JP3043584B2 - Polyester composition and polyester film - Google Patents
Polyester composition and polyester filmInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は特定のシリコーン樹脂微
粒子を分散含有するポリエステル組成物及びポリエステ
ルフイルムに関し、更に詳しくは特定のシリコーン樹脂
微粒子をポリエステル中に良好に分散せしめ、成膜性に
優れたポリエステル組成物、及び該組成物を用いた平坦
で滑り性及び耐削れ性に優れた二軸配向ポリエステルフ
イルムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polyester composition and a polyester film in which specific silicone resin fine particles are dispersed and contained, and more particularly, to a method in which specific silicone resin fine particles are well dispersed in polyester and excellent in film forming property. The present invention relates to a polyester composition and a biaxially oriented polyester film using the composition, which is excellent in flatness, slipperiness and abrasion resistance.
【0002】[0002]
【従来の技術】ポリエチレンテレフタレートフイルムに
代表される二軸配向ポリエステルフイルムは、その優れ
た物理的、化学的特性の故に、種々の用途、特に磁気記
録媒体用として用いられている。2. Description of the Related Art Biaxially oriented polyester films represented by polyethylene terephthalate films have been used for various purposes, particularly for magnetic recording media, because of their excellent physical and chemical properties.
【0003】二軸配向ポリエステルフイルムにおいて
は、その滑り性や耐削れ性がフイルムの製造工程及び加
工工程の作業性の良否、さらにはその製品品質を左右す
る大きな要因となっている。これらが不足すると、例え
ば二軸配向ポリエステルフイルム表面に磁性層を塗布し
磁気テープとして用いる場合に、コーティングロールと
フイルム表面との摩擦及び磨耗が激しく、フイルム表面
へのしわおよび擦り傷が発生しやすい。またVTRやデ
ータカートリッジ用として用いる場合にも、カセット等
からの引き出し、巻き上げその他の操作の際に多くのガ
イド部、再生ヘッド等の間で摩擦が生じ、擦り傷、歪の
発生、さらにはベースフイルム表面の削れ等による白粉
の発生により、ドロップアウトの発生原因となることが
多い。[0003] In a biaxially oriented polyester film, its slipperiness and abrasion resistance are major factors that affect the workability of the film manufacturing and processing steps and the product quality. If these are insufficient, for example, when a magnetic layer is applied to the surface of a biaxially oriented polyester film and used as a magnetic tape, friction and wear between the coating roll and the film surface are severe, and wrinkles and scratches on the film surface are likely to occur. Also, when used for VTRs and data cartridges, friction occurs between many guides, reproducing heads, etc. during pulling out, winding up, and other operations from cassettes and the like, causing scratches, distortion, and even base film. The occurrence of white powder due to surface shaving or the like often causes dropout.
【0004】こうした問題に対しては数多くの検討がな
されており、中でもシリコーン樹脂微粒子を添加する方
法(例えば、特開昭62―172031号)は改良効果
が大きく、これからの技術として発展が期待される。Many studies have been made on such problems, and among them, the method of adding fine particles of silicone resin (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-172131) has a large improvement effect, and is expected to develop as a technology in the future. You.
【0005】しかしながら、このシリコーン樹脂微粒子
を含有するフイルムは製膜時においてフイルム物性とは
別に新たに次の様な現象が問題点として指摘されつつあ
る。However, the following phenomenon is pointed out as a problem in the film containing the silicone resin fine particles in addition to the physical properties of the film at the time of film formation.
【0006】即ち、このシリコーン樹脂微粒子を含有す
るフイルムを製膜する場合、スリット状ダイから溶融ポ
リマーを回転冷却ドラム上に押し出す時、ドラムへの貼
り付きを向上させるため、通常静電印加法を用いる製膜
方式を採用するが、この際静電ワイヤーが汚れやすく、
その結果電流低下や放電スパークを生じ、貼り付き効果
が減少するため、短期間で静電ワイヤーの交換を余儀な
くされるというトラブルである。That is, when a film containing the silicone resin fine particles is formed into a film, when a molten polymer is extruded from a slit die onto a rotating cooling drum, an electrostatic application method is usually used to improve sticking to the drum. The film forming method used is adopted.
As a result, a current drop or a discharge spark occurs, and the sticking effect is reduced, so that the electrostatic wire must be replaced in a short time.
【0007】こうした現象はシリコーン樹脂微粒子の添
加量の増加により顕著になるため、添加量の比較的少な
いメタルビデオテープ用フイルムなどの高級用途におい
ては問題は小さいが、相対的により過酷な条件でフイル
ムを走行させるには添加量を上げる必要があり、更によ
り高い生産性が求められるレギュラービデオテープ用フ
イルムにおいて問題となり、この問題解決が待たれてい
る。[0007] Such a phenomenon becomes remarkable with an increase in the amount of the silicone resin particles added, so that the problem is small in high-grade applications such as a film for a metal video tape to which a relatively small amount is added, but under relatively severe conditions. It is necessary to increase the amount of addition in order to run the film, and this is a problem in a film for a regular video tape which requires even higher productivity, and the solution of this problem is awaited.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、こうし
たフイルムにおける滑り性と耐削れ性を共に安定して満
足させることのできる、かつ静電ワイヤー汚れを大幅に
減少させることのできるシリコーン樹脂微粒子を開発す
べく鋭意検討した結果、シリコーン樹脂微粒子の末端基
であるシラノール基(Si―OH結合)が少なくかつ表
面の炭素元素がケイ素に対し一定量以上の割合で存在す
る該微粒子を、ポリエステルに含有させることで滑り性
と耐削れ性を満足しかつ静電ワイヤー汚れも大幅に減少
させ得ることを見出し、本発明に到達したものである。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have developed a silicone resin capable of stably satisfying both the slipperiness and the abrasion resistance of such a film and capable of greatly reducing electrostatic wire contamination. As a result of intensive studies to develop fine particles, silicone resin fine particles having a small amount of silanol groups (Si-OH bonds) as terminal groups and having a surface carbon element present in a certain amount or more relative to silicon are converted to polyester. The present inventors have found that the inclusion of satisfactorily in the present invention satisfies the slipperiness and the abrasion resistance and that the contamination of the electrostatic wire can be greatly reduced.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、粒
子の80重量%以上が下記式で表される結合単位からな
り、赤外分光法で求めたシラノール基(Si―OH結
合)のSi―O―Si結合に対する相対吸収強度(I
Si−OH/ISi-O-Si )が0.05以下でありかつ光電子
分光法で求めた炭素とケイ素の表面原子比(C/Si)
が0.9以上である、平均粒径0.05〜3μmのシリ
コーン樹脂微粒子をポリエステルの重量に対して0.0
05〜5重量%含有していることを特徴とするポリエス
テル組成物である。That is, according to the present invention, 80% by weight or more of particles are composed of a bonding unit represented by the following formula, and the silanol group (Si-OH bond) determined by infrared spectroscopy is used. -O-Si bond relative absorption intensity (I
(Si-OH / I Si-O-Si ) is 0.05 or less and the surface atomic ratio of carbon to silicon (C / Si) determined by photoelectron spectroscopy
Is 0.9 or more, and silicone resin fine particles having an average particle size of 0.05 to 3 μm are added to the polyester in an amount of 0.0
It is a polyester composition characterized by containing from 0.5 to 5% by weight.
【0010】[0010]
【化2】RSiO3/2 (ここで、Rは炭素数1〜6のアルキル基及びフェニル
基から選ばれる少くとも一種である。)## STR2 ## RSiO 3/2 (wherein, R is one at least selected from the group consisting of alkyl groups and phenyl groups having 1 to 6 carbon atoms.)
