JP2973782B2 - TAB film carrier and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はTAB用フィルムキャリ
ア及びその製造方法、特に折曲げ実装性に優れたフィル
ムキャリアに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a TAB film carrier and a method for producing the same, and more particularly to a film carrier excellent in bending mountability.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、IC等の半導体実装において、T
AB(Tape Automated Bonding)方式が、パッケージの
薄型化、多ピン化、小型化に好適な方法として盛んに用
いられようになってきた。2. Description of the Related Art In recent years, in the mounting of semiconductors such as ICs, T
The AB (Tape Automated Bonding) method has been actively used as a method suitable for reducing the thickness, increasing the number of pins, and reducing the size of a package.
【0003】一般に、TAB方式に用いられるフィルム
キャリアは、図4及び図5に示すようにフィルム送り用
のスプロケットホール3、素子配設用のデバイスホール
4、アウターリードホール5などを穿孔したベースフィ
ルム1に接着剤2を介して銅箔をラミネートする。この
銅箔をフォトエッチング加工によりエッチングして、I
C素子の電極と接合するためのインナーリード7及び外
部基板との接続用アウターリード8a、8bを含む所望
のリードパターンを形成した後、リード表面にめっきを
施して製造される。Generally, a film carrier used in the TAB system is a base film having a sprocket hole 3 for feeding a film, a device hole 4 for disposing elements, an outer lead hole 5 and the like as shown in FIGS. 1 is laminated with a copper foil via an adhesive 2. This copper foil is etched by photo-etching,
After forming a desired lead pattern including an inner lead 7 for bonding to an electrode of the C element and outer leads 8a and 8b for connection to an external substrate, the lead surface is plated.
【0004】このようにして製造されたTAB方式に
は、テープの可撓性を利用して折曲げることにより立体
的な実装ができ、またテープ上にリードパターンを形成
しこれを回路基板にして混合集積回路的な使い方ができ
る等の特長がある。[0004] In the TAB method manufactured in this manner, three-dimensional mounting can be performed by folding the tape utilizing the flexibility of the tape, and a lead pattern is formed on the tape to form a circuit board. It has features such as being able to be used as a mixed integrated circuit.
【0005】このTAB方式の特長を利用した用途の1
つに、OA機器等のディスプレイ装置に用いる液晶パネ
ルの駆動素子がある。装置の小型化、高密度化の要求に
伴い、液晶基板周縁部の駆動素子実装面積を縮小するた
めに、図6に示すように、TABフィルムキャリアを折
り曲げて実装する方法が用いられている。One of the applications utilizing the features of this TAB method is
One is a driving element of a liquid crystal panel used for a display device such as an OA device. With the demand for miniaturization and higher density of the device, a method of folding and mounting a TAB film carrier as shown in FIG. 6 has been used to reduce the mounting area of the driving element at the periphery of the liquid crystal substrate.
【0006】この液晶駆動用TABに用いられるフィル
ムキャリアの場合、一方に出力信号接続用アウターリー
ド8aが、他方には入力信号接続用アウターリード8b
がそれぞれ形成され、出力信号接続用アウターリード8
aは液晶13を搭載した液晶基板11の周縁部に形成さ
れた電極上に対向させ、異方性導電接着剤10を介して
接続され、入力信号接続用アウターリード8bはプリン
ト基板12上の外部基板端子に半田付けして実装され
る。In the case of a film carrier used for the liquid crystal driving TAB, one of the outer leads 8a for connecting an output signal is provided on one side, and the outer lead 8b for connecting an input signal is provided on the other side.
Are formed, and the outer leads 8 for connecting output signals are formed.
“a” is opposed to an electrode formed on a peripheral portion of a liquid crystal substrate 11 on which a liquid crystal 13 is mounted, and is connected via an anisotropic conductive adhesive 10. It is mounted by soldering to the board terminals.
【0007】特に、この種の実装方式に用いられるフィ
ルムキャリアは折曲げを容易にするためにベースフィル
ム1の折曲げ部分15、15に折曲げ用スリット開孔
6、6を予め設けて、リード14のみを折り曲げるよう
にしたものが一般的である。In particular, in the film carrier used in this type of mounting method, bending slits 6 and 6 are previously provided in bending portions 15 and 15 of the base film 1 in order to facilitate bending, and leads are formed. In general, only 14 is bent.
