JP3020581B2 - Gas meter - Google Patents
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- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 claims description 21
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
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Description
【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> この発明は、フルイディックガスメータ等、均一なガ
スの流れに基づいてそのガスの流量を計測するガスメー
タに関するものである。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas meter, such as a fluidic gas meter, for measuring a flow rate of a gas based on a uniform gas flow.
<従来の技術> 従来、均一なガスの流れに基づいてそのガスの流量を
計測するガスメータ、例えばフルイディックガスメータ
には、次のような構造のものがある。2. Description of the Related Art Conventionally, a gas meter that measures the flow rate of a gas based on a uniform gas flow, for example, a fluid gas meter has the following structure.
ケーシングに設けられたガス入口から流入するガス
は、ガス通路を経てガス滞留室(以下、滞留室とも略称
する)に流入し、そこでガス流の乱れの緩和,ガス圧の
変動の吸収がされる。Gas flowing from a gas inlet provided in the casing flows into a gas retaining chamber (hereinafter, also abbreviated to a retaining chamber) via a gas passage, where gas flow turbulence is reduced and gas pressure fluctuations are absorbed. .
その後、ガスはノズル部を経て、フルイディック流量
センサ部(以下、流量センサ部とも略称する)に噴出さ
れ、ガスはそこに対称的に設けられた2つの側壁に交互
に沿いつつ流れ、ここにガス流の振動が生じる。なお、
このように一側壁に沿って気体が流れることは、一般に
コアンダ効果といわれている。Thereafter, the gas is ejected through a nozzle portion to a fluidic flow sensor portion (hereinafter abbreviated as a flow sensor portion), and the gas flows alternately along two side walls provided symmetrically there. Oscillation of the gas flow occurs. In addition,
Such flow of gas along one side wall is generally called the Coanda effect.
ノズル部の滞留室側開口部からは、その滞留室内に突
出する筒状のガス導入通路が設けられており、ガスは、
このガス導入通路を通ることにより整流作用を受けて流
量センサ部に噴出される。そのため、流量センサ部での
ガス流の振動の振動数がガス流量にほぼ比例したものと
なっている。そして、このガス流の振動に基づいてガス
流量が計測される。From the retention chamber side opening of the nozzle portion, a cylindrical gas introduction passage projecting into the retention chamber is provided.
By passing through this gas introduction passage, it is subjected to a rectifying action and is ejected to the flow rate sensor section. Therefore, the vibration frequency of the gas flow in the flow sensor is substantially proportional to the gas flow. Then, the gas flow rate is measured based on the vibration of the gas flow.
<発明が解決しようとする課題> しかしながら、前記の従来のガスメータであっても、
ガス流の振動がそのガス流量に完全に比例しているとは
いえず、ガスメータの精度を上げる上でのネックとなっ
ている。<Problems to be solved by the invention> However, even in the conventional gas meter described above,
The vibration of the gas flow is not completely proportional to the gas flow, which is a bottleneck in improving the accuracy of the gas meter.
ここで、流量センサ部へ流入するガス流がより整った
ものであれば、そのガス流はガス流量にさらに精度よく
比例して振動することになり、ガスメータの精度がより
一層向上することになる。Here, if the gas flow flowing into the flow rate sensor unit is more regular, the gas flow will vibrate more accurately in proportion to the gas flow rate, and the accuracy of the gas meter will be further improved. .
本発明は以上の点に鑑み、さらに計測精度を高めたガ
スメータを提供することを課題とする。In view of the above points, an object of the present invention is to provide a gas meter with further improved measurement accuracy.
