JP3028938B2 - Layout method of semiconductor integrated circuit - Google Patents
Layout method of semiconductor integrated circuitInfo
- Publication number
- JP3028938B2 JP3028938B2 JP9227947A JP22794797A JP3028938B2 JP 3028938 B2 JP3028938 B2 JP 3028938B2 JP 9227947 A JP9227947 A JP 9227947A JP 22794797 A JP22794797 A JP 22794797A JP 3028938 B2 JP3028938 B2 JP 3028938B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- delay
- block
- wiring
- integrated circuit
- semiconductor integrated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路の
レイアウト方法に関し、特に、クロックスキューを低減
させるための工程を有する半導体集積回路のレイアウト
方法に関する。The present invention relates to a layout method for a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a layout method for a semiconductor integrated circuit having a process for reducing clock skew.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体集積回路(以下、LSIと呼ぶ)
では、1つのクロック信号や、位相が異なる複数のクロ
ック信号を入力し、このクロック信号をLSI内の各フ
リップフロップに分配し、クロック信号に同期して、各
種演算や、デコード及びメモリのためのリード及びライ
ト等の動作を行う。ここで、クロック信号の分配元から
各供給先までの配線長が異なると、クロックスキューが
発生し、各供給先へのクロック信号の到達タイミングに
ズレが発ずる。クロックスキューが大きくなると、誤っ
た信号がフリップフロップに取り込まれ、或いは、不要
なひげ状パルスが論理ゲートの出力に発生し、LSI全
体が誤動作することがある。このように、クロック同期
型のLSIにおいては、動作速度等の性能はクロックス
キューの大小によって決まる。2. Description of the Related Art Semiconductor integrated circuits (hereinafter referred to as LSIs)
In this case, one clock signal or a plurality of clock signals having different phases are inputted, and this clock signal is distributed to each flip-flop in the LSI, and in synchronization with the clock signal, various operations, decoding and memory are performed. Performs operations such as read and write. Here, if the wiring length from the distribution source of the clock signal to each supply destination is different, clock skew occurs, and the arrival timing of the clock signal to each supply destination is shifted. When the clock skew increases, an erroneous signal is captured by a flip-flop, or an unnecessary whisker-like pulse is generated at the output of the logic gate, and the entire LSI may malfunction. As described above, in a clock synchronous type LSI, the performance such as the operation speed is determined by the magnitude of the clock skew.
【0003】そこで、従来のLSIでは、クロックツリ
ーシンセシス(以下、簡単にCTSと呼ぶ)を用いるこ
とによって、クロックラインを高駆動バッファのツリー
構造として各ブロックへのクロック入力の相対スキュー
を最小限に抑える試みがある。Therefore, in a conventional LSI, clock tree synthesis (hereinafter simply referred to as CTS) is used to make a clock line a tree structure of a high-drive buffer to minimize the relative skew of clock input to each block. There are attempts to curb.
【0004】図11は、CTSによって配線した論理集
積回路(半導体集積回路)を示す模式図である。LSI
の内部論理領域13には、この論理領域13外部に設け
られたクロック信号入力端子11に接続されたバッファ
回路12aと、バッファ回路12aから順次に2倍、4
倍と2n倍で増加するように縦続接続されたバッファ回
路12b、12c、12d…とが配設される。内部論理
領域13には更に、複数のバッファ回路12dに夫々接
続された複数のフリップフロップ15が配設される。こ
のように、LSIでは、バッファ回路12aから末端の
フリップフロップ15まで、バッファ回路12b〜12
d等がクロックネット10でツリー状に接続される。こ
のため、各段のバッファ回路12a〜12dの負荷容
量、つまり配線容量及び次段ゲートの入力容量等が一致
するように、クロック分配系が設計される。FIG. 11 is a schematic diagram showing a logic integrated circuit (semiconductor integrated circuit) wired by CTS. LSI
The internal logic area 13 has a buffer circuit 12a connected to a clock signal input terminal 11 provided outside the logic area 13 and a buffer circuit 12a sequentially doubling the buffer circuit 12a.
Buffer circuits 12b, 12c, 12d,... Cascaded so as to increase by a factor of 2n . The internal logic area 13 is further provided with a plurality of flip-flops 15 respectively connected to the plurality of buffer circuits 12d. As described above, in the LSI, from the buffer circuit 12a to the terminal flip-flop 15, the buffer circuits 12b to 12b
d and the like are connected in a tree by the clock net 10. For this reason, the clock distribution system is designed so that the load capacity of the buffer circuits 12a to 12d in each stage, that is, the wiring capacity, the input capacity of the next-stage gate, and the like match.
【0005】図12は、図11で説明したLSIを作成
する際のレイアウト方法を示すフローチャートである。
このレイアウト方法は、計算機援用設計((Computer Ai
dedDesign)以下簡単にCADと呼ぶ)によって行われ
る。まず、与えられた回路仕様を満たすトランジスタレ
ベルの回路構成及び素子特性を決定する回路設計を実行
し、各要素を内部論理領域13に初期配置する配置工程
を行う(ステップS1、S2)。次いで、設計された回
路の論理接続情報に従って、クロックネット10をツリ
ー状に分配するクロックネットの分割工程を行い、各段
の負荷容量が一致するように、バッファ回路12a〜1
2dを回路の論理接続情報に挿入する(ステップS3、
S4)。FIG. 12 is a flowchart showing a layout method when the LSI described with reference to FIG. 11 is created.
This layout method is based on the computer aided design (Computer Ai
dedDesign) (hereinafter simply referred to as CAD). First, a circuit design that determines a transistor-level circuit configuration and element characteristics that satisfy given circuit specifications is executed, and an arrangement step of initially arranging each element in the internal logic area 13 is performed (steps S1 and S2). Next, a clock net dividing process for distributing the clock net 10 in a tree shape is performed in accordance with the logical connection information of the designed circuit, and the buffer circuits 12a to 12a-1 are set so that the load capacities of the respective stages match.
2d is inserted into the logical connection information of the circuit (step S3,
S4).
【0006】次いで、挿入したバッファ回路12a〜1
2dを内部論理領域13内に配置し、クロックネット1
0を等長配線することによって、各段のバッファ回路1
2a〜12dの負荷容量を一致させてクロックスキュー
を低減させる(ステップS5、S6)。更に、回路で必
要な信号線を配線し、要素の配置変更や論理反転の要請
等に起因して満足できる配線がなされなくなった箇所、
つまり未配線状態の箇所の有無をチェックする(ステッ
プS7、S8)。この結果、未配線状態の箇所が存在す
る間はステップS2からの処理を繰り返し、未配線状態
の箇所が無くなった時点でステップS9に進み、レイア
ウトデータに基づいたマスクパターンデータの作成を行
う。Next, the inserted buffer circuits 12a-1
2d is placed in the internal logic area 13 and the clock net 1
0 is connected to the buffer circuit 1 of each stage by equal-length wiring.
The clock skew is reduced by matching the load capacities of 2a to 12d (steps S5 and S6). In addition, wiring where necessary signal lines are routed in the circuit, where satisfactory wiring is no longer made due to changes in the arrangement of elements or requests for logical inversion, etc.
