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JP3048178B2 - Electrophotographic lithographic printing original plate - Google Patents
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JP3048178B2 - Electrophotographic lithographic printing original plate - Google Patents

Electrophotographic lithographic printing original plate

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JP3048178B2
JP3048178B2 JP3026850A JP2685091A JP3048178B2 JP 3048178 B2 JP3048178 B2 JP 3048178B2 JP 3026850 A JP3026850 A JP 3026850A JP 2685091 A JP2685091 A JP 2685091A JP 3048178 B2 JP3048178 B2 JP 3048178B2
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子写真方式で製版さ
れる電子写真式平版印刷用原版に関するものであり、特
に、該平版印刷用原版の光導電層形成用組成物の改良に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic lithographic printing plate precursor made by electrophotography, and more particularly to an improvement in a composition for forming a photoconductive layer of the lithographic printing plate precursor.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在ダイレクト製版用のオフセット原版
には多種のものが提案され且つ実用化されているが、中
でも、導電性支持体上に酸化亜鉛のごとき光導電性粒子
及び結着樹脂を主成分とした光導電層を設けた感光体を
通常の電子写真工程を経て、感光体表面に親油性の高い
トナー画像を形成させ、続いて該表面をエッチ液と言わ
れる不感脂化液で処理し非画像部分を選択的に親水化す
ることによってオフセット原版を得る技術が広く用いら
れている。
2. Description of the Related Art At present, various types of offset original plates for direct plate making have been proposed and put into practical use. Among them, photoconductive particles such as zinc oxide and a binder resin are mainly used on a conductive support. The photoreceptor provided with the photoconductive layer as a component undergoes a normal electrophotographic process to form a highly lipophilic toner image on the surface of the photoreceptor, and then the surface is treated with a desensitizing solution called an etch solution. A technique for obtaining an offset original plate by selectively hydrophilizing a non-image portion is widely used.

【0003】良好な印刷物を得るには、先ずオフセット
原版に、原画が忠実に複写されると共に、感光体表面が
不感脂化処理液となじみ易く、非画像部が充分に親水化
されると同時に耐水性を有し、更に印刷においては画像
を有する表面導電層が離脱しないこと、及び湿し水との
なじみがよく、印刷枚数が多くなっても汚れが発生しな
いように充分に非画像部の親水性が保持されること、等
の性能を有する必要がある。
In order to obtain good printed matter, first, the original image is faithfully copied onto the offset original plate, the surface of the photoreceptor is easily adapted to the desensitizing solution, and the non-image portion is sufficiently hydrophilized. It has water resistance, and furthermore, in printing, the surface conductive layer having an image does not separate, and it is well compatible with fountain solution, and the non-image portion is sufficiently formed so that stains do not occur even when the number of printed sheets increases. It is necessary to have performance such as maintaining hydrophilicity.

【0004】これらの性能には、光導電層中の結着樹脂
の種類によって大きく左右されることが明らかになって
おり、特にオフセット原版としては、不感脂化性を向上
させる酸化亜鉛結着用樹脂が種々検討されている。特
に、メタクリレート(又はアクリレート)成分を少なく
とも含有する多元共重合体類が提案され、例えば特公昭
50−31011号、特開昭53−4027号、特開昭
57−202544号、特開昭58−68046号各公
報に記載されている。
[0004] It has been found that these properties are greatly affected by the type of binder resin in the photoconductive layer. In particular, as an offset master, a zinc oxide binder resin having improved desensitization properties is used. Are variously studied. In particular, multi-component copolymers containing at least a methacrylate (or acrylate) component have been proposed, for example, Japanese Patent Publication Nos. 50-31011, 53-4027, 57-202544 and 58-58. No. 68046.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した不感
脂化性向上に効果があるとされる樹脂であっても、現実
に評価してみると、地汚れ、耐刷力において未だ満足で
きるものではなかった。更に特開平1−232356、
同1−261657各号公報では、光導電層に親水性基
を含有する樹脂粒子を添加することで保水性の向上に効
果があると記載されている。
However, even if the above-mentioned resin is said to be effective for improving the desensitization property, it is still satisfactory in terms of background stain and printing durability when actually evaluated. Was not. Further, JP-A-1-232356,
JP-A 1-261657 describes that the addition of resin particles containing a hydrophilic group to the photoconductive layer is effective in improving water retention.

【0006】これら、光導電性組成物を改良することで
明らかに保水性は、著しく向上することが確認された。
しかし、平版印刷用原版として更に詳細に評価してみる
と、環境変動(高温・高湿あるいは低温・低湿)時に、
電子写真特性(特に暗中電荷保持性、光感度等)が変動
し、安定した良好な複写画像が得られなくなる場合が生
じた。これにより、結果として、これを印刷用原版とし
て用いた印刷物の印刷画像の劣化あるいは、地汚れ防止
効果の減少となってしまった。
[0006] It has been confirmed that the water retention is remarkably improved by improving the photoconductive composition.
However, a more detailed evaluation of the lithographic printing plate precursor reveals that when environmental changes (high temperature / high humidity or low temperature / low humidity) occur,
Electrophotographic characteristics (especially charge retention in the dark, light sensitivity, etc.) fluctuated, and a stable and good copied image could not be obtained. As a result, as a result, the printed image of a printed material using the same as a printing original plate is deteriorated, or the effect of preventing background contamination is reduced.