<課題を解決するための手段> 本発明は、上記の課題を解決するためになされたもの
であり、その特徴とするところは、均一なガスの流れに
基づいてそのガスの流量を計測するガスメータであっ
て、ケーシングと、そのケーシングに設けられたガス入
口と、そのケーシング内においてガス入口と連通して設
けられたガス滞留室と、そのケーシング内においてガス
滞留室の下流側に設けられた流量センサ部と、その流量
センサ部のさらに下流側においてケーシングに設けられ
たガス出口と、ガス滞留室に滞留室側開口部を有し、そ
のガス滞留室から流量センサ部へガスを噴出させるノズ
ル部と、そのノズル部の滞留室側開口部からガス滞留室
内に突出して設けられ、前記ノズル部より大きな通路断
面積を有するガス導入通路とを備え、かつ、そのガス導
入通路にガス流を整流する多孔部材が設けられる点にあ
る。<Means for Solving the Problems> The present invention has been made to solve the above problems, and is characterized by a gas meter that measures the flow rate of a gas based on a uniform gas flow. And a casing, a gas inlet provided in the casing, a gas retaining chamber provided in communication with the gas inlet in the casing, and a flow rate provided downstream of the gas retaining chamber in the casing. A nozzle portion having a sensor portion, a gas outlet provided in the casing further downstream of the flow rate sensor portion, and a retention chamber side opening in the gas retention chamber, and ejecting gas from the gas retention chamber to the flow rate sensor portion. And a gas introduction passage which is provided to protrude from the retention chamber side opening of the nozzle portion into the gas retention chamber and has a passage cross-sectional area larger than that of the nozzle portion. Is provided with a porous member for rectifying the gas flow.
ここで多孔部材としては、網形態のメッシュ部材をは
じめ、複数の筒を集合させたもの等、適宜に選択するこ
とができる。Here, as the porous member, a mesh member having a net shape, a member obtained by assembling a plurality of tubes, or the like can be appropriately selected.
<作 用> このガスメータにおいては、ガス入口からガス滞留室
に流入したガスが、ガス導入通路及び多孔部材を通過し
てノズル部から流量センサ部に噴出される。そのガス
は、ガス導入通路を通過する際、及び多孔部材を通過す
る際に二重に整流作用を受けた後、流量センサ部でガス
流量が測定され、その後ガスはガス出口からケーシング
外へ流出する。<Operation> In this gas meter, the gas flowing into the gas retaining chamber from the gas inlet passes through the gas introduction passage and the porous member and is jetted from the nozzle to the flow sensor. The gas undergoes double rectification when passing through the gas introduction passage and through the porous member, and then the gas flow rate is measured by the flow sensor, and then the gas flows out of the casing through the gas outlet. I do.
<実施例> 以下、本発明の一実施例であるフルイディックガスメ
ータの一例を図面に基づいて説明する。<Example> Hereinafter, an example of a fluidic gas meter which is an example of the present invention will be described with reference to the drawings.
第2図の平面図に示すように、このガスメータ2のケ
ーシング3は、一方が開口した箱状のケーシング本体4
と、この開口部に気密に被せられた蓋体5とからなって
いる。As shown in the plan view of FIG. 2, a casing 3 of the gas meter 2 has a box-shaped casing body 4 having one opening.
And a lid 5 hermetically covered with the opening.
このケーシング本体4にはガス入口6が設けられ、こ
こから流入したガスは、ガス通路8を経てガス滞留室10
に流入する。その途中には、遮断弁12が設けられてい
る。これは単位時間当たりのガス流量が設定値を超えた
り、一定の長期間にわたってガスの流れが止まらない
等、異常が発生したときに、マイコン(図示省略)の制
御の下にガスの流れを遮断する安全装置である。この遮
断弁12は、中央に開口13を有しその周囲に円環状の弁座
14を有するシートプレート15と、これに対向する弁板16
を有しており、弁板16が移動し弁座14に密着することに
より閉弁作用をする。The casing body 4 is provided with a gas inlet 6, from which gas flowing in passes through a gas passage 8 to a gas retaining chamber 10.
Flows into. On the way, a shutoff valve 12 is provided. This shuts off the gas flow under the control of a microcomputer (not shown) when an abnormality occurs, such as when the gas flow rate per unit time exceeds the set value or the gas flow does not stop for a certain long period. Safety device. This shutoff valve 12 has an opening 13 in the center and an annular valve seat
A seat plate 15 having a valve plate 16 and an opposite valve plate 16
The valve plate 16 moves and comes into close contact with the valve seat 14 to perform a valve closing action.
