JP3000688B2 - Radiation hardening protection device and artificial satellite for electronic circuit - Google Patents
Radiation hardening protection device and artificial satellite for electronic circuitInfo
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- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
- Logic Circuits (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は放射線照射によって起こ
る半導体素子特性の劣化を制御し、電子回路の長寿命化
を図る方法及び装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for controlling the deterioration of semiconductor device characteristics caused by irradiation of radiation and extending the life of an electronic circuit.
【0002】[0002]
【従来の技術】特に人工衛星等に搭載される半導体素子
は宇宙線にさらされ、劣化さらには故障することが知ら
れている。衛星に搭載される電子回路の中で、放射線に
より最も特性の変化しやすい部品はIC等の半導体素子
である。ICの中でも、特に低電力で動作するCMOS
回路が宇宙用として有望であるが、ICを搭載するMOSF
ET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transis
tor)(以下FETと略記)は放射線により特性が劣化し
やすい。2. Description of the Related Art It is known that semiconductor elements mounted on artificial satellites and the like are exposed to cosmic rays and deteriorate or even break down. Among electronic circuits mounted on satellites, components whose characteristics are most likely to change due to radiation are semiconductor elements such as ICs. CMOS that operates with low power among ICs
Circuit is promising for space use, but MOSF with IC mounted
ET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transis
tor) (hereinafter abbreviated as FET) tends to deteriorate in characteristics due to radiation.
【0003】通常、通信用衛星等の人工衛星は打ち上げ
後のメインテナンスは不可能であるから、宇宙線による
半導体素子の劣化をできるだけ軽減し、電子回路の長寿
命化をはかる必要がある。このため衛星内の電子回路は
放熱板をかねたアルミの遮蔽体に納められ、被爆線量を
できる限り下げるよう設計される。しかし、衛星の重量
には制限があるため、遮蔽体は無制限に厚くする事はで
きない。従って電子回路の構成部品の照射実験を地上で
行い、その結果と衛星の寿命を考慮して、許容できる線
量率を求め、遮蔽体の厚さを決定している。[0003] Normally, maintenance of artificial satellites such as communication satellites after launch is impossible, so that it is necessary to reduce the deterioration of semiconductor elements due to cosmic rays as much as possible and to extend the life of electronic circuits. For this reason, the electronic circuits in the satellite are housed in aluminum shields that also function as heat sinks, and are designed to minimize the exposure dose. However, due to the weight of the satellite, the shield cannot be made unlimitedly thick. Therefore, irradiation experiments of the components of the electronic circuit are performed on the ground, and in consideration of the results and the life of the satellite, an allowable dose rate is determined and the thickness of the shield is determined.
【0004】しかし、宇宙では機器が故障しても簡単に
メインテナンスをすることが不可能なため、同じ遮蔽体
の厚さでも電子回路の寿命はできるだけ長くできる手段
を準備しておくことが重要である。However, in the universe, it is impossible to easily perform maintenance even if the equipment breaks down. Therefore, it is important to prepare a means for extending the life of the electronic circuit as long as possible even with the same thickness of the shield. is there.
【0005】このためFETの放射線による特性劣化を
回復させる手段として次のような方法が考えられてき
た。For this reason, the following method has been considered as a means for recovering deterioration of characteristics of the FET due to radiation.
【0006】FETの放射線照射による主な特性劣化は
閾値電圧の変化とチャネル移動度の減少である。特に前
者の閾値電圧の変化量(以下閾値電圧シフトと呼ぶ)が
大きく、FETの動作不良の原因となる。閾値電圧シフ
トは温度により回復(アニール)することが知られてお
り、FETの放射線による劣化を回復させる手段とし
て、このことを利用してFETを高温環境下(100℃
程度)に放置することにより、劣化したFETの閾値電
圧シフトを回復させることが考えられてきた。[0006] The main characteristic deterioration of the FET due to radiation irradiation is a change in threshold voltage and a decrease in channel mobility. In particular, the former threshold voltage change amount (hereinafter referred to as threshold voltage shift) is large, which causes a malfunction of the FET. It is known that the threshold voltage shift is recovered (annealed) depending on the temperature. As a means for recovering the deterioration of the FET due to radiation, this is used to store the FET in a high temperature environment (100 ° C.).
It has been conceived to recover the threshold voltage shift of the deteriorated FET by leaving it to the extent of about).
【0007】従来、集積線量によるFETの劣化の評価
は現実にFETが曝される宇宙線の線量率、約1Gy/
h以下、と較べて非常に高い線量率102〜104Gy/
hでの地上実験により行われており、高線量率における
素子の劣化は低線量率においてよりも早いので地上実験
での結果は信頼性が高いものとなると考えられてきた。Conventionally, degradation of an FET due to an integrated dose has been evaluated by a dose rate of cosmic rays to which the FET is actually exposed, about 1 Gy /
h or less, a very high dose rate of 10 2 to 10 4 Gy /
h, and it has been believed that the results of the ground tests are more reliable since the degradation of the device at higher dose rates is faster than at lower dose rates.
【0008】しかし、近年、放射線環境下では素子の損
傷と同時に回復(アニール)現象が起こるため、同じ集
積線量でも素子の劣化量は線量率によって異なることが
判ってきた。従って、高線量率における照射実験結果に
よる評価だけでは、必ずしも低線量率における正しい評
価にはつながらない。すなわち、FETの閾値電圧シフ
トは高線量率では負方向へシフトし、低線量率では正方
向へシフトすることが、ピー・エス・ウィノクール他,
「トータル ドーズ ラディエーション アンド アニ
ーリング スタディ」,アイイーイーイー トランザク
ション オンニュークリア サイエンス,Vol−3
3,No.6,pp.1343−1351(1986)
(P.S.Winokur,et.al.:Total−Dose Radiation and Ann
ealingStudies,IEEE Trans.on NS,Vol.NS−
33,No.6,PP.1343−1351(198
6))に述べられている。However, in recent years, it has been found that in a radiation environment, a recovery (annealing) phenomenon occurs simultaneously with damage to the device, so that the amount of deterioration of the device varies depending on the dose rate even with the same integrated dose. Therefore, evaluation based only on the results of irradiation experiments at high dose rates does not always lead to correct evaluation at low dose rates. That is, the threshold voltage shift of the FET shifts in the negative direction at a high dose rate, and shifts in the positive direction at a low dose rate.
