JP2973566B2 - Ｘ線回折装置 - Google Patents
Ｘ線回折装置Info
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- JP2973566B2 JP2973566B2 JP3095300A JP9530091A JP2973566B2 JP 2973566 B2 JP2973566 B2 JP 2973566B2 JP 3095300 A JP3095300 A JP 3095300A JP 9530091 A JP9530091 A JP 9530091A JP 2973566 B2 JP2973566 B2 JP 2973566B2
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- ray
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- optical system
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、集中法対称配置による
Ｘ線測定と平行法非対称配置によるＸ線測定との切り換
えを光学系の取り換え作業や調整作業を行わなくても簡
単に実施できるＸ線回折装置に関する。
Ｘ線測定と平行法非対称配置によるＸ線測定との切り換
えを光学系の取り換え作業や調整作業を行わなくても簡
単に実施できるＸ線回折装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、素地金属の上にイオンプレーテ
ィングやＣＶＤ等により薄膜を形成する場合には、その
形成条件によって薄膜の結晶の配向性や結晶粒の発達状
態が異なってくる。特に、配向性の違いによって、素地
金属との密着性や対摩耗性などの物理的性質が変化す
る。したがって、このような素地金属の上に形成された
薄膜結晶の配向性の影響を調べることは重要である。
ィングやＣＶＤ等により薄膜を形成する場合には、その
形成条件によって薄膜の結晶の配向性や結晶粒の発達状
態が異なってくる。特に、配向性の違いによって、素地
金属との密着性や対摩耗性などの物理的性質が変化す
る。したがって、このような素地金属の上に形成された
薄膜結晶の配向性の影響を調べることは重要である。
【０００３】一方、Ｘ線回折装置による測定では、試料
を通る軸線に対してＸ線源とＸ線検出器とが常に対称位
置にくるように両者を配置するいわゆる対称配置と、Ｘ
線源とＸ線検出器とが非対称位置にくるように両者を配
置するいわゆる非対称配置とがある。
を通る軸線に対してＸ線源とＸ線検出器とが常に対称位
置にくるように両者を配置するいわゆる対称配置と、Ｘ
線源とＸ線検出器とが非対称位置にくるように両者を配
置するいわゆる非対称配置とがある。
【０００４】そして、非対称配置には、回折Ｘ線に対し
て集中条件を満たすために、Ｘ線源、試料、検出スリッ
トを焦点円上に配置する集中法と、Ｘ線検出器の前段に
ソーラスリットを設けて特定の回折Ｘ線のみを検出する
ようにした平行法とがあるが、前者では、その配置条件
を満たすために装置が大型化するため、通常は、後者の
平行法非対称配置が採用される。したがって、以下で非
対称配置という場合には、平行法非対称配置を指すもの
とする。
て集中条件を満たすために、Ｘ線源、試料、検出スリッ
トを焦点円上に配置する集中法と、Ｘ線検出器の前段に
ソーラスリットを設けて特定の回折Ｘ線のみを検出する
ようにした平行法とがあるが、前者では、その配置条件
を満たすために装置が大型化するため、通常は、後者の
平行法非対称配置が採用される。したがって、以下で非
対称配置という場合には、平行法非対称配置を指すもの
とする。
【０００５】上記の対称配置の測定は、通常、多結晶試
料や粉末試料を対象として定性分析などを行う場合に採
用される方法で、試料がθ回転すると、これに伴ってＸ
線検出器が２θで倍角回転される。
料や粉末試料を対象として定性分析などを行う場合に採
用される方法で、試料がθ回転すると、これに伴ってＸ
