JP3022342B2 - Semiconductor integrated circuit and driving method thereof - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路に
関し、特に、CMOSトランジスタを使用した半導体集
積回路に関する。The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly, to a semiconductor integrated circuit using a CMOS transistor.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、半導体集積回路においては、
より多くの情報量を高速で扱えるようにするために、ト
ランジスタサイズを小さくすることにより集積度を上げ
る手法が考えられている。2. Description of the Related Art Conventionally, in semiconductor integrated circuits,
In order to handle a larger amount of information at a high speed, a method of increasing the degree of integration by reducing the transistor size has been considered.
【0003】しかし、トランジスタサイズが小さくなっ
ても、電源電圧が従来のままであると、トランジスタサ
イズがある程度縮小された時点でゲート耐圧が減少して
くるため、使用電源電圧を下げる必要が生じてしまう。
そのような状況下で従来技術についてバッファ回路を1
つの例として説明する。However, even if the transistor size is reduced, if the power supply voltage remains the same, the gate withstand voltage will decrease when the transistor size is reduced to some extent. I will.
Under such circumstances, one buffer circuit is required for the prior art.
This will be described as one example.
【0004】図2は、従来の半導体集積回路の一構成例
を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing one configuration example of a conventional semiconductor integrated circuit.
【0005】本従来例は図2に示すように、入力が入力
端子1に接続されたCMOSトランジスタ13と、入力
がCMOSトランジスタ13の出力に接続され、出力が
出力端子2に接続されたCMOSトランジスタ12と、
周辺LSI(不図示)と、CMOSトランジスタ12,
13及び周辺LSIに電源を供給するための電源ライン
3と、接地されたグランドライン6とから構成されてお
り、CMOSトランジスタ13は、PchMOSトラン
ジスタ9と、NchMOSトランジスタ11とから構成
され、また、CMOSトランジスタ12は、PchMO
Sトランジスタ10と、NchMOSトランジスタ12
とから構成されている。なお、PchMOSトランジス
タ9とNchMOSトランジスタ11、並びに、Pch
MOSトランジスタ10とNchMOSトランジスタ1
2は、それぞれのドレイン側において互いに接続されて
いる。また、PchMOSトランジスタ9及びPchM
OSトランジスタ10のソース側が電源ライン3に接続
され、NchMOSトランジスタ11及びNchMOS
トランジスタ12のソース側がグランドライン6に接続
されている。In this conventional example, as shown in FIG. 2, a CMOS transistor 13 whose input is connected to the input terminal 1 and a CMOS transistor whose input is connected to the output of the CMOS transistor 13 and whose output is connected to the output terminal 2 12 and
A peripheral LSI (not shown), a CMOS transistor 12,
13 and a power supply line 3 for supplying power to the peripheral LSI, and a grounded ground line 6. The CMOS transistor 13 includes a PchMOS transistor 9 and an NchMOS transistor 11, and a CMOS transistor. Transistor 12 is a PchMO
S transistor 10 and NchMOS transistor 12
It is composed of Note that the PchMOS transistor 9, the NchMOS transistor 11, and the PchMOS
MOS transistor 10 and NchMOS transistor 1
2 are connected to each other on the respective drain sides. Further, the PchMOS transistor 9 and the PchM
The source side of the OS transistor 10 is connected to the power supply line 3, and the NchMOS transistor 11 and the NchMOS
The source side of the transistor 12 is connected to the ground line 6.
【0006】以下に、上記のように構成された半導体集
積回路の動作について説明する。[0006] The operation of the semiconductor integrated circuit configured as described above will be described below.
【0007】入力端子1にハイレベル信号が入力される
と、NchMOSトランジスタ11がON状態となり、
次段のCMOSトランジスタ14へローレベルが伝搬さ
れる。そして、PchMOSトランジスタ10がON状
態となり、出力端子2からハイレベル信号が出力される
ことになる。このときの出力レベルは電源ライン3の電
圧とほぼ等しい値である。When a high-level signal is input to the input terminal 1, the NchMOS transistor 11 is turned on,
The low level is transmitted to the next-stage CMOS transistor 14. Then, the PchMOS transistor 10 is turned on, and a high-level signal is output from the output terminal 2. The output level at this time has a value substantially equal to the voltage of the power supply line 3.
