JP2975766B2 - Method for manufacturing flexible thin film solar cell - Google Patents
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、可撓性のある薄膜太陽
電池の製造法に関し、とくに、支持基板の上に薄膜太陽
電池を形成した後、支持基板から剥離する薄膜太陽電池
の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a flexible thin-film solar cell, and more particularly to a method for manufacturing a thin-film solar cell in which a thin-film solar cell is formed on a supporting substrate and then separated from the supporting substrate. About.
【０００２】[0002]
【従来の技術】可撓性を有する薄膜太陽電池の製造方法
は、金属板タイプと剥離タイプとがある。金属板タイプ
は、例えば０．１ｍｍ程度のステンレス板の上にアモル
ファスシリコン太陽電池を積層して製造する。剥離タイ
プは、ガラス等の支持基板の表面にアモルファスシリコ
ン太陽電池を積層した後、支持基板を剥離して薄膜太陽
電池を製造する。2. Description of the Related Art There are two types of flexible thin-film solar cell manufacturing methods: a metal plate type and a peeling type. The metal plate type is manufactured by laminating an amorphous silicon solar cell on a stainless plate of, for example, about 0.1 mm. In the separation type, an amorphous silicon solar cell is laminated on a surface of a support substrate such as glass, and then the support substrate is separated to manufacture a thin-film solar cell.
【０００３】金属タイプは、薄膜太陽電池に可撓性をも
たせるために極めて薄い金属板を使用する必要がある。
このために下記の欠点がある。 アモルファス太陽電池の製造プロセスにおいて、薄
い金属板に印刷する工程およびレーザー加工する等の工
程において、極めて薄い金属板を移送するので、高精度
に移送位置を制御することができない。この欠点は、金
属板が大型化するにつれて益々顕著になる。 金属板が薄いので完全な平面状に保持することが難
しく、この上にアモルファス太陽電池のアモルファスシ
リコン層を理想的な状態で形成することが難しく、大型
化に制限を受ける。アルミ箔、ＳＵＳ箔等の利用も制限
がある。金属板には、ステンレスの薄板に代わって、ア
ルミ箔や、ステンレス箔を使用することもできる。しか
しながら、これ等の金属箔を使用しても、同じ欠点があ
る。[0003] The metal type requires the use of an extremely thin metal plate in order to make the thin film solar cell flexible.
This has the following disadvantages. In a process of manufacturing an amorphous solar cell, an extremely thin metal plate is transferred in a process of printing on a thin metal plate, a process of laser processing, and the like, so that the transfer position cannot be controlled with high precision. This disadvantage becomes more remarkable as the size of the metal plate increases. Since the metal plate is thin, it is difficult to keep it in a perfect plane, and it is difficult to form an amorphous silicon layer of an amorphous solar cell in an ideal state thereon, which limits the increase in size. There are also restrictions on the use of aluminum foil, SUS foil and the like. As the metal plate, an aluminum foil or a stainless steel foil can be used in place of the stainless steel plate. However, the use of these metal foils has the same disadvantages.
【０００４】剥離タイプの製造方法は、これ等の欠点が
ない。剥離タイプによる薄膜太陽電池の製造方法は、特
開平１−１０５５８１号公報に記載されている。この公
報に記載される製造法は、図１に示すように、支持基板
の上に各層を積層して薄膜太陽電池を製造する。この方
法は下記のようにして薄膜太陽電池を製造する。 ガラス等の支持基板１の上に耐熱性のある未硬化の
樹脂を塗布し、これを硬化させることによって耐熱ベー
ス基板２を形成する。 耐熱ベース基板２の上に、透明電極層３と、アモル
ファスシリコン層４と、背面電極層５とを積層してアモ
ルファス太陽電池を積層する。 デバイス保護のため、アモルファス太陽電池の上に
保護層６を形成する。 水中に浸漬して、支持基板１と耐熱ベース基板２と
の間で剥離して、可撓性のある薄膜太陽電池とする。The peeling type manufacturing method does not have these disadvantages. A method of manufacturing a thin film solar cell by a peeling type is described in JP-A-1-105581. According to the manufacturing method described in this publication, as shown in FIG. 1, each layer is laminated on a supporting substrate to manufacture a thin-film solar cell. This method produces a thin film solar cell as follows. A heat-resistant uncured resin is applied on a support substrate 1 such as glass, and cured to form a heat-resistant base substrate 2. On a heat-resistant base substrate 2, an amorphous solar cell is formed by laminating a transparent electrode layer 3, an amorphous silicon layer 4, and a back electrode layer 5. A protective layer 6 is formed on the amorphous solar cell for device protection. It is immersed in water and peeled between the support substrate 1 and the heat-resistant base substrate 2 to obtain a flexible thin-film solar cell.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】この方法は、厚い支持
基板を使用するので、支持基板を平面状に保持してアモ
ルファス太陽電池を積層することができる。しかしなが
ら、この方法は下記の欠点がある。Since this method uses a thick supporting substrate, the supporting substrate can be held flat to stack the amorphous solar cells. However, this method has the following disadvantages.
