JP2980916B2 - シート製造の横方向制御装置およびその方法 - Google Patents
シート製造の横方向制御装置およびその方法Info
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は一般にシート製造機を制御する装置に関す
る。本発明は特にシートの製造中において該シートの横
方向の輪郭線を測定する装置を使用する装置の制御に関
する。
る。本発明は特にシートの製造中において該シートの横
方向の輪郭線を測定する装置を使用する装置の制御に関
する。
シートの処理中においては該シートの特性をオンライ
ンで測定することが一般に行われる。このオンライン測
定の目的は、シート処理の制御を迅速に行い、シートの
均一性を向上し、望ましくない処理条件を補正するまで
に製造されてしまう規格外のシート材料の量を減らすこ
とである。例えば紙製造においては、オンラインセンサ
によって紙の坪量や水分および厚さを検出する。
ンで測定することが一般に行われる。このオンライン測
定の目的は、シート処理の制御を迅速に行い、シートの
均一性を向上し、望ましくない処理条件を補正するまで
に製造されてしまう規格外のシート材料の量を減らすこ
とである。例えば紙製造においては、オンラインセンサ
によって紙の坪量や水分および厚さを検出する。
オンライン測定は、搬送されるシートを横方向に周期
的に横断しまたは走査するセンサによって実現できるこ
とが知られている。すなわちシートの搬送方向にほぼ直
交する方向にシートの表面を横断して測定を行う。実際
には、走査用センサは代表的に約25.4cm（10インチ）／
秒の速度で移動し、約50ms毎に総合データを提供する。
このため代表的な走査用センサは、横方向1.27cm（0.5
インチ）毎にほぼ１つの測定出力を提供する。多くの場
合、走査用センサからの測定情報は集合され、グラフ状
の輪郭線を提供する。この輪郭線は横方向に隣接する箇
所での測定の連続であり、これら測定箇所は一般にスラ
イスと呼ばれる。横方向の輪郭線は、横方向に配置した
固定センサの配列を使用する測定装置によっても同様に
得ることができる。
的に横断しまたは走査するセンサによって実現できるこ
とが知られている。すなわちシートの搬送方向にほぼ直
交する方向にシートの表面を横断して測定を行う。実際
には、走査用センサは代表的に約25.4cm（10インチ）／
秒の速度で移動し、約50ms毎に総合データを提供する。
このため代表的な走査用センサは、横方向1.27cm（0.5
インチ）毎にほぼ１つの測定出力を提供する。多くの場
合、走査用センサからの測定情報は集合され、グラフ状
の輪郭線を提供する。この輪郭線は横方向に隣接する箇
所での測定の連続であり、これら測定箇所は一般にスラ
イスと呼ばれる。横方向の輪郭線は、横方向に配置した
固定センサの配列を使用する測定装置によっても同様に
得ることができる。
シート処理装置を制御して均一な品質のシートを製造
するため、横方向の輪郭線内での変動と各横方向の輪郭
線間での変動とを検出することが一般に行われる。シー
トの搬送方向におけるシートの均一性は、測定されたシ
ート特性が各輪郭線間において全てのスライスに沿って
一定であることとして定義できる。また横方向における
シートの均一性は、測定されたシート特性が各スライス
間において一定であることとして定義できる。このた
め、横方向のシートの均一性とは、シートの横方向の輪
郭線が平坦であることを意味する。
するため、横方向の輪郭線内での変動と各横方向の輪郭
線間での変動とを検出することが一般に行われる。シー
トの搬送方向におけるシートの均一性は、測定されたシ
ート特性が各輪郭線間において全てのスライスに沿って
一定であることとして定義できる。また横方向における
シートの均一性は、測定されたシート特性が各スライス
間において一定であることとして定義できる。このた
め、横方向のシートの均一性とは、シートの横方向の輪
郭線が平坦であることを意味する。
横方向におけるシートの特性すなわち横方向の輪郭線
を制御する装置は各種知られている。例えば紙製造にお
いて、横方向における坪量は１次ヘッドボックスまたは
２次ヘッドボックスによって制御できる。紙シートの横
方向の水分の変動は、横方向に独立して制御可能な区画
を有する再加湿シャワーによって制御できる。
を制御する装置は各種知られている。例えば紙製造にお
いて、横方向における坪量は１次ヘッドボックスまたは
２次ヘッドボックスによって制御できる。紙シートの横
方向の水分の変動は、横方向に独立して制御可能な区画
を有する再加湿シャワーによって制御できる。
輪郭線測定を利用してシート特性の横方向制御を行う
場合、シート処理装置が２つまたはそれ以上の輪郭整形
装置を有しておりそれらの両方がシートの同一特性に影
響を及ぼすと、困難が生ずる。例えば紙の製造中、紙の
横方向における水分はスチームボックスと再加湿シャワ
ーとの両方によって調整できるが、紙製造機はこれら両
方を備えることが多い。紙製造における他の例では、横
方向の坪量が１次および２次ヘッドボックスの両方によ
って調整可能であり、これら両方を備えた紙製造機もあ
る。これらの例において、ある時点における両方の装置
に対する制御信号が同一の横方向の輪郭線から得られる
場合、２つの装置をいかに制御するかが問題となる。
場合、シート処理装置が２つまたはそれ以上の輪郭整形
装置を有しておりそれらの両方がシートの同一特性に影
響を及ぼすと、困難が生ずる。例えば紙の製造中、紙の
横方向における水分はスチームボックスと再加湿シャワ
ーとの両方によって調整できるが、紙製造機はこれら両
方を備えることが多い。紙製造における他の例では、横
方向の坪量が１次および２次ヘッドボックスの両方によ
って調整可能であり、これら両方を備えた紙製造機もあ
る。これらの例において、ある時点における両方の装置
に対する制御信号が同一の横方向の輪郭線から得られる
場合、２つの装置をいかに制御するかが問題となる。
従来の制御方法は、ある時点における動作信号を所定
の割合で分配することによってシート処理装置の多数の
制御装置を動作させることが多い。一例として、再加湿
シャワーとスチームボックスとを共に使用する紙製造機
