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JP3046909B2 - Charged particle beam dump device - Google Patents
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JP3046909B2 - Charged particle beam dump device - Google Patents

Charged particle beam dump device

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JP3046909B2
JP3046909B2 JP6131772A JP13177294A JP3046909B2 JP 3046909 B2 JP3046909 B2 JP 3046909B2 JP 6131772 A JP6131772 A JP 6131772A JP 13177294 A JP13177294 A JP 13177294A JP 3046909 B2 JP3046909 B2 JP 3046909B2
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particle beam
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trajectory
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早憲 武井
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、例えば荷電粒子ビー
ム加速設備に利用される荷電粒子ビームダンプ装置に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a charged particle beam dump device used for a charged particle beam acceleration facility, for example.

【0002】[0002]

【従来の技術】図12は例えば特開昭63−20289
6号公報に示されたビームダンプ装置の原理図である。
図において1は荷電粒子ビーム発生装置、2は荷電粒子
ビーム加速管であり、1、2で直線加速形の荷電粒子ビ
ーム加速装置を構成している。3は荷電粒子ビームを偏
向させるための偏向電磁石、5は偏向電磁石励磁用の直
流電源、6は偏向電磁石励磁用の交流電源、4は荷電粒
子ビームのエネルギーを吸収させるためのビームダンプ
本体、7は偏向前のビーム軌道、8は偏向後のビーム軌
道をそれぞれ示している。
2. Description of the Related Art FIG.
FIG. 6 is a principle diagram of a beam dump device disclosed in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 6-2006.
In the figure, 1 is a charged particle beam generator, 2 is a charged particle beam acceleration tube, and 1 and 2 constitute a linear acceleration type charged particle beam accelerator. 3 is a deflection electromagnet for deflecting the charged particle beam, 5 is a DC power supply for exciting the deflection electromagnet, 6 is an AC power supply for exciting the deflection electromagnet, 4 is a beam dump body for absorbing energy of the charged particle beam, 7 Denotes a beam trajectory before deflection, and 8 denotes a beam trajectory after deflection.

【0003】次に動作について説明する。荷電粒子ビー
ム加速装置1、2より出射された荷電粒子ビーム7は、
偏向電磁石3を励磁することにより偏向されて、ビーム
ダンプ本体4に入射され、熱エネルギーとなって消滅す
る。偏向電磁石を直流電源5と交流電源6とにより直流
電流に交流電流を重畳させて励磁することにより、荷電
粒子ビーム7は、その軌道が同一平面状を左右に振られ
ながらビームダンプ本体4に入射されるのでビームダン
プ本体での局部集中が防止できる。
Next, the operation will be described. The charged particle beam 7 emitted from the charged particle beam accelerators 1 and 2 is
The beam is deflected by exciting the bending electromagnet 3, enters the beam dump main body 4, and disappears as heat energy. The charged particle beam 7 is incident on the beam dump main body 4 while its orbit is swung right and left on the same plane by exciting the bending electromagnet by superimposing an alternating current on a direct current by a direct current power supply 5 and an alternating current power supply 6. Therefore, local concentration in the beam dump main body can be prevented.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来のビームダンプ装
置は以上のように局部的な発熱を防止できるように構成
されているが、強度の大きな荷電粒子ビームに対しては
入射面積あたりの入射エネルギーが大きくなり、入射面
が損傷しあるいは融解する恐れがあるという欠点があっ
た。
Although the conventional beam dump device is constructed so as to prevent local heat generation as described above, the incident energy per incident area with respect to a charged particle beam having a high intensity is considered. And the incident surface may be damaged or melted.