滞留室10は、所定の容積を有する空間であり、ここで
はガスの流れが一旦緩やかになるため、これより上流部
分を流れてくる間において生じたガス流の乱れが緩和さ
れる。また、上流部分で生じたガス圧の変動を吸収する
作用もある。The stagnation chamber 10 is a space having a predetermined volume. In this case, the gas flow once becomes gentler, so that the turbulence of the gas flow generated while flowing in the upstream portion is reduced. It also has the effect of absorbing fluctuations in gas pressure generated in the upstream part.
滞留室10の下流側にはフルイディック流量センサ部20
が設けられている。この流量センサ部20における上流側
部分には、小さな通路断面積を有するノズル部22が設け
られており、ガスはこのノズル部22を経て流量センサ部
20に噴出される。The fluidic flow sensor 20 is located downstream of the retention chamber 10.
Is provided. A nozzle portion 22 having a small passage cross-sectional area is provided on the upstream side portion of the flow sensor portion 20, and gas flows through the nozzle portion 22 through the nozzle portion 22.
Spouted at 20.
流量センサ部20のさらに下流側にはガス出口11が設け
られ、流量センサ部20でガス流量が測定された後にその
ガスがガス出口11からケーシング3の外へ流出する。A gas outlet 11 is provided further downstream of the flow sensor unit 20, and after the gas flow rate is measured by the flow sensor unit 20, the gas flows out of the casing 3 from the gas outlet 11.
流量センサ部20(ノズル部22を含む)の底面は、滞留
室10の底面よりも高くされている。そのため、滞留室10
にガスが一旦貯えられ、流量センサ部20へのガス流はよ
り安定なものとなる。The bottom surface of the flow sensor unit 20 (including the nozzle unit 22) is higher than the bottom surface of the retention chamber 10. Therefore, the tenant room 10
The gas is temporarily stored in the gas sensor, and the gas flow to the flow sensor unit 20 becomes more stable.
流量センサ部20は次のような構造をしている。 The flow sensor unit 20 has the following structure.
センサ部内壁面24によって、ノズル部22の通路断面積
と比較して急激に広がった容積の空間が形成されてい
る。ノズル部22のセンサ部側開口部26のすぐ下流側中央
部には、小柱状のターゲット28が設けられている。ター
ゲット28の両側には円柱30a,30bが設けられており、円
柱30a,30bの互いに対向する側面部は、ノズル部22から
噴出したガス流を案内する側壁32a,32bを形成してい
る。The sensor section inner wall surface 24 forms a space having a volume that is rapidly increased as compared with the passage sectional area of the nozzle section 22. A small columnar target 28 is provided at a central portion of the nozzle portion 22 immediately downstream of the sensor portion-side opening portion 26. Cylinders 30a and 30b are provided on both sides of the target 28, and side surfaces of the cylinders 30a and 30b facing each other form side walls 32a and 32b for guiding a gas flow ejected from the nozzle portion 22.
流量センサ部20の下流側には、両側に対称的な弧状壁
面を有する後壁34が流量センサ部20をほぼ横断して設け
られており、その両端とセンサ部内壁面24との間には隙
間部38a,38bが形成されている。On the downstream side of the flow sensor unit 20, a rear wall 34 having symmetrical arc-shaped wall surfaces on both sides is provided substantially across the flow sensor unit 20, and a gap is provided between both ends and the sensor unit inner wall surface 24. Parts 38a and 38b are formed.
ノズル部22から噴出したガス流(本流)は、一定流量
ごとに、ターゲット28の補助をも受けて各円柱30a,30b
の側壁32a,32bに交互に沿うように偏向して流れ、ガス
流にいわゆる振動が生じる。ここで、まず円柱30aに偏
向するものとすれば、そのガス流の大半は図中の矢印A
のように隙間部38aを通り、ガス出口11からガスメータ
2外へ流出する。そして、本流の一部はフィードバック
流として、図中の矢印Bのようにノズル部22のセンサ部
側開口部26の付近へ流れる。その際、図中左側に偏向し
て流れる本流を図中右側に押しやるため、本流が図中左
側から右側に振れることを助勢し、本流が円柱30b側に
偏向すれば、上述とは左右対称的な流れが生じる。The gas flow (main flow) ejected from the nozzle part 22 is also provided at each constant flow rate with the aid of the target 28, and the respective cylinders 30a, 30b
The gas flows so as to be deflected alternately along the side walls 32a and 32b, and so-called vibration occurs in the gas flow. Here, assuming that the beam is first deflected to the column 30a, most of the gas flow is indicated by an arrow A in the figure.