線検出器が２θで倍角回転される。
【０００６】また、平行法非対称配置の測定は、通常、
薄膜試料において、試料に入射するＸ線に対する見掛け
の厚さを大きくする場合に採用される方法で、Ｘ線の入
射角が一定になるように試料を固定し、Ｘ線検出器のみ
が回転するようにゴニオメータが駆動される。
薄膜試料において、試料に入射するＸ線に対する見掛け
の厚さを大きくする場合に採用される方法で、Ｘ線の入
射角が一定になるように試料を固定し、Ｘ線検出器のみ
が回転するようにゴニオメータが駆動される。
【０００７】ところで、結晶の配向性を調べるには、Ｘ
線回折装置を利用して、上記の対称配置と非対称配置と
を組み合わせた測定を行う方法がある。
線回折装置を利用して、上記の対称配置と非対称配置と
を組み合わせた測定を行う方法がある。
【０００８】これには、まず、配向性をもつ結晶試料に
ついて対称配置の測定を行う。この測定では、Ｂraggの
条件を満たす結晶面で回折されたＸ線が検出される。そ
して、これにより得られるＸ線回折データの内から、１
組の特定の結晶面のピーク強度の比をとり、これを相対
強度aとして求める。
ついて対称配置の測定を行う。この測定では、Ｂraggの
条件を満たす結晶面で回折されたＸ線が検出される。そ
して、これにより得られるＸ線回折データの内から、１
組の特定の結晶面のピーク強度の比をとり、これを相対
強度aとして求める。
【０００９】次に、同じ試料について、非対称配置の測
定を行う。この非対称配置では、配向性をもつ結晶試料
では、配向した結晶面に対してはＢraggの回折条件が満
たされないので、配向性の情報はなく、したがって、配
向性の影響を受けることのない粉末試料のデータと同様
なＸ線回折結果が得られる。
定を行う。この非対称配置では、配向性をもつ結晶試料
では、配向した結晶面に対してはＢraggの回折条件が満
たされないので、配向性の情報はなく、したがって、配
向性の影響を受けることのない粉末試料のデータと同様
なＸ線回折結果が得られる。
【００１０】そして、このＸ線回折データの内から、対
称配置の測定の場合と同じ１組の特定の結晶面のピーク
強度の比をとり、これを相対強度bとして求める。
称配置の測定の場合と同じ１組の特定の結晶面のピーク
強度の比をとり、これを相対強度bとして求める。
【００１１】引き続いて、上記の各相対強度の比(＝a／
b)をとって標準化し、これを配向性の度合いの目安を示
す配向度とする。
b)をとって標準化し、これを配向性の度合いの目安を示
す配向度とする。
【００１２】この方法は、測定試料のみにより配向度が
決定でき、標準となる粉末試料や既存のデータベースを
必要としないので、既存のデータなどが使用できない、
全く新しい物質に対しても摘要できるという特長を有す
る。
決定でき、標準となる粉末試料や既存のデータベースを
必要としないので、既存のデータなどが使用できない、
全く新しい物質に対しても摘要できるという特長を有す
る。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】上述した方法により、
Ｘ線回折装置を利用して結晶試料の配向性を調べるに
は、対称配置の測定と、非対称配置の測定とをそれぞれ
行う必要があるが、そのためには、各測定に応じて光学
系の交換、調整が不可欠となる。
Ｘ線回折装置を利用して結晶試料の配向性を調べるに
は、対称配置の測定と、非対称配置の測定とをそれぞれ
行う必要があるが、そのためには、各測定に応じて光学
系の交換、調整が不可欠となる。
【００１４】たとえば、対称配置の測定から非対称配置
の測定に切り換えるには、θ−２θ連動機構を切り離
し、また、Ｘ線源と試料との間に配置される発散スリッ
トを幅広のものから幅狭のものに、また、試料とＸ線検
出器との間に配置される検出スリットをソーラスリット
にそれぞれ交換しなければならない。しかも、ソーラス
リットを用いる場合には、僅かな配置角度の違いによっ
て、Ｘ線検出器に入射するＸ線の強度が大きく変動する
ので、その配置角度が適正になるように調整する必要が
生じる。したがって、交換と調整に手間がかかる。