【0005】この発明は、上記のような課題を解決する
ためになされたものであり、ビームダンプ本体に入射さ
れるビームを立体的に拡散させて、ビームダンプ本体へ
の入射エネルギーをより分散させることにより、信頼性
の高い荷電粒子ビームダンプ装置を得ることを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problem, and scatters a beam incident on a beam dump main body three-dimensionally to further disperse energy incident on the beam dump main body. Accordingly, it is an object to obtain a highly reliable charged particle beam dump device.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明に係る荷電粒子
ビームダンプ装置は、請求項1として、位相差をもち周
期的に強度の変化する偏向エネルギーを供給する複数の
偏向エネルギー供給手段から偏向エネルギーを供給さ
れ、荷電粒子ビームの偏向方向がそれぞれ空間的に異な
る方向になるように配置された複数のビーム偏向手段を
有するようにしたものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a charged particle beam dump device, comprising: a plurality of deflection energy supply means for supplying deflection energy having a phase difference and having a periodically changing intensity; And a plurality of beam deflecting means arranged so that the deflecting directions of the charged particle beams are spatially different from each other.

【0007】また、請求項2として、異なった回転数で
回転する複数の2極偏向磁石を有し、それぞれの2極偏
向磁石により荷電粒子ビームの軌道を偏向させるように
したようにしたものである。
According to a second aspect of the present invention, a plurality of dipole deflecting magnets rotating at different rotational speeds are provided, and the trajectory of the charged particle beam is deflected by each of the dipole deflecting magnets. is there.

【0008】また、請求項3として、回転する偏向磁石
および固定した交流の偏向エネルギーの供給を受けるビ
ーム偏向手段とを有し、回転する偏向磁石およびビーム
偏向手段とにより荷電粒子ビームの軌道を偏向するよう
にしたものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a rotating deflecting magnet and beam deflecting means for receiving a supply of fixed alternating-current deflecting energy. The trajectory of the charged particle beam is deflected by the rotating deflecting magnet and the beam deflecting means. It is something to do.

【0009】[0009]

【作用】この発明におけるビームダンプ装置は、請求項
1によれば、ビームダンプ本体に入射するビームの軌跡
が螺旋状に分散し、ビームダンプ本体の単位面積あたり
の吸収エネルギーが低くなる。
According to the first aspect of the present invention, the trajectory of the beam incident on the beam dump main body is helically dispersed, and the absorbed energy per unit area of the beam dump main body is reduced.

【0010】また、請求項2によれば、2台の2極電磁
石を異なった回転数で回転させることにより、荷電粒子
ビームの軌跡は多重円を描きながら円周方向にずれる形
で分散することになり、ビームダンプ本体の単位面積あ
たりの吸収エネルギーを低くなる。
According to the second aspect of the present invention, the trajectories of the charged particle beam are displaced in the circumferential direction while drawing multiple circles by rotating the two dipole electromagnets at different rotational speeds. And the absorbed energy per unit area of the beam dump body is reduced.

【0011】また、請求項3によれば、回転する2極偏
向磁石と固定した交流偏向電磁石により、ビームダンプ
本体に入射する荷電粒子ビームの軌跡が、波形を描きな
がら円周方向にずれて分散することになり、ビームダン
プ本体の単位面積あたりの吸収エネルギーを低くなる。
According to the third aspect, the trajectory of the charged particle beam incident on the beam dump main body is displaced in the circumferential direction while drawing a waveform by the rotating dipole deflecting magnet and the fixed AC deflecting electromagnet. Therefore, the absorbed energy per unit area of the beam dump main body is reduced.

【0012】[0012]

【実施例】【Example】

実施例1.以下、この発明の実施例1を図に基づいて説
明する。図1はこの発明の実施例1における荷電粒子ビ
ームダンプ装置の概略構成を示す側面図である。図にお
いて1、2、4、7は従来例と同様であり、説明は省略
する。3a、3bは荷電粒子ビームの軌道を偏向させる
ための偏向電磁石であり、図のように磁束の方向が直交
するように配置してある。6a、6bは電磁石3a、3
bを励磁するための交流電源装置であり、それぞれの出
力電流に90゜の位相差をつけ、またその大きさを交流
電源の周期より大きい周期で連続的かつ同期して変化す
るように構成されている。9は真空ダクトである。図3
に交流電源6a、6bの励磁電流の変化の一例を示す。
Embodiment 1 FIG. Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a side view showing a schematic configuration of a charged particle beam dump device according to Embodiment 1 of the present invention. In the figure, 1, 2, 4, and 7 are the same as in the conventional example, and the description is omitted. Reference numerals 3a and 3b denote bending electromagnets for deflecting the trajectory of the charged particle beam. 6a and 6b are electromagnets 3a and 3
b. An AC power supply device for exciting b. The power supply device has a phase difference of 90 ° with respect to each output current, and its magnitude is continuously and synchronously changed at a cycle larger than the cycle of the AC power supply. ing. 9 is a vacuum duct. FIG.
3 shows an example of a change in the exciting current of the AC power supplies 6a and 6b.