【0008】しかしながら、リード14のみを折り曲げ
るようにした場合、折曲げ部分となるスリット開孔6、
6の位置にベースフィルム1がないため、実装時の機械
的応力や熱サイクル等による応力が薄いリードに集中
し、リードのクラックや破断を生じやすいという問題点
がある。However, when only the lead 14 is bent, the slit opening 6, which is a bent portion,
Since there is no base film 1 at the position 6, there is a problem that mechanical stress at the time of mounting and stress due to thermal cycling and the like are concentrated on the thin lead, and cracks and breakage of the lead are likely to occur.
【0009】この対策として、スリット開孔を貫通孔と
せず、化学エッチング法や、レーザ加工、あるいは切削
加工等によって折曲げ部のフィルム厚みを薄くする方法
や(例えば、特開平4−91450号公報)、貫通孔と
したスリット開孔内に液状の樹脂を塗布して硬化する方
法(例えば、特開平4−162542号公報)が提案さ
れている。なお、ベースフィルム全体を折曲げ可能な厚
さまで薄くする方法も考えられる。As a countermeasure, a method of reducing the film thickness of a bent portion by a chemical etching method, a laser processing, a cutting process, or the like without using a slit opening as a through hole (for example, JP-A-4-91450) A method has been proposed in which a liquid resin is applied to the inside of a slit opening formed as a through-hole and cured (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-162542). In addition, a method of reducing the thickness of the entire base film to a thickness that can be bent is also conceivable.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述した
従来技術には、次のような欠点があった。However, the above-mentioned prior art has the following disadvantages.
【0011】(1)折曲げ部のフィルム厚みを薄くした
り、開孔内に樹脂を塗布して硬化する方法では、いずれ
も特殊な専用加工設備が必要であり、また特殊であるゆ
え加工性度、生産性が低い。(1) The method of reducing the thickness of the film at the bent portion or applying a resin in the opening to cure the resin requires special special processing equipment. Degree, low productivity.
【0012】(2)ベースフィルム全体を折曲げ可能な
厚さまで薄くする方法では、ベースフィルムの強度低下
によって、フィルムキャリア製造時、実装時の取り扱い
が困難になり、寸法精度も低下して実用的でない。(2) In the method in which the entire base film is thinned to a thickness at which the base film can be bent, the strength of the base film is reduced, so that it is difficult to handle the film carrier during manufacture and mounting, and the dimensional accuracy is reduced. Not.
【0013】本発明の目的は、ベースフィルムを2層化
することによって、上述した従来技術の問題点を解消し
て、折曲げ実装性、信頼性に優れた新規なTAB用フィ
ルムキャリアを提供することにある。An object of the present invention is to provide a novel TAB film carrier excellent in bending mountability and reliability by solving the above-mentioned problems of the prior art by forming the base film into two layers. It is in.
【0014】また、本発明の目的は、通常の加工設備で
製造でき、加工性、生産性に優れたTAB用フィルムキ
ャリアの製造方法を提供することにある。It is another object of the present invention to provide a method for producing a TAB film carrier which can be produced by ordinary processing equipment and has excellent processability and productivity.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】本発明のTAB用フィル
ムキャリアは、ベースフィルム上にリードを形成し、こ
のリードの折曲げ部に対応するベースフィルム部に折曲
げ用開孔を設けその開孔位置で折り曲げて使用するTA
B用フィルムキャリアにおいて、ベースフィルムをリー
ドパターン側の第1のベースフィルムと、リードパター
ン側とは反対側の第2のベースフィルムとの2層構造と
し、第2のベースフィルムにのみ前記折曲げ用開孔を設
けたものである。According to the TAB film carrier of the present invention, a lead is formed on a base film, and a bent opening is formed in a base film portion corresponding to a bent portion of the lead. TA to be bent at position
In the film carrier for B, the base film has a two-layer structure of a first base film on the lead pattern side and a second base film on the side opposite to the lead pattern side, and is bent only on the second base film. It is provided with an opening for use.