【0008】また、入力端子1にローレベル信号が入力
されると、PchMOSトランジスタ9がON状態とな
り、続いてNchMOSトランジスタ12がON状態と
なり、出力端子2からローレベル信号が出力される。When a low level signal is input to the input terminal 1, the PchMOS transistor 9 is turned on, then the NchMOS transistor 12 is turned on, and a low level signal is output from the output terminal 2.
【0009】図3は、従来の半導体集積回路の他の構成
例を示す回路図である。なお、本従来例においては、半
導体集積回路の1つの例としてNAND回路を用いるこ
ととする。FIG. 3 is a circuit diagram showing another configuration example of a conventional semiconductor integrated circuit. In this conventional example, a NAND circuit is used as one example of a semiconductor integrated circuit.
【0010】本従来例は図3に示すように、アノードが
電源端子18に接続されたダイオード7と、カソードが
接地端子19に接続されたダイオード8と、ダイオード
7のカソードと出力端子17との間に並列に接続された
2つのPchMOSトランジスタ20,21と、ダイオ
ード8のアノードと出力端子17との間に直列に接続さ
れた2つのNchMOSトランジスタ22,23と、周
辺LSI(不図示)とから構成されており、PchMO
Sトランジスタ21及びNchMOSトランジスタ22
の入力が入力端子15に接続され、PchMOSトラン
ジスタ20及びNchMOSトランジスタ23の入力が
入力端子16に接続されている(特開平4−18692
1号公報参照)。In this conventional example, as shown in FIG. 3, the diode 7 whose anode is connected to the power supply terminal 18, the diode 8 whose cathode is connected to the ground terminal 19, and the cathode of the diode 7 and the output terminal 17 are connected. From two PchMOS transistors 20 and 21 connected in parallel between them, two NchMOS transistors 22 and 23 connected in series between the anode of the diode 8 and the output terminal 17, and a peripheral LSI (not shown). PchMO
S transistor 21 and NchMOS transistor 22
Is connected to the input terminal 15 and the inputs of the PchMOS transistor 20 and the NchMOS transistor 23 are connected to the input terminal 16 (JP-A-4-18692).
No. 1).
【0011】以下に、上記のように構成された半導体集
積回路の動作について説明する。The operation of the semiconductor integrated circuit configured as described above will be described below.
【0012】入力端子15,16にハイレベル信号が入
力されると、PchMOSトランジスタ21,20が両
方ともOFF状態となるとともに、NchMOSトラン
ジスタ22,23が両方ともON状態となり、それによ
り、出力端子17からローレベル信号が出力される。こ
の場合、出力端子17の電位は接地端子19の電位より
もダイオード8の順方向電圧降下分だけ高い電圧とな
る。When a high-level signal is input to the input terminals 15 and 16, both the PchMOS transistors 21 and 20 are turned off, and both the NchMOS transistors 22 and 23 are turned on. Outputs a low level signal. In this case, the potential of the output terminal 17 becomes higher than the potential of the ground terminal 19 by the forward voltage drop of the diode 8.
【0013】また、入力端子15にローレベル信号が入
力され、入力端子16にハイレベル信号が入力される
と、PchMOSトランジスタ21がON状態となり、
それにより、出力端子17からハイレベル信号が出力さ
れる。この場合、出力端子17の電圧は、電源端子18
の電位よりもダイオード7の順方向電圧降下分だけ低い
電位となる。When a low-level signal is input to the input terminal 15 and a high-level signal is input to the input terminal 16, the PchMOS transistor 21 is turned on,
As a result, a high-level signal is output from the output terminal 17. In this case, the voltage at the output terminal 17 is
Is lower by a forward voltage drop of the diode 7 than the potential of the diode 7.
