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JP2960144B2 - Semiconductor memory device - Google Patents
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JP2960144B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JP2960144B2
JP2960144B2 JP2285066A JP28506690A JP2960144B2 JP 2960144 B2 JP2960144 B2 JP 2960144B2 JP 2285066 A JP2285066 A JP 2285066A JP 28506690 A JP28506690 A JP 28506690A JP 2960144 B2 JP2960144 B2 JP 2960144B2
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sense amplifier
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博茂 平野
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、半導体メモリ装置に関するものである。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a semiconductor memory device.

従来の技術 最近、半導体メモリ装置の高密度化が進み、特に、ダ
イナミック・ランダムアクセス・メモリ(DRAM)の高集
積化、高密度化は、目覚ましいものがある。このような
高集積化、高密度化のためメモリセル面積およびメモリ
セル容量が小さくなってきているが、この小さなメモリ
セル容量の情報を正確かつ高速に読み出すことが要求さ
れている。第2図は、従来の半導体メモリ装置のメモリ
セルアレイの一例である。SA1ないしSA4はセンスアン
プ、ROWDECはローデーコーダー、WL1ないしWL16はワー
ド線、BL1ないしBL8はビット線、Q21ないしQ28はNチャ
ンネル型MOSトランジスタ、ワード線とビット線の交点
の○印はメモリセル、VCCは電源電圧である。動作につ
いては、例えば、ワード線WL3が選択された場合は、ビ
ット線BL2,BL3,BL6,BL7にメモリセルの情報が読み出さ
れ、ビット線BL1とBL3、BL2とBL4、BL5とBL7、BL6とBL8
に生じる微少な電位差が、それぞれセンスアンプSA1,SA
2,SA3,SA4により増幅されデータとして出力される。こ
のメモリセルアレイは1つのセンスアンプに、単位長さ
あたりの容量および抵抗が一定の1対のビット線が接続
された構成である。
2. Description of the Related Art In recent years, the density of semiconductor memory devices has been increasing, and in particular, the integration and density of dynamic random access memories (DRAMs) have been remarkable. Although the memory cell area and the memory cell capacity have been reduced due to such high integration and high density, accurate and high-speed reading of information of the small memory cell capacity has been required. FIG. 2 is an example of a memory cell array of a conventional semiconductor memory device. SA1 to SA4 are sense amplifiers, ROWDEC is a row coder, WL1 to WL16 are word lines, BL1 to BL8 are bit lines, Q21 to Q28 are N-channel MOS transistors, ○ marks at the intersections of word lines and bit lines are memory cells And VCC are power supply voltages. Regarding the operation, for example, when the word line WL3 is selected, the information of the memory cell is read to the bit lines BL2, BL3, BL6, BL7, and the bit lines BL1 and BL3, BL2 and BL4, BL5 and BL7, BL6 And BL8
The small potential difference that occurs in the sense amplifiers SA1 and SA
2, amplified by SA3 and SA4 and output as data. This memory cell array has a configuration in which one sense amplifier is connected to a pair of bit lines having a constant capacitance and resistance per unit length.

発明が解決しようとする課題 以上のように従来のメモリセルアレイの半導体メモリ
装置では、1つのセンスアンプに単位長さあたりの容量
および抵抗が一定の1対のビット線が接続されており、
1対のビット線に読み出された微少電位差をセンスアン
プを動作させることによりビット線対を論理電圧“H"と
“L"に増幅させるのに必要な時間は、前記ビット線の容
量および抵抗とセンスアンプを構成するトランジスタの
オン時のソース・ドレイン間の抵抗により決まり、それ
ぞれの容量値・抵抗値が小さいほど速くなるが、通常ビ
ット線の抵抗はトランジスタのオン時のソース・ドレイ
ン間の抵抗に比べ小さいため影響は少ない。ここで、ビ
ット線の容量が大きいことが、センスアンプの高速動作
の大きな障害となっている。また、製造上あるいは半導
体チップ全体のレイアウト上から、ビット線の容量を小
さくすることは難しい。
As described above, in a conventional semiconductor memory device of a memory cell array, a pair of bit lines having a constant capacitance and a constant resistance per unit length are connected to one sense amplifier.
The time required to amplify the bit line pair to the logical voltages “H” and “L” by operating the sense amplifier on the minute potential difference read out to the pair of bit lines depends on the capacitance and resistance of the bit line. Is determined by the resistance between the source and drain of the transistor that constitutes the sense amplifier when the transistor is on. The smaller the capacitance and resistance, the higher the speed. However, the resistance of the bit line is usually between the source and drain when the transistor is on. The effect is small because it is smaller than the resistance. Here, the large capacity of the bit line is a major obstacle to the high-speed operation of the sense amplifier. Also, it is difficult to reduce the capacity of the bit line from the viewpoint of manufacturing or the layout of the entire semiconductor chip.

