JP3000615B2 - Pattern recognition method - Google Patents
Pattern recognition methodInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はパターン認識方法に関し、詳しくは、不鮮明
なエリアを有する基準パターンと検査パターンを照合す
るための手段に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a pattern recognition method, and more particularly, to a means for comparing a reference pattern having an unclear area with an inspection pattern.
(従来の技術) 例えば基板に実装される電子部品や、基板に形成され
た位置基準マークのような検査対象物の位置検出や形状
認識等のためのパターン認識は、電子品や位置基準マー
ク等の実際のサンプルを予めカメラで観察して得られた
基準パターンと、検査対象物をカメラで観察して得られ
た検査パターンを照合することにより行われる。(Prior Art) For example, pattern recognition for detecting the position and shape of an inspection object such as an electronic component mounted on a substrate or a position reference mark formed on the substrate is performed by using an electronic component or a position reference mark. This is performed by comparing a reference pattern obtained by observing an actual sample with a camera in advance with an inspection pattern obtained by observing an inspection target with a camera.
(発明が解決しようとする課題) ところで、上記のようにサンプルや検査対象物をカメ
ラなどの光学手段で観察する場合、光源から照射された
光がサンプルや検査対象物の表面に部分的に鏡面反射さ
れるなどして、全体形状を明瞭に観察できず、部分的に
不鮮明なエリアが生じる場合が多く、この不鮮明なエリ
アのために認識精度が低下しやすいものであった。(Problems to be Solved by the Invention) By the way, when the sample or the inspection object is observed by an optical means such as a camera as described above, the light emitted from the light source partially mirrors the surface of the sample or the inspection object. In many cases, the entire shape cannot be clearly observed due to reflection or the like, and a partially unclear area often occurs, and the recognition accuracy tends to decrease due to the unclear area.
そこで本発明は、上記のような問題を解消するパター
ン認識方法を提供することを目的とする。Therefore, an object of the present invention is to provide a pattern recognition method that solves the above-described problem.
(課題を解決するための手段) このために本発明は、サンプルおよび検査対象物の表
面の少なくとも部分的な鏡面反射に起因する光学的に不
鮮明なエリアを含むパターンの認識方法であって、サン
プルを光学手段により観察して基準パターンの不鮮明な
エリアを検出し、次いで同じ光学手段により検査対象物
を観察して検査パターンを検出し、この基準パターンと
検査パターンを照合するに際し、上記不鮮明なエリアを
除外して照合するようにしている。SUMMARY OF THE INVENTION To this end, the present invention provides a method for recognizing a pattern including an optically unclear area due to at least partial specular reflection of the surface of a sample and an inspection object, comprising: Is observed by an optical means to detect an unclear area of the reference pattern, and then the inspection object is observed by the same optical means to detect the inspection pattern. When comparing the reference pattern with the inspection pattern, the unclear area is detected. Is excluded.
また、サンプルおよび検査対象物の表面の少なくとも
部分的な鏡面反射に起因する光学的に不鮮明なエリアを
含むパターンの認識方法であって、サンプルを光学手段
により観察して、基準パターンの鮮明なエリアを検出
し、次いで同じ光学手段により検査対象物を観察して検
査パターンを検出し、この基準パターンと検査パターン
を照合するに際し、この鮮明なエリアを照合するように
したものである。A method for recognizing a pattern including an optically unclear area caused by at least partial specular reflection of a surface of a sample and an inspection object, wherein the sample is observed by an optical means, and a sharp area of a reference pattern is observed. Then, the inspection object is observed by the same optical means to detect the inspection pattern, and when the reference pattern and the inspection pattern are compared, the clear area is compared.
(作用) 上記構成によれば、不鮮明なエリアを除外し、鮮明に
観察されたエリアについてパターンの照合を行うので、
認識精度をあげることができる。(Operation) According to the above configuration, the unclear area is excluded, and the pattern matching is performed on the clearly observed area.
The recognition accuracy can be improved.
(実施例) 次に、図面を参照しながら本発明の実施例を説明す
る。Example Next, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.