の場合、従来の制御方法は、ある時点におけるある大き
さの動作信号に対して、再加湿シャワーを1/4だけオン
し、スチームボックスを1/8だけオンする。動作信号の
大きさが２倍になると、再加湿シャワーは1/2だけオン
され、スチームボックスは1/4だけオンされる。このよ
うな方法は一般に信号の配給法と呼ばれる。
の割合で分配することによってシート処理装置の多数の
制御装置を動作させることが多い。一例として、再加湿
シャワーとスチームボックスとを共に使用する紙製造機
の場合、従来の制御方法は、ある時点におけるある大き
さの動作信号に対して、再加湿シャワーを1/4だけオン
し、スチームボックスを1/8だけオンする。動作信号の
大きさが２倍になると、再加湿シャワーは1/2だけオン
され、スチームボックスは1/4だけオンされる。このよ
うな方法は一般に信号の配給法と呼ばれる。
シート処理装置の２つまたはそれ以上の制御装置を動
作させるための他の従来方法に、中間範囲法と呼ばれる
ものがある。代表的な中間範囲法において、第１の制御
装置は、そのアクチュエータの設定点が所定限界内にあ
る間、つまり定義された中間範囲にある間、動作され
る。１つ以上の設定点が前記中間範囲外に出ると、第２
の制御装置が作動される。通常、前記中間範囲は、過去
の動作経験に基づいて、あるいは制御装置のアクチュエ
ータの能力に基づいて選択される。
作させるための他の従来方法に、中間範囲法と呼ばれる
ものがある。代表的な中間範囲法において、第１の制御
装置は、そのアクチュエータの設定点が所定限界内にあ
る間、つまり定義された中間範囲にある間、動作され
る。１つ以上の設定点が前記中間範囲外に出ると、第２
の制御装置が作動される。通常、前記中間範囲は、過去
の動作経験に基づいて、あるいは制御装置のアクチュエ
ータの能力に基づいて選択される。
前記した配給法や中間範囲法などの従来の制御法は、
シート処理装置の制御装置に適用される場合、必ずしも
最適の結果をもたらさない。すなわち、制御装置は処理
条件を調整することによって輪郭線の不均一性を補正す
るわけだが、この制御装置がたとえ最良であっても、従
来の制御法はその制御装置を必ずしも最適に利用してい
ない。
シート処理装置の制御装置に適用される場合、必ずしも
最適の結果をもたらさない。すなわち、制御装置は処理
条件を調整することによって輪郭線の不均一性を補正す
るわけだが、この制御装置がたとえ最良であっても、従
来の制御法はその制御装置を必ずしも最適に利用してい
ない。
第１図は、測定装置が提供する横方向の輪郭線の一例
を示すグラフである。これは横方向の連続する箇所にお
いてシートの選択した特性を測定したものである。第１
図において、縦軸の値は測定した特性の大きさを示す。
これら値は、例えば坪量、水分、厚さなどのシート特性
である。第１図の横軸の値は、前記選択した特性を測定
した横方向の位置すなわちスライスを示す。例えば、図
示の輪郭線は、120番目のスライスにおいて約197の値を
有する。（例えば、走査されたシートは幅が762cm（300
インチ）であり、各2.54cm（１インチ）幅の300個のス
ライスに等分され、第１図のグラフにおける120番目の
スライスはシートの一端から304.8cm（120インチ）に位
置する。） 理想的な条件下において、シート特性は各輪郭線間で
一定であると共に各輪郭線に沿って一定である。このた
め、第１図の輪郭線に示される測定特性は、横方向の均
一性から見ると理想から極めて遠いと云える。
を示すグラフである。これは横方向の連続する箇所にお
いてシートの選択した特性を測定したものである。第１
図において、縦軸の値は測定した特性の大きさを示す。
これら値は、例えば坪量、水分、厚さなどのシート特性
である。第１図の横軸の値は、前記選択した特性を測定
した横方向の位置すなわちスライスを示す。例えば、図
示の輪郭線は、120番目のスライスにおいて約197の値を
有する。（例えば、走査されたシートは幅が762cm（300
インチ）であり、各2.54cm（１インチ）幅の300個のス
ライスに等分され、第１図のグラフにおける120番目の
スライスはシートの一端から304.8cm（120インチ）に位
置する。） 理想的な条件下において、シート特性は各輪郭線間で
一定であると共に各輪郭線に沿って一定である。このた
め、第１図の輪郭線に示される測定特性は、横方向の均
一性から見ると理想から極めて遠いと云える。
単位時間当りの周期の代わりに横方向における距離当
りの周期としての周波数を測定して、時変信号のフーリ
エ・スペクトル分析を行うと、第１図の輪郭線は、サイ
ン曲線で変化する低い空間周波数成分と、ノイズを含む
多量の高い空間周波数成分とを有すると類推できる。こ
の累進をもとに、第２図および第３図は、第１図の輪郭
線を低い空間周波数成分と高い空間周波数成分とに分離
したものである。すなわち、第２図は第１図の輪郭線に
おける低い空間周波数変化を示し、第３図は第１図の輪
郭線における高い空間周波数変化を示す。これら図の縦
軸および横軸のスケールは第１図と同じであり、第２図
および第３図の輪郭線の大きさを各スライス箇所におい
て合計すると第１図と基本的に同一の輪郭線が提供され
る。
りの周期としての周波数を測定して、時変信号のフーリ
エ・スペクトル分析を行うと、第１図の輪郭線は、サイ
ン曲線で変化する低い空間周波数成分と、ノイズを含む
多量の高い空間周波数成分とを有すると類推できる。こ
の累進をもとに、第２図および第３図は、第１図の輪郭
線を低い空間周波数成分と高い空間周波数成分とに分離
したものである。すなわち、第２図は第１図の輪郭線に
おける低い空間周波数変化を示し、第３図は第１図の輪
郭線における高い空間周波数変化を示す。これら図の縦
軸および横軸のスケールは第１図と同じであり、第２図
および第３図の輪郭線の大きさを各スライス箇所におい
て合計すると第１図と基本的に同一の輪郭線が提供され
る。
以上の説明では、横方向の輪郭線の高周波成分と低周
波成分とを分離する過程を空間周波数分割と呼ぶ。この
語は、空間周波数信号と時間領域信号とを明確に区別す
るために選択した。時間領域信号の周波数はサイクル／
秒で測定されるが、空間周波数信号の周波数はサイクル