【０００６】耐熱ベース基板２は、一般にポリイミドワ
ニス（ポリイミドの前駆体）を支持基板１に塗布し、高
温で焼き付けて溶媒を除去するとともに、イミド化反応
を進行させ、ポリイミド被膜（耐熱性樹脂層）を形成し
て設けられる。耐熱ベース基板２は、薄膜太陽電池を補
強して強度を持たせるもので、あまり薄くすることはで
きない。耐熱ベース基板２は、イミド化を完全にするた
めに、充分に高温で焼くと、膜としては充分なものにな
る。しかしながら、このようにしてガラス等の支持基板
１に設けた耐熱ベース基板２は、簡単に剥離できなくな
って実用的でない。耐熱ベース基板の剥離性は、ポリイ
ミドワニスのイミド化温度を低くすることにより改善で
きる。しかしながら、イミド化温度を低くすると、アモ
ルファスシリコン層を形成する時にアウトガスが発生
し、このガスがアモルファスシリコン層の膜質を低下さ
せる。さらに、充分に硬化されない耐熱ベース基板は、
吸水性及び水分の透過性が大きく、アモルファス太陽電
池としての信頼性が低下する。このように、剥離タイプ
は、耐熱ベース基板の剥離性と信頼性とが表裏一体とな
っており、実用面においてはこの問題の解決が不可欠に
なっている。[0006] The heat-resistant base substrate 2 is generally formed by applying a polyimide varnish (a precursor of polyimide) to the support substrate 1 and baking at a high temperature to remove the solvent. ) Is formed. The heat-resistant base substrate 2 reinforces the thin-film solar cell to have strength, and cannot be made too thin. When the heat-resistant base substrate 2 is baked at a sufficiently high temperature in order to complete imidization, the film becomes sufficient as a film. However, the heat-resistant base substrate 2 provided on the supporting substrate 1 made of glass or the like in this manner cannot be easily peeled off, and is not practical. The releasability of the heat-resistant base substrate can be improved by lowering the imidization temperature of the polyimide varnish. However, when the imidization temperature is lowered, outgas is generated when the amorphous silicon layer is formed, and this gas deteriorates the film quality of the amorphous silicon layer. In addition, heat-resistant base substrates that are not fully cured
The water absorption and the permeability of water are large, and the reliability as an amorphous solar cell is reduced. As described above, in the peeling type, the peelability and reliability of the heat-resistant base substrate are integrated, and it is essential to solve this problem in practical use.
【０００７】さらにまた、剥離タイプは、耐熱ベース基
板２にアモルファス太陽電池を積層して設けるので、耐
熱ベース基板２は、薄膜太陽電池に十分な強度を持たせ
るために、膜厚を１０〜２０μｍとすることが要求され
る。ポリイミドワニスは硬化するときに膜厚が１／１０
となる。このため、支持基板には、ポリイミドワニスを
１００〜２００μｍの膜厚に厚く塗布する必要があり、
塗布に手間がかかりスクリーン印刷等の能率的な方法で
塗布できない欠点がある。Further, in the peeling type, an amorphous solar cell is laminated on the heat-resistant base substrate 2, so that the heat-resistant base substrate 2 has a thickness of 10 to 20 μm in order to give the thin-film solar cell sufficient strength. Is required. When cured, the polyimide varnish has a thickness of 1/10
Becomes For this reason, it is necessary to apply a polyimide varnish to the support substrate in a thickness of 100 to 200 μm,
There is a drawback that the application is troublesome and cannot be applied by an efficient method such as screen printing.
