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JP2943362B2 - Electrically conductive ink and method for formation of electrically conductive thick film pattern - Google Patents
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JP2943362B2 - Electrically conductive ink and method for formation of electrically conductive thick film pattern - Google Patents

Electrically conductive ink and method for formation of electrically conductive thick film pattern

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JP2943362B2
JP2943362B2 JP4661491A JP4661491A JP2943362B2 JP 2943362 B2 JP2943362 B2 JP 2943362B2 JP 4661491 A JP4661491 A JP 4661491A JP 4661491 A JP4661491 A JP 4661491A JP 2943362 B2 JP2943362 B2 JP 2943362B2
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conductive
thick film
poly
conductive ink
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覚 藤井
寛敏 渡辺
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    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
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  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は回路基板に導電性厚膜パ
ターンを形成するための方法およびそれに用いる導電性
インキに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a conductive thick film pattern on a circuit board and a conductive ink used for the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、最も一般的な回路基板への厚膜パ
ターン形成方法としてスクリーン印刷が用いられてい
が、工業製品として量産可能なパターン幅は100μm
が限度である。スクリーンのメッシュを変えることによ
りパターン幅30μmが可能であるとの報告が、池上、
後藤、徳丸により『電子材料;1989年5月号,P4
4;ハイブリッドマイクロエレクトロニクスにおけるパ
ターンニング技術』になされているが、まだ実験室レベ
ルの段階である。
2. Description of the Related Art Conventionally, screen printing has been used as the most common method of forming a thick film pattern on a circuit board, but the pattern width which can be mass-produced as an industrial product is 100 μm.
Is the limit. Ikegami reported that a pattern width of 30 μm was possible by changing the screen mesh.
Goto and Tokumaru, "Electronic Materials; May 1989, P4
4: Patterning technology in hybrid microelectronics ”, but it is still at the laboratory level.

【0003】また、導電性ペーストとして市販されてい
るスクリーン印刷用導電性ペーストでは、エチルセルロ
ース樹脂やアクリル樹脂をバインダに含んでいるものが
あり、インキの粘度は高く、オフセット印刷にはそのま
ま使用できない。
[0003] Some conductive pastes for screen printing, which are commercially available as conductive pastes, contain an ethylcellulose resin or an acrylic resin in a binder, and the ink has a high viscosity and cannot be used for offset printing as it is.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】スクリーン印刷で工業
製品として量産可能なパターン幅が100μmが限度と
なる理由は、メッシュ状のスクリーンを用いるため、メ
ッシュの影響によりパターンの直線性の阻害、欠けによ
る断線が発生するために、スクリーン印刷で工業製品と
して量産可能なパターン幅は100μmが限度である。
The reason why the pattern width which can be mass-produced as an industrial product by screen printing is limited to 100 μm is because the mesh-shaped screen is used, and the linearity of the pattern is hindered or lacked by the influence of the mesh. Due to disconnection, the pattern width that can be mass-produced as an industrial product by screen printing is limited to 100 μm.

【0005】これに対して日本国特許公告昭55−36
512でオフセット印刷による厚膜印刷法が示されてい
る。しかしここでは軟質物質のゴム硬度が30度以下で
あり、ピッチ100μm以下の微細パターンではパター
ンの忠実な再現は難しい。
On the other hand, Japanese Patent Publication No. 55-36
At 512, a thick film printing method by offset printing is shown. However, here, the rubber hardness of the soft substance is 30 degrees or less, and it is difficult to faithfully reproduce the pattern with a fine pattern having a pitch of 100 μm or less.

【0006】また、導電性ペーストとして市販されてい
るスクリーン印刷用ペーストでは、エチルセルロース樹
脂やアクリル樹脂をビヒクルに含んでいるものがある。
日本国特許公開平2−228375では、厚膜ぺ−スト
の有機バインダーとして分子量5万〜50万のアクリル
樹脂が実施例で使用されている。しかし、このようなイ
ンキの粘度は高く、オフセット印刷にはそのまま使用で
きない。転写量を大きくし、印刷特性を向上させるため
に、樹脂量を増加させる方法がある。ところが、印刷特
性を保ちながら高分子量の樹脂を増加させるためには溶
剤量も増大させなければならず、インキ中の顔料濃度が
低下しインキ密度の低い膜になる問題がある。さらに、
樹脂の含有量を単に高くするだけでは樹脂の飛散性が悪
化し、焼成中にバインダが完全に飛散せずにカ−ボン粒
子となって残存し、抵抗値に大きく影響を与える。
Some screen printing pastes commercially available as conductive pastes contain an ethylcellulose resin or an acrylic resin in a vehicle.
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-228375, an acrylic resin having a molecular weight of 50,000 to 500,000 is used as an organic binder for a thick film paste in Examples. However, such inks have high viscosity and cannot be used for offset printing. There is a method of increasing the amount of resin in order to increase the transfer amount and improve the printing characteristics. However, in order to increase the amount of the high molecular weight resin while maintaining the printing characteristics, the amount of the solvent must also be increased, and there is a problem that the pigment concentration in the ink decreases and the ink density becomes low. further,
Simply increasing the content of the resin deteriorates the scattering properties of the resin, and the binder does not completely scatter during firing and remains as carbon particles, which greatly affects the resistance value.

【0007】本発明は上記課題を解決するためのもの
で、エッジの直線性に優れ、スケ、欠け等の発生が少な
い高品質の微細パターン、特にパターン幅が100μm
以下の微細パターンを得るために、オフセット印刷を用
いた導電性厚膜パターン製品を量産するための導電性厚
膜パターン形成法を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and has a high-quality fine pattern with excellent edge linearity and little occurrence of skein, chipping, etc., and particularly, a pattern width of 100 μm.
An object of the present invention is to provide a conductive thick film pattern forming method for mass-producing conductive thick film pattern products using offset printing in order to obtain the following fine patterns.

【0008】また、本発明の別の課題は、上記パターン
形成法に適した導電性インキを供給することである。
Another object of the present invention is to provide a conductive ink suitable for the above-mentioned pattern forming method.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明の導電性厚膜パターンの形成方法は、導電性
インキを凹版の凹部に充填する工程、凹版の凹部中の導
電性インキをシリコーン樹脂を主体とする弾性体にて表
面被覆したブランケット上に転写する工程、前記ブラン
ケット上に転写された導電性厚膜パターンを基板上に転
写印刷する工程、転写された導電性厚膜パターンを焼成
して有機物を飛散させる工程、転写された導電性厚膜パ
ターンを焼結させる工程より構成されるものである。
In order to solve the above-mentioned problems, a method for forming a conductive thick film pattern according to the present invention comprises the steps of: filling conductive ink into a concave portion of an intaglio; Transferring onto a blanket surface-coated with an elastic body mainly composed of silicone resin, transferring and printing the conductive thick film pattern transferred on the blanket onto a substrate, and transferring the transferred conductive thick film pattern. And a step of sintering the transferred conductive thick film pattern.

【0010】さらに、本発明の導電性インキは、導電性
金属粉末、ガラスフリット、遷移金属酸化物、および分
散剤と、ポリiso−ブチルメタクリレート(i-BMA)、ポリ
iso−プロピルメタアクリレート(i-PMA)、ポリメチルメ
タクリレート(MMA)、ポリテトラフルオロエチレン、ま
たはポリ−α−メチルスチレン(α-MeSt)のうち少なく
とも1種以上から構成される有機バインダ、またはポリ
−α−メチルスチレンとポリiso−ブチルメタクリレー
トの共重合体、ポリ−α−メチルスチレン、ポリiso−
ブチルメタクリレートとポリメチルメタクリレートの共
重合体、ポリ−α−メチルスチレンとポリiso−プロピ
ルメタクリレートの共重合体、ポリ−α−メチルスチレ
ン、ポリiso−プロピルメタクリレートとポリメチルメ
タクリレートの共重合体のうち少なくとも1種以上を有
機バインダとして含むビヒクルから構成されるものであ
る。前記導電性金属粉末としては、銅、金、または銀の
うち少なくとも1種以上を用いるのが好ましい。前記有
機バインダの重量平均分子量は10万〜1300の値を
有するものが好ましい。前記有機バインダ量はインキ全
体に対して2〜15重量%の値が好ましい。
Further, the conductive ink of the present invention comprises a conductive metal powder, a glass frit, a transition metal oxide, and a dispersant, polyiso-butyl methacrylate (i-BMA),
An organic binder composed of at least one of iso-propyl methacrylate (i-PMA), polymethyl methacrylate (MMA), polytetrafluoroethylene, or poly-α-methylstyrene (α-MeSt), or poly -Copolymer of α-methylstyrene and polyiso-butyl methacrylate, poly-α-methylstyrene, polyiso-
Of butyl methacrylate and polymethyl methacrylate copolymer, poly-α-methyl styrene and poly iso-propyl methacrylate copolymer, poly-α-methyl styrene, poly iso-propyl methacrylate and polymethyl methacrylate copolymer It is composed of a vehicle containing at least one or more as an organic binder. It is preferable to use at least one of copper, gold, and silver as the conductive metal powder. The organic binder preferably has a weight average molecular weight of 100,000 to 1,300. The amount of the organic binder is preferably 2 to 15% by weight based on the whole ink.