／単位距離で測定される。
波成分とを分離する過程を空間周波数分割と呼ぶ。この
語は、空間周波数信号と時間領域信号とを明確に区別す
るために選択した。時間領域信号の周波数はサイクル／
秒で測定されるが、空間周波数信号の周波数はサイクル
／単位距離で測定される。
第４図に構成要素を示した装置は、シート処理装置の
１つまたはそれ以上の制御装置を動作させるための装置
である。この装置は空間周波数分割に基づいている。図
示の装置は一般に多周波アクチュエータ制御装置と呼
ぶ。このシステムはセンサ装置11と較正装置13と空間周
波数分離器15とを備える。センサシステム11は例えば従
来の走査センサとすることができ、複数の連続する横方
向位置からなる１走査においてシートの選択された特性
を測定する。較正装置13も従来の装置であり、センサシ
ステム11からの出力信号を較正する。必要であれば較正
装置13からの出力信号を各走査毎に総合し、第１図に示
したような横方向の輪郭線を表示することができる。
１つまたはそれ以上の制御装置を動作させるための装置
である。この装置は空間周波数分割に基づいている。図
示の装置は一般に多周波アクチュエータ制御装置と呼
ぶ。このシステムはセンサ装置11と較正装置13と空間周
波数分離器15とを備える。センサシステム11は例えば従
来の走査センサとすることができ、複数の連続する横方
向位置からなる１走査においてシートの選択された特性
を測定する。較正装置13も従来の装置であり、センサシ
ステム11からの出力信号を較正する。必要であれば較正
装置13からの出力信号を各走査毎に総合し、第１図に示
したような横方向の輪郭線を表示することができる。
第４図の多周波アクチュエータ制御装置の動作を説明
する。空間周波数分離器15は、較正された輪郭線測定を
低い空間周波数成分と高い空間周波数成分とに分離す
る。通常、低い空間周波数成分は第１の制御装置を動作
させるために使用され、高い空間周波数成分は第２の制
御装置を動作させるために使用される。これら制御装置
は共に同一のシート特性に作用するものである。例え
ば、低い空間周波数成分は製紙機のスチームボックスを
動作させるために利用可能であり、高い空間周波数成分
は製紙機の再加湿シャワーを制御するために利用可能で
ある。他の例として、多周波アクチュエータ制御装置が
提供する高い空間周波数成分によって製紙機の２次ヘッ
ドボックスを制御でき、低い空間周波数成分によって同
じ製紙機の１次ヘッドボックスを制御できる。さらに別
の例として、高い空間周波数成分は複数の熱風ジェット
を有する光沢装置の制御に利用できる光沢負荷ロールが
印加する圧力を調整できる。この場合、低い空間周波数
成分は制御用クラウンロールの各区画を制御するために
利用可能である。この例の場合、光沢装置とクラウンロ
ールとは共に同一製紙機における紙厚を制御するために
設けられる。
する。空間周波数分離器15は、較正された輪郭線測定を
低い空間周波数成分と高い空間周波数成分とに分離す
る。通常、低い空間周波数成分は第１の制御装置を動作
させるために使用され、高い空間周波数成分は第２の制
御装置を動作させるために使用される。これら制御装置
は共に同一のシート特性に作用するものである。例え
ば、低い空間周波数成分は製紙機のスチームボックスを
動作させるために利用可能であり、高い空間周波数成分
は製紙機の再加湿シャワーを制御するために利用可能で
ある。他の例として、多周波アクチュエータ制御装置が
提供する高い空間周波数成分によって製紙機の２次ヘッ
ドボックスを制御でき、低い空間周波数成分によって同
じ製紙機の１次ヘッドボックスを制御できる。さらに別
の例として、高い空間周波数成分は複数の熱風ジェット
を有する光沢装置の制御に利用できる光沢負荷ロールが
印加する圧力を調整できる。この場合、低い空間周波数
成分は制御用クラウンロールの各区画を制御するために
利用可能である。この例の場合、光沢装置とクラウンロ
ールとは共に同一製紙機における紙厚を制御するために
設けられる。
第５図は、空間周波数分離器15によって得られた輪郭
線の周波数スペクトルと、周波数分離器15の出力として
提供される低い空間周波数成分とを示す（この輪郭線は
第１図に示した輪郭線とやや異なる）。第５図におい
て、縦軸の値は空間周波数信号の自乗平均を表し、横軸
の値は信号の空間周波数をサイクル/2.54cm（１イン
チ）で表す。この図で分かるように、入力スペクトルは
範囲が広く不均一であり、約７サイクル／インチと約50
サイクル／インチにおける空間周波数が比較的大きい。
これに対し、低周波数出力スペクトルは高い空間周波数
において比較的滑らかであるが、約７サイクル／インチ
の比較的低周波数において顕著なピークを有する。
線の周波数スペクトルと、周波数分離器15の出力として
提供される低い空間周波数成分とを示す（この輪郭線は
第１図に示した輪郭線とやや異なる）。第５図におい
て、縦軸の値は空間周波数信号の自乗平均を表し、横軸
の値は信号の空間周波数をサイクル/2.54cm（１イン
チ）で表す。この図で分かるように、入力スペクトルは
範囲が広く不均一であり、約７サイクル／インチと約50
サイクル／インチにおける空間周波数が比較的大きい。
これに対し、低周波数出力スペクトルは高い空間周波数
において比較的滑らかであるが、約７サイクル／インチ
の比較的低周波数において顕著なピークを有する。
この関連において、第４図の多周波アクチュエータ制
御装置における空間周波数分離器15の動作は、時変信号
用のフィルタの動作とは極めて異なる。横方向の輪郭線
の空間周波数成分を時変信号に変換し、次にそれを通常
のろ波方法でろ波すると、ろ波された輪郭線はシート処
理装置の制御に極めて不適当になってしまう。この理由
は、時変信号がろ波される場合、フィルタの出力は入力
に対して時間的にシフトされるからである。このシフト
の範囲は、フィルタの設計とフィルタが受け取る時変信
号の周波数および振幅とによる。これに対し、第４図の
空間周波数分離器15の出力は、輪郭線測定の空間周波数
成分の分割においてシフトまたは変位されない。これは
第１図〜第３図のグラフに見られる通りである。第２図
および第３図における低い空間周波数成分と高い空間周