"Total Dose Radiation and Annealing Study", IEE Transaction on Nuclear Science, Vol-3
3, No. 6, pp. 1343-1351 (1986)
(PSWinokur, et.al .: Total-Dose Radiation and Ann
ealingStudies, IEEE Trans. on NS, Vol. NS-
33, No. 6, PP. 1343-1351 (198)
6)).
【0009】この原因は次のように考えられている。閾
値電圧シフトは、FETのゲートのSi酸化膜中への
固定正電荷の蓄積による負方向への閾値電圧シフト、
固定正電荷と電子の再結合中和による閾値電圧の回復並
びにSi/Si酸化膜界面の界面準位の増加による正
方向へのシフトからなる。ととは線量にほぼ比例
し、は時間の対数にほぼ比例する。また、は温度が
高いほど回復速度が大きいことが判っている。The cause is considered as follows. The threshold voltage shift is a threshold voltage shift in the negative direction due to accumulation of fixed positive charges in the Si oxide film of the FET gate,
Recovery of the threshold voltage by recombination neutralization of fixed positive charges and electrons and shift in the positive direction due to an increase in the interface state at the Si / Si oxide film interface. And are approximately proportional to dose and approximately proportional to the logarithm of time. It is also known that the higher the temperature, the higher the recovery speed.
【0010】線量率の低い場合、すなわち宇宙空間で
は、による負方向のシフトはのアニール現象により
自然に回復するため、主にによる正方向シフトにより
FETが劣化する。従って素子を高温に保ってアニール
することにより閾値電圧シフトの回復を図るという従来
の方法はこの場合効果が少ないと考えられる。When the dose rate is low, that is, in the outer space, since the negative shift caused by the light is naturally recovered by the annealing phenomenon, the FET is deteriorated mainly by the positive shift. Therefore, it is considered that the conventional method of recovering the threshold voltage shift by annealing the device while maintaining the device at a high temperature is less effective in this case.
【0011】の界面準位も200℃以上の高温ではア
ニールすることが、ピー・ブックマン「トータル ドー
ズ ハードネス アシュアランス フォー マイクロ
サーキット フォー スペース エンヴィロメント」,
アイ・イー・イー・イー トランザクション オン ニ
ュークリア サイエンス,Vol.NS−33,No.
6,pp.1352−1358(1986)(P.Buchma
n,:Total Dose hardnessAssurance for Microcircuits
for Space Environment,IEEE Trans.on NS,Vo
l.NS−33,NO.6,PP.1352−1358
(1986))に述べられている。しかし、通常の電子
部品は125℃が使用の上限温度であり、200℃以上
の高温でのアニールは電子部品の信頼性を損なうことに
なり実用的ではない。Annealing the interface state at a high temperature of 200 ° C. or more can be performed by P. Bookman, “Total Dose Hardness Assurance for Micro.
Circuit for Space Environment ”,
IEE Transaction on Nuclear Science, Vol. NS-33, No.
6, pp. 1352-1358 (1986) (P. Buchma
n,: Total Dose hardnessAssurance for Microcircuits
for Space Environment, IEEE Trans.on NS, Vo
l. NS-33, NO. 6, PP. 1352-1358
(1986)). However, 125 ° C. is the upper limit temperature for use of ordinary electronic parts, and annealing at a high temperature of 200 ° C. or more impairs the reliability of the electronic parts and is not practical.
【0012】また、高温アニール時には、電子回路の動
作を停止する必要があること、回路中の抵抗、コンデン
サ等耐放射線性に問題のない部品も同時に高温に曝され
るため、これらの部品の信頼性が低下する恐れがあるこ
と等の問題がある。In addition, during high-temperature annealing, it is necessary to stop the operation of the electronic circuit, and parts having no problem with radiation resistance, such as resistors and capacitors in the circuit, are simultaneously exposed to high temperatures. There is a problem that the property may be reduced.
【0013】このように、上記従来技術は線量率の低い
宇宙空間における半導体素子の主要劣化要因についての
配慮や電子回路の半導体素子以外の部品の信頼性への配
慮がされておらず、実用上素子の劣化特性の回復が不可
能であり、さらに半導体素子以外の部品の信頼性低下を
招く恐れがあるという問題があった。As described above, the prior art described above does not consider the main factors of deterioration of the semiconductor element in outer space where the dose rate is low and does not consider the reliability of components other than the semiconductor element of the electronic circuit. There has been a problem that it is impossible to recover the degradation characteristics of the device, and there is a possibility that the reliability of components other than the semiconductor device may be reduced.
【0014】[0014]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、宇宙線等の
放射線による半導体素子の劣化を軽減して、電子回路等
の長寿命化を達成することの可能な方法及び装置の提供
を目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method and an apparatus capable of reducing the deterioration of a semiconductor element due to radiation such as cosmic rays and achieving a longer life of an electronic circuit or the like. I do.
【0015】また、半導体素子以外の電子回路部品の信
頼性低下を招かないための方法及び装置を提供すること
を目的とする。It is another object of the present invention to provide a method and an apparatus for preventing a decrease in reliability of electronic circuit components other than a semiconductor element.
【0016】[0016]
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、半導体素子中に存在する固定正電荷の量を
制御する制御手段を電子回路に設けたものである。According to the present invention, in order to achieve the above object, a control means for controlling the amount of fixed positive charge existing in a semiconductor device is provided in an electronic circuit.
