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JP3031602B2 - Hole-filling ink for manufacturing copper through-hole printed wiring board and method of using the same - Google Patents
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JP3031602B2 - Hole-filling ink for manufacturing copper through-hole printed wiring board and method of using the same - Google Patents

Hole-filling ink for manufacturing copper through-hole printed wiring board and method of using the same

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JP3031602B2
JP3031602B2 JP14260594A JP14260594A JP3031602B2 JP 3031602 B2 JP3031602 B2 JP 3031602B2 JP 14260594 A JP14260594 A JP 14260594A JP 14260594 A JP14260594 A JP 14260594A JP 3031602 B2 JP3031602 B2 JP 3031602B2
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filling ink
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、銅スルーホールプリン
ト配線基板の製造工程で使用する孔埋めインク及びその
使用方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hole filling ink used in a process of manufacturing a copper through-hole printed wiring board and a method of using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、上記両面プリント配線基板の製造
方法としては、特開平04−62887号及び特開昭5
5−102290号等にも開示されるように、一般的
に、下記のような工程が採られる。すなわち、先ず両面
銅張積層板の所望個所にスルーホール用の孔を開け、こ
の孔部にスルーホールメッキ法により導通メッキ層を形
成すると共に表裏の導体パターンの電気的接続をするス
ルーホールを形成する。次に、このスルーホール内に溶
剤乾燥型の孔埋めインクを充填すると共にその孔埋めイ
ンクを溶剤の蒸発により硬化させ、或はスルーホール内
に紫外線硬化型の孔埋めインクを充填すると共にその孔
埋めインクを紫外線硬化させる。その後、上記積層板の
表裏に耐酸性インクにより所望のパターンを形成し、耐
酸性インクを硬化させた後、銅露出部分を塩化第二銅、
塩化第二鉄等の酸性エッチング液によりエッチング除去
し、さらにアルカリ水溶液により孔埋めインク及び耐酸
性インクを除去することにより両面プリント配線基板が
作成されるのである。
2. Description of the Related Art Conventionally, methods for manufacturing the above-mentioned double-sided printed wiring board are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos.
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-102290, the following steps are generally employed. That is, first, a hole for a through hole is formed at a desired position of the double-sided copper-clad laminate, a conductive plating layer is formed in the hole by a through-hole plating method, and a through hole for electrically connecting the front and back conductor patterns is formed. I do. Next, the through-hole is filled with a solvent-drying type filling ink and the filling ink is cured by evaporating the solvent, or the through-hole is filled with an ultraviolet-curing type filling ink and the hole is filled. The filling ink is cured by ultraviolet rays. Thereafter, a desired pattern is formed on the front and back of the laminate with an acid-resistant ink, and after the acid-resistant ink is cured, the exposed copper portion is cupric chloride,
The double-sided printed circuit board is prepared by etching away with an acidic etching solution such as ferric chloride and further removing the filling ink and the acid-resistant ink with an alkaline aqueous solution.

【0003】上記加工工程において使用される溶剤乾燥
型又は紫外線硬化型の孔埋めインクとしては種々のもの
が実用に供されている。
Various types of solvent-drying or ultraviolet-curing inks for filling holes used in the above-mentioned processing steps have been put to practical use.

【0004】しかしながら、溶剤乾燥型孔埋めインク
は、一般的には、硬化に要する時間が長い上に、その中
に含まれる溶剤の蒸発による体積収縮が20〜50%と
大きいためスルーホールエッジ部分の保護作用が不十分
となり、エッチング時にその部分がエッチングされてプ
リント配線基板の性能低下を生じ易い。
[0004] However, the solvent-drying type hole filling ink generally requires a long time for curing and has a large volume shrinkage of 20 to 50% due to evaporation of the solvent contained therein. Of the printed wiring board becomes insufficient and the performance of the printed wiring board is likely to be deteriorated.

【0005】一方、紫外線硬化型の孔埋めインクは、硬
化による体積収縮は小さいが、スルーホール深部におけ
る紫外線硬化反応を完結させるために十分な露光量を必
要とし、長時間露光を余儀なくされる。また、スルーホ
ールからの硬化物の除去に際して、アルカリ水溶液によ
る剥離、除去性が悪く、硬化物の一部がスルーホール内
壁に付着したまま残存する等、部品装着時のトラブルの
原因となる問題が生じ易い。
On the other hand, the ultraviolet curing type hole filling ink has a small volume shrinkage due to curing, but requires a sufficient exposure amount to complete the ultraviolet curing reaction in the deep part of the through hole, and necessitates long-time exposure. In addition, when removing the cured product from the through-hole, there is a problem that causes trouble when mounting components, such as poor peeling with an alkaline aqueous solution and removability, and a portion of the cured product remaining adhered to the inner wall of the through-hole. Easy to occur.

【0006】上記剥離、除去性の問題を解決するには、
紫外線硬化型孔埋めインク中に不活性固体粉末である体
質顔料や着色顔料等の充填剤を配合することが考えられ
るが、前述のように、本来的にスルーホール深部におけ
る硬化性に劣る紫外線硬化型孔埋めインクが上記充填剤
の配合によりさらに硬化困難なものとなる。特に酸化チ
タン等の着色顔料を使用した場合、実質的には紫外線硬
化型孔埋めインクとしての機能、効果を有さないため、
孔埋めインクとしての使用は不可能である。したがっ
て、現実に配合できる不活性固体粉末の種類もタルク、
微粉末シリカ等の紫外線透過性を有する体質顔料等であ
り、その配合量も限定されるため、孔埋めインクの硬化
工程後のバフ研磨等による不要な硬化部分の除去が容易
でなく、アルカリ剥離性の向上を図ることも困難であ
る。
In order to solve the above-mentioned problem of peeling and removability,
It is conceivable to add a filler such as an extender or a coloring pigment, which is an inert solid powder, to the UV-curable ink for filling the hole. The embedding ink becomes more difficult to cure by blending the above filler. In particular, when a coloring pigment such as titanium oxide is used, since it has substantially no function or effect as an ultraviolet curing type hole filling ink,
It cannot be used as a filling ink. Therefore, the type of inert solid powder that can be actually blended is talc,
It is an extender pigment having ultraviolet transmittance such as fine powder silica, etc., and its compounding amount is also limited. Therefore, it is not easy to remove unnecessary hardened portions by buffing or the like after the hardening process of the hole filling ink, and alkali peeling is performed. It is also difficult to improve the performance.