波数成分とは、第１図における複合輪郭線のピークと実
質的に同一のスライス箇所において発生する。
御装置における空間周波数分離器15の動作は、時変信号
用のフィルタの動作とは極めて異なる。横方向の輪郭線
の空間周波数成分を時変信号に変換し、次にそれを通常
のろ波方法でろ波すると、ろ波された輪郭線はシート処
理装置の制御に極めて不適当になってしまう。この理由
は、時変信号がろ波される場合、フィルタの出力は入力
に対して時間的にシフトされるからである。このシフト
の範囲は、フィルタの設計とフィルタが受け取る時変信
号の周波数および振幅とによる。これに対し、第４図の
空間周波数分離器15の出力は、輪郭線測定の空間周波数
成分の分割においてシフトまたは変位されない。これは
第１図〜第３図のグラフに見られる通りである。第２図
および第３図における低い空間周波数成分と高い空間周
波数成分とは、第１図における複合輪郭線のピークと実
質的に同一のスライス箇所において発生する。
第４図の空間周波数分離器15は、平滑技術または重畳
技術によって周波数の要求分離を提供する。例えば平滑
を、横方向の輪郭線に沿っての移動算術平均を計算する
ことによって実現できる。重畳の場合は、要求周波数ス
ペクトル特性を有する出力を発生させる関数を横方向の
輪郭線に重畳させる。重畳関数は簡単のためウインドウ
関数と呼ぶ。横方向の輪郭線を適切なウインドウ関数に
重畳すると、結果として得られる輪郭線関数は、あらか
じめ選択したカットオフ周波数より低い空間周波数の成
分は実質的に変化しておらず、そのカットオフ周波数を
越える空間周波数の成分は実質的に減衰している（すな
わち大きさがなくなっている）。第６図はブラックマン
関数として知られるタイプの適切なウインドウ関数を示
す。この関数は、低周波数領域にわたって全般に一定の
大きさを有し、選択されたカットオフ空間周波数の近辺
の周波数において急激にゼロに減少する。
技術によって周波数の要求分離を提供する。例えば平滑
を、横方向の輪郭線に沿っての移動算術平均を計算する
ことによって実現できる。重畳の場合は、要求周波数ス
ペクトル特性を有する出力を発生させる関数を横方向の
輪郭線に重畳させる。重畳関数は簡単のためウインドウ
関数と呼ぶ。横方向の輪郭線を適切なウインドウ関数に
重畳すると、結果として得られる輪郭線関数は、あらか
じめ選択したカットオフ周波数より低い空間周波数の成
分は実質的に変化しておらず、そのカットオフ周波数を
越える空間周波数の成分は実質的に減衰している（すな
わち大きさがなくなっている）。第６図はブラックマン
関数として知られるタイプの適切なウインドウ関数を示
す。この関数は、低周波数領域にわたって全般に一定の
大きさを有し、選択されたカットオフ空間周波数の近辺
の周波数において急激にゼロに減少する。
このカットオフ空間周波数は、いわゆる同調係数によ
って定義することもできる。この同調係数は数学的に前
記カットオフ周波数に反比例する。従って、選択された
同調係数について、第４図の空間周波数分離器15は、横
方向の輪郭線の同調係数より短い周期を有する空間周波
数成分を減衰させるが、前記同調係数より長い周期を有
する空間周波数成分は変化させない。このため、同調係
数が比較的大きければ、第４図の空間周波数分離器15
は、非常に低い空間周波数以外のすべてを減衰させる。
実際には、同調係数をアクチュエータ領域幅として表す
と都合がよい。
って定義することもできる。この同調係数は数学的に前
記カットオフ周波数に反比例する。従って、選択された
同調係数について、第４図の空間周波数分離器15は、横
方向の輪郭線の同調係数より短い周期を有する空間周波
数成分を減衰させるが、前記同調係数より長い周期を有
する空間周波数成分は変化させない。このため、同調係
数が比較的大きければ、第４図の空間周波数分離器15
は、非常に低い空間周波数以外のすべてを減衰させる。
実際には、同調係数をアクチュエータ領域幅として表す
と都合がよい。
実際には、多周波アクチュエータ制御装置によって動
作される制御装置の特性によって同調係数を選択する。
一般には、与えられた制御装置の横方向の応答特性に基
づいて同調係数を選択する。例えば、25.4cm（10イン
チ）のアクチュエータ領域幅を有する１次ヘッドボック
スは約50.8cm（20インチ）／領域の応答特性を有し、こ
れがそのヘッドボックスを制御するために選択される同
調係数を決定する（つまり同調係数は約２スライス幅／
サイクル、またはそれと同等の約50.8cm（20インチ）／
サイクルである）。一般に、ある横方向制御装置に使用
される同調係数は、その制御装置のアクチュエータ領域
幅の２倍より小さくない。
作される制御装置の特性によって同調係数を選択する。
一般には、与えられた制御装置の横方向の応答特性に基
づいて同調係数を選択する。例えば、25.4cm（10イン
チ）のアクチュエータ領域幅を有する１次ヘッドボック
スは約50.8cm（20インチ）／領域の応答特性を有し、こ
れがそのヘッドボックスを制御するために選択される同
調係数を決定する（つまり同調係数は約２スライス幅／
サイクル、またはそれと同等の約50.8cm（20インチ）／
サイクルである）。一般に、ある横方向制御装置に使用
される同調係数は、その制御装置のアクチュエータ領域
幅の２倍より小さくない。
各制御装置の空間周波数応答特性は、どの制御装置を
低い空間周波数成分で動作させ、どの制御装置を高い空
間周波数成分で動作させるかも決定する。例えば、各2
5.4cm（10インチ）のアクチュエータ領域幅を有する１
次ヘッドボックスを低い空間周波数成分で制御し、各5.
08cm（２インチ）のアクチュエータ領域幅を有する２次
ヘッドボックスを高い空間周波数性成分で制御すること
ができる。製紙技術においては、製紙機のヘッド近辺で
動作する制御装置は低い空間周波数成分で制御すること
が一般に適切であり、製紙機の巻取り端の近辺で動作す
る輪郭線整形装置は高い空間周波数成分で制御すること
が一般に適切である。
低い空間周波数成分で動作させ、どの制御装置を高い空
間周波数成分で動作させるかも決定する。例えば、各2
5.4cm（10インチ）のアクチュエータ領域幅を有する１
次ヘッドボックスを低い空間周波数成分で制御し、各5.