第3図は、カメラ10、リング光源11等の光学手段によ
り、テーブル13に載置された基板のようなサンプル12に
形成された文字Aを観察している様子を示すものであ
る。第1図において、1は上記カメラ10によりサンプル
12を観察して得られた基準パターンであり、8×8=64
の画素Gを有している。本実施例は、文字Aのパターン
を照合するものであるが、光源11から照射された光がサ
ンプル12の表面に部分的に鏡面反射されるなどして、文
字Aの全体形状は明瞭に観察されず、図中、影線を付し
た部分は、不鮮明に観察検出されるエリアE11,E12とな
っている。FIG. 3 shows a state in which a character A formed on a sample 12 such as a substrate placed on a table 13 is observed by optical means such as a camera 10 and a ring light source 11. In FIG. 1, 1 is a sample taken by the camera 10 described above.
This is a reference pattern obtained by observing 12, and 8 × 8 = 64.
Pixel G. In this embodiment, the pattern of the character A is collated. However, the light emitted from the light source 11 is partially specularly reflected on the surface of the sample 12, and the entire shape of the character A is clearly observed. However, in the figure, the shaded portions are areas E11 and E12 that are obscurely observed and detected.
検査パターン2は、上記テーブル13に検査対象物を載
置して観察して得られたパターンである。この検査対象
物も、上記サンプル12と同じ光学手段に観察されている
ので、上記基準パターン1とほぼ同一の部分に、不鮮明
に観察されるエリアE21,E22が生じている。The inspection pattern 2 is a pattern obtained by placing an inspection target on the table 13 and observing it. Since this inspection object is also observed by the same optical means as that of the sample 12, areas E21 and E22 that are obscurely observed are formed in substantially the same portion as the reference pattern 1.
そこで本手段は、無効パターン3を設定する。この無
効パターン3は、上記エリアE11,E12に対応する画素G
に無効エリアE31,E32を設定し、この無効エリアE31,E32
を、後述する演算から除外するものである。Therefore, the present means sets invalid pattern 3. The invalid pattern 3 corresponds to the pixels G corresponding to the areas E11 and E12.
The invalid areas E31 and E32 are set in the invalid areas E31 and E32.
Is excluded from the calculation described later.
4は論理回路(Exclusive or)であって、上記基準
パターン1と検査パターン2は、この論理回路4の入力
部に接続されている。5はNAND回路であって、その入力
部には、論理回路4と、無効パターン3側の論理回路6
の出力部が接続されており、このNAND回路5は、演算部
7に接続されている。また論理回路6の一方の入力部
は、切換スイッチ部8に接続されている。このスイッチ
部8は、可変接点81と、0,1の2つの固定接点82,83を有
している。上記各パターン1,2,3の各画素Gは、2値化
若しくは多値化されたデータを有しており、各画素Gの
データを論理回路4,6に出力する。Reference numeral 4 denotes a logic circuit (Exclusive or), and the reference pattern 1 and the test pattern 2 are connected to an input section of the logic circuit 4. Numeral 5 denotes a NAND circuit whose input section has a logic circuit 4 and a logic circuit 6 on the invalid pattern 3 side.
The NAND circuit 5 is connected to an operation unit 7. One input section of the logic circuit 6 is connected to the changeover switch section 8. The switch section 8 has a variable contact 81 and two fixed contacts 82 and 83 of 0 and 1. Each pixel G of each of the patterns 1, 2, and 3 has binarized or multi-valued data, and outputs the data of each pixel G to the logic circuits 4 and 6.
本手段は上記構成より成り、次に不鮮明なエリアE11,
E12を除外するパターン認識方法を説明する。この場
合、上記可変接点81は、0側の固定接点82に接続してお
く。This means has the above configuration, and then the unclear area E11,
A pattern recognition method excluding E12 will be described. In this case, the variable contact 81 is connected to the fixed contact 82 on the 0 side.