の測定に切り換えるには、θ−２θ連動機構を切り離
し、また、Ｘ線源と試料との間に配置される発散スリッ
トを幅広のものから幅狭のものに、また、試料とＸ線検
出器との間に配置される検出スリットをソーラスリット
にそれぞれ交換しなければならない。しかも、ソーラス
リットを用いる場合には、僅かな配置角度の違いによっ
て、Ｘ線検出器に入射するＸ線の強度が大きく変動する
ので、その配置角度が適正になるように調整する必要が
生じる。したがって、交換と調整に手間がかかる。
【００１５】このような、光学系の交換、調整の手間を
省くため、従来技術では、２台のゴニオメータを並設
し、一方には対称配置の測定専用の光学系を、他方に非
対称配置の測定専用の光学系を予め設置できるようにし
た装置が提供されている。
省くため、従来技術では、２台のゴニオメータを並設
し、一方には対称配置の測定専用の光学系を、他方に非
対称配置の測定専用の光学系を予め設置できるようにし
た装置が提供されている。
【００１６】しかし、このような構成のものでは、装置
全体が大型化するばかりでなく、コストアップにもな
る。
全体が大型化するばかりでなく、コストアップにもな
る。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述した課題
を解決するためになされたものであって、結晶試料の配
向性を調べるような場合に必要となる、対称配置の測定
と非対称配置の測定とを光学系をその都度切り換えなく
ても自動的に行えるようにして、光学系の取り換え、調
整の手間を省き、しかも、装置の小型化、コストダウン
が図れるようにするものである。
を解決するためになされたものであって、結晶試料の配
向性を調べるような場合に必要となる、対称配置の測定
と非対称配置の測定とを光学系をその都度切り換えなく
ても自動的に行えるようにして、光学系の取り換え、調
整の手間を省き、しかも、装置の小型化、コストダウン
が図れるようにするものである。
【００１８】そのため、本発明では、Ｘ線源とゴニオメ
ータとを備え、ゴニオメータは、ディフラクトメータ円
の中心位置に設けられたθ回転部と、ディフラクトメー
タ円に沿って移動される２θ回転部とを有し、２θ回転
部には検出器保持台が設けられているＸ線回折装置にお
いて、次の構成を採る。
ータとを備え、ゴニオメータは、ディフラクトメータ円
の中心位置に設けられたθ回転部と、ディフラクトメー
タ円に沿って移動される２θ回転部とを有し、２θ回転
部には検出器保持台が設けられているＸ線回折装置にお
いて、次の構成を採る。
【００１９】すなわち、本発明のＸ線回折装置では、検
出器保持台上に、スリットと第１Ｘ線検出器とからなる
第１光学系と、ソーラスリットと第２Ｘ線検出器とから
なる第２光学系とを所定の角度だけ離れて並設し、ま
た、θ回転部と２θ回転部には、これらをそれぞれ個別
に駆動する駆動部を接続する一方、第１Ｘ線検出器と第
２Ｘ線検出器の各出力のいずれか一方を選択する出力選
択部と、試料に関して、Ｘ線源と第１光学系との関係を
対称配置とする対称配置モードとＸ線源と第２光学系と
の関係を非対称配置とする非対称配置モードとをそれぞ
れ選択するモード設定部と、このモード設定部により、
対称配置モードが選択された場合には、θ回転部と２θ
回転部とがθ−２θの関係を保って駆動する制御信号を
駆動部に与えるとともに、前記第１Ｘ線検出器の出力を
選択する制御信号を出力選択部に出力し、また、非対称
配置モードが選択された場合には、θ回転部を所定の角
度に固定して２θ回転部のみが駆動する制御信号を駆動
部に出力するとともに、前記第２Ｘ線検出器の出力を選
択する制御信号を出力選択部に出力するコントローラと
を含んでいる。
出器保持台上に、スリットと第１Ｘ線検出器とからなる
第１光学系と、ソーラスリットと第２Ｘ線検出器とから
なる第２光学系とを所定の角度だけ離れて並設し、ま
た、θ回転部と２θ回転部には、これらをそれぞれ個別
に駆動する駆動部を接続する一方、第１Ｘ線検出器と第
２Ｘ線検出器の各出力のいずれか一方を選択する出力選
