JP2976018B2 - Method for producing hexaazaisowurtzitane having acyl group - Google Patents
Method for producing hexaazaisowurtzitane having acyl groupInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、従来の火薬組成物
の高性能化をはかるために利用されるヘキサニトロヘキ
サアザイソウルチタンのニトロ化前駆体であるアシル基
を有するヘキサアザイソウルチタン誘導体類の製造方法
に関する。The present invention relates to a hexaazaisowurtzitane having an acyl group, which is a nitrating precursor of hexanitrohexaazaisowurtzitane used for improving the performance of conventional explosive compositions. The present invention relates to a method for producing derivatives.
【0002】[0002]
【従来の技術】アシル基を有するヘキサアザイソウルチ
タンの製造方法として、ヘキサキス(アリールメチル)
ヘキサアザイソウルチタンをアシル化剤存在下で還元的
脱アリールメチルし、テトラアシルビス(アリールメチ
ル)ヘキサアザイソウルチタン、ペンタアシルアリール
メチルヘキサアザイソウルチタン、ヘキサアシルヘキサ
アザイソウルチタン、テトラアシルジアルキルヘキサア
ザイソウルチタン等のアシル基とアリールメチル基、ア
ルキル基、水素原子等を有するヘキサアザイソウルチタ
ン誘導体類を製造する方法が知られている[Tetra
hedronVol. 51,No16、4711ー47
22(1995)、PCT−JP96−00189)。
これらの文献、特許出願に記載されている製造方法に用
いられている溶媒は、無水酢酸等のカルボン酸無水物、
酢酸等のカルボン酸、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族化合物、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル化合物、メタノール、エタノール等のアルコー
ル化合物等が使用されている。これらの溶媒中では、N
−H基のアシル化剤によるアシル化後副生する酸性プロ
トンにより反応溶液の酸性度が上がり、プロトンで骨格
分解を生じやすい反応初期のアリールメチル基を多く含
むヘキサアザイソウルチタン誘導体類の骨格分解誘発し
やすい。また、テトラアシルヘキサアザイソウルチタン
を合成する方法として、ヘキサキス(アリールメチル)
ヘキサアザイソウルチタンから直接誘導している例はな
い。2. Description of the Related Art As a method for producing hexaazaisowurtzitane having an acyl group, hexakis (arylmethyl)
Hexaazaisowurtzitane is subjected to reductive dearylmethylation in the presence of an acylating agent to give tetraacylbis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitane, pentaacylarylmethylhexaazaisowurtzitane, hexaacylhexaazaisowurtzitane, There is known a method for producing hexaazaisowurtzitane derivatives having an acyl group such as tetraacyldialkylhexaazaisowurtzitanium and an arylmethyl group, an alkyl group, a hydrogen atom and the like [Tetra
hedronVol. 51, No16, 4711-47
22 (1995), PCT-JP 96-00189).
Solvents used in the production methods described in these documents and patent applications are carboxylic anhydrides such as acetic anhydride,
Carboxylic acids such as acetic acid, aromatic compounds such as benzene, toluene, and xylene, ether compounds such as tetrahydrofuran and dioxane, and alcohol compounds such as methanol and ethanol are used. In these solvents, N
The acid skeleton by-produced after acylation of the -H group with an acylating agent increases the acidity of the reaction solution, and the skeleton of hexaazaisowurtzitane derivatives containing a large amount of arylmethyl groups in the initial stage of the reaction, which is liable to cause skeletal decomposition by protons Easy to induce decomposition. As a method for synthesizing tetraacylhexaazaisowurtzitanium, hexakis (arylmethyl)
There is no example of direct derivation from hexaazaisoul titanium.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ヘキ
サキス(アリールメチル)ヘキサアザイソウルチタンを
反応溶媒中でアシル化剤存在下で還元的脱アリールメチ
ルするに際し、反応溶媒の酸性を変化させ骨格分解を抑
制し、ヘキサキス(アリールメチル)ヘキサアザイソウ
ルチタンから一段でテトラアシルヘキサアザイソウルチ
タンを高収率で製造する方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to change the acidity of a reaction solvent in the reductive dearylmethylation of hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitane in the presence of an acylating agent in a reaction solvent. It is an object of the present invention to provide a method for producing tetraacylhexaazaisowurtzitanium in one step from hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitanium in a high yield by suppressing skeletal decomposition.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ヘキサキ
ス(アリールメチル)ヘキサアザイソウルチタンのアシ
ル化剤存在下での還元的脱アリールメチル反応の反応溶
媒として、アミド基を有する化合物を用い、活性の高い
触媒を用いることで、ヘキサキス(アリールメチル)ヘ
キサアザイソウルチタンを一段でテトラアシルヘキサア
ザイソウルチタンへ高収率で誘導することに成功し、本
発明を完成した。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have prepared a compound having an amide group as a reaction solvent for a reductive dearylmethylation reaction of hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitane in the presence of an acylating agent. By using a highly active catalyst, hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitane was successfully derived in one step to tetraacylhexaazaisowurtzitanium in high yield, and the present invention was completed.