As described above, the gas flows out of the gas meter 2 from the gas outlet 11 through the gap 38a. Then, a part of the main flow flows as a feedback flow to the vicinity of the sensor-side opening 26 of the nozzle 22 as indicated by an arrow B in the drawing. At this time, the main flow deflecting to the left in the drawing and pushing it to the right in the drawing is pushed to the right in the drawing, so that the main flow sways from the left to the right in the drawing, and if the main flow deflects to the column 30b side, it is symmetrical to the above. Flow occurs.
ケーシング本体4の裏側には、圧電膜センサが設けら
れている(第2図では図示省略)。その圧電膜センサは
容器状をなし、各導入路により、ノズル部22のセンサ側
開口部26の近傍の小孔54a,54bと各々連通している。そ
して、その中央に設けられた圧電膜が、小孔54a,54bの
ガス圧の差異によって変位する。このような変位が電気
信号に変換されることによりガス流の振動数が算出さ
れ、その振動数によりガスメータ2を通るガス流量が測
定される。A piezoelectric film sensor is provided on the back side of the casing body 4 (not shown in FIG. 2). The piezoelectric film sensor has a container shape, and communicates with the small holes 54a and 54b in the vicinity of the sensor-side opening 26 of the nozzle portion 22 by the respective introduction paths. Then, the piezoelectric film provided at the center thereof is displaced by a difference in gas pressure between the small holes 54a and 54b. The frequency of the gas flow is calculated by converting such displacement into an electric signal, and the gas flow rate passing through the gas meter 2 is measured based on the frequency.
以上述べたフルイディック流量センサ部20の測定流量
範囲は、一定流量以上の大流量域であるため、補助的に
小流量域用の熱式流量センサ(以下、熱式センサと略称
する)70が第2図に示すようにノズル部22の底部の凹部
に嵌合固定されている。この熱式センサ70の上面(ガス
流に触れる面)には上流側から順に第1温度センサ,ヒ
ータ,第2温度センサが配置されている。そして、その
ヒータの加熱下においてガス流量に応じて第1,第2セン
サに生じた温度の差異が電気信号に変換されてガス流量
が測定される。なお、熱式センサ70の上面はノズル部2
2,流量センサ部20の底面と同じ高さにあり、熱式センサ
70によってガス流の乱れが生じないようにされている。Since the above-described measurement flow rate range of the fluidic flow rate sensor unit 20 is a large flow rate area of a certain flow rate or more, a thermal flow rate sensor (hereinafter abbreviated as a thermal sensor) 70 for a small flow rate area is supplementarily provided. As shown in FIG. 2, the nozzle 22 is fitted and fixed in a concave portion at the bottom of the nozzle portion 22. A first temperature sensor, a heater, and a second temperature sensor are arranged on the upper surface (the surface in contact with the gas flow) of the thermal sensor 70 in order from the upstream side. Then, the temperature difference generated in the first and second sensors according to the gas flow rate under the heating of the heater is converted into an electric signal, and the gas flow rate is measured. The upper surface of the thermal sensor 70 is located at the nozzle 2
2, at the same height as the bottom surface of the flow sensor unit 20, a thermal sensor
70 ensures that the gas flow is not disrupted.