【0017】この制御手段は、電子回路に入射する宇宙
線の線量率を制御するため、遮蔽体の厚さを可変する手
段、または、電子回路の温度を下げるよう制御する手
段、または、これらの組合せよりなる。The control means controls the dose rate of the cosmic rays incident on the electronic circuit, so as to change the thickness of the shield, or control the temperature of the electronic circuit so as to lower it, or these means. Consists of combinations.
【0018】[0018]
【作用】前記の制御手段、すなわち、遮蔽体の厚さを制
御する手段は、半導体素子の閾値電圧シフトが許容範囲
の上限に近づくと遮蔽体の厚さを減少させる。これによ
り、宇宙線の線量率を増加させて、半導体素子中の固定
正電荷の生成速度を増加させ、閾値電圧を故意に負方向
にシフトさせることにより、半導体素子中の界面準位に
よる閾値電圧の正方向シフト成分を補償する。それによ
って、半導体素子の閾値電圧シフトは小さくなり、電子
回路の寿命が伸び耐放射線性が強化される。The control means, that is, the means for controlling the thickness of the shield, reduces the thickness of the shield when the threshold voltage shift of the semiconductor element approaches the upper limit of the allowable range. As a result, the dose rate of cosmic rays is increased, the generation rate of fixed positive charges in the semiconductor device is increased, and the threshold voltage is intentionally shifted in the negative direction. Is compensated for in the positive direction. Thereby, the threshold voltage shift of the semiconductor element is reduced, the life of the electronic circuit is extended, and the radiation resistance is enhanced.
【0019】また、後者の制御手段、すなわち電子回路
の温度を下げる手段は電子回路の温度を従来よりも低く
制御する。これにより、半導体素子中の固定正電荷のア
ニール速度を減少させ、閾値電圧の負方向シフト成分の
回復を遅らせることにより、半導体素子中の界面準位に
よる閾値電圧の正方向シフト成分を補償する。従って、
半導体素子の閾値電圧シフトは小さくなり、電子回路の
寿命が伸び耐放射線性が強化される。The latter control means, that is, means for lowering the temperature of the electronic circuit, controls the temperature of the electronic circuit to be lower than before. As a result, the annealing speed of the fixed positive charge in the semiconductor device is reduced, and the recovery of the negative shift component of the threshold voltage is delayed, thereby compensating for the positive shift component of the threshold voltage due to the interface state in the semiconductor device. Therefore,
The threshold voltage shift of the semiconductor device is reduced, the life of the electronic circuit is extended, and the radiation resistance is enhanced.
【0020】[0020]
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。まず、電
子回路に入射する宇宙線の線量率を増加させるため、遮
蔽体の厚さを減少させるように制御する手段を電子回路
に設けた一実施例を図1から図3により説明する。Embodiments of the present invention will be described below. First, an embodiment in which a means for controlling the thickness of a shield to reduce the thickness of a shield in order to increase the dose rate of cosmic rays incident on the electronic circuit will be described with reference to FIGS. 1 to 3.
【0021】始めに、FET素子の放射線による劣化モ
デルについて説明する。FETの劣化モデルは確立した
ものはないが、近似的に次の様に考えられている。FE
Tの劣化は主に閾値電圧のシフト量として表せる。閾値
電圧シフトΔVT は、固定正電荷によるシフトΔVoxと
界面準位によるシフトΔVitの和として求められる。First, a description will be given of a degradation model of a FET element due to radiation. Although no FET degradation model has been established, it is considered approximately as follows. FE
The deterioration of T can be mainly expressed as a shift amount of the threshold voltage. The threshold voltage shift ΔV T is obtained as the sum of the shift ΔV ox due to the fixed positive charge and the shift ΔV it due to the interface state.
【0022】[0022]
【数1】 (Equation 1)
【0023】単位線量のγ線インパルスγδ(t)がF
ETに照射されたとすると、固定正電荷によるシフトΔ
Voxと界面準位によるシフトΔVitはそれぞれ次式で与
えられる。The unit dose γ-ray impulse γδ (t) is F
Assuming that the ET is irradiated, the shift Δ due to the fixed positive charge
V ox and the shift ΔV it due to the interface state are given by the following equations, respectively.
【0024】[0024]
【数2】 (Equation 2)
【0025】 A:単位線量あたり発生する固定正電荷による電圧シフ
ト(V/Gy) B:アニール係数(V/Gy・h)A: Voltage shift due to fixed positive charge generated per unit dose (V / Gy) B: Annealing coefficient (V / Gy · h)
【0026】[0026]
【数3】 (Equation 3)
【0027】C:単位線量あたり発生する界面準位によ
る電圧シフト(V/Gy)従って、FETの閾値電圧シ
フトのインパルス応答は次式となる。C: Voltage shift due to interface level generated per unit dose (V / Gy) Therefore, the impulse response of the threshold voltage shift of the FET is as follows.
【0028】[0028]
【数4】 (Equation 4)
【0029】従って、線量率γ(t)で照射した時の閾
値電圧シフトΔVTはインパルス応答ΔVT0(t)とγ
(t)の畳込み積分として与えられる。Therefore, the threshold voltage shift ΔV T at the time of irradiation at the dose rate γ (t) is represented by the impulse response ΔV T0 (t) and γ
It is given as the convolution integral of (t).
【0030】[0030]
【数5】 (Equation 5)
【0031】一定の線量率γで照射した場合には数4と
数5から、When irradiating at a constant dose rate γ, from Equations 4 and 5,
【0032】[0032]
【数6】 (Equation 6)
【0033】[0033]
【数7】 (Equation 7)
【0034】ここで、数6は一定の線量率γで照射中の
ΔVT を、数7は照射後のΔVT を表す。Here, Equation 6 represents ΔV T during irradiation at a constant dose rate γ, and Equation 7 represents ΔV T after irradiation.