課題を解決するための手段 本発明は上記の課題を解決するために、複数のメモリ
セルと、前記メモリセルが接続されたビット線と、前記
ビット線の一端に接続されるセンスアンプとを有する半
導体メモリ装置において、前記ビット線が、少なくとも
前記メモリセルが接続された第1のビット線部分と、前
記メモリセルが接続された第2のビット線部分と、前記
第1のビット線部分と前記第2のビット線部分を直列接
続する抵抗手段とを有した構成とする。さらに本発明は
上記抵抗手段をMOSトランジスタにより構成、前記MOSト
ランジスタのゲート電圧を制御することによって所定の
抵抗値が得られる構成とする。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present invention has a plurality of memory cells, a bit line connected to the memory cells, and a sense amplifier connected to one end of the bit lines. In the semiconductor memory device, the bit line may include at least a first bit line portion to which the memory cell is connected, a second bit line portion to which the memory cell is connected, and the first bit line portion. And a resistance means for connecting the second bit line portion in series. Further, in the present invention, the resistance means is constituted by a MOS transistor, and a predetermined resistance value is obtained by controlling a gate voltage of the MOS transistor.

作用 このように、ビット線を抵抗手段により2つ以上に分
け、抵抗手段を介して直列接続された構成により、全体
のビット線の容量は同じであるが、センスアンプから遠
い方のビット線の容量は、手前に抵抗手段があるためこ
の抵抗値によりセンスアンプから見た容量値は小さくな
り、全体としてのセンスアンプから見た見掛上のビット
線の容量が小さくなり、センスアンプの増幅速度が速く
なり高速化が可能となる。この抵抗手段をMOSトランジ
スタにより構成し、MOSトランジスタのゲート電位を制
御することによって、読み出し時にはMOSトランジスタ
の抵抗値を高くし見掛上のビット線容量を小さくする効
果を高め、また、書き込み時にはMOSトランジスタの抵
抗値を低くしビット線を実際に増幅する時間を短くする
という効果が得られる。
Operation As described above, the configuration in which the bit line is divided into two or more by the resistance means and connected in series via the resistance means has the same capacity as the whole bit line, but the bit line farthest from the sense amplifier is connected. Since the capacitance has a resistance means in front of it, the capacitance value seen from the sense amplifier becomes smaller due to this resistance value, the apparent bit line capacitance seen from the sense amplifier as a whole becomes smaller, and the amplification speed of the sense amplifier becomes smaller. And speeding up becomes possible. This resistance means is constituted by a MOS transistor, and by controlling the gate potential of the MOS transistor, the effect of increasing the resistance value of the MOS transistor during reading and decreasing the apparent bit line capacitance is enhanced. The effect of reducing the resistance value of the transistor and shortening the time for actually amplifying the bit line can be obtained.

実施例 以下、本発明の一実施例を第1図を用いて説明する。Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