08cm（２インチ）のアクチュエータ領域幅を有する２次
ヘッドボックスを高い空間周波数性成分で制御すること
ができる。製紙技術においては、製紙機のヘッド近辺で
動作する制御装置は低い空間周波数成分で制御すること
が一般に適切であり、製紙機の巻取り端の近辺で動作す
る輪郭線整形装置は高い空間周波数成分で制御すること
が一般に適切である。
このように、第４図の多周波アクチュエータ制御装置
は、信号を受け取る制御装置の能力に適した動作信号を
提供する。このため、本装置は、検出したシート輪郭線
の不均一性を処理条件を調整することによって補正する
上で最良の制御装置を最適に使用することを可能にす
る。
は、信号を受け取る制御装置の能力に適した動作信号を
提供する。このため、本装置は、検出したシート輪郭線
の不均一性を処理条件を調整することによって補正する
上で最良の制御装置を最適に使用することを可能にす
る。
第７図は多周波アクチュエータ制御装置のさらに詳細
な実施例を示す。この実施例において、較正装置13は輪
郭線処理装置17と空間周波数分離器15Aとの両方に接続
される。空間周波数分離器15Aは第４図に関連して説明
した分離器15と基本的に同一であるが、第７図の分離器
の出力は、各較正された入力輪郭線から抽出された低い
空間周波数成分のみからなる。輪郭線処理装置17は従来
の輪郭線処理装置であり、例えば米国カリフォルニア州
クパチーノのメジャレックス社製ミニスライス（登録商
標）処理装置である。便宜上、輪郭線処理装置17の出力
は処理済み輪郭線と呼ぶ。第７図の装置はさらに総和器
21を備える。この総和器21において、周波数分離器15A
の出力は輪郭線処理装置17の出力から差し引かれる。し
たがって、総和器21の出力は、処理済み輪郭線の高い空
間周波数成分のみからなる。
な実施例を示す。この実施例において、較正装置13は輪
郭線処理装置17と空間周波数分離器15Aとの両方に接続
される。空間周波数分離器15Aは第４図に関連して説明
した分離器15と基本的に同一であるが、第７図の分離器
の出力は、各較正された入力輪郭線から抽出された低い
空間周波数成分のみからなる。輪郭線処理装置17は従来
の輪郭線処理装置であり、例えば米国カリフォルニア州
クパチーノのメジャレックス社製ミニスライス（登録商
標）処理装置である。便宜上、輪郭線処理装置17の出力
は処理済み輪郭線と呼ぶ。第７図の装置はさらに総和器
21を備える。この総和器21において、周波数分離器15A
の出力は輪郭線処理装置17の出力から差し引かれる。し
たがって、総和器21の出力は、処理済み輪郭線の高い空
間周波数成分のみからなる。
第７図の多周波アクチュエータ制御装置の動作を説明
する。まず輪郭線処理装置17は、走査ゲージ11が提供す
る較正済み出力信号の単純算術平均を計算する。この平
均は、装置が制御しているアクチュエータの領域幅に依
存するのが普通である。例えば、アクチュエータ制御装
置が再加湿シャワーを制御するものであり、この再加湿
シャワーが1016cm（400インチ）のシート横方向の40個
の各等幅の独立したアクチュエータ領域を有するとすれ
ば、輪郭線処理装置17は25.4cm（10インチ）毎に輪郭線
測定の単純算術平均を計算する。このため、本例の輪郭
線処理装置17は、横方向走査の最初の25.4cm（10イン
チ）に対する全ての輪郭線測定の算術平均を計算して第
１の値を提供する。次に、横方向走査の次の25.4cm（10
インチ）に対する全ての測定の算術平均を計算して第２
の値を提供する。これを繰り返すことにより、走査され
たシートの全幅について100個の平均値が計算される。
実際には、平均値が計算される領域は、アクチュエータ
領域だけでなくアクチュエータ領域間の接続領域の大き
さも関係する。また実際には、連続するアクチュエータ
領域は等幅でなくともよい。例えば、シートの横方向の
輪郭線を制御する特定の制御装置において、最初のアク
チュエータ領域の幅を50.8cm（20インチ）とし、それに
続く多数のアクチュエータ領域の各幅を25.4cm（10イン
チ）としてもよい。この場合、輪郭線処理装置17は横方
向の輪郭線の最初の50.8cm（20インチ）についての算術
平均を計算し、その後25.4cm（10インチ）毎に算術平均
を計算する。
する。まず輪郭線処理装置17は、走査ゲージ11が提供す
る較正済み出力信号の単純算術平均を計算する。この平
均は、装置が制御しているアクチュエータの領域幅に依
存するのが普通である。例えば、アクチュエータ制御装
置が再加湿シャワーを制御するものであり、この再加湿
シャワーが1016cm（400インチ）のシート横方向の40個
の各等幅の独立したアクチュエータ領域を有するとすれ
ば、輪郭線処理装置17は25.4cm（10インチ）毎に輪郭線
測定の単純算術平均を計算する。このため、本例の輪郭
線処理装置17は、横方向走査の最初の25.4cm（10イン
チ）に対する全ての輪郭線測定の算術平均を計算して第
１の値を提供する。次に、横方向走査の次の25.4cm（10
インチ）に対する全ての測定の算術平均を計算して第２
の値を提供する。これを繰り返すことにより、走査され
たシートの全幅について100個の平均値が計算される。
実際には、平均値が計算される領域は、アクチュエータ
領域だけでなくアクチュエータ領域間の接続領域の大き
さも関係する。また実際には、連続するアクチュエータ
領域は等幅でなくともよい。例えば、シートの横方向の
輪郭線を制御する特定の制御装置において、最初のアク
チュエータ領域の幅を50.8cm（20インチ）とし、それに
続く多数のアクチュエータ領域の各幅を25.4cm（10イン
チ）としてもよい。この場合、輪郭線処理装置17は横方
向の輪郭線の最初の50.8cm（20インチ）についての算術
平均を計算し、その後25.4cm（10インチ）毎に算術平均
を計算する。
第７図の多周波アクチュエータ制御装置の動作におい
て、空間周波数分離器15Aは１より大きい同調係数で動
作されるのが普通なので、その出力は較正した輪郭線の
低い空間周波数成分からなる。すなわち空間周波数分離
器15の出力は、同調係数を超える周期を有する空間周波
数成分からなる。空間周波数分離器15Aが使用するウイ
ンドウ関数は設計時に選択される。
て、空間周波数分離器15Aは１より大きい同調係数で動
作されるのが普通なので、その出力は較正した輪郭線の
低い空間周波数成分からなる。すなわち空間周波数分離
器15の出力は、同調係数を超える周期を有する空間周波
数成分からなる。空間周波数分離器15Aが使用するウイ
ンドウ関数は設計時に選択される。
第４図および第７図の装置を比較すると、第４図の空
間周波数分離器15は、第７図の輪郭線処理装置17と空間
周波数分離器15Aとの機能を組み合せたものであること