【0035】従って、上記モデルを用いることにより、
FETの製造プロセスや構造に依存するパラメータA,
B,Cを実験により決定すれば、数5により任意の線量
率での閾値電圧シフトΔVTが求まる。Therefore, by using the above model,
Parameters A depending on the manufacturing process and structure of the FET,
If B and C are determined by experiments, a threshold voltage shift ΔV T at an arbitrary dose rate can be obtained from Expression 5.
【0036】本実施例では市販ICの照射実験によって
得られたnチャネルFETに関する以下のパラメータ値
を使用する。In this embodiment, the following parameter values relating to an n-channel FET obtained by an irradiation experiment of a commercial IC are used.
【0037】[0037]
【数8】 (Equation 8)
【0038】[0038]
【数9】 (Equation 9)
【0039】図1に本実施例の構成図を示す。電子回路
4は固定遮蔽体5とその外周に配置された可動遮蔽体6
で放射線から遮蔽されている。電子回路4には可動遮蔽
体6を制御する制御回路7が設けられており、制御回路
7は制御線8を介して可動遮蔽体6の駆動装置9を制御
する。FIG. 1 shows a configuration diagram of this embodiment. The electronic circuit 4 comprises a fixed shield 5 and a movable shield 6 arranged on the outer periphery thereof.
Is shielded from radiation. The electronic circuit 4 is provided with a control circuit 7 for controlling the movable shield 6, and the control circuit 7 controls a driving device 9 of the movable shield 6 via a control line 8.
【0040】遮蔽体の厚さは以下のようにして決定され
る。図3は人工衛星の静止軌道上での電子回路4の受け
る線量率とアルミニウムのシールド厚さの関係を示した
図である。本実施例では電子回路の受ける宇宙線の線量
率を0.01Gy/hと設計し、遮蔽体の厚さを合計
3.5cm とする。従来はこの厚さが遮蔽体の厚さとな
る。本実施例では固定遮蔽体5と可動遮蔽体6及び衛星
の筐体の厚さの合計が3.5cmである。可動遮蔽体6の厚
さは、可動遮蔽体6を除去したときに電子回路4の受け
る線量率が0.1Gy/hになる様に約1.5cmとする。
このとき固定遮蔽体の厚さは約2cmとなる。The thickness of the shield is determined as follows. FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the dose rate received by the electronic circuit 4 and the aluminum shield thickness in a geosynchronous orbit of a satellite. In this embodiment, the dose rate of the cosmic rays received by the electronic circuit is designed to be 0.01 Gy / h, and the thickness of the shield is 3.5 cm in total. Conventionally, this thickness is the thickness of the shield. In this embodiment, the total thickness of the fixed shield 5, the movable shield 6, and the housing of the satellite is 3.5 cm. The thickness of the movable shield 6 is set to about 1.5 cm so that the dose rate received by the electronic circuit 4 when the movable shield 6 is removed is 0.1 Gy / h.
At this time, the thickness of the fixed shield is about 2 cm.
【0041】図2は電子回路4中のFETの閾値電圧シ
フトと静止軌道での経過時間の関係を示した図である。
曲線1は線量率0.1Gy/h の場合の閾値電圧シフト
の変化を、曲線2は線量率0.01Gy/h の場合の閾
値電圧シフトの変化を示している。これらの計算は前記
のモデル及びモデルパラメータを用いて計算した。本F
ETの閾値電圧シフトの許容範囲は回路の設計条件によ
って決まり、ここでは±0.1V以内である。曲線1で
は1×104h以下で上記許容範囲からはずれ、曲線2
では約1×105h(本図中のt1、約12年)上記許容範
囲からはずれる。実線で示した曲線3が本実施例の場合
である。本実施例では、約1.4×105h(本図中のt
2、約15.7年)まで閾値電圧シフトは許容範囲内にあ
る。従って本実施例では、電子回路4は従来(曲線2)
と較べて3.7 年長寿命化できたことになる。FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the threshold voltage shift of the FET in the electronic circuit 4 and the elapsed time in the geosynchronous orbit.
Curve 1 shows the change in the threshold voltage shift when the dose rate is 0.1 Gy / h, and curve 2 shows the change in the threshold voltage shift when the dose rate is 0.01 Gy / h. These calculations were performed using the model and model parameters described above. Book F
The allowable range of the threshold voltage shift of ET is determined by circuit design conditions, and is within ± 0.1 V here. Curve 1 deviated from the above-mentioned allowable range below 1 × 10 4 h, and curve 2
In this case, about 1 × 10 5 h (t 1 in this figure, about 12 years) is out of the allowable range. Curve 3 shown by a solid line is the case of the present embodiment. In the present embodiment, about 1.4 × 10 5 h (t in FIG.
2 , about 15.7 years), the threshold voltage shift is within an acceptable range. Therefore, in the present embodiment, the electronic circuit 4 is the conventional one (curve 2).
In other words, the life was extended by 3.7 years.
【0042】以下本実施例の動作を図1と図2を用いて
説明する。制御回路7は人工衛星が打ち上げられて静止
軌道に乗ってからの時間をカウントする。時間があらか
じめ前記モデルと軌道上での線量率を用いて計算された
時間t1 (図2)に達すると、制御回路7は制御線8を
介して駆動装置9を制御し、可動遮蔽体6を移動する。
本実施例では駆動装置9が可動遮蔽体6を巻き取ること
により遮蔽体の合計厚さを可動遮蔽体6の厚さ1.5cm
分だけ薄くする。この時厚さ約2cmの固定遮蔽体5のみ
の遮蔽となる。The operation of the present embodiment will be described below with reference to FIGS. The control circuit 7 counts the time since the artificial satellite was launched and entered a geosynchronous orbit. When the time reaches a time t 1 (FIG. 2) previously calculated using the model and the on-orbit dose rate, the control circuit 7 controls the driving device 9 via the control line 8 and To move.