【0011】本発明におけるポリエステルとは、芳香族
ジカルボン酸を主たる酸成分とし、脂肪族グリコールを
主たるグリコール成分とするポリエステルである。かか
るポリエステルは実質的に線状であり、そしてフイルム
形成性、特に溶融成形によるフイルム形成性を有する。
芳香族ジカルボン酸としては、例えばテレフタル酸、
2,6―ナフタレンジカルボン酸、イソフタル酸、ジフ
ェノキシエタンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン
酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルスル
ホンジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、ア
ンスラセンジカルボン酸等を挙げることができる。脂肪
族グリコールとしては、例えばエチレングリコール、ト
リメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ペ
ンタメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、
デカメチレングリコール等の如き炭素数2〜10のポリ
メチレングリコールあるいはシクロヘキサンジメタノー
ルの如き脂環族ジオール等を挙げることができる。The polyester in the present invention is a polyester containing an aromatic dicarboxylic acid as a main acid component and an aliphatic glycol as a main glycol component. Such polyesters are substantially linear and have film forming properties, especially film forming by melt molding.
As the aromatic dicarboxylic acid, for example, terephthalic acid,
Examples thereof include 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, isophthalic acid, diphenoxyethane dicarboxylic acid, biphenyl dicarboxylic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenyl sulfone dicarboxylic acid, diphenyl ketone dicarboxylic acid, and anthracene dicarboxylic acid. Examples of the aliphatic glycol include ethylene glycol, trimethylene glycol, tetramethylene glycol, pentamethylene glycol, hexamethylene glycol,
Examples thereof include polymethylene glycol having 2 to 10 carbon atoms such as decamethylene glycol and alicyclic diols such as cyclohexanedimethanol.
【0012】本発明において、ポリエステルとしてはア
ルキレンテレフタレート及び/又はアルキレンナフタレ
ートを主たる構成成分とするものが好ましく用いられ
る。In the present invention, polyesters containing alkylene terephthalate and / or alkylene naphthalate as a main component are preferably used.
【0013】かかるポリエステルのうちでも、特にポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレン―2,6―ナフ
タレートをはじめとして、例えば全ジカルボン酸成分の
80モル%以上がテレフタル酸及び/又は2,6―ナフ
タレンジカルボン酸であり、全グリコール成分の80モ
ル%以上がエチレングリコールである共重合体が好まし
い。その際全酸成分の20モル%以下はテレフタル酸及
び/又は2,6―ナフタレンジカルボン酸以外の上記芳
香族ジカルボン酸であることができ、また例えばアジピ
ン酸、セバシン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸、シクロ
ヘキサン―1,4―ジカルボン酸の如き脂環族ジカルボ
ン酸等であることができる。また、全グリコール成分の
20モル%以下はエチレングリコール以外の上記グリコ
ールであることができ、また例えばハイドロキノン、レ
ゾルシン、2,2―ビス(4―ヒドロキシフェニル)プ
ロパン等の如き芳香族ジオール、1,4―ジヒドロキシ
ジメチルベンゼンの如き芳香環を有する脂肪族ジオー
ル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、ポリテトラメチレングリコール等の如きポリアルキ
レングリコール(ポリオキシアルキレングリコール)等
であることもできる。[0013] Among such polyesters, in particular, polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate, for example, terephthalic acid and / or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid account for at least 80 mol% of all dicarboxylic acid components, A copolymer in which 80% by mole or more of all glycol components is ethylene glycol is preferred. At that time, 20 mol% or less of the total acid component can be the above-mentioned aromatic dicarboxylic acids other than terephthalic acid and / or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid and sebacic acid. And alicyclic dicarboxylic acids such as cyclohexane-1,4-dicarboxylic acid. Further, 20 mol% or less of the total glycol component can be the above-mentioned glycol other than ethylene glycol. For example, aromatic diols such as hydroquinone, resorcinol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, Aliphatic diols having an aromatic ring such as 4-dihydroxydimethylbenzene, and polyalkylene glycols (polyoxyalkylene glycols) such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol can also be used.
【0014】また、本発明におけるポリエステルには、
例えばヒドロキシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸、ω―
ヒドロキシカプロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシ
カルボン酸に由来する成分を、ジカルボン酸成分および
オキシカルボン酸成分の総量に対し、20モル%以下で
共重合或いは結合するものも包含される。The polyester of the present invention includes:
For example, aromatic oxyacids such as hydroxybenzoic acid, ω-
Also included are those which copolymerize or combine a component derived from an oxycarboxylic acid such as an aliphatic oxyacid such as hydroxycaproic acid at 20 mol% or less based on the total amount of the dicarboxylic acid component and the oxycarboxylic acid component.
【0015】本発明においてポリエステル中に含有させ
るシリコーン樹脂微粒子は、下記式In the present invention, the fine particles of the silicone resin contained in the polyester are represented by the following formula:
【0016】[0016]
【化3】RSiO3/2 (ここで、Rは炭素数1〜6のアルキル基及びフェニル
基から選ばれる少くとも一種である。)で表わされる結
合単位が80重量%以上である架橋シリコーン樹脂の粒
子である。A crosslinked silicone resin having a bonding unit represented by RSiO 3/2 (where R is at least one selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and a phenyl group) in an amount of 80% by weight or more. Particles.
【0017】上記結合単位は下記構造式を意味する。The above-mentioned bonding unit has the following structural formula.
【0018】[0018]
【化4】 Embedded image
【0019】ここで、Rは前記と同じ。Here, R is the same as above.
【0020】前記シリコーン樹脂微粒子の製造方法は公
知であり、例えばオルガノトリアルコキシシランを加水
分解、縮合する方法(例えば特公昭40―16917号
あるいは特公平2―22767号等)やメチルトリクロ
ロシランを出発原料とするポリメチルシルセスキオキサ
ン微粒子の製造方法(例えばベルギー国特許57241
2号)などが挙げられる。もっとも、本発明において
は、粒子が後述する特性を有するのであれば製造方法を
限定するものではなく、如何なる方法で製造されたシリ
コーン樹脂微粒子を用いても構わない。The method for producing the silicone resin fine particles is known in the art. For example, a method of hydrolyzing and condensing an organotrialkoxysilane (for example, Japanese Patent Publication No. 40-16917 or Japanese Patent Publication No. 2-22767) or starting with methyltrichlorosilane Method for producing polymethylsilsesquioxane fine particles as a raw material (for example, Belgian Patent 57241
No. 2). However, in the present invention, the production method is not limited as long as the particles have the characteristics described below, and silicone resin fine particles produced by any method may be used.
【0021】前記式[化1〜3]や構造式[化4]にお
けるRは炭素数1〜6のアルキル基およびフェニル基か
ら選ばれる少くとも一種であり、該アルキル基としては
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基等を挙げることができる。これら
は一種以上であることができる。Rが複数の基である場
合、例えばメチル基とエチル基であるとき、メチルトリ
メトキシシランとエチルトリメトキシシランの混合物を
出発原料として製造することで得ることができる。もっ
とも、製造コストや合成方法の容易さなどを考慮する
と、Rがメチル基のシリコーン樹脂(ポリメチルシルセ
スキオキサン)微粒子が好ましい。R in the above formulas [Chemical Formulas 1 to 3] and the structural formula [Chemical Formula 4] is at least one selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and a phenyl group. Examples thereof include an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. These can be one or more. When R is a plurality of groups, for example, when it is a methyl group and an ethyl group, it can be obtained by producing a mixture of methyltrimethoxysilane and ethyltrimethoxysilane as a starting material. However, in consideration of the production cost and the ease of the synthesis method, silicone resin (polymethylsilsesquioxane) fine particles in which R is a methyl group are preferable.
【0022】前記シリコーン樹脂微粒子はその形状が実
質的に真球状であるものが好ましく、この場合滑り性付
与に特に効果的である。The silicone resin particles preferably have a substantially spherical shape, and are particularly effective for imparting slipperiness.
【0023】本発明においては、シリコーン樹脂微粒子
中のシラノール基(Si―OH結合)がシリコーン樹脂
微粒子の結合単位の骨格であるSi―O―Si結合に対
し一定の含有率以下である必要があり、かつ表面を構成
する元素のうち有機基を構成する炭素元素のケイ素元素
に対する割合が一定の割合以上である2つの物性を共に
満足するシリコーン樹脂微粒子である必要がある。In the present invention, the content of the silanol group (Si—OH bond) in the silicone resin fine particles must be less than a certain content with respect to the Si—O—Si bond which is the skeleton of the bonding unit of the silicone resin fine particles. In addition, it is necessary that the silicone resin fine particles satisfy both of two physical properties in which the ratio of the carbon element constituting the organic group to the silicon element among the elements constituting the surface is at least a certain ratio.