【0007】以上のような理由により、溶剤乾燥型、紫
外線硬化型のいずれの孔埋めインクも、近時におけるプ
リント回路基板のファインパターン化等に対応すべく要
求される孔埋めインクとしての性能の向上を十分達成で
きない状態となっていた。本発明者は、かかる従来の各
種孔埋めインクが有する問題点を解消すべく、特願平5
−151359号において熱重合反応を用いる孔埋めイ
ンクを提案した。この熱重合型孔埋めインクは、短時間
で硬化可能であり、溶剤等の蒸発による体積収縮が小さ
いためスルーホールの保護性に優れ、且つアルカリ水溶
液により容易に除去され得るという特徴を有する。しか
し、これとても、熱重合による硬化のみでは、酸素障害
による重合不良、熱重合過程における熱重合完了前のイ
ンク成分揮散による体積減少、及びスルーホールのエッ
ジのカバーリング機能の低下等により、スルーホールの
保護作用が完全とはいえないのが現状である。
[0007] For the above reasons, both the solvent-drying type and the ultraviolet-curing type hole-filling inks have the performance as hole-filling inks required to cope with the recent fine patterning of printed circuit boards. It was in a state where improvement could not be achieved sufficiently. The present inventor has made Japanese Patent Application No. Hei.
JP-151359 proposed a hole-filling ink using a thermal polymerization reaction. This thermopolymerization type hole filling ink is characterized in that it can be cured in a short time, has a small volume shrinkage due to evaporation of a solvent or the like, has excellent protection properties for through holes, and can be easily removed by an alkaline aqueous solution. However, this is very difficult to cure by thermal polymerization alone.Thus, due to poor polymerization due to oxygen damage, volume reduction due to volatilization of ink components before completion of thermal polymerization in the thermal polymerization process, and deterioration of the covering function of the edge of the through hole, etc. At present, the protection effect is not perfect.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、酸素
障害による重合不良がなく重合性に優れ、加熱時の揮発
成分の蒸発による体積収縮がなく、スルーホールの保護
性に優れ、しかもアルカリ水溶液により容易に除去する
ことができる銅スルーホールプリント配線基板製造用孔
埋めインク及びその使用方法を提供することにある。本
発明の別の課題は、孔埋めインクへの不活性固体粉末の
配合量を多くすることを可能とし、孔埋めインクの硬化
工程後にバフ研磨等により不要な硬化部分を容易に除去
することができる孔埋めインクを提供することにある。
本発明のさらに別の課題は、不活性固体粉末の中でも酸
化チタン等の着色顔料の配合を可能とし、特に回路基板
の孔埋め状態検査時において視認性を向上させることが
できる孔埋めインクを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide excellent polymerizability without polymerization failure due to oxygen damage, no volume shrinkage due to evaporation of volatile components during heating, excellent protection of through holes, and alkali. An object of the present invention is to provide a hole-filling ink for producing a copper through-hole printed wiring board which can be easily removed by an aqueous solution, and a method of using the same. Another object of the present invention is to make it possible to increase the amount of the inert solid powder to be added to the filling ink, and to easily remove unnecessary cured portions by buffing or the like after the curing process of the filling ink. It is an object of the present invention to provide an ink for filling holes.
Still another object of the present invention is to provide a hole-filling ink that enables the incorporation of a coloring pigment such as titanium oxide in an inert solid powder, and that can improve the visibility particularly when inspecting the hole-filling state of a circuit board. Is to do.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に係る銅スルーホ
ールプリント配線基板製造用孔埋めインクは、(A)下
記の一般式〔I〕又は〔II〕
According to the present invention, a hole filling ink for producing a copper through-hole printed wiring board according to the present invention comprises (A) the following general formula (I) or (II):

【0010】[0010]

【化3】 Embedded image

【0011】[0011]

【化4】 Embedded image

【0012】{式中、R1 は水素又はメチル基、R2
水素又は炭素数1〜4のアルキル基、Yは炭素数1〜4
のアルキレン基又は−(Cn2nO)P −CH2 −(式
中、nは2〜6の整数、pは1〜19の整数である。)
で表される基を示す。}で表わされるモノエステル化合
物1〜90重量%、(B)熱重合触媒0.01〜20重
量%及び(C)光重合触媒0.01〜20重量%を含有
してなるものである。
Wherein R 1 is hydrogen or a methyl group, R 2 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Y is 1 to 4 carbon atoms.
Alkylene group or a - (C n H 2n O) P -CH 2 - ( wherein, n an integer of 2 to 6, p is an 1-19 integer.)
Represents a group represented by 1 to 90% by weight of the monoester compound represented by}, (B) 0.01 to 20% by weight of a thermal polymerization catalyst, and (C) 0.01 to 20% by weight of a photopolymerization catalyst.

【0013】本発明に係る孔埋めインクの成分(A)と
して用いられる一般式〔I〕又は〔II〕で表わされるモ
ノエステル化合物としては、例えば、多価カルボン酸と
ビニル性不飽和基を有するアルコールのモノエステル化
物が挙げられる。
The monoester compound represented by the general formula [I] or [II] used as the component (A) of the hole filling ink according to the present invention includes, for example, a polycarboxylic acid and a vinyl unsaturated group. Alcohol monoesters may be mentioned.

【0014】上記多価カルボン酸としては、テトラヒド
ロフタル酸、3−メチルテトラヒドロフタル酸、4−メ
チルテトラヒドロフタル酸、3−エチルテトラヒドロフ
タル酸、4−エチルテトラヒドロフタル酸、3−プロピ
ルテトラヒドロフタル酸、4−プロピルテトラヒドロフ
タル酸、3−ブチルテトラヒドロフタル酸、4−ブチル
テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、3−メ
チルヘキサヒドロフタル酸、4−メチルヘキサヒドロフ
タル酸、3−エチルヘキサヒドロフタル酸、4−エチル
ヘキサヒドロフタル酸、3−プロピルヘキサヒドロフタ
ル酸、4−プロピルヘキサヒドロフタル酸、3−ブチル
ヘキサヒドロフタル酸及び4−ブチルヘキサヒドロフタ
ル酸等を例示することができる。これらの中で特に好ま
しいのは、テトラヒドロフタル酸、3−メチルテトラヒ
ドロフタル酸、4−メチルテトラヒドロフタル酸、ヘキ
サヒドロフタル酸、3−メチルヘキサヒドロフタル酸及
び4−メチルヘキサヒドロフタル酸である。
As the above polycarboxylic acid , tetrahydric
Lophthalic acid , 3-methyltetrahydrophthalic acid, 4-methyltetrahydrophthalic acid , 3- ethyltetrahydrophthalic acid , 4- ethyltetrahydrophthalic acid , 3- propyltetrahydrophthalic acid , 4- propyltetrahydrophthalic acid , 3- butyltetrahydrophthalic acid Acid, 4-butyltetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, 3-methylhexahydrophthalic acid, 4-methylhexahydrophthalic acid, 3-ethylhexahydrophthalic acid, 4-ethylhexahydrophthalic acid, 3-propylhexa Examples thereof include hydrophthalic acid, 4-propylhexahydrophthalic acid, 3-butylhexahydrophthalic acid, and 4-butylhexahydrophthalic acid. Particularly preferred among these are tetrahydrophthalic acid, 3-methyltetrahydrophthalic acid, 4-methyltetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, 3-methylhexahydrophthalic acid and 4-methylhexahydrophthalic acid.

【0015】上記ビニル性不飽和基を有するアルコール
としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2
−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ポリエチレ
ングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレ
ングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリブチレン
グリコールモノ(メタ)アクリレート及びポリカプロラ
クトンモノ(メタ)アクリレート等のビニル単量体を例
示することができる。
Examples of the alcohol having a vinyl unsaturated group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate,
-Examples of vinyl monomers such as hydroxybutyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polybutylene glycol mono (meth) acrylate and polycaprolactone mono (meth) acrylate Can be.

【0016】上記成分(A)のモノエステル化合物は、
常法での種々の合成法により合成可能であるが、特に上
記多価カルボン酸の無水物とビニル単量体との開環付加
反応によって容易に得ることができる。成分(A)の配
合量は孔埋めインク全体に対して1〜90重量%であ
り、これが1重量%未満ではアルカリ水溶液による孔埋
めインクの除去性が低下し、また90重量%を越えると
粘度上昇のためスルーホールへの孔埋めインクの充填が
困難になる。成分(A)の配合量の特に好ましい範囲
は、5〜50重量%である。
The monoester compound of the component (A) is
Although it can be synthesized by various conventional synthesis methods, it can be easily obtained by a ring-opening addition reaction between the above-mentioned polycarboxylic acid anhydride and a vinyl monomer. The compounding amount of the component (A) is from 1 to 90% by weight based on the entire filling ink. When the amount is less than 1% by weight, the removability of the filling ink with an alkaline aqueous solution is deteriorated. Due to the rise, it is difficult to fill the through-hole with the filling ink. A particularly preferred range for the amount of component (A) is 5 to 50% by weight.