が分かる。このため、空間周波数分割モジュールが算術
平均を計算する能力を実現する限り、別個の平均化装置
を必要としない。
間周波数分離器15は、第７図の輪郭線処理装置17と空間
周波数分離器15Aとの機能を組み合せたものであること
が分かる。このため、空間周波数分割モジュールが算術
平均を計算する能力を実現する限り、別個の平均化装置
を必要としない。
第７図の総和器21は、輪郭線処理装置17の出力と周波
数分離器15Aの出力とを合計する。このため、各横方向
の走査において、総和器21の出力は、処理済み輪郭線の
高い空間周波数成分のみを有する。一方、周波数分離器
15Aの出力は較正済み輪郭線の低い空間周波数成分のみ
を有する。前記高い空間周波数成分は、比較的高い空間
周波数特性を有する制御装置を動作させるために利用可
能であり、前記低い空間周波数成分は、低い空間周波数
特性を有する別の制御装置を動作させるために利用可能
である。
数分離器15Aの出力とを合計する。このため、各横方向
の走査において、総和器21の出力は、処理済み輪郭線の
高い空間周波数成分のみを有する。一方、周波数分離器
15Aの出力は較正済み輪郭線の低い空間周波数成分のみ
を有する。前記高い空間周波数成分は、比較的高い空間
周波数特性を有する制御装置を動作させるために利用可
能であり、前記低い空間周波数成分は、低い空間周波数
特性を有する別の制御装置を動作させるために利用可能
である。
第８図および第９図は、第１図、第４図、第７図の装
置が提供する出力制御信号に対する異なる同調係数の効
果を示す。第８図および第９図は、低い空間周波数での
輪郭線と高い空間周波数での輪郭線とを各々示し、同調
係数８を使用して第１図から得られる輪郭線である。こ
れらの輪郭線は第２図および第３図に示す輪郭線と比較
できる。第２図および第３図の輪郭線は同調係数３によ
って得られたものである。第２図の低い空間周波数によ
る輪郭線は、第８図の輪郭線よりも高いカットオフ周波
数を使用して得られたものであり、第８図の輪郭線より
も不規則である。これは、第２図の輪郭線に含まれる低
い空間周波数成分が比較的少ないからである。一方、第
３図の高い空間周波数による輪郭線は、第９図の輪郭線
よりも不規則でない。これは、第３図の輪郭線に含まれ
る低い空間周波数成分が比較的多いからである。
置が提供する出力制御信号に対する異なる同調係数の効
果を示す。第８図および第９図は、低い空間周波数での
輪郭線と高い空間周波数での輪郭線とを各々示し、同調
係数８を使用して第１図から得られる輪郭線である。こ
れらの輪郭線は第２図および第３図に示す輪郭線と比較
できる。第２図および第３図の輪郭線は同調係数３によ
って得られたものである。第２図の低い空間周波数によ
る輪郭線は、第８図の輪郭線よりも高いカットオフ周波
数を使用して得られたものであり、第８図の輪郭線より
も不規則である。これは、第２図の輪郭線に含まれる低
い空間周波数成分が比較的少ないからである。一方、第
３図の高い空間周波数による輪郭線は、第９図の輪郭線
よりも不規則でない。これは、第３図の輪郭線に含まれ
る低い空間周波数成分が比較的多いからである。
第10図は多周波アクチュエータ制御装置の別の実施例
を示す。この実施例において、較正装置13は、周波数分
離器15Aと総和器21との両方に入力を提供すべく接続さ
れる。周波数分離器15Aの低い空間周波数出力は、総和
器21の反転（負）入力と第１の輪郭線処理装置17Aとに
提供される。また総和器21の出力は第２の輪郭線処理装
置17Bに提供される。両方の輪郭線処理装置17Aおよび17
Bは、前記した輪郭線処理装置17と実質的に同様に動作
する。
を示す。この実施例において、較正装置13は、周波数分
離器15Aと総和器21との両方に入力を提供すべく接続さ
れる。周波数分離器15Aの低い空間周波数出力は、総和
器21の反転（負）入力と第１の輪郭線処理装置17Aとに
提供される。また総和器21の出力は第２の輪郭線処理装
置17Bに提供される。両方の輪郭線処理装置17Aおよび17
Bは、前記した輪郭線処理装置17と実質的に同様に動作
する。
第10図の多周波アクチュエータ制御装置の動作を説明
する。周波数分離器15Aは、較正された輪郭線の低い空
間周波数成分からなる出力を発生する。（周波数分離器
15Aの出力は選択された同調係数と選択されたウインド
ウ関数とに依存する。）総和器21において、低周波数成
分は較成された輪郭線から差し引かれる。このため、総
和器21の出力は較正された輪郭線の高周波数成分で構成
される。次に、低い空間周波数成分が第１の輪郭線処理
装置17Aによって平均化され、高い空間周波数成分が第
２の輪郭線処理装置17Bによって平均化される。平均化
された低い空間周波数成分は低周波数応答特性を有する
制御装置を動作させるために利用可能であり、高い空間
周波数成分は高周波数応答特性を有する制御装置を動作
させるために利用可能である。２つの輪郭線処理装置17
A,17Bは、異なる数のアクチュエータ領域を有する異な
る制御装置に対して使用される。実際には、高い空間周
波数成分による動作が最適である制御装置は、低い空間
周波数成分による動作が最適である制御装置よりもアク
チュエータ領域の数が多い。
する。周波数分離器15Aは、較正された輪郭線の低い空
間周波数成分からなる出力を発生する。（周波数分離器
15Aの出力は選択された同調係数と選択されたウインド
ウ関数とに依存する。）総和器21において、低周波数成
分は較成された輪郭線から差し引かれる。このため、総
和器21の出力は較正された輪郭線の高周波数成分で構成
される。次に、低い空間周波数成分が第１の輪郭線処理
装置17Aによって平均化され、高い空間周波数成分が第
２の輪郭線処理装置17Bによって平均化される。平均化
された低い空間周波数成分は低周波数応答特性を有する
制御装置を動作させるために利用可能であり、高い空間
周波数成分は高周波数応答特性を有する制御装置を動作
させるために利用可能である。２つの輪郭線処理装置17
A,17Bは、異なる数のアクチュエータ領域を有する異な
る制御装置に対して使用される。実際には、高い空間周
波数成分による動作が最適である制御装置は、低い空間
周波数成分による動作が最適である制御装置よりもアク
チュエータ領域の数が多い。
第11図は、多周波アクチュエータ制御装置のさらに別
の実施例を示す。この実施例では、較正装置13は輪郭線
処理装置17に入力を提供すべく接続される。輪郭線処理
装置17の出力は、総和器21と周波数分離器15Aとの両方
に提供される。周波数分離器15Aの低い空間周波数出力
は総和器21に提供され、該総和器21において輪郭線処理
装置17の出力から差し引かれる。
の実施例を示す。この実施例では、較正装置13は輪郭線