【０００８】本発明は、さらにこの欠点を解決すること
を目的に開発されたもので、本発明の重要な目的は、耐
熱ベース基板２を支持基板から簡単かつ確実に剥離で
き、しかも、理想的な状態でアモルファス太陽電池を形
成して信頼性の高い太陽電池を積層できる可撓性を有す
る薄膜太陽電池の製造方法を提供するにある。The present invention has been developed with the object of solving the above drawbacks. An important object of the present invention is to enable the heat-resistant base substrate 2 to be easily and reliably peeled off from the supporting substrate, and to be ideal. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a flexible thin film solar cell capable of stacking highly reliable solar cells by forming an amorphous solar cell in a proper state.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の製造方法は、前
述の目的を達成するために下記のようにして薄膜太陽電
池を製造する。すなわち、本発明は、支持基板１の上に
耐熱ベース基板２を設け、耐熱ベース基板２の上に、両
面に電極層に積層するアモルファスシリコン層４を形成
した後、耐熱ベース基板２を支持基板１から剥離する方
法を改良したものである。According to the manufacturing method of the present invention, a thin-film solar cell is manufactured as follows to achieve the above-mentioned object. That is, the present invention provides a heat-resistant base substrate 2 on a support substrate 1, forms an amorphous silicon layer 4 on both surfaces of which is laminated with an electrode layer on the heat-resistant base substrate 2, and then attaches the heat-resistant base substrate 2 to the support substrate 1. This is an improved method of peeling from No. 1.
【００１０】本発明の製造方法は、とくに、耐熱ベース
基板２を、ポリイミド剥離樹脂層２Ａとベースシート２
Ｂとの２層に分離したことを特徴とする。支持基板１の
上に、未硬化のポリイミド剥離樹脂を塗布して硬化して
ポリイミド剥離樹脂層２Ａを形成する。この剥離樹脂層
２Ａを介して支持基板１にベースシート２Ｂを接着す
る。さらに、ベースシート２Ｂの上に、両面に電極層を
積層したアモルファスシリコン層４を形成し、剥離樹脂
層２Ａでもってベースシート２Ｂを支持基板１から剥離
することを特徴としている。In the manufacturing method of the present invention, in particular, the heat-resistant base substrate 2 is formed by bonding the polyimide release resin layer 2A and the base sheet 2
B and two layers. An uncured polyimide release resin is applied on the support substrate 1 and cured.
A polyimide release resin layer 2A is formed. The base sheet 2B is bonded to the support substrate 1 via the release resin layer 2A. Further, an amorphous silicon layer 4 in which electrode layers are laminated on both sides is formed on the base sheet 2B, and the base sheet 2B is separated from the support substrate 1 by the release resin layer 2A.
【００１１】剥離樹脂層２Ａには、アモルファス太陽電
池を積層する温度に耐性があり、しかも、支持基板１か
ら容易に剥離できる樹脂、例えば、ポリイミドの前駆体
であるポリアミック樹脂等が使用できる。剥離樹脂層２
Ａは、ベースシート２Ｂを剥離するための層であるか
ら、膜厚を薄くすることができ、例えば数μｍ〜数十μ
ｍとすることができる。As the release resin layer 2A, a resin which is resistant to the temperature at which an amorphous solar cell is laminated and which can be easily separated from the support substrate 1, for example, a polyamic resin which is a precursor of polyimide can be used. Release resin layer 2
Since A is a layer for peeling the base sheet 2B, the film thickness can be reduced, for example, several μm to several tens μm.
m.