【0024】即ち、本発明おいて、シリコーン樹脂微粒
子中のシラノール基は、赤外分光法により、Si―OH
に帰属する900cm-1付近をピークとする吸収強度
(ISi-OH )がSi―O―Siに帰属する1000〜1
100cm-1付近をピークとする吸収強度
(ISi-O-Si )との相対吸収強度として0.05以下で
ある必要がある。相対吸収強度が0.05を超えるシリ
コーン樹脂微粒子を含むポリエステル組成物を用いてフ
イルムを製膜すると、静電ワイヤー汚れが著しく悪化
し、静電ワイヤーの交換を頻繁に行う必要が生じるため
に好ましくない。かかる相対吸収強度が0.05以下の
シリコーン樹脂微粒子は、製造時の合成条件の工夫でも
得られるし、0.05を超える市販のシリコーン樹脂微
粒子を加熱処理することで、シラノール基同士の縮合反
応によりシラノール基を減少させることでも得ることが
出来るし、更にはシランカップリング剤などを加えて反
応させることによってシラノール基を減少させ、相対吸
収強度を0.05以下とすることが出来る。本発明では
如何なる方法で得られたシリコーン微粒子を用いても構
わない。That is, in the present invention, the silanol groups in the silicone resin fine particles are converted to Si—OH by infrared spectroscopy.
The absorption intensity (I Si-OH ) having a peak near 900 cm −1 belonging to Si—O—Si belongs to 1000 to 1
It is necessary that the relative absorption intensity with respect to the absorption intensity (I Si-O-Si ) having a peak around 100 cm -1 is 0.05 or less. When a film is formed using a polyester composition containing silicone resin fine particles having a relative absorption strength exceeding 0.05, the contamination of the electrostatic wire is significantly deteriorated, and it is necessary to frequently replace the electrostatic wire. Absent. Such silicone resin fine particles having a relative absorption strength of 0.05 or less can be obtained by devising synthesis conditions at the time of production, or by subjecting commercially available silicone resin fine particles exceeding 0.05 to heat treatment, a condensation reaction between silanol groups can be achieved. Can be obtained by reducing the silanol group, and furthermore, the silanol group can be reduced by adding a silane coupling agent and reacting to reduce the relative absorption intensity to 0.05 or less. In the present invention, silicone fine particles obtained by any method may be used.
【0025】更に本発明においては、該シリコーン樹脂
微粒子の表面における有機基の構成元素である炭素は、
光電子分光法による測定においてシリコーン樹脂微粒子
の骨格元素でるケイ素元素に対し原子比(C/Si)に
おいて0.9以上である必要がある。この原子比(C/
Si)が0.9未満では、有機粒子としての特徴であ
る、フイルムにおける滑り性と耐削れ性を充分に満足さ
せることが出来なくなるため、好ましくない。この原子
比(C/Si)が0.9未満のシリコーン樹脂微粒子と
は、例えばRがメチル基の場合、即ちポリメチルシルセ
スキオキサン微粒子の場合表面シラノール基の含有率が
高かったり、メチル基の少ないシリコーン微粒子などが
該当する例として挙げられる。Further, in the present invention, carbon which is a constituent element of an organic group on the surface of the silicone resin fine particles,
In the measurement by photoelectron spectroscopy, the atomic ratio (C / Si) to the silicon element, which is the skeleton element of the silicone resin fine particles, needs to be 0.9 or more. This atomic ratio (C /
If Si) is less than 0.9, it is not preferable because the film cannot sufficiently satisfy the slipperiness and abrasion resistance of the film, which are characteristics of the organic particles. The silicone resin fine particles having an atomic ratio (C / Si) of less than 0.9 include, for example, when R is a methyl group, that is, when polymethylsilsesquioxane fine particles have a high content of surface silanol groups or a methyl group. Silicone fine particles with a low content are applicable examples.
【0026】本発明におけるシリコーン樹脂微粒子の平
均粒径は0.05〜3μmであり、好ましくは0.3〜
2.0μmである。この平均粒径が0.05μm未満で
は滑り性や耐削れ性の向上効果が得られ難く、一方3μ
mを超えるとフイルムの表面平坦性が得られ難いため好
ましくない。また、シリコーン樹脂微粒子は、粒子形状
が球状である方が滑り性付与に特に効果的であり好まし
い。The average particle size of the silicone resin fine particles in the present invention is 0.05 to 3 μm, preferably 0.3 to 3 μm.
2.0 μm. When the average particle diameter is less than 0.05 μm, it is difficult to obtain the effect of improving the slipperiness and the abrasion resistance.
If it exceeds m, it is difficult to obtain surface flatness of the film, which is not preferable. Further, it is preferable that the silicone resin fine particles have a spherical particle shape, which is particularly effective for imparting slipperiness.
【0027】本発明におけるシリコーン樹脂微粒子の添
加量は、ポリエステルの重量に対して、0.05〜5重
量%である。この添加量が少なすぎるとフイルムの滑り
性が悪くなり、一方添加量が多すぎるとポリマー中の分
散性が十分でなくなる等の問題が生じる。The addition amount of the silicone resin fine particles in the present invention is 0.05 to 5% by weight based on the weight of the polyester. If the addition amount is too small, the slipperiness of the film deteriorates, while if the addition amount is too large, problems such as insufficient dispersibility in the polymer arise.
【0028】本発明においては、ポリエステル組成物は
シリコーン樹脂微粒子を単独で含有してもよいが、フイ
ルムの用途や物性によっては他の微粒子すなわち他の有
機微粒子及び/又は不活性無機粒子との組合せで含有し
ても良い。この他の有機微粒子としては架橋ポリスチレ
ン微粒子、架橋アクリル樹脂微粒子、メラミン樹脂微粒
子等を、またこの不活性無機微粒子としては酸化アルミ
ニウム、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、
炭酸カルシウム、カオリン、クレー、カーボンブラック
等を例示することができる。前記酸化アルミニウムとし
ては結晶形態として種々のものをとることができるが、
α型、γ型、δ型、θ型、κ型の酸化アルミニウムが好
ましく、特にγ型、δ型、θ型の酸化アルミニウムが好
ましい。In the present invention, the polyester composition may contain the silicone resin fine particles alone, but depending on the use and physical properties of the film, a combination with other fine particles, ie, other organic fine particles and / or inert inorganic particles. May be contained. Other organic fine particles include crosslinked polystyrene fine particles, crosslinked acrylic resin fine particles, melamine resin fine particles, and the like, and the inert inorganic fine particles include aluminum oxide, titanium oxide, silicon oxide, zirconium oxide,
Examples thereof include calcium carbonate, kaolin, clay, and carbon black. The aluminum oxide can take various forms as a crystal form,
α-type, γ-type, δ-type, θ-type, and κ-type aluminum oxides are preferable, and γ-type, δ-type, and θ-type aluminum oxides are particularly preferable.
【0029】シリコーン樹脂微粒子と併用する他の微粒
子は、平均粒径が0.05〜2μmであるものが好まし
い。また、併用量は、ポリエステルの重量に対して、
0.01〜2重量%であることが好ましい。The other fine particles used in combination with the silicone resin fine particles preferably have an average particle size of 0.05 to 2 μm. The combined amount is based on the weight of the polyester.
Preferably it is 0.01 to 2% by weight.