【0011】さらに厚膜パターンの基板への接着強度を
考えた場合、前記インキ中の遷移金属酸化物量はインキ
全体量に対して0.5〜2.0重量%の値が、前記イン
キ中のガラスフリット量はインキ全体量に対して3〜4
重量%の値が好ましい。また、厚膜パターンの基板への
接着強度を考えた場合、前記分散剤量としてはインキ全
体量に対して0.05〜5.0重量%の値が好ましい。
印刷パターンの直線性を考慮した場合、ビヒクルを構成
する有機溶媒量が全粉末量に対して重量比で0.04〜
0.18が好ましい。
Further, considering the adhesive strength of the thick film pattern to the substrate, the amount of the transition metal oxide in the ink is 0.5 to 2.0% by weight based on the total amount of the ink. The glass frit amount is 3 to 4 with respect to the total ink amount.
Weight% values are preferred. In consideration of the adhesive strength of the thick film pattern to the substrate, the amount of the dispersant is preferably 0.05 to 5.0% by weight based on the total amount of the ink.
When the linearity of the print pattern is considered, the amount of the organic solvent constituting the vehicle is 0.04 to 0.04 to the total amount of the powder.
0.18 is preferred.

【0012】[0012]

【作用】本発明は上記構成により、オフセット印刷に適
したインキの調製を可能とし、さらにオフセット印刷に
より、高精細のパターンを回路基板上に簡単に、しかも
従来のスクリーン印刷による方法よりもエッジの直線性
に優れ、スケ、欠け等の発生が少ない微細なパターンの
形成を可能とし、かつ精度の点からも高品質のパターン
が得られる点で有効である。
According to the present invention, the ink composition suitable for offset printing can be prepared by the above-described structure, and a high-definition pattern can be easily formed on a circuit board by offset printing. This is effective in that a fine pattern with excellent linearity and little occurrence of skein, chipping or the like can be formed, and a high-quality pattern can be obtained in terms of accuracy.

【0013】[0013]

【実施例】以下本発明の導電性厚膜パターンの形成方
法、ならびに導電性インキに関する一実施例について、
図面を参照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment relating to a method for forming a conductive thick film pattern of the present invention and a conductive ink will be described.
This will be described with reference to the drawings.

【0014】(第1図(a))は、インキの凹版への充
填方法の断面図である。(第1図(a))において10
1は凹版である。最初に、導電性インキ102を凹版1
01に滴下し、スクレーパー103で凹版の全面をかき
とり、凹部のみにインキを残す。
FIG. 1 (a) is a sectional view of a method for filling the intaglio with ink. (FIG. 1 (a))
1 is an intaglio. First, the conductive ink 102 is intaglio 1
No. 01, the entire surface of the intaglio is scraped off with a scraper 103, and ink is left only in the recesses.

【0015】(第1図(b))は、凹版からブランケッ
トへのパターンの転写方法の断面図である。(第1図
(b))において202は離型性の良好なゴム状弾性体
にて表面被覆されたブランケットである。ブランケット
は例えば、シリコーン樹脂・フッソ樹脂・ポリエチレン
樹脂等の中でシリコーン樹脂を主体としたゴム硬度30
〜60度(本発明中の硬度はすべて、JIS K−63
01,5−2,A形による。)の弾性体を5mm程度の
厚みで表面被覆したものでよい。203は前記ブランケ
ット202を凹版101に押しつけたことによりブラン
ケット上に形成されたパターンである。
FIG. 1 (b) is a cross-sectional view of a method of transferring a pattern from an intaglio to a blanket. In FIG. 1 (b), reference numeral 202 denotes a blanket whose surface is covered with a rubber-like elastic material having good releasability. The blanket is made of, for example, silicone resin, fluorine resin, polyethylene resin, etc.
~ 60 degrees (the hardness in the present invention is all JIS K-63
Depends on form 01,5-2, A. ) May be coated with a surface having a thickness of about 5 mm. Reference numeral 203 denotes a pattern formed on the blanket by pressing the blanket 202 against the intaglio 101.

【0016】(第1図(c))はブランケット上のパタ
ーンの基板への圧着転写方法の断面図である。302
は、ブランケット上のパターンを基板に圧着転写して得
られた所望のパターンである。凹版の凹部中のインキを
ブランケット上に転写する工程における転写圧力と、前
記ブランケット上に転写された導電性厚膜パターンを基
板上に転写印刷する工程における印刷圧力は2〜6kg
/cm2である。
FIG. 1 (c) is a cross-sectional view of a method for press-transferring a pattern on a blanket to a substrate. 302
Is a desired pattern obtained by pressure-transferring a pattern on a blanket onto a substrate. The transfer pressure in the step of transferring the ink in the recesses of the intaglio onto the blanket and the printing pressure in the step of transferring and printing the conductive thick film pattern transferred on the blanket onto the substrate are 2 to 6 kg.
/ Cm 2 .

【0017】以上(第1図(a))から(第1図
(c))に示す工程により基板上に所望のパターンを形
成した後に、厚膜組成中に含まれる溶剤分を蒸発除去さ
せる場合には、100〜150℃で10分間乾燥を行
う。続いて焼成、焼結は最高温度部での所用時間が10
分、全焼成時間が60分となるように電気炉をプログラ
ミングする。
When a desired pattern is formed on a substrate by the steps shown in FIGS. 1 (a) to 1 (c), the solvent contained in the thick film composition is removed by evaporation. Is dried at 100 to 150 ° C. for 10 minutes. Subsequently, firing and sintering are performed at the highest temperature for 10 minutes.
The electric furnace is programmed such that the total firing time is 60 minutes.

【0018】導電性金属粉末が焼成時に酸化される場合
には、非酸化性雰囲気工程で焼成を行い、酸素濃度が1
0ppm以下であり焼成温度は850〜975℃であ
る。また、酸化性雰囲気工程での焼成は、焼成温度は8
50〜975℃である。
When the conductive metal powder is oxidized at the time of firing, firing is performed in a non-oxidizing atmosphere step so that the oxygen concentration is 1%.
It is 0 ppm or less, and the firing temperature is 850 to 975 ° C. The firing temperature in the oxidizing atmosphere process is 8
50-975 ° C.