【００１２】ベースシート２Ｂには、ポリイミドフィル
ム等の耐熱性プラスチックフィルム、薄い金属板や金属
箔、薄いガラス板、金属薄膜やセラミック薄膜等が使用
できる。As the base sheet 2B, a heat-resistant plastic film such as a polyimide film, a thin metal plate or a metal foil, a thin glass plate, a metal thin film or a ceramic thin film can be used.
【００１３】アモルファス太陽電池は、耐熱ベース基板
２の上に順番に、背面電極層５、アモルファスシリコン
層４、透明電極層３を形成し、あるいは逆に、透明電極
層、アモルファスシリコン層、背面電極層を形成する。In an amorphous solar cell, a back electrode layer 5, an amorphous silicon layer 4, and a transparent electrode layer 3 are sequentially formed on a heat-resistant base substrate 2, or conversely, a transparent electrode layer, an amorphous silicon layer, and a back electrode. Form a layer.
【００１４】[0014]
【作用】本発明の薄膜太陽電池の製造方法は、耐熱ベー
ス基板２を、ベースシート２Ｂと剥離樹脂層２Ａの２層
に分離している。ベースシート２Ｂは、アモルファス太
陽電池を積層するためのベースとなり、剥離樹脂層２Ａ
は、ベースシート２Ｂを接着したのち剥離する層として
の役目をする。このため、本発明の方法は、剥離樹脂を
非常に薄くできる。たとえば、この層は、膜厚を１μｍ
以下とすることも可能である。このことは、非常に重要
な点であり、次のような利点がある。 材料費のコストダウン 硬化時間の短縮（生産性アップ） 塗布方式に、能率よく処理できるスクリーン印刷法
を使用できる。このため、大型化および自動化が容易に
なる。According to the method for manufacturing a thin-film solar cell of the present invention, the heat-resistant base substrate 2 is separated into two layers, a base sheet 2B and a release resin layer 2A. The base sheet 2B serves as a base for stacking the amorphous solar cells, and the release resin layer 2A
Serves as a layer to which the base sheet 2B is adhered and then peeled off. For this reason, the method of the present invention can make the release resin very thin. For example, this layer has a thickness of 1 μm
The following is also possible. This is a very important point and has the following advantages. Cost reduction of material cost Reduction of curing time (increase of productivity) Screen printing method that can process efficiently can be used for coating method. For this reason, upsizing and automation become easy.
【００１５】さらに、耐熱ベース基板２をベースシート
２Ｂと剥離樹脂層２Ａとに分離するので、剥離樹脂層２
Ａには十分な強度が要求されない。このため、支持基板
１に塗布した剥離樹脂を硬化させる温度を、完全重合に
必要な温度から５０〜１００℃程度低くして、剥離性を
向上することができる。十分に硬化しない剥離樹脂層２
Ａは強度は十分にはできないが、重合度が低いと剥離性
は良くなる。さらに、従来の方法で支持基板１に設けら
れる耐熱ベース基板２に比較すると、剥離樹脂層２Ａは
膜厚を１／１０程度に薄くできるので、アモルファスシ
リコン層４を形成するときに発生するアウトガスを大幅
に低減できる。また、ベースシート２Ｂは、すでにシー
ト状に加工したものも使用できるので、薄膜太陽電池の
耐湿性能等を向上させて信頼性の高いアモルファス太陽
電池を形成できる。Further, since the heat-resistant base substrate 2 is separated into the base sheet 2B and the release resin layer 2A,
A does not require sufficient strength. For this reason, the temperature at which the release resin applied to the support substrate 1 is cured is lowered by about 50 to 100 ° C. from the temperature required for complete polymerization, so that the releasability can be improved. Release resin layer 2 not sufficiently cured
A cannot have sufficient strength, but if the degree of polymerization is low, the releasability is improved. Further, as compared with the heat-resistant base substrate 2 provided on the support substrate 1 by the conventional method, since the thickness of the release resin layer 2A can be reduced to about 1/10, the outgas generated when the amorphous silicon layer 4 is formed can be reduced. It can be greatly reduced. In addition, since the base sheet 2B may be a sheet that has already been processed, a highly reliable amorphous solar cell can be formed by improving the moisture resistance and the like of the thin film solar cell.