処理装置17に入力を提供すべく接続される。輪郭線処理
装置17の出力は、総和器21と周波数分離器15Aとの両方
に提供される。周波数分離器15Aの低い空間周波数出力
は総和器21に提供され、該総和器21において輪郭線処理
装置17の出力から差し引かれる。
第11図の多周波アクチュエータ制御装置の動作を説明
する。較正された輪郭線は、輪郭線処理装置17によって
平均化され、周波数分離器15Aに与えられ、平均化され
た輪郭線に対する低い空間周波数成分からなる出力が発
生される。周波数分離器15Aの出力における空間周波数
成分の特性は、ここでも、選択された同調係数と選択さ
れたウインドウ関数とに依存する。次に、総和器21にお
いて、低い空間周波数成分は、平均化された輪郭線から
差し引かれる。このため、総和器21の出力は、平均化さ
れた輪郭線の高周波数成分で構成される。このように、
第11図のシステムは、前記した実施例と同様、低い空間
周波数応答特性を有する横方向の輪郭線整形装置を制御
するために使用される低い空間周波数信号を提供すると
共に、高い空間周波数応答特性を有する横方向の輪郭線
装置を制御するために使用される高い空間周波数信号を
別個に提供する。
する。較正された輪郭線は、輪郭線処理装置17によって
平均化され、周波数分離器15Aに与えられ、平均化され
た輪郭線に対する低い空間周波数成分からなる出力が発
生される。周波数分離器15Aの出力における空間周波数
成分の特性は、ここでも、選択された同調係数と選択さ
れたウインドウ関数とに依存する。次に、総和器21にお
いて、低い空間周波数成分は、平均化された輪郭線から
差し引かれる。このため、総和器21の出力は、平均化さ
れた輪郭線の高周波数成分で構成される。このように、
第11図のシステムは、前記した実施例と同様、低い空間
周波数応答特性を有する横方向の輪郭線整形装置を制御
するために使用される低い空間周波数信号を提供すると
共に、高い空間周波数応答特性を有する横方向の輪郭線
装置を制御するために使用される高い空間周波数信号を
別個に提供する。
本発明に基づく多周波アクチュエータ制御装置の好適
実施例を説明してきたが、当業者には明らかなように、
本発明の範囲を逸脱せずに本明細書に説明していない追
加、変更、代替、削除が本発明に対して可能である。例
えば、輪郭線を３つの範囲の空間周波数に分割し、これ
ら３つの範囲の周波数の各々に基づいて異なる制御装置
を動作させるように装置を変更することもできる。ま
た、２つまたはそれ以上の測定装置からの測定を組み合
せて複合測定輪郭線を提供し、これら複合輪郭線を選択
された空間周波数成分に分解することにより、別々の制
御信号を提供することもできる。
実施例を説明してきたが、当業者には明らかなように、
本発明の範囲を逸脱せずに本明細書に説明していない追
加、変更、代替、削除が本発明に対して可能である。例
えば、輪郭線を３つの範囲の空間周波数に分割し、これ
ら３つの範囲の周波数の各々に基づいて異なる制御装置
を動作させるように装置を変更することもできる。ま
た、２つまたはそれ以上の測定装置からの測定を組み合
せて複合測定輪郭線を提供し、これら複合輪郭線を選択
された空間周波数成分に分解することにより、別々の制
御信号を提供することもできる。
さらにまた、横方向特性の制御に関連して本発明を明
細してきた通り、本発明の有効性は前記実施例において
最良に実現されるものであるが、本発明の特徴をなす基
本技術は、シート搬送方向のシート特性の制御にも応用
できる。この場合、選択されたスライスに対して、一連
の輪郭線間における変動を計算し、これら変動を空間周
波数成分として分析する。また、シート搬送方向におけ
る変動の低い空間周波数成分と高い空間周波数成分とを
使用して、異なる制御装置を別個に動作させることかで
きる。このため、シート搬送方向のシート特性における
不規則性を補正するにあたり、その補正に最適の制御装
置を使用して補正を実行できる。
細してきた通り、本発明の有効性は前記実施例において
最良に実現されるものであるが、本発明の特徴をなす基
本技術は、シート搬送方向のシート特性の制御にも応用
できる。この場合、選択されたスライスに対して、一連
の輪郭線間における変動を計算し、これら変動を空間周
波数成分として分析する。また、シート搬送方向におけ
る変動の低い空間周波数成分と高い空間周波数成分とを
使用して、異なる制御装置を別個に動作させることかで
きる。このため、シート搬送方向のシート特性における
不規則性を補正するにあたり、その補正に最適の制御装
置を使用して補正を実行できる。
第１図は、搬送中のシートを横方向に連続測定した場合
の代表的な輪郭線を示すグラフ、 第２図は、第１図の輪郭線に含まれる低い空間周波数成
分のみを示すグラフ、 第３図は、第１図の輪郭線に含まれる高い空間周波数成
分のみを示すグラフ、 第４図は、本発明に基づく横方向制御装置の概略を示す
ブロック図、 第５図は、第４図の装置の動作における横方向の輪郭線
の周波数スペクトルを示すグラフ、 第６図は、第４図の装置に使用されるいわゆるウインド
ウ関数の例を示す図、 第７図は、第４図の装置のさらに具体的な実施例を示す
機能図、 第８図は、第４図の装置の動作における横方向の輪郭線
の別の例を示すグラフ、 第９図は、第４図の装置の動作における横方向の輪郭線
のさらに別の例を示すグラフ、 第10図は、本発明に基づく横方向制御装置の別の実施例
を示すブロック図、および 第11図は、本発明に基づく横方向制御装置のさらに実施
例を示すブロック図である。 11……センサシステム、13……較正装置、 15……空間周波数分離器、 17……輪郭線処理装置、21……総和器。
の代表的な輪郭線を示すグラフ、 第２図は、第１図の輪郭線に含まれる低い空間周波数成
分のみを示すグラフ、 第３図は、第１図の輪郭線に含まれる高い空間周波数成
分のみを示すグラフ、 第４図は、本発明に基づく横方向制御装置の概略を示す
ブロック図、 第５図は、第４図の装置の動作における横方向の輪郭線
の周波数スペクトルを示すグラフ、 第６図は、第４図の装置に使用されるいわゆるウインド
ウ関数の例を示す図、 第７図は、第４図の装置のさらに具体的な実施例を示す
機能図、 第８図は、第４図の装置の動作における横方向の輪郭線
の別の例を示すグラフ、 第９図は、第４図の装置の動作における横方向の輪郭線
のさらに別の例を示すグラフ、 第10図は、本発明に基づく横方向制御装置の別の実施例
を示すブロック図、および 第11図は、本発明に基づく横方向制御装置のさらに実施
例を示すブロック図である。 11……センサシステム、13……較正装置、 15……空間周波数分離器、 17……輪郭線処理装置、21……総和器。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) D21F 1/06,7/06