【0019】さらに導電性インキは、導電性金属粉末、
ガラスフリット、遷移金属酸化物、および分散剤と、ポ
リiso−ブチルメタクリレート、ポリiso−プロピルメタ
クリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリテトラフ
ルオロエチレン、またはポリ−α−メチルスチレンのう
ち少なくとも1種以上から構成される有機バインダを含
むビヒクルから構成される。さらに有機バインダが、ポ
リ−α−メチルスチレンと、ポリiso−ブチルメタクリ
レートの共重合体、好ましくは、ポリ−α−メチルスチ
レン5〜20重量%、ポリiso−ブチルメタクリレート
80〜95重量%の比からなる共重合体、または、ポリ
−α−メチルスチレン、ポリiso−ブチルメタクリレー
トと、ポリメチルメタクリレートの共重合体、好ましく
は、ポリ−α−メチルスチレン5〜20重量%、ポリis
o−ブチルメタクリレート55〜 75重量%、ポリメチ
ルメタクリレート20〜25重量%の比からなる共重合
体、またはポリ−α−メチルスチレンと、ポリiso−プ
ロピルメタクリレートの共重合体、好ましくはポリ−α
−メチルスチレン5〜20重量%、ポリiso−プロピル
メタクリレート80〜95重量%の比からなる共重合
体、または、ポリ−α−メチルスチレン、ポリiso−プ
ロピルメタクリレートと、ポリメチルメタクリレートの
共重合体、好ましくは、ポリ−α−メチルスチレン5〜
20重量%、ポリiso−プロピルメタクリレート55〜
75重量%、ポリメチルメタクリレート20〜25重量
%の比からなる共重合体より構成される。
Further, the conductive ink comprises a conductive metal powder,
Glass frit, a transition metal oxide, and a dispersant, polyiso-butyl methacrylate, polyiso-propyl methacrylate, polymethyl methacrylate, polytetrafluoroethylene, or at least one of poly-α-methylstyrene And a vehicle containing an organic binder. Further, the organic binder is a copolymer of poly-α-methylstyrene and polyiso-butyl methacrylate, preferably 5 to 20% by weight of poly-α-methylstyrene and 80 to 95% by weight of polyiso-butyl methacrylate. Or a copolymer of poly-α-methylstyrene, polyiso-butyl methacrylate and polymethyl methacrylate, preferably 5 to 20% by weight of poly-α-methylstyrene, polyisocyanate
A copolymer consisting of 55 to 75 % by weight of o-butyl methacrylate and 20 to 25% by weight of polymethyl methacrylate, or a copolymer of poly-α-methylstyrene and polyiso-propyl methacrylate, preferably poly-α
A copolymer consisting of 5 to 20% by weight of methylstyrene and 80 to 95% by weight of poly iso-propyl methacrylate, or a copolymer of poly-α-methyl styrene, poly iso-propyl methacrylate and polymethyl methacrylate , Preferably poly-α-methylstyrene 5-
20% by weight, poly iso-propyl methacrylate 55-55
It is composed of a copolymer having a ratio of 75 % by weight and 20 to 25% by weight of polymethyl methacrylate.

【0020】前記導電性金属粉末としては、銅、金、ま
たは銀のうち少なくとも1種以上を用いることが好まし
い。
It is preferable to use at least one of copper, gold and silver as the conductive metal powder.

【0021】また、前記インキ中の遷移金属酸化物とし
ては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化第二クロム、酸化カ
ドミウム、一酸化ニッケルのうち少なくとも1種以上か
ら構成されることが好ましい。前記ビヒクルを構成する
有機溶媒はα−テルピネオール、ブチルカルビトール、
ブチルカルビトールアセテート、2、2、4-トリメチル1-3-
ヒドロキシペンチルイソブチレート、2-ブトキシエタノ
ール、2-エトキシエタノールのうち少なくとも1種以上
から構成されることが好ましい。
The transition metal oxide in the ink is preferably composed of at least one of zinc oxide, titanium oxide, chromic oxide, cadmium oxide and nickel monoxide. The organic solvent constituting the vehicle is α-terpineol, butyl carbitol,
Butyl carbitol acetate, 2,2,4-trimethyl 1-3
It is preferable to be composed of at least one of hydroxypentyl isobutyrate, 2-butoxyethanol and 2-ethoxyethanol.

【0022】さらに、導電性インキはビヒクルを構成す
る有機溶媒量が3〜13重量%、ガラスフリット量が3
〜4重量%、遷移金属酸化物が0.5〜2.0重量%、
分散剤が0.05〜5.0重量%、導電性金属粉末が7
8〜86重量%の値から構成されることが好ましい。ま
た、導電性金属粉末の平均粒径は0.05〜3.0μm
であることが好ましい。
The conductive ink has an organic solvent content of 3 to 13% by weight and a glass frit content of 3% by weight.
~ 4 wt%, transition metal oxide 0.5 ~ 2.0 wt%,
The dispersant is 0.05 to 5.0% by weight, and the conductive metal powder is 7%.
Preferably, it comprises a value of from 8 to 86% by weight. The average particle size of the conductive metal powder is 0.05 to 3.0 μm.
It is preferred that

【0023】以下、一実施例を用いて具体的な説明をす
る。実施例1セラミック3本ロールを用い、下記組成の
ミルベースを6回通して練肉し、銅インキを作成した。
Hereinafter, a specific description will be given using an embodiment. Example 1 Using a three-roll ceramic roll, a mill base having the following composition was passed through the mill six times to prepare a copper ink.

【0024】 ・銅(平均粒径1.0μm) ・・79(重量部) ・ガラスフリット(日本電気硝子株式会社製,GA−9) ・・ 3 ・酸化亜鉛(関東化学株式会社製) ・・ 1 ・i-BMA,α-MeSt樹脂(積水化成品工業株式会社製、IBS−6)・・10 重量平均分子量 4750 ・溶剤(関東化学株式会社製、ブチルカルビトールアセテート) ・・6.6 ・分散剤(ポリオキシエチレンアルキル(またはアルキルアリ ・・0.4 ル)のリン酸エステル) 上記の銅インキを用いて、アルミナ基板上に幅85,6
0,42,34,18μm、高さ4μmのパターンを印
刷した。以下に、印刷方法を示す。凹版は幅100,7
5,50,40,30μm、版の深さ13.5μmのパ
ターンをガラスにエッチングしたものを用い、上記銅イ
ンキを凹版上に滴下し、セラミック製のスクレーパーに
て凹版の全面をかきとり、版の凹部のみに銅インキを残
し、シリコーンゴム(JIS K−6301,5−2,
A形ゴム硬度で35度)で5mmの肉厚で表面被覆され
たブランケットを圧着し回転させて前記ブランケット上
にパターンを転写した。このときの印圧は5kg/cm
2で行った。さらに、前記パターンを形成したブランケ
ットを被転写体に圧着し回転させて被転写体上にパター
ンを転写した。得られたパターンは、直線性が良好で、
スケや欠け等の無い高品質のものであった。
Copper (average particle size: 1.0 μm) 79 (parts by weight) Glass frit (GA-9, manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) 3 Zinc oxide (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) 1 ・ i-BMA, α-MeSt resin (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., IBS-6) ・ ・ 10 Weight average molecular weight 4750 ・ Solvent (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., butyl carbitol acetate) ・ ・ 6.6 ・Dispersant (phosphate ester of polyoxyethylene alkyl (or alkyl aryl 0.4)) Using the copper ink described above, a 85, 6
A pattern of 0, 42, 34, 18 μm and a height of 4 μm was printed. The printing method will be described below. Intaglio is 100,7 width
Using a pattern obtained by etching a pattern of 5, 50, 40, 30 μm and a plate depth of 13.5 μm on glass, the copper ink was dropped on the intaglio, and the entire surface of the intaglio was scraped off with a ceramic scraper. The copper ink is left only in the concave portions, and silicone rubber (JIS K-6301, 5-2,
A blanket having a thickness of 5 mm and a thickness of 35 mm (A type rubber hardness) was pressure-bonded and rotated to transfer a pattern onto the blanket. The printing pressure at this time is 5 kg / cm
2 went. Further, the blanket on which the pattern was formed was pressed against the object to be transferred and rotated to transfer the pattern onto the object to be transferred. The resulting pattern has good linearity,
It was of high quality with no invisibility or chipping.