【0016】本発明に用いられる第1及び第2のベース
フィルムとしては、可撓性、耐熱性、絶縁性等を有する
フィルム材料であれば良く、例えばポリイミド、ポリエ
ステル等が用いられる。特に、耐熱性、寸法安定性が要
求される場合には、ポリイミドフィルムが好適である。
また第1のベースフィルムは折曲げ性を確保するため、
25μm以下の厚さのものを用いることが望ましい。The first and second base films used in the present invention may be any film material having flexibility, heat resistance, insulation and the like, for example, polyimide, polyester and the like. In particular, when heat resistance and dimensional stability are required, a polyimide film is preferable.
In addition, the first base film is designed to ensure bendability,
It is desirable to use one having a thickness of 25 μm or less.
【0017】また、本発明のTAB用フィルムキャリア
の製造方法は、ベースフィルム上にリードを形成し、こ
のリードの折曲げ部に対応するベースフィルム部に折曲
げ用開孔を設けその開孔位置で折り曲げて使用するTA
B用フィルムキャリアの製造方法において、絶縁フィル
ムの両面に接着剤を塗布して第1のベースフィルムを作
成し、絶縁フィルムに折曲げ用開孔を成形して第2のベ
ースフィルムを作成し、この第2のベースフィルム上に
前記接着剤を介して第1のベースフィルムを積層した
後、第1、第2のベースフィルムに前記折曲げ用開孔を
除く共通の開孔を成形し、第1のベースフィルム上に前
記接着剤を介して金属箔を積層した後、リードを形成す
るようにしたものである。Further, according to the method for producing a TAB film carrier of the present invention, a lead is formed on a base film, and a bending opening is formed in a base film portion corresponding to a bent portion of the lead. TA to be bent and used
In the method for manufacturing a film carrier for B, an adhesive is applied to both surfaces of the insulating film to form a first base film, and a second base film is formed by forming a bending hole in the insulating film. After laminating the first base film on the second base film via the adhesive, a common opening excluding the bending opening is formed in the first and second base films. After laminating a metal foil on the base film 1 via the adhesive, leads are formed.
【0018】[0018]
【作用】本発明のTAB用フィルムキャリアにあって
は、ベースフィルムを、リードパターン側の第1のベー
スフィルムと、リードパターンとは反対側の第2のベー
スフィルムとの2層構造とし、折曲げ用開孔を第2のベ
ースフィルムにのみ設けるようにしてある。従って、折
曲げ部のリードが第1のベースフィルムで支持され、こ
れによってTAB用フィルムキャリアを折り曲げる際、
リードパターンへの応力集中が低減でき、耐折曲げ性が
大幅に向上する。According to the TAB film carrier of the present invention, the base film has a two-layer structure of a first base film on the lead pattern side and a second base film on the side opposite to the lead pattern. An opening for bending is provided only in the second base film. Therefore, when the lead of the bent portion is supported by the first base film, thereby bending the TAB film carrier,
Stress concentration on the lead pattern can be reduced, and bending resistance can be greatly improved.
【0019】また、本発明のTAB用フィルムキャリア
の製造方法にあっては、予め折曲げ用開孔をプレス成形
した第2のベースフィルムを、第1のベースフィルムに
積層するだけで、折曲げ用開孔を第2のベースフィルム
にのみ設けることができるので、特殊な専用加工設備を
必要とせず、加工性が容易となる。In the method for producing a TAB film carrier according to the present invention, the second base film, in which the opening for bending is press-formed in advance, is simply laminated on the first base film. Since the opening for use can be provided only in the second base film, no special dedicated processing equipment is required, and workability is facilitated.