【0017】また、本発明に係る孔埋めインクの成分
(B)である熱重合触媒には、熱ラジカル重合を開始さ
せることができる触媒が用いられが、配合後の貯蔵安定
性のよいことが要求される。
A catalyst capable of initiating thermal radical polymerization is used as the thermal polymerization catalyst which is the component (B) of the pore-filling ink according to the present invention. Required.

【0018】上記熱重合触媒として、例えば、ハイドロ
パーオキサイド類のジイソプロピルベンゼンハイドロパ
ーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド、t−
ブチルハイドロパーオキサイド、及びジアルキルパーオ
キサイド類のジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチ
ル−2,5−ジ−(t−ブチルパーオキシ)−ヘキサ
ン、1,3−ビス−(t−ブチルパーオキシイソプロピ
ル)−ベンゼン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ
−t−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,
5−ジ−(t−ブチルパーオキシ)−ヘキシン−3、及
びジアシルパーオキサイド類のイソブチリルパーオキサ
イド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ラ
ウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、
アセチルパーオキサイド、及びケトンパーオキサイド類
のメチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチ
ルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサ
イド、アセチルアセトンパーオキサイド、及びアルキル
パーエステル類のt−ブチルパーオキシビバレート、t
−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−
ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサエー
ト、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパー
オキシベンゾエート、及びパーオキシジカーボネート類
のジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−
エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジイソプロ
ピルパーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパ
ーオキシジカーボネート、及びアゾ化合物類としてアゾ
ビスイソブチロニトリル、アゾビスシアノバレロニトリ
ル、1,1′−アゾビス(シクロヘキセン−1−カルボ
ニトリル)、2,2′−アゾビス{2−メチル−N−
(2−ヒドロキシエチル)−プロピオンアミド}等が挙
げられ、これらは単独又は二種以上を任意の割合で使用
することができる。
Examples of the thermal polymerization catalyst include hydroperoxides such as diisopropylbenzene hydroperoxide, cumene hydroperoxide, t-
Butyl hydroperoxide and dicumyl peroxide of dialkyl peroxides, 2,5-dimethyl-2,5-di- (t-butylperoxy) -hexane, 1,3-bis- (t-butylperoxy) Isopropyl) -benzene, t-butylcumyl peroxide, di-t-butylperoxide, 2,5-dimethyl-2,
5-di- (t-butylperoxy) -hexyne-3 and diacyl peroxides such as isobutyryl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide;
Acetyl peroxide and ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, methyl isobutyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, and t-butyl peroxyvivalate of alkyl peresters, t
-Butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-
Butylperoxy-3,5,5-trimethylhexaate, t-butylperoxyacetate, t-butylperoxybenzoate, and diisopropyl peroxydicarbonates such as peroxydicarbonates, di-2-
Ethylhexyl peroxydicarbonate, diisopropylperoxydicarbonate, di-sec-butylperoxydicarbonate, and azo compounds such as azobisisobutyronitrile, azobiscyanovaleronitrile, 1,1′-azobis (cyclohexene-1 -Carbonitrile), 2,2'-azobis {2-methyl-N-
(2-hydroxyethyl) -propionamide} and the like, and these can be used alone or in any combination of two or more kinds.

【0019】成分(B)の配合量は孔埋めインク全体に
対して0.01〜20重量%であり、これが0.01%
未満では熱ラジカル重合性が著しく低下し、また20重
量%を越えると耐エッチング性が低下する。
The compounding amount of the component (B) is 0.01 to 20% by weight based on the whole filling ink,
When the amount is less than the above, the thermal radical polymerizability is remarkably reduced, and when it exceeds 20% by weight, the etching resistance is lowered.

【0020】本発明に係る孔埋めインクの成分(C)で
ある光重合開始剤として、可視、近視外又は紫外光線照
射後の光化学反応によってラジカル或はルイス酸を発生
する通常の化合物を使用することができるが、作業性等
を考慮すると紫外光領域に分光感度の高いものが好まし
い。
As the photopolymerization initiator, which is the component (C) of the pore-filling ink according to the present invention, an ordinary compound that generates a radical or Lewis acid by a photochemical reaction after irradiation with visible, myopic or ultraviolet rays is used. However, in consideration of workability and the like, those having high spectral sensitivity in the ultraviolet region are preferable.

【0021】ラジカル重合反応を誘起する化合物とし
て、ベンゾフェノン類、ビシナルケトン類、例えばジア
セチル、ベンジル、α−ピリジル、及びアシロイン類、
例えばピバロイン、α−ピリドイン、及びベンゾイン
類、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエー
テル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチ
ルケタール、及びアセトフェノン類、例えば4−フェノ
キシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロ
ロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、及びチ
オキサントン系、例えば2,4−ジエチルチオキサント
ン、2,4−ジメチルチオキサントン、2−クロルチオ
キサントン、2−メチルチオキサントン、イソプロピル
チオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、
2,4−ジプロピルチオキサントン等のチオキサントン
誘導体、及びアントラキノン類、例えばエチルアントラ
キノン、ベンズアントラキノン、ジアミノアントラキノ
ン、及びこれらの他にもカンファーキノン、4,4′−
ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、ジベンゾスベ
ロン、4,4′−ジエチルイソフタロフェノン、2−メ
チル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モル
フォリノ−プロパン−1−オン、アシルホスフィンオキ
サイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル
ホスフィンオキシドを挙げることができる。これらの中
でも、特にベンゾフェノン類、チオキサントン及びその
誘導体、アントラキノン類が好ましい。上記化合物は、
単独或は2種以上の混合物として用いることができる。
Compounds that induce a radical polymerization reaction include benzophenones, vicinal ketones such as diacetyl, benzyl, α-pyridyl, and acyloin;
For example, pivaloin, α-pyridoin, and benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl dimethyl ketal, and acetophenones such as 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl -Dichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, and thioxanthones, such as 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone,
Thioxanthone derivatives such as 2,4-dipropylthioxanthone, and anthraquinones such as ethylanthraquinone, benzanthraquinone, diaminoanthraquinone, and camphorquinone, 4,4'-
Bis (dimethylamino) benzophenone, dibenzosuberone, 4,4′-diethylisophthalophenone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, acylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide can be mentioned. Among these, benzophenones, thioxanthone and its derivatives, and anthraquinones are particularly preferred. The compound is
They can be used alone or as a mixture of two or more.

【0022】また、カチオン重合反応を誘起させる光重
合開始剤としては、アリールジアゾニウム、ジアリール
ハロニウム、トリフェニルホスホニウム、ジアルキル−
4−ヒドロキシスルホニウム、ジアルキル−4−ヒドロ
キシジフェニルスルホニウム、アレン−鉄錯体等のPF
6 -、As F6 -、BF4 -、Sb F6 -塩等を挙げることがで
きる。
The photopolymerization initiator that induces the cationic polymerization reaction includes aryldiazonium, diarylhalonium, triphenylphosphonium, dialkyl-
PF such as 4-hydroxysulfonium, dialkyl-4-hydroxydiphenylsulfonium, and allene-iron complex
6 -, As F 6 -, BF 4 -, Sb F 6 - can be exemplified salts.