【0013】次に動作について説明する。荷電粒子ビー
ム7は、交流電源装置6a、6bの90゜の位相差をも
ちその大きさが連続的かつ同期して変化する交流電流に
より励磁された偏向電磁石3a、3bで偏向されるの
で、螺旋状の軌跡を描きながらビームダンプ本体へ入射
される。この様子を図2に示す。この実施例では、2つ
の偏向電磁石はその磁束の方向が直交するように配置さ
れ、交流電源装置の出力電流は90゜の位相差をもつも
のとしているが、ビームダンプ本体の荷電粒子ビーム入
射面の形状を適当な楕円面に設定すれば、偏向磁石の磁
束方向は任意の角度とすることができ、また交流電源装
置の出力電流は任意の位相差をもつものとすることが可
能である。またその大きさも適当かつ段階的に変化する
ようにすれば、必ずしも同期して変化する必要はない。
Next, the operation will be described. The charged particle beam 7 is deflected by the bending electromagnets 3a and 3b having a phase difference of 90 ° between the AC power supply devices 6a and 6b and excited by an alternating current whose size continuously and synchronously changes. The beam enters the beam dump body while drawing a trajectory. This is shown in FIG. In this embodiment, the two bending electromagnets are arranged so that their magnetic flux directions are orthogonal to each other, and the output current of the AC power supply has a phase difference of 90 °. If the shape is set to an appropriate elliptical surface, the direction of the magnetic flux of the deflecting magnet can be set at an arbitrary angle, and the output current of the AC power supply device can have an arbitrary phase difference. Also, if the size is changed appropriately and stepwise, it is not always necessary to change the size synchronously.

【0014】つぎに、実施例1の第1の変形例について
説明する。この変形例においては荷電粒子ビームの偏向
手段として静電偏向を用いている。図4はこの発明の実
施例1の第1の変形例におけるビームダンプ装置の概略
構成を示す側面図である。図において10a、10bは
ビーム軌道を偏向させるための偏向電極であり、図のよ
うに90゜直交して配置されている。11a、11bは
偏向電極用交流電圧電源であり、上記実施例1と同様に
それぞれの出力電圧は90゜の位相差をもち、かつその
大きさは連続的かつ同期して変化するように構成されて
いる。交流電圧電源11a、11bにより印加される偏
向電極10a、10bの電圧の変化は実施例1における
電流の変化と同等であり、その動作も上記実施例1と同
等である。偏向電極は小型でよく真空ダクト中に設置で
き、かつ電源容量が小さくてすむ等の利点がある。
Next, a first modification of the first embodiment will be described. In this modification, electrostatic deflection is used as a means for deflecting a charged particle beam. FIG. 4 is a side view showing a schematic configuration of a beam dump device according to a first modification of the first embodiment of the present invention. In the figure, reference numerals 10a and 10b denote deflecting electrodes for deflecting the beam trajectory, and are arranged orthogonally by 90 ° as shown in the figure. Reference numerals 11a and 11b denote deflecting electrode AC voltage power supplies. Each output voltage has a phase difference of 90 °, and the magnitude thereof changes continuously and synchronously as in the first embodiment. ing. The change in the voltage of the deflection electrodes 10a and 10b applied by the AC voltage power supplies 11a and 11b is the same as the change in the current in the first embodiment, and the operation is also the same as in the first embodiment. The deflection electrode is advantageous in that it is small and can be installed in a vacuum duct, and the power supply capacity is small.