【0020】[0020]
【実施例】以下、本発明の実施例について、添付図面を
参照しながら説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
【0021】(実施例)図2は本実施例のTAB用フィ
ルムキャリアの平面図、図3は図2のA−A′線断面図
である。本実施例のTAB用フィルムキャリアにおいて
は、図2、図3に示すように、ベースフィルム1は、銅
箔からなるリード14を接着剤2により接着して支持す
る第1ベースフィルム1aと、第1ベースフィルム1a
と接着剤2′により接着された第2ベースフィルム1b
との2層構造から構成されている。デバイスホール4及
びアウターリードホール5は第1、第2ベースフィルム
1a、1bを貫通している。リード14の折曲げ部に対
応するベースフィルム部に形成される折曲げ用スリット
開孔6′、6′は第2ベースフィルム1bのみを貫通す
るように開口しており、リード8aの折曲げ部15、1
5を第1ベースフィルム1aで支持するようにしてあ
る。(Embodiment) FIG. 2 is a plan view of a TAB film carrier of this embodiment, and FIG. 3 is a sectional view taken along line AA 'of FIG. In the TAB film carrier of the present embodiment, as shown in FIGS. 2 and 3, the base film 1 includes a first base film 1a for supporting a lead 14 made of copper foil by bonding with an adhesive 2, and a second base film 1a. 1 base film 1a
Base film 1b adhered with adhesive 2 '
And a two-layer structure. The device hole 4 and the outer lead hole 5 penetrate the first and second base films 1a and 1b. The bending slit openings 6 ', 6' formed in the base film portion corresponding to the bent portion of the lead 14 are opened so as to penetrate only the second base film 1b, and the bent portion of the lead 8a is formed. Fifteen, one
5 is supported by the first base film 1a.
【0022】上記構成のTAB用フィルムキャリアは次
のようにして製造する。まず、厚さ50μm、幅35m
mのポリイミドフィルムにスプロケットホール3、折曲
げ用開孔6′、6′をプレス穿孔し、第2ベースフィル
ム1bを作成する。ここで、折曲げ用開孔6′の形状は
スリット状とし、その開孔幅は0.6mm、本数は2本
とした。The TAB film carrier having the above structure is manufactured as follows. First, thickness 50μm, width 35m
A second base film 1b is formed by press-piercing a sprocket hole 3 and bending openings 6 ', 6' in a m-polyimide film. Here, the shape of the opening 6 ′ for bending was a slit shape, the opening width was 0.6 mm, and the number was 2.
【0023】次に、両面に厚さ10μmのエポキシ樹脂
接着剤2、2′を塗布した厚さ25μm、幅26mmの
ポリイミドフィルムよりなる第1ベースフィルム1a
を、第2ベースフィルム1bの片面に位置合せしてラミ
ネートする。これによりベースフィルムの総厚は通常の
75μmとしてある。ラミネート後、第1、第2ベース
フィルム1a、1bに共通にデバイスホール4、アウタ
ーリードホール5を含む所望の開孔をプレス穿孔により
設ける。Next, a first base film 1a made of a polyimide film having a thickness of 25 μm and a width of 26 mm coated with epoxy resin adhesives 2 and 2 ′ having a thickness of 10 μm on both sides.
Is laminated on one side of the second base film 1b. Thereby, the total thickness of the base film is set to a normal value of 75 μm. After lamination, desired openings including the device hole 4 and the outer lead hole 5 are provided in the first and second base films 1a and 1b in common by press punching.
【0024】次いで、厚さ35μm、幅26mmの電解
銅箔を第1ベースフィルム1a上に接着剤2を介してラ
ミネートする。そして、フォトエッチング法により、銅
箔をエッチング加工してインナーリード7、アウターリ
ード8a、8bを含むリードパターンを形成し、図2に
示す平面形状及び図3に示す断面構造のTAB用フィル
ムキャリアを得る。Next, an electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm and a width of 26 mm is laminated on the first base film 1 a via an adhesive 2. Then, the copper foil is etched by a photo-etching method to form a lead pattern including the inner leads 7 and the outer leads 8a and 8b, and a TAB film carrier having a plan shape shown in FIG. 2 and a cross-sectional structure shown in FIG. obtain.