【0005】すなわち、本発明は、下記一般式(1)で
表されるWB6 をアシル化剤存在下で還元的脱アリール
メチルし、一段でWAn H(6-n) を合成する方法を提供
するものである。 WB6 → WAn H(6-n) (1) [式中、nは4〜5の整数、Bは炭素数7〜21のアリ
ールメチル基、Aは炭素数1〜10のアシル基、Wは下
式(2)に示す6価のヘキサアザイソウルチタン残基を
表わす。]That is, the present invention provides a method for synthesizing WA n H (6-n) in one step by reductive dearylmethylation of WB 6 represented by the following general formula (1) in the presence of an acylating agent. To provide. WB 6 → WA n H (6-n) (1) wherein n is an integer of 4 to 5, B is an arylmethyl group having 7 to 21 carbon atoms, A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, W Represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by the following formula (2). ]
【0006】[0006]
【化2】 該反応は、反応溶媒中で1)アシル化剤の存在下還元的
脱アリールメチルするものであり、一段でWAn H
(6-n) を合成するものである。Embedded image The reaction involves 1) reductive dearylmethylation in the presence of an acylating agent in a reaction solvent, and in one step WA n H
(6-n) is synthesized.
【0007】反応式(1)の反応に用いられるアミド基
を有する溶媒としては、WB6 を溶解し、反応に悪影響
を及ぼさないアミド基を有する溶媒であればどのような
ものでも使用することができる。好ましくは、N,N−
ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリドン、N−メチ
ル−2−ピロリドン、N,N−ジエチルニペコタミド等
が挙げられる。さらに好ましくは、N,N−ジメチルア
セトアミド、N,N−ジメチルホルムアミドが挙げられ
る。これらのアミド基を有する溶媒は、単独または2種
以上混合して用いてもよい。As the solvent having an amide group used in the reaction of the reaction formula (1), any solvent having an amide group that dissolves WB 6 and does not adversely affect the reaction can be used. it can. Preferably, N, N-
Examples include dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-diethylnipecotamide and the like. More preferably, N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide are mentioned. These solvents having an amide group may be used alone or in combination of two or more.
【0008】反応式(1)の反応におけるWB6 の濃度
は、溶媒に対する重量比で表現して、通常0.001〜
1、好ましくは、0.005〜0.3、さらに好ましく
は、0.01〜0.2の範囲である。反応式(1)の反
応で使用され還元剤は、通常、水素、ギ酸が用いられ
る。好ましくは、水素が用いられる。前記還元剤の用い
られる量は、WB6 のアリールメチル基に対するモル比
で表現して0.1〜10000、好ましくは0.67〜
1000、さらに好ましくは、2〜50の範囲である。[0008] The concentration of WB 6 in the reaction of reaction formula (1) are expressed by weight relative to the solvent, typically 0.001
1, preferably 0.005 to 0.3, more preferably 0.01 to 0.2. As the reducing agent used in the reaction of the reaction formula (1), hydrogen and formic acid are usually used. Preferably, hydrogen is used. The amount of the reducing agent used is 0.1 to 10,000, preferably 0.67 to 10,000 in terms of the molar ratio of WB 6 to the arylmethyl group.
1000, more preferably in the range of 2 to 50.