That is, it is checked whether or not there is an unwired portion (steps S7 and S8). As a result, the process from step S2 is repeated as long as there is an unwired portion. When there are no unwired portions, the process proceeds to step S9 to create mask pattern data based on the layout data.
【0007】また、CTSを応用した手法による別の論
理集積回路が、特開平5-159080号公報に記載されてい
る。図13は、該公報に記載の論理集積回路を示す模式
図である。この論理集積回路では、内部論理領域13
が、相互に等しい面積を有する複数のブロックに分割さ
れている。分割された各ブロックには、クロック信号を
クロック発生源CLから入力するための入力端子11
と、入力端子11に接続された複数段のバッファ回路1
4とを含むクロック分配系とが夫々独立に設けられる。
このクロック分配系は、クロック供給元から各供給先で
ある末端回路に向かって枝分かれするツリー状に構成さ
れる。各段におけるバッファ回路14の相互間における
配線は、長さ及び容量が相互に等しく、且つ、各段のバ
ッファ回路14におけるファンアウト数が同一になるよ
うに設計される。[0007] Another logical integrated circuit based on a technique using CTS is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-159080. FIG. 13 is a schematic diagram showing a logic integrated circuit described in the publication. In this logic integrated circuit, the internal logic area 13
Are divided into a plurality of blocks having the same area as each other. Each of the divided blocks has an input terminal 11 for inputting a clock signal from a clock generation source CL.
And a plurality of stages of buffer circuits 1 connected to the input terminal 11
4 are provided independently of each other.
This clock distribution system is configured in a tree shape that branches from a clock supply source to an end circuit that is each supply destination. The wiring between the buffer circuits 14 in each stage is designed so that the length and the capacitance are equal to each other, and the number of fan-outs in the buffer circuits 14 in each stage is the same.
【0008】図14は、図13の論理集積回路を作成す
るレイアウト方法の手順を示すフローチャートである。
このフローチャートにおける各処理工程は、ステップS
10、S11が図11で説明したステップS1、S2に
共通し、ステップS13〜S19がステップS3〜S9
に共通しているが、配置工程とクロックネット分割工程
との間でチップブロック分割工程を行う点で異なる。す
なわち、上記公報に記載の論理集積回路をレイアウトす
る際には、内部論理領域13内に各要素を配置した後
に、内部論理領域13を任意のブロックに分割する。FIG. 14 is a flowchart showing a procedure of a layout method for producing the logic integrated circuit of FIG.
Each processing step in this flowchart includes step S
10 and S11 are common to steps S1 and S2 described in FIG. 11, and steps S13 to S19 are steps S3 to S9.
However, the difference is that the chip block dividing step is performed between the arrangement step and the clock net dividing step. That is, when laying out the logic integrated circuit described in the above publication, after arranging each element in the internal logic area 13, the internal logic area 13 is divided into arbitrary blocks.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】ところで、図12及び
図14を用いて夫々説明した従来のレイアウト方法で
は、クロックスキューを低減する処理が配置工程と配線
工程との間で同時進行的に行われていた(ステップS3
〜S6、ステップS12〜S16)。このため、未配線
状態の箇所が存在する場合には、そのための配線と同時
にクロックスキューの低減処理も同様に繰り返さなけれ
ばならず、レイアウト設計に要する時間が増大する不都
合を招いていた。By the way, in the conventional layout method described with reference to FIGS. 12 and 14, respectively, the process of reducing the clock skew is performed simultaneously during the placement step and the wiring step. (Step S3
To S6, steps S12 to S16). For this reason, when there is an unwired portion, the process of reducing the clock skew must be repeated at the same time as the wiring for the wiring, which causes an increase in the time required for layout design.
【0010】本発明は、上記に鑑み、計算機援用設計に
よってレイアウトデータを作成する場合に、レイアウト
設計に要する時間を短縮させて設計作業を効率化できる
半導体集積回路のレイアウト方法を提供することを目的
とする。In view of the above, it is an object of the present invention to provide a layout method of a semiconductor integrated circuit which can shorten the time required for layout design and make the design work more efficient when creating layout data by computer-aided design. And
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の半導体集積回路のレイアウト方法は、計算
機援用設計によってレイアウトデータを作成する半導体
集積回路のレイアウト方法において、半導体集積回路の
内部論理領域に要素を配置する配置工程と、前記要素に
対して所望の信号線を配線する配線工程と、前記内部論
理領域を面積が相互に略等しい複数のブロックに分割
し、該各ブロックに付属する遅延素子数の大小によって
クロック信号伝達時の遅延量を各ブロック毎に調整して
クロックスキューを低減するクロックスキュー低減工程
とを有することを特徴とする。ここで、分割した各ブロ
ックに付属する遅延素子数には0個も含まれる。In order to achieve the above object, a layout method of a semiconductor integrated circuit according to the present invention is directed to a layout method of a semiconductor integrated circuit for creating layout data by computer-aided design. An arranging step of arranging an element in a logical region, a wiring step of arranging a desired signal line to the element, and dividing the internal logical region into a plurality of blocks having substantially the same area as each other. And a clock skew reduction step of reducing a clock skew by adjusting a delay amount at the time of transmitting a clock signal for each block depending on the number of delay elements to be performed. Here, the number of delay elements attached to each divided block includes zero.
【0012】本発明の半導体集積回路のレイアウト方法
では、分割したブロック毎に遅延素子数の大小を調整し
てクロックスキューを低減することができるので、低減
処理が簡便になると共に、クロックスキュー低減工程を
配置工程及び配線工程から独立させることができる。こ
のため、未配線状態の箇所が存在する場合でも、クロッ
クスキューの低減処理とは別に配置/配線工程のみを繰
り返せば良いので、レイアウト設計に要する時間を短縮
させることができる。In the layout method of the semiconductor integrated circuit according to the present invention, the clock skew can be reduced by adjusting the number of delay elements for each of the divided blocks. Can be made independent of the placement step and the wiring step. For this reason, even when there is an unwired portion, only the placement / wiring process may be repeated separately from the clock skew reduction process, so that the time required for layout design can be reduced.
【0013】好ましくは、前記クロックスキュー低減工
程は、前記配置工程及び配線工程に後続し、前記分割し
た各ブロックに、フリップフロップと該フリップフロッ
プに対応する遅延素子群とをグループ化して配置する工
程と、半導体集積回路にクロック信号を供給する入力端
子に最も近接するブロックを基準にし該基準のブロック
から離れたブロックほど遅延量が低減する遅延値を算出
し、該算出結果に基づいて、前記遅延素子群に備えた遅
延素子数を調整する工程とを含む。この場合、フリップ
フロップ及び遅延素子群を1つのグループとして扱いつ
つ遅延素子数を調整することができるので、クロックス
キューの低減処理が容易且つ迅速になる。Preferably, the clock skew reduction step is a step of, following the placement step and the wiring step, placing a flip-flop and a delay element group corresponding to the flip-flop in a group in each of the divided blocks. And calculating, based on a block closest to an input terminal for supplying a clock signal to the semiconductor integrated circuit, a delay value that reduces a delay amount as a block is further away from the reference block, and based on the calculation result, calculates the delay value. Adjusting the number of delay elements provided in the element group. In this case, the number of delay elements can be adjusted while treating the flip-flop and the delay element group as one group, so that the process of reducing clock skew becomes easy and quick.