【0025】図1は、このTAB用テープキャリアを折
り曲げて液晶パネルの駆動素子を実装した断面図を示
す。出力信号接続用アウターリード8aは液晶13を搭
載した液晶基板11の周縁部に形成された電極上に対向
させ、異方性導電接着剤10を介して接続され、入力信
号接続用アウターリード8bはプリント基板12上の外
部基板端子に半田付けして実装される。折曲げ用スリッ
ト開孔6、6が設けられたベースフィルム1の折曲げ部
15、15では、リード14は、これのみではなく、第
1ベースフィルム1aと一緒に折り曲げられ、第1ベー
スフィルム1aに支持される。FIG. 1 is a cross-sectional view in which the TAB tape carrier is bent to mount a driving element of a liquid crystal panel. The output signal connection outer lead 8a is opposed to an electrode formed on the periphery of the liquid crystal substrate 11 on which the liquid crystal 13 is mounted, and is connected via an anisotropic conductive adhesive 10. The input signal connection outer lead 8b is It is mounted by soldering to an external board terminal on the printed board 12. In the bent portions 15 of the base film 1 provided with the slit slits 6 for bending, the leads 14 are bent together with the first base film 1a. Supported by
【0026】なお、図1ではリード14を内側に、ベー
スフィルムを外側にして折り曲げているが、逆にリード
を外側にベースフィルムを内側にして折り曲げるように
してもよい。In FIG. 1, the lead 14 is bent inward and the base film is bent outward, but the lead may be bent outward and the base film may be bent inward.
【0027】(比較例)比較例として、厚さ75μmの
ポリイミドフィルムを単層構造のベースフィルムとして
用い、実施例と同一平面形状で、ベースフィルムに貫通
した折曲げ用開孔スリット6を有する図4、図5に示す
従来と同じ構造のTAB用フィルムキャリアを作成し
た。Comparative Example As a comparative example, a polyimide film having a thickness of 75 μm is used as a base film having a single-layer structure, and has the same planar shape as that of the example, and has a slit 6 for bending that penetrates the base film. 4. A film carrier for TAB having the same structure as the conventional one shown in FIG. 5 was prepared.
【0028】(実験結果)以上により得られた実施例と
比較例の2種類のフィルムキャリアについて、スリット
開孔位置の折曲げ部のリード折曲げ試験(曲げ曲率0.
5mm、曲げ角度90°の繰返し曲げ)を行った結果、
折曲げ部が銅箔リードのみの比較例では20〜30回で
リードが破断したのに対し、第1ベースフィルムにより
リードが支持されている実施例のフィルムキャリアでは
100回以上の曲げでもリード切断は発生せず、優れた
耐折曲げ性を示すことが分かった。(Experimental Results) With respect to the two types of film carriers obtained in the above Examples and Comparative Examples, a lead bending test (bending curvature of 0.1 mm) was performed at the bent portion at the slit opening position.
5 mm, repeated bending at a bending angle of 90 °).
In the comparative example in which the bent portion was only a copper foil lead, the lead was broken after 20 to 30 times, whereas in the film carrier of the example in which the lead was supported by the first base film, the lead was cut even after bending 100 times or more. No bending occurred, indicating excellent bending resistance.
【0029】以上述べたように、本実施例によれば、折
曲げ部のリードが可撓性の第1ベースフィルムにより支
持されているので、折曲げ性を損なうことなく、実装時
のリードへの応力集中が防止され、耐折曲げ性を大幅に
向上させることができる。また、プレス穿孔により折曲
げ用開孔を形成した第2ベースフィルムに第1のベース
フィルムをラミネートして、曲げ性を損なうことなく折
曲げ部を補強するようにしたので、折曲げ部のベースフ
ィルムを化学エッチング、または機械加工によって薄く
する方法等に比べて、特別な装置、プロセスを必要とせ
ず、従来のフィルムキャリア製造設備により製造が可能
であり、頗る経済的である。As described above, according to this embodiment, since the lead of the bent portion is supported by the flexible first base film, the lead at the time of mounting can be provided without impairing the bendability. Is prevented from being concentrated, and the bending resistance can be greatly improved. Also, since the first base film is laminated on the second base film having the opening for bending formed by press punching to reinforce the bent portion without impairing the bendability, the base of the bent portion is formed. Compared to a method of thinning a film by chemical etching or mechanical processing, a special device and process are not required, and the film can be manufactured by a conventional film carrier manufacturing facility, which is very economical.