【0015】つぎに、実施例1の第2の変形例について
説明する。この変形例においては荷電粒子ビームの偏向
手段として多相交流で励磁する多極電磁石を用いてい
る。図5は、この発明の実施例1の第2の変形例におけ
る荷電粒子ビームダンプ装置の概略構成図。図6はその
原理図を示す側面図である。図において、13は6極電
磁石、14は3相交流電源、15は電流増減装置であ
る。6極電磁石13の対向するそれぞれ2つの磁極は3
相交流電源14の同一相で励磁されており各磁極中央の
空間には回転磁場が形成されている。これは上記実施例
1における2つの偏向電磁石を1箇所にまとめたものと
同等なものと見ることができる。動作も上記実施例1と
同等である。なお、電磁石は6極に限ることなく2対以
上の磁極からなる多極電磁石であれば同等の効果をもた
らすことは明かである。また、第1の変形例と同様、電
磁石にかえて偏向電極を用いることができることはいう
までもない。
Next, a second modification of the first embodiment will be described. In this modification, a multipolar electromagnet which is excited by a polyphase alternating current is used as a means for deflecting a charged particle beam. FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a charged particle beam dump device according to a second modification of the first embodiment of the present invention. FIG. 6 is a side view showing the principle diagram. In the figure, 13 is a six-pole electromagnet, 14 is a three-phase AC power supply, and 15 is a current increasing / decreasing device. The two opposite magnetic poles of the six-pole electromagnet 13 are 3
Excitation is performed in the same phase of the phase AC power supply 14, and a rotating magnetic field is formed in a space at the center of each magnetic pole. This can be regarded as equivalent to the combination of the two bending electromagnets in the first embodiment at one location. The operation is the same as that of the first embodiment. It should be noted that the electromagnet is not limited to six poles, and it is clear that the same effect can be obtained if it is a multipolar electromagnet composed of two or more pairs of magnetic poles. Also, as in the first modification, it goes without saying that a deflection electrode can be used instead of the electromagnet.

【0016】実施例2.以下、この発明の実施例2を図
に基づいて説明する。図7はこの発明の実施例2におけ
るビームダンプ装置の概略構成を示す側面図である。図
において16a、16bは2極永久磁石、17は回転装
置である。
Embodiment 2 FIG. Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 7 is a side view showing a schematic configuration of a beam dump device according to Embodiment 2 of the present invention. In the figure, 16a and 16b are two-pole permanent magnets, and 17 is a rotating device.

【0017】次に動作について説明する。直線荷電粒子
ビーム7は、図8の原理図に示すように2極偏向磁石で
偏向されるが、2極偏向磁石16a、16bは回転装置
17で異なる回転数で自転しているため、ビームダンプ
への入射軌跡は図9に示すように円を描きながら公転す
るような軌跡となる。偏向磁石16a、16bは永久磁
石としてもよく外部から励磁される電磁石としてもよ
い。永久磁石を用いる場合は電磁石電源が不要となり、
安価で信頼性の高い荷電粒子ビームダンプ装置が得られ
る。以上の説明では、偏向磁石が2つの場合について述
べたが、3つ以上の偏向磁石で構成することも可能であ
る。
Next, the operation will be described. The linear charged particle beam 7 is deflected by a two-pole deflecting magnet as shown in the principle diagram of FIG. 8, but the two-pole deflecting magnets 16a and 16b are rotated by the rotating device 17 at different rotation speeds. As shown in FIG. 9, the incident trajectory is such that it revolves while drawing a circle. The deflection magnets 16a and 16b may be permanent magnets or electromagnets that are excited from the outside. When a permanent magnet is used, an electromagnet power supply is unnecessary,
An inexpensive and highly reliable charged particle beam dump device can be obtained. In the above description, the case where there are two deflecting magnets has been described, but it is also possible to configure with three or more deflecting magnets.

