JP2992185B2 - 基板枚数検出装置 - Google Patents
基板枚数検出装置Info
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 186
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 35
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 26
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 21
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 32
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 16
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 16
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 13
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000010129 solution processing Methods 0.000 description 4
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、枚数検出装置、特に、
基板群の基板枚数を検出する基板枚数検出装置に関す
る。
基板群の基板枚数を検出する基板枚数検出装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術及びその課題】半導体や液晶表示装置の製
造工程において、複数枚の基板を一括して処理するバッ
チ式の基板処理装置が用いられている。この種の基板処
理装置では、集積度や解像度のアップによる基板サイズ
の大型化に伴い、高い製造品質が要求されるため、パー
ティクルの付着を極力を解除すべく、基板搬送用のキャ
リアを用いないキャリアレス方式が採用されている。
造工程において、複数枚の基板を一括して処理するバッ
チ式の基板処理装置が用いられている。この種の基板処
理装置では、集積度や解像度のアップによる基板サイズ
の大型化に伴い、高い製造品質が要求されるため、パー
ティクルの付着を極力を解除すべく、基板搬送用のキャ
リアを用いないキャリアレス方式が採用されている。
【0003】キャリアレス方式の基板処理装置は、一般
に、キャリアに対して基板を受け渡す基板移載部と、複
数枚の基板を1枚ずつ整列させて一括処理する複数の基
板処理部と、基板移載部及び各基板処理部間で基板を搬
送する基板搬送部とを備えている。各基板処理部には、
基板搬送部で搬送された基板を受け取り保持する基板保
持具が設けられている。
に、キャリアに対して基板を受け渡す基板移載部と、複
数枚の基板を1枚ずつ整列させて一括処理する複数の基
板処理部と、基板移載部及び各基板処理部間で基板を搬
送する基板搬送部とを備えている。各基板処理部には、
基板搬送部で搬送された基板を受け取り保持する基板保
持具が設けられている。
【0004】この基板処理装置では、キャリアに収納さ
れた基板が基板移載部によって取り出され、基板搬送部
によって保持され最初の基板処理部に搬送される。当該
基板処理部で一括処理された基板は、再び基板搬送部に
受け取られ、次の基板処理部に搬送される。この基板搬
送及び基板処理が次々と行われた後、基板は、最後に基
板搬送部によって基板移載部に搬送され、キャリア内に
収納される。
れた基板が基板移載部によって取り出され、基板搬送部
によって保持され最初の基板処理部に搬送される。当該
基板処理部で一括処理された基板は、再び基板搬送部に
受け取られ、次の基板処理部に搬送される。この基板搬
送及び基板処理が次々と行われた後、基板は、最後に基
板搬送部によって基板移載部に搬送され、キャリア内に
収納される。
【0005】複数の基板を1枚ずつ整列させて保持する
キャリアレス方式では、上述の基板受け渡しの際に、受
け渡し不良が生じると基板割れや基板搬送部の破損等の
問題が生じるため、基板が確実に受け渡されたか否かを
検出することが重要である。このためには、基板の受け
取り後に基板の枚数を検出する必要がある。この種の基
板枚数検出装置として、特開昭64−743号公報に開
示されたウエハカウンタを用いることが考えられる。こ
のウエハカウンタは、キャリア内に収納された基板の枚
数を検出する装置であり、基板が入り込む多数の溝を有