【0025】ブランケットを表面被覆しているシリコー
ンゴムの硬度がタンポ印刷の様に非常に低い場合は(1
0度以下)、ゴム状弾性体の変形量が大きくなり凹版パ
ターンの忠実な再現ができなくなり、あまりに硬いとブ
ランケットとインキとの接触が悪くなり忠実なパターン
の再現が出来なくなった。表面被覆用の弾性体の硬度と
してJISゴム硬度の20度以上、望ましくは30〜6
0度の範囲のゴム硬度が最適であった。また印刷圧力が
低い場合(2Kg/cm2以下)では、ブランケットへ
のインキの転写量が少なくなり、印圧が大きい場合(6
Kg/cm2以上)では、ゴム状弾性体の変形量が大き
くなり凹版パターンの忠実な再現が出来なかった。印刷
圧力としては2〜6kg/cm2の範囲の圧力が最適で
あった。
If the hardness of the silicone rubber covering the blanket is very low, as in tampo printing, (1)
(Less than 0 degrees), the deformation amount of the rubber-like elastic body became large, and faithful reproduction of the intaglio pattern could not be performed. If it was too hard, the contact between the blanket and the ink became poor, and the faithful pattern could not be reproduced. The hardness of the elastic body for surface coating is 20 degrees or more of JIS rubber hardness, preferably 30 to 6 degrees.
Rubber hardness in the range of 0 degrees was optimal. When the printing pressure is low (2 kg / cm 2 or less), the amount of ink transferred to the blanket is small, and when the printing pressure is high (6 kg / cm 2 ).
(Kg / cm 2 or more), the amount of deformation of the rubber-like elastic body was large, and faithful reproduction of the intaglio pattern was not possible. As the printing pressure, a pressure in the range of 2 to 6 kg / cm 2 was optimal.

【0026】実施例2セラミック3本ロールを用いて、
下記組成のミルベースを6回通して練肉し銅インキを作
成した。
Example 2 Using three ceramic rolls,
The mixture was passed through a mill base having the following composition six times to prepare a copper ink.

【0027】 ・銅(平均粒径2.0μm) ・・79(重量部) ・ガラスフリット(日本電気硝子株式会社製,GA−9) ・・ 3 ・酸化亜鉛(関東化学株式会社製) ・・ 1 ・i-BMA,α-MeSt,MMA樹脂(積水化成品工業株式会社製、 ・・7.5 IBS−3)重量平均分子量 87340 ・溶剤(関東化学株式会社製、ブチルカルビトールアセテート)・・9.1 ・分散剤(ポリオキシエチレンアルキル(またはアル ・・0.4 キルアリル)のリン酸エステル) 実施例1と同じ凹版を用いて、実施例1と同様のグラビ
アオフセット方式により、アルミナ基板上に銅ファイン
パターンを印刷した。印刷されたパターンは、直線性、
膜厚精度共に良好であった。続いて基板上に印刷した銅
厚膜パターンを120℃で10分間乾燥させ、厚膜組成
中に含まれる溶剤分を蒸発除去させた。さらに窒素を用
いて、銅が酸化されないように酸素濃度が10ppm以
下である非酸化性雰囲気中で、有機バインダを完全に焼
失させるために高温保持部の温度を920℃に保った電
気炉で焼成を行った。焼成条件は、最高温度部での所要
時間が10分、全焼成時間が60分となるようにプログ
ラミングを設定した。この結果、印刷適正を持たせるた
めに含まれている有機ポリマ−が温度上昇と共に分解
し、エッジの直線性に優れ、スケ、欠けなどの発生が少
ない銅厚膜パターンを得ることが出来た。また剥離試験
にも耐えることができ、8〜15mΩ/□のシート抵抗
値であった。
Copper (average particle size 2.0 μm) 79 (parts by weight) Glass frit (GA-9, manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) 3 Zinc oxide (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) 1 ・ i-BMA, α-MeSt, MMA resin (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., 7.5 IBS-3) weight average molecular weight 87340 ・ Solvent (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., butyl carbitol acetate) 9.1 Dispersant (phosphate ester of polyoxyethylene alkyl (or alkyl 0.4 alkyl allyl)) On the alumina substrate by the same gravure offset method as in Example 1 using the same intaglio as in Example 1. Was printed with a copper fine pattern. The printed pattern is linear,
The film thickness accuracy was good. Subsequently, the copper thick film pattern printed on the substrate was dried at 120 ° C. for 10 minutes to remove the solvent contained in the thick film composition by evaporation. Further, using nitrogen, in a non-oxidizing atmosphere having an oxygen concentration of 10 ppm or less so that copper is not oxidized, firing in an electric furnace in which the temperature of the high-temperature holding unit is maintained at 920 ° C. in order to completely burn off the organic binder. Was done. The firing conditions were set so that the required time at the highest temperature part was 10 minutes and the total firing time was 60 minutes. As a result, the organic polymer contained in order to maintain printability was decomposed with an increase in temperature, and a copper thick film pattern having excellent edge linearity and less occurrence of scars and chips could be obtained. Further, it was able to withstand the peeling test, and had a sheet resistance value of 8 to 15 mΩ / □.

【0028】(第2図)には実施例1、および実施例2
で用いた銅インキの有機バインダ量を変化させた場合
の、全インキ量に対する有機バインダの重量百分率と、
銅インキの被転写体への転写量曲線(ブランケットへ転
写したインキ量の、凹版の凹部に充填したインキ量に対
する重量比率)、401および402を現すグラフを示
す。この時、転写量が多い領域は有機バインダ重量百分
率が2〜15重量%の範囲であり、最も転写量が多い領
域は有機バインダ重量百分率が2〜10重量%の範囲で
あった。
(FIG. 2) shows the first embodiment and the second embodiment.
When the amount of the organic binder of the copper ink used in was changed, the weight percentage of the organic binder with respect to the total amount of the ink,
4 is a graph showing curves 401 and 402 showing a transfer amount curve (weight ratio of the amount of the ink transferred to the blanket to the amount of the ink filled in the concave portions of the intaglio) of the transfer amount of the copper ink to the transfer object. At this time, the region where the amount of transfer was large was in the range of 2 to 15% by weight of the organic binder, and the region where the amount of transfer was the largest was in the range of 2 to 10% by weight of the organic binder.

【0029】(第3図)には、有機バインダの重量平均
分子量と、銅インキの被転写体への転写量曲線(ブラン
ケットへ転写したインキ量の、凹版の凹部に充填したイ
ンキ量に対する重量比率)301を現すグラフを示す。
この時、転写量が多い領域は有機バインダの重量平均分
子量が1300〜10万の範囲であり、最も転写量が多
い領域は有機バインダの重量平均分子量が1300〜4
万の範囲であった。
FIG. 3 shows the weight average molecular weight of the organic binder and the curve of the transfer amount of the copper ink to the object (the weight ratio of the amount of the ink transferred to the blanket to the amount of the ink filled in the recesses of the intaglio). 3) shows a graph representing 301.
At this time, the region with a large amount of transfer has a weight average molecular weight of the organic binder in the range of 1300 to 100,000, and the region with the largest amount of transfer has a weight average molecular weight of the organic binder of 1300 to 4
Was in the range of 10,000.

【0030】なお、図には導電性金属粉末が銅の場合の
みを示したが、他の導電性金属粉末についても同様の結
果であった。
Although the figure shows only the case where the conductive metal powder is copper, similar results were obtained with other conductive metal powders.

【0031】実施例3セラミック3本ロールを用い、下
記組成のミルベースを6回通して練肉し、金インキを作
成した。
Example 3 Using a three ceramic roll, a mill base having the following composition was passed through the mill six times to prepare a gold ink.

【0032】 ・金(平均粒径1.0μm) ・・79(重量部) ・ガラスフリット(日本電気硝子株式会社製,GA−9) ・・ 3 ・酸化亜鉛(関東化学株式会社製) ・・ 1 ・i-PMA,α-MeSt樹脂(積水化成品工業株式会社製、B−12) ・・ 9 重量平均分子量 1306 ・溶剤(関東化学株式会社製、ブチルカルビトールアセテート) ・・7.6 ・分散剤(ポリオキシエチレンアルキル(またはアル ・・0.4 キルアリル)のリン酸エステル) 上記の金インキを用いて、実施例1と同じ凹版を用い
て、実施例1と同様のグラビアオフセット方式により、
アルミナ基板上に幅85,60,42,34,18μ
m、高さ4μmのパターンを印刷した。得られたパター
ンは、直線性が良好で、スケや欠け等の無い高品質のも
のであった。さらに、実施例2と同一の非酸化性雰囲
気、焼成条件で金厚膜パターンを得た。剥離試験にも耐
えることができ、11〜21mΩ/□のシート抵抗値で
あった。
Gold (average particle size: 1.0 μm) 79 (parts by weight) Glass frit (GA-9, manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) 3 Zinc oxide (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) 1 i-PMA, α-MeSt resin (B-12, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 9 Weight average molecular weight 1306 Solvent (butyl carbitol acetate, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) 7.6 Dispersant (phosphate ester of polyoxyethylene alkyl (or alkyl 0.4 alkyl allyl)) Using the above gold ink and the same intaglio as in Example 1, by the same gravure offset method as in Example 1. ,
85,60,42,34,18μ width on alumina substrate
m, a pattern having a height of 4 μm was printed. The obtained pattern had good linearity and was of high quality without any invisibility or chipping. Further, a gold thick film pattern was obtained under the same non-oxidizing atmosphere and firing conditions as in Example 2. The sheet resistance was able to withstand the peeling test, and the sheet resistance was 11 to 21 mΩ / □.