【0014】本従来例の特徴は、ダイオード7,8の順
方向電圧降下の和の分だけ振幅が小さくなるため、充放
電電流を低減させることができ、結果的に低消費電力化
が可能になるという点である。The feature of this conventional example is that the amplitude is reduced by the sum of the forward voltage drops of the diodes 7 and 8, so that the charge / discharge current can be reduced and as a result power consumption can be reduced. The point is.
【0015】[0015]
【発明が解決しようとする課題】上述したように、より
多くの情報量を高速で扱えるようにするために半導体集
積回路のトランジスタサイズを小さくする場合、電源電
圧が従来のままであると、トランジスタサイズがある程
度縮小された時点でゲート耐圧が減少してくるため、使
用電源電圧を下げる必要が生じてしまう。そこで、周辺
LSIの使用電源電圧との対応を考えて、電源電圧を下
げたタイプのLSIを使用する場合、予め、基板にその
LSI専用の電源ラインやグランドラインを設計してお
くか、電源そのものを2つ用意しておかなくてはならな
くなってしまう。As described above, when a transistor size of a semiconductor integrated circuit is reduced in order to handle a larger amount of information at a high speed, a transistor is not provided if a power supply voltage remains unchanged. Since the gate breakdown voltage decreases when the size is reduced to some extent, it is necessary to reduce the power supply voltage used. Therefore, when using a type of LSI whose power supply voltage is lowered in consideration of the use power supply voltage of the peripheral LSI, a power supply line or a ground line dedicated to the LSI must be designed on a substrate in advance, or the power supply itself must be designed. You have to prepare two.
【0016】そのため、使用電源電圧を変更する場合、
同じ回路内において、周辺LSIの電源電圧にあわせて
設計及び開発をしなおさなければならず、設計資産の管
理も含めて工数が増加してしまうという問題点がある。Therefore, when the power supply voltage to be used is changed,
In the same circuit, design and development must be performed again in accordance with the power supply voltage of the peripheral LSI, and there is a problem that the number of steps including the management of design resources increases.
【0017】また、電源端子あるいは接地端子に接続さ
れるダイオードを設けた場合、使用トランジスタの耐圧
レベルを超える電源電圧を使用することが可能になる
が、ダイオードを介してトランジスタに電源が供給され
るため、低消費電力化を目的として電源電圧のレベルを
下げると、トランジスタに必要な電源電圧が供給されに
くくなってしまうという問題点がある。When a diode connected to a power supply terminal or a ground terminal is provided, a power supply voltage exceeding the breakdown voltage level of the transistor used can be used. However, power is supplied to the transistor via the diode. Therefore, when the power supply voltage level is lowered for the purpose of reducing power consumption, there is a problem in that a necessary power supply voltage is not easily supplied to the transistor.
【0018】本発明は、上述したような従来の技術が有
する問題点に鑑みてなされたものであって、周辺LSI
の使用電源電圧が変更された場合においても、回路の再
設計を行うことなく、CMOSトランジスタに耐圧レベ
ル内の電源電圧を供給することができる半導体集積回路
及びその駆動方法を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and has been developed in consideration of the peripheral LSI.
It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit capable of supplying a power supply voltage within a withstand voltage level to a CMOS transistor without redesigning a circuit even when a used power supply voltage is changed, and a driving method thereof. I do.