する検出部と、基板が検出部の溝内に入り込むように検
出部を昇降させる駆動部と、検出部の溝内に基板が入り
込んだか否かを検出する基板検知手段とを備えている。
キャリアレス方式では、上述の基板受け渡しの際に、受
け渡し不良が生じると基板割れや基板搬送部の破損等の
問題が生じるため、基板が確実に受け渡されたか否かを
検出することが重要である。このためには、基板の受け
取り後に基板の枚数を検出する必要がある。この種の基
板枚数検出装置として、特開昭64−743号公報に開
示されたウエハカウンタを用いることが考えられる。こ
のウエハカウンタは、キャリア内に収納された基板の枚
数を検出する装置であり、基板が入り込む多数の溝を有
する検出部と、基板が検出部の溝内に入り込むように検
出部を昇降させる駆動部と、検出部の溝内に基板が入り
込んだか否かを検出する基板検知手段とを備えている。
【0006】このウエハカウンタによって、基板搬送部
に保持された基板の枚数を検出すれば、基板が正確に受
け渡されたか否かを検出できる。しかし、このウエハカ
ウンタでは、基板枚数に対応して検出部に溝を形成する
とともに、各溝に基板検知手段を配置しなければなら
ず、検出部の構造が複雑になる。また、基板検知手段と
して多くのセンサを用いるために、製造コストが高くな
る。
に保持された基板の枚数を検出すれば、基板が正確に受
け渡されたか否かを検出できる。しかし、このウエハカ
ウンタでは、基板枚数に対応して検出部に溝を形成する
とともに、各溝に基板検知手段を配置しなければなら
ず、検出部の構造が複雑になる。また、基板検知手段と
して多くのセンサを用いるために、製造コストが高くな
る。
【0007】本発明の目的は、簡素な構造で安価に基板
枚数を検出できるようにすることにある。
枚数を検出できるようにすることにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明に係る基板枚数検
出装置は、基板群の基板枚数を検出するものであって、
オーバーフロー型の浸漬槽と浸漬手段と液量検出手段と
基板枚数算出手段とを備えている。浸漬槽は、液体が満
たされる槽である。浸漬手段は、浸漬槽内の液体に基板
群を浸漬させる。液量検出手段は、浸漬手段による浸漬
動作時に、浸漬槽からオーバーフローした液量を検出す
る。基板枚数算出手段は、液量検出手段の検出結果によ
り、基板群の基板枚数を算出する。
出装置は、基板群の基板枚数を検出するものであって、
オーバーフロー型の浸漬槽と浸漬手段と液量検出手段と
基板枚数算出手段とを備えている。浸漬槽は、液体が満
たされる槽である。浸漬手段は、浸漬槽内の液体に基板
群を浸漬させる。液量検出手段は、浸漬手段による浸漬
動作時に、浸漬槽からオーバーフローした液量を検出す
る。基板枚数算出手段は、液量検出手段の検出結果によ
り、基板群の基板枚数を算出する。
【0009】
【作用】本発明に係る基板枚数検出装置では、液体が満
たされた浸漬槽に基板群が浸漬させられる。その結果、
基板群の体積分の液体が浸漬槽からオーバーフローす
る。このオーバーフローした液量を液量検出手段が検出
し、検出された液量から枚数算出手段が基板群の基板枚
数を算出する。
たされた浸漬槽に基板群が浸漬させられる。その結果、
基板群の体積分の液体が浸漬槽からオーバーフローす
る。このオーバーフローした液量を液量検出手段が検出
し、検出された液量から枚数算出手段が基板群の基板枚
数を算出する。
【0010】ここでは、浸漬槽から溢れ出した液量によ
り基板枚数を算出しているので、簡素な構造で安価に基
板枚数を検出できる。
り基板枚数を算出しているので、簡素な構造で安価に基
板枚数を検出できる。
【0011】
【実施例】図1において、本発明の一実施例が採用され
たキャリアレス方式の基板処理装置1は、キャリアCか
ら基板Wを出し入れするための基板移載部2と、チャッ
ク洗浄部3と、1列に配置された3つの薬液処理部4〜
6と、薬液処理された基板を2段階で洗浄する洗浄処理
部7,8と、洗浄処理済の基板Wを乾燥させる基板乾燥
部10と、基板移載部2から基板乾燥部10までの間で
複数枚の基板Wを整列保持して搬送する基板搬送ロボッ
ト11とを備えている。各薬液処理部4〜6の搬送方向
下流側(図1の右側)には、薬液処理後に基板搬送ロボ
ット11で保持された基板Wの枚数を検出するための基
板枚数検出装置9がそれぞれ配置されている。
たキャリアレス方式の基板処理装置1は、キャリアCか
ら基板Wを出し入れするための基板移載部2と、チャッ
ク洗浄部3と、1列に配置された3つの薬液処理部4〜
6と、薬液処理された基板を2段階で洗浄する洗浄処理