【0023】また、それ自体は紫外線照射により活性化
はしないが、光開始剤と併用されると光重合開始反応を
促進するアミン系光開始助剤等も併せて用いることがで
きる。そのような光開始助剤として、主に脂肪族、芳香
族アミンが使用され、例えば、トリエチレンテトラミ
ン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミ
ン、トリイソプロパノールアミン、n−ブチルアミン、
N−メチルジエタノールアミン、ジエチルアミノエチル
メタアクリレート、ミヒラーケトン、4、4′−ジエチ
ルアミノフェノン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル、4−ジメチルアミノ安息香酸(n−ブトキシ)エチ
ル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等を挙げる
ことができる。これらの中でも特にミヒラーケトン、
4、4′−ジエチルアミノフェノン、4−ジメチルアミ
ノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸(n−
ブトキシ)エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソア
ミル等の芳香族アミンが好ましい。
Although it is not activated itself by irradiation with ultraviolet rays, an amine-based photoinitiating assistant which promotes a photopolymerization initiation reaction when used in combination with a photoinitiator can also be used. As such photoinitiating aids, mainly aliphatic and aromatic amines are used, for example, triethylenetetramine, triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, n-butylamine,
N-methyldiethanolamine, diethylaminoethyl methacrylate, Michler's ketone, 4,4'-diethylaminophenone, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate (n-butoxy), isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, etc. Can be mentioned. Among these, Michler's ketone,
4,4'-diethylaminophenone, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid (n-
Aromatic amines such as butoxy) ethyl and isoamyl 4-dimethylaminobenzoate are preferred.

【0024】成分(C)の配合量は孔埋めインク全体に
対して0.01〜20重量%であり、これが0.01%
未満では露光時における孔埋めインクの表面硬化性が著
しく低下し、また20重量%を越えると耐エッチング性
が低下する。
The compounding amount of the component (C) is 0.01 to 20% by weight based on the whole hole filling ink,
If the amount is less than the above, the surface curability of the hole filling ink at the time of exposure is significantly reduced, and if it exceeds 20% by weight, the etching resistance is reduced.

【0025】本発明に係る孔埋めインクの成分(D)と
しては、例えば体質顔料や着色顔料としてタルク、シリ
カ、水酸化アルミニウム、酸化チタン、硫酸バリウム、
カオリン、炭酸カルシウム、フタロシアニン等、有機重
合体微粒子としてポリエチレン、ナイロン、ポリエステ
ル等、揺変剤としてアエロジル等の不活性固体粉末を挙
げることができる。
As the component (D) of the hole filling ink according to the present invention, for example, talc, silica, aluminum hydroxide, titanium oxide, barium sulfate,
Organic polymer fine particles such as kaolin, calcium carbonate, phthalocyanine and the like can be mentioned as polyethylene, nylon, polyester and the like, and an inert solid powder such as Aerosil as a thixotropic agent can be mentioned.

【0026】これらを配合することにより、孔埋めイン
クがスルーホール内に充填される場合の充填性及び充填
状態を向上させる等の充填剤としての一般的目的が達成
されるが、本発明ではさらに、孔埋めインクの硬化後に
おける硬化物の機械研磨性が良好になり、また硬化物の
アルカリ剥離性が向上して、最終工程におけるスルーホ
ールからの孔埋めインクの硬化物の除去に際して硬化物
がスルーホール内壁への残存なしに完全に除去され、部
品装着時のトラブル等が防止される。
By blending these, the general purpose as a filler, such as improving the filling property and filling state when filling the hole filling ink into the through-holes, is achieved. The mechanical polishing property of the cured product after curing of the hole filling ink is improved, and the alkali releasability of the cured product is improved, and the cured product is removed when the cured material of the hole filling ink is removed from the through hole in the final step. It is completely removed without remaining on the inner wall of the through-hole, and trouble at the time of mounting components is prevented.

【0027】上記成分(D)として、必要であれば、紫
外線に対し実質的に不透明な不活性固体粉末を配合する
ことも可能である。
If necessary, an inert solid powder which is substantially opaque to ultraviolet rays can be blended as the component (D).

【0028】従来の紫外線硬化型の孔埋めインクにおい
ては、不活性固体粉末を配合するとスルーホール深部の
硬化性が低下することから、この硬化性低下を許容範囲
に抑えるため、現実には体質顔料をしかも少量に限定し
て配合するしかなかった。特に、酸化チタン等の着色顔
料を使用した場合、スルーホール内に充填された孔埋め
インクの硬化はごく表層のみに留まり、実質的には紫外
線硬化型孔埋めインクとしての作用、効果を有さないた
め、孔埋めインクとしての使用は不可能である。
In the conventional ultraviolet-curable ink for filling pores, the incorporation of an inert solid powder reduces the curability of the deep part of the through-hole. Was limited to a small amount. In particular, when a coloring pigment such as titanium oxide is used, the curing of the hole filling ink filled in the through-holes is limited to only the surface layer, and has substantially the function and effect as the ultraviolet curing type hole filling ink. Therefore, it cannot be used as a hole filling ink.

【0029】本発明において紫外線に対し実質的に不透
明とは、形成された孔埋めインクの硬化前又は硬化後の
被膜の紫外線透過性が極めて低いことを意味する。この
ように紫外線に対し実質的に不透明な不活性固体粉末の
例としては、例えば酸化チタン、亜鉛華、硫化亜鉛、酸
化アンチモン、カーボンブラック、グラファイト、クロ
ムイエロー等の着色顔料を挙げることができる。これら
の着色顔料を配合した場合、スルーホールの孔埋め状態
の目視検査時における視認性を良好なものとすることが
できる。かかる目的には、上記着色顔料の中でも特に優
れた視認性を有する白色顔料として、紫外線に対し実質
的に不透明な酸化チタンが好適に使用される。
In the present invention, "substantially opaque to ultraviolet light" means that the coating before or after curing of the formed pore-filling ink has extremely low ultraviolet transmittance. Examples of the inert solid powder that is substantially opaque to ultraviolet light include coloring pigments such as titanium oxide, zinc white, zinc sulfide, antimony oxide, carbon black, graphite, and chrome yellow. When these coloring pigments are blended, the visibility at the time of visual inspection of the filled state of the through holes can be improved. For this purpose, titanium oxide which is substantially opaque to ultraviolet rays is preferably used as a white pigment having particularly excellent visibility among the above-mentioned coloring pigments.

【0030】成分(D)は、本発明の孔埋めインクに必
要に応じて配合され、その配合量は特に限定されるわけ
ではないが、好適な範囲は孔埋めインク全体に対して5
〜90重量%であり、これが5重量%未満では硬化物の
機械研磨性が向上せず、また90重量%を越えると粘度
上昇のためスルーホールへの孔埋めインクの充填が困難
となる。
The component (D) is blended in the hole-filling ink of the present invention as required, and the amount thereof is not particularly limited, but a preferable range is 5 to the entire hole-filling ink.
When the content is less than 5% by weight, the mechanical polishing property of the cured product is not improved, and when the content exceeds 90% by weight, the filling of the through-hole filling ink into the through holes becomes difficult due to an increase in viscosity.