【0019】[0019]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、CMOSトランジスタと、該CMOSトラ
ンジスタと同一基板上に形成され、第1の電圧及び該第
1の電圧よりも低く前記CMOSトランジスタが駆動す
るのに十分な第2の電圧のいずれか一方の電圧で駆動す
る周辺LSIとを少なくとも有してなる半導体集積回路
において、前記第1の電圧または前記第2の電圧が印加
される第1の電源ラインと、前記CMOSトランジスタ
に接続され、前記第2の電圧が印加される第2の電源ラ
インと、前記第1の電源ラインと前記CMOSトランジ
スタとの間に前記第1の電源ライン側をアノードとして
接続された第1のダイオードと、接地された第1のグラ
ンドラインと、前記CMOSトランジスタに接続された
第2のグランドラインと、前記第1のグランドラインと
前記CMOSトランジスタとの間に前記第1のグランド
ライン側をカソードとして接続された第2のダイオード
とを有し、前記第1及び第2のダイオードは、前記第1
の電源ラインに前記第1の電源が供給された場合に前記
第2の電源がCMOSトランジスタに供給されるような
電圧降下を具備し、前記周辺LSIが前記第1の電圧で
駆動する場合、前記CMOSトランジスタには前記第1
の電源ラインから前記第1のダイオードを介して電源が
供給され、前記周辺LSIが前記第2の電圧で駆動する
場合、前記CMOSトランジスタには前記第2の電源ラ
インから電源が供給され、かつ前記第2のグランドライ
ンが接地されることを特徴とする。また、前記第1の電
圧は、前記CMOSトランジスタの耐圧レベルを超える
電源電圧であり、前記第2の電圧は、前記CMOSトラ
ンジスタの耐圧レベル内の電源電圧であることを特徴と
する。 Means for Solving the Problems The present invention to achieve the above object, a CMOS transistor, the CMOS tiger
The first voltage and the first voltage are formed on the same substrate as the transistor.
1 is lower than the voltage of 1 and the CMOS transistor is driven.
Drive at one of the second voltages sufficient to
And a peripheral LSI having at least the first voltage or the second voltage.
First power supply line to be used and the CMOS transistor
And a second power supply line to which the second voltage is applied.
And the first power supply line and the CMOS transistor.
The first power supply line side as an anode between the
Connected first diode and grounded first ground.
And the CMOS transistor
A second ground line, and the first ground line
The first ground between the first transistor and the CMOS transistor;
Second diode connected with line side as cathode
And the first and second diodes are connected to the first diode.
When the first power is supplied to the power line of
When the second power is supplied to the CMOS transistor
A voltage drop, wherein the peripheral LSI is connected to the first voltage.
When driving, the CMOS transistor has the first
Power supply from the power supply line through the first diode.
Supplied and the peripheral LSI is driven by the second voltage
In this case, the CMOS transistor includes the second power supply line.
And power is supplied from the second ground line.
Characterized in that the component is grounded . In addition, the first power
Voltage exceeds the breakdown voltage level of the CMOS transistor
A power supply voltage, and the second voltage is the CMOS transistor.
The power supply voltage is within the breakdown voltage level of the transistor.
I do.
【0020】また、前記半導体集積回路の駆動方法であ
って、前記周辺LSIが駆動する電源電圧が前記第1の
電圧である場合、前記第1の電源ラインに前記第1の電
圧を供給するとともに、前記第2の電源ライン及び前記
第2のグランドラインを開放し、前記周辺LSIが駆動
する電源電圧が前記第2の電圧である場合、前記第1及
び第2の電源ラインに前記第2の電圧を供給するととも
に、前記第2のグランドラインを接地することを特徴と
する。In the method for driving a semiconductor integrated circuit, the power supply voltage driven by the peripheral LSI is the first voltage.
Voltage , the first power line is connected to the first power line.
And the second power supply line and the second ground line are opened to drive the peripheral LSI.
When the power supply voltage to be applied is the second voltage , the second voltage is supplied to the first and second power supply lines, and the second ground line is grounded.
【0021】(作用)上記のように構成された本発明に
おいては、第1の電源ライン及び第1のグランドライン
とCMOSトランジスタとの間にそれぞれ第1及び第2
のダイオードが設けられ、また、第1及び第2のダイオ
ードとCMOSトランジスタとの間にそれぞれ第2の電
源ライン及び第2のグランドラインが接続されており、
周辺LSIにおいて使用される電源電圧がCMOSトラ
ンジスタの耐圧レベルを超える電源電圧である場合は、
第1のダイオードを介して第1の電源ラインからCMO
Sトランジスタに電源が供給されることによりCMOS
トランジスタには第1及び第2のダイオードにおける電
圧降下分だけ電源電圧よりも低い電圧が供給され、周辺
LSIにおいて使用される電源電圧がCMOSトランジ
スタの耐圧レベル内の電源電圧である場合は、第2の電
源ラインからCMOSトランジスタに電源電圧がそのま
ま供給される。(Operation) In the present invention configured as described above, the first and second power supply lines and the first ground line are respectively connected between the CMOS transistor and the first power supply line.