Claims (17)
- 【請求項１】シートを横断する方向の連続した複数の箇
所において、製造中のシートの少なくとも１つの特性を
測定し、各箇所の測定を組み合せることによって、前記
シートの横方向の輪郭線を提供する測定手段と、 前記測定手段の出力に対して作動し、選択された空間周
波数成分を各横方向の輪郭線から分離し、該選択された
空間周波数に基づく動作信号を横方向制御装置に提供す
る空間周波数分割手段と、 を具備するシート製造機の製造中の横方向制御装置にお
いて、 前記空間周波数分割手段が、各輪郭線に対する測定値の
移動平均を計算することによって低い空間周波数から高
い空間周波数を分離する空間周波数分離回路を具備する シート製造機において製造中のシートの横方向特性を制
御するシート製造の横方向制御装置。 - 【請求項２】前記空間周波数分離回路が、各横方向の輪
郭線について、低い空間周波数から高い空間周波数を分
離する、請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】シートを横断する方向の連続した複数の箇
所において、製造中のシートの少なくとも１つの特性を
測定し、各箇所の測定を組み合せることによって、前記
シートの横方向の輪郭線を提供する測定手段と、 前記測定手段の出力に対して作動し、選択された空間周
波数成分を各横方向の輪郭線から分離し、該選択された
空間周波数に基づく動作信号を横方向制御装置に提供す
る空間周波数分割手段と、 を具備するシート製造機の製造中の横方向制御装置にお
いて、 前記空間周波数分割手段が、各輪郭線について、低い空
間周波数での輪郭線を計算する輪郭線処理回路と前記計
算した低い空間周波数での輪郭線を元の輪郭線から差し
引くことによって低い空間周波数から高い空間周波数を
分離する分離回路を具備する シート製造機において製造中のシートの横方向特性を制
御するシート製造の横方向制御装置。 - 【請求項４】選択された空間周波数成分に対して動作し
て前記選択された空間周波数成分のうち選択されたグル
ープの算術平均を計算する平均化手段をさらに含む、請
求項１に記載の装置。 - 【請求項５】シートを横断する方向の連続した複数の箇
所において、製造中のシートの特性を測定し、各箇所の
測定を組み合せることによって、前記シートの横方向の
輪郭線を提供する測定手段と、 前記測定手段によって提供される測定のうち選択された
グループの算術平均を計算する平均化手段と、 前記平均化手段によって提供される平均値に対して動作
し、選択された空間周波数成分を各横方向の輪郭線の測
定から分離して、シートの横方向特性の制御装置を動作
させる空間周波数分割手段と、 を具備する、シート処理装置においてシートの横方向特
性を制御するシート製造の横方向制御装置。 - 【請求項６】前記空間周波数分割手段が、各横方向の輪
郭線について、低い空間周波数から高い空間周波数を分
離する手段を含む請求項５に記載の装置。 - 【請求項７】前記空間周波数分割手段が、各輪郭線に対
する測定値の移動平均を計算することによって低い空間
周波数から高い空間周波数を分離する手段を含む請求項
５に記載の装置。 - 【請求項８】前記空間周波数分割手段が、重畳によって
低い空間周波数から高い空間周波数を分離する手段を含
む請求項５に記載の装置。 - 【請求項９】前記空間周波数分割手段が、各輪郭線につ
いて、低い空間周波数での輪郭線を計算し次に前記計算
した低い空間周波数での輪郭線を元の輪郭線から差し引
くことによって低い空間周波数から高い空間周波数を分
離する手段を含む請求項５に記載の装置。 - 【請求項１０】横方向の箇所においてシートの少なくと
も１つの特性を測定し、前記測定を組み合せることによ
って前記少なくとも１つの特性の横方向の輪郭線を提供
する測定手段と、 各輪郭線について高い空間周波数成分から低い空間周波
数成分を分離して、横方向の各箇所においてシートの特
性を制御可能に調整する装置に動作信号を提供し各輪郭
線に対する測定値の移動平均を計算することによって低
い空間周波数から高い空間周波数を分離する空間周波数
分割手段とを具備する シート製造機において横方向制御装置を動作させる装
置。 - 【請求項１１】横方向の箇所においてシートの少なくと
も１つの特性を測定し、前記測定を組み合せることによ
って前記少なくとも１つの特性の横方向の輪郭線を提供
する測定手段と、 各輪郭線について高い空間周波数成分から低い空間周波
数成分を分離して、横方向の各箇所においてシートの特
性を制御可能に調整する装置に動作信号を提供する空間
周波数分割手段と、 を具備するシート製造機の横方向の制御装置において、 前記空間周波数分割手段が、各輪郭線について、低い空
間周波数での輪郭線を計算する輪郭線処理回路と前記計
算した低い空間周波数での輪郭線を元の輪郭線から差し
引くことによって低い空間周波数から高い空間周波数を
分離する分離回路を具備する シート製造機において横方向制御装置を動作させる装
置。 - 【請求項１２】シートの少なくとも１つの選択された特
性の横方向の測定による輪郭線を提供するため、横方向
の複数の箇所において、移動中のシートを測定する段階
と、 各輪郭線での複数の測定について、該輪郭線の選択され
た空間周波数成分を他の空間周波数成分から分離する段
階と、 前記測定された輪郭線の選択された空間周波数成分に基
づいてシート製造システムを制御する段階と、 を具備するシート製造機の製造中の横方向制御方法にお
いて、 前記低い空間周波数から高い空間周波数を分離する段階
が、各走査に対する測定値の移動平均を計算する段階を
備える、 シート製造システムにおいて横方向の制御を提供するシ
ート製造の横方向制御方法。 - 【請求項１３】前記選択された空間周波数成分を分離す
る段階が、各横方向の輪郭線について、低い空間周波数
から高い空間周波数を分離する段階を備える、請求項12
に記載の方法。 - 【請求項１４】前記低い空間周波数から高い空間周波数
を分離する段階が、低い空間周波数の輪郭線を計算して
これを元の輪郭線から差し引くことによって実現され
る、請求項13に記載の方法。 - 【請求項１５】前記高い空間周波数が重畳によって前記
低い空間周波数から分離される、請求項13に記載の方
法。 - 【請求項１６】前記重畳が、横方向の輪郭線にブラック
マン型の関数を重畳することによって実行される、請求
項13に記載の方法。 - 【請求項１７】前記分離された成分のうち選択されたグ
ループについて算術平均を計算する段階をさらに含む、
請求項13に記載の方法。
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