【0030】なお、上述した実施例においては、スリッ
ト開孔を幅0.6mm、本数2とし、第1ベースフィル
ム幅を第2ベースフィルム幅より狭くした場合について
説明したが、本発明はこれらに限定されるものではな
く、スリット開孔の大きさ、本数等については機器への
実装形態に合せて任意に設定することができる。また、
第1ベースフィルム幅を第2ベースフィルム幅と同一幅
に形成することにより、スプロケットホール部分のフィ
ルム強度を向上させ、取り扱い性を良好にすることも可
能である。In the above-described embodiment, the case where the width of the slit opening is 0.6 mm, the number of the slits is 2 and the width of the first base film is smaller than the width of the second base film has been described. There is no limitation, and the size and number of slit openings can be arbitrarily set according to the mounting form on the device. Also,
By forming the width of the first base film to be the same as the width of the second base film, it is possible to improve the film strength of the sprocket hole portion and improve the handleability.
【0031】[0031]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のTAB用フィルムキャリアによれば、次の効果が得ら
れる。As is clear from the above description, the following effects can be obtained according to the TAB film carrier of the present invention.
【0032】(1)請求項1に記載のフィルムキャリア
によれば、ベースフィルムを2層構造とし、折曲げ用開
孔を第2ベースフィルムに設けるようにして、折曲げ部
のリードを第1ベースフィルムで支持するようにしたの
で、折曲げ性を損なうことなく、実装時のリードへの応
力集中が低減され、信頼性、耐折曲げ性を大幅に向上さ
せることができる。(1) According to the film carrier according to the first aspect, the base film has a two-layer structure, the opening for bending is provided in the second base film, and the lead of the bent portion is formed in the first base film. Since it is supported by the base film, stress concentration on the lead during mounting is reduced without impairing the bendability, and reliability and bend resistance can be greatly improved.
【0033】(2)請求項2に記載のTAB用フィルム
キャリアによれば、第1のベースフィルムの厚さを25
μm以下のポリイミドフィルムとしたので、十分に折曲
げ性が確保され、耐熱性、寸法安定性の要求にも十分に
応えることができる。(2) According to the TAB film carrier of the second aspect, the thickness of the first base film is 25
Since the polyimide film having a thickness of μm or less is used, sufficient bendability can be ensured, and the requirements for heat resistance and dimensional stability can be sufficiently satisfied.
【0034】(3)請求項3に記載のTAB用フィルム
キャリアの製造方法によれば、ベースフィルムを2層構
造とし、予め折曲げ用開孔を成形した第2のベースフィ
ルムを第1のベースフィルムに積層するようにしたの
で、1層構造のベースフィルムの折曲げ部を化学エッチ
ング、または機械加工によって薄くする従来の方法等に
比べて、特別な装置、プロセスを必要とせず、既存のフ
ィルムキャリア製造設備による製造を可能とし、加工
性、生産性を向上することができる。(3) According to the method for manufacturing a TAB film carrier according to the third aspect, the second base film having the base film having a two-layer structure and the opening for bending formed in advance is used as the first base film. Since it is laminated on the film, it does not require any special equipment or process compared to the conventional method of thinning the bent part of the one-layer structure base film by chemical etching or mechanical processing. Manufacturing by a carrier manufacturing facility is enabled, and workability and productivity can be improved.
【図1】本発明の実施例のTAB用フィルムキャリアに
よる実装状態を示す断面図。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a mounting state of a TAB film carrier according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施例によるTAB用フィルムキャリ
アを示す平面図。FIG. 2 is a plan view showing a TAB film carrier according to an embodiment of the present invention.
【図3】図2のA−A′線断面図。FIG. 3 is a sectional view taken along line AA ′ of FIG. 2;
【図4】従来のTAB用フィルムキャリアを示す平面
図。FIG. 4 is a plan view showing a conventional TAB film carrier.