択部と、試料に関して、Ｘ線源と第１光学系との関係を
対称配置とする対称配置モードとＸ線源と第２光学系と
の関係を非対称配置とする非対称配置モードとをそれぞ
れ選択するモード設定部と、このモード設定部により、
対称配置モードが選択された場合には、θ回転部と２θ
回転部とがθ−２θの関係を保って駆動する制御信号を
駆動部に与えるとともに、前記第１Ｘ線検出器の出力を
選択する制御信号を出力選択部に出力し、また、非対称
配置モードが選択された場合には、θ回転部を所定の角
度に固定して２θ回転部のみが駆動する制御信号を駆動
部に出力するとともに、前記第２Ｘ線検出器の出力を選
択する制御信号を出力選択部に出力するコントローラと
を含んでいる。
【００２０】
【作用】上記構成において、モード設定部によって対称
配置モードが選択された場合には、これに応じてコント
ローラが駆動部を制御することにより、θ回転部と２θ
回転部とがθ−２θの関係を保って駆動され、かつ、コ
ントローラは出力選択部を制御して第１Ｘ線検出器の出
力を選択する。これにより、対称配置による測定が行わ
れる。
配置モードが選択された場合には、これに応じてコント
ローラが駆動部を制御することにより、θ回転部と２θ
回転部とがθ−２θの関係を保って駆動され、かつ、コ
ントローラは出力選択部を制御して第１Ｘ線検出器の出
力を選択する。これにより、対称配置による測定が行わ
れる。
【００２１】一方、非対称配置モードが選択された場合
には、これに応じてコントローラが駆動部を制御するこ
とにより、θ回転部が固定され２θ回転部のみが駆動さ
れ、かつ、コントローラは出力選択部を制御して第２Ｘ
線検出器の出力を選択する。これにより、非対称配置の
測定が行われる。
には、これに応じてコントローラが駆動部を制御するこ
とにより、θ回転部が固定され２θ回転部のみが駆動さ
れ、かつ、コントローラは出力選択部を制御して第２Ｘ
線検出器の出力を選択する。これにより、非対称配置の
測定が行われる。
【００２２】このように、第１光学系と第２光学系は予
め同じ検出器保持台上に適正に調整された状態で予めセ
ットされていて、各モード選択に応じてθ回転部と２θ
回転部の動作が制御されるので、従来のような光学系の
取り換えや調整を行わなくても、対称配置と非対称配置
に応じた各測定結果が自動的に得られることになる。
め同じ検出器保持台上に適正に調整された状態で予めセ
ットされていて、各モード選択に応じてθ回転部と２θ
回転部の動作が制御されるので、従来のような光学系の
取り換えや調整を行わなくても、対称配置と非対称配置
に応じた各測定結果が自動的に得られることになる。
【００２３】
【実施例】図１は本発明の実施例に係るＸ線回折装置の
構成図である。
構成図である。
【００２４】同図において、ＰはＸ線管球からなるＸ線
源、Ｇはゴニオメータである。このゴニオメータＧは、
ディフラクトメータ円Ｒの中心位置Ｏに配置されたθ回
転部Ｈと、ディフラクトメータ円Ｒ上に沿って走査され
る２θ回転部Ｉとを有する。そして、２θ回転部Ｉには
検出器保持台Ｊが取り付けられている。
源、Ｇはゴニオメータである。このゴニオメータＧは、
ディフラクトメータ円Ｒの中心位置Ｏに配置されたθ回
転部Ｈと、ディフラクトメータ円Ｒ上に沿って走査され
る２θ回転部Ｉとを有する。そして、２θ回転部Ｉには
検出器保持台Ｊが取り付けられている。
【００２５】この検出器保持台Ｊ上には、スリットＳ1
と第１Ｘ線検出器ＤＴ1とからなる第１光学系Ｂ1と、ソ
ーラスリットＳ2と第２Ｘ線検出器ＤＴ2とからなる第２
光学系Ｂ2とが所定の角度αだけ離れて並設されてい
る。
と第１Ｘ線検出器ＤＴ1とからなる第１光学系Ｂ1と、ソ
ーラスリットＳ2と第２Ｘ線検出器ＤＴ2とからなる第２
光学系Ｂ2とが所定の角度αだけ離れて並設されてい
る。
【００２６】また、Ｓ0はＸ線源Ｐとθ回転部Ｈとの間
に配置された発散スリット、ＤＲは駆動部である。
に配置された発散スリット、ＤＲは駆動部である。
【００２７】駆動部ＤＲは、発散スリットＳ0のスリッ
ト幅を調整するためのスリット駆動部Ｄ0と、θ回転部