【００１６】[0016]
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。ただし、以下に示す実施例は、本発明の技術思想
を具体化するための製造方法を例示するものであって、
本発明の製造方法は、製造された薄膜太陽電池の構造や
材質、あるいは、製造工程における条件を下記のものに
特定するものでない。本発明の薄膜太陽電池の製造方法
は、特許請求の範囲において、種々の変更を加えること
ができる。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the following examples illustrate a manufacturing method for embodying the technical idea of the present invention,
The manufacturing method of the present invention does not specify the structure and material of the manufactured thin-film solar cell or the conditions in the manufacturing process as follows. The method for manufacturing a thin-film solar cell of the present invention can be modified in various ways within the scope of the claims.
【００１７】さらに、この明細書は、特許請求の範囲を
理解し易いように、実施例に示される部材に対応する番
号を、「特許請求の範囲の欄」、「作用の欄」、および
「課題を解決するための手段の欄」に示される部材に付
記している。ただ、特許請求の範囲に示される部材を、
実施例の部材に特定するものでは決してない。Further, in this specification, in order to make it easy to understand the claims, the numbers corresponding to the members shown in the embodiments will be referred to as “claims”, “action”, and “action”. In the column of "Means for solving the problem". However, the members shown in the claims are
It is by no means specific to the members of the embodiment.
【００１８】下記の工程で、図２に示す薄膜太陽電池を
製造する。 支持基板１として青板ガラスを使用し、支持基板１
を洗浄して、乾燥した後、未硬化ペースト状の剥離樹脂
を塗布する。剥離樹脂には、ポリイミド樹脂の前駆体で
あるポリアミック酸溶液を使用する。未硬化の剥離樹脂
の粘度は、室温で５０〜６０ｐｏｉｓｅで、これをスク
リーン印刷により、支持基板１に全面に均一に塗布す
る。乾燥前における剥離樹脂の塗布膜の厚さは、およそ
１０〜１５μｍとする。In the following steps, the thin-film solar cell shown in FIG. 2 is manufactured. A soda glass is used as the support substrate 1, and the support substrate 1
After washing and drying, an uncured paste-like release resin is applied. As a release resin, a polyamic acid solution which is a precursor of a polyimide resin is used. The uncured release resin has a viscosity of 50 to 60 poise at room temperature, and is uniformly applied to the entire surface of the support substrate 1 by screen printing. The thickness of the coating film of the release resin before drying is about 10 to 15 μm.
【００１９】 剥離樹脂が未硬化のときに、ベースシ
ート２Ｂを積層して熱圧着する。ベースシート２Ｂに
は、ポリイミドフィルムを使用するポリイミドフィルム
は、ラミネート装置を利用して剥離樹脂層２Ａの上に熱
圧着する。その後、必要ならば、内部温度を３５０℃に
設定した熱風乾燥炉に投入して仮硬化を行う。ベースシ
ート２Ｂには、ポリイミドフィルムに代わって、可撓性
のある無機シート、例えば、薄い金属箔または金属板、
または薄い硝子板等も使用できる。さらに、剥離樹脂層
２Ａの上に、真空蒸着法または溶射法により、金属薄膜
やセラミック薄膜を形成してベースシート２Ｂとするこ
ともできる。When the release resin is not cured, the base sheet 2B is laminated and thermocompression-bonded. A polyimide film using a polyimide film for the base sheet 2B is thermocompression-bonded onto the release resin layer 2A using a laminating apparatus. Thereafter, if necessary, it is put into a hot-air drying furnace in which the internal temperature is set at 350 ° C. to perform temporary curing. Instead of the polyimide film, the base sheet 2B has a flexible inorganic sheet, for example, a thin metal foil or a metal plate,
Alternatively, a thin glass plate or the like can be used. Further, a metal thin film or a ceramic thin film may be formed on the release resin layer 2A by a vacuum evaporation method or a thermal spraying method to form the base sheet 2B.