部7,8と、洗浄処理済の基板Wを乾燥させる基板乾燥
部10と、基板移載部2から基板乾燥部10までの間で
複数枚の基板Wを整列保持して搬送する基板搬送ロボッ
ト11とを備えている。各薬液処理部4〜6の搬送方向
下流側(図1の右側)には、薬液処理後に基板搬送ロボ
ット11で保持された基板Wの枚数を検出するための基
板枚数検出装置9がそれぞれ配置されている。
【0012】基板移載部2は、キャリアC内に収納され
た基板Wを一括保持して昇降させる昇降機構(図示せ
ず)を有している。また、薬液処理部4〜6及び洗浄処
理部7,8は、基板を浸漬して処理する処理槽(図示せ
ず)と、基板搬送ロボット11で搬送された基板Wを保
持する基板保持具(図示せず)とを有している。洗浄処
理部7は純水により基板Wを洗浄し、洗浄処理部8は超
純水により基板Wを洗浄する。
た基板Wを一括保持して昇降させる昇降機構(図示せ
ず)を有している。また、薬液処理部4〜6及び洗浄処
理部7,8は、基板を浸漬して処理する処理槽(図示せ
ず)と、基板搬送ロボット11で搬送された基板Wを保
持する基板保持具(図示せず)とを有している。洗浄処
理部7は純水により基板Wを洗浄し、洗浄処理部8は超
純水により基板Wを洗浄する。
【0013】基板搬送ロボット11は、開閉する基板処
理チャック12を有している。基板搬送ロボット11
は、基板保持チャック12を昇降させるとともに、図1
の左右方向に移動可能である。基板枚数検出装置9は、
図2に示すように、オーバーフロー型の浸漬槽20を有
している。浸漬槽20の底面には、純水供給弁21を介
して純水供給源23が接続されている。浸漬槽20の一
側面上部は切欠かれて堰22を形成しており、浸漬槽2
0内の純水が堰22から溢れ出るようになっている。
理チャック12を有している。基板搬送ロボット11
は、基板保持チャック12を昇降させるとともに、図1
の左右方向に移動可能である。基板枚数検出装置9は、
図2に示すように、オーバーフロー型の浸漬槽20を有
している。浸漬槽20の底面には、純水供給弁21を介
して純水供給源23が接続されている。浸漬槽20の一
側面上部は切欠かれて堰22を形成しており、浸漬槽2
0内の純水が堰22から溢れ出るようになっている。
【0014】堰22に面してオーバーフロー槽23が配
置されている。オーバーフロー槽23の底面には、計測
配管24が取り付けられている。計測配管24の下端は
排液弁25を介してドレインに接続されている。計測配
管24内には、圧力センサ26の検知部26aが挿入さ
れている。圧力センサ26は、計測配管24内に溜まっ
た、浸漬槽20からオーバーフローした純水の液量を検
出するためのものである。ここでは、検知部26aによ
る検出圧力が計測配管24内の液量に応じて変化するこ
とに基づいて液量の変化を読み取る。
置されている。オーバーフロー槽23の底面には、計測
配管24が取り付けられている。計測配管24の下端は
排液弁25を介してドレインに接続されている。計測配
管24内には、圧力センサ26の検知部26aが挿入さ
れている。圧力センサ26は、計測配管24内に溜まっ
た、浸漬槽20からオーバーフローした純水の液量を検
出するためのものである。ここでは、検知部26aによ
る検出圧力が計測配管24内の液量に応じて変化するこ
とに基づいて液量の変化を読み取る。
【0015】なお、洗浄処理部8の処理槽には、図2に
示したオーバーフロー槽23、計測配管24及び圧力セ
ンサ26と同一の構成が設けられている。したがって、
洗浄処理部8では、槽自体で基板枚数を検出することが
可能である。基板処理装置1は、図3に示すように、C
PU,ROM,RAMを含むマイクロコンピュータを備
えた制御部30を有している。制御部30には、圧力セ
ンサ26と基板搬送ロボット11と純水供給弁21と排
液弁25と他の入出力部とが接続されている。
示したオーバーフロー槽23、計測配管24及び圧力セ
ンサ26と同一の構成が設けられている。したがって、
洗浄処理部8では、槽自体で基板枚数を検出することが
可能である。基板処理装置1は、図3に示すように、C
PU,ROM,RAMを含むマイクロコンピュータを備
えた制御部30を有している。制御部30には、圧力セ
ンサ26と基板搬送ロボット11と純水供給弁21と排
液弁25と他の入出力部とが接続されている。
【0016】次に、上述の実施例の動作について説明す
る。前工程で処理された2つのキャリアCが、基板移載
部2に載置されると、基板移載部2内の昇降機構が基板
Wを保持して上昇させる。なお、このとき基板搬送ロボ
ット11は基板移載部2上に待機している。上昇した基
板Wは基板搬送ロボット11の基板保持チャック12に