【0018】実施例3.以下、この発明の実施例3を図
に基づいて説明する。図10はこの発明の実施例4にお
けるビームダンプ装置の概略構成を示す側面図である。
図において16aは2極偏向磁石であり回転装置17で
回転するようになされている。3は交流電源6で励磁さ
れる偏向電磁石である。
Embodiment 3 FIG. Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 10 is a side view showing a schematic configuration of a beam dump device according to Embodiment 4 of the present invention.
In the figure, reference numeral 16a denotes a two-pole deflecting magnet which is rotated by a rotating device 17. Reference numeral 3 denotes a bending electromagnet excited by an AC power supply 6.

【0019】次に動作について説明する。荷電粒子ビー
ム7は交流電源6で励磁された偏向電磁石により偏向さ
れ、さらに2極偏向磁石16aが回転装置17にて回転
するため荷電粒子ビーム8は図11に示すように王冠状
の入射軌跡となって拡散し、ビームダンプ本体へ入射さ
れる。
Next, the operation will be described. The charged particle beam 7 is deflected by the deflection electromagnet excited by the AC power supply 6, and the dipole deflection magnet 16a is rotated by the rotating device 17, so that the charged particle beam 8 has a crown-shaped incident trajectory as shown in FIG. And diffuses and enters the beam dump body.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上のように、この発明の請求項1で
は、位相差をもち周期的に強度の変化する偏向エネルギ
ーを供給する複数の偏向エネルギー供給手段から偏向エ
ネルギーを供給され、荷電粒子ビームの偏向方向がそれ
ぞれ空間的に異なる方向になるように配置された複数の
ビーム偏向手段を有するようにしたので、荷電粒子ビー
ムの拡散量が任意に選べるので、荷電粒子ビーム拡散量
を最も効果的な冷却が可能な状態とすることが可能で、
荷電粒子ビームダンプ装置を小型で安価にすることがで
き、同時に信頼性を高くすることができる。また機械的
駆動部がないので信頼性が高く、高速に荷電粒子ビーム
拡散ができる等、品質が向上する。また、製作が容易で
あり安価にできる。
As described above, in the first aspect of the present invention, deflection energy is supplied from a plurality of deflection energy supply means for supplying deflection energy having a phase difference and periodically changing intensity, and the charged particle beam is supplied. Has a plurality of beam deflecting means arranged so that the deflection directions of the beams are spatially different from each other, so that the diffusion amount of the charged particle beam can be arbitrarily selected. It is possible to make it possible to cool
The charged particle beam dump device can be reduced in size and cost, and at the same time, the reliability can be increased. Further, since there is no mechanical driving unit, the reliability is high, and the quality is improved, for example, the charged particle beam can be diffused at high speed. In addition, it is easy to manufacture and inexpensive.

【0021】また、請求項2では、荷電粒子ビームを異
なった回転数で回転する複数の偏向磁石を有し、それぞ
れの2極偏向磁石により荷電粒子ビームの軌道を偏向さ
せるようにしたようにしたので、ビームダンプ本体での
エネルギー集中がなくなり、ビームダンプ本体の冷却が
容易になる。
According to a second aspect of the present invention, a plurality of deflecting magnets for rotating the charged particle beam at different rotational speeds are provided, and the trajectory of the charged particle beam is deflected by each of the bipolar deflecting magnets. Therefore, energy concentration in the beam dump main body is eliminated, and cooling of the beam dump main body becomes easy.