【0030】本発明においてシリコーン樹脂微粒子をポ
リエステルに分散含有させる時期は任意で良いが、ポリ
エステル製造工程では例えばテレフタル酸や2,6―ナ
フタレンジカルボン酸などを原料とする直接重合法のエ
ステル化段階、あるいはジメチルテレフタレートやジメ
チル―2,6―ナフタレンジカルボキシレートなどを原
料とするエステル交換法のエステル交換段階が好まし
く、また該微粒子を含まないポリエステル組成物を再溶
融させる際に該微粒子の粉末を直接添加させてポリエス
テル組成物としても良く、更にはポリエステルを用いて
フイルムを製造する際に該微粒子を粉末で直接添加する
方法でも構わない。ただし、該微粒子の添加時期が遅く
なるに従い、フイルム中の該微粒子の分散性を確保する
ために溶融押出し機の混練シェアを上げる等の配慮が必
要となってくる。In the present invention, the timing at which the silicone resin fine particles are dispersed and contained in the polyester may be arbitrarily determined. In the polyester production process, for example, an esterification step of a direct polymerization method using terephthalic acid or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid as a raw material, Alternatively, a transesterification step of a transesterification method using dimethyl terephthalate or dimethyl-2,6-naphthalenedicarboxylate as a raw material is preferable, and when the polyester composition containing no fine particles is remelted, the powder of the fine particles is directly used. It may be added to form a polyester composition, or a method in which the fine particles are directly added as a powder when a film is produced using polyester may be used. However, as the timing of adding the fine particles becomes late, it is necessary to take measures such as increasing the kneading share of the melt extruder in order to secure the dispersibility of the fine particles in the film.
【0031】本発明のポリエステル組成物を用いてフイ
ルムを製造する際は従来公知の方法を適用できる。例え
ば、ポリエステル組成物を溶融押出し、急冷して未延伸
フイルムを得、次いで該未延伸フイルムを二軸方向に延
伸し、熱固定し、必要であれば弛緩熱処理することによ
って製造できる。その際フイルムの表面特性、密度、熱
収縮率等の性質は、延伸条件その他の製造条件により変
化するので、必要に応じて適宜選択する。In producing a film using the polyester composition of the present invention, a conventionally known method can be applied. For example, the polyester composition can be manufactured by melt extrusion, quenching to obtain an unstretched film, and then stretching the unstretched film biaxially, heat setting, and, if necessary, relaxation heat treatment. At this time, properties such as surface characteristics, density, and heat shrinkage of the film vary depending on stretching conditions and other manufacturing conditions, and are appropriately selected as needed.
【0032】例えば、前記未延伸フイルムを一軸方向
(縦方向または横方向)に[Tg−10]〜[Tg+6
0]℃の温度(ただし、Tg:ポリエステルのガラス転
移温度)で2.5倍以上、好ましくは3倍以上の倍率で
延伸し、次いで上記延伸方向と直角方向にTg〜[Tg
+70]℃の温度で2.5倍以上、好ましくは3倍以上
の倍率で延伸させるのが好ましい。さらに必要に応じて
縦方向および/または横方向に再度延伸してもよい。こ
のようにして全延伸倍率は、面積延伸倍率として9倍以
上が好ましく、12〜35倍がさらに好ましく、15〜
25倍が特に好ましい。、さらにまた、二軸延伸フイル
ムは、[Tg+70]℃〜[Tm−10]℃の温度(た
だし、Tm:ポリエステルの融点)で熱固定することが
でき、例えば180〜250℃の温度で熱固定するのが
好ましい。熱固定時間は1〜60秒が好ましい。For example, the unstretched film is placed in a uniaxial direction (longitudinal direction or lateral direction) from [Tg-10] to [Tg + 6].
0] ° C. (however, Tg: glass transition temperature of polyester) at a stretching ratio of 2.5 times or more, preferably 3 times or more, and then Tg to [Tg] in a direction perpendicular to the stretching direction.
It is preferable that the film is stretched at a temperature of +70] ° C. at a magnification of 2.5 times or more, preferably 3 times or more. Further, if necessary, the film may be stretched again in the machine direction and / or the cross direction. Thus, the total stretching ratio is preferably 9 times or more, more preferably 12 to 35 times, and more preferably 15 to 15 times, as the area stretching ratio.
25 times is particularly preferred. Furthermore, the biaxially stretched film can be heat-set at a temperature of [Tg + 70] ° C to [Tm-10] ° C (where Tm is the melting point of the polyester), for example, at a temperature of 180 to 250 ° C. Is preferred. The heat setting time is preferably 1 to 60 seconds.
【0033】本発明においてポリエステルフイルムは単
層フイルムでもよいが、場合によっては二層以上の積層
フイルムであることもできる。この場合ポリエステル組
成物からなるフイルム層が最外層の少くとも一方を構成
するようにする。このフイルム層の厚みは0.3μm以
上であることが好ましい。In the present invention, the polyester film may be a single-layer film, but may be a laminated film having two or more layers in some cases. In this case, the film layer made of the polyester composition constitutes at least one of the outermost layers. The thickness of this film layer is preferably 0.3 μm or more.
【0034】前記ポリエステルフイルムの(総)厚みは
単層フイルムでも積層フイルムでも4〜25μm、更に
は5〜20μmであることが好ましい。The (total) thickness of the polyester film, whether it is a single-layer film or a laminated film, is preferably 4 to 25 μm, more preferably 5 to 20 μm.
【0035】本発明のポリエステルフイルムは、安定し
た滑り性と耐削れ性に優れ更に製膜時の安定生産性に効
果的で、特に磁気記録媒体のベースフイルムとして有用
である。The polyester film of the present invention is excellent in stable slipperiness and abrasion resistance, and is effective for stable productivity during film formation, and is particularly useful as a base film of a magnetic recording medium.
【0036】[0036]
【実施例】以下、実施例にて本発明を詳述する。また、
本発明における種々の物性値及び特性は以下の如くして
測定されたものでありかつ定義される。The present invention will be described below in detail with reference to examples. Also,
Various physical properties and properties in the present invention were measured and defined as follows.
【0037】(1)赤外分光法によるシラノール基の測
定 米国パーキンエルマー社製PERKIN ELMER9
83 IR SPECTRO―METERにて、常法と
して知られているKBr法により赤外分析を行い、得ら
れたIRチャートより、Si―OHに帰属する900c
m-1付近をピークとする吸収強度(ISi−OH)がSi―
O―Siに帰属する1000〜1100cm-1付近をピ
ークとする吸収強度(ISi-O-Si )との相対吸収強度
(数1)として表わす。(帰属吸収ピークについての文
献:「赤外線吸収とラマン効果」共立全書(1958)
など)(1) Measurement of Silanol Group by Infrared Spectroscopy PERKIN ELMER9 manufactured by Perkin Elmer, USA
Infrared analysis was carried out by 83 IR SPECTRO-METER by KBr method which is known as a usual method, and from the obtained IR chart, 900c belonging to Si-OH was obtained.
The absorption intensity (I Si-OH ) having a peak near m -1 is Si-
It is expressed as a relative absorption intensity (Equation 1) with an absorption intensity (I Si-O-Si ) having a peak around 1000 to 1100 cm -1 belonging to O-Si . (Literature on imputed absorption peak: "Infrared absorption and Raman effect" Kyoritsu Zensho (1958)
Such)
【0038】[0038]
【数1】 (Equation 1)
【0039】なお、それぞれの吸収強度については[図
1]に示すようにベースの透過率T0%と吸収ピークに
おける透過率T%を次の式(数2)により求める。For each of the absorption intensities, as shown in FIG. 1, the base transmittance T 0 % and the transmittance T% at the absorption peak are obtained by the following equation (Equation 2).
【0040】[0040]
【数2】I=log(T0 /T)## EQU2 ## I = log (T 0 / T)
【0041】(2)光電子分光法による粒子表面のC/
Si原子比の測定 英国のVGサイエンティフィック社製ESCA LAB
―200X線光電子分光装置で励起X線はMg―Kα線
を用いて測定する。粉体厚み1mmの層状として測定
し、C、O、Si各元素の検出ピーク面積から、下記の
それぞれの感度係数を用いて原子数比に換算し、更に炭
素とケイ素の表面原子比(C/Si)を計算により求め
る。(2) C /
Measurement of Si atomic ratio ESCA LAB manufactured by VG Scientific, UK
Excitation X-rays are measured with a 200 X-ray photoelectron spectrometer using Mg-Kα rays. The powder was measured as a layer having a thickness of 1 mm, and converted from the detection peak areas of the C, O, and Si elements into atomic ratios using the following respective sensitivity coefficients, and further, the surface atomic ratio of carbon and silicon (C / Si) is obtained by calculation.