【0014】更に好ましくは、前記クロックスキュー低
減工程が、前記各ブロックに配置された遅延素子の内で
不要な遅延素子を配線パターンに置換する工程を更に含
む。この場合、クロックスキューの低減処理がより簡便
になる。[0014] More preferably, the clock skew reduction step further includes a step of replacing an unnecessary delay element among the delay elements arranged in each block with a wiring pattern. In this case, the process of reducing clock skew becomes simpler.
【0015】また、前記クロックスキュー低減工程は、
前記配置工程及び配線工程に先行し、半導体集積回路に
クロック信号を供給する入力端子に最も近接するブロッ
クを基準にし該基準のブロックから離れたブロックほど
遅延量が低減する遅延値を算出し、該算出結果に基づい
て遅延素子数を調整した遅延素子群を各ブロックに配置
する工程を含むことも好ましい態様である。この場合、
分割したブロックに遅延素子群を例えば1個ずつ配置す
れば良いので、配置/配線工程の配線性や収容性への影
響をより少なくすることができる。Further, the clock skew reduction step includes the following:
Prior to the arranging step and the wiring step, a block closer to an input terminal for supplying a clock signal to the semiconductor integrated circuit is used as a reference, and a delay value is calculated such that a block further away from the reference block has a smaller delay amount. It is also a preferable embodiment to include a step of arranging a delay element group in which the number of delay elements is adjusted based on the calculation result in each block. in this case,
Since it is sufficient to dispose the delay element groups, for example, one by one in the divided blocks, it is possible to further reduce the influence of the arrangement / wiring process on the wiring property and the accommodation.
【0016】前記配置工程は、前記クロックスキュー低
減工程で配置した前記遅延素子群と対応する要素を前記
各ブロックに配置する工程を含むことが好ましい。この
場合、レイアウトデータの作成作業がより簡便になる。It is preferable that the arranging step includes a step of arranging, in each of the blocks, an element corresponding to the delay element group arranged in the clock skew reducing step. In this case, the work of creating the layout data becomes easier.
【0017】好ましくは、前記クロックスキュー低減工
程は、前記配置工程及び配線工程に後続し、半導体集積
回路にクロック信号を供給する入力端子に最も近接する
ブロックを基準にし該基準のブロックから離れたブロッ
クほど遅延量が低減する遅延値を算出し、該算出結果に
基づいて遅延素子数を調整した遅延素子群を、前記各ブ
ロックに配置した各要素間に挿入する工程を含む。Preferably, the clock skew reducing step is a block subsequent to the arranging step and the wiring step, which is based on a block closest to an input terminal for supplying a clock signal to the semiconductor integrated circuit and which is distant from the reference block. A step of calculating a delay value with which the delay amount is reduced as much as possible, and inserting a delay element group in which the number of delay elements is adjusted based on the calculation result between the elements arranged in each block.
【0018】この場合、配置/配線工程の終了後に、遅
延値の算出結果に対応して各ブロックに遅延素子群を挿
入するので、フリップフロップ群が配置されないブロッ
クを認識しつつ、必要なブロックのみに遅延素子群を挿
入することができる。このため、配置/配線工程におい
ての配線性や収容性への影響をより少なくすることがで
きる。In this case, after the placement / wiring process is completed, the delay element group is inserted into each block in accordance with the result of the calculation of the delay value. , A delay element group can be inserted. For this reason, it is possible to further reduce the influence on the wiring property and the accommodation property in the arrangement / wiring step.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】図面を参照して本発明を更に詳細
に説明する。図1は、本発明の第1実施形態例のLSI
チップを模式的に示す平面図である。LSIチップ21
は、クロック信号を入力する外部入力端子31を備え、
チップ周縁部にI/Oブロックセル領域22を備える。
I/Oブロックセル領域22の内側に配置された内部論
理領域23は、面積が相互に等しい複数のブロック24
A〜24Iに分割される。The present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows an LSI according to a first embodiment of the present invention.
It is a top view which shows a chip typically. LSI chip 21
Has an external input terminal 31 for inputting a clock signal,
An I / O block cell region 22 is provided on the periphery of the chip.
The internal logic region 23 arranged inside the I / O block cell region 22 has a plurality of blocks 24 having the same area.
A to 24I.
【0020】図2は、本実施形態例におけるLSIチッ
プを作成するレイアウト方法の手順を示すフローチャー
ト、図3及び図4は、このレイアウト方法によるLSI
チップの作成過程を模式的に示す正面図である。フロー
チャートに示すレイアウト処理は、計算機援用設計(C
AD)によって行われる。FIG. 2 is a flow chart showing a procedure of a layout method for producing an LSI chip in the embodiment, and FIGS. 3 and 4 are LSIs according to this layout method.
It is a front view which shows the preparation process of a chip typically. The layout processing shown in the flowchart is based on the computer assisted design (C
AD).
【0021】本実施形態例では、クロックスキュー低減
処理の内容が、図12及び図14で説明した従来方式に
おけるクロックスキューの低減処理とは異なるので、ク
ロックスキュー低減処理を、配置工程及び配線工程から
独立させて配置/配線工程の後に行うことが可能になっ
た。In the present embodiment, the content of the clock skew reduction processing is different from the clock skew reduction processing in the conventional method described with reference to FIGS. 12 and 14, so that the clock skew reduction processing is performed from the placement step and the wiring step. This can be performed independently after the placement / wiring process.
【0022】即ち、本実施形態例では、ステップS30
で、与えられた回路仕様を満たすトランジスタレベルの
回路構成及び素子特性を決定する回路設計を行い、次い
で、配置/配線工程Aとクロックスキュー低減処理Bと
を実行し、設計された回路を評価しこれを元に設計し直
す。That is, in the present embodiment, step S30
Then, a circuit design for determining a transistor-level circuit configuration and element characteristics satisfying the given circuit specifications is performed, and then a placement / wiring process A and a clock skew reduction process B are executed to evaluate the designed circuit. Redesign based on this.
【0023】配置/配線工程Aでは、まず、内部論理領
域23に要素としてのバッファ回路36を初期配置する
配置工程を実行し、定められた通りに各バッファ回路3
6間をクロックネット(信号線)33で結線する配線工
程を実行する。次いで、要素の配置変更や論理反転の要
請等に起因して満足できる配線がなされなくなった箇
所、つまり未配線状態の箇所の有無をチェックする(ス
テップS31〜S33)。この結果、未配線状態の箇所
が有れば、ステップS31に戻って配置工程及び配線工
程を繰り返し実行し、未配線状態の箇所が無くなればク
ロックスキュー低減処理Bに進む。In the arrangement / wiring step A, first, an arrangement step of initially arranging the buffer circuit 36 as an element in the internal logic area 23 is executed, and each of the buffer circuits 3
Then, a wiring step of connecting between the six by a clock net (signal line) 33 is performed. Next, it is checked whether or not there is a portion where satisfactory wiring has not been performed due to a change in the arrangement of elements or a request for logical inversion, that is, a portion in an unwired state (steps S31 to S33). As a result, if there is an unwired portion, the process returns to step S31 to repeatedly execute the placement process and the wiring process. If there is no unwired portion, the process proceeds to the clock skew reduction process B.