さて、基準パターン1及び検査パターン2において、
文字Aが取り込まれた画素Gの2値化値は1、他の部分
は0である。したがって、基準パターン1と検査パター
ン2の64個の各画素Gの0,1信号を論理回路4に順次入
力していった場合、0,0又は1,1で両画素Gのデータが一
致しているときは、論理回路4の出力は0、また1,0又
は0,1で不一致のときの同出力は1である。このように
基準パターン1と検査パターン2の画素Gのデータが不
一致で、論理回路4の出力が1のときは、NAND回路5の
出力は常に0である。また両画素Gのデータが一致して
いて、論理回路4の出力が0の場合、NAND回路5の出力
は、もう一方の論理回路6の出力により決定される。す
なわち無効パターン3において、上記無効エリアE31,E3
2以外の画素Gのデータは0であり、この場合、論理回
路6の入力部は0、0、出力は0であり、したがってNA
ND回路5の出力は1であって、演算部7に入力される。
ところが上記無効エリアE31,E32の画素Gは1であるの
で、論理回路6の入力部は1、0となり、その出力は1
となるので、NAND回路5の出力は0となる。このこと
は、無効エリアE31,E32においては、基準パターン1と
検査パターン2の画素Gのデータがたとえ一致していて
も、NAND回路5の出力は0となって、演算部7の演算か
ら除外されることを意味する。このように本方法は、不
鮮明な無効エリアE31,E32はマッチングの演算から除外
するようにしているので、認識精度をあげることができ
る。なお認識精度は、(マッチング画素数/無効エリア
E31,32の画素数を除外した有効画素数)として求められ
る。Now, in the reference pattern 1 and the inspection pattern 2,
The binarized value of the pixel G into which the character A is taken is 1 and the other portions are 0. Therefore, when the 0,1 signals of the 64 pixels G of the reference pattern 1 and the inspection pattern 2 are sequentially input to the logic circuit 4, the data of both pixels G match at 0,0 or 1,1. The output of the logic circuit 4 is 0, and the output is 1 when there is a mismatch between 1,0 or 0,1. As described above, when the data of the pixels G of the reference pattern 1 and the test pattern 2 do not match and the output of the logic circuit 4 is 1, the output of the NAND circuit 5 is always 0. When the data of the two pixels G match and the output of the logic circuit 4 is 0, the output of the NAND circuit 5 is determined by the output of the other logic circuit 6. That is, in the invalid pattern 3, the invalid areas E31 and E3
The data of the pixel G other than 2 is 0. In this case, the input of the logic circuit 6 is 0, 0 and the output is 0.
The output of the ND circuit 5 is 1 and is input to the arithmetic unit 7.
However, since the pixels G of the invalid areas E31 and E32 are 1, the input portion of the logic circuit 6 is 1, 0, and the output is 1
Therefore, the output of the NAND circuit 5 becomes 0. This means that in the invalid areas E31 and E32, even if the data of the pixels G of the reference pattern 1 and the test pattern 2 match, the output of the NAND circuit 5 becomes 0 and the data is excluded from the calculation of the calculation unit 7. Means to be done. As described above, in the present method, the unclear invalid areas E31 and E32 are excluded from the calculation of the matching, so that the recognition accuracy can be improved. Note that the recognition accuracy is (number of matching pixels / invalid area
(Effective pixel number excluding the number of pixels of E31 and E32).
ところで、上記のように光学手段でサンプルや検査対
象物を観察した場合、大部分は不鮮明で、一部分のみが
鮮明に観察される場合があり、次に第2図を参照しなが
ら、このような場合のマッチング方法を説明する。この
場合、可変接点81は1側の固定接点83に接続する。By the way, when the sample or the inspection object is observed by the optical means as described above, most of the observation is indistinct, and only a part of the sample or the inspection object is clearly observed. A matching method in the case will be described. In this case, the variable contact 81 is connected to the fixed contact 83 on one side.
第2図の基準パターン1において、エリアE41は鮮明
に観察されているが、これ以外の部分は不鮮明に観察さ
れている。また検査パターン2においても、このエリア
E41とほぼ同様のエリアE42だけが鮮明に観察されてい
る。そこで鮮明に検出された上記エリアE41に対応する
分に有効パターン3′の有効エリアE43を設定し、この
有効エリアE43についてのみ、以下に述べるようにマッ
チングを行う。In the reference pattern 1 of FIG. 2, the area E41 is clearly observed, but the other portions are obscurely observed. In the inspection pattern 2, this area
Only the area E42 almost similar to E41 is clearly observed. Therefore, an effective area E43 of the effective pattern 3 'is set for the area corresponding to the area E41 which is clearly detected, and matching is performed only on the effective area E43 as described below.
論理回路6のスイッチ部8側の入力部は常に1であ
り、また有効パターン3′において、有効エリアE43以
外の画素Gのデータは0であることから、論理回路6の
出力は1であり、NAND回路5の出力は0となる。このこ
とは、有効エリアE43以外の部分は、演算から除外され
ることを意味する。そして、この有効エリアE43におい
て、基準パターン1の画素Gのデータと、検査パターン
2の画素Gのデータが一致している時は、NAND回路5の
出力は1、不一致のときの同出力は0である。このよう
に本方法によれば、鮮明な有効エリアE43についての
み、マッチングの演算が行われる。The input of the logic circuit 6 on the side of the switch section 8 is always 1, and the data of the pixel G other than the effective area E43 is 0 in the effective pattern 3 ', so that the output of the logic circuit 6 is 1. The output of the NAND circuit 5 becomes 0. This means that parts other than the effective area E43 are excluded from the calculation. In the effective area E43, when the data of the pixel G of the reference pattern 1 and the data of the pixel G of the inspection pattern 2 match, the output of the NAND circuit 5 is 1, and when the data does not match, the output is 0. It is. As described above, according to the present method, the matching calculation is performed only for the clear effective area E43.