【0042】各元素の感度係数:C=1 O=2.85 Si=0.865Sensitivity coefficient of each element: C = 1 O = 2.85 Si = 0.865
【0043】(3)粒子の平均粒径(d) (i)粒体から平均粒径を求める場合 島津製作所製SA―CP4L型セントリフュグル パー
ティクル サイズ アナライザー(Centrifugal Partic
le Size Analyzer)を用いて得られる遠心沈降曲線を基
に算出した粒径とその粒径を有する粒子の存在量との積
算曲線から、50マスパーセントに相当する粒径を読み
取り、この値を上記平均粒径とする。(3) Average particle size of particles (d) (i) In the case of calculating average particle size from granules SA-CP4L type centrifugal particle size analyzer (Centrifugal Partic acid) manufactured by Shimadzu Corporation
le Size Analyzer), the particle size corresponding to 50 mass percent was read from the integrated curve of the particle size calculated based on the centrifugal sedimentation curve and the abundance of the particles having the particle size. The average particle size is used.
【0044】(ii)フイルム中の粒子の場合 試料フイルム小片を走査型電子顕微鏡用試料台に固定
し、日本電子(株)製スパッターリング装置(JFC―
1100型イオンエッチング装置)を用いてフイルム表
面に下記条件にてイオンエッチング処理を施す。条件
は、ベルジャー内に試料を設置し、約10-3Torrの
真空状態まで真空度を上げ、電圧0.25kV、電流1
2.5mAにて約10分間イオンエッチングを実施す
る。更に同装置にて、フイルム表面に金スパッターを施
し、走査型電子顕微鏡にて50,000〜10,000
倍で観察し、日本レギュレーター(株)製ルーゼックス
500にて少なくとも100個の粒子の等価球径分布を
求め、その重量積算50%の点より算出する。(Ii) In the case of particles in the film A small piece of the sample film was fixed on a sample stage for a scanning electron microscope, and a sputtering device (JFC-
The film surface is subjected to ion etching under the following conditions using a 1100 type ion etching apparatus). The conditions were as follows: the sample was placed in a bell jar, the degree of vacuum was raised to a vacuum state of about 10 −3 Torr, the voltage was 0.25 kV, and the current was 1
Perform ion etching at 2.5 mA for about 10 minutes. Further, the film surface was subjected to gold sputtering by the same apparatus, and 50,000 to 10,000 by a scanning electron microscope.
Observed at × 2, the equivalent spherical diameter distribution of at least 100 particles is determined by Luzex 500 manufactured by Nippon Regulator Co., Ltd., and calculated from the point of 50% by weight integration.
【0045】(4)フイルムの走行摩擦係数(μk) 図2に示した装置を用いて下記のようにして測定する。
図2中、1は巻出しリール、2はテンションコントロー
ラー、3,5,6,8,9および11はフリーローラ
ー、4はテンション検出機(入口)、7はステンレス鋼
SUS304製の固定棒(外径5mmφ,表面粗Ra=
0.02μm)、10はテンション検出機(出口)、1
2はガイドローラー、13は巻取りリールをそれぞれ示
す。(4) Coefficient of running friction of film (μk) Measured as follows using the apparatus shown in FIG.
In FIG. 2, 1 is an unwinding reel, 2 is a tension controller, 3, 5, 6, 8, 9 and 11 are free rollers, 4 is a tension detector (entrance), and 7 is a stainless steel SUS304 fixing rod (outside). Diameter 5mmφ, surface roughness Ra =
0.02 μm), 10 is a tension detector (outlet), 1
2 indicates a guide roller, and 13 indicates a take-up reel.
【0046】温度20℃、湿度60%の環境で、巾1/
2インチに裁断したフイルムを固定棒7に角度θ=(1
52/180)πラジアン(152°)で接触させて毎
分200cmの速さで移動(摩擦)させる。入口テンシ
ョンT1 が35gとなるようにテンションコントローラ
ー2を調整した時の出口テンション(T2 :g)をフイ
ルムが90m走行したのちに出口テンション検出機で検
出し、次式で走行摩擦係数μkを算出する。In an environment of a temperature of 20 ° C. and a humidity of 60%, the width 1 /
The film cut into 2 inches is fixed to the fixing rod 7 at an angle θ = (1
52/180) Move (friction) at a speed of 200 cm per minute with contact at π radians (152 °). The outlet tension (T 2 : g) when the tension controller 2 is adjusted so that the inlet tension T 1 becomes 35 g is detected by the outlet tension detector after the film has run 90 m, and the running friction coefficient μk is calculated by the following equation. calculate.
【0047】[0047]
【数3】 μk=(2.303/θ)log(T2 /T1 ) =0.868log(T2 /35)Equation 3] μk = (2.303 / θ) log (T 2 / T 1) = 0.868log (T 2/35)
【0048】(5)フイルム表面の平坦性 Ra(中心線平均粗さ)をJIS B 0601に準じ
て測定する。東京精密社(株)製の触針式表面粗さ計
(SURFCOM3B)を用いて、針の半径2μm、荷
重0.07gの条件下にチャート(フイルム表面粗さ曲
線)をかかせ、得られるフイルム表面粗さ曲線からその
中心線の方向に測定長さLの部分を抜き取り、この抜き
取り部分の中心線をX軸とし、縦倍率の方向をY軸とし
て、粗さ曲線Y=f(x)で表わしたとき、次の式で与
えられる値(Ra:μm)をフイルム表面の平坦性とし
て定義する。(5) Film surface flatness Ra (center line average roughness) is measured according to JIS B0601. Using a stylus-type surface roughness meter (SURFCOM3B) manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., apply a chart (film surface roughness curve) under the conditions of a needle radius of 2 μm and a load of 0.07 g to obtain a film. A portion of the measured length L is extracted from the surface roughness curve in the direction of the center line, and the center line of the extracted portion is set as the X axis, the direction of the vertical magnification is set as the Y axis, and the roughness curve Y = f (x). When expressed, the value (Ra: μm) given by the following equation is defined as the flatness of the film surface.
【0049】[0049]
【数4】 (Equation 4)
【0050】本発明では、基準長を0.25mmとして
8個測定し、値の大きい方から3個除いた5個の平均値
としてRa(μm)を表わす。In the present invention, eight measurements are made with the reference length set to 0.25 mm, and Ra (μm) is expressed as an average value of five values, excluding three values from the larger value.
【0051】(6)耐削れ性 走行摩擦係数μkの測定に使用した図1と同様の装置に
おいて、巻き付け角度を30度として毎分300mの速
さで入口張力が50gとなるようにして600m走行さ
せる。走行後に固定棒7上に付着した削れ粉および走行
後テープのスクラッチを評価する。このとき固定棒7と
して、SUS焼結板を円柱形に曲げた表面仕上げ不十分
な6φmmのテープガイド(表面粗さRa=0.15μ
m)を用いる。 <削れ粉判定> ◎:削れ粉が全く見られない。 ○:うっすらと削れ粉が見られる。 △:削れ粉の存在が一見して判る。 ×:削れ粉がひどく付着している。(6) Abrasion resistance In the same apparatus as used in FIG. 1 used for measuring the running friction coefficient μk, the winding angle was set to 30 degrees and the inlet tension was set to 50 g at a speed of 300 m / min. Let it. The scraping of the shavings adhering to the fixed bar 7 after running and the scratch of the tape after running are evaluated. At this time, as a fixing rod 7, a 6φmm tape guide (surface roughness Ra = 0.15μ) with insufficient surface finish obtained by bending a SUS sintered plate into a cylindrical shape
m). <Determination of shavings> A: No shavings are observed. :: Shaved powder is slightly observed. Δ: The presence of shavings can be seen at a glance. X: The shavings are badly adhered.