整列状態で一括して保持される。保持された基板Wは基
板搬送ロボット11により薬液処理部4に搬送される。
る。前工程で処理された2つのキャリアCが、基板移載
部2に載置されると、基板移載部2内の昇降機構が基板
Wを保持して上昇させる。なお、このとき基板搬送ロボ
ット11は基板移載部2上に待機している。上昇した基
板Wは基板搬送ロボット11の基板保持チャック12に
整列状態で一括して保持される。保持された基板Wは基
板搬送ロボット11により薬液処理部4に搬送される。
【0017】薬液処理部4は、処理槽内において基板保
持具で基板保持チャック12から基板Wを受け取り、一
括して薬液処理する。薬液処理が終了すると、基板処理
部4から基板搬送ロボット11が基板Wを受け取り、薬
液処理部4の下流側に配置された基板枚数検出装置9に
搬送する。基板枚数検出装置9に基板Wが搬送される
と、制御部30は、図4に示す基板枚数検出処理を実行
する(後述)。
持具で基板保持チャック12から基板Wを受け取り、一
括して薬液処理する。薬液処理が終了すると、基板処理
部4から基板搬送ロボット11が基板Wを受け取り、薬
液処理部4の下流側に配置された基板枚数検出装置9に
搬送する。基板枚数検出装置9に基板Wが搬送される
と、制御部30は、図4に示す基板枚数検出処理を実行
する(後述)。
【0018】基板枚数の検出が終了すると、基板搬送ロ
ボット11により次の薬液処理部5に基板Wを搬送す
る。続いて、その下流側に配置された基板枚数検出装置
9での基板枚数検出処理を実行し、さらに次の薬液処理
部6に搬送する。薬液処理部6での薬液処理が終了する
と、同様にしてその下流側に配置された基板枚数検出装
置9での基板枚数検出処理を実行する。これらの動作が
終了すると基板搬送ロボット11により洗浄処理部7に
基板を搬送する。洗浄処理部7での基板洗浄処理が終了
すると、基板搬送ロボット11により基板Wを洗浄処理
部8に搬送する。
ボット11により次の薬液処理部5に基板Wを搬送す
る。続いて、その下流側に配置された基板枚数検出装置
9での基板枚数検出処理を実行し、さらに次の薬液処理
部6に搬送する。薬液処理部6での薬液処理が終了する
と、同様にしてその下流側に配置された基板枚数検出装
置9での基板枚数検出処理を実行する。これらの動作が
終了すると基板搬送ロボット11により洗浄処理部7に
基板を搬送する。洗浄処理部7での基板洗浄処理が終了
すると、基板搬送ロボット11により基板Wを洗浄処理
部8に搬送する。
【0019】洗浄処理部8には、前述したように図2と
同様のオーバーフロー槽23、測定配管24及び圧力セ
ンサ26が配置されており、それらによって洗浄処理前
に基板枚数の検出を行う。基板枚数の検出が終了する
と、最終基板洗浄処理を行う。最終洗浄が終了すると、
基板搬送ロボット11により基板乾燥部10に基板Wを
搬送する。乾燥が終了した基板Wは、基板搬送ロボット
11により基板移載部2上に搬送されキャリアCに収納
される。
同様のオーバーフロー槽23、測定配管24及び圧力セ
ンサ26が配置されており、それらによって洗浄処理前
に基板枚数の検出を行う。基板枚数の検出が終了する
と、最終基板洗浄処理を行う。最終洗浄が終了すると、
基板搬送ロボット11により基板乾燥部10に基板Wを
搬送する。乾燥が終了した基板Wは、基板搬送ロボット
11により基板移載部2上に搬送されキャリアCに収納
される。
【0020】次に、上述の基板枚数検出処理を図4のフ
ローチャートにしたがって説明する。この基板枚数検出
処理では、まず、図4のステップS1で純水供給弁21
を閉じ、ステップS2で排液弁25を閉じる。この状態
では、浸漬槽20内に純水が充満しており、計測配管2
4内の純水は排出されている。これにより基板枚数検出
の準備が完了したことになる。
ローチャートにしたがって説明する。この基板枚数検出
処理では、まず、図4のステップS1で純水供給弁21
を閉じ、ステップS2で排液弁25を閉じる。この状態
では、浸漬槽20内に純水が充満しており、計測配管2
4内の純水は排出されている。これにより基板枚数検出
の準備が完了したことになる。
【0021】ステップS3では、基板搬送ロボット11
の基板保持チャック12を、保持された基板Wの中心が
液面に到達するまで下降させ、浸漬槽20に基板Wの略
下半分を浸漬させる。この結果、浸漬槽20に充満した
純水は、浸漬した基板W及び基板保持チャック12の体
積分だけ、堰22からオーバーフロー槽23に溢れ出
る。オーバフロー槽23に溢れ出た水は、計測配管24
内に溜まる。
の基板保持チャック12を、保持された基板Wの中心が
液面に到達するまで下降させ、浸漬槽20に基板Wの略