In the present embodiment, the driving device 9 winds the movable shield 6 to reduce the total thickness of the shield to 1.5 cm of the thickness of the movable shield 6.
Make it thinner. At this time, only the fixed shield 5 having a thickness of about 2 cm is shielded.
【0043】これにより、電子回路4の受ける宇宙線の
線量率は0.01Gy/hから0.1Gy/hに上昇する。
線量率が増加すると固定正電荷の発生率が増加するた
め、閾値電圧シフトは負方向に一時的にシフトする。そ
れゆえ、t1 以降、閾値電圧シフトは曲線1と同様の傾
向で変化するため、t2 になるまで許容範囲を越えな
い。このように許容範囲にとどまっている時間が(t1
−t2)だけ延長される。電子回路4中の抵抗やコンデ
ンサ等の電気部品も放射線を受けるが、これらの部品の
耐放射線性はFETと較べて1桁から2桁良好であるた
め、これらの部品の信頼性に悪影響を与えることはな
い。As a result, the cosmic ray dose rate received by the electronic circuit 4 increases from 0.01 Gy / h to 0.1 Gy / h.
As the dose rate increases, the generation rate of fixed positive charges increases, so that the threshold voltage shift temporarily shifts in the negative direction. Hence, t 1 since the threshold voltage shift to vary in the same trend as the curve 1, does not exceed the allowable range until t 2. Thus, the time during which the time remains within the allowable range (t 1
−t 2 ). Electric components such as resistors and capacitors in the electronic circuit 4 also receive radiation, but the radiation resistance of these components is one to two orders of magnitude better than that of FETs, which adversely affects the reliability of these components. Never.
【0044】本実施例では、あらかじめ可動遮蔽体6を
移動し始める時間t1 を計算しておいたが、制御回路7
にFETの閾値電圧シフトを実測する回路を付加してお
き、その測定値が許容範囲を越えた時点で可動遮蔽体6
を移動するようにしても良い。In this embodiment, the time t 1 at which the movable shield 6 starts to move is calculated in advance.
A circuit for actually measuring the threshold voltage shift of the FET is added to the movable shield 6 when the measured value exceeds the allowable range.
May be moved.
【0045】また、制御回路7に宇宙線の線量率を測定
するセンサを設けておき、測定した線量率データを用い
て閾値電圧シフトが許容範囲を越える時間を計算して、
可動遮蔽体6を移動するようにしても良い。前述実施例
においては遮蔽体の厚さを変化させて線量率を増加させ
たが、代替的に放射線源を電子回路に接近させることに
よって線量率を増加せしめても良い。Further, a sensor for measuring the cosmic ray dose rate is provided in the control circuit 7, and the time during which the threshold voltage shift exceeds the allowable range is calculated using the measured dose rate data.
The movable shield 6 may be moved. In the above embodiment, the dose rate is increased by changing the thickness of the shield, but alternatively, the dose rate may be increased by bringing the radiation source closer to the electronic circuit.
【0046】次に、他の実施例として、電子回路の温度
を制御することにより耐放射線性を強化した実施例を説
明する。図4に本実施例の構成を示す。放熱体をかねた
遮蔽体10の中に電子回路11が設置されており、電子
回路11の温度を測定する温度センサ12の信号を制御
回路13が取り込み、制御線14を介して加熱・冷却器
15を制御する。Next, another embodiment in which the radiation resistance is enhanced by controlling the temperature of the electronic circuit will be described. FIG. 4 shows the configuration of this embodiment. An electronic circuit 11 is installed in a shield 10 which also functions as a heat radiator, and a control circuit 13 takes in a signal of a temperature sensor 12 for measuring the temperature of the electronic circuit 11, and a heating / cooling device via a control line 14. 15 is controlled.
【0047】以下本実施例の動作原理を説明する。電子
回路11に用いられているFETは、図1の実施例と同
じである。従って、モデル及びそのパラメータは前記と
同じである。また電子回路11の受ける線量率は0.0
1Gy/hである。固定正電荷のアニ−ル定数(モデル
パラメータB)は温度が下がるほど小さくなる。図5は
線量率0.01Gy/h におけるFETの閾値電圧シフ
トと経過時間の関係を示す。曲線16は常温(20℃)
での閾値電圧シフトを示している。本曲線は図2の曲線
2に等しい。温度を下げていくと曲線17,18,19
という具合に閾値電圧シフトは変化する。曲線17はパ
ラメータBの値が20℃の時の0.95倍の時であり、
曲線18は0.9倍の時であり、曲線19は0.8倍の時
である。閾値電圧シフトが許容範囲±0.1Vを超える
時間は、曲線16では約1×105h、曲線17では
1.4×105h ,曲線18では2×105hと長くな
ってくる。すなわち、アニ−ル速度を減少させ、閾値電
圧の負方向シフト成分の回復を遅らせることにより、半
導体素子中の界面準位による閾値電圧の正方向シフト成
分を補償する。しかし、あまり低温にすると、固定正電
荷による負方向シフト成分が大きくなり、曲線19のよ
うに許容範囲を超えるまでの時間が短くなる。The operation principle of this embodiment will be described below. The FET used in the electronic circuit 11 is the same as the embodiment in FIG. Therefore, the model and its parameters are the same as above. The dose rate received by the electronic circuit 11 is 0.0.
1 Gy / h. The annealing constant of fixed positive charge (model parameter B) decreases as the temperature decreases. FIG. 5 shows the relationship between the threshold voltage shift of the FET and the elapsed time at a dose rate of 0.01 Gy / h. Curve 16 is normal temperature (20 ° C)
2 shows the threshold voltage shift in FIG. This curve is equivalent to curve 2 in FIG. Curves 17, 18, 19 as the temperature decreases
Thus, the threshold voltage shift changes. Curve 17 is when the value of parameter B is 0.95 times that at 20 ° C.