【図5】図4のA−A′線断面図。FIG. 5 is a sectional view taken along line AA ′ of FIG. 4;
【図6】従来のTABフィルムキャリアによる実装状態
を示す断面図。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a mounting state using a conventional TAB film carrier.
1 ベースフィルム 1a 第1ベースフィルム 1b 第2ベースフィルム 2、2′ 接着剤 3 スプロケットホール 4 デバイスホール 5 アウターリードホール 6、6′ 折曲げ用スリット開孔 7 インナーリード 8a、8b 接続用アウターリード 9 ICチップ 10 異方性導電接着剤 11 液晶基板 12 プリント基板 13 液晶 Reference Signs List 1 base film 1a first base film 1b second base film 2, 2 'adhesive 3 sprocket hole 4 device hole 5 outer lead hole 6, 6' slit opening for bending 7 inner lead 8a, 8b outer lead 9 for connection IC chip 10 Anisotropic conductive adhesive 11 Liquid crystal substrate 12 Printed circuit board 13 Liquid crystal
Claims (3)
リードの折曲げ部に対応するベースフィルム部に折曲げ
用開孔を設けその開孔位置で折り曲げて使用するTAB
用フィルムキャリアにおいて、前記ベースフィルムをリ
ードパターン側の第1のベースフィルムと、リードパタ
ーン側とは反対側の第2のベースフィルムとの2層構造
とし、前記第2のベースフィルムにのみ前記折曲げ用開
孔を設けたことを特徴とするTAB用フィルムキャリ
ア。1. A TAB which is formed by forming a lead on a base film, forming a bending hole in a base film portion corresponding to a bent portion of the lead, and bending the lead at the opening position.
In the film carrier for use, the base film has a two-layer structure of a first base film on the lead pattern side and a second base film on the side opposite to the lead pattern side, and the folding is performed only on the second base film. A film carrier for TAB, characterized by having an opening for bending.
以下のポリイミドフィルムであることを特徴とする請求
項1に記載のTAB用フィルムキャリア。2. The method according to claim 1, wherein the first base film has a thickness of 25 μm.
The film carrier for TAB according to claim 1, which is the following polyimide film.
リードの折曲げ部に対応するベースフィルム部に折曲げ
用開孔を設けその開孔位置で折り曲げて使用するTAB
用フィルムキャリアの製造方法において、絶縁フィルム
の両面に接着剤を塗布して第1のベースフィルムを作成
し、絶縁フィルムに折曲げ用開孔を成形して第2のベー
スフィルムを作成し、この第2のベースフィルム上に前
記接着剤を介して第1のベースフィルムを積層した後、
第1、第2のベースフィルムに前記折曲げ用開孔を除く
共通の開孔を成形し、第1のベースフィルム上に前記接
着剤を介して金属箔を積層した後、リードを形成するこ
とを特徴とするTAB用フィルムキャリアの製造方法。3. A TAB which is formed by forming a lead on a base film, forming a bending opening in the base film corresponding to the bent portion of the lead, and bending the lead at the opening position.
In the method for producing a film carrier for use, an adhesive is applied to both sides of an insulating film to form a first base film, and a bending opening is formed in the insulating film to form a second base film. After laminating the first base film on the second base film via the adhesive,
Forming a common opening except for the opening for bending in the first and second base films, laminating a metal foil on the first base film via the adhesive, and then forming a lead. A method for producing a TAB film carrier.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5140397A JP2973782B2 (en) | 1993-06-11 | 1993-06-11 | TAB film carrier and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5140397A JP2973782B2 (en) | 1993-06-11 | 1993-06-11 | TAB film carrier and manufacturing method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06349898A JPH06349898A (en) | 1994-12-22 |
| JP2973782B2 true JP2973782B2 (en) | 1999-11-08 |
Family
ID=15267846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5140397A Expired - Lifetime JP2973782B2 (en) | 1993-06-11 | 1993-06-11 | TAB film carrier and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2973782B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2613025B2 (en) * | 1994-11-07 | 1997-05-21 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | Carrier tape |
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-
1993
- 1993-06-11 JP JP5140397A patent/JP2973782B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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| JPH06349898A (en) | 1994-12-22 |
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