【0052】[実施例1] (1)シリコーン樹脂微粒子の製造:撹拌翼付きの10
リットルのガラス容器に0.2重量%の水酸化ナトリウ
ムを含む水溶液7000gを張り込み、上層へ1000
gのメチルトリメトキシシランを静かに注入し、2層を
形成したのち10〜15℃で20rpmの回転数で3時
間界面反応させ、これにより粒子を生成させた。その後
温度を70℃として4時間熟成し、冷却後、減圧濾過機
で濾過し、続いて3000gの水で洗浄を行い、水分約
50%のシリコーン樹脂微粒子のケーク状物を得た。次
にシランカップリング剤として信越化学工業(株)製K
BM603(N―β(アミノエチル)γ―アミノプロピ
ルトリメトキシシラン)の2%水溶液2000gを濾過
機上の前記ケーク状物の上に注ぎ、減圧濾過することで
表面処理を施した。得られたケークを90℃で15To
rrにて2時間減圧乾燥し、更に150℃で5時間常圧
乾燥を行い、シリコーン樹脂微粒子粉末約400gを得
た。[Example 1] (1) Production of silicone resin fine particles: 10 with stirring blade
7000 g of an aqueous solution containing 0.2% by weight of sodium hydroxide is placed in a liter glass container, and 1000 g of an aqueous solution is added to the upper layer.
g of methyltrimethoxysilane was gently injected, and after two layers were formed, an interfacial reaction was performed at 10 to 15 ° C. at a rotation speed of 20 rpm for 3 hours, thereby forming particles. Thereafter, the mixture was aged at a temperature of 70 ° C. for 4 hours, cooled, filtered with a reduced pressure filter, and subsequently washed with 3000 g of water to obtain a cake of silicone resin fine particles having a water content of about 50%. Next, K as a silane coupling agent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
2000 g of a 2% aqueous solution of BM603 (N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane) was poured onto the cake-like material on a filter, and subjected to surface treatment by filtration under reduced pressure. The cake obtained is kept at 90 ° C for 15
The resultant was dried under reduced pressure at rr for 2 hours, and further dried under normal pressure at 150 ° C. for 5 hours to obtain about 400 g of silicone resin fine particle powder.
【0053】得られた該微粒子は電子顕微鏡で観察した
ところ、粒子形状は真球状であり、更に先に示した遠心
沈降法で求めた粒度分布は、重量の90%以上が0.5
〜0.7μmに入る粒径の揃った、平均粒径0.6μm
の微粒子であった。When the obtained fine particles were observed with an electron microscope, the particle shape was a true sphere, and the particle size distribution obtained by the centrifugal sedimentation method described above showed that 90% or more of the weight was 0.5%.
The average particle size is 0.6 μm with a uniform particle size of ~ 0.7 μm
Of fine particles.
【0054】該微粒子について、先に示した赤外分光法
により測定したシラノール基の相対吸収強度は0.0
1、光電子分光法により測定した表面原子比(C/S
i)は1.2であった。With respect to the fine particles, the relative absorption intensity of the silanol group measured by the infrared spectroscopy described above was 0.0
1. Surface atomic ratio (C / S) measured by photoelectron spectroscopy
i) was 1.2.
【0055】(2)シリコーン樹脂微粒子を含むポリエ
ステル組成物の製造:ジメチルテレフタレートとエチレ
ングリコールとを原料とし、常法により、エステル交換
触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として三酸化アン
チモンを、安定剤として亜燐酸を加え、更にエステル交
換反応末期に(1)で得られたシリコーン樹脂微粒子を
常法により十分に分散状態とした20重量%のエチレン
グリコールスラリーとして、ジメチルテレフタレートに
対し該微粒子として0.10重量%相当量加え、続いて
重合反応を行い、固有粘度(オルソクロロフェノール、
35℃)0.62のポリエステル(ポリエチレンテレフ
タレート)組成物を得た。該ポリエステルは、Tg70
℃、Tm257℃であった。(2) Production of polyester composition containing silicone resin fine particles: Using dimethyl terephthalate and ethylene glycol as raw materials, manganese acetate is used as a transesterification catalyst, antimony trioxide is used as a polymerization catalyst, and a stabilizer is used as a stabilizer. Phosphorous acid was added, and at the end of the transesterification reaction, the silicone resin fine particles obtained in (1) were dispersed sufficiently by a conventional method in a 20% by weight ethylene glycol slurry. % By weight, followed by a polymerization reaction, and the intrinsic viscosity (orthochlorophenol,
(35 ° C.) 0.62 polyester (polyethylene terephthalate) composition was obtained. The polyester has a Tg of 70.
° C and Tm of 257 ° C.
【0056】(3)ポリエステル組成物のフイルム化:
(2)で得られたポリエステル組成物のペレットを17
0℃で3時間乾燥後、押出機ホッパーに供給し、溶融温
度280〜300℃で溶融し、この溶融ポリマーを1m
mのスリット状ダイを通して表面温度30℃の回転冷却
ドラム上に押出し、急冷して未延伸フイルムを得た。(3) Filming the polyester composition:
Pellets of the polyester composition obtained in (2) were mixed with 17
After drying at 0 ° C for 3 hours, the mixture was fed to an extruder hopper and melted at a melting temperature of 280 to 300 ° C.
Then, the mixture was extruded through a slit die having a surface temperature of 30 ° C. onto a rotating cooling drum and rapidly cooled to obtain an unstretched film.
【0057】このようにして得られた未延伸フイルムを
75℃にて予熱し、更に低速、高速のロール間で15m
m上方より900℃の表面温度のIRヒーター1本にて
加熱して3.6倍に延伸し、急冷し、続いてステンター
に供給し、105℃にて横方向に3.7倍に延伸した。
得られた二軸配向フイルムを205℃の温度で5秒間熱
固定し、厚み15μmの熱固定二軸配向ポリエステルフ
イルムを得た。The unstretched film thus obtained was preheated at 75.degree.
m, heated by one IR heater having a surface temperature of 900 ° C. from above, stretched 3.6 times, quenched, then supplied to a stenter, and stretched 3.7 times laterally at 105 ° C. .
The obtained biaxially oriented film was heat-set at a temperature of 205 ° C. for 5 seconds to obtain a heat-set biaxially oriented polyester film having a thickness of 15 μm.
【0058】なお、上記未延伸フイルムの製造に際して
は、ダイから押出されたフイルム状の溶融ポリマーに、
静電ワイヤーに6KVの電圧をかけた静電印加法により
静電気を印加してドラムに密着させた。このフイルム製
造の開始直後(時間0)と1時間経時点の静電ワイヤー
に流れる電流を測定し、この間の電流低下率を次式によ
り求め、静電ワイヤー汚れの相対評価を行った。In the production of the unstretched film, the film-shaped molten polymer extruded from the die is
Static electricity was applied by an electrostatic application method in which a voltage of 6 KV was applied to the electrostatic wire, and the electrostatic wire was brought into close contact with the drum. The current flowing through the electrostatic wire immediately after the start of the film production (time 0) and one hour later was measured, and the current reduction rate during this time was determined by the following formula, and the relative evaluation of the electrostatic wire contamination was performed.
【0059】[0059]
【数5】 (Equation 5)
【0060】得られたフイルムの特性および電流低下率
を表1に示す。Table 1 shows the characteristics and the current reduction rate of the obtained film.
【0061】[比較例1]実施例1における、シランカ
ップリング剤による表面処理を省略し、減圧乾燥条件を
90℃で15Torrにて4時間とした外は、実施例1
と同様にしてシラノール樹脂微粒子を得た。該微粒子の
シラノール基の相対吸収強度は0.14、表面原子比
(C/Si)は0.87であった。該微粒子を含むポリ
エステル組成物の製造、およびフイルム化は全て実施例
1と同様に実施した。この結果を表2に示す。Comparative Example 1 Example 1 was repeated except that the surface treatment with the silane coupling agent was omitted and the drying under reduced pressure was 90 ° C. and 15 Torr for 4 hours.
Silanol resin fine particles were obtained in the same manner as described above. The relative absorption intensity of silanol groups of the fine particles was 0.14, and the surface atomic ratio (C / Si) was 0.87. Production of the polyester composition containing the fine particles and film formation were all carried out in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results.
【0062】[実施例2、比較例2]実施例2は、実施
例1のシランカップリング剤による表面処理において該
シランカップリング剤の処理中の濃度を1.0%とした
外は、全て実施例1と同様に実施した。この結果を表1
に示す。Example 2, Comparative Example 2 In Example 2, the surface treatment with the silane coupling agent of Example 1 was carried out except that the concentration of the silane coupling agent during the treatment was 1.0%. It carried out similarly to Example 1. Table 1 shows the results.
