線 16 エアーライン 17、19 防塵カバー 18、20 固定金具 21 側面スリット 22 底面 23 下部スリット 24 回転円盤 25 開閉扉 31 吊具 32 外側カバー 33 ホッパー 34 回転軸 35 モータ 36 円盤 37 スリット 38 支持手段 39 オリフィス 40 ホース 41 分散板 42 外鞘体 43 アクチュエータ 44 固定用脚 C catalyst particles S catalyst particle filling surface 1 reaction vessel 2 filling device 3 spraying device 4 filling monitoring monitor 5 laser generation and scanning device 6 scanning laser beam 7 laser source 8 laser scanner 9 imaging device 10 camera 11 computer 13 CRT 15 signal line 16 Air line 17, 19 Dustproof cover 18, 20 Fixture 21 Side slit 22 Bottom 23 Lower slit 24 Rotating disk 25 Door 31 Hanging tool 32 Outer cover 33 Hopper 34 Rotating shaft 35 Motor 36 Disk 37 Slit 38 Supporting means 39 Orifice 40 Hose 41 Dispersion plate 42 Outer sheath 43 Actuator 44 Fixing leg
Claims (10)
の充填面を形成することができそしてすり鉢状の大きさ
を制御することのできるパラメータを有する粒子散布装
置と連続的に充填面全体を把握することのできる充填監
視モニタとを備える粒子充填装置における粒子充填面の
平滑化方法であって、前記充填監視モニタで連続的に充
填面の形成状態を把握しながら、前記粒子散布装置によ
り一定の状態で散布を行ってすり鉢状の充填面を形成
し、該粒子散布装置のパラメータを間欠的にもしくは連
続的に制御してすり鉢状の大きさを順次小さくしてすり
鉢状充填面の内側に所定の間隔でもしくは連続的に充填
面を順次堆積し、その場合、充填容器に粒子を充填する
高さの範囲において、一定の状態で一定時間の間粒子の
散布を行ったとき形成されるすり鉢状の充填面の中央の
高さ(h(ct))と周辺の充填面の高さ(h(edg
e))との比を(h(edge)/h(ct))と表す
とき、一定の状態で散布を行って形成されるすり鉢状の
充填面の形状を2≧h(edge)/h(ct)≧1と
して、充填面を平滑化することを特徴とする粒子充填装
置における粒子充填面の平滑化方法。1. A particle dispersing device having a parameter capable of forming a mortar-shaped filling surface and controlling the size of a mortar when spraying in a constant state, and continuously filling the entire filling surface. It is a method of smoothing a particle filling surface in a particle filling device comprising a filling monitoring monitor that can be grasped, and while the filling monitoring monitor continuously grasps the state of formation of the filling surface, the particle dispersion device keeps a constant. Forming a mortar-shaped filling surface by performing spraying in the state of, and controlling the parameters of the particle scattering device intermittently or continuously to gradually reduce the mortar-shaped size inside the mortar-shaped filling surface. The filling surfaces are sequentially deposited at predetermined intervals or continuously, in which case the filling container is filled with particles.
In the range of height, the particle
The center of the mortar-shaped filling surface formed when spraying
The height (h (ct)) and the height of the surrounding filling surface (h (edg)
e)) is expressed as (h (edge) / h (ct)).
When the mortar is formed by spraying in a certain state
The shape of the filling surface is 2 ≧ h (edge) / h (ct) ≧ 1
To the smoothing method of particle packing surface in particle packing apparatus characterized by smoothing the packing surface.
ことを特徴とする請求項1の方法。2. The method of claim 1, wherein the step of forming the smooth filling surface is repeated.
て充填容器の壁面となるような状態で、充填容器に粒子
の散布を行うときすり鉢状の充填面を形成することがで
きそしてすり鉢状の大きさを制御することができるパラ
メータを有する粒子散布装置であることを特徴とする請
求項1の方法。3. A mortar-shaped filling surface can be formed when dispersing the particles in the filling container with the maximum scattering distance of the particles being the wall surface of the filling container at its filling surface. 2. The method of claim 1, wherein the apparatus is a particle scattering device having a parameter whose size can be controlled.
える側面スリットと底面における下部スリットを備え、
底面には回転円盤が取付けられ、側面及び下部スリット
の開度及び回転円盤の回転数を調整することにより散布
状態を制御することができる型式のものであることを特
徴とする請求項1〜3のいずれか一項の方法。4. A particle dispersing device comprising a side slit with an adjustable door and a lower slit on the bottom surface,
Rotating disk is attached to the bottom surface, claim, characterized in that it is of the type capable of controlling the distribution state by adjusting the rotational speed of the opening and the rotary disc side and lower slits 1-3 The method of any one of the preceding claims.