【0022】また、請求項3では、回転する2極偏向磁
石および交流の偏向エネルギーの供給を受けるビーム偏
向手段とを有し、2極偏向磁石およびビーム偏向手段と
により荷電粒子ビームの軌道を偏向するようにしたの
で、ビームダンプ本体でのエネルギー集中がなくなり、
ビームダンプ本体の冷却が容易になる。回転する偏向磁
石により荷電粒子ビームを円形に掃引しているので、交
流電磁石の励磁は一定の強度でよく、電源は単純な交流
電源とすることができ、安価になる。また、回転する偏
向磁石と交流電磁石の2つの異なる偏向手段を組合せて
いるので、いずれかが故障した場合にも一方が動作すれ
ば、ビームダンプ本体の損傷を軽減できる等の利点があ
る。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a rotating dipole deflecting magnet and beam deflecting means for receiving the supply of AC deflecting energy, and the trajectory of the charged particle beam is deflected by the dipole deflecting magnet and the beam deflecting means. So that there is no energy concentration in the beam dump body,
Cooling of the beam dump body becomes easy. Since the charged particle beam is swept in a circular shape by the rotating deflecting magnet, the excitation of the AC electromagnet may have a constant intensity, and the power source may be a simple AC power source, which is inexpensive. Further, since two different deflecting means of the rotating deflecting magnet and the AC electromagnet are combined, there is an advantage that even if one of the deflecting means breaks down, if one of them operates, damage to the beam dump main body can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の実施例1における荷電粒子ビームダ
ンプ装置の側面図である。
FIG. 1 is a side view of a charged particle beam dump device according to Embodiment 1 of the present invention.

【図2】この発明の実施例1における荷電粒子ビームの
ビームダンプ本体上でのビーム軌跡を示す。
FIG. 2 shows a beam trajectory of a charged particle beam on a beam dump main body according to the first embodiment of the present invention.

【図3】この発明の実施例1における交流電源の励磁電
流の変化の一例を示す。
FIG. 3 shows an example of a change in an exciting current of an AC power supply according to the first embodiment of the present invention.

【図4】この発明の実施例1の第1の変形例におけるビ
ームダンプ装置の側面図である。
FIG. 4 is a side view of a beam dump device according to a first modification of the first embodiment of the present invention.

【図5】この発明の実施例1の第2の変形例における荷
電粒子ビームダンプ装置の概略構成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a charged particle beam dump device according to a second modification of the first embodiment of the present invention.

【図6】この発明の実施例1の第2の変形例における荷
電粒子ビームダンプ装置の原理図を示す側面図である。
FIG. 6 is a side view showing the principle of a charged particle beam dump device according to a second modification of the first embodiment of the present invention.

【図7】この発明の実施例2におけるビームダンプ装置
の側面図である。
FIG. 7 is a side view of a beam dump device according to a second embodiment of the present invention.

【図8】この発明の実施例2におけるビームダンプ装置
の原理図である。
FIG. 8 is a principle diagram of a beam dump device according to a second embodiment of the present invention.

【図9】この発明の実施例2における荷電粒子ビームの
ビームダンプ本体上でのビーム軌跡を示す。
FIG. 9 shows a beam trajectory of a charged particle beam on a beam dump main body in Embodiment 2 of the present invention.

【図10】この発明の実施例3におけるビームダンプ装
置の側面図である。
FIG. 10 is a side view of a beam dump device according to a third embodiment of the present invention.

【図11】この発明の実施例3における荷電粒子ビーム
のビームダンプ本体上でのビーム軌跡を示す。
FIG. 11 shows a beam trajectory of a charged particle beam on a beam dump main body in Embodiment 3 of the present invention.

【図12】従来のビームダンプ装置の原理図である。FIG. 12 is a principle diagram of a conventional beam dump device.