【0033】実施例4実施例1と同じ凹版を用いて、実
施例3と同じ金インキで、実施例1と同様のグラビアオ
フセット方式により、アルミナ基板上に金ファインパタ
ーンを印刷した。印刷されたパターンは、直線性、膜厚
精度共に良好であった。続いて基板上に印刷した金厚膜
パターンを120℃で10分間乾燥させ、厚膜組成中に
含まれる溶剤分を蒸発除去させた。さらに空気中で、高
温保持部の温度を850℃に保った電気炉で焼成を行っ
た。焼成条件は、最高温度部での所要時間が10分、全
焼成時間が60分となるようにプログラミングを設定し
た。この結果、印刷適正を持たせるために含まれている
有機ポリマ−が温度上昇と共に分解し、エッジの直線性
に優れ、スケ、欠けなどの発生が少ない金厚膜パターン
を得ることが出来た。また剥離試験にも耐えることがで
き、非酸化性雰囲気中で焼成した場合と同程度の13〜
22mΩ/□のシート抵抗値であった。
Example 4 Using the same intaglio as in Example 1, a gold fine pattern was printed on an alumina substrate by the same gravure offset method as in Example 1 using the same gold ink as in Example 3. The printed pattern was good in both linearity and film thickness accuracy. Subsequently, the gold thick film pattern printed on the substrate was dried at 120 ° C. for 10 minutes to remove the solvent contained in the thick film composition by evaporation. Further, firing was performed in an electric furnace in which the temperature of the high-temperature holding section was maintained at 850 ° C. in air. The firing conditions were set so that the required time at the highest temperature part was 10 minutes and the total firing time was 60 minutes. As a result, the organic polymer contained in order to make it printable was decomposed with an increase in temperature, and a gold thick film pattern with excellent edge linearity and less occurrence of scars, chips, etc. could be obtained. In addition, it can withstand a peeling test, and has the same degree as 13 to 13 when fired in a non-oxidizing atmosphere.
The sheet resistance was 22 mΩ / □.

【0034】実施例5セラミック3本ロールを用いて、
下記組成のミルベースを6回通して練肉し銀インキを作
成した。
Example 5 Using a three ceramic roll,
The mixture was milled through a mill base having the following composition six times to prepare a silver ink.

【0035】 ・銀(平均粒径2.0μm) ・・79(重量部) ・ガラスフリット(日本電気硝子株式会社製,GA−9) ・・ 3 ・酸化亜鉛(関東化学株式会社製) ・・ 1 ・i-BMA,α-MeSt,MMA樹脂(積水化成品工業株式会社製、 ・・10 IBM7L−3)重量平均分子量 32060 ・溶剤(関東化学株式会社製、ブチルカルビトールアセテート) ・・6.6 ・分散剤(ポリオキシエチレンアルキル(またはアル ・・0.4 キルアリル)のリン酸エステル) 実施例1と同じ凹版を用いて、実施例1と同様のグラビ
アオフセット方式により、アルミナ基板上に幅85,6
0,42,34,18μm、高さ3μmの銀ファインパ
ターンを印刷した。印刷されたパターンは、直線性、膜
厚精度共に良好であった。続いて基板上に印刷した銀厚
膜パターンを、実施例2と同一の非酸化性雰囲気条件で
焼結を行った。この結果、印刷適正を持たせるために含
まれている有機ポリマ−が温度上昇と共に分解し、エッ
ジの直線性に優れ、スケ、欠けなどの発生が少ない銀厚
膜パターンを得ることが出来た。また剥離試験にも耐え
ることができ、7.5〜14.5mΩ/□のシート抵抗
値であった。
Silver (average particle size 2.0 μm) 79 (parts by weight) Glass frit (GA-9, manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) 3 Zinc oxide (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) 1 ・ i-BMA, α-MeSt, MMA resin (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.,... 10 IBM7L-3) weight average molecular weight 32060 ・ Solvent (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., butyl carbitol acetate) ・ ・ 6. 6-Dispersant (phosphate ester of polyoxyethylene alkyl (or alkyl 0.4 alkyl allyl)) Using the same intaglio as in Example 1, a gravure offset method similar to that in Example 1 was used to form a width on an alumina substrate. 85,6
A silver fine pattern of 0, 42, 34, 18 μm and a height of 3 μm was printed. The printed pattern was good in both linearity and film thickness accuracy. Subsequently, the silver thick film pattern printed on the substrate was sintered under the same non-oxidizing atmosphere conditions as in Example 2. As a result, the organic polymer contained in order to make it printable was decomposed with an increase in temperature, and a silver thick film pattern having excellent edge linearity and less occurrence of scars and chips could be obtained. Further, the sheet resistance was able to withstand the peeling test, and the sheet resistance was 7.5 to 14.5 mΩ / □.

【0036】実施例6 実施例1と同じ凹版を用いて、実施例5と同じ銀インキ
で、実施例1と同様のグラビアオフセット方式により、
アルミナ基板上に銀ファインパターンを印刷した。さら
に、実施例4と同一の条件で乾燥、焼成を行った。
Example 6 Using the same intaglio as in Example 1, using the same silver ink as in Example 5, and using the same gravure offset method as in Example 1,
A silver fine pattern was printed on an alumina substrate. Further, drying and firing were performed under the same conditions as in Example 4.

【0037】この結果、印刷適正を持たせるために含ま
れている有機ポリマ−が温度上昇と共に分解し、エッジ
の直線性に優れ、スケ、欠けなどの発生が少ない銀厚膜
パターンを得ることが出来た。また剥離試験にも耐える
ことができ、非酸化性雰囲気中で焼成した場合と同程度
の10〜16mΩ/□のシート抵抗値であった。
As a result, it is possible to obtain a silver thick film pattern which is excellent in linearity of the edge and has few occurrences of skein, chipping, etc., by decomposing the organic polymer contained for imparting printability with increasing temperature. done. Further, the sheet resistance was able to withstand the peeling test, and the sheet resistance value was about 10 to 16 mΩ / □, which was almost the same as that when baked in a non-oxidizing atmosphere.

【0038】実施例7 セラミック3本ロールを用い、下記組成のミルベースを
6回通して練肉し、銅インキを作成した。
Example 7 A three-roll ceramic roll was used to pass through a mill base having the following composition six times to prepare a copper ink.

【0039】 ・銅(平均粒径0.05μm) ・・79(重量部) ・ガラスフリット(日本電気硝子株式会社製,GA−9) ・・ 3 ・酸化亜鉛(関東化学株式会社製) ・・ 1 ・i-BMA,α-MeSt樹脂(積水化成品工業株式会社製、IBS−6)・・ 8 重量平均分子量 4750 ・溶剤(関東化学株式会社製、ブチルカルビトールアセテート) ・・8.6 ・分散剤(ポリオキシエチレンアルキル(またはアル ・・0.4 キルアリル)のリン酸エステル) 実施例1と同じ凹版を用いて、実施例1と同様のグラビ
アオフセット方式により、アルミナ基板上に銅ファイン
パターンを印刷した。続いて実施例2と同様の条件によ
り焼成を行った。この結果、エッジの直線性に優れ、ス
ケ、欠けなどの発生が少ない銅厚膜パターンを得ること
が出来た。また剥離試験にも耐えることができ、6〜1
3mΩ/□のシート抵抗値であった。平均粒径の小さい
粉末を使用することによりシート抵抗値が減少する。実
施例7では銅粉末について例を示したが、金、銀粉末、
及び混合物でも問題はない。
Copper (average particle size: 0.05 μm) 79 (parts by weight) Glass frit (GA-9, manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) 3 Zinc oxide (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) 1 ・ i-BMA, α-MeSt resin (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., IBS-6) ・ ・ 8 Weight average molecular weight 4750 ・ Solvent (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., butyl carbitol acetate) ・ ・ 8.6 Dispersant (phosphate ester of polyoxyethylene alkyl (or alkyl 0.4 alkyl allyl)) Using the same intaglio as in Example 1, a gravure offset method similar to that of Example 1 was used to form a copper fine pattern on an alumina substrate. Was printed. Subsequently, baking was performed under the same conditions as in Example 2. As a result, it was possible to obtain a copper thick film pattern which was excellent in the linearity of the edge and in which there were few occurrences of scars and chips. In addition, it can withstand the peeling test,
The sheet resistance was 3 mΩ / □. By using a powder having a small average particle size, the sheet resistance value is reduced. Example 7 shows an example of copper powder, but gold, silver powder,
And mixtures are no problem.