【0031】本発明に係る孔埋めインクの成分(E)と
して用いられる樹脂は、フェノール樹脂、クレゾール樹
脂又は酸価50〜500のロジン系樹脂であり、これら
の樹脂は単独若しくは二種以上を任意の割合で併せて使
用することができる。上記樹脂中、フェノール樹脂及び
クレゾール樹脂についてはノボラック型のものが好まし
い。なお、レゾール型樹脂や他のアルキルフェノール樹
脂はアルカリ水溶液による除去性に劣るので本成分とし
ては好ましくないが、補助的に用いることは可能であ
る。
The resin used as the component (E) of the hole filling ink according to the present invention is a phenol resin, a cresol resin, or a rosin resin having an acid value of 50 to 500. These resins may be used alone or in combination of two or more. Can be used together. Among the above resins, a novolak type phenol resin and a cresol resin are preferable. In addition, resole type resins and other alkylphenol resins are not preferable as this component because they are inferior in the removability with an aqueous alkali solution, but can be used supplementarily.

【0032】ロジン系樹脂としては、天然樹脂のガムロ
ジン、ウッドロジン、化学変性した水添ロジン、重合ロ
ジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノー
ル樹脂等が挙げられる。これらのロジン系樹脂の軟化点
は60℃以上であることが好ましく、これが60℃未満
では硬化した孔埋めインクがエッチング時に軟化し、ス
ルーホールの保護作用が低下し易い。軟化点が特に80
℃以上の場合に最適の保護効果が得られる。また、酸価
は50〜500でなければならず、これが50未満では
アルカリ水溶液による除去性が低下し、また500を越
えるとエッチング液に対する耐酸性が低下し、エッチン
グ時におけるスルーホールの保護作用が低下する。この
点から、特に好ましい酸価の範囲は100〜400であ
る。
Examples of the rosin resin include natural resins such as gum rosin, wood rosin, chemically modified hydrogenated rosin, polymerized rosin, rosin modified maleic resin, and rosin modified phenol resin. The softening point of these rosin-based resins is preferably 60 ° C. or higher. If the softening point is lower than 60 ° C., the cured filling ink is softened at the time of etching, and the protective effect of the through-hole is likely to be reduced. Especially softening point of 80
The optimum protection effect is obtained when the temperature is higher than ℃. Further, the acid value must be 50 to 500. When the acid value is less than 50, the removability by an alkaline aqueous solution is reduced. When the acid value is more than 500, acid resistance to an etching solution is reduced, and the protective effect of a through hole during etching is reduced. descend. In this respect, a particularly preferred acid value range is 100 to 400.

【0033】成分(E)は、本発明の孔埋めインクに必
要に応じて配合され、これを配合することによりアルカ
リ水溶液による孔埋めインクの除去性を向上させること
ができる。その配合量は特に限定されるわけではない
が、孔埋めインク全体に対して70重量%以下であるこ
とが好ましく、これが70重量%を越えると粘度上昇の
ためにスルーホールへの孔埋めインクの充填が困難にな
る。
The component (E) is blended in the hole-filling ink of the present invention as needed, and by blending the component (E), the removability of the hole-filling ink with an alkaline aqueous solution can be improved. The blending amount is not particularly limited, but is preferably 70% by weight or less based on the whole of the hole filling ink. If the amount exceeds 70% by weight, the viscosity of the hole filling ink is increased to fill the through hole. Filling becomes difficult.

【0034】本発明に係る孔埋めインクには、必要に応
じて、成分(A)のモノエスエル化合物以外のビニル単
量体をさらに加えることができる。このような不飽和化
合物として、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、セロソルブ(メタ)アクリレート、メチルセロソ
ルブ(メタ)アクリレート、ブチルセロソルブ(メタ)
アクリレート、カルビトール(メタ)アクリレート、メ
チルカルビトール(メタ)アクリレート、ブチルカルビ
トール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メ
タ)アクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)ア
クリレート、ジシクロペンタジエニルオキシエチル(メ
タ)アクリレート、酢酸ビニル、N−ビニルピロリド
ン、(メタ)アクリルアマイド、テトラヒドロフルフリ
ル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、ポリカプロラクトンモノ(メ
タ)アクリレート、フェニルグリシジルエーテル(メ
タ)アクリル酸付加物等の単官能性ビニル単量体、及び
ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリ
プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリブ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリカプロ
ラクトンジ(メタ)アクリレート等の2官能性ビニル単
量体等が挙げられる。この成分の配合量は孔埋めインク
全体に対して50重量%以下であることが好ましく、5
0重量%を越えて用いるとアルカリ水溶液による除去性
を低下させる傾向が生じる。
The hole-filling ink according to the present invention may further contain, if necessary, a vinyl monomer other than the component (A). Examples of such unsaturated compounds include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, cellosolve (meth) acrylate, methyl cellosolve (meth) acrylate, and butyl cellosolve (meth).
Acrylate, carbitol (meth) acrylate, methyl carbitol (meth) acrylate, butyl carbitol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate, dicyclopentadienyloxyethyl ( (Meth) acrylate, vinyl acetate, N- vinyl pyrrolide
, (Meth) acrylamide , tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polybutylene glycol mono (meth) acrylate, polycaprolactone mono (meth) acrylate, phenyl Monofunctional vinyl monomers such as glycidyl ether (meth) acrylic acid adduct, and polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, polybutylene glycol di (meth) acrylate, polycaprolactone di (meth) ) Bifunctional vinyl monomers such as acrylates. The compounding amount of this component is preferably 50% by weight or less based on the whole pore filling ink.
When used in excess of 0% by weight, there is a tendency that the removability with an aqueous alkali solution is reduced.

【0035】本発明に係る孔埋めインクには、またシラ
ンカップリング剤等の密着性付与剤、消泡剤、レベリン
グ剤等の各種添加剤、或はハイドロキノン、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ターシャリー
ブチルカテコール及びフェノチアジン等の重合禁止剤、
さらに分散安定性を向上させるために界面活性剤や高分
子分散剤等を加えてもよい。
The ink for filling pores according to the present invention may further include an adhesive agent such as a silane coupling agent, various additives such as an antifoaming agent and a leveling agent, or hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, pyrogallol, and tertiary butyl. Polymerization inhibitors such as catechol and phenothiazine,
In order to further improve the dispersion stability, a surfactant, a polymer dispersant, or the like may be added.

【0036】本発明に係る孔埋めインクは、上記の各配
合成分及び添加剤等を例えば三本ロール、ボールミル、
サンドミル又はミキサー等を単独に又は組み合わせて使
用し、公知の方法により混練することにより調製するこ
とができる。また、上記孔埋めインクは、公知の露光方
法により予備硬化が可能であり、また公知の熱硬化方法
により熱重合させることができる。
The hole-filling ink according to the present invention comprises the above-mentioned components and additives, for example, a three-roll, ball mill,
It can be prepared by using a sand mill or a mixer alone or in combination and kneading by a known method. The hole filling ink can be pre-cured by a known exposure method, and can be thermally polymerized by a known thermosetting method.

【0037】図1(A)〜(E)は本発明に係る孔埋め
インクの使用方法の一具体例を示す要部断面図である。
FIGS. 1A to 1E are cross-sectional views of a main part showing a specific example of a method of using the hole filling ink according to the present invention.