【符号の説明】 1 荷電粒子ビーム発生装置 2 荷電粒子ビーム加速管 3 偏向電磁石 4 ビームダンプ本体 5 直流電源 6 交流電源 7、8 ビーム軌道 9 真空ダクト 10a、10b 偏向電極 11a、11b 交流電圧電源 13 6極電磁石、 14 3相交流電源、 15 電流増減装置 16a、16b 2極偏向磁石 17 回転装置[Description of Signs] 1 charged particle beam generator 2 charged particle beam accelerator tube 3 deflection electromagnet 4 beam dump main body 5 DC power supply 6 AC power supply 7, 8 beam orbit 9 vacuum duct 10a, 10b deflection electrode 11a, 11b AC voltage power supply 13 6 pole electromagnet, 14 3 phase AC power supply, 15 current increasing / decreasing device 16a, 16b 2 pole bending magnet 17 rotating device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松崎 輝治 神戸市兵庫区和田崎町1丁目1番2号 三菱電機株式会社 神戸製作所内 (72)発明者 溝端 正隆 神戸市兵庫区和田崎町1丁目1番2号 三菱電機株式会社 神戸製作所内 (72)発明者 土舘 裕幸 神戸市兵庫区和田崎町1丁目1番2号 三菱電機株式会社 神戸製作所内 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05H 7/00 G21B 1/00 H05H 1/22 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Teruji Matsuzaki 1-2-1, Wadazakicho, Hyogo-ku, Kobe Mitsubishi Electric Corporation Kobe Works (72) Inventor Masataka Mizobata 1-chome, Wadasakicho, Hyogo-ku, Kobe-shi 1-2, Mitsubishi Electric Corporation Kobe Works (72) Inventor Hiroyuki Dodate 1-2-1, Wadazakicho, Hyogo-ku, Kobe City Mitsubishi Electric Corporation Kobe Works (58) Investigation field (Int.Cl. 7 , DB name) H05H 7/00 G21B 1/00 H05H 1/22

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 荷電粒子ビームをその軌道を偏向させな
がらビームダンプ本体に衝突させて消滅させるものにお
いて、第1の交番周期を有する第1のエネルギー供給手
段と、上記第1の交番周期を有しかつ上記第1のエネル
ギー供給手段と位相差をもつとともにその強度が上記第
1の交番周期より大きい第2の交番周期で変化する偏向
エネルギーを供給する第2の偏向エネルギー供給手段と
を備え、上記第1および第2のエネルギー供給手段より
エネルギーの供給を受け、上記第1のエネルギー供給手
段からのエネルギーによる上記荷電粒子ビームの偏向方
向と上記第2のエネルギー供給手段からのエネルギーに
よる上記荷電粒子ビームの偏向方向とがそれぞれ空間的
に異なるビーム偏向手段を有することを特徴とする荷電
粒子ビームダンプ装置。
1. A first energy supplier having a first alternating cycle, wherein a charged particle beam is made to collide with a beam dump body while deflecting its trajectory and disappear.
A step, said first alternating cycle and said first energy
Power supply means and a phase difference
Deflection varying in a second alternating period greater than one alternating period
Second deflection energy supply means for supplying energy;
And from the first and second energy supply means.
Receiving the energy supply, the first energy supplier
How the charged particle beam is deflected by energy from the step
Direction and energy from the second energy supply means.
And the deflection direction of the charged particle beam
A charged particle beam dump device comprising different beam deflection means.
【請求項2】 荷電粒子ビームをその軌道を偏向させな
がらビームダンプ本体に衝突させて消滅させるものにお
いて、異なった回転数で回転する複数の2極偏向磁石を
有し、それぞれの2極偏向磁石により上記荷電粒子ビー
ムの軌道を偏向させるようにしたことを特徴とする荷電
粒子ビームダンプ装置。
2. A method in which a charged particle beam collides with a beam dump body while deflecting its trajectory and disappears, wherein a plurality of dipole deflecting magnets rotating at different rotational speeds are provided. Wherein the trajectory of the charged particle beam is deflected by means of:
【請求項3】 荷電粒子ビームをその軌道を偏向させな
がらビームダンプ本体に衝突させて消滅させるものにお
いて、回転する2極偏向磁石および固定して交流の偏向
エネルギーの供給を受けるビーム偏向手段とを有し、
2極偏向磁石および上記ビーム偏向手段とにより上記
荷電粒子ビームの軌道を偏向するようにしたことを特徴
とする荷電粒子ビームダンプ装置。
3. A charged-particle beam, which collides with a beam dump body while deflecting its trajectory and disappears, comprises a rotating dipole deflecting magnet and a beam deflecting means fixedly supplied with AC deflecting energy. Have, on
The charged particle beam dump device by a serial two-pole deflection magnets and the beam deflecting means, characterized in that so as to deflect the trajectory of the charged particle beam.
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