【0024】クロックスキュー低減処理Bでは、まず、
LSIチップ21の内部論理領域23を面積が相互に等
しい複数のブロック24A〜24Iに分割する(ステッ
プS34)。次いで、図3に示すように、分割した各ブ
ロック24A〜24I毎に、フリップフロップ群35
と、フリップフロップ群35に対応する遅延素子群34
とをグループ化して一律に配置する(ステップS3
5)。これにより、ブロック24A〜24Iの夫々で
は、配置/配線工程Aで予め配置され且つ配線された各
バッファ回路36に対して、フリップフロップ群35及
び遅延素子群34が例えば1セットずつ接続されること
になる。In the clock skew reduction processing B, first,
The internal logic region 23 of the LSI chip 21 is divided into a plurality of blocks 24A to 24I having the same area (Step S34). Next, as shown in FIG. 3, a flip-flop group 35 is provided for each of the divided blocks 24A to 24I.
And delay element group 34 corresponding to flip-flop group 35
Are grouped and arranged uniformly (step S3
5). Thereby, in each of the blocks 24A to 24I, the flip-flop group 35 and the delay element group 34 are connected, for example, one set to each of the buffer circuits 36 arranged and wired in advance in the arrangement / wiring step A. become.
【0025】更に、LSIチップ21にクロック信号を
供給する外部入力端子31に最も近接するブロック24
Aを基準にし、この基準のブロック24Aから離れたブ
ロックほど遅延量が減少するように遅延素子群34の調
整を行う。この調整は、まず、ブロック24Aを基準と
し、他のブロック24B〜24Iに夫々配置されたフリ
ップフロップ群35に対する遅延値を算出する。この算
出結果に基づいて、ブロック24B〜24I夫々のフリ
ップフロップ群35に接続された遅延素子群34による
遅延値がブロック24Aにおける遅延値と等価になるよ
うに、遅延素子群34に備えた遅延素子34aをブロッ
ク単位で調整する。この際に、ブロック24A〜24I
の夫々においての不要な遅延素子34aを、図4に示す
ように配線パターンに置換する。同図において、規準の
ブロック24Aでは遅延素子34aが4個、ブロック2
4Aに隣接するブロック24B、24Dでは遅延素子3
4aが3個ずつ、ブロック24B、24Dに夫々隣接す
るブロック24C、24E、24Gでは遅延素子34a
が2個ずつ配置される。また、ブロック24C、24
E、24Gに夫々隣接するブロック24F、24Hでは
遅延素子34aが1個ずつ、ブロック24F、24Hに
隣接するブロック24Iでは遅延素子34aが0個配置
される。Further, the block 24 closest to the external input terminal 31 for supplying a clock signal to the LSI chip 21
Based on A, the delay element group 34 is adjusted so that the delay amount decreases as the distance from the reference block 24A increases. In this adjustment, first, with reference to the block 24A, a delay value for the flip-flop group 35 arranged in each of the other blocks 24B to 24I is calculated. Based on the calculation result, the delay elements provided in the delay element group 34 are set such that the delay value of the delay element group 34 connected to the flip-flop group 35 of each of the blocks 24B to 24I is equivalent to the delay value in the block 24A. 34a is adjusted in block units. At this time, blocks 24A to 24I
The unnecessary delay element 34a in each of the above is replaced with a wiring pattern as shown in FIG. In the figure, in the reference block 24A, there are four delay elements 34a,
In the blocks 24B and 24D adjacent to 4A, the delay element 3
4a, the delay elements 34a in the blocks 24C, 24E, and 24G adjacent to the blocks 24B and 24D, respectively.
Are arranged two by two. Also, blocks 24C and 24
Blocks 24F and 24H adjacent to E and 24G respectively include one delay element 34a, and block 24I adjacent to blocks 24F and 24H includes zero delay element 34a.
【0026】上記のように、クロックスキュー低減処理
Bでは、基準のブロック24Aから他のブロック24B
〜24Iまでクロック配線する際に付加される配線遅延
値を遅延素子群34に置き換えて考え、各ブロック毎に
遅延素子群34の遅延値を調整する。これにより、各ブ
ロックに付属する遅延素子34aの数の大小によってク
ロック信号伝達時の遅延量を各ブロック毎に調整するこ
とにより、クロック信号の分配元から各供給先であるフ
リップフロップ群35までの遅延値を等価にして、内部
論理領域23におけるクロックスキューを減少させてい
る。As described above, in the clock skew reduction processing B, the reference block 24A and the other blocks 24B
The delay value of the delay element group 34 is adjusted for each block in consideration of replacing the wiring delay value added when the clock wiring is performed up to 24I with the delay element group 34. Thus, by adjusting the amount of delay at the time of transmitting a clock signal for each block according to the number of delay elements 34a attached to each block, from the clock signal distribution source to the flip-flop group 35 that is each supply destination. The clock skew in the internal logic area 23 is reduced by making the delay values equivalent.
【0027】次いで、ステップS38で、レイアウトデ
ータに基づいて、マスクパターンのデータを作成する。
この場合には、まず、プロッタによって作図を行って検
図を行い、設計したマスクパターンデータに誤りが無い
ということを確認した上で、このデータをマスク作製装
置用のデータに変換する。Next, in step S38, mask pattern data is created based on the layout data.
In this case, first, the plotting is performed by a plotter to perform a check, and after confirming that there is no error in the designed mask pattern data, this data is converted into data for a mask manufacturing apparatus.
【0028】以上のように本実施形態例では、要素の配
置を変更し、或いは、論理を反転させる等によって配置
や配線に変更の要請が生じ易い配置/配線工程Aに対
し、変更が生じ難い手法にしたクロックスキュー低減処
理Bを独立させている。これにより、満足できる配線が
得られない未配線状態が発生した場合には、クロックス
キュー低減処理Bとは別個に配置/配線工程Aだけを繰
り返し行うことで目的を達成できる。従って、本実施形
態例のレイアウト方法によると、計算機援用設計によっ
てレイアウトデータを作成する場合に、レイアウト設計
に要する時間を短縮させて設計作業を効率化させること
ができる。As described above, in the present embodiment, the arrangement / wiring process A in which the arrangement or wiring is likely to be requested to be changed by changing the arrangement of the elements or inverting the logic is unlikely to occur. The clock skew reduction process B used as a method is independent. Thus, when an unwired state in which satisfactory wiring cannot be obtained occurs, the object can be achieved by repeatedly performing only the arrangement / wiring step A separately from the clock skew reduction processing B. Therefore, according to the layout method of the present embodiment, when layout data is created by computer-aided design, the time required for the layout design can be shortened and the design work can be made more efficient.
【0029】また、本実施形態例によると、複数のブロ
ック24A〜24Iに含まれるフリップフロップ群35
と遅延素子群34とを1つのグループとしてクロックス
キュー低減処理を行うことができる。従って、フリップ
フロップ単位でクロックスキュー低減処理を行う場合に
比較して、処理が容易になり処理時間を短縮させること
ができる。このため、例えば、フリップフロップが数千
を越えるような大規模なLSIチップを作成する場合に
特に有効になる。According to the embodiment, the flip-flop group 35 included in the plurality of blocks 24A to 24I is provided.