【0009】還元剤として水素を使用する場合は、水素
の分圧で表現して0.01〜100、好ましくは、0.
1〜30、さらに好ましくは、0.1〜15kgf/c
m2の範囲で使用される。水素以外に、窒素、アルゴ
ン、ヘリウムなどの不活性ガスが存在してもよい。反応
式(1)の反応で使用される還元触媒は、WB6 のアリ
ールメチル基を還元的脱アリールメチルする触媒であれ
ばどのようなものでも使用できるが、通常、白金族に属
する金属、または、その誘導体が用いられ、好ましく
は、Pd(OAc)2 、PdCl2 、Pd(N
O3 )2 、PdO、Pd(OH)2 、Pd3 Pb1 、P
d3 Te1 などのPd化合物、Pd合金およびPd金
属;RuCl3 などのRu化合物、Ru合金およびRu
金属などが用いられ、さらに好ましくは、Pd(OA
c)2 、PdCl2 などのPd化合物、Pd合金および
Pd金属が使用される。When hydrogen is used as the reducing agent, the partial pressure of hydrogen is 0.01 to 100, preferably 0.1 to 100.
1 to 30, more preferably 0.1 to 15 kgf / c
It is used in the range of m 2. In addition to hydrogen, an inert gas such as nitrogen, argon, and helium may be present. As the reduction catalyst used in the reaction of the reaction formula (1), any catalyst can be used as long as it reduces the arylmethyl group of WB 6 by reductive dearylmethyl, but usually, a metal belonging to the platinum group, or And derivatives thereof, and preferably Pd (OAc) 2 , PdCl 2 , Pd (N
O 3 ) 2 , PdO, Pd (OH) 2 , Pd 3 Pb 1 , P
Pd compounds such as d 3 Te 1, Pd alloys and metallic Pd; Ru compounds such as RuCl 3, Ru alloys and Ru
A metal or the like is used, and more preferably, Pd (OA
c) 2, Pd compounds such as PdCl 2, Pd alloys and metallic Pd are used.
【0010】これらの触媒は、そのまま使用する、ある
いは、活性炭、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、
ゼオライト、活性白土、ジルコニア、チタニアなどの各
種担体に担持させて使用することもできる。反応に供す
る前に触媒を還元処理してもよい。触媒を担体に担持さ
せて使用する場合には、こらの担体をシリル化やアシル
化などの処理を行うことで、表面酸点を不活性化しても
よいし、逆に表面酸点を増やす活性化処理をしてもよい
し、あるいは、NaOHなどのアルカリ性の物質を吸着
させることによって担体表面の酸性度を変化させること
もできる。These catalysts may be used as they are, or may be activated carbon, silica, alumina, silica-alumina,
It can be used by being supported on various carriers such as zeolite, activated clay, zirconia, and titania. Before the reaction, the catalyst may be subjected to a reduction treatment. When the catalyst is used by being supported on a carrier, these carriers may be subjected to a treatment such as silylation or acylation to deactivate the surface acid sites or to increase the surface acid sites. Alternatively, the acidity of the surface of the carrier can be changed by adsorbing an alkaline substance such as NaOH.
【0011】これらの触媒の内、活性炭上にPd2+を担
持させ、それを還元処理してつくったPd−Cは非常に
活性が高いので、本発明の触媒としては最も好ましい。
不均一系還元触媒を使用する場合は、固定床として使用
してもよいし、流動床として使用してもよい。反応式
(1)の反応で使用されるアシル化剤は、2級アミンを
アシル化しN−アシル結合を生成するものであればどの
ようなものでも使用できるが、通常、無水酢酸、無水プ
ロピオン酸、無水ギ酸、無水酪酸、酢酸−ギ酸混合酸の
無水物などのカルボン酸無水物;N−アセトキシコハク
酸イミド、N−プロピオニルオキシコハク酸イミド、N
−(2−フェニルアセトキシ)コハク酸イミドなどのN
−ヒドロキシコハク酸イミドのカルボン酸エステル;ア
セチルイミダゾール、プロピオニルイミダゾールなどの
アシルイミダゾールなどが挙げられる。これらのアシル
化剤の内、好ましくは、無水酢酸、無水プロピオン酸、
酢酸−ギ酸混合酸の無水物などのカルボン酸無水物が使
用される。さらに好ましくは、無水酢酸である。[0011] Among these catalysts, Pd 2+ is carried on activated carbon and Pd-C produced by reducing the Pd 2+ has a very high activity, so that it is most preferable as the catalyst of the present invention.