【0040】なお、樹脂として実施例1、7においてポ
リiso−ブチルメタクリレート(i-BMA)と、ポリ−α−
メチルスチレン(α-MeSt)の共重合品を用い、実施例
2,5,6においてポリiso−ブチルメタクリレート(i
-BMA)、ポリ−α−メチルスチレン(α-MeSt)と、ポ
リメチルメタクリレート(MMA)の共重合品を用い、実
施例3,4においてポリiso−プロピルメタクリレート
(i-PMA)と、ポリ−α−メチルスチレン(α-MeSt)の
共重合品を用いたが、それぞれ単体で用いても、また共
重合品を混合してもよい。
In Examples 1 and 7, poly-iso-butyl methacrylate (i-BMA) and poly-α-
Using a copolymer of methylstyrene (α-MeSt), polyiso-butyl methacrylate (i
-BMA), a copolymer of poly-α-methylstyrene (α-MeSt) and polymethyl methacrylate (MMA), and polyiso-propyl methacrylate (i-PMA) Although the copolymerized product of α-methylstyrene (α-MeSt) was used, it may be used alone or a copolymerized product may be mixed.

【0041】さらにポリiso−プロピルメタクリレート
(i-PMA)、ポリテトラフルオロエチレン、ポリiso−プ
ロピルメタクリレート(i-PMA)とポリ−α−メチルス
チレン(α-MeSt)とポリメチルメタクリレート(MMA)
の共重合品を用いることも可能である。もちろん樹脂相
互の相溶性、溶媒中への溶解量を鑑みての上である。し
かし、通常の一般的なアクリル樹脂(例えばポリn-ブチ
ルメタクリレート)では飛散性が悪く使用に耐えなかっ
た。さらに顔料分散を良好にするためグリシジルメタク
リレート等を5%以内で共重合したものも用いることが
可能である。しかし、前記樹脂中には少なくとも5〜2
0重量%のα−メチルスチレンを含むことが必要であ
り、この範囲を越える領域、あるいはアクリル樹脂だけ
では樹脂の飛散性が悪く、形成した導電性厚膜パターン
のシート抵抗値は高かった。また、アクリル樹脂として
ポリメチルメタクリレートを使用する際には、20〜2
5重量%であることが望ましい。この範囲を越える領域
では、インキの印刷性が悪く、樹脂の飛散性も悪くな
る。加えて、前記樹脂の平均分子量が10万以上の分子
量ではインキ粘度が高くなり印刷に不適となり、130
0未満では、焼成時における飛散性が悪化する。つま
り、前記樹脂の平均分子量は10万〜1300が好まし
く、最も好ましい平均分子量は(第3図)で示したよう
に4万〜1300であった。前記樹脂の含有量としては
インキ全体に対して15重量%以上ではインキ粘度が高
くなりなり印刷に不適となり、2重量%未満では逆にイ
ンキ粘度が低くなり印刷に不適であった。つまり前記樹
脂の含有量がインキ全体に対して2〜15重量%が好ま
しく、最も好ましいのは(第2図)で示したように含有
量がインキ全体に対して2〜10重量%であった。
Further, poly-iso-propyl methacrylate (i-PMA), polytetrafluoroethylene, poly-iso-propyl methacrylate (i-PMA), poly-α-methylstyrene (α-MeSt) and polymethyl methacrylate (MMA)
It is also possible to use a copolymerized product of the above. Of course, this is because the compatibility between the resins and the amount of the resin dissolved in the solvent are taken into consideration. However, ordinary general acrylic resins (for example, poly n-butyl methacrylate) have poor scattering properties and cannot be used. In order to further improve the pigment dispersion, glycidyl methacrylate or the like copolymerized within 5% can be used. However, at least 5-2
It was necessary to contain 0% by weight of α-methylstyrene, and if the area exceeded this range, or the acrylic resin alone was used, the resin was not easily dispersed, and the formed conductive thick film pattern had a high sheet resistance. When polymethyl methacrylate is used as the acrylic resin, 20 to 2
Desirably, it is 5% by weight. In a region exceeding this range, the printability of the ink is poor, and the scattering property of the resin is also poor. In addition, when the average molecular weight of the resin is 100,000 or more, the viscosity of the ink becomes high and the ink becomes unsuitable for printing.
If it is less than 0, the scattering property at the time of firing deteriorates. That is, the average molecular weight of the resin was preferably 100,000 to 1300, and the most preferable average molecular weight was 40,000 to 1300 as shown in FIG. When the content of the resin is 15% by weight or more with respect to the whole ink, the ink viscosity becomes high and becomes unsuitable for printing, and when it is less than 2% by weight, the ink viscosity becomes low and it becomes unsuitable for printing. That is, the content of the resin is preferably 2 to 15% by weight based on the whole ink, and most preferably the content is 2 to 10% by weight based on the whole ink as shown in FIG. .

【0042】導電性金属粉末として、実施例1,2,7
では銅を、実施例3,4では金を実施例5,6では銀を
用いたが、これらに限定されるものではなく、銅粉末を
実施例3,5で、金粉末を実施例1,2,5,6,7
で、銀粉末を実施例1,2,3,4,7で用いてもよ
く、また導電性金属粉末を混合して用いることも可能で
ある。
Examples 1, 2, 7 as the conductive metal powder
Although copper was used in Examples 3 and 4 and gold was used in Examples 3 and 4, silver was used in Examples 5 and 6. However, the present invention is not limited thereto. Copper powder was used in Examples 3 and 5, and gold powder was used in Examples 1 and 2. 2,5,6,7
Thus, silver powder may be used in Examples 1, 2, 3, 4, and 7, or a mixture of conductive metal powder may be used.

【0043】これらの導電性金属粉末はインキ全体に対
して78〜86重量%であることが好ましい。この範囲
よりも小さい場合には、焼成後の厚膜が緻密でない。こ
の範囲よりも大きい場合にはインキの粘度が大きくなり
印刷に不適である。さらに導電性金属粉末の平均粒径
は、0.05〜3.0μmであることが好ましい。0.
05μmよりも平均粒径が小さい場合には、粒子全体の
表面積が大きくなりインキ中のビヒクル量を増加させな
ければならず、導電性金属の含有率が低下する。3.0
μmよりも大きい場合には、焼成が緻密に行われないた
めにシート抵抗値が大きくなる問題がある。
The content of these conductive metal powders is preferably 78 to 86% by weight based on the whole ink. If it is smaller than this range, the thick film after firing is not dense. If it is larger than this range, the viscosity of the ink increases, which is unsuitable for printing. Further, the average particle size of the conductive metal powder is preferably 0.05 to 3.0 μm. 0.
When the average particle size is smaller than 05 μm, the surface area of the whole particles becomes large and the amount of the vehicle in the ink must be increased, and the content of the conductive metal decreases. 3.0
When it is larger than μm, there is a problem that the sheet resistance value becomes large because the firing is not performed densely.

【0044】ビヒクルを構成する有機溶媒として実施例
1,2,3,4,5,6,7においてはブチルカルビト
ールアセテートを用いたが、これらに限定されるもので
はなく、α−テルピネオール、ブチルカルビトール、2、
2、4-トリメチル1-3-ヒドロキシペンチルイソブチレー
ト、2-ブトキシエタノール、2-エトキシエタノールを、
それぞれ単体あるいは混合して用いてもよく、印刷条
件、乾燥条件にあわせ用いることが可能である。
In Examples 1, 2, 3, 4, 5, 6, and 7, butyl carbitol acetate was used as the organic solvent constituting the vehicle. However, the present invention is not limited to these, and α-terpineol, butyl Carbitol, 2,
2,4-trimethyl 1-3-hydroxypentyl isobutyrate, 2-butoxyethanol, 2-ethoxyethanol,
Each of them may be used alone or in combination, and can be used according to printing conditions and drying conditions.