【0007】また、デジタルダイレクト平版印刷用原版
としての電子写真式平版印刷用原版において、半導体レ
ーザー光を用いたスキャニング露光方式を採用した場
合、可視光による全面同時露光方式に比べ時間が長くな
り、また露光強度にも制約があることから、静電特性、
特に暗電荷保持特性、光感度に対して、より高い性能が
要求される。
In addition, when a scanning exposure method using a semiconductor laser beam is employed in an electrophotographic lithographic printing original plate as a digital direct lithographic printing original plate, the time becomes longer as compared with the whole-surface simultaneous exposure method using visible light. In addition, since the exposure intensity is limited, electrostatic characteristics,
In particular, higher performance is required for dark charge retention characteristics and light sensitivity.

【0008】これに対し、上記公知の原版では電子写真
特性が劣化し、実際の複写画像も地カブリが発生し易く
なり、且つ細線の飛びや文字のツブレが生じてしまい、
結果として、平版印刷用原版として印刷すると、印刷物
の画質は低下してしまい、結着樹脂の非画像部分の親水
性向上による地汚れ防止の効果がなくなってしまった。
On the other hand, in the above-mentioned known original plate, the electrophotographic characteristics are deteriorated, the ground fog is liable to occur in the actual copied image, and the thin lines are skipped and the characters are blurred.
As a result, when printed as a lithographic printing original plate, the image quality of the printed matter deteriorates, and the effect of preventing background contamination by improving the hydrophilicity of the non-image portion of the binder resin is lost.

【0009】本発明は、以上のような従来の電子写真式
平版印刷用原版の有する問題点を改良するものである。
すなわち、本発明の目的の1は、静電特性(特に暗電荷
保持性及び光感度)に優れ、原画に対して忠実な複写画
像を再現し、且つオフセット原版として全面一様な地汚
れは勿論、点状の地汚れをも発生させない、不感脂化性
の優れた平版印刷用原版を提供することである。本発明
の目的の2は、複写画像形成時の環境が低温低湿あるい
は高温高湿のように変動する場合でも、鮮明で良質な画
像を有する平版印刷用原版を提供することである。本発
明の目的の3は、併用し得る増感色素の種類による影響
を受け難く、半導体レーザー光によるスキャニング露光
方式でも静電特性の優れた平版印刷用原版を提供するこ
とである。
The present invention is to improve the problems of the conventional electrophotographic lithographic printing plate precursor as described above.
That is, the first object of the present invention is to provide a copy image which is excellent in electrostatic characteristics (especially dark charge retention and light sensitivity), faithfully reproduces an original image, and is uniform as an offset original. Another object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor which does not generate dot-like background stains and has excellent desensitization properties. A second object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate having a clear and high-quality image even when the environment at the time of forming a copied image fluctuates, such as low temperature and low humidity or high temperature and high humidity. A third object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor that is hardly affected by the type of sensitizing dye that can be used in combination and has excellent electrostatic characteristics even in a scanning exposure method using a semiconductor laser beam.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を、導
電性支持体上に、光導電性酸化亜鉛と結着樹脂とを含有
してなる光導電層を少なくとも1層設けてなる電子写真
式平版印刷用原版において、該結着樹脂として、下記の
樹脂〔A〕を少なくとも1種含有し、更に該光導電層中
に前記光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径と同じかそれ
より小さい粒子径を有する下記の非水溶媒系分散樹脂粒
子を少なくとも1種含有することを特徴とする電子写真
式平版印刷用原版によって達成することができる。
According to the present invention, there is provided an electrophotographic method comprising providing at least one photoconductive layer containing a photoconductive zinc oxide and a binder resin on a conductive support. In the lithographic printing plate precursor, the binder resin contains at least one of the following resins [A], and the same as or smaller than the maximum particle diameter of the photoconductive zinc oxide particles in the photoconductive layer. An electrophotographic lithographic printing plate precursor characterized by containing at least one kind of the following non-aqueous solvent-based dispersed resin particles having a particle diameter can be achieved.