下半分を浸漬させる。この結果、浸漬槽20に充満した
純水は、浸漬した基板W及び基板保持チャック12の体
積分だけ、堰22からオーバーフロー槽23に溢れ出
る。オーバフロー槽23に溢れ出た水は、計測配管24
内に溜まる。
【0022】ステップS4では、圧力センサ26により
計測配管24内に溜まった純水の圧力を測定する。ステ
ップS5では、基板Wの浸漬によって浸漬槽20から溢
れ出た水量を、圧力センサ26で測定された圧力により
算出する。ステップS6では、算出された水量と、浸漬
された部分の基板1枚当たりの体積及び基板保持チャッ
ク12の体積とから、基板保持チャック12に保持され
た基板Wの枚数を算出する。なお、基準となる体積は、
基板Wの形状及び基板保持チャック12の形状に応じて
予め設定されたものである。
計測配管24内に溜まった純水の圧力を測定する。ステ
ップS5では、基板Wの浸漬によって浸漬槽20から溢
れ出た水量を、圧力センサ26で測定された圧力により
算出する。ステップS6では、算出された水量と、浸漬
された部分の基板1枚当たりの体積及び基板保持チャッ
ク12の体積とから、基板保持チャック12に保持され
た基板Wの枚数を算出する。なお、基準となる体積は、
基板Wの形状及び基板保持チャック12の形状に応じて
予め設定されたものである。
【0023】ステップS7では、算出枚数と予め設定さ
れた枚数とが等しいか否かを判断する。これにより、基
板Wが正しく受け渡されたか否かを判断できる。正しく
基板が受け渡された場合にはステップS8に移行する。
ステップS8では、基板ロボット11の基板保持チャッ
ク12を上昇させ、浸漬槽20の外に基板Wを出す。そ
して、ステップS9で排液弁25を開き、ステップS9
で純水供給弁21を開く。これにより、浸漬槽20が水
で再び満たされる。しかも、水が浸漬槽20からオーバ
ーフローするので、薬液が付着した基板Wの浸漬後に、
浸漬槽20内は再び清浄になる。
れた枚数とが等しいか否かを判断する。これにより、基
板Wが正しく受け渡されたか否かを判断できる。正しく
基板が受け渡された場合にはステップS8に移行する。
ステップS8では、基板ロボット11の基板保持チャッ
ク12を上昇させ、浸漬槽20の外に基板Wを出す。そ
して、ステップS9で排液弁25を開き、ステップS9
で純水供給弁21を開く。これにより、浸漬槽20が水
で再び満たされる。しかも、水が浸漬槽20からオーバ
ーフローするので、薬液が付着した基板Wの浸漬後に、
浸漬槽20内は再び清浄になる。
【0024】ステップS7で、算出枚数が予め設定され
た枚数と異なった場合にはステップS10に移行する。
ステップS10ではエラー処理を行う。このエラー処理
では、例えば警報を発したり、保持された基板を基板移
載部2に戻してキャリアC内に収納したりする。ここで
は、基板Wを浸漬したときに溢れ出る水量により基板枚
数を検出しているので、基板を汚染することなくかつ簡
素な構成で安価に基板枚数を検出することができる。ま
た、従来のウエハカウンタのように基板表面に付着した
処理液によるセンサの腐食を防止でき、センサの故障や
誤動作等が生じにくい。
た枚数と異なった場合にはステップS10に移行する。
ステップS10ではエラー処理を行う。このエラー処理
では、例えば警報を発したり、保持された基板を基板移
載部2に戻してキャリアC内に収納したりする。ここで
は、基板Wを浸漬したときに溢れ出る水量により基板枚
数を検出しているので、基板を汚染することなくかつ簡
素な構成で安価に基板枚数を検出することができる。ま
た、従来のウエハカウンタのように基板表面に付着した
処理液によるセンサの腐食を防止でき、センサの故障や
誤動作等が生じにくい。
【0025】〔他の実施例〕 (a) 図2の構成に代えて、図5に示すように、三方
弁27と計測容器28と重量測定部29とを採用しても
よい。三方弁27は、計測配管24の接続対象を計測容
器28とドレインとの間で切り換える。計測容器28
は、重量測定部29上に載置されている。
弁27と計測容器28と重量測定部29とを採用しても
よい。三方弁27は、計測配管24の接続対象を計測容
器28とドレインとの間で切り換える。計測容器28
は、重量測定部29上に載置されている。
【0026】ここでは、基板枚数検出時には、三方弁2
7により計測配管24を計測容器28に接続する。そし
て基板浸漬により溢れ出た水を計測容器28に溜め、溜
まった液量を重量測定部29により測定する。この測定
された液量により基板枚数を検出する。 (b) 計測配管24をガラス製とし、その上下方向に
沿って基板枚数に対応してフォトセンサまたは静電容量