Curve 18 is at 0.9 times and curve 19 is at 0.8 times. The time during which the threshold voltage shift exceeds the allowable range ± 0.1 V is as long as about 1 × 10 5 h for the curve 16, 1.4 × 10 5 h for the curve 17, and 2 × 10 5 h for the curve 18. That is, by reducing the annealing speed and delaying the recovery of the negative shift component of the threshold voltage, the positive shift component of the threshold voltage due to the interface state in the semiconductor device is compensated. However, when the temperature is too low, the negative shift component due to the fixed positive charge increases, and the time required to exceed the allowable range as shown by the curve 19 decreases.
【0048】従って電子回路11の受ける線量率とFE
Tのモデルパラメータを考慮して電子回路11の温度を
制御することにより閾値電圧の変動を押さえ、電子回路
の耐放射線性を向上することができる。Therefore, the dose rate received by the electronic circuit 11 and the FE
By controlling the temperature of the electronic circuit 11 in consideration of the model parameter of T, the fluctuation of the threshold voltage can be suppressed, and the radiation resistance of the electronic circuit can be improved.
【0049】ここで、温度の制御値は、固定正電荷や界
面準位をアニールするために必要な100〜200℃と
いう高温と比べて、FETの種類にもよるが、数度から
数10度の範囲である。従って電子回路上の抵抗やコン
デンサ等に悪影響を及ぼす事はない。Here, the control value of the temperature, depending on the type of FET, is several degrees to several tens of degrees, depending on the type of FET, compared to the high temperature of 100 to 200 ° C. required for annealing the fixed positive charge and the interface state. Range. Therefore, there is no adverse effect on the resistors and capacitors on the electronic circuit.
【0050】もちろん図1の実施例と図4の実施例を組
み合わせて使用することもできる。また、説明は線量率
一定の環境で行ったが、時間により線量率が事なる環境
においても、前記モデルにより閾値電圧シフトの時間変
化を予測することができるため、同様に実施できる。Of course, the embodiment of FIG. 1 and the embodiment of FIG. 4 can be used in combination. Further, the description has been made in an environment where the dose rate is constant. However, even in an environment where the dose rate varies depending on time, the above-described model can predict the time change of the threshold voltage shift, and thus can be similarly implemented.
【0051】図6は人工衛星に図4の実施例を搭載した
ときの構成図を示す。遮蔽体10は架台21,22で人
工衛星の筐体23に固定されている。電子回路11の発
生する熱は遮蔽体10に接続する架台20,遮蔽体1
0,架台21,22及び筐体23を介して宇宙空間に放
熱される。放熱は地球上と異なり熱伝導と放熱のみで行
われるため、電子回路11の発生する熱量と構造体(架
台20,遮蔽体10,架台21,22及び筐体23)の
材質,形、及び人工衛星に照射される太陽光の量により
容易に計算できる。このため、電子回路11の温度をあ
らかじめ図5の曲線18に対応する温度にできるだけ近
付けておくように構造体を設計することが可能である。
設計時の電子回路11の消費電力、すなわち発生熱量は
平均量を用いる。しかしながら、電子回路は一般にその
動作状況によって消費電力は異なって来るため、実際の
使用においては、加熱・冷却器15により温度を調節し
一定温度に保つのが良い。電子回路11の消費電力が平
均値よりも大きいときは加熱・冷却器15は冷却器とし
て動作し、消費電力が平均値よりも小さい場合には加熱
・冷却器15は加熱器として動作する。前述のように、
あらかじめ平均的に電子回路11が一定温度になるよう
に構造体を設計しておけば、加熱・冷却器15は電子回
路11の動作状況変化による温度変化を制御できるだけ
の小さい能力ですむため、電源に制限のある人工衛星で
も本発明の適用は容易である。また、温度制御は電子回
路11全体に行うのではなく、FETを含むICのみに
ついて実施しても良い。そうすれば小電力で動作可能と
なる。FIG. 6 shows a configuration diagram when the embodiment of FIG. 4 is mounted on an artificial satellite. The shield 10 is fixed to the housing 23 of the artificial satellite by the stands 21 and 22. The heat generated by the electronic circuit 11 is transferred to the gantry 20 connected to the shield 10,
The heat is radiated to the outer space through the mounts 21 and 22 and the housing 23. Since heat radiation is performed only by heat conduction and heat radiation unlike the earth, the amount of heat generated by the electronic circuit 11 and the material, shape, and artificialness of the structures (the gantry 20, the shield 10, the gantry 21, 22 and the housing 23) It can be easily calculated by the amount of sunlight radiated to the satellite. Therefore, it is possible to design the structure such that the temperature of the electronic circuit 11 is brought as close as possible to the temperature corresponding to the curve 18 in FIG. 5 in advance.
The power consumption of the electronic circuit 11 at the time of design, that is, the amount of generated heat uses an average amount. However, the power consumption of an electronic circuit generally varies depending on the operating conditions thereof. Therefore, in actual use, the temperature is preferably adjusted by the heater / cooler 15 to keep the temperature constant. When the power consumption of the electronic circuit 11 is larger than the average value, the heater / cooler 15 operates as a cooler, and when the power consumption is smaller than the average value, the heater / cooler 15 operates as a heater. As aforementioned,
If the structure is designed in advance so that the electronic circuit 11 has a constant temperature on average in advance, the heating / cooling device 15 needs only a small ability to control the temperature change due to the change in the operation state of the electronic circuit 11. It is easy to apply the present invention to artificial satellites having a limitation. Further, the temperature control may not be performed on the entire electronic circuit 11, but may be performed only on the IC including the FET. Then, operation is possible with low power.