And the delay element group 34 as one group to perform the clock skew reduction processing. Therefore, as compared with the case where the clock skew reduction processing is performed on a flip-flop basis, the processing is facilitated and the processing time can be reduced. Therefore, for example, it is particularly effective when a large-scale LSI chip having more than several thousands of flip-flops is produced.
【0030】次に、図5〜図7を参照して本発明の第2
実施形態例を説明する。図5は、本実施形態例における
LSIチップを作成するレイアウト方法の手順を示すフ
ローチャート、図6及び図7は、このレイアウト方法に
よるLSIチップの作成過程を模式的に示す正面図であ
る。フローチャートに示すレイアウト処理は、CADに
よって行われる。Next, the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
An embodiment will be described. FIG. 5 is a flowchart showing a procedure of a layout method for producing an LSI chip according to the embodiment, and FIGS. 6 and 7 are front views schematically showing a production process of the LSI chip by this layout method. The layout processing shown in the flowchart is performed by CAD.
【0031】本実施形態例においても、クロックスキュ
ー低減処理の内容が、従来タイプにおけるクロックスキ
ュー低減処理とは異なる。これにより、クロックスキュ
ー低減処理を、配置工程及び配線工程から独立させて配
置/配線工程の前に行うことができる。即ち、本実施形
態例では、ステップS40で回路設計を行った後に、ク
ロックスキュー低減処理B’、配置/配線工程Aを順次
に実行する。Also in the present embodiment, the contents of the clock skew reduction processing are different from those of the conventional type. Thereby, the clock skew reduction processing can be performed before the placement / wiring step independently of the placement step and the wiring step. That is, in the present embodiment, the clock skew reduction process B ′ and the placement / wiring process A are sequentially performed after the circuit design is performed in step S40.
【0032】クロックスキュー低減処理B’では、LS
Iチップ21の内部論理領域23を、図6に示すよう
に、面積が相互に等しい複数のブロック24A〜24I
に分割する(ステップS41)。次いで、LSIチップ
21にクロック信号を供給する外部入力端子31に最も
近接するブロック24Aを基準にし、この基準のブロッ
ク24Aから離れたブロックほど遅延量が低減する遅延
値を算出し、この算出結果に基づいて遅延素子数を調整
した遅延素子群34を各ブロックに配置する。即ち、ブ
ロック24Aを基準として、他のブロック24B〜24
I毎にそのフリップフロップ群35に対する遅延値を算
出する。更に、この算出結果に基づいて、各ブロック2
4A〜24I間における遅延値が等価になるように遅延
素子34aの数を調整した遅延素子群34を、各ブロッ
ク24A〜24Iに配置する(ステップS42)。In the clock skew reduction processing B ', LS
As shown in FIG. 6, the internal logic region 23 of the I chip 21 is divided into a plurality of blocks 24A to 24I having the same area.
(Step S41). Next, with reference to the block 24A closest to the external input terminal 31 that supplies the clock signal to the LSI chip 21, a delay value is calculated such that a block farther from the reference block 24A reduces the delay amount. A delay element group 34 whose number of delay elements is adjusted based on the delay elements is arranged in each block. That is, the other blocks 24B to 24B are based on the block 24A.
The delay value for the flip-flop group 35 is calculated for each I. Further, based on the calculation result, each block 2
The delay element group 34 in which the number of the delay elements 34a is adjusted so that the delay values between 4A to 24I are equivalent is arranged in each of the blocks 24A to 24I (step S42).
【0033】これにより、規準のブロック24Aでは遅
延素子34aを4個有する遅延素子群34、ブロック2
4Aに隣接するブロック24B、24Dでは遅延素子3
4aを3個ずつ有する遅延素子群34が配置される。ブ
ロック24B、24Dに夫々隣接するブロック24C、
24E、24Gでは遅延素子34aを2個ずつ有する遅
延素子群34、ブロック24C、24E、24Gに夫々
隣接するブロック24F、24Hでは遅延素子34aを
1個ずつ有する遅延素子群34が配置される。また、ブ
ロック24F、24Hに隣接するブロック24Iでは、
遅延素子34aを0個有する遅延素子群34が配置され
る。つまり、ブロック24Iには、遅延素子群34は配
置されないことになる。Thus, in the standard block 24A, the delay element group 34 having four delay elements 34a, the block 2
In the blocks 24B and 24D adjacent to 4A, the delay element 3
A delay element group 34 having three 4a is arranged. Blocks 24C, 24C adjacent to blocks 24B and 24D, respectively.
In 24E and 24G, a delay element group 34 having two delay elements 34a is arranged. In blocks 24F and 24H adjacent to the blocks 24C, 24E and 24G, a delay element group 34 having one delay element 34a is arranged. In the block 24I adjacent to the blocks 24F and 24H,
A delay element group 34 having zero delay elements 34a is arranged. That is, the delay element group 34 is not arranged in the block 24I.
【0034】次いで、配置/配線工程Aでは、ステップ
S43の配置工程で、遅延素子群34と対応する要素を
各ブロック24A〜24Iに配置する。即ち、各ブロッ
ク24A〜24Iの夫々に対して、フリップフロップ群
35及びバッファ回路36等の遅延素子群34以外の要
素を配置する。更に、ステップS44の配線工程で、定
められた通りに各要素間をクロックネット33によって
結線する。これにより、図7に示すように、ブロック2
4Aでは遅延素子34aが4個の遅延素子群34に対し
てバッファ回路36及びフリップフロップ群35が接続
され、ブロック24B、24Dでは遅延素子34aが3
個の遅延素子群34に対してバッファ回路36及びフリ
ップフロップ群35が接続される。ブロック24C、2
4E、24Gでは遅延素子34aが2個の遅延素子群3
4に対し、また、ブロック24F、24Hでは遅延素子
34aが1個の遅延素子群34に対してバッファ回路3
6及びフリップフロップ群35が夫々接続される。ま
た、ブロック24Iでは、遅延素子群34が無い状態
で、クロックネット33にバッファ回路36及びフリッ
プフロップ群35が接続される。Next, in the arrangement / wiring step A, in the arrangement step of step S43, elements corresponding to the delay element group 34 are arranged in each of the blocks 24A to 24I. That is, elements other than the delay element group 34 such as the flip-flop group 35 and the buffer circuit 36 are arranged for each of the blocks 24A to 24I. Further, in the wiring step of step S44, each element is connected by the clock net 33 as determined. As a result, as shown in FIG.
In 4A, a buffer circuit 36 and a flip-flop group 35 are connected to a group of four delay elements 34a, and in blocks 24B and 24D, three delay elements 34a are used.
A buffer circuit 36 and a flip-flop group 35 are connected to the delay element groups 34. Block 24C, 2
In 4E and 24G, the delay element 34a has two delay element groups 3
4 and in the blocks 24F and 24H, the delay circuit 34a
6 and the flip-flop group 35 are connected to each other. In the block 24I, the buffer circuit 36 and the flip-flop group 35 are connected to the clock net 33 without the delay element group 34.