【0038】同図(A)に示すように、エポキシ樹脂、
ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂等からなる絶縁基板
1やその上下両面に銅箔を被着した銅張積層板、アルミ
ニウム、鉄等の金属をエポキシ樹脂等で絶縁処理した金
属系絶縁基板或はセラミック基板等、通常のプリント配
線基板に用いられている材料からなる絶縁基板1には、
その両面及びそれに設けられたスルーホール2内壁に無
電解銅メッキ又は無電解銅メッキと電解銅メッキとの併
用により銅メッキ層3が形成される。
As shown in FIG.
Insulating substrate 1 made of polyimide resin, polyester resin, etc., copper-clad laminates with copper foil adhered on both upper and lower surfaces, metal-based insulating substrate or ceramic substrate in which metals such as aluminum and iron are insulated with epoxy resin or the like The insulating substrate 1 made of a material used for a normal printed wiring board includes:
A copper plating layer 3 is formed on both surfaces and on the inner wall of the through hole 2 provided therein by electroless copper plating or a combination of electroless copper plating and electrolytic copper plating.

【0039】次に、同図(B)に示すように、スルーホ
ール2内に、エッチング液からその内壁を保護するため
に本発明の係る孔埋めインク4が浸漬充填法、スクリー
ン印刷充填法、ピン充填法、ロール充填法等により充填
される。続いて、この基板を高圧水銀灯、メタルハライ
ドランプ等を用い、片面当たり50〜2000mJの光
量にて両面を露光することで、表面を好ましくは5μm
以上の厚さで予備硬化させ、さら80〜150℃で5分
〜2時間加熱重合させる。
Next, as shown in FIG. 3B, the hole filling ink 4 according to the present invention is immersed in the through-hole 2 to protect the inner wall thereof from an etching solution, a screen printing filling method, and the like. It is filled by a pin filling method or a roll filling method. Subsequently, this substrate is exposed to light on both sides thereof using a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like at a light amount of 50 to 2,000 mJ per side, so that the surface is preferably 5 μm.
Pre-curing is carried out at the above thickness, and the composition is heated and polymerized at 80 to 150 ° C. for 5 minutes to 2 hours.

【0040】この際、スルーホール2内の孔埋めインク
4は、プリント配線基板の厚みを越えることなくスルー
ホール2内体積の約90〜100%の充填率となる。こ
のため、銅メッキ層3表面の孔埋めインク4は、後工程
における機械研磨に際して低研磨圧で容易に除去され、
銅メッキ層3及びスルーホールエッジ部2aにおける孔
埋めインク4の欠けも発生せず、上記機械研磨によって
も孔埋めインク4の充填率は90〜100%に保持され
ることが可能である。
At this time, the filling ink 4 in the through hole 2 has a filling rate of about 90 to 100% of the volume in the through hole 2 without exceeding the thickness of the printed wiring board. For this reason, the hole filling ink 4 on the surface of the copper plating layer 3 is easily removed at a low polishing pressure during mechanical polishing in a later step,
Chipping of the hole filling ink 4 in the copper plating layer 3 and the through hole edge portion 2a does not occur, and the filling rate of the hole filling ink 4 can be maintained at 90 to 100% even by the mechanical polishing.

【0041】次に、同図(C)に示すように、機械研磨
後の銅メッキ層3表面にエッチングレジスト層5が所望
パターンで形成され、これには、例えばスクリーン印刷
用エッチングレジストインクが用いられる。本発明に係
る孔埋めインク4を用いた場合は、スルーホール2内の
孔埋めインク4の平坦化が優れているため、スルーホー
ル2開口部及びその周辺部に所望の配線パターンを精度
よく均一に印刷することが可能である。なお、スクリー
ン印刷用エッチングレジストインクの他に、ドライフィ
ルムレジスト、電着レジスト、液状レジスト等を使用す
ることにより、エッチングレジスト層5を形成すること
も可能である。
Next, as shown in FIG. 3C, an etching resist layer 5 is formed in a desired pattern on the surface of the copper plating layer 3 after the mechanical polishing, and for example, an etching resist ink for screen printing is used. Can be When the hole filling ink 4 according to the present invention is used, the flattening of the hole filling ink 4 in the through hole 2 is excellent, so that a desired wiring pattern can be precisely and uniformly formed on the opening of the through hole 2 and its peripheral portion. Can be printed. The etching resist layer 5 can be formed by using a dry film resist, an electrodeposition resist, a liquid resist, or the like in addition to the etching resist ink for screen printing.

【0042】続いて、同図(D)に示すように、エッチ
ング工程において銅露出部分がエッチング液によりエッ
チング除去される。エッチング液には塩化第二鉄液、塩
化第二銅液等の酸性エッチング液が使用される。
Subsequently, as shown in FIG. 3D, in the etching step, the copper exposed portions are removed by etching with an etching solution. As the etching solution, an acidic etching solution such as a ferric chloride solution and a cupric chloride solution is used.

【0043】最後に、同図(E)に示すように、苛性ソ
ーダ、苛性カリ、メタケイ酸ソーダ等の無機アルカリ性
物質の水溶液、すなわちアルカリ水溶液により、エッチ
ングレジスト層5及び孔埋めインク4が溶解除去され、
目的とする銅スルーホールプリント配線基板が得られ
る。
Finally, as shown in FIG. 5E, the etching resist layer 5 and the hole filling ink 4 are dissolved and removed by an aqueous solution of an inorganic alkaline substance such as caustic soda, caustic potash, and sodium metasilicate, that is, an alkaline aqueous solution.
An intended copper through-hole printed wiring board is obtained.

【0044】なお、上記使用方法における各種条件及び
工程等は例示的なものであり、本発明を限定するもので
はない。
It should be noted that the various conditions, steps, and the like in the above method of use are illustrative, and do not limit the present invention.

【0045】[0045]

【実施例】以下に、合成例、実施例及び比較例を示して
本発明を具体的に説明するが、本発明はそれらの実施例
に限定されるものではない。なお、以下に使用される部
及び%は、全て重量基準である。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Synthesis Examples, Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples. All parts and percentages used below are based on weight.

【0046】〔合成例1〕 ヘキサヒドロフタル酸無水物154g(1モル)2−
ヒドロキシエチルアクリレート116g(1モル)
N,N−ジメチルベンジルアミン0.1g及びヒドロキ
ノンモノメチルエーテル0.1gの存在下、公知の開環
付加反応により反応させてモノエステル化合物(A−
1)を得た。
Synthesis Example 1 154 g (1 mol) of hexahydrophthalic anhydride and 2-
116 g (1 mol) of hydroxyethyl acrylate was
Known ring opening in the presence of 0.1 g of N, N-dimethylbenzylamine and 0.1 g of hydroquinone monomethyl ether
The monoester compound (A-
1) was obtained.

【0047】〔合成例2〕 4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物168g(1モ
ル)2−ヒドロキシプロピルメタクリレート144g
(1モル)、N,N−ジメチルベンジルアミン0.1
g及びヒドロキノン0.3gの存在下、合成例1と同様
に反応させてモノエステル化合物(A−2)を得た。
Synthesis Example 2 168 g (1 mol) of 4-methylhexahydrophthalic anhydride and 144 g of 2-hydroxypropyl methacrylate
(1 mol) is added to N, N-dimethylbenzylamine 0.1
the presence of g and hydroquinone 0.3 g, was obtained monoester compound (A-2) was reacted in the same manner as in Synthesis Example 1.

【0048】〔実施例1〜6及び比較例1〜3の孔埋め
インクの製造〕下記の表1に記載する実施例及び比較例
の配合組成(単位:%)に基づいて各種成分を配合する
と共に各々三本ロールにより混練し、本発明に係る実施
例1〜6及び比較例1〜3の各孔埋めインクを調製し
た。
[Manufacture of hole-filling inks of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3] Various components are compounded based on the composition (unit:%) of Examples and Comparative Examples shown in Table 1 below. , And kneaded with a three-roll mill to prepare each of the hole-filling inks of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 according to the present invention.