When a heterogeneous reduction catalyst is used, it may be used as a fixed bed or as a fluidized bed. As the acylating agent used in the reaction of the reaction formula (1), any one can be used as long as it can acylate a secondary amine to form an N-acyl bond. Usually, acetic anhydride and propionic anhydride are used. Carboxylic acid anhydrides such as, formic anhydride, butyric anhydride, acetic acid-formic acid mixed acid anhydride; N-acetoxysuccinimide, N-propionyloxysuccinimide,
N such as-(2-phenylacetoxy) succinimide
-Carboxylic acid esters of hydroxysuccinimide; and acylimidazoles such as acetylimidazole and propionylimidazole. Of these acylating agents, preferably, acetic anhydride, propionic anhydride,
Carboxylic anhydrides such as anhydrides of acetic acid-formic acid mixed acids are used. More preferably, it is acetic anhydride.
【0012】前記アシル化剤の量は、その反応性、反応
方法によっても異なるが、WB6 のアリールメチル基に
対するモル比で表現して、通常、0.67〜100、好
ましくは0.67〜10、さらに好ましくは0.67〜
3の範囲である。反応式(1)の反応温度は、通常、使
用する溶媒の凝固点〜200℃、好ましくは、30〜1
80℃、さらに好ましくは、40〜165℃の範囲で使
用される。この反応は、40〜80℃の比較的低温で反
応を行うとWB6 が長時間溶媒中残存しても骨格分解が
比較的抑制できるので、低温で反応することが好ましい
が、100〜165℃の高温で反応させることにより、
WB6 の溶解度の向上により高濃度条件での反応が可能
になり、かつ、生成するWAn B(6-n) を溶媒中に溶解
させたまま触媒と分離して取り出すことができるので、
高温(100〜165℃)で反応させることも好ましい
方法である。[0012] The amount of the acylating agent, the reactivity, also differ depending on the reaction method, expressed by a molar ratio to the arylmethyl groups of WB 6, usually, from 0.67 to 100, preferably 0.67 to 10, more preferably 0.67 to
3 range. The reaction temperature of the reaction formula (1) is usually from the freezing point of the solvent used to 200 ° C., preferably from 30 to 1
It is used at a temperature of 80 ° C, more preferably 40 to 165 ° C. If the reaction is carried out at a relatively low temperature of 40 to 80 ° C., the skeleton decomposition can be relatively suppressed even if WB 6 remains in the solvent for a long time. By reacting at a high temperature of
The improvement in the solubility of WB 6 enables a reaction under high concentration conditions, and the resulting WA n B (6-n) can be separated from the catalyst while being dissolved in the solvent and taken out.
Reaction at a high temperature (100 to 165 ° C) is also a preferred method.
【0013】反応式(1)の反応で、本発明のアミド基
を有する溶媒を使用した場合は、100〜165℃の高
温条件下で反応を実施しても骨格分解が比較的抑制でき
る。もちろん、40〜80℃の温度範囲で反応を実施し
ても骨格分解は抑制される。この骨格分解抑制効果は、
アミド基を有する溶媒の弱塩基性に由来する。すなわ
ち、アシル化剤存在下での還元的脱アリールメチル反応
において、2級アミンのアシル化剤によるアシル化後酸
性プロトンが生成し、この酸性プロトンがWB6の骨格
分解を促進するが、反応溶媒として弱塩基性のアミド基
を有する溶媒を使用することにより生成した酸性プロト
ンを中和し反応系内の酸性度を低く維持しているため、
高温条件下でも骨格分解が比較的抑制されているのであ
る。When the solvent having an amide group of the present invention is used in the reaction of the reaction formula (1), the decomposition of the skeleton can be relatively suppressed even if the reaction is carried out at a high temperature of 100 to 165 ° C. Of course, skeletal decomposition is suppressed even when the reaction is carried out in a temperature range of 40 to 80 ° C. This skeletal decomposition suppression effect
Derived from the weak basicity of the solvent having an amide group. That is, in the reductive de-arylmethyl reaction in the presence of an acylating agent, acidic protons are generated after acylation with secondary acylating agent of the amine, but the acidic protons promotes skeletal decomposition of WB 6, a reaction solvent As the acid proton generated by using a solvent having a weakly basic amide group as neutralized to maintain the acidity in the reaction system low,
Decomposition of the skeleton is relatively suppressed even under high temperature conditions.