Shown in
【0063】また、比較例2は実施例2におけるシリコ
ーン樹脂微粒子の製造時の乾燥条件(実施例1に同じ)
を90℃で15Torrにて4時間とした外は実施例2
と同様に実施した。この結果を表2に示す。In Comparative Example 2, the drying conditions during production of the silicone resin fine particles in Example 2 were the same (same as in Example 1).
Example 2 except that the temperature was changed to 4 hours at 90 ° C. and 15 Torr.
Was performed in the same manner as described above. Table 2 shows the results.
【0064】[実施例3]実施例1におけるシリコーン
樹脂微粒子製造時の乾燥条件を90℃で15Torrに
て4時間、更に200℃で常圧で10時間実施した外は
全て実施例1と同様に実施した。この結果を表1に示
す。Example 3 The same conditions as in Example 1 were used except that the drying conditions in the production of the silicone resin fine particles in Example 1 were 90 ° C. at 15 Torr for 4 hours and 200 ° C. at normal pressure for 10 hours. Carried out. Table 1 shows the results.
【0065】[比較例3]比較例1のシリコーン樹脂微
粒子製造時の減圧乾燥条件を、120℃で15Torr
にて10時間と強化した外はいずれも比較例1と同様に
実施した。この結果を表2に示す。[Comparative Example 3] The drying conditions under reduced pressure at the time of producing the silicone resin fine particles of Comparative Example 1 were set at 120 ° C. and 15 Torr.
All were carried out in the same manner as in Comparative Example 1 except that the temperature was strengthened to 10 hours. Table 2 shows the results.
【0066】実施例1〜3ではいずれもフイルム特性を
満足しかつ、静電ワイヤーの電流低下率が4%以下と低
く良好であったのに対し、比較例1ではシラノール基の
相対吸収強度、表面原子比(C/Si)のいずれもが、
又比較例2、3ではこれらのいずれかが本発明の範囲を
外れているため、フイルム特性および/又は静電ワイヤ
ーの電流低下率のいずれかが劣る結果となった。In Examples 1 to 3, the film characteristics were all satisfied and the current reduction rate of the electrostatic wire was as low as 4% or less, which was good, whereas in Comparative Example 1, the relative absorption strength of the silanol group was low. Both surface atomic ratios (C / Si)
Further, in Comparative Examples 2 and 3, any one of them was out of the range of the present invention, so that either one of the film characteristics and / or the current reduction rate of the electrostatic wire was inferior.
【0067】[実施例4、比較例4]いずれもポリエス
テルをポリエチレンテレフタレートから、ポリエチレン
ナフタレートに変えて実施した。Example 4 and Comparative Example 4 In each case, the polyester was changed from polyethylene terephthalate to polyethylene naphthalate.
【0068】(1)シリコーン樹脂微粒子の製造:実施
例4は実施例1と、比較例4は比較例1と同様にそれぞ
れ実施した。(1) Production of Silicone Resin Fine Particles: Example 4 was carried out in the same manner as in Example 1, and Comparative Example 4 was carried out in the same manner as Comparative Example 1.
【0069】(2)ポリエステル組成物の製造及びフイ
ルム化:以下に示す方法で実施例4、比較例4共に全く
同様に実施。(2) Production of polyester composition and film formation: Both of Example 4 and Comparative Example 4 were carried out in exactly the same manner by the following method.
【0070】実施例1のポリエステル原料のうち、ジメ
チルテレフタレートに代えて2,6―ナフタレンジカル
ボン酸ジメチルエステルを用いる外は実施例1、比較例
4と同様にしてポリエステル(ポリエチレンナフタレー
ト)を得た。得られたポリエステルはTg120℃、T
m267℃であった。A polyester (polyethylene naphthalate) was obtained in the same manner as in Example 1 and Comparative Example 4, except that dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylate was used instead of dimethyl terephthalate among the polyester raw materials in Example 1. . The obtained polyester has a Tg of 120 ° C.
m 267 ° C.
【0071】続いて前記ポリエステルのペレットを17
0℃、3時間乾燥後、押出機ホッパーに供給し、溶融温
度290〜310℃で溶融し、この溶融ポリマーを1m
mのスリット状ダイを通して表面温度60℃の回転冷却
ドラム上に押出し、急冷して未延伸フイルムを得た。Subsequently, the polyester pellets were
After drying at 0 ° C for 3 hours, the mixture was fed to an extruder hopper and melted at a melting temperature of 290 to 310 ° C.
The resulting product was extruded through a slit die having a surface temperature of 60 ° C. onto a rotary cooling drum, and rapidly cooled to obtain an unstretched film.
【0072】このようにして得られた未延伸フイルムを
130℃にて予熱し、更に低速、高速のロール間で15
mm上方より900℃の表面温度のIRヒーター1本に
て加熱して3.6倍に延伸し、急冷し、続いてステンタ
ーに供給し、135℃にて横方向に3.7倍に延伸し
た。得られた二軸配向フイルムを230℃の熱風で5秒
間熱固定し、厚み15μmの熱固定二軸配向ポリエステ
ルフイルムを得た。The unstretched film thus obtained was preheated at 130 ° C., and further cooled between low-speed and high-speed rolls.
mm from above and stretched 3.6 times by heating with one IR heater having a surface temperature of 900 ° C, quenched, and then supplied to a stenter, and stretched 3.7 times in the horizontal direction at 135 ° C. . The obtained biaxially oriented film was heat-set with hot air at 230 ° C. for 5 seconds to obtain a heat-set biaxially oriented polyester film having a thickness of 15 μm.
【0073】なお、静電ワイヤー汚れの相対評価につい
ては、実施例1と同様に実施した。The relative evaluation of the contamination of the electrostatic wire was performed in the same manner as in Example 1.
【0074】この結果を表3にまとめて示すが、ポリエ
ステルがポリエチレンテレフタレートと同様に実施例4
がフイルム特性、静電ワイヤーの電流低下率が共に良好
であったのに対し、比較例4はシラノール基の相対吸収
強度が強くかつ表面原子比(C/Si)が小さくいずれ
も本発明の範囲を外れるため、静電ワイヤーの電流低下
率が大きくかつフイルム特性も劣った。The results are shown in Table 3. The results are shown in Table 3.
Although the film characteristics and the rate of current decrease of the electrostatic wire were both good, Comparative Example 4 had a high relative absorption intensity of silanol groups and a small surface atomic ratio (C / Si), and both were within the scope of the present invention. , The current drop rate of the electrostatic wire was large and the film characteristics were poor.
【0075】[実施例5]シリコーン樹脂微粒子を合成
する代りに、東芝シリコーン(株)製の、真球状の平均
粒径1.3μmのポリメチルシルセスキオキサン粉末
(商品名;トスパール120)400g(および分散助
剤としてメタノール400gを加える)を用いる外は実
施例1と同様の方法で表面処理以下を実施、ポリエステ
ル(ポリエチレンテレフタレート)組成物を得た。Example 5 Instead of synthesizing silicone resin fine particles, 400 g of a true spherical polymethylsilsesquioxane powder having an average particle diameter of 1.3 μm (trade name: Tospearl 120) manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd. Surface treatment and subsequent steps were performed in the same manner as in Example 1 except that (and 400 g of methanol was added as a dispersing aid) to obtain a polyester (polyethylene terephthalate) composition.
【0076】フイルム化は、中層に滑剤粒子を含有しな
いで常法により製造したポリエステル(ポリエチレンテ
レフタレート;固有粘度0.62)を、上下層に上記シ
リコーン樹脂微粒子を含むポリエステル組成物をそれぞ
れの押出機で280〜300℃にてマルチマニホールド
方式で押し出し、三層積層の未延伸フイルムを得た。以
下は実施例1と同様に実施し、上下の表層各々1.5μ
m、中層12μm、全体の厚み15μmの三層積層フイ
ルムを得た。The film is formed by extruding a polyester (polyethylene terephthalate; intrinsic viscosity: 0.62) produced by a conventional method without a lubricant particle in the middle layer, and a polyester composition containing the above silicone resin fine particles in the upper and lower layers, respectively. At 280-300 ° C. by a multi-manifold method to obtain a three-layer laminated unstretched film. The following is carried out in the same manner as in Example 1, and the upper and lower surface layers are each 1.5 μm.
m, a middle layer of 12 μm, and a total thickness of 15 μm were obtained.