【0049】次に、実施例1〜6の孔埋めインクについ
ては、図1に示す工程に従って、スルーホールを形成し
た両面銅張積層板を上記孔埋めインク中に浸漬し、スル
ーホール内に孔埋めインクを充填した後に取り出し、積
層板両面に付着した孔埋めインクをウレタンスキージー
によりかき落した。続いて、この積層板を高圧水銀灯を
用い、表2に記載する条件の下で露光し、両面から孔埋
めインクを予備硬化させ、さら熱重合させた。その後、
積層板表面に付着した化合物を4軸両面研磨機{(株)
石井表記製}を用いたバフ研磨により除去し、耐酸イン
ク{互応化学工業(株)製「PER−143B−5」}
を印刷し、紫外線露光により硬化させた。続いて、50
℃の塩化第二銅エッチング液により銅露出部分をエッチ
ング除去し、水洗後、3%の水酸化ナトリウム水溶液の
スプレーにより上記孔埋めインク及び耐酸インクを除去
して両面プリント配線基板を作成した。
Next, with respect to the filling inks of Examples 1 to 6, the double-sided copper-clad laminate having the through holes formed therein was immersed in the filling ink in accordance with the process shown in FIG. After filling the filling ink, it was taken out, and the hole filling ink adhered to both sides of the laminated board was scraped off with a urethane squeegee. Subsequently, the laminated plate was exposed to light using a high-pressure mercury lamp under the conditions shown in Table 2, and the ink for filling holes was preliminarily cured from both sides, and further thermally polymerized. afterwards,
4-axis double-side polishing machine for compound adhering to laminate surface.
It is removed by buffing using Ishii Notation Co., Ltd., and is acid-resistant ink {“PER-143B-5” manufactured by Ryogo Chemical Industry Co., Ltd.}
Was printed and cured by UV exposure. Then, 50
The exposed copper portion was removed by etching with a cupric chloride etching solution at a temperature of ℃, washed with water, and then sprayed with a 3% aqueous sodium hydroxide solution to remove the hole filling ink and the acid-resistant ink to prepare a double-sided printed wiring board.

【0050】一方、比較例1及び3の孔埋めインクにつ
いては、図1に示す工程に従って、スルーホールを形成
した両面銅張積層板を上記孔埋めインク中に浸漬し、ス
ルーホール内に孔埋めインクを充填した後に取り出し、
積層板両面に付着した孔埋めインクをウレタンスキージ
ーによりかき落した。続いて、この積層板を高圧水銀灯
を用い、表2に記載する条件で露光し、両面から孔埋め
インクを光重合により硬化させた。その後、積層板表面
に付着した化合物を4軸両面研磨機{(株)石井表記
製}を用いたバフ研磨により除去し、耐酸インク{互応
化学工業(株)製「PER−143B−5」}を印刷
し、紫外線露光により硬化させた。続いて、50℃の
化第二銅エッチング液により銅露出部分をエッチング除
去し、水洗後、3%の水酸化ナトリウム水溶液のスプレ
ーにより上記孔埋めインク及び耐酸インクを除去して両
面プリント配線基板を作成した。
On the other hand, with respect to the filling inks of Comparative Examples 1 and 3, the double-sided copper-clad laminate having the through holes formed therein was immersed in the filling ink to fill the through holes according to the process shown in FIG. Take out after filling the ink,
The hole filling ink attached to both sides of the laminate was scraped off with a urethane squeegee. Subsequently, the laminate was exposed to light using a high-pressure mercury lamp under the conditions shown in Table 2, and the filling ink was cured from both sides by photopolymerization. Thereafter, the compound adhering to the surface of the laminate was removed by buffing using a four-axis double-side polishing machine (manufactured by Ishii Notation Co., Ltd.), and acid-resistant ink (“PER-143B-5” manufactured by Ryo Chemical Industry Co., Ltd.). Was printed and cured by UV exposure. Then, salt at 50 ° C
The exposed copper portion was removed by etching with a cupric chloride etching solution, washed with water, and then the above-mentioned filling ink and the acid-resistant ink were removed by spraying a 3% aqueous sodium hydroxide solution to prepare a double-sided printed circuit board.

【0051】さらに、比較例2の孔埋めインクについて
は、図1に示す工程に従って、スルーホールを形成した
両面銅張積層板を上記孔埋めインク中に浸漬し、スルー
ホール内に孔埋めインクを充填した後に取り出し、積層
板両面に付着した孔埋めインクをウレタンスキージーに
よりかき落した。続いて、この積層板を表2に記載する
条件で加熱し、孔埋めインクを加熱重合により硬化させ
た。その後、積層板表面に付着した化合物を4軸両面研
磨機{(株)石井表記製}を用いたバフ研磨により除去
し、耐酸インク{互応化学工業(株)製「PER−14
3B−5」}を印刷し、紫外線露光により硬化させた。
続いて、50℃の塩化第二銅エッチング液により銅露出
部分をエッチング除去し、水洗後、3%の水酸化ナトリ
ウム水溶液のスプレーにより上記孔埋めインク及び耐酸
インクを除去して両面プリント配線基板を作成した。
Further, with respect to the filling ink of Comparative Example 2, the double-sided copper-clad laminate having the through-hole was immersed in the filling ink according to the process shown in FIG. After filling, it was taken out and the hole filling ink attached to both sides of the laminate was scraped off with a urethane squeegee. Subsequently, the laminate was heated under the conditions shown in Table 2, and the hole filling ink was cured by heat polymerization. Thereafter, the compound adhering to the surface of the laminate was removed by buff polishing using a four-axis double-side polishing machine (manufactured by Ishii Notation Co., Ltd.).
3B-5 "} was printed and cured by UV exposure.
Subsequently, the exposed copper portion is removed by etching with a cupric chloride etching solution at 50 ° C., and after washing with water, the above-mentioned hole filling ink and the acid-resistant ink are removed by spraying a 3% aqueous sodium hydroxide solution to remove the double-sided printed wiring board. Created.

【0052】[0052]

【表1】 [Table 1]

【0053】[0053]

【表2】 [Table 2]

【0054】実施例1〜6及び比較例1〜3の各孔埋め
インクについて、充填率、研磨性、エッチング適正及び
溶解除去時間の各試験項目について試験したところ、表
2に示すように、実施例1〜6は比較例1〜3に比べて
概して良好であり、特に成分(D)を多く含むもの、さ
らには成分(E)を含むものは全試験項目について優れ
た試験結果を呈した。一方、比較例については、紫外線
硬化型孔埋めインクに紫外線に対し実質的に不透明な成
分(D)を配合したものは硬化不良のため実用性がな
く、また熱重合型孔埋めインクに成分(D)を多く配合
したものは充填率及びエッチング適正に難点がある。
Each of the hole filling inks of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 was tested for each of the test items of filling rate, abrasiveness, proper etching, and dissolving and removing time. Examples 1 to 6 were generally better than Comparative Examples 1 to 3, especially those containing a large amount of component (D), and those containing component (E) showed excellent test results for all test items. On the other hand, in the comparative example, the UV curable ink filled with the component (D) which is substantially opaque to ultraviolet light is not practical because of poor curing. Those containing a large amount of D) have difficulty in filling rate and proper etching.