【0052】以上の実施例では、素子としてnチャネル
FETを使用した場合について説明した。FETにはp
チャネル素子もあるが、この場合にも同様に適用でき
る。第7図にnチャネルFETとpチャネルFETのド
レイン電流とゲート・ソース間電圧の関係を示す。放射
線照射前のnチャネルFETのドレイン電流特性は曲線
24で、放射線照射前のpチャネルFETの特性は曲線
25でそれぞれ示される。閾値電圧はドレイン電流が流
れ始めるゲート・ソース間電圧として定義され、nチャ
ネルFETでは正、pチャネルFETでは負の値をと
る。In the above embodiment, the case where the n-channel FET is used as the element has been described. FET has p
Although there is a channel element, the same can be applied to this case. FIG. 7 shows the relationship between the drain current and the gate-source voltage of the n-channel FET and the p-channel FET. The drain current characteristic of the n-channel FET before irradiation is indicated by a curve 24, and the characteristic of the p-channel FET before irradiation is indicated by a curve 25. The threshold voltage is defined as a gate-source voltage at which the drain current starts flowing, and is positive for an n-channel FET and negative for a p-channel FET.
【0053】放射線が照射され素子の特性が劣化する
と、固定正電荷による閾値電圧シフト成分が支配的であ
る場合にはnチャネルFETのドレイン電流特性は曲線
26,pチャネルFETのドレイン電流特性は曲線27
となり、閾値電圧は負電圧方向に移動するため、FET
の種類に係らず閾値電圧シフトは負となる。逆に界面準
位による閾値電圧シフト成分が支配的な場合にはnチャ
ネルFETのドレイン電流特性は曲線28、pチャネル
FETのドレイン電流特性は曲線29となり、FETの
種類に係らず閾値電圧シフトは正となる。When the characteristics of the device are deteriorated by irradiation with radiation, the drain current characteristic of the n-channel FET is a curve 26, and the drain current characteristic of the p-channel FET is a curve if the threshold voltage shift component due to the fixed positive charge is dominant. 27
And the threshold voltage moves in the negative voltage direction.
, The threshold voltage shift is negative regardless of the type. Conversely, when the threshold voltage shift component due to the interface state is dominant, the drain current characteristic of the n-channel FET becomes a curve 28, and the drain current characteristic of the p-channel FET becomes a curve 29, regardless of the type of FET. Becomes positive.
【0054】以上から明らかなように、閾値電圧シフト
をもってFETの特性劣化を評価すれば、前記のnチャ
ネル素子の実施例はすべてpチャネルの場合にも適用で
きる。As is clear from the above, if the characteristic deterioration of the FET is evaluated based on the threshold voltage shift, all the embodiments of the n-channel device can be applied to the case of the p-channel.
【0055】[0055]
【発明の効果】本発明は以上説明したように構成されて
いるので、宇宙線等の放射線による半導体素子の劣化を
できるかぎり軽減し、電子回路の長寿命化を図ることが
でき、さらに半導体素子以外の電子回路構成部品の信頼
性低下を招かない耐放射線電子回路を提供できる。Since the present invention is constructed as described above, deterioration of the semiconductor element due to radiation such as cosmic rays can be reduced as much as possible, and the life of the electronic circuit can be prolonged. It is possible to provide a radiation-resistant electronic circuit that does not cause a decrease in the reliability of electronic circuit components other than the above.
【図1】本発明の一実施例を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing one embodiment of the present invention.
【図2】上記実施例における半導体の閾値電圧シフトの
時間経過による変化を示すグラフである。FIG. 2 is a graph showing a change with time of a threshold voltage shift of a semiconductor in the embodiment.
【図3】線量率とシールド厚さとの関係を示すグラフで
ある。FIG. 3 is a graph showing a relationship between a dose rate and a shield thickness.
【図4】本発明の他の実施例を示す概略断面図である。FIG. 4 is a schematic sectional view showing another embodiment of the present invention.
【図5】図4に示す実施例における閾値電圧シフトの時
間変化を示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing a time change of a threshold voltage shift in the embodiment shown in FIG. 4;
【図6】図4の実施例を人工衛星に搭載した場合の概略
構成を示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view showing a schematic configuration when the embodiment of FIG. 4 is mounted on an artificial satellite.
【図7】nチャネルFETとpチャネルFETのドレイ
ン電流とゲート・ソース間電圧の関係を示すグラフであ
る。FIG. 7 is a graph showing a relationship between a drain current and a gate-source voltage of an n-channel FET and a p-channel FET.
1…線量率0.1Gy/hのときの閾値電圧シフト曲
線、2…線量率0.01Gy/hのときの閾値電圧シフ
ト曲線、3…本発明の一実施例の閾値電圧シフト曲線、
4,11…電子回路、5…固定遮蔽体、6…可動遮蔽
体、7,13…制御回路、8,14…制御線、9…駆動
装置、10…遮蔽体、12…温度センサ、15…加熱・
冷却器、16…線量率0.01Gy/h のときの常温で
の閾値電圧シフト曲線、17…線量率0.01Gy/h
のときで16より低温での閾値電圧シフト曲線、18…
線量率0.01Gy/h のときで17より低温での閾値
電圧シフト曲線、19…線量率0.01Gy/h のとき
で18より低温での閾値電圧シフト曲線、20,21,
22…架台、23…筐体、24…nチャネルFETの照
射前のドレイン電流曲線、25…pチャネルFETの照
射前のドレイン電流曲線。1. Threshold voltage shift curve at a dose rate of 0.1 Gy / h, 2. Threshold voltage shift curve at a dose rate of 0.01 Gy / h, 3. Threshold voltage shift curve of one embodiment of the present invention,
4, 11 ... electronic circuit, 5 ... fixed shield, 6 ... movable shield, 7, 13 ... control circuit, 8, 14 ... control line, 9 ... drive device, 10 ... shield, 12 ... temperature sensor, 15 ... heating·
Cooler, 16: threshold voltage shift curve at room temperature at a dose rate of 0.01 Gy / h, 17: dose rate of 0.01 Gy / h
, The threshold voltage shift curve at a temperature lower than 16, 18 ...