【００２０】 その後、ベースシート２Ｂの上に、背
面電極とアモルファスシリコン層４と透明電極からなる
アモルファス太陽電池を形成する。Thereafter, an amorphous solar cell including the back electrode, the amorphous silicon layer 4, and the transparent electrode is formed on the base sheet 2B.
【００２１】 アモルファス太陽電池の表面に、デバ
イス保護のためにＰＥＴフィルムをラミネートして保護
層６を設ける。A protective film 6 is provided on the surface of the amorphous solar cell by laminating a PET film for device protection.
【００２２】 その後、水に浸漬して約１時間経過す
ると、自然に、剥離樹脂層２Ａを境界として、支持基板
１とベースシート２Ｂとが遊離し、可撓性のある薄膜太
陽電池が完成する。Then, when about 1 hour has elapsed after immersion in water, the support substrate 1 and the base sheet 2B are naturally separated from the release resin layer 2A as a boundary, and a flexible thin-film solar cell is completed. .
【００２３】以上の実施例は、ベースシート２Ｂの表面
に、順番に背面電極層５と、アモルファスシリコン層４
と、透明電極層３とを形成した太陽電池を積層したが、
本発明の方法は、ベースシート２Ｂの表面に、順番に、
透明電極層と、アモルファスシリコン層と、背面電極層
とを形成してアモルファス太陽電池を形成することも可
能である。In the above embodiment, the back electrode layer 5 and the amorphous silicon layer 4 are sequentially formed on the surface of the base sheet 2B.
And the solar cell formed with the transparent electrode layer 3 were laminated,
The method of the present invention, in order, on the surface of the base sheet 2B,
It is also possible to form an amorphous solar cell by forming a transparent electrode layer, an amorphous silicon layer, and a back electrode layer.
【００２４】[0024]
【発明の効果】本発明は、ベースシートが剥離後の太陽
電池の基板となるため、ポリイミド剥離樹脂層は剥離性
を重視して形成できる。例えば、ポリイミド剥離樹脂層
の形成温度を低くして、剥離性を向上させることがで
き、ここで形成温度を低くしてもポリイミド剥離樹脂層
を薄くすることによりアウトガスを低減できる。また、
従来では、ポリイミド膜自体を太陽電池の基板にするの
で、これを薄くすることができなかったが、本発明で
は、ポリイミド剥離樹脂層を薄くすることができるので
アモルファスシリコン形成時のアウトガスを低減でき
る。 According to the present invention, the solar cell after the base sheet is peeled off is provided.
The polyimide release resin layer is peelable because it is used as a battery substrate
Can be formed with emphasis on. For example, polyimide release resin layer
Lowering the formation temperature of the film and improving the releasability.
Here, even if the forming temperature is lowered, the polyimide release resin layer
Outgas can be reduced by reducing the thickness of the gas. Also,
Conventionally, the polyimide film itself is used as a solar cell substrate.
Therefore, this could not be reduced, but in the present invention
Can reduce the thickness of the polyimide release resin layer
Outgas during amorphous silicon formation can be reduced
You.
【００２５】さらにまた、本発明の薄膜太陽電池の製造
方法は、ベースシートに優れた剥離性が要求されない。
このため、ベースシートに、耐熱性のプラスチックフィ
ルム、金属やセラミックの薄膜等も使用でき、さらに、
すでにシート状に形成したシート材を支持基板に接着
し、あるいは、真空蒸着法や溶射法によって剥離樹脂層
を介して支持基板に形成することもでき、使用材料の選
択を任意にできる特長もある。Furthermore, the method for producing a thin-film solar cell of the present invention does not require the base sheet to have excellent peelability.
For this reason, a heat-resistant plastic film, a metal or ceramic thin film, etc. can be used for the base sheet.
A sheet material already formed in a sheet shape can be adhered to a support substrate, or can be formed on a support substrate via a release resin layer by a vacuum evaporation method or a thermal spraying method, and there is a feature that a material to be used can be arbitrarily selected. .