圧電膜センサ50,熱式センサ70からの電気信号は、と
もに、図示しないマイクロコンピュータに入力され、ガ
ス流量が大流量の場合は圧電膜センサ50からの電気信号
に基づいて、小流量の場合は熱式センサ70からの電気信
号に基づいてガス流量が測定される。測定されたガス流
量は積算されて、ケーシング本体4または蓋体3の外側
に取り付けられた流量表示部(図示省略)でガス流量が
表示される。The electric signals from the piezoelectric film sensor 50 and the thermal sensor 70 are both input to a microcomputer (not shown), and based on the electric signal from the piezoelectric film sensor 50 when the gas flow rate is large, and when the gas flow rate is small, The gas flow rate is measured based on the electric signal from the thermal sensor 70. The measured gas flow rates are integrated, and the gas flow rate is displayed on a flow rate display unit (not shown) attached to the outside of the casing body 4 or the lid 3.
ノズル部22の滞留室側開口部56からは、その滞留室10
側へ突出したガス導入通路60が設けられている。このガ
ス導入通路60は、第1図に示すように、樋状の通路本体
64の開口が前述の蓋体5の一部で被われることにより、
四角筒状の形態を有し、かつノズル部22よりも大きな通
路断面積を有している。また、その底部64aは、滞留室1
0の底面より高く、かつ流量センサ部20の下部と同じ高
さに位置し、滞留室10の“溜め”の効果を高めている。From the retention chamber side opening 56 of the nozzle part 22, the retention chamber 10
A gas introduction passage 60 protruding to the side is provided. As shown in FIG. 1, the gas introduction passage 60 has a gutter-shaped passage main body.
By covering 64 openings with a part of the lid 5 described above,
It has a quadrangular cylindrical shape and has a passage cross-sectional area larger than that of the nozzle portion 22. In addition, the bottom 64a is
It is located higher than the bottom surface of 0 and at the same height as the lower part of the flow sensor unit 20 to enhance the effect of the "reservoir" of the staying chamber 10.
そして、このガス導入通路60の滞留室10側の開口端に
は、適切な網目間隔を有するメッシュ部材62が多孔部材
として取り付けられている。このメッシュ部材は62は、
例えば金属製の網で形成されている。このメッシュ部材
62はここを通過するガス流を整流する作用をなすが、目
が粗すぎると整流の効果がほとんど得られず、他方、目
が細かすぎると、これを通過する際のガスの圧力損失が
大きくなり、ガスメータの定格値を満足できなくなりが
ちである。A mesh member 62 having an appropriate mesh interval is attached as a porous member to an opening end of the gas introduction passage 60 on the side of the retention chamber 10. This mesh member 62
For example, it is formed of a metal net. This mesh member
62 acts to rectify the gas flow passing here, but if the eyes are too coarse, the effect of rectification is hardly obtained, while if the eyes are too fine, the pressure loss of the gas when passing through it is large. This tends to make it impossible to satisfy the rated value of the gas meter.
また、仮に、小さな通路断面積のノズル部22に直接メ
ッシュ部材62が設けられると、ガスの圧力損失が大き
く、流量センサ部20への噴出力が不足して、流量センサ
部20でのガス流の振動が生じにくくなる。そのため、ノ
ズル部22よりも大きな通路断面積を有するガス導入通路
60にメッシュ部材62が取り付けられている。Also, if the mesh member 62 is provided directly on the nozzle portion 22 having a small passage cross-sectional area, the gas pressure loss is large, the ejection output to the flow sensor portion 20 is insufficient, and the gas flow in the flow sensor portion 20 is reduced. Vibration is less likely to occur. Therefore, a gas introduction passage having a passage cross-sectional area larger than that of the nozzle portion 22
A mesh member 62 is attached to 60.
そして、滞留室10からのガスがメッシュ部材62を経て
ガス導入通路60を通過することにより、メッシュ部材62
及びガス導入通路60の双方により整流作用を受け、ノズ
ル部22から流量センサ部20に噴出するため、流量センサ
部20でのガス流の振動が安定し、かつその振動数がガス
流量によく比例したものとなり、測定精度が上がる。Then, the gas from the retaining chamber 10 passes through the gas introduction passage 60 via the mesh member 62,
Rectification by both the gas inlet passage 60 and the gas introduction passage 60, and the gas is ejected from the nozzle portion 22 to the flow sensor portion 20, so that the vibration of the gas flow in the flow sensor portion 20 is stabilized, and the frequency is well proportional to the gas flow rate. Measurement accuracy is increased.