【0014】以下で本発明に使用される原料WB6 およ
び生成物WAn B(6-n) 、WAn H(6-n) の構造につい
て説明する。反応式(1)中のBとして表されるアリー
ルメチル基とは、アリール基(Ar)により置換された
メチル基を示し、通常は、炭素数7〜21のものが使用
される。アリールメチル基Bの代表的な構造としては、
一般式(3)で表される置換基である。The structures of the raw material WB 6 and the products WA n B (6-n) and WA n H (6-n) used in the present invention will be described below. The arylmethyl group represented by B in the reaction formula (1) refers to a methyl group substituted with an aryl group (Ar), and usually has 7 to 21 carbon atoms. Representative structures of the arylmethyl group B include:
It is a substituent represented by the general formula (3).
【0015】−CH2 Ar (3) [Arは炭素数6〜20の芳香族基を表す。]Ar中の
炭素数としては、通常は、6〜20、好ましくは、6〜
10、特に好ましくは、6である。Arとしては、例え
ば、フェニル;トリル(o−、m−、p−各置換体)、
エチルフェニル(o−、m−、p−各置換体)、キシリ
ルなどの各種アルキルフェニル基類;メトキシフェニル
(o−、m−、p−各置換体)、エトキシフェニル(o
−、m−、p−各置換体)、ブトキシフェニル(o−、
m−、p−各置換体)などの各種アルコキシフェニル基
類;ナフチル基および各種置換ナフチル基などが挙げら
れ、好ましくは、フェニル基および各種アルコキシフェ
ニル基類が用いられる。WB6 中の6個のアリールメチ
ル基はそれぞれ同一のものでも、異なったものでもよ
い。-CH 2 Ar (3) [Ar represents an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms. The number of carbon atoms in Ar is usually from 6 to 20, preferably from 6 to
10, particularly preferably 6. Ar is, for example, phenyl; tolyl (o-, m-, p-substituted);
Various alkylphenyl groups such as ethylphenyl (o-, m-, p-substituted) and xylyl; methoxyphenyl (o-, m-, p-substituted), ethoxyphenyl (o
-, M-, p-substituted), butoxyphenyl (o-,
m-, p-substituted products), etc .; naphthyl group and various substituted naphthyl groups; and phenyl group and various alkoxyphenyl groups are preferably used. The six arylmethyl groups in WB6 may be the same or different.
【0016】反応式(1)中、アシル基は炭素数1〜1
0のアシル基であればどのようなものでも用いることが
できる。通常、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、バレリル、ヘキサノイル、2−
フェニルアセチルなどが用いられ、好ましくは炭素数1
〜5のアシル基、例えば、ホルミル、アセチル、プロピ
オニル、ブチリル、バレリルなどが用いられ、さらに好
ましくは炭素数1〜3のアシル基、例えば、ホルミル、
アセチル、プロピオニルなどが用いられる。In the reaction formula (1), the acyl group has 1 to 1 carbon atoms.
Any acyl group of 0 can be used. Usually, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, hexanoyl, 2-
Phenylacetyl or the like is used, preferably having 1 carbon atom.
To 5 acyl groups, for example, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, valeryl and the like are used, and more preferably an acyl group having 1 to 3 carbon atoms, for example, formyl,
Acetyl, propionyl and the like are used.