センサを配置して液量を測定してもよい。また、計測配
管24内部にフロートを配置し、フロートの浮遊位置に
より液量を測定してもよい。
7により計測配管24を計測容器28に接続する。そし
て基板浸漬により溢れ出た水を計測容器28に溜め、溜
まった液量を重量測定部29により測定する。この測定
された液量により基板枚数を検出する。 (b) 計測配管24をガラス製とし、その上下方向に
沿って基板枚数に対応してフォトセンサまたは静電容量
センサを配置して液量を測定してもよい。また、計測配
管24内部にフロートを配置し、フロートの浮遊位置に
より液量を測定してもよい。
【0027】
【発明の効果】本発明に係る基板枚数検出装置では、基
板の浸漬により溢れ出た液量から基板枚数を検出してい
るので、簡易な構成で安価に基板枚数を検出できる。
板の浸漬により溢れ出た液量から基板枚数を検出してい
るので、簡易な構成で安価に基板枚数を検出できる。
【図1】本発明の一実施例が採用された基板処理装置の
斜視図。
斜視図。
【図2】基板枚数検出装置の縦断面模式図。
【図3】基板処理装置の制御系の構成を示すブロック模
式図。
式図。
【図4】基板枚数検出処理のフローチャート。
【図5】他の実施例の図2に相当する図。
9 基板枚数検出装置 20 浸漬槽 21 純水供給弁 24 計測配管 26 圧力センサ 30 制御部
Claims (1)
- 【請求項1】基板群の基板枚数を検出する基板枚数検出
装置であって、 液体が満たされるオーバーフロー型の浸漬槽と、 前記浸漬槽内の液体に前記基板群を浸漬する浸漬手段
と、 前記浸漬手段による浸漬動作時に、前記浸漬槽からオー
バーフローした液量を検出する液量検出手段と、 前記液量検出手段の検出結果により、前記基板群の基板
枚数を算出する基板枚数算出手段と、 を備えた基板枚数検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31212293A JP2992185B2 (ja) | 1993-12-13 | 1993-12-13 | 基板枚数検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31212293A JP2992185B2 (ja) | 1993-12-13 | 1993-12-13 | 基板枚数検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07169822A JPH07169822A (ja) | 1995-07-04 |
| JP2992185B2 true JP2992185B2 (ja) | 1999-12-20 |
Family
ID=18025518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31212293A Expired - Fee Related JP2992185B2 (ja) | 1993-12-13 | 1993-12-13 | 基板枚数検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2992185B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4347156B2 (ja) * | 2004-07-28 | 2009-10-21 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
| JP2008166709A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-07-17 | Ebara Corp | 基板研磨装置、及び基板研磨設備 |
| JP6858036B2 (ja) * | 2017-02-28 | 2021-04-14 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
| JP2021025092A (ja) * | 2019-08-06 | 2021-02-22 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置 |
-
1993
- 1993-12-13 JP JP31212293A patent/JP2992185B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07169822A (ja) | 1995-07-04 |
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