【0011】樹脂〔A〕: 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、下記
一般式(I)で示される繰り返し単位を重合体成分とし
て30重量%以上と、−PO3 2 ,−SO3H,−C
OOH,
Resin [A]: having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 , containing 30% by weight or more of a repeating unit represented by the following general formula (I) as a polymer component, and -PO 3 H 2 , -SO 3 H, -C
OOH,

【化7】 及び酸無水物基から選択される少なくとも1種の極性基
を有する重合体成分0.5〜15重量%とを含有する樹
脂: 一般式(I)
Embedded image And 0.5 to 15% by weight of a polymer component having at least one polar group selected from acid anhydride groups:

【化8】 〔ただし上記一般式(I)において、a1 ,a2 は各
々、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基
を表す。R3 は炭化水素基を表す〕
Embedded image [However, in the above general formula (I), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R 3 represents a hydrocarbon group]

【0012】非水溶媒系分散樹脂粒子: 非水溶媒中において、該非水溶媒には可溶であるが重合
することにより不溶化する、分解によりカルボキシル基
を生成する官能基を少なくとも1種含有する一官能性単
量体(A)の少なくとも1種を、該非水溶媒に可溶性の
分散安定用樹脂の存在下に分散重合反応させることによ
り得られる共重合体樹脂粒子。
Non-aqueous solvent-based dispersed resin particles: a non-aqueous solvent containing at least one functional group which is soluble in the non-aqueous solvent but insolubilized by polymerization, and which forms a carboxyl group by decomposition. Copolymer resin particles obtained by subjecting at least one of the functional monomers (A) to a dispersion polymerization reaction in the presence of a dispersion stabilizing resin soluble in the non-aqueous solvent.

【0013】本発明においては、上記非水溶媒系分散樹
脂粒子が高次の網目構造を形成しているものであっても
よい。また、本発明における上記分散安定用樹脂として
は、高分子鎖中に、下記一般式(II) で示される重合性
二重結合基部分を少なくとも1種含有しているものが特
に好ましいものとして挙げられる。 一般式(II)
In the present invention, the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles may form a higher-order network structure. As the dispersion stabilizing resin in the present invention, a resin containing at least one polymerizable double bond group represented by the following general formula (II) in a polymer chain is particularly preferred. Can be General formula (II)

【化9】 〔一般式(II) において、V0 は−O−、−COO−、
−OCO−、−(CH2p −OCO−、−(CH2
p −COO−、−SO2 −、
Embedded image [In the general formula (II), V 0 represents -O-, -COO-,
-OCO -, - (CH 2) p -OCO -, - (CH 2)
p -COO -, - SO 2 - ,

【化10】 −CONHCOO−、又は−CONHCONH−を表わ
し(但し、pは1〜4の整数を表わし、R4 は水素原子
又は炭素数1〜18の炭化水素基を表わす)、a3 ,a
4 は、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロ
ゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−R5 又は
炭化水素基を介した−COO−R5 (R5は水素原子又
は置換されてもよい炭化水素基を示す)を表わす〕
Embedded image -CONHCOO-, or -CONHCONH- a represents (wherein, p represents an integer of 1 to 4, R 4 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms), a 3, a
4, which may be the same or different, a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COO-R 5 (R 5 through -COO-R 5 or a hydrocarbon group is a hydrogen atom or a substituent Represents a hydrocarbon group which may be present)

【0014】[0014]

【作用】本発明の平版印刷用原版は、最上層である光導
電層中に、光導電性酸化亜鉛と結着樹脂とを少なくとも
含有する光導電性層の非画像部を不感脂化液で処理する
ことにより表面を親水化して平版印刷用原版とする方式
の印刷用原版である。すなわち、本発明の光導電層は、
光導電性酸化亜鉛に、結着樹脂として特定の共重合体成
分から成る低分子量の樹脂〔A〕と非水溶媒系分散樹脂
粒子(以下、樹脂粒子と略記する場合もある)を組合せ
含有させることを特徴とするものである。
According to the lithographic printing plate precursor of the present invention, the non-image portion of the photoconductive layer containing at least the photoconductive zinc oxide and the binder resin in the photoconductive layer as the uppermost layer is treated with a desensitizing liquid. This is a printing original plate of a type in which the surface is made hydrophilic by treatment to form a lithographic printing original plate. That is, the photoconductive layer of the present invention,
Photoconductive zinc oxide is made to contain a low molecular weight resin [A] composed of a specific copolymer component as a binder resin and non-aqueous solvent-based dispersed resin particles (hereinafter sometimes abbreviated as resin particles) in combination. It is characterized by the following.

【0015】本発明に供される樹脂粒子は、その平均粒
子径が光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径と同じか、そ
れよりも小さく、粒子径の分布が狭く粒子径がそろって
いるものが好ましい。そして、該樹脂粒子は、不感脂化
処理する際に、加水分解反応、レドックス反応、光分解
反応等で保護されたカルボキシル基が化学反応し、カル
ボキシル基を生成し、疎水性から親水性の性質に変換す
るという特性を有する。
The resin particles used in the present invention have an average particle diameter equal to or smaller than the maximum particle diameter of the photoconductive zinc oxide particles, and have a narrow particle diameter distribution and uniform particle diameter. Is preