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JP3034657B2 - Package for semiconductor device - Google Patents
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JP3034657B2 - Package for semiconductor device - Google Patents

Package for semiconductor device

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JP3034657B2
JP3034657B2 JP21687191A JP21687191A JP3034657B2 JP 3034657 B2 JP3034657 B2 JP 3034657B2 JP 21687191 A JP21687191 A JP 21687191A JP 21687191 A JP21687191 A JP 21687191A JP 3034657 B2 JP3034657 B2 JP 3034657B2
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semiconductor device
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/754Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置用パッケー
ジ、特に大規模半導体装置に好適なPGA(ピン・グリ
ット・アレイ)型パッケージに関する。近時、半導体集
積回路の大規模化に伴ってパッケージのリード数が一段
と増大する傾向にある。この点、パッケージの下面から
多数のリードを突き出すPGA型パッケージは好適であ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a package for semiconductor devices, and more particularly to a PGA (Pin Grid Array) type package suitable for large-scale semiconductor devices. In recent years, the number of package leads has tended to increase further with the increase in the scale of semiconductor integrated circuits. In this regard, a PGA type package in which many leads protrude from the lower surface of the package is preferable.

【0002】PGA型パッケージはセラミック型とプラ
スチック型に大別され、前者は半導体素子を搭載する基
板にセラミック板を使用し、後者はガラスエポキシ積層
板を使用する(図3参照)。プラスチックPGA型パッ
ケージはセラミックPGA型パッケージに比べて価格が
安いというメリットがある一方で、放熱性の面で劣ると
いう欠点が指摘される。そこで、低コストと熱放散性と
を共に満足するPGA型パッケージが求められる。
A PGA type package is roughly classified into a ceramic type and a plastic type. The former uses a ceramic plate for a substrate on which a semiconductor element is mounted, and the latter uses a glass epoxy laminated plate (see FIG. 3). Although the plastic PGA type package has the advantage of being cheaper than the ceramic PGA type package, it is pointed out that the plastic PGA type package is inferior in heat dissipation. Therefore, a PGA type package that satisfies both low cost and heat dissipation is required.

【0003】[0003]

【従来の技術】図4は放熱性に優れた従来のPGA型パ
ッケージの構造図である。図において、10は基板であ
り、基板10の心材(コア)には銅などのメタル11が
使用されている。このメタル11は周囲が絶縁樹脂12
で被覆され、リード13を装着するための複数の穴11
a、11bと、半導体素子14を収容するための凹部1
5が形成されている。なお、16は回路パターン、17
はボンディングワイヤ、18はキャップである。半導体
素子14の底面をメタル11に固着するので、熱抵抗が
低下して放熱性が改善される。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is a structural view of a conventional PGA type package excellent in heat dissipation. In the figure, reference numeral 10 denotes a substrate, and a metal 11 such as copper is used for a core material (core) of the substrate 10. This metal 11 has an insulating resin 12 around it.
And a plurality of holes 11 for mounting leads 13
a, 11b and recess 1 for accommodating semiconductor element 14
5 are formed. 16 is a circuit pattern, 17
Is a bonding wire, and 18 is a cap. Since the bottom surface of the semiconductor element 14 is fixed to the metal 11, the heat resistance is reduced and the heat dissipation is improved.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
従来の半導体装置用パッケージにあっては、リード13
と同数の穴をメタル11に開けなければならず、リード
13の数が搭載半導体素子の規模によってきわめて多数
になるから、加工コストが嵩むという問題点がある。
However, in such a conventional package for a semiconductor device, the lead 13 is not provided.
The same number of holes must be formed in the metal 11, and the number of leads 13 becomes extremely large depending on the scale of the mounted semiconductor element.

【0005】そこで、本発明は、メタルに対する穴加工
を不要にして加工コストを低減するとともに、熱放散性
に優れた半導体パッケージを提供することを目的とす
る。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor package which does not require drilling holes in metal, reduces processing costs, and has excellent heat dissipation.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、 基板に第1のメタルを用いた半導体装
置用パッケージにおいて、前記基板の下面側に半導体素
子よりも大きな開口を形成した第2のメタルを配設し
て、前記半導体素子が搭載される凹部を形成せしめると
共に、前記基板の下面側に、該凹部に搭載される前記半
導体素子と電気的に接続される回路パターンと、前記
回路パターンに接続するランドを形成し、前記ランド
外部接続用の端子を設けて接合したことを特徴とす
る。
Means for Solving the Problems The present invention, in order to achieve the above object, a semiconductor device package including a first metal substrate, a semiconductor element on the lower surface of the substrate
A second metal having an opening larger than the
Then, when a recess for mounting the semiconductor element is formed,
Both the lower surface side of the substrate, wherein the semiconductor element, a circuit pattern to be electrically connected to form the land to be connected to the circuit pattern, terminals for external connection to said lands to be mounted on the recess Are provided and joined.

【0007】[0007]

【作用】本発明では、基板下面側のランドにリードを突
き当てて接合するだけでよく、メタルに対する穴加工を
不要にして加工コストを低減できる。また、基板下面側
に半導体素子を搭載していわゆるキャビティダウン構造
とすることができ、基板上面側に放熱板等を取り付ける
ことにより、一層の放熱効果向上を図ることができる。
According to the present invention, it suffices to merely join the lead by abutting the land on the land on the lower surface side of the substrate, and it is not necessary to form a hole in the metal, thereby reducing the processing cost. Further, a so-called cavity-down structure can be obtained by mounting a semiconductor element on the lower surface of the substrate, and a heat radiation effect can be further improved by attaching a heat sink or the like to the upper surface of the substrate.

【0008】[0008]

【実施例】以下、本発明の概略を図面に基づいて説明す
る。図1は本発明に係る半導体装置用パッケージを示す
図である。図1(a)において、20は基板である。基
板20の心材(コア)には銅または銅合金からなるメタ
ル21が使用されおり、このメタル21の下面側には、
半導体素子22を搭載するための凹部21aが形成され
ている。下面側にはまた、絶縁樹脂23を介して、配線
パターン24及びこの配線パターン24に一体化したn
個(nはリード26の総数)のランド25が形成されて
いる。ここで、ランド25の平面形状は、図1(b)に
示すように略円形であり、その半径は配線パターン24
の幅よりも大きい。各々のランド25にはリード26が
取り付けられる。この取り付け方は、リード26の頭部
をランド25に突き当てて、両者を半田付けすることに
よって接合される。なお、28はソルダーレジスト、2
9はボンディングワイヤ、30はキャップである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The outline of the present invention will be described below with reference to the drawings. Figure 1 is a <br/> view showing a package for a semiconductor device according to the present invention. In FIG. 1A, reference numeral 20 denotes a substrate. A metal 21 made of copper or a copper alloy is used for a core material (core) of the substrate 20.
A recess 21a for mounting the semiconductor element 22 is formed. On the lower surface side, a wiring pattern 24 and an n integrated with the wiring pattern 24 are provided via an insulating resin 23.
The number of lands 25 (n is the total number of leads 26) is formed. Here, the planar shape of the land 25 is substantially circular as shown in FIG.
Greater than the width of. A lead 26 is attached to each land 25. In this mounting method, the head of the lead 26 is brought into contact with the land 25, and the two are joined by soldering. 28 is a solder resist, 2
9 is a bonding wire and 30 is a cap.

【0009】このような構成によれば、基板20の下面
側に配線パターン24と一体のランド25を形成し、こ
のランド2 5にリード26を突き当てて接合するので、
メタル(金属板)21に対する穴加工が不要となり、加
工コストを低減することができる。しかも、基板20の
下面に半導体素子2 2を搭載するので、請求項2に示し
たように、図1ではいわゆるキャビティダウン構造とす
ることができ、基板20の上面側に放熱板を取り付ける
ことにより、一層の放熱効果向上を図ることができる。
According to such a configuration, a land 25 integral with the wiring pattern 24 is formed on the lower surface side of the substrate 20, and the lead 26 is abutted on the land 25 to be joined.
The hole processing for the metal (metal plate) 21 is not required, and the processing cost can be reduced. Moreover, since a semiconductor element is mounted 2 2 on the lower surface of the substrate 20, shown in claim 2
As shown in FIG. 1, a so-called cavity-down structure can be used. By attaching a heat radiating plate to the upper surface of the substrate 20, the heat radiation effect can be further improved.

【0010】図2は本発明に係る半導体装置用パッケー
ジの実施例を示す図である。図2において、30は基板
である。基板30の心材には概略で説明したと同様に銅
または銅合金からなるメタル(以下、第1のメタル)3
1が使用されおり、この第1のメタル31の下面側に
は、絶縁樹脂32を介して銅または銅合金からなる第2
のメタル33が被着されている。第2のメタル33には
半導体素子34のサイズよりも大きな開口33aが開け
られており、この開口33a内部に被着されていた絶縁
樹脂32が開口33aの内周壁部を除いて取り除かれ、
これにより半導体素子34を収容するための凹部35が
形成されている。第2のメタル33の周囲は絶縁樹脂3
2でほぼ包囲されており、絶縁樹脂32に接した第2の
メタル33の下面、凹部35の側壁に配線パターン36
が一連に形成されている。配線パターン36にはランド
37(37a、37b……)が一体化して接続されてお
り、ランド37はリード38(38a、38b……)の
数と同数だけ備えられる。ランド37の平面形状は、第
1実施例と同様に略円形であり、かつその直径は配線パ
ターン36の幅よりも大きい(図1(b)参照)。各々
のランド37にはリード38の頭部が突き当てられ、は
んだ39によって接合されている。
FIG. 2 is a view showing an embodiment of a semiconductor device package according to the present invention. In FIG. 2, reference numeral 30 denotes a substrate. The core material of the substrate 30 is made of a metal (hereinafter, referred to as a first metal) 3 made of copper or a copper alloy as described in the outline.
1 is provided on the lower surface side of the first metal 31 via a second insulating resin 32 made of copper or copper alloy.
Metal 33 is attached. An opening 33a larger than the size of the semiconductor element 34 is formed in the second metal 33, and the insulating resin 32 applied inside the opening 33a is removed except for the inner peripheral wall of the opening 33a.
Thereby, a concave portion 35 for accommodating the semiconductor element 34 is formed. Insulating resin 3 around the second metal 33
2 and a wiring pattern 36 on the lower surface of the second metal 33 in contact with the insulating resin 32 and on the side wall of the concave portion 35.
Are formed in series. The lands 37 (37a, 37b...) Are integrally connected to the wiring pattern 36, and the lands 37 are provided in the same number as the leads 38 (38a, 38b...). The planar shape of the land 37 is substantially circular as in the first embodiment, and the diameter thereof is larger than the width of the wiring pattern 36 (see FIG. 1B). The head of a lead 38 is abutted on each land 37 and joined by solder 39.

【0011】ここで、1つのリード(例えば38a)
に接合するランド37aと第1のメタル31は配線パタ
ーンを介して電気的に接続されており、また、他の1
つのリード(例えば38b)に接合するランド37bと
第2のメタル33は配線パターンを介して電気的に接続
されている。例えば、凹部35の側壁にまわした配線
パターンを第1のメタル31に接続するとともにその配
線パターンをランド37aに接続し、また、第2のメ
タル33に到達するような凹部を配線パターン36に形
成し、これら第2のメタル33と配線パターン36間を
めっきによって導通をとるようにしてもよい。
Here, one lead (for example, 38a)
The land 37a and the first metal 31 are electrically connected to each other via a wiring pattern.
The land 37b joined to one lead (for example, 38b) and the second metal 33 are electrically connected via a wiring pattern. For example, the wiring pattern extending to the side wall of the concave portion 35 is connected to the first metal 31 and the wiring pattern is connected to the land 37a, and a concave portion reaching the second metal 33 is formed in the wiring pattern 36. Then, conduction between the second metal 33 and the wiring pattern 36 may be established by plating.

【0012】このようにすると、第1のメタル31と第
2のメタル33に対する穴加工が不要になり、第1実施
例と同様に加工コストを低減することができる他、本実
施例によればさらに、第1のメタル31をグランド線路
とし、第2のメタル33を電源線路として使用できるの
で、基板下面の配線密度を高めることができるという特
有の効果がある。
This eliminates the need for drilling holes in the first metal 31 and the second metal 33, thereby reducing the processing cost as in the first embodiment. Further, since the first metal 31 can be used as a ground line and the second metal 33 can be used as a power supply line, there is a specific effect that the wiring density on the lower surface of the substrate can be increased.

【0013】一般に、キャビティダウンのPGA型パッ
ケージでは、基板下面に多数の配線パターンが存在する
が、この上さらにリードを突き当てるためのランドを形
成しようとすると、ランドの直径が配線パターンの幅よ
りも大きいために、ランドに挟まれた部分の配線領域を
圧迫してしまう。このため、ランド間の配線数を少なく
しなければならず、多ピンに好適なPGA型パッケージ
としてのメリットを失う恐れがある。
In general, in a cavity-down PGA type package, a large number of wiring patterns are present on the lower surface of the substrate. When lands for hitting leads are further formed, the land diameter is larger than the width of the wiring patterns. Therefore, the wiring area of the portion sandwiched between the lands is pressed. For this reason, the number of wirings between lands must be reduced, and the merit as a PGA type package suitable for multi-pin may be lost.

【0014】本実施例では、第1のメタル31と第2の
メタル33に、それぞれグランド線路と電源線路を受け
持たせることができるので、基板下面に電源線路のパタ
ーンを形成する必要がなくなり、それだけ信号線路の配
線密度を高めることができるのである。
In this embodiment, since the first metal 31 and the second metal 33 can be assigned to a ground line and a power line, respectively, it is not necessary to form a power line pattern on the lower surface of the substrate. As a result, the wiring density of the signal line can be increased.

【0015】[0015]

【発明の効果】本発明によれば、メタルに対する穴加工
を不要にでき、加工コストを低減することができるとと
もに、熱放散性に優れたPGA型パッケージを提供する
ことができる。
According to the present invention, it is possible to eliminate the need for drilling holes in metal, to reduce the processing cost, and to provide a PGA type package excellent in heat dissipation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の概略を示す構造図である。FIG. 1 is a structural view schematically showing the present invention .

【図2】本発明の実施例の構造図である。FIG. 2 is a structural diagram of an embodiment of the present invention .

【図3】従来のプラスチックPGA型パッケージの構造
図である。
FIG. 3 is a structural view of a conventional plastic PGA type package.

【図4】従来のメタルコアを用いたプラスチックPGA
型パッケージの構造図である。
FIG. 4 shows a conventional plastic PGA using a metal core.
It is a structure diagram of a mold package.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20:基板 21:メタル 22:半導体素子 24:回路パターン 26:リード 25:ランド 20: Substrate 21: Metal 22: Semiconductor element 24: Circuit pattern 26: Lead 25: Land

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 23/12 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 23/12

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】基板に第1のメタルを用いた半導体装置用
パッケージにおいて、前記基板の下面側に半導体素子よ
りも大きな開口を形成した第2のメタルを配設して、前
記半導体素子が搭載される凹部を形成せしめると共に、
前記基板の下面側に、該凹部に搭載される前記半導体素
子と電気的に接続される回路パターンと、前記回路パタ
ーンに接続するランドを形成し、前記ランドに外部接
続用の端子を設けて接合したことを特徴とする半導体装
置用パッケージ。
In a semiconductor device package using a first metal for a substrate, a semiconductor element is formed on a lower surface of the substrate .
A second metal having a larger opening is provided and
Along with forming a recess in which the semiconductor element is mounted,
A circuit pattern electrically connected to the semiconductor element mounted in the concave portion and a land connected to the circuit pattern are formed on the lower surface of the substrate, and the land is externally connected.
A package for a semiconductor device, wherein a connection terminal is provided and joined.
【請求項2】第のメタルを配設した基板の下面側に外
部接続用の端子として多数のリードを立設せしめ前記
第1のメタルと前記第2のメタルとをグランド線路と電
源線路として用いることを特徴とする請求項1記載の
導体装置用パッケージ。
2. The method according to claim 1, wherein the second metal is provided on a lower surface side of the substrate.
The number of leads erected as terminals for parts connected to the
Connect the first metal and the second metal to a ground line and
The package for a semiconductor device according to claim 1 , wherein the package is used as a source line .
【請求項3】第1のメタルの外形寸法と第2のメタルの
外形寸法とがほぼ等しいことを特徴とする請求項1記載
半導体装置用パッケージ。
3. The external dimensions of the first metal and the external dimensions of the second metal.
2. The method according to claim 1, wherein the external dimensions are substantially equal.
Package of the semiconductor device.
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