Ｈを回転駆動するθ駆動部Ｄ1と、２θ回転部Ｉを回転
駆動する２θ駆動部Ｄ2とからなり、各駆動部Ｄ0〜Ｄ2
は、たとえばパルスモータとギヤとを組み合わて構成さ
れる。
ト幅を調整するためのスリット駆動部Ｄ0と、θ回転部
Ｈを回転駆動するθ駆動部Ｄ1と、２θ回転部Ｉを回転
駆動する２θ駆動部Ｄ2とからなり、各駆動部Ｄ0〜Ｄ2
は、たとえばパルスモータとギヤとを組み合わて構成さ
れる。
【００２８】ＳＷは第１Ｘ線検出器ＤＴ1と第２Ｘ線検
出器ＤＴ2の各出力のいずれか一方を選択する出力選択
部で、たとえば切換スイッチで構成される。
出器ＤＴ2の各出力のいずれか一方を選択する出力選択
部で、たとえば切換スイッチで構成される。
【００２９】Ｕは対称配置モードあるいは非対称配置モ
ードを選択する場合に操作されるモード設定部で、たと
えばキーボードで構成される。
ードを選択する場合に操作されるモード設定部で、たと
えばキーボードで構成される。
【００３０】Ｃはコントローラであって、たとえばＣＰ
Ｕで構成され、モード設定部Ｕによって設定される各配
置モードに応じて駆動部ＤＲおよび出力選択部ＳＷを制
御する。
Ｕで構成され、モード設定部Ｕによって設定される各配
置モードに応じて駆動部ＤＲおよび出力選択部ＳＷを制
御する。
【００３１】次に、上記構成のＸ線回折装置の作用を説
明する。
明する。
【００３２】モード設定部Ｕによって対称配置モードが
選択された場合には、コントローラＣは、これに応じて
スリット駆動部Ｄ0を駆動して発散スリットＳ0が所定の
発散角になるようにスリット幅を設定する。また、出力
選択部ＳＷを制御して第１Ｘ線検出器ＤＴ1側に接続を
切り換える。
選択された場合には、コントローラＣは、これに応じて
スリット駆動部Ｄ0を駆動して発散スリットＳ0が所定の
発散角になるようにスリット幅を設定する。また、出力
選択部ＳＷを制御して第１Ｘ線検出器ＤＴ1側に接続を
切り換える。
【００３３】続いて、θ駆動部Ｄ1と２θ駆動部Ｄ2にそ
れぞれ制御信号を出力して両駆動部Ｄ1，Ｄ2を駆動す
る。これにより、θ回転部Ｈ上の試料Ａがθだけ回転す
ると、２θ回転部Ｉが２θ分だけ走査される。
れぞれ制御信号を出力して両駆動部Ｄ1，Ｄ2を駆動す
る。これにより、θ回転部Ｈ上の試料Ａがθだけ回転す
ると、２θ回転部Ｉが２θ分だけ走査される。
【００３４】したがって、Ｘ線源ＰからのＸ線は、θ回
転部Ｈの試料台上に配置された試料Ａで回折され、その
回折Ｘ線がスリットＳ1を通って第１Ｘ線検出器ＤＴ1で
検出される。そして、第１Ｘ線検出器ＤＴ1の検出出力
が、出力選択部ＳＷを介してコントローラＣに入力され
て、対称配置によるＸ線回折データが測定される。
転部Ｈの試料台上に配置された試料Ａで回折され、その
回折Ｘ線がスリットＳ1を通って第１Ｘ線検出器ＤＴ1で
検出される。そして、第１Ｘ線検出器ＤＴ1の検出出力
が、出力選択部ＳＷを介してコントローラＣに入力され
て、対称配置によるＸ線回折データが測定される。
【００３５】一方、モード設定部Ｕによって非対称配置
モードが選択された場合には、コントローラＣは、これ
に応じてスリット駆動部Ｄ0を駆動して発散スリットＳ0
が対称配置の測定の場合よりも小さい発散角(たとえば
２°以下)になるようにスリット幅を設定する。また、
出力選択部ＳＷを制御して第２Ｘ線検出器ＤＴ2側に接
続を切り換える。
モードが選択された場合には、コントローラＣは、これ
に応じてスリット駆動部Ｄ0を駆動して発散スリットＳ0
が対称配置の測定の場合よりも小さい発散角(たとえば
２°以下)になるようにスリット幅を設定する。また、
出力選択部ＳＷを制御して第２Ｘ線検出器ＤＴ2側に接
続を切り換える。
【００３６】続いて、コントローラＣは、θ駆動部Ｄ1
に制御信号を出力してθ回転部Ｈを回転させ、試料Ａが
所定の入射角βになったときに制御信号出力を停止す
る。
に制御信号を出力してθ回転部Ｈを回転させ、試料Ａが
所定の入射角βになったときに制御信号出力を停止す
る。
【００３７】次に、コントローラＣは、２θ駆動部Ｄ2
にのみ制御信号を出力して２θ回転部Ｈにみ回転させ