バー内部に該外側カバーにより支持されそして下端を開
口したホッパーと、該ホッパーに支持されそして該ホッ
パー中央を通して該開口から外側に延伸する回転軸を具
備するモータと、該モータ回転軸の下端に止着されそし
て前記ホッパーから落下する粒子を受け取る一軸回転楕
円円盤を備え、該一軸回転楕円円盤に粒子を放出するス
リットが形成され、その場合該スリットの形状が一軸回
転楕円円盤中央領域にホッパーから落下した粒子が円盤
から回転力を受け円盤の回転数に一致するまでの間に移
動する粒子の移動軌跡と、円盤中心から半径方向への移
動距離に対して回転方向への遅延角度がその半径位置か
ら充填面に向けて散布される粒子必要量に一致する軌跡
の関数との和で表わされる型式のものであることを特徴
とする請求項1〜3のいずれか一項の方法。5. An apparatus for dispersing particles, an outer cover, a hopper supported by the outer cover inside the outer cover and having an open lower end, a rotation supported by the hopper and extending outwardly from the opening through the center of the hopper. A motor having a shaft, and a uniaxial spheroid disk fixed to a lower end of the motor rotation shaft and receiving particles falling from the hopper, wherein a slit for discharging particles is formed in the uniaxial spheroid disk. The movement trajectory of the particles in which the shape of the slit falls from the hopper to the central area of the uniaxial spheroidal disk until the particles receive the rotational force from the disk and move until the number of rotations of the disk coincides with each other, and from the center of the disk to the radial direction. The delay angle in the rotation direction with respect to the distance traveled is expressed as the sum of the function of the trajectory that matches the required amount of particles sprayed from its radial position toward the filling surface. 4. The method according to claim 1 , wherein the method is of the type:
円盤から回転力を受け円盤の回転数に一致するまでの間
に移動する触媒の移動軌跡が次の関数で表わされること
を特徴とする請求項5の方法。 【数1】 6. The movement trajectory of a catalyst, which is moved until particles falling at the center of a uniaxial spheroidal disk receive rotational force from the disk and reach the rotation speed of the disk, are expressed by the following function. The method of claim 5 . (Equation 1)
して回転方向への遅延角度がその半径位置において散布
される触媒必要量に一致する軌跡の関数が次の関数で表
わされることを特徴とする請求項5の方法。 【数2】 7. A function of a trajectory in which a delay angle in a rotational direction with respect to a moving distance in a radial direction from a center of a disk coincides with a required amount of catalyst to be scattered at the radial position is represented by the following function. The method of claim 5 , wherein (Equation 2)
して回転方向への遅延角度がその半径位置において散布
される触媒必要量に一致する軌跡の関数が次の関数で表
わされることを特徴とする請求項5の方法。 【数3】 8. A function of a trajectory in which a delay angle in a rotational direction with respect to a moving distance in a radial direction from a center of a disk coincides with a required amount of catalyst dispersed at the radial position is represented by the following function. The method of claim 5 , wherein (Equation 3)
に粒子充填高さより上方の水準に取付けられる、レーザ
光で粒子堆積面を走査するため粒子の断面積以上で且つ
目標精度に応じて選択されるレーザ光ビーム径を有する
レーザ光の発生及び走査装置及び走査点からのレーザ反
射光を検出する撮像装置と、測定時の特定の前記走査点
の位置、前記レーザ光発生及び走査装置の位置及び前記
撮像装置の位置から三角法により走査点の深さを計算す
る計算装置と、堆積面深さ分布を含むデータを表示する
表示装置とを備える型式のものであることを特徴とする
請求項1の方法。9. A filling monitoring monitor, which is attached to a container for filling particles at a level higher than the particle filling height, is selected according to a target accuracy not less than a cross-sectional area of the particles for scanning a particle deposition surface with laser light. Device for generating and scanning a laser beam having a laser beam diameter to be measured and an imaging device for detecting laser reflected light from a scanning point, and the position of the specific scanning point during measurement, and the position of the laser beam generating and scanning device And a display device for calculating a depth of a scanning point from the position of the imaging device by trigonometry, and a display device for displaying data including a deposition surface depth distribution. Method 1 .
求項1〜9のいずれか一項の方法。Any one of the methods of claims 1-9, characterized in that 10. A particle is the catalyst.
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