, And a second power supply line and a second ground line are connected between the first and second diodes and the CMOS transistor, respectively.
If the power supply voltage used in the peripheral LSI is higher than the withstand voltage level of the CMOS transistor,
CMO from the first power supply line via the first diode
When power is supplied to the S transistor, the CMOS
The transistor is supplied with a voltage lower than the power supply voltage by the voltage drop in the first and second diodes. If the power supply voltage used in the peripheral LSI is within the withstand voltage level of the CMOS transistor, the second voltage is applied. The power supply voltage is supplied from the power supply line to the CMOS transistor as it is.
【0022】このように、周辺LSIにおいて使用され
る電源電圧が変更された場合においては、電源ラインか
らCMOSトランジスタへの電源供給方法を変更するだ
けでCMOSトランジスタに供給される電源電圧がCM
OSトランジスタの耐圧レベル内に設定されるので、周
辺LSIにおいて使用される電源電圧が変更された場合
に、回路を再設計する必要がない。As described above, when the power supply voltage used in the peripheral LSI is changed, the power supply voltage supplied to the CMOS transistor is changed to CM by merely changing the power supply method from the power supply line to the CMOS transistor.
Since the voltage is set within the withstand voltage level of the OS transistor, there is no need to redesign the circuit when the power supply voltage used in the peripheral LSI is changed.
【0023】[0023]
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0024】図1は、本発明の半導体集積回路の実施の
一形態を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a semiconductor integrated circuit according to the present invention.
【0025】本形態は図1に示すように、入力が入力端
子1に接続されたCMOSトランジスタ13と、入力が
CMOSトランジスタ13の出力に接続され、出力が出
力端子2に接続されたCMOSトランジスタ12と、周
辺LSI(不図示)と、CMOSトランジスタ12,1
3及び周辺回路に電源を供給するための第1の電源ライ
ン3及び第2の電源ライン4と、CMOSトランジスタ
12,13及び周辺回路に接続される第1のグランドラ
イン6及び第2のグランドライン5と、アノードが電源
ライン3に接続された第1のダイオード7と、カソード
が、グランドライン6に接続された第2のダイオード8
とから構成されており、CMOSトランジスタ13は、
PchMOSトランジスタ9と、NchMOSトランジ
スタ11とから構成され、また、CMOSトランジスタ
12は、PchMOSトランジスタ10と、NchMO
Sトランジスタ12とから構成されている。なお、Pc
hMOSトランジスタ9とNchMOSトランジスタ1
1、並びに、PchMOSトランジスタ10とNchM
OSトランジスタ12は、それぞれのドレイン側におい
て互いに接続されている。また、PchMOSトランジ
スタ9及びPchMOSトランジスタ10のソース側が
電源ライン4及びダイオード7のカソードに接続され、
NchMOSトランジスタ11及びNchMOSトラン
ジスタ12のソース側がグランドライン5及びダイオー
ド8のアノードに接続されている。また、グランドライ
ン6は接地されている。In this embodiment, as shown in FIG. 1, a CMOS transistor 13 whose input is connected to the input terminal 1 and a CMOS transistor 12 whose input is connected to the output of the CMOS transistor 13 and whose output is connected to the output terminal 2 , Peripheral LSI (not shown), and CMOS transistors 12 and 1
3 and a second power supply line 4 for supplying power to peripheral circuits, and a first ground line 6 and a second ground line connected to CMOS transistors 12, 13 and peripheral circuits. 5, a first diode 7 having an anode connected to the power supply line 3, and a second diode 8 having a cathode connected to the ground line 6.
And the CMOS transistor 13 includes:
The CMOS transistor 12 includes a PchMOS transistor 9 and an NchMO transistor 11.