る。これにより、試料Ａは所定の入射角度βに固定され
た状態で２θ回転部Ｉが走査される。
にのみ制御信号を出力して２θ回転部Ｈにみ回転させ
る。これにより、試料Ａは所定の入射角度βに固定され
た状態で２θ回転部Ｉが走査される。
【００３８】したがって、Ｘ線源ＰからのＸ線は、試料
Ａで回折され、その回折Ｘ線がソーラスリットＳ2を通
って第２Ｘ線検出器ＤＴ2で検出される。そして、第２
Ｘ線検出器ＤＴ2の検出出力が、出力選択部ＳＷを介し
てコントローラＣに入力されて、非対称配置によるＸ線
回折データが測定される。この場合、第１光学系Ｂ1に
対して第２光学系Ｂ2はαの角度だけ位置がずれている
から、コントローラＣは測定される回折角度を位置ずれ
している角度分αだけ補正する。
Ａで回折され、その回折Ｘ線がソーラスリットＳ2を通
って第２Ｘ線検出器ＤＴ2で検出される。そして、第２
Ｘ線検出器ＤＴ2の検出出力が、出力選択部ＳＷを介し
てコントローラＣに入力されて、非対称配置によるＸ線
回折データが測定される。この場合、第１光学系Ｂ1に
対して第２光学系Ｂ2はαの角度だけ位置がずれている
から、コントローラＣは測定される回折角度を位置ずれ
している角度分αだけ補正する。
【００３９】このように、第１光学系Ｂ1と第２光学系
Ｂ2とは、予め同じ検出器保持台Ｊ上に適正に調整され
た状態で予めセットされていて、各モード選択に応じて
θ回転部Ｈと２θ回転部Ｉの動作が制御されるので、従
来のような光学系の取り換えや調整を行わなくても１回
の試料設定で、対称配置と非対称配置に応じた各測定結
果が自動的に得られることになる。
Ｂ2とは、予め同じ検出器保持台Ｊ上に適正に調整され
た状態で予めセットされていて、各モード選択に応じて
θ回転部Ｈと２θ回転部Ｉの動作が制御されるので、従
来のような光学系の取り換えや調整を行わなくても１回
の試料設定で、対称配置と非対称配置に応じた各測定結
果が自動的に得られることになる。
【００４０】こうして、各モードに応じて得られたＸ線
回折データは、コントローラＣ内において、処理され、
各配置の測定に基づく相対強度の比(＝a／b)が算出され
て配向度が求められる。
回折データは、コントローラＣ内において、処理され、
各配置の測定に基づく相対強度の比(＝a／b)が算出され
て配向度が求められる。
【００４１】
【発明の効果】本発明によれば、Ｘ線回折装置を用いて
薄膜試料の配向性を調べるような場合に必要となる、対
称配置の測定と非対称配置の測定とがモード設定に応じ
て自動的に切り換えられるので、両配置の測定の際の光
学系の取り換え、調整の手間を省くことができる。
薄膜試料の配向性を調べるような場合に必要となる、対
称配置の測定と非対称配置の測定とがモード設定に応じ
て自動的に切り換えられるので、両配置の測定の際の光
学系の取り換え、調整の手間を省くことができる。
【００４２】しかも、ゴニオメータは１台で済むため、
装置の小型化、コストダウンが図れるようになる。
装置の小型化、コストダウンが図れるようになる。
【図１】本発明の実施例に係るＸ線回折装置の構成図で
ある。
ある。
Ｒ…ディフラクトメータ円、Ｐ…Ｘ線源、Ｇ…ゴニオメ
ータ、Ａ…試料、Ｈ…θ回転部、Ｉ…２θ回転部、Ｂ1
…第１光学系、Ｓ1…スリット、ＤＴ1…第１Ｘ線検出
器、Ｂ2…第２光学系、Ｓ2…ソーラスリット、ＴＤ2…
第２Ｘ線検出器、ＤＲ…駆動部、ＳＷ…出力選択部、Ｕ
…モード設定部、Ｃ…コントローラ。
ータ、Ａ…試料、Ｈ…θ回転部、Ｉ…２θ回転部、Ｂ1
…第１光学系、Ｓ1…スリット、ＤＴ1…第１Ｘ線検出
器、Ｂ2…第２光学系、Ｓ2…ソーラスリット、ＴＤ2…
第２Ｘ線検出器、ＤＲ…駆動部、ＳＷ…出力選択部、Ｕ
…モード設定部、Ｃ…コントローラ。
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｘ線源(Ｐ)とゴニオメータ(Ｇ)とを備
え、ゴニオメータ(Ｇ)は、ディフラクトメータ円(Ｒ)の
中心位置に設けられたθ回転部(Ｈ)と、ディフラクトメ
ータ円(Ｒ)に沿って走査される２θ回転部(Ｉ)とを有