【0017】反応式(1)中のWA4 H2 、WA5 H1
で表わされるヘキサアザイソウルチタン誘導体は、アシ
ル基、水素原子の置換する位置の違いにより複数の異性
体をとることができるが、本発明の製造方法で得られる
反応生成物はこれら異性体のいずれでもよい。本発明に
おけるWAn B(6-n) は、次式(4−1)〜(4−6)
および次式(5−1)〜(5−2)に立体構造を示す異
性体およびこれらの鏡像異性体構造をとり得る。In the reaction formula (1), WA 4 H 2 and WA 5 H 1
The hexaazaisowurtzitane derivative represented by the formula (I) can take a plurality of isomers depending on the difference in the substitution position of an acyl group and a hydrogen atom, and the reaction product obtained by the production method of the present invention is a mixture of these isomers. Either may be used. WA n B (6-n) in the present invention is represented by the following formulas (4-1) to (4-6).
And the isomers having the steric structures represented by the following formulas (5-1) to (5-2) and their enantiomeric structures.
【0018】[0018]
【化3】 Embedded image
【0019】[0019]
【化4】 [式中、Aは前記アシル基、Hは水素原子、Wは前記ヘ
キサアザイソウルチタン残基を表わす。] 本発明の反応式(1)におけるWA4 H2 、WA5 H1
で表わされるヘキサアザイソウルチタン誘導体は前記式
において、B基が水素原子(H)に置き代わった異性体
およびこれらの鏡像異性体構造をとり得る。Embedded image [In the formula, A represents the acyl group, H represents a hydrogen atom, and W represents the hexaazaisowurtzitanium residue. WA 4 H 2 and WA 5 H 1 in the reaction formula (1) of the present invention.
In the above formula, the hexaazaisowurtzitanium derivative represented by the formula (1) may have an isomer in which the B group is replaced by a hydrogen atom (H) and an enantiomer structure thereof.
【0020】本発明の反応は、WB6 をアシル化剤存在
下で還元的脱アリールメチルすることにより、1)アリ
ールメチル基の還元的脱離によるN−H結合の生成と
2)そのアシル化によるN−アシル基の形成を同時的に
進行させる反応である。また、反応条件によっては、生
成したN−アシル基の還元によるN−アルキル基の形成
が副反応として生じる。この反応において生成が確認さ
れた物質から推定した反応経路を式(6)に示す。[0020] The reaction of the present invention, by reductive de-arylmethyl the WB 6 in the presence of an acylating agent, 1) generating a second N-H bond by reductive elimination of the arylmethyl group) acylated Is a reaction in which the formation of an N-acyl group proceeds simultaneously. Further, depending on the reaction conditions, formation of an N-alkyl group by reduction of the generated N-acyl group occurs as a side reaction. Equation (6) shows a reaction route estimated from a substance confirmed to be formed in this reaction.
【0021】[0021]
【化5】 Embedded image
【0022】したがって、式(6)中に示された物質
が、本発明の反応式(1)で表される反応生成物中に含
まれることがある。本発明のアミド基を有する化合物を
溶媒として利用した製造方法を採用するにより、アシル
基を有するヘキサアザイソウルチタン誘導体が高収率で
工業的に有利に製造できる。Therefore, the substance represented by the formula (6) may be contained in the reaction product represented by the reaction formula (1) of the present invention. By employing the production method using the compound having an amide group of the present invention as a solvent, a hexaazaisowurtzitanium derivative having an acyl group can be industrially advantageously produced in high yield.
【0023】[0023]
【実施例】以下に、実施例などを用いて本発明を更に詳
細に説明するが、本発明はこれら実施例などにより何ら
限定されるものではない。 (実施例1)100mlオートクレーブにヘキサベンジ
ルヘキサアザイソウルチタン2.1g、10%Pd−C
(活性炭上にPd2+を担持させ、それを還元処理してつ
くった触媒)3.15g、無水酢酸1.84g、N,N
−ジメチルアセトアミド30mlを入れ、蓋をする。オ
ートクレーブ内を窒素置換した後、水素置換し、水素
1.1kgf/cm2 の状態に維持する。攪拌を700
rpm以上で開始し、60℃まで昇温し、その後、3時
間反応させる(水素圧力を1.1kgf/cm2 に維持
したまま)。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the present invention. (Example 1) 2.1 g of hexabenzylhexaazaisowurtzitane in a 100 ml autoclave, 10% Pd-C
(A catalyst prepared by supporting Pd 2+ on activated carbon and subjecting it to a reduction treatment) 3.15 g, 1.84 g of acetic anhydride, N, N
-Add 30 ml of dimethylacetamide and cover. After the inside of the autoclave is replaced with nitrogen, the inside of the autoclave is replaced with hydrogen, and hydrogen is maintained at 1.1 kgf / cm 2 . 700 stirring
Starting at rpm or higher, the temperature is raised to 60 ° C., and then the reaction is carried out for 3 hours (while maintaining the hydrogen pressure at 1.1 kgf / cm 2 ).