第5図は整流用のメッシュ部62を通過したガス流につ
いて流量センサ部20からの出力される出力波形を示して
いるが、メッシュ部材62が存在しない場合の第6図の波
形と比較すれば、波形がほぼ均一で安定していることが
わかる。FIG. 5 shows an output waveform output from the flow rate sensor unit 20 with respect to the gas flow passing through the rectifying mesh unit 62. If the waveform is compared with the waveform of FIG. It can be seen that the waveform is almost uniform and stable.
第3図に別の実施例を示す。この例ではガス導入通路
60の樋状の通路本体64自体が目の細かいメッシュ部材84
で構成されている。つまり、その底部及び両側部が互い
に一体的なメッシュ部84a,84b及び84cで構成され、上部
開口が前述の蓋体5で被われて、四角筒状の導入通路が
形成されている。そして、その滞留室10側の端部にメッ
シュ部材62が設けられ、これはガス導入通路60を構成す
るメッシュ部84より目の荒いものとされている。その他
の部分は第2図に示した先の実施例と同様である。FIG. 3 shows another embodiment. In this example, the gas introduction passage
60 gutter-shaped passage body 64 itself is a fine mesh member 84
It is composed of That is, the bottom part and both side parts are constituted by mesh parts 84a, 84b and 84c which are integral with each other, and the upper opening is covered with the above-mentioned lid body 5 to form a square tubular introduction passage. A mesh member 62 is provided at the end on the side of the stagnation chamber 10, and the mesh member 62 is coarser than the mesh portion 84 constituting the gas introduction passage 60. Other parts are the same as those of the previous embodiment shown in FIG.
この実施例では、滞留室10からのガスは主に上流端の
メッシュ部材62を通過し、三方がメッシュ部84a〜cで
囲まれたガス導入通路60を経てノズル部22に流れるが、
一部はそのメッシュ部84a〜cを通過してノズル部22に
流入することができる。そのため、全体としてのガスの
圧力損失が小さくなり、言い換えれば、その分メッシュ
部材62の目を細かくして整流作用を大きくすることがで
きる。また、メッシュ部84a〜cによってもそこを通過
する一部のガスに対する整流効果が得られる。In this embodiment, the gas from the stagnation chamber 10 mainly passes through the mesh member 62 at the upstream end, and flows to the nozzle portion 22 through the gas introduction passage 60 surrounded by the three portions by the mesh portions 84a to 84c.
Some can pass through the mesh portions 84a-c and flow into the nozzle portion 22. Therefore, the pressure loss of the gas as a whole is reduced. In other words, the mesh member 62 can be made finer and the rectifying action can be increased. The mesh portions 84a to 84c also provide a rectifying effect on a part of the gas passing therethrough.
さらに別の実施例を第4図に示す。この実施例では、
遮断弁12の滞留室10側の開口部に、その開口部を覆うよ
うに有底円筒状のメッシュ部材82が設けられている。つ
まり、遮断弁12のシートプレート15に短い円筒部材80が
固定され、その内側にメッシュ部材82がその開口部にお
いて固定されている。その他の部分は第2図の実施例と
同様である。ここで、遮断弁12はガスメータ2において
通常は安全確保上内蔵されるのが普通であり、この遮断
弁12にメッシュ部材82が一体化されているため、ガスメ
ータ2への遮断弁12の組付けによって、同時にメッシュ
部材82の組付けも完了し、組付けが容易になる他、この
メッシュ部材82とガス導入通路60とメッシュ部材62とが
相まって、一層のガス整流効果が得られる。なお、この
変形例として、下流側に延びるにつれてテーパ状の広が
るガス通路がシートプレートに設けられ、その開口端に
平面状のメッシュ部材が予め固定される態様もある。Another embodiment is shown in FIG. In this example,
At the opening of the shutoff valve 12 on the side of the retention chamber 10, a bottomed cylindrical mesh member 82 is provided so as to cover the opening. That is, the short cylindrical member 80 is fixed to the seat plate 15 of the shutoff valve 12, and the mesh member 82 is fixed inside the opening at the opening. Other parts are the same as those in the embodiment of FIG. Here, the shut-off valve 12 is usually incorporated in the gas meter 2 for safety reasons. Since the mesh member 82 is integrated with the shut-off valve 12, the shut-off valve 12 is assembled to the gas meter 2. Thereby, the assembly of the mesh member 82 is completed at the same time, and the assembly is facilitated. In addition, the mesh member 82, the gas introduction passage 60, and the mesh member 62 are combined, so that a further gas rectifying effect can be obtained. As a modified example, there is also a mode in which a gas passage that expands in a tapered shape as it extends to the downstream side is provided in the sheet plate, and a planar mesh member is fixed to an open end thereof in advance.