し、２θ回転部(Ｉ)には検出器保持台(Ｊ)が設けられて
いるＸ線回折装置において、前記検出器保持台(Ｊ)上に
は、スリット(Ｓ1)と第１Ｘ線検出器(ＤＴ1)とからなる
第１光学系(Ｂ1)と、ソーラスリット(Ｓ2)と第２Ｘ線検
出器(ＤＴ2)とからなる第２光学系(Ｂ2)とが所定の角度
(α)だけ離れて並設され、前記θ回転部(Ｈ)と２θ回転
部(Ｉ)には、これらをそれぞれ個別に駆動する駆動部
(ＤＲ)が接続される一方、第１Ｘ線検出器(ＤＴ1)と第
２Ｘ線検出器(ＤＴ2)の各出力のいずれか一方を選択す
る出力選択部(ＳＷ)と、試料(Ａ)に関して、Ｘ線源(Ｐ)
と第１光学系(Ｂ1)との関係を対称配置とする対称配置
モードとＸ線源(Ｐ)と第２光学系(Ｂ2)との関係を非対
称配置とする非対称配置モードとをそれぞれ選択するモ
ード設定部(Ｕ)と、このモード設定部(Ｕ)により、対称
配置モードが選択された場合には、θ回転部(Ｈ)と２θ
回転部(Ｉ)とがθ−２θの関係を保って駆動する制御信
号を駆動部(ＤＲ)に与えるとともに、前記第１Ｘ線検出
器(ＤＴ1)の出力を選択する制御信号を出力選択部(Ｓ
Ｗ)に出力し、また、非対称配置モードが選択された場
合には、θ回転部(Ｈ)を所定の角度に固定して２θ回転
部(Ｉ)のみが駆動する制御信号を駆動部(ＤＲ)に出力す
るとともに、前記第２Ｘ線検出器(ＤＴ2)の出力を選択
する制御信号を出力選択部(ＳＷ)に出力するコントロー
ラ（ｃ）と、を含むことを特徴とするＸ線回折装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3095300A JP2973566B2 (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | Ｘ線回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3095300A JP2973566B2 (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | Ｘ線回折装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04324348A JPH04324348A (ja) | 1992-11-13 |
| JP2973566B2 true JP2973566B2 (ja) | 1999-11-08 |
Family
ID=14133925
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3095300A Expired - Lifetime JP2973566B2 (ja) | 1991-04-25 | 1991-04-25 | Ｘ線回折装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2973566B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10141958B4 (de) * | 2001-08-28 | 2006-06-08 | Bruker Axs Gmbh | Röntgen-Diffraktometer |
| JP6127717B2 (ja) * | 2013-05-24 | 2017-05-17 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線分析装置 |
| US9835571B2 (en) | 2015-10-06 | 2017-12-05 | Shimadzu Corporation | X-ray analyzer |
-
1991
- 1991-04-25 JP JP3095300A patent/JP2973566B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04324348A (ja) | 1992-11-13 |
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