【００２６】さらにまた、本発明の製造方法は、たわみ
の少ないガラス等の支持基板の上に剥離樹脂層を介して
ベースシートを積層し、ベースシートの上にアモルファ
ス太陽電池を積層し、その後に支持基板を剥離して薄膜
太陽電池を製造している。このため、大型の支持基板を
使用して、信頼性の高いの薄膜太陽電池を高精度に能率
よく多量生産できる特長もある。Still further, according to the manufacturing method of the present invention, a base sheet is laminated via a release resin layer on a supporting substrate made of glass or the like having a small deflection, an amorphous solar cell is laminated on the base sheet, and thereafter, The thin film solar cell is manufactured by peeling the supporting substrate. For this reason, there is also a feature that highly reliable thin-film solar cells can be mass-produced with high precision and efficiency using a large-sized support substrate.
【図１】従来の薄膜太陽電池の製造方法を示す断面図FIG. 1 is a cross-sectional view showing a conventional method for manufacturing a thin-film solar cell.
【図２】本発明の一実施例を示す薄膜太陽電池の製造方
法を示す断面図FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a thin-film solar cell according to an embodiment of the present invention.
１…支持基板 ２…耐熱ベース基板 ２Ａ…剥離樹脂層
２Ｂベースシート ３…透明電極層 ４…アモルファスシリコン層 ５…背面電極層 ６…保護層DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Support substrate 2: Heat resistant base substrate 2A ... Release resin layer
2B base sheet 3 ... Transparent electrode layer 4 ... Amorphous silicon layer 5 ... Back electrode layer 6 ... Protective layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 若宮 要範 大阪府守口市京阪本通２丁目18番地 三 洋電機株式会社内 (72)発明者 海道 佳典 大阪府守口市京阪本通２丁目18番地 三 洋電機株式会社内 (72)発明者 勝部 浩司 大阪府守口市京阪本通２丁目18番地 三 洋電機株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−261761（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−105581（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−117682（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 31/04 - 31/078 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Kazunori Wakamiya 2-18-18 Keihanhondori, Moriguchi-shi, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Yoshinori Kaido 2-18-18 Keihanhondori, Moriguchi-shi, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Koji Katsube 2-18-18 Keihanhondori, Moriguchi-shi, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd. (56) References JP-A-63-26161 (JP, A) JP-A-1 -105581 (JP, A) JP-A-60-117682 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H01L 31/04-31/078
Claims (1)
を設け、耐熱ベース基板(2)の上に、両面に電極層に積
層するアモルファスシリコン層(4)を形成した後、耐熱
ベース基板(2)を支持基板(1)から剥離して薄膜太陽電池
を製造する方法において、 耐熱ベース基板(2)をポリイミド剥離樹脂層(2A)とベー
スシート(2B)との２層に分離し、支持基板(1)の上に未
硬化の剥離樹脂を塗布して硬化させてポリイミド剥離樹
脂層(2A)を設け、この剥離樹脂層(2A)を介して支持基板
(1)にベースシート(2B)を接着し、ベースシート(2B)の
上に、両面に電極層を積層したアモルファスシリコン層
(4)を形成し、剥離樹脂層(2A)でもってベースシート(2
B)を支持基板(1)から剥離するように構成されたことを
特徴とする可撓性のある薄膜太陽電池の製造方法。1. A heat-resistant base substrate (2) on a support substrate (1).
After forming an amorphous silicon layer (4) laminated on both sides of the electrode layer on the heat-resistant base substrate (2), the heat-resistant base substrate (2) is peeled off from the support substrate (1) to form a thin-film solar cell. In the method of manufacturing, the heat-resistant base substrate (2) is separated into two layers of a polyimide release resin layer (2A) and a base sheet (2B), and an uncured release resin is applied on the support substrate (1). Cured to provide a polyimide release resin layer (2A), and through this release resin layer (2A)
An amorphous silicon layer with a base sheet (2B) adhered to (1) and an electrode layer laminated on both sides on the base sheet (2B)
(4) to form a base sheet (2) with a release resin layer (2A).
A method for producing a flexible thin-film solar cell, characterized in that B) is separated from the support substrate (1).
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1992
- 1992-05-13 JP JP4120698A patent/JP2975766B2/en not_active Expired - Fee Related
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