なお、第2図及び第4図において、メッシュ部材62は
ガス導入通路60の上流端に設けられているが、中流部,
下流部等に設けられていてもよい。また、メッシュ部材
62は2つ以上設けられてもよい。In FIGS. 2 and 4, the mesh member 62 is provided at the upstream end of the gas introduction passage 60.
It may be provided in a downstream portion or the like. Also, mesh members
Two or more 62 may be provided.
また、多孔部材としては、メッシュ部材62,82に限ら
ず、多孔板や整流格子等、種々のものを用いることがで
きる。Further, the porous member is not limited to the mesh members 62 and 82, and various members such as a porous plate and a rectifying grid can be used.
また、ガス導入通路60は、ノズル部22の滞留室側開口
部56から滞留室10内へ延びるにつれて通路断面積が大き
くなるもの等種々のものを用いることができる。Further, as the gas introduction passage 60, various passages such as those having a passage cross-sectional area that increases as the gas introduction passage extends from the retention chamber side opening 56 of the nozzle portion 22 into the retention chamber 10 can be used.
また、滞留室10内に、メッシュ部材82に代えて、また
はこれとともに、メッシュ部材等適宜の多孔部材が滞留
室10を仕切る形態でさらに別個に設けられてもよい。In addition, a suitable porous member such as a mesh member may be further provided in the retaining chamber 10 instead of or together with the mesh member 82 in a form that partitions the retaining chamber 10.
また、本発明は、フルイディックガスメータに限ら
ず、均一なガスの流れに基づいてそのガスの流量を計測
するガスメータであれば、他のガスメータ(例えば渦流
量計等)にも適用することができる。In addition, the present invention is not limited to a fluid gas meter, but can be applied to other gas meters (for example, a vortex flow meter or the like) as long as the gas meter measures the flow rate of the gas based on a uniform gas flow. .
その他、当業者の知識に基づき種々の変更を加えた態
様で本発明を実施できることはもちろんである。In addition, it is needless to say that the present invention can be carried out in aspects in which various changes are made based on the knowledge of those skilled in the art.
<発明の効果> 本発明に係るガスメータにおいては、ガスが、多孔部
材の設けられたガス導入通路を通ることにより、その多
孔部材及びガス導入通路による相乗的な整流作用を受け
つつ、流量センサ部に噴出されるため、ガスメータにお
ける精度及び信頼性が向上する。しかも、多孔部材はノ
ズル部よりも大きな通路断面積を有するガス導入通路に
設けられるものであるために、ガスの圧力損失も小さく
抑えることができる。<Effect of the Invention> In the gas meter according to the present invention, when the gas passes through the gas introduction passage provided with the porous member, the gas is subjected to a synergistic rectification action by the porous member and the gas introduction passage, and the flow sensor section is provided. Therefore, the accuracy and reliability of the gas meter are improved. Moreover, since the porous member is provided in the gas introduction passage having a passage cross-sectional area larger than that of the nozzle portion, the pressure loss of the gas can be suppressed to be small.