Threshold voltage shift curve at a temperature lower than 17 when the dose rate is 0.01 Gy / h, 19 ... Threshold voltage shift curve at a temperature lower than 18 at a dose rate of 0.01 Gy / h, 20, 21,
22: mount, 23: housing, 24: drain current curve before irradiation of n-channel FET, 25: drain current curve before irradiation of p-channel FET.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01L 29/78 (56)参考文献 特開 平1−283873(JP,A) 特開 昭62−32641(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/8238 H01L 23/02 H01L 27/092 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI H01L 29/78 (56) References JP-A-1-283873 (JP, A) JP-A-62-32641 (JP, A) ( 58) Surveyed fields (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/8238 H01L 23/02 H01L 27/092
Claims (6)
閾値電圧の正方向への変動を抑制するために、前記半導
体素子を放射線から遮蔽する遮蔽体の厚さを制御して前
記半導体素子の固定正電荷量を制御する手段を有するこ
とを特徴とする電子回路の耐放射線保護装置。[Claim 1] In order to suppress the variation in the positive direction of the threshold voltage caused by radiation of the interface state of the semiconductor element, the semiconductor
A radiation- resistant protection device for an electronic circuit, comprising: means for controlling the thickness of a shield for shielding a body element from radiation to control the fixed positive charge amount of the semiconductor element.
閾値電圧の正方向への変動を抑制するために、前記半導
体素子と放射線源との距離を制御して前記半導体素子の
固定正電荷量を制御する手段を有することを特徴とする
電子回路の耐放射線保護装置。2. The semiconductor device according to claim 1, wherein said semiconductor device is provided with a semiconductor device.
A radiation protection apparatus for an electronic circuit, comprising: means for controlling a distance between a body element and a radiation source to control a fixed positive charge amount of the semiconductor element.
閾値電圧の正方向への変動を抑制するために、前記半導
体素子の温度を下げるように制御して前記半導体素子の
固定正電荷量を制御する手段を有することを特徴とする
電子回路の耐放射線保護装置。3. The semiconductor device is caused by radiation at an interface state of a semiconductor device.
In order to suppress the threshold voltage from fluctuating in the positive direction, the semiconductor
Control to lower the temperature of the semiconductor element,
A radiation-resistant protection device for an electronic circuit, comprising: means for controlling a fixed positive charge amount .
閾値電圧が正方向に変動して所定の許容範囲に達したこ
とを検知する手段と、該許容範囲に達したとき前記半導
体素子の固定正電荷量を制御して前記閾値電圧を負方向
に移動せしめ前記許容範囲内に戻す手段とを有すること
を特徴とする電子回路の耐放射線保護装置。4. Due to the radiation of the interface state of the semiconductor device.
When the threshold voltage fluctuates in the positive direction and reaches a predetermined tolerance
Means for detecting when the semiconductor device has reached the allowable range.
Controlling the fixed positive charge amount of the body element to shift the threshold voltage in the negative direction.
And means for returning to within the permissible range.
A radiation-resistant protective device for electronic circuits , characterized by the following .
子を放射線から遮蔽する遮蔽体の厚さを減少する方向に
制御する手段であることを特徴とする請求項4に記載の
電子回路の耐放射線保護装置。 5. The semiconductor device according to claim 1, wherein said fixed positive charge amount control means includes a semiconductor element.
To reduce the thickness of the shield that shields the child from radiation
The radiation-proof protection device for an electronic circuit according to claim 4, wherein the device is a control unit.
閾値電圧変動を補正するために、前記半導体素子を冷却
して、前記半導体素子の固定正電荷量を制御する手段を
有する電子回路と、前記冷却の冷却源を人工衛星の筐体
とすることを特徴とする人工 衛星。 6. Attributable to radiation of an interface state of a semiconductor element.
Cooling the semiconductor device to compensate for threshold voltage variations
Means for controlling the fixed positive charge amount of the semiconductor element.
Electronic circuit having a cooling source for the cooling
An artificial satellite characterized by the following .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3020677A JP3000688B2 (en) | 1990-02-14 | 1991-02-14 | Radiation hardening protection device and artificial satellite for electronic circuit |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-33061 | 1990-02-14 | ||
| JP3306190 | 1990-02-14 | ||
| JP3020677A JP3000688B2 (en) | 1990-02-14 | 1991-02-14 | Radiation hardening protection device and artificial satellite for electronic circuit |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04211158A JPH04211158A (en) | 1992-08-03 |
| JP3000688B2 true JP3000688B2 (en) | 2000-01-17 |
Family
ID=26357645
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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|---|---|
| JP (1) | JP3000688B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USD582240S1 (en) | 2005-11-15 | 2008-12-09 | Astrazeneca Ab | Blister pack device |
| US7946449B2 (en) | 2005-11-15 | 2011-05-24 | Astrazeneca Ab | Blister pack device and a method of ejecting a unit dosage from a blister pack using the device |
| JP2014045860A (en) * | 2012-08-30 | 2014-03-17 | Aisin Seiki Co Ltd | Lift for care |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6344938B2 (en) * | 2014-03-20 | 2018-06-20 | 三菱重工業株式会社 | Electronics |
| JP6698431B2 (en) * | 2016-06-08 | 2020-05-27 | 三菱重工業株式会社 | Radiation-resistant electronic device, radiation-resistant electronic unit device, and monitoring control method thereof |
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1991
- 1991-02-14 JP JP3020677A patent/JP3000688B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JPH04211158A (en) | 1992-08-03 |
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