【0035】次いで、ステップS45で、未配線状態の
箇所の有無をチェックする。この結果、未配線状態の箇
所が有れば、ステップS43に戻って配置工程及び配線
工程を繰り返し、未配線状態の箇所が無くなればステッ
プS46に進む。更に、ステップS46で、レイアウト
データに基づいて、マスクパターンのデータを作成す
る。Next, in step S45, it is checked whether there is any unwired portion. As a result, if there is an unwired state, the process returns to step S43 to repeat the arrangement process and the wiring process. If there is no unwired portion, the process proceeds to step S46. In step S46, mask pattern data is created based on the layout data.
【0036】以上のように、本第2実施形態例において
も、クロックスキュー低減処理B’を配置/配線工程A
から独立させているので、CADによってレイアウトデ
ータを作成する場合に、レイアウト設計に要する時間を
短縮させることができる。本実施形態例では更に、この
効果に加えて次のような効果を奏する。即ち、クロック
スキュー低減処理B’でクロックスキューを低減した後
に配置/配線工程Aを行うので、内部論理領域23が、
図6のように9つのブロック24A〜24Iに分割され
た場合には、最高で9つの遅延素子群34を配置すれば
足り、配置/配線工程Aにおける配線性や収容性に対す
る影響を少なくすることができる。As described above, also in the second embodiment, the clock skew reduction processing B 'is performed in the arrangement / wiring step A.
, The time required for layout design can be reduced when layout data is created by CAD. In the present embodiment, the following effect is further obtained in addition to this effect. That is, since the placement / wiring step A is performed after the clock skew is reduced by the clock skew reduction processing B ′, the internal logic area 23
In the case where the blocks are divided into nine blocks 24A to 24I as shown in FIG. 6, it is sufficient to arrange nine delay element groups 34 at the maximum, and the influence on the wiring property and the accommodation in the arrangement / wiring step A is reduced. Can be.
【0037】次に、図8〜図10を参照して本発明の第
3実施形態例を説明する。図8は、本実施形態例におけ
るLSIチップを作成するレイアウト方法の手順を示す
フローチャート、図9及び図10は、このレイアウト方
法によるLSIチップの作成過程を模式的に示す正面図
である。フローチャートに示すレイアウト処理は、CA
Dによって行われる。Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 8 is a flowchart showing a procedure of a layout method for producing an LSI chip according to the present embodiment, and FIGS. 9 and 10 are front views schematically showing an LSI chip production process by this layout method. The layout processing shown in the flow chart
D.
【0038】本実施形態例においても、クロックスキュ
ー低減処理の内容が、従来タイプにおけるクロックスキ
ュー低減処理とは異なる。これにより、クロックスキュ
ー低減処理を配置/配線工程から独立させて、配置/配
線工程の後に行うことができる。即ち、本実施形態例で
は、ステップS50で回路設計を行った後に、クロック
スキュー低減処理B”、配置/配線工程Aを順次に実行
する。Also in the present embodiment, the contents of the clock skew reduction processing are different from those of the conventional type. Thus, the clock skew reduction processing can be performed after the placement / wiring step independently of the placement / wiring step. That is, in the present embodiment, after the circuit design is performed in step S50, the clock skew reduction processing B ″ and the placement / wiring step A are sequentially performed.
【0039】配置/配線工程Aでは、ステップS51
で、内部論理領域23における各ブロック24A〜24
Iを予定する適所に、図9に示すように、遅延素子群3
4以外の要素であるフリップフロップ群35及びバッフ
ァ回路36を配置する。次いで、ステップS52で、定
められた通りに各要素間をクロックネット33によって
結線する。更に、ステップS53で、未配線状態の箇所
の有無をチェックし、未配線状態の箇所が有ればステッ
プS51に戻って配置工程及び配線工程を繰り返し、未
配線状態の箇所が無くなればクロックスキュー低減処理
B”に進む。In the arrangement / wiring process A, step S51
Thus, each of the blocks 24A to 24A in the internal logical area 23
As shown in FIG. 9, the delay element group 3
A flip-flop group 35 and a buffer circuit 36, which are elements other than 4, are arranged. Next, in step S52, each element is connected by the clock net 33 as determined. Further, in step S53, it is checked whether or not there is an unwired state. If there is an unwired state, the process returns to step S51 to repeat the placement step and the wiring step. If there are no unwired parts, the clock skew is reduced. Proceed to process B ".
【0040】クロックスキュー低減処理B”では、LS
Iチップ21の内部論理領域23を、図10に示すよう
に、面積が相互に等しい複数のブロック24A〜24I
に分割する(ステップS54)。次いで、外部入力端子
31に最も近接したブロック24Aを基準として、他の
ブロック24B〜24I毎にそのフリップフロップ群3
5に対する遅延値を算出する。更に、この算出結果に基
づいて、各ブロック24B〜24I間における遅延値が
等価になるように遅延素子34aの数を調整した遅延素
子群34を各ブロック24A〜24Iに挿入する(ステ
ップS55)。これにより、LSIチップ21は、第1
実施形態例における図4と同様の状態になる。次いで、
ステップS56で、レイアウトデータに基づいて、マス
クパターンのデータを作成する。In the clock skew reduction processing B ″, LS
As shown in FIG. 10, the internal logic region 23 of the I chip 21 is divided into a plurality of blocks 24A to 24I having the same area.
(Step S54). Next, based on the block 24A closest to the external input terminal 31, the flip-flop group 3 is set for each of the other blocks 24B to 24I.
5 is calculated. Further, based on the calculation result, the delay element group 34 in which the number of the delay elements 34a is adjusted so that the delay values between the blocks 24B to 24I are equivalent is inserted into each of the blocks 24A to 24I (step S55). As a result, the LSI chip 21
The state is the same as that of FIG. 4 in the embodiment. Then
In step S56, mask pattern data is created based on the layout data.
【0041】以上のように、本第3実施形態例において
も、クロックスキュー低減処理B”を配置/配線工程A
から独立させているので、CADによってレイアウトデ
ータを作成する場合に、レイアウト設計に要する時間を
短縮できる。本実施形態例では更に、この効果に加えて
次のような効果を奏する。即ち、配置/配線工程Aの終
了後に各ブロック24A〜24Iに遅延素子群34を挿
入するので、フリップフロップ群35を配置しないブロ
ックを認識し、遅延素子群34を配する必要がないブロ
ックを予め認識することが可能である。従って、必要な
ブロックのみに遅延素子群34を挿入することができる
ので、配置/配線工程Aにおいての配線性や収容性に対
する影響を少なくすることができる。As described above, also in the third embodiment, the clock skew reduction processing B ″ is performed in the arrangement / wiring step A.
, The time required for layout design can be reduced when layout data is created by CAD. In the present embodiment, the following effect is further obtained in addition to this effect. That is, since the delay element group 34 is inserted into each of the blocks 24A to 24I after the placement / wiring step A, the block in which the flip-flop group 35 is not disposed is recognized, and the block in which the delay element group 34 does not need to be disposed is determined in advance. It is possible to recognize. Therefore, since the delay element group 34 can be inserted only into a necessary block, it is possible to reduce the influence on the wiring property and the accommodation in the arrangement / wiring step A.