第1図は本発明の一実施例におけるガス導入通路を取り
出して示す斜視図であり、第2図はそのガスメータの全
体を示す平面断面図である。第3図は本発明の別の実施
例の要部を示す斜視図であり、第4図は更に別の実施例
の平面断面図である。第5図は第2図のガスメータにお
ける出力波形を示すグラフ、第6図は第2図のメッシュ
部材を有しない従来のガスメータにおける出力波形を示
すグラフである。 2……ガスメータ 4……ケーシング本体 6……ガス入口 10……ガス滞留室 20……フルイディック流量センサ部 22……ノズル部 56……滞留室側開口部 60……ガス導入通路 62……メッシュ部材FIG. 1 is a perspective view showing a gas introduction passage taken out in one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan sectional view showing the entire gas meter. FIG. 3 is a perspective view showing a main part of another embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a plan sectional view of still another embodiment. FIG. 5 is a graph showing an output waveform in the gas meter shown in FIG. 2, and FIG. 6 is a graph showing an output waveform in the conventional gas meter having no mesh member shown in FIG. 2 Gas meter 4 Casing body 6 Gas inlet 10 Gas storage chamber 20 Fluidic flow sensor 22 22 Nozzle 56 Opening on the storage chamber side 60 Gas introduction passage 62 Mesh member
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 堀 富士雄 富山県新湊市本江2795番地 東洋ガスメ ーター株式会社内 (56)参考文献 特開 平4−62427(JP,A) 特許2806602(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01F 1/00 G01F 1/20 G01F 15/12 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Fujio Hori 2975 Motoe, Shinminato-shi, Toyama Toyo Gas Meter Co., Ltd. (56) References JP-A-4-62427 (JP, A) Patent 2806602 (JP, B2) (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G01F 1/00 G01F 1/20 G01F 15/12
Claims (1)
量を計測するガスメータであって、 ケーシングと、 そのケーシングに設けられたガス入口と、 そのケーシング内において前記ガス入口と連通して設け
られたガス滞留室と、 そのケーシング内において前記ガス滞留室の下流側に設
けられた流量センサ部と、 その流量センサ部のさらに下流側において前記ケーシン
グに設けられたガス出口と、 前記ガス滞留室に滞留室側開口部を有し、そのガス滞留
室から前記流量センサ部へガスを噴出させるノズル部
と、 そのノズル部の滞留室側開口部から前記ガス滞留室内に
突出して設けられ、前記ノズル部より大きな通路断面積
を有するガス導入通路と、 そのガス導入通路に設けられてガスの流れを整流する多
孔部材と を有することを特徴とするガスメータ。1. A gas meter for measuring a gas flow rate based on a uniform gas flow, comprising: a casing; a gas inlet provided in the casing; and a gas inlet provided in the casing in communication with the gas inlet. A gas retention chamber provided in the casing, a flow sensor part provided downstream of the gas retention chamber in the casing, a gas outlet provided in the casing further downstream of the flow sensor part, and the gas retention chamber. A nozzle portion for ejecting gas from the gas retention chamber to the flow rate sensor portion, and a nozzle protruding from the retention chamber side opening of the nozzle portion into the gas retention chamber, the nozzle A gas introduction passage having a passage cross-sectional area larger than the portion, and a porous member provided in the gas introduction passage for rectifying a gas flow. Gas meter.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2257639A JP3020581B2 (en) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | Gas meter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2257639A JP3020581B2 (en) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | Gas meter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04134219A JPH04134219A (en) | 1992-05-08 |
| JP3020581B2 true JP3020581B2 (en) | 2000-03-15 |
Family
ID=17309036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2257639A Expired - Fee Related JP3020581B2 (en) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | Gas meter |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP3020581B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04124419U (en) * | 1991-04-26 | 1992-11-12 | 東京瓦斯株式会社 | fluidic gas meter |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2806602B2 (en) | 1990-06-18 | 1998-09-30 | 東京瓦斯株式会社 | Fluidic flow meter |
-
1990
- 1990-09-26 JP JP2257639A patent/JP3020581B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2806602B2 (en) | 1990-06-18 | 1998-09-30 | 東京瓦斯株式会社 | Fluidic flow meter |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04134219A (en) | 1992-05-08 |
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