【0055】なお、比較例3の孔埋めインクについて
は、別途以下の試験を行った。すなわち、図1に示す工
程に従って、スルーホールを形成した両面銅張積層板を
上記孔埋めインク中に浸漬し、スルーホール内に孔埋め
インクを充填した後に取り出し、積層板両面に付着した
孔埋めインクをウレタンスキージーによりかき落した。
続いて、この積層板を高圧水銀灯を用い、片面当たり4
000mJで露光し、両面から孔埋めインクを光重合に
より硬化させた。その後、未硬化の孔埋めインクを除去
し、残った硬化部分の厚さをマイクロメータにより測定
したところ、各表面について6μmであり、スルーホー
ル内の大部分の孔埋めインクが未硬化であることが判明
した。
The following test was separately performed on the hole filling ink of Comparative Example 3. That is, according to the process shown in FIG. 1, the double-sided copper-clad laminate having the through-hole formed therein is immersed in the above-mentioned filling ink, filled with the filling ink in the through-hole, taken out, and filled with the holes filled on both surfaces of the laminate. The ink was scraped off with a urethane squeegee.
Subsequently, this laminate was pressed using a high-pressure mercury lamp,
Exposure was performed at 000 mJ , and the hole-filling ink was cured by photopolymerization from both sides. Thereafter, the uncured filling ink was removed, and the thickness of the remaining cured portion was measured with a micrometer. The thickness was 6 μm for each surface, and most of the filling ink in the through holes was not cured. There was found.

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明に係る銅スルーホールプリント配
線基板製造用孔埋めインクは以上のように構成されるの
で、紫外線による予備硬化とその後の加熱処理による熱
重合とからなる硬化工程の採用により、酸素障害による
重合不良がなく重合性に優れ、加熱時の揮発成分の蒸発
による体積収縮がなく、スルーホールの保護性及びスル
ーホールのエッジのカバーリング機能に優れ、しかもア
ルカリ水溶液により容易に除去することができる。
As described above, the ink for filling a hole in a copper through-hole printed wiring board according to the present invention is constituted as described above. Therefore, by employing a curing step comprising pre-curing by ultraviolet rays and subsequent thermal polymerization by heat treatment. Excellent polymerizability due to polymerization failure due to oxygen damage, no volume shrinkage due to evaporation of volatile components during heating, excellent through-hole protection and through-hole edge covering function, and easily removed with alkaline aqueous solution can do.

【0057】また、本発明に係る孔埋めインク中に不活
性固体粉末を配合することにより、孔埋めインクの硬化
工程後にバフ研磨等により不要な硬化部分を容易に除去
することができる。また、上記孔埋めインクは、不活性
固体粉末として紫外線に対し実質的に不透明なものを配
合しても、スルーホール内部での硬化性に優れるため、
酸化チタン等の着色顔料の配合が可能であり、特に回路
基板の孔埋め状態検査時における視認性の向上に極めて
有効である。
Further, by blending the inert solid powder into the filling ink according to the present invention, unnecessary cured portions can be easily removed by buffing or the like after the curing step of the filling ink. In addition, the ink for filling the hole, even if a compound that is substantially opaque to ultraviolet light as an inert solid powder, is excellent in curability inside the through hole,
It is possible to mix a coloring pigment such as titanium oxide, and it is extremely effective particularly for improving the visibility at the time of inspecting the filled state of the circuit board.

【0058】このことにより、従来においてはドライフ
ィルムレジスト等を使用するコストの高い製造方法によ
ってのみ生産されていたライン幅100〜200μmの
高密度銅スルーホールプリント配線基板を、高信頼性を
保持しつつ低コストで製造することが可能であり、また
検査時の不良品の除去が極めて容易となる。
As a result, a high-density copper through-hole printed wiring board having a line width of 100 to 200 μm, which was conventionally produced only by a high-cost manufacturing method using a dry film resist, can maintain high reliability. In addition, it can be manufactured at low cost, and it is very easy to remove defective products during inspection.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る孔埋めインクの使用方法の一具体
例を順次説明する要部断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of an essential part for sequentially explaining one specific example of a method of using a hole filling ink according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 絶縁基板 2 スルーホール 2a スルーホールエッジ部 3 銅メッキ層 4 孔埋めインク 5 エッチングレジスト層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Insulating substrate 2 Through-hole 2a Through-hole edge part 3 Copper plating layer 4 Hole filling ink 5 Etching resist layer

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 (A)下記の一般式〔I〕又は〔II〕 【化1】 【化2】 {式中、R1 は水素又はメチル基、R2 は水素又は炭素
数1〜4のアルキル基、Yは炭素数1〜4のアルキレン
基又は−(Cn2nO)P −CH2 −(式中、nは2〜
6の整数、pは1〜19の整数である。)で表される基
を示す。}で表わされるモノエステル化合物1〜90重
量%、(B)熱重合触媒0.01〜20重量%及び
(C)光重合触媒0.01〜20重量%を含有してなる
銅スルーホールプリント配線基板製造用孔埋めインク。
(A) The following general formula (I) or (II): Embedded image In the formula, R 1 is hydrogen or a methyl group, R 2 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Y is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, or — (C n H 2n O) P —CH 2 —. (Where n is 2 to
An integer of 6 and p is an integer of 1 to 19. ). Copper through-hole printed wiring containing 1 to 90% by weight of a monoester compound represented by}, (B) 0.01 to 20% by weight of a thermal polymerization catalyst, and (C) 0.01 to 20% by weight of a photopolymerization catalyst. Filling ink for substrate production.
【請求項2】 (D)不活性固体粉末を含んでなる請求
項1記載の銅スルーホールプリント配線基板製造用孔埋
めインク。
2. The ink for filling a copper through-hole printed circuit board according to claim 1, which comprises (D) an inert solid powder.
【請求項3】 成分(D)が紫外線に対し実質的に不透
明な不活性固体粉末である請求項2記載の銅スルーホー
ルプリント配線基板製造用孔埋めインク。
3. The ink of claim 2, wherein the component (D) is an inert solid powder which is substantially opaque to ultraviolet light.
【請求項4】 成分(D)が紫外線に対し実質的に不透
明な酸化チタンである請求項2又は3記載の銅スルーホ
ールプリント配線基板製造用孔埋めインク。
4. The hole-filling ink for producing a copper through-hole printed wiring board according to claim 2, wherein the component (D) is titanium oxide which is substantially opaque to ultraviolet rays.
【請求項5】 (E)フェノール樹脂、クレゾール樹脂
及び酸価50〜500のロジン系樹脂からなる群より選
ばれた少なくとも一種の樹脂化合物を含んでなる請求項
1、2、3又は4記載の銅スルーホールプリント配線基
板製造用孔埋めインク。
5. The method according to claim 1, comprising (E) at least one resin compound selected from the group consisting of a phenol resin, a cresol resin, and a rosin resin having an acid value of 50 to 500. Filling ink for copper through-hole printed wiring board manufacturing.
【請求項6】 成分(E)が軟化点60℃以上、酸価5
0〜500のロジン系樹脂である請求項5記載の銅スル
ーホールプリント配線基板製造用孔埋めインク。
6. The component (E) has a softening point of 60 ° C. or higher and an acid value of 5.
The hole filling ink for producing a copper through-hole printed wiring board according to claim 5, which is a rosin-based resin of 0 to 500.
【請求項7】 スルーホール内のインク硬化工程が、紫
外線による予備硬化と、その後の加熱処理による熱重合
とからなる請求項1、2、3、4、5又は6記載の銅ス
ルーホールプリント配線基板製造用孔埋めインクの使用
方法。
7. The copper through-hole printed wiring according to claim 1, wherein the step of curing the ink in the through-hole comprises pre-curing by ultraviolet rays and subsequent thermal polymerization by heat treatment. How to use hole filling ink for substrate production.
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