【0045】また、遷移金属酸化物として実施例1,
2,3,4,5,6,7においては酸化亜鉛を用いた
が、これらに限定されるものではなく、酸化チタン、酸
化第二クロム、酸化カドミウム、一酸化ニッケルを、そ
れぞれ単体あるいは混合して用いてもよく印刷条件、乾
燥条件にあわせ用いることが可能である。前記遷移金属
酸化物の含有量がインキ全体量に対して0.5重量%未
満では、焼成した厚膜の基板への接着強度が低くわずか
な外力を加えただけでも剥離した。好ましい含有量はイ
ンキ全体量に対して0.5〜2.0重量%であり、この
時には剥離試験にも十分耐える結果であった。
The transition metal oxides of Examples 1 and 2
Zinc oxide was used in 2,3,4,5,6,7, but is not limited to these, and titanium oxide, chromic oxide, cadmium oxide, and nickel monoxide may be used alone or as a mixture. It may be used in accordance with printing conditions and drying conditions. When the content of the transition metal oxide was less than 0.5% by weight with respect to the total amount of the ink, the adhesive strength of the fired thick film to the substrate was low, and the film was peeled off even when a slight external force was applied. The preferred content is 0.5 to 2.0% by weight based on the total amount of the ink, and at this time, the result is that the film sufficiently withstands the peeling test.

【0046】ガラスフリット量としては、インキ全体量
に対して3〜4重量%が好ましい。3重量%未満では、
焼成した厚膜の基板への接着強度が低くわずかな外力を
加えただけでも剥離した。
The glass frit amount is preferably 3 to 4% by weight based on the total amount of the ink. If it is less than 3% by weight,
The adhesive strength of the fired thick film to the substrate was low, and the film was peeled off even when a slight external force was applied.

【0047】さらに、分散剤量がインキ全体量に対して
0.05重量%未満では、インキの分散性が悪いために
保存安定性に欠け、5.0重量%以上では焼成後の厚膜
パターン中に残留する量が多くなりシート抵抗値が高く
なった。つまり前記分散剤の含有量がインキ全体に対し
て0.05〜5.0重量%の値であることが望ましい。
When the amount of the dispersant is less than 0.05% by weight based on the total amount of the ink, the storage stability is poor due to poor dispersibility of the ink. The amount remaining in the sheet increased, and the sheet resistance increased. That is, the content of the dispersant is desirably 0.05 to 5.0% by weight based on the whole ink.

【0048】また、非酸化性雰囲気における焼成におい
て、酸素濃度が10ppm以上の場合には、有機物が飛
散する過程において酸素の影響が大きく、導電性厚膜中
の残留炭素、残留酸素濃度は酸化性雰囲気での焼成と同
水準となった。従って酸素濃度が10ppm以上では、
シート抵抗値が酸化性雰囲気での焼成と同じ値となり、
酸素濃度が10ppm以下の場合のシート抵抗値と比較
して2mΩ/□程度大きくなった。つまり、非酸化性雰
囲気の焼成では酸素濃度が10ppm以下の値であるこ
とが望ましい。さらに、銅インキの焼成は通常非酸化性
雰囲気で行われるので、非酸化性雰囲気で当発明の銀イ
ンキあるいは金インキと、銅インキを共存させることが
出来る。
In the firing in a non-oxidizing atmosphere, when the oxygen concentration is 10 ppm or more, the effect of oxygen is large in the process of scattering organic substances, and the residual carbon and the residual oxygen concentration in the conductive thick film are oxidizing. It was the same level as firing in the atmosphere. Therefore, when the oxygen concentration is 10 ppm or more,
The sheet resistance value becomes the same value as firing in an oxidizing atmosphere,
The sheet resistance was increased by about 2 mΩ / □ as compared with the sheet resistance when the oxygen concentration was 10 ppm or less. That is, it is desirable that the oxygen concentration be 10 ppm or less when firing in a non-oxidizing atmosphere. Furthermore, since the baking of the copper ink is usually performed in a non-oxidizing atmosphere, the silver or gold ink of the present invention and the copper ink can coexist in a non-oxidizing atmosphere.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上のように本発明は、オフセット印刷
を用いて印刷パターンを形成すること、及び、非酸化性
雰囲気、あるいは酸化性雰囲気で焼成して有機物を飛散
することを特徴としており、従来のスクリーン印刷によ
る方法よりもエッジの直線性に優れ、スケ、欠け等の発
生が少ない微細なパターンの形成を可能とする点、およ
び、導電性金属粉末、ガラスフリット、遷移金属酸化
物、分散剤と、有機バインダを含むビヒクルから構成さ
れる上記印刷法に適した導電性インキの調製を可能とす
る点で有効である。
As described above, the present invention is characterized in that a printing pattern is formed by using offset printing, and that organic substances are scattered by firing in a non-oxidizing atmosphere or an oxidizing atmosphere. It is superior to the conventional screen printing method in terms of edge linearity and enables formation of fine patterns with less occurrence of skein, chipping, etc., and conductive metal powder, glass frit, transition metal oxide, dispersion This is effective in that it allows the preparation of a conductive ink suitable for the above printing method, which is composed of an agent and a vehicle containing an organic binder.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)インキの凹版への充填方法の断面図であ
る。 (b)凹版からブランケットへのパターンの転写方法の
断面図である。 (c)ブランケット上のパターンの基板への圧着転写方
法の断面図である。
FIG. 1A is a cross-sectional view of a method of filling an intaglio with an ink. (B) It is sectional drawing of the transfer method of the pattern from an intaglio to a blanket. (C) It is sectional drawing of the press-fitting transfer method of the pattern on a blanket to a board | substrate.

【図2】実施例1、および実施例2における全インキ量
に対する有機バインダ重量百分率と銅インキの被転写体
への転写量曲線を現すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing a curve of an organic binder weight percentage with respect to a total ink amount and a transfer amount curve of a copper ink to a transfer body in Example 1 and Example 2.

【図3】有機バインダの重量平均分子量と銅インキの被
転写体への転写量曲線を現すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing a curve of a weight average molecular weight of an organic binder and a transfer amount curve of a copper ink to a transfer object.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 凹版 102 導電性インキ 103 スクレーパー 202 ブランケット 203 ブランケット上に形成されたパターン 301 基板 302 基板上に転写されたパターン 401 実施例1の転写量曲線 402 実施例2の転写量曲線 501 転写量曲線 Reference Signs List 101 Intaglio 102 Conductive ink 103 Scraper 202 Blanket 203 Pattern formed on blanket 301 Substrate 302 Pattern transferred onto substrate 401 Transfer amount curve of Example 1 402 Transfer amount curve of Example 2 501 Transfer amount curve

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C09D 11/10 H05K 1/09 H01B 1/16 Continuation of the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) C09D 11/10 H05K 1/09 H01B 1/16