第1図は、本発明の半導体メモリ装置のメモリセルア
レイの一実施例を示す図である。SA1ないしSA4はセンス
アンプ、ROWDECはローデコーダー、WL1ないしWL16はワ
ード線、BL1ないしBL8はビット線、Q11ないしQ28はNチ
ャンネル型MOSトランジスタ、ワード線とビット線の交
点の○印はメモリセル、VCCは電源電圧、BLDはビット線
分割信号である。動作については従来のものと同様に、
例えば、ワード線WL3が選択された場合は、ビット線BL
2,BL3,BL6,BL7にメモリセルの情報が読み出され、ビッ
ト線BL1とBL3、BL2とBL4、BL5とBL7、BL6とBL8に生じる
微少な電位差が、それぞれセンスアンプSA1,SA2,SA3,SA
4により増幅されてデータとして出力される。このよう
に、ビット線BL1ないしBL8が抵抗手段であるMOSトラン
ジスタQ11ないしQ18により2つのビット線部分に分けら
れ、MOSトランジスタQ11ないしQ18を介して直列接続さ
れた構成にすることによって、全体のビット線BL1ない
しBL8の容量は同じであるが、センスアンプSA1ないしSA
から遠い方のビット線部分の容量は、手前にMOSトラン
ジスタがあるためこの抵抗値によりセンスアンプから見
た容量値は小さくなり、全体としてのセンスアンプから
見た見掛上のビット線の容量が小さくなり、センスアン
プの増幅速度が速くなり高速化が可能となる。ビット線
を分割接続する抵抗手段であるMOSトランジスタの抵抗
値を制御する方法としては、ゲート電位(ビット線分割
信号BLD)を制御することにより、読み出し時には例え
ば電源電圧VCCとしNチャンネル型MOSトランジスタQ11
ないしQ18のオン時のソース・ドレイン間の抵抗値を高
くし見掛上のビット線容量を小さくする効果を高め、書
き込み時にはビット線分割信号BLDを電源電圧以上の電
位としNチャンネル型MOSトランジスタQ11ないしQ18の
オン時のソース・ドレイン間の抵抗値を低くしビット線
を論理値“H",“L"に増幅する時間を短縮し、また、論
理値“H"のレベルを完全に電源電圧VCCにすることがで
きる。
FIG. 1 is a diagram showing one embodiment of a memory cell array of a semiconductor memory device of the present invention. SA1 to SA4 are sense amplifiers, ROWDEC is a row decoder, WL1 to WL16 are word lines, BL1 to BL8 are bit lines, Q11 to Q28 are N-channel MOS transistors, ○ marks at the intersections of word lines and bit lines are memory cells, VCC is a power supply voltage, and BLD is a bit line division signal. The operation is the same as the conventional one,
For example, when word line WL3 is selected, bit line BL
2, the information of the memory cell is read out to BL3, BL6, BL7, and the minute potential differences generated in the bit lines BL1 and BL3, BL2 and BL4, BL5 and BL7, BL6 and BL8 are sense amplifiers SA1, SA2, SA3, respectively. SA
Amplified by 4 and output as data. As described above, the bit lines BL1 to BL8 are divided into two bit line portions by the MOS transistors Q11 to Q18, which are resistance means, and are connected in series via the MOS transistors Q11 to Q18. Lines BL1 to BL8 have the same capacitance, but have sense amplifiers SA1 to SA1.
The capacitance of the bit line part farther from the sense amplifier is smaller due to this resistance because the MOS transistor is in front of it, and the apparent bit line capacitance as seen from the sense amplifier as a whole is smaller. As a result, the amplification speed of the sense amplifier is increased and the speed can be increased. As a method of controlling the resistance value of a MOS transistor which is a resistance means for dividing and connecting a bit line, a gate potential (bit line dividing signal BLD) is controlled so that, for example, a power supply voltage VCC is used at the time of reading, and an N-channel MOS transistor Q11 is used.
Also, the effect of reducing the apparent bit line capacitance by increasing the resistance value between the source and drain when Q18 is on is enhanced, and the bit line division signal BLD is set to a potential higher than the power supply voltage at the time of writing, and the N-channel MOS transistor Q11 Or reduce the resistance between the source and drain when Q18 is turned on, shorten the time required to amplify the bit line to logic values "H" and "L", and completely change the level of logic value "H" to the power supply voltage. Can be VCC.

発明の効果 以上のように、本発明の半導体メモリ装置によれば、
半導体チップのレイアウト面積を大きくすることなくセ
ンスアンプの高速化が可能で、ひいては高速な半導体メ
モリ装置を供給できるようになりその実用適効果は極め
て大きい。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention,
The speed of the sense amplifier can be increased without increasing the layout area of the semiconductor chip, and a high-speed semiconductor memory device can be supplied.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明による半導体メモリ装置の一実施例を示
す回路図、第2図は従来の半導体メモリ装置の回路図で
ある。 SA1ないしSA4……センスアンプ ROWDEC……ローデコーダー WL1ないしWL16……ロード線 BL1ないしBL8……ビット線 Q11ないしQ28……Nチャンネル型MOSトランジスタ ワード線とビット線の交点の○印……メモリセル VCC……電源電圧 BLD……ビット線分割信号
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram of a conventional semiconductor memory device. SA1 to SA4 Sense amplifier ROWDEC Row decoder WL1 to WL16 Load line BL1 to BL8 Bit line Q11 to Q28 N-channel MOS transistor Circle mark at intersection of word line and bit line Memory cell VCC: Power supply voltage BLD: Bit line division signal

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】複数のメモリセルと、前記メモリセルが接
続されたビット線と、前記ビット線の一端に接続される
センスアンプとを有する半導体メモリ装置において、 前記ビット線が、少なくとも前記メモリセルが接続され
た第1のビット線部分と、前記メモリセルが接続された
第2のビット線部分と、前記第1のビット線部分と前記
第2のビット線部分を直列接続する抵抗手段とを有し、 前記抵抗手段によって前記センスアンプから遠い方のビ
ット線部分の見かけ上の容量値が小さくなることを特徴
とする半導体メモリ装置。
1. A semiconductor memory device having a plurality of memory cells, a bit line connected to the memory cell, and a sense amplifier connected to one end of the bit line, wherein the bit line includes at least the memory cell Are connected, a second bit line portion to which the memory cell is connected, and resistance means for connecting the first bit line portion and the second bit line portion in series. A semiconductor memory device, wherein an apparent capacitance value of a bit line portion far from the sense amplifier is reduced by the resistance means.
【請求項2】前記抵抗手段が、MOSトランジスタにより
構成され、前記MOSトランジスタのゲート電圧を制御す
ることによって、前記センスアンプから遠い方のビット
線部分の見かけ上の容量値が小さくなるような抵抗値を
得ることを特徴とする請求項1記載の半導体メモリ装
置。
2. The resistance means comprises a MOS transistor, and controls a gate voltage of the MOS transistor so that an apparent capacitance value of a bit line portion remote from the sense amplifier is reduced. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a value is obtained.
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