【0024】反応溶液(触媒がスラリー状に分散した
液)を1mlサンプリングし、液体成分を減圧で留去
し、残固体にテトラヒドロフラン(THF)/水(1/
1)液を1ml加え、攪拌し、テトラアセチルヘキサア
ザイソウルチタンおよびペンタアセチルヘキサアザイソ
ウルチタンを溶解させ、触媒を0.2マイクロメータの
フィルターで濾別し、高速液体クロマトグラフィーで分
析する。その結果、テトラアセチルヘキサアザイソウル
チタンが収率68%で、ペンタアセチルヘキサアザイソ
ウルチタンが収率19%で生成していることが、確認さ
れた。1 ml of the reaction solution (a solution in which the catalyst was dispersed in a slurry state) was sampled, the liquid component was distilled off under reduced pressure, and tetrahydrofuran (THF) / water (1/1) was added to the remaining solid.
1) Add 1 ml of the solution, stir, dissolve tetraacetylhexaazaisowurtzitanium and pentaacetylhexaazaisowurtzitanium, filter the catalyst through a 0.2 micrometer filter, and analyze by high performance liquid chromatography. . As a result, it was confirmed that tetraacetylhexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 68% and pentaacetylhexaazaisowurtzitane was produced at a yield of 19%.
【0025】[0025]
【発明の効果】本発明のアミド基を有する溶媒と高活性
触媒を使用する方法を採用することにより、ヘキサキス
(アリールメチル)ヘキサアザイソウルチタンから一段
でアシル基を有するヘキサアザイソウルチタンアザイソ
ウルチタン誘導体が高収率で工業的に有利に製造でき
る。According to the method of the present invention using a solvent having an amide group and a highly active catalyst, hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitane can be converted to hexaazaisowurtzitane having an acyl group in one step. Xysoultitanium derivatives can be industrially advantageously produced in high yield.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三宅 信寿 岡山県倉敷市潮通3丁目13番1 旭化成 工業株式会社内 (56)参考文献 国際公開96/23792(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07D 487/22 CA(STN) REGISTRY(STN)──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Nobuto Miyake 3-13-1 Ushidori, Kurashiki-shi, Okayama Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. (56) References International Publication 96/23792 (WO, A1) (58) Field (Int. Cl. 6 , DB name) C07D 487/22 CA (STN) REGISTRY (STN)
Claims (1)
キサキス(アリールメチル)ヘキサアザイソウルチタン
をアミド基を有する化合物である反応溶媒中でアシル化
剤存在下、Pdを含む触媒存在下で還元的脱アリールメ
チルしてテトラアシルヘキサアザイソウルチタンとペン
タアシルヘキサアザイソウルチタンを直接一段で製造す
ることを特徴とするアシル基を有するヘキサアザイソウ
ルチタンの製造方法。 WB6 → WA4 H2 +WA5 H1 (1) [式中、Bは炭素数7〜21のアリールメチル基、Aは
炭素数1〜10のアシル基、Hは水素原子、Wは次式
(2)で表される6価のヘキサアザイソウルチタン残基
を表す。] 【化1】 1. A catalyst containing Pd in the presence of an acylating agent in a reaction solvent which is a compound having an amide group and comprising hexakis (arylmethyl) hexaazaisowurtzitanium as represented by the following reaction formula (1). A process for producing tetraacylhexaazaisowurtzitane and pentaacylhexaazaisowurtzitane directly in a single step by reductive dearylmethylation in the presence of hexaazaisowurtzitane having an acyl group. WB 6 → WA 4 H 2 + WA 5 H 1 (1) wherein B is an arylmethyl group having 7 to 21 carbon atoms, A is an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, H is a hydrogen atom, and W is It represents a hexavalent hexaazaisowurtzitanium residue represented by (2). ]
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