【0077】[比較例5]実施例5で用いた、ポリメチ
ルシルセスキオキサン粉末を何ら前処理することなくそ
のまま用いて、実施例5と同様にポリエステル組成物を
得た。フイルム化以下は実施例5と全く同様の方法で実
施した。Comparative Example 5 A polyester composition was obtained in the same manner as in Example 5, except that the polymethylsilsesquioxane powder used in Example 5 was used without any pretreatment. The following steps were carried out in exactly the same manner as in Example 5.
【0078】実施例5及び比較例5の結果を表4に示す
が、実施例5がフイルム特性及び静電ワイヤーの電流低
下率がいずれも良好であったのに対し、シラノール基の
相対吸収強度が強くかつ、表面原子比(C/Si)の小
さい、いずれも本発明の範囲を外れた微粒子をそのまま
用いた比較例5は、静電ワイヤー汚れが、実施例5の5
倍以上と高く、かつ耐削れ性も劣った。The results of Example 5 and Comparative Example 5 are shown in Table 4. The results show that Example 5 was excellent in both film characteristics and current reduction rate of the electrostatic wire, whereas the relative absorption strength of the silanol group was good. Comparative Example 5 using fine particles as they are and having a small surface atomic ratio (C / Si), all of which are out of the range of the present invention, shows that the electrostatic wire contamination was 5% in Example 5.
More than twice as high, and the abrasion resistance was poor.
【0079】[実施例6]常法により製造した滑剤粒子
を含まないポリエステル(ポリエチレンテレフタレー
ト:固有粘度0.62)を2軸式溶融押出機を用いて、
実施例1のシリコーン微粒子製造方法と同様の方法で製
造した該微粒子を、定量フィーダーにてポリエステルに
対し1重量%相当量を加えながら溶融混練押出し後ペレ
ット化し、固有粘度0.60のポリエスル組成物を得
た。Example 6 A polyester (polyethylene terephthalate: intrinsic viscosity 0.62) containing no lubricant particles produced by a conventional method was subjected to a twin-screw extruder.
The fine particles produced by the same method as the method of producing the silicone fine particles of Example 1 were melt-kneaded and extruded while adding an equivalent amount of 1% by weight to the polyester with a quantitative feeder, and then pelletized to obtain a polyester composition having an intrinsic viscosity of 0.60. I got
【0080】溶融温度:260〜300℃ スクリュー:長さ1850mm(D=44mmφ)混練
機能付スクリュー 押出し速度:50kg/Hr(最大能力110kg/H
r) 続いてフイルム化に際しては、上記の溶融押出しでも用
いた、滑剤粒子を含まないポリエステルと、上記方法で
得たシリコーン樹脂微粒子を含むポリエステル組成物と
を、該微粒子の濃度が0.1重量%となるようにペレッ
トで混合し、以下実施例1と同様の方法によりフイルム
化した。Melting temperature: 260-300 ° C. Screw: length 1850 mm (D = 44 mmφ) Screw with kneading function Extrusion speed: 50 kg / Hr (maximum capacity 110 kg / H)
r) In the subsequent film formation, the polyester containing no lubricant particles and the polyester composition containing the silicone resin fine particles obtained by the above method, which were also used in the above-mentioned melt extrusion, were mixed at a concentration of 0.1% by weight of the fine particles. %, And then formed into a film in the same manner as in Example 1.
【0081】得られた結果を表1に示すが、実施例1と
同様にフイルム特性静電ワイヤーの電流低下率ともに良
好な結果が得られた。The obtained results are shown in Table 1. As in Example 1, good results were obtained in both the current reduction rate of the film characteristic electrostatic wire.
【0082】[0082]
【表1】 [Table 1]
【0083】[0083]
【表2】 [Table 2]
【0084】[0084]
【表3】 [Table 3]
【0085】[0085]
【表4】 [Table 4]
【0086】[0086]
【発明の効果】本発明によれば、フイルム化に際し静電
ワイヤー汚れが少くかつ、シリコーン樹脂微粒子含有の
滑り性と耐削れ性の共に優れるポリエステル組成物及び
ポリエステルフイルムを提供することが出来る。According to the present invention, it is possible to provide a polyester composition and a polyester film which are less contaminated by an electrostatic wire when formed into a film, and which contain both silicone resin fine particles and are excellent in both slipperiness and abrasion resistance.
【図1】シリコーン樹脂微粒子の赤外分光分析チャート
である。FIG. 1 is an infrared spectroscopic analysis chart of silicone resin fine particles.
【図2】走行摩擦係数(μk)を測定する装置の概略図
である。FIG. 2 is a schematic view of an apparatus for measuring a running friction coefficient (μk).
1 巻出しリール 2 テンションコントローラー 4 テンション検出機(入口) 7 固定棒 10 テンション検出機(出口) 13 巻取りリール DESCRIPTION OF REFERENCE NUMERALS 1 unwinding reel 2 tension controller 4 tension detector (entrance) 7 fixed rod 10 tension detector (exit) 13 take-up reel
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−128394(JP,A) 特開 平6−192426(JP,A) 特開 平5−148364(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08J 5/18 CFD C08G 77/00 - 77/62 C08L 83/00 - 83/16 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-6-128394 (JP, A) JP-A-6-192426 (JP, A) JP-A-5-148364 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 7 , DB name) C08J 5/18 CFD C08G 77/00-77/62 C08L 83/00-83/16
Claims (5)
れる結合単位からなり、赤外分光法で求めたシラノール
基(Si―OH結合)のSi―O―Si結合に対する相
対吸収強度(ISi−OH/ISi-O-Si )が0.05以下で
ありかつ光電子分光法で求めた炭素とケイ素の表面原子
比(C/Si)が0.9以上である、平均粒径0.05
〜3μmのシリコーン樹脂微粒子をポリエステルの重量
に対して0.005〜5重量%含有していることを特徴
とするポリエステル組成物。 【化1】RSiO3/2 (ここで、Rは炭素数1〜6のアルキル基及びフェニル
基から選ばれる少くとも一種である。)1. At least 80% by weight of particles are composed of a bonding unit represented by the following formula, and the relative absorption intensity (I) of a silanol group (Si—OH bond) with respect to a Si—O—Si bond determined by infrared spectroscopy. (Si-OH / I Si-O-Si ) is 0.05 or less and the surface atomic ratio (C / Si) of carbon and silicon determined by photoelectron spectroscopy is 0.9 or more. 05
A polyester composition containing from 0.005 to 5% by weight of silicone resin fine particles of from 3 to 3 μm based on the weight of the polyester. ## STR1 ## RSiO 3/2 (wherein, R is one at least selected from the group consisting of alkyl groups and phenyl groups having 1 to 6 carbon atoms.)
のポリメチルシルセスキオキサンからなる微粒子である
請求項1記載のポリエステル組成物。2. The polyester composition according to claim 1, wherein the silicone resin particles are substantially spherical particles of polymethylsilsesquioxane.
レートまたはポリアルキレンナフタレートである請求項
1記載のポリエステル組成物。3. The polyester composition according to claim 1, wherein the polyester is a polyalkylene terephthalate or a polyalkylene naphthalate.
ステル組成物からなる二軸配向ポリエステルフイルム。4. A biaxially oriented polyester film comprising the polyester composition according to claim 1.
り、その少くとも一層が請求項1〜3のいずれかに記載
のポリエステル組成物からなる二軸配向ポリエステルフ
イルム。5. A biaxially oriented polyester film, wherein the film is a laminated film having two or more layers, at least one of which is made of the polyester composition according to claim 1.
Priority Applications (1)
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| JP6302163A JP3043584B2 (en) | 1994-12-06 | 1994-12-06 | Polyester composition and polyester film |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP6302163A JP3043584B2 (en) | 1994-12-06 | 1994-12-06 | Polyester composition and polyester film |
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|---|---|
| JPH08157618A JPH08157618A (en) | 1996-06-18 |
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- 1994-12-06 JP JP6302163A patent/JP3043584B2/en not_active Expired - Lifetime
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| JPH08157618A (en) | 1996-06-18 |
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