And an S transistor 12. Note that Pc
hMOS transistor 9 and NchMOS transistor 1
1, PchMOS transistor 10 and NchM
The OS transistors 12 are connected to each other on the respective drain sides. The source sides of the PchMOS transistor 9 and the PchMOS transistor 10 are connected to the power supply line 4 and the cathode of the diode 7,
The source sides of the NchMOS transistor 11 and the NchMOS transistor 12 are connected to the ground line 5 and the anode of the diode 8. The ground line 6 is grounded.
【0026】以下に、上記のように構成された半導体集
積回路の動作について説明する。The operation of the semiconductor integrated circuit configured as described above will be described below.
【0027】入力端子1にハイレベル信号が入力される
と、NchMOSトランジスタ11がON状態となり、
次に、PchMOSトランジスタ10がON状態とな
り、出力端子2からハイレベル信号が出力される。When a high level signal is input to the input terminal 1, the NchMOS transistor 11 is turned on,
Next, the PchMOS transistor 10 is turned on, and a high-level signal is output from the output terminal 2.
【0028】また、入力端子1にローレベル信号が入力
されると、PchMOSトランジスタ9がON状態とな
り、出力端子2からローレベル信号が出力される。When a low level signal is input to the input terminal 1, the PchMOS transistor 9 is turned on, and a low level signal is output from the output terminal 2.
【0029】ここで、周辺LSIにおいて使用される電
源電圧がCMOSトランジスタ13,14の耐圧レベル
を超える電源電圧である場合は、電源ライン3にその電
源電圧を供給するとともに、電源ライン4及びグランド
ライン5をOPEN状態にして使用する。それにより、
本回路は、ダイオード7,8の電圧降下分を引いた振幅
で動作(出力)する。If the power supply voltage used in the peripheral LSI exceeds the withstand voltage level of the CMOS transistors 13 and 14, the power supply voltage is supplied to the power supply line 3 and the power supply line 4 and the ground line are supplied. 5 is used in the OPEN state. Thereby,
This circuit operates (outputs) at an amplitude obtained by subtracting the voltage drop of the diodes 7 and 8.
【0030】また、周辺LSIにおいて使用される電源
電圧がCMOSトランジスタ13,14の耐圧レベル内
の電源電圧である場合は、電源ライン3,4の両方にそ
の電源電圧を供給するとともに、グランドライン5,6
を両方とも接地して使用する。When the power supply voltage used in the peripheral LSI is within the breakdown voltage level of the CMOS transistors 13 and 14, the power supply voltage is supplied to both the power supply lines 3 and 4 and the ground line 5 is supplied. , 6
Use both with grounding.
【0031】ただし、前提条件として、事前にCMOS
トランジスタ13,14をノーマル電源電圧条件で設定
しておき、耐圧レベルを超える電源電圧での使用時は、
CMOSトランジスタ13,14に加わる電圧がダイオ
ード7の順方向電圧降下によりノーマル電源電圧と等し
くなるように設計しておく必要がある。However, as a precondition, CMOS
The transistors 13 and 14 are set under normal power supply voltage conditions, and when used at a power supply voltage exceeding the withstand voltage level,
It is necessary to design so that the voltage applied to the CMOS transistors 13 and 14 becomes equal to the normal power supply voltage due to the forward voltage drop of the diode 7.
【0032】これにより、周辺LSIの使用電源電圧が
変更された場合においても、電源ラインからCMOSト
ランジスタへの電源供給方法を変えるだけで同じLSI
を使用することができる。As a result, even when the power supply voltage of the peripheral LSI is changed, the same LSI can be used only by changing the power supply method from the power supply line to the CMOS transistor.
Can be used.
【0033】[0033]
【発明の効果】以上説明したように本発明においては、
第1の電源ライン及び第1のグランドラインとCMOS
トランジスタとの間にそれぞれ第1及び第2のダイオー
ドを設け、また、第1及び第2のダイオードとCMOS
トランジスタとの間にそれぞれ第2の電源ライン及び第
2のグランドラインを接続し、周辺LSIにおいて使用
される電源電圧がCMOSトランジスタの耐圧レベルを
超える電源電圧である場合は、第1のダイオードを介し
て第1の電源ラインからCMOSトランジスタに電源を
供給し、周辺LSIにおいて使用される電源電圧がCM
OSトランジスタの耐圧レベル内の電源電圧である場合
は、第2の電源ラインからCMOSトランジスタに電源
を供給する構成としたため、周辺LSIにおいて使用さ
れる電源電圧がCMOSトランジスタの耐圧レベルを超
える電源電圧である場合は、CMOSトランジスタに第
1及び第2のダイオードにおける電圧降下分だけ電源電
圧よりも低い電圧を供給し、周辺LSIにおいて使用さ
れる電源電圧がCMOSトランジスタの耐圧レベル内の
電源電圧である場合は、CMOSトランジスタに電源電
圧をそのまま供給することができる。As described above, in the present invention,
First power line and first ground line and CMOS
First and second diodes are provided between the first and second diodes, respectively;
A second power supply line and a second ground line are connected to the respective transistors, and when the power supply voltage used in the peripheral LSI is higher than the withstand voltage level of the CMOS transistor, the first power supply line and the second ground line are connected via the first diode. Power is supplied from the first power supply line to the CMOS transistor, and the power supply voltage used in the peripheral LSI is CM.
When the power supply voltage is within the withstand voltage level of the OS transistor, power is supplied from the second power supply line to the CMOS transistor, so that the power supply voltage used in the peripheral LSI exceeds the withstand voltage level of the CMOS transistor. In some cases, a voltage lower than the power supply voltage is supplied to the CMOS transistor by a voltage drop in the first and second diodes, and the power supply voltage used in the peripheral LSI is within the withstand voltage level of the CMOS transistor. Can supply the power supply voltage to the CMOS transistor as it is.
【0034】このように、電源ラインからCMOSトラ
ンジスタへの電源供給方法を変更するだけでCMOSト
ランジスタに供給される電源電圧を変更することができ
るので、周辺LSIにおいて使用される電源電圧が変更
された場合においても、回路の再設計を行うことなく、
CMOSトランジスタに耐圧レベル内の電源電圧を供給
することができる。それにより、周辺LSIにおいて使
用される電源電圧が変更された場合における回路の再設
計に伴う工数を低減させることができる。As described above, since the power supply voltage supplied to the CMOS transistor can be changed only by changing the method of supplying power from the power supply line to the CMOS transistor, the power supply voltage used in the peripheral LSI is changed. In any case, without redesigning the circuit,
A power supply voltage within the breakdown voltage level can be supplied to the CMOS transistor. Thus, the number of steps involved in circuit redesign when the power supply voltage used in the peripheral LSI is changed can be reduced.
【図1】本発明の半導体集積回路の実施の一形態を示す
回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of a semiconductor integrated circuit of the present invention.
【図2】従来の半導体集積回路の一構成例を示す回路図
である。FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a configuration example of a conventional semiconductor integrated circuit.
【図3】従来の半導体集積回路の他の構成例を示す回路
図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing another configuration example of a conventional semiconductor integrated circuit.
1 入力端子 2 出力端子 3,4 電源ライン 5,6 グランドライン 7,8 ダイオード 9,10 PchMOSトランジスタ 11,12 NchMOSトランジスタ 13,14 CMOSトランジスタ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Input terminal 2 Output terminal 3, 4 Power supply line 5, 6 Ground line 7, 8 Diode 9, 10 PchMOS transistor 11, 12 NchMOS transistor 13, 14 CMOS transistor
Claims (3)
ランジスタと同一基板上に形成され、第1の電圧及び該
第1の電圧よりも低く前記CMOSトランジスタが駆動
するのに十分な第2の電圧のいずれか一方の電圧で駆動
する周辺LSIとを少なくとも有してなる半導体集積回
路において、前記第1の電圧または前記第2の電圧が印加される第1
の電源ラインと、 前記CMOSトランジスタに接続され、前記第2の電圧
が印加される第2の電源ラインと、 前記第1の電源ラインと前記CMOSトランジスタとの
間に前記第1の電源ライン側をアノードとして接続され
た第1のダイオードと、 接地された第1のグランドラインと、 前記CMOSトランジスタに接続された第2のグランド
ラインと、 前記第1のグランドラインと前記CMOSトランジスタ
との間に前記第1のグランドライン側をカソードとして
接続された第2のダイオードとを有し、 前記第1及び第2のダイオードは、前記第1の電源ライ
ンに前記第1の電源が供給された場合に前記第2の電源
がCMOSトランジスタに供給されるような電圧降下を
具備し、 前記周辺LSIが前記第1の電圧で駆動する場合、前記
CMOSトランジスタには前記第1の電源ラインから前
記第1のダイオードを介して電源が供給され、前記周辺
LSIが前記第2の電圧で駆動する場合、前記CMOS
トランジスタには前記第2の電源ラインから電源が供給
され、かつ前記第2のグランドラインが接地される こと
を特徴とする半導体集積回路。1. A and CMOS transistors, the CMOS DOO
The first voltage and the first voltage are formed on the same substrate as the transistor.
The CMOS transistor is driven lower than the first voltage
Driven by one of the second voltages sufficient to
A semiconductor integrated circuit having at least a peripheral LSI that performs the first voltage or the second voltage application.
And the second voltage connected to the power supply line and the CMOS transistor.
Between the first power supply line and the CMOS transistor.
The first power supply line side is connected as an anode
A first diode, a grounded first ground line, and a second ground connected to the CMOS transistor.
Line, the first ground line, and the CMOS transistor
The first ground line side as a cathode
And a second diode connected thereto, wherein the first and second diodes are connected to the first power supply line.
The second power supply when the first power supply is supplied to the
Voltage drop to be supplied to the CMOS transistor
The peripheral LSI is driven by the first voltage.
The CMOS transistor is located before the first power supply line.
The power is supplied through the first diode, and
When the LSI is driven by the second voltage, the CMOS
Power is supplied to the transistor from the second power supply line
And the second ground line is grounded .
て、hand, 前記第1の電圧は、前記CMOSトランジスタの耐圧レThe first voltage is a withstand voltage level of the CMOS transistor.
ベルを超える電源電圧であり、Power supply voltage exceeding 前記第2の電圧は、前記CMOSトランジスタの耐圧レThe second voltage is a withstand voltage level of the CMOS transistor.
ベル内の電源電圧であることを特徴とする半導体集積回A semiconductor integrated circuit characterized by a power supply voltage within the bell
路。Road.
集積回路の駆動方法であって、 前記周辺LSIが駆動する電源電圧が前記第1の電圧で
ある場合、前記第1の電源ラインに前記第1の電圧を供
給するとともに、前記第2の電源ライン及び前記第2の
グランドラインを開放し、 前記周辺LSIが駆動する電源電圧が前記第2の電圧で
ある場合、前記第1及び第2の電源ラインに前記第2の
電圧を供給するとともに、前記第2のグランドラインを
接地することを特徴とする半導体集積回路の駆動方法。3. The method of driving a semiconductor integrated circuit according to claim 1 , wherein the power supply voltage driven by the peripheral LSI is the first voltage , the power supply voltage is applied to the first power supply line. Supplying the first voltage , opening the second power supply line and the second ground line, and when the power supply voltage driven by the peripheral LSI is the second voltage , the first and the second wherein the second power supply line the second
A method for driving a semiconductor integrated circuit, comprising supplying a voltage and grounding the second ground line.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8267005A JP3022342B2 (en) | 1996-10-08 | 1996-10-08 | Semiconductor integrated circuit and driving method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8267005A JP3022342B2 (en) | 1996-10-08 | 1996-10-08 | Semiconductor integrated circuit and driving method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10112643A JPH10112643A (en) | 1998-04-28 |
| JP3022342B2 true JP3022342B2 (en) | 2000-03-21 |
Family
ID=17438741
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8267005A Expired - Lifetime JP3022342B2 (en) | 1996-10-08 | 1996-10-08 | Semiconductor integrated circuit and driving method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3022342B2 (en) |
-
1996
- 1996-10-08 JP JP8267005A patent/JP3022342B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10112643A (en) | 1998-04-28 |
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