【0042】ところで、図11及び図13で説明したC
TSによる従来のレイアウト方法では、クロックネット
及びバッファ回路が増加すると共に、ツリー状に接続し
た各段又は各ブロックにおけるバッファ回路の負荷容量
が一致するようにクロックネット10を配線しなければ
ならなかった。このため、負荷容量が増大してクロック
信号の遅延量が増え、また、配線長が増大してレイアウ
トに必要な配線チャネルが不足する等の不都合があっ
た。これに対し、第1〜第3実施形態例で説明した本発
明のレイアウト方法によると、各段又は各ブロックにお
けるバッファ回路の負荷容量が一致するようにクロック
信号の配線を設ける必要がない。従って、クロックネッ
ト33をツリー状に構成する必要がないので、クロック
信号の配線に要する時間が通常のデータ信号等の配線と
同様の時間で済む共に、クロックネット33の配線長を
短縮し、クロック信号の遅延値の増加を必要最小限に抑
えることができる。By the way, C described in FIGS.
In the conventional layout method using the TS, the clock nets and the buffer circuits are increased, and the clock nets 10 must be wired so that the load capacity of the buffer circuits in each stage or each block connected in a tree shape matches. . For this reason, the load capacity is increased, the delay amount of the clock signal is increased, and the wiring length is increased, so that there are insufficient wiring channels required for the layout. On the other hand, according to the layout method of the present invention described in the first to third embodiments, it is not necessary to provide the wiring of the clock signal so that the load capacitance of the buffer circuit in each stage or each block matches. Therefore, since the clock net 33 does not need to be formed in a tree shape, the time required for wiring the clock signal is the same as the time required for the wiring of the normal data signal and the like, and the wiring length of the clock net 33 is shortened. The increase in the delay value of the signal can be minimized.
【0043】また、従来のレイアウト方法では、クロッ
クネット10がツリー状に接続されることによってクロ
ック供給先のフリップフロップ15が増加すると、接続
に必要なクロックネット10及びバッファ回路12a〜
12d、14が、通常の接続方法の約2倍以上に増大す
る。このため、バッファ回路の駆動時の消費電力も約2
倍以上に増加する。これに対し、本発明のレイアウト方
法は、クロックネット33をツリー状に構成する必要が
ないので、接続されるバッファ回路36の数を従来の半
分以下に抑えることが可能であり、消費電力を抑えるこ
とができる。In the conventional layout method, when the clock nets 10 are connected in a tree-like manner and the number of flip-flops 15 to which clocks are supplied increases, the clock net 10 and the buffer circuits 12a to 12c necessary for the connection are provided.
12d and 14 increase to about twice or more of the normal connection method. Therefore, the power consumption when driving the buffer circuit is about 2
More than double. On the other hand, in the layout method of the present invention, since the clock net 33 does not need to be configured in a tree shape, the number of connected buffer circuits 36 can be reduced to less than half of the conventional case, and power consumption is reduced. be able to.
【0044】以上、本発明をその好適な実施形態例に基
づいて説明したが、本発明の半導体集積回路のレイアウ
ト方法は、上記実施形態例にのみ限定されるものではな
く、上記実施形態例から種々の修正及び変更を施した半
導体集積回路のレイアウト方法も、本発明の範囲に含ま
れる。As described above, the present invention has been described based on the preferred embodiment. However, the layout method of the semiconductor integrated circuit of the present invention is not limited to only the above-described embodiment. Various modified and changed layout methods for a semiconductor integrated circuit are also included in the scope of the present invention.
【0045】[0045]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体集
積回路のレイアウト方法は、計算機援用設計によってレ
イアウトデータを作成する場合に、レイアウト設計に要
する時間を短縮させて、設計作業を効率化させることが
できるという顕著な効果を奏する。As described above, the layout method of a semiconductor integrated circuit according to the present invention shortens the time required for the layout design when the layout data is created by computer-aided design, and makes the design work more efficient. It has a remarkable effect that it can be performed.
【図1】本発明の第1実施形態例のLSIチップを模式
的に示す平面図である。FIG. 1 is a plan view schematically showing an LSI chip according to a first embodiment of the present invention.
【図2】第1実施形態例におけるLSIチップを作成す
るレイアウト方法の手順を示すフローチャートである。FIG. 2 is a flowchart illustrating a procedure of a layout method for creating an LSI chip according to the first embodiment;
【図3】第1実施形態例におけるレイアウト方法による
LSIチップの作成過程を模式的に示す正面図である。FIG. 3 is a front view schematically showing a process of manufacturing an LSI chip by a layout method in the first embodiment.
【図4】第1実施形態例におけるレイアウト方法による
LSIチップの作成過程を模式的に示す正面図である。FIG. 4 is a front view schematically showing a process of manufacturing an LSI chip by a layout method in the first embodiment.
【図5】本発明の第2実施形態例におけるLSIチップ
を作成するレイアウト方法の手順を示すフローチャート
である。FIG. 5 is a flowchart illustrating a procedure of a layout method for creating an LSI chip according to a second embodiment of the present invention.
【図6】第2実施形態例におけるレイアウト方法による
LSIチップの作成過程を模式的に示す正面図である。FIG. 6 is a front view schematically showing a process of manufacturing an LSI chip by a layout method according to a second embodiment.
【図7】第2実施形態例におけるレイアウト方法による
LSIチップの作成過程を模式的に示す正面図である。FIG. 7 is a front view schematically showing a process of manufacturing an LSI chip by a layout method according to a second embodiment.
【図8】本発明の第3実施形態例におけるLSIチップ
を作成するレイアウト方法の手順を示すフローチャート
である。FIG. 8 is a flowchart illustrating a procedure of a layout method for creating an LSI chip according to a third embodiment of the present invention.
【図9】第3実施形態例におけるレイアウト方法による
LSIチップの作成過程を模式的に示す正面図である。FIG. 9 is a front view schematically showing a process of manufacturing an LSI chip by a layout method according to the third embodiment.
【図10】第3実施形態例におけるレイアウト方法によ
るLSIチップの作成過程を模式的に示す正面図であ
る。FIG. 10 is a front view schematically showing a process of manufacturing an LSI chip by a layout method according to a third embodiment.
【図11】CTSによって配線した従来の論理集積回路
を示す模式図である。FIG. 11 is a schematic diagram showing a conventional logic integrated circuit wired by CTS.
【図12】図11で説明したLSIを作成する際のレイ
アウト方法を示すフローチャートである。FIG. 12 is a flowchart illustrating a layout method when creating the LSI described in FIG. 11;
【図13】公報に記載の従来の論理集積回路を示す模式
図である。FIG. 13 is a schematic diagram showing a conventional logic integrated circuit described in the official gazette.
【図14】図13で説明したLSIを作成する際のレイ
アウト方法を示すフローチャートである。FIG. 14 is a flowchart illustrating a layout method when the LSI described with reference to FIG. 13 is created.