Claims (18)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 導電性金属粉末、ガラスフリット、遷移
金属酸化物、および分散剤と、ポリ−α−メチルスチレ
ンとポリiso−ブチルメタクリレートの共重合体、ポリ
−α−メチルスチレンとポリiso−ブチルメタクリレー
トとポリメチルメタクリレートの共重合体、ポリ−α−
メチルスチレンとポリiso−プロピルメタクリレートの
共重合体、ポリ−α−メチルスチレンとポリiso−プロ
ピルメタクリレートとポリメチルメタクリレートの共重
合体のうち少なくとも1種類以上から構成され、かつ重
量平均分子量が10万〜1300である有機バインダを
含むビヒクルから構成される導電性インキ。
1. A conductive metal powder, a glass frit, a transition metal oxide, and a dispersant, and poly-α-methylstyrene.
Copolymer of polyiso-butyl methacrylate and poly
-Α-methylstyrene and polyiso-butyl methacrylate
Copolymer of polymethyl methacrylate and poly-α-
Methyl styrene and poly iso-propyl methacrylate
Copolymer, poly-α-methylstyrene and polyiso-pro
Co-polymerization of pill methacrylate and polymethyl methacrylate
Composed of at least one of
A conductive ink comprising a vehicle containing an organic binder having a weight average molecular weight of 100,000 to 1,300 .
【請求項2】 ポリ−α−メチルスチレン5〜20重
量%、ポリiso−ブチルメタクリレート80〜95重
量%の比からなる共重合体で構成される請求項1記載の
導電性インキ。
2. The conductive ink according to claim 1, wherein the poly-α-methylstyrene is a copolymer having a ratio of 5 to 20% by weight and polyiso-butyl methacrylate in a ratio of 80 to 95% by weight.
【請求項3】 ポリ−α−メチルスチレン5〜20重
量%、ポリiso−ブチルメタクリレート55〜75重
量%、ポリメチルメタクリレート20〜25重量%の
比からなる共重合体で構成される請求項記載の導電性
インキ。
3. A copolymer comprising 5 to 20% by weight of poly-α-methylstyrene, 55 to 75% by weight of polyiso-butyl methacrylate, and 20 to 25% by weight of polymethyl methacrylate. The conductive ink according to claim 1 .
【請求項4】 ポリ−α−メチルスチレン5〜20重
量%、ポリiso−プロピルメタクリレート80〜95
重量%の比からなる共重合体で構成される請求項記載
の導電性インキ。
4. A poly-α-methylstyrene content of 5 to 20% by weight and a polyiso-propyl methacrylate content of 80 to 95%.
Conductive ink of claim 1, wherein comprised of a copolymer consisting by weight percent ratio.
【請求項5】 ポリ−α−メチルスチレン5〜20重
量%、ポリiso−プロピルメタクリレート55〜75
重量%、ポリメチルメタクリレート20〜25重量%
の比からなる共重合体で構成される請求項記載の導電
性インキ。
5. The poly-α-methylstyrene content of 5 to 20% by weight and the polyiso-propyl methacrylate content of 55 to 75%.
% By weight, 20 to 25% by weight of polymethyl methacrylate
The conductive ink according to claim 1 , wherein the conductive ink is composed of a copolymer having the following ratio:
【請求項6】 ビヒクルを構成する有機溶媒量が3〜1
3重量%、ガラスフリット量が3〜4重量%、遷移金属
酸化物が0.5〜2.0重量%、分散剤が0.05〜
5.0重量%、導電性金属粉末が78〜86重量%から
構成される請求項1記載の導電性インキ。
6. The amount of the organic solvent constituting the vehicle is 3 to 1
3% by weight, glass frit amount 3-4% by weight, transition metal oxide 0.5-2.0% by weight, dispersant 0.05-2.0%
The conductive ink according to claim 1, wherein 5.0% by weight and the conductive metal powder are 78 to 86% by weight.
【請求項7】 有機バインダの含有量がインキ全体に対
して2〜15重量%である請求項1記載の導電性イン
キ。
7. The conductive ink according to claim 1, wherein the content of the organic binder is 2 to 15% by weight based on the whole ink.
【請求項8】 ビヒクルを構成する有機溶媒量が全粉末
量に対して重量比で0.04〜0.18である請求項1
記載の導電性インキ。
8. The vehicle according to claim 1, wherein the amount of the organic solvent constituting the vehicle is 0.04 to 0.18 by weight based on the total amount of the powder.
The conductive ink according to the above.
【請求項9】 導電性金属粉末が銅、金、または銀のう
ち少なくとも1種以上から構成される請求項1記載の導
電性インキ。
9. The conductive ink according to claim 1, wherein the conductive metal powder comprises at least one of copper, gold, and silver.
【請求項10】 導電性金属粉末の平均粒径が0.05
〜3.0μmである請求項1記載の導電性インキ。
10. The conductive metal powder has an average particle size of 0.05.
The conductive ink according to claim 1, which has a thickness of from 3.0 to 3.0 m.
【請求項11】 ビヒクルを構成する有機溶媒がα−テ
ルピネオール、ブチルカルビトール、ブチルカルビトー
ルアセテート、2、2、4-トリメチル1-3-ヒドロキシペンチ
ルイソブチレート、2-ブトキシエタノール、2-エトキシ
エタノールのうち少なくとも1種以上から構成される請
求項1記載の導電性インキ。
11. The organic solvent constituting the vehicle is α-terpineol, butyl carbitol, butyl carbitol acetate, 2,2,4-trimethyl 1-3-hydroxypentyl isobutyrate, 2-butoxyethanol, 2-ethoxy 2. The conductive ink according to claim 1, comprising at least one of ethanol.
【請求項12】 遷移金属酸化物が酸化亜鉛、酸化チタ
ン、酸化第二クロム、酸化カドミウム、一酸化ニッケル
のうち少なくとも1種以上から構成される請求項1記載
の導電性インキ。
12. The conductive ink according to claim 1, wherein the transition metal oxide comprises at least one of zinc oxide, titanium oxide, chromic oxide, cadmium oxide, and nickel monoxide.
【請求項13】 請求項1から12のいずれかに記載の
導電性インキを凹版の凹部に充填する工程、凹版の凹部
中の導電性インキをシリコーン樹脂を主体とする弾性体
にて表面被覆したブランケット上に転写する工程、前記
ブランケット上に転写された導電性厚膜パターンを基板
上に転写印刷する工程、導電性パターンを焼成して有機
物を飛散させる工程,導電性パターンを焼結させる工程
より構成されることを特徴とする導電性厚膜パターンの
形成方法。
13. A step of filling the concave portion of the intaglio with the conductive ink according to any one of claims 1 to 12, wherein the conductive ink in the concave portion of the intaglio is converted into an elastic body mainly composed of silicone resin. Transferring a conductive thick film pattern transferred onto the blanket onto a substrate, printing the conductive thick film pattern onto the substrate, baking the conductive pattern to disperse organic matter, and firing the conductive pattern. Forming a conductive thick film pattern.
【請求項14】 シリコーン樹脂を主体とする弾性体の
硬度が30〜60度であることを特徴とする請求項13
記載の導電性厚膜パターンの形成方法。
14. The method of claim 13 in which the hardness of the elastic body composed mainly of silicone resin, characterized in that 30 to 60 degrees
A method for forming a conductive thick film pattern according to the above.
【請求項15】 凹版の凹部中のインキをシリコーン樹
脂を主体とする弾性体にて表面被覆したブランケット上
に転写する工程における転写圧力と、前記ブランケット
上に転写された導電性厚膜パターンを基板上に転写印刷
する工程における印刷圧力が2〜6kg/cm2である
ことを特徴とする請求項13記載の導電性厚膜パターン
の形成方法。
15. A transfer pressure in a step of transferring ink in a concave portion of an intaglio onto a blanket whose surface is covered with an elastic body mainly composed of a silicone resin, and a conductive thick film pattern transferred on the blanket is used as a substrate. 14. The method for forming a conductive thick film pattern according to claim 13, wherein the printing pressure in the step of transferring and printing on the upper surface is 2 to 6 kg / cm < 2 >.
【請求項16】 非酸化性雰囲気焼成工程の酸素濃度が
10ppm以下であることを特徴とする請求項13記載
の導電性厚膜パターンの形成方法。
16. The method for forming a conductive thick film pattern according to claim 13, wherein the oxygen concentration in the non-oxidizing atmosphere baking step is 10 ppm or less.
【請求項17】 非酸化性雰囲気焼成工程の高温保持部
の温度が850〜975℃であることを特徴とする請求
13記載の導電性厚膜パターンの形成方法。
17. The method for forming a conductive thick film pattern according to claim 13 , wherein the temperature of the high-temperature holding portion in the non-oxidizing atmosphere firing step is 850 to 975 ° C.
【請求項18】 酸化性雰囲気焼成工程の高温保持部の
温度が800〜925℃であることを特徴とする請求項
13記載の導電性厚膜パターンの形成方法。
18. The temperature of the high-temperature holding portion in the oxidizing atmosphere firing step is 800 to 925 ° C.
14. The method for forming a conductive thick film pattern according to claim 13 .
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