(発明の効果) 以上説明したように本発明は、不鮮明に観察されるエ
リアは除外し、鮮明に観察されるエリアについてのみ、
マッチングの演算を行うようにしているので、認識精度
を大巾に向上させることができる。(Effects of the Invention) As described above, the present invention excludes areas that are obscurely observed, and excludes only areas that are clearly observed.
Since the matching calculation is performed, the recognition accuracy can be greatly improved.
図は本発明の実施例を示すものであって、第1図はマッ
チング手段のブロック図、第2図は他のマッチング手段
のブロック図、第3図は観察装置の斜視図である。 1……基準パターン 2……検査パターン 10,11……光学手段 12……サンプル1 shows an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a block diagram of a matching unit, FIG. 2 is a block diagram of another matching unit, and FIG. 3 is a perspective view of an observation device. 1 ... Reference pattern 2 ... Inspection pattern 10, 11 ... Optical means 12 ... Sample
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G06T 1/00 G06T 7/00 G01N 21/88 H05K 13/08 H05K 3/00 Continuation of front page (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G06T 1/00 G06T 7/00 G01N 21/88 H05K 13/08 H05K 3/00
Claims (2)
とも部分的な鏡面反射に起因する光学的に不鮮明なエリ
アを含むパターンの認識方法であって、サンプルを光学
手段により観察して基準パターンの不鮮明なエリアを検
出し、次いで同じ光学手段により検査対象物を観察して
検査パターンを検出し、この基準パターンと検査パター
ンを照合するに際し、上記不鮮明なエリアを除外して照
合するようにしたことを特徴とするパターン認識方法。1. A method for recognizing a pattern including an optically blurred area caused by at least partial specular reflection of the surface of a sample and an inspection object, wherein the sample is observed by an optical means and the reference pattern is blurred. In this case, the inspection area is detected by the same optical means, the inspection pattern is detected, and the inspection pattern is detected.When the reference pattern and the inspection pattern are compared, the above-mentioned unclear area is excluded and the comparison is performed. Characteristic pattern recognition method.
とも部分的な鏡面反射に起因する光学的に不鮮明なエリ
アを含むパターンの認識方法であって、サンプルを光学
手段により観察して、基準パターンの鮮明なエリアを検
出し、次いで同じ光学手段により検査対象物を観察して
検査パターンを検出し、この基準パターンと検査パター
ンを照合するに際し、この鮮明なエリアを照合するよう
にしたことを特徴とするパターン認識方法。2. A method for recognizing a pattern including an optically unclear area caused by at least partial specular reflection of the surface of a sample and an inspection object, wherein the sample is observed by an optical means, and Detecting a clear area, then observing the test object by the same optical means to detect a test pattern, and comparing the reference pattern with the test pattern, the clear area is compared. Pattern recognition method.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2089931A JP3000615B2 (en) | 1990-04-04 | 1990-04-04 | Pattern recognition method |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2089931A JP3000615B2 (en) | 1990-04-04 | 1990-04-04 | Pattern recognition method |
Publications (2)
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Family
ID=13984442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2089931A Expired - Fee Related JP3000615B2 (en) | 1990-04-04 | 1990-04-04 | Pattern recognition method |
Country Status (1)
| Country | Link |
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Families Citing this family (3)
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|---|---|---|---|---|
| US7697169B2 (en) * | 2004-10-29 | 2010-04-13 | Marvell International Technology Ltd. | Laser print apparatus with toner explosion compensation |
| CN101809403B (en) | 2007-09-28 | 2011-06-29 | 松下电器产业株式会社 | Inspection device and inspection method |
| US9411779B2 (en) | 2012-09-28 | 2016-08-09 | Illinois Tool Works Inc. | Method of dispensing material based on edge detection |
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1990
- 1990-04-04 JP JP2089931A patent/JP3000615B2/en not_active Expired - Fee Related
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