21 半導体集積回路 23 内部論理領域 24A〜24I ブロック 31 入力端子 33 クロックネット 34 遅延素子群 34a 遅延素子 35 フリップフロップ群 36 バッファ回路 A 配置/配線工程 B、B’、B” クロックスキュー低減工程 Reference Signs List 21 semiconductor integrated circuit 23 internal logic area 24A to 24I block 31 input terminal 33 clock net 34 delay element group 34a delay element 35 flip-flop group 36 buffer circuit A arrangement / wiring step B, B ', B "clock skew reduction step
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G06F 17/50 H01L 21/82 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G06F 17/50 H01L 21/82
Claims (6)
タを作成する半導体集積回路のレイアウト方法におい
て、 半導体集積回路の内部論理領域に要素を配置する配置工
程と、 前記要素に対して所望の信号線を配線する配線工程と、 前記内部論理領域を面積が相互に略等しい複数のブロッ
クに分割し、該各ブロックに付属する遅延素子数の大小
によってクロック信号伝達時の遅延量を各ブロック毎に
調整してクロックスキューを低減するクロックスキュー
低減工程とを有することを特徴とする半導体集積回路の
レイアウト方法。1. A semiconductor integrated circuit layout method for creating layout data by computer-aided design, comprising: an arranging step of arranging an element in an internal logic area of the semiconductor integrated circuit; and wiring a desired signal line to the element. A wiring step; dividing the internal logic region into a plurality of blocks having substantially the same area as each other; adjusting the amount of delay in transmitting a clock signal for each block according to the number of delay elements attached to each block; And a clock skew reducing step of reducing a queue.
配置工程及び配線工程に後続し、 前記分割した各ブロックに、フリップフロップと該フリ
ップフロップに対応する遅延素子群とをグループ化して
配置する工程と、 半導体集積回路にクロック信号を供給する入力端子に最
も近接するブロックを基準にし該基準のブロックから離
れたブロックほど遅延量が低減する遅延値を算出し、該
算出結果に基づいて、前記遅延素子群に備えた遅延素子
数を調整する工程とを含むことを特徴とする請求項1に
記載の半導体集積回路のレイアウト方法。2. The clock skew reduction step, following the placement step and the wiring step, is a step of grouping and arranging a flip-flop and a delay element group corresponding to the flip-flop in each of the divided blocks. Calculating, with reference to a block closest to an input terminal for supplying a clock signal to the semiconductor integrated circuit, a delay value in which a delay amount is reduced as a block is further away from the reference block, and based on the calculation result, the delay element; 2. The method according to claim 1, further comprising the step of adjusting the number of delay elements provided in the group.
各ブロックに配置された遅延素子の内で不要な遅延素子
を配線パターンに置換する工程を更に含むことを特徴と
する請求項2に記載の半導体集積回路のレイアウト方
法。3. The semiconductor device according to claim 2, wherein the clock skew reduction step further includes a step of replacing an unnecessary delay element among the delay elements arranged in each of the blocks with a wiring pattern. Layout method for integrated circuits.
配置工程及び配線工程に先行し、 半導体集積回路にクロック信号を供給する入力端子に最
も近接するブロックを基準にし該基準のブロックから離
れたブロックほど遅延量が低減する遅延値を算出し、該
算出結果に基づいて遅延素子数を調整した遅延素子群を
各ブロックに配置する工程を含むことを特徴とする請求
項1に記載の半導体集積回路のレイアウト方法。4. The clock skew reduction step precedes the arranging step and the wiring step, and is based on a block closest to an input terminal for supplying a clock signal to the semiconductor integrated circuit, and the block farther from the reference block is set. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, further comprising: calculating a delay value that reduces the delay amount, and arranging a delay element group in which the number of delay elements is adjusted based on the calculation result in each block. Layout method.
低減工程で配置した前記遅延素子群と対応する要素を前
記各ブロックに配置する工程を含むことを特徴とする請
求項4に記載の半導体集積回路のレイアウト方法。5. The semiconductor integrated circuit according to claim 4, wherein said arranging step includes a step of arranging, in each of said blocks, an element corresponding to said delay element group arranged in said clock skew reducing step. Layout method.
配置工程及び配線工程に後続し、 半導体集積回路にクロック信号を供給する入力端子に最
も近接するブロックを基準にし該基準のブロックから離
れたブロックほど遅延量が低減する遅延値を算出し、該
算出結果に基づいて遅延素子数を調整した遅延素子群
を、前記各ブロックに配置した各要素間に挿入する工程
を含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回
路のレイアウト方法。6. The clock skew reduction step, which follows the placement step and the wiring step, sets a block closer to an input terminal for supplying a clock signal to the semiconductor integrated circuit as a reference, and moves to a block farther from the reference block. Calculating a delay value that reduces the delay amount, and inserting a delay element group in which the number of delay elements is adjusted based on the calculation result between the elements arranged in each of the blocks. 2. The layout method for a semiconductor integrated circuit according to item 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9227947A JP3028938B2 (en) | 1997-08-25 | 1997-08-25 | Layout method of semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9227947A JP3028938B2 (en) | 1997-08-25 | 1997-08-25 | Layout method of semiconductor integrated circuit |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1167921A JPH1167921A (en) | 1999-03-09 |
| JP3028938B2 true JP3028938B2 (en) | 2000-04-04 |
Family
ID=16868774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9227947A Expired - Fee Related JP3028938B2 (en) | 1997-08-25 | 1997-08-25 | Layout method of semiconductor integrated circuit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3028938B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000285144A (en) * | 1999-03-29 | 2000-10-13 | Agency Of Ind Science & Technol | Digital circuit and clock signal adjusting method thereof |
-
1997
- 1997-08-25 JP JP9227947A patent/JP3028938B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1167921A (en) | 1999-03-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7017132B2 (en) | Methodology to optimize hierarchical clock skew by clock delay compensation | |
| JP2938424B2 (en) | Layout compiling method and design system | |
| US20090189641A1 (en) | Integrated circuit device and layout design method therefor | |
| JPH08339236A (en) | Clock signal distribution circuit | |
| JP3420195B2 (en) | Clock wiring design method | |
| JP2003092352A (en) | Clock signal distributing circuit for semiconductor integrated circuit device | |
| JP2001357090A (en) | Logic synthesis method and logic synthesis device | |
| CN117764024A (en) | A clock tree comprehensive optimization method based on H-tree | |
| JPH07230485A (en) | Logic synthesis method and logic synthesis apparatus | |
| JP3028938B2 (en) | Layout method of semiconductor integrated circuit | |
| JP3165592B2 (en) | Data path automatic arrangement method and apparatus | |
| JPH113945A (en) | Clock tree design method of semiconductor integrated circuit and semiconductor integrated circuit by the same | |
| US7480886B2 (en) | VLSI timing optimization with interleaved buffer insertion and wire sizing stages | |
| US6373288B1 (en) | Method of implementing clock trees in synchronous digital electronic circuits, and a programmable delay buffer stage therefor | |
| US20060136854A1 (en) | Method for placement of pipeline latches | |
| JPH0793386A (en) | LSI packaging design system | |
| JP2596596B2 (en) | Logic circuit element placement method | |
| JP2872216B1 (en) | Macro design method | |
| US20250391450A1 (en) | Circuits And Methods For Systolic Memory | |
| JP2000029562A (en) | Semiconductor integrated circuit and clock supply circuit design method | |
| JP2685546B2 (en) | Method of manufacturing clock distribution circuit | |
| JP3184135B2 (en) | Layout method of semiconductor integrated circuit | |
| JP2888708B2 (en) | How to design logic circuits | |
| JP2908447B1 (en) | Layout method of semiconductor integrated circuit | |
| JP3221567B2 (en) | Semiconductor integrated circuit and clock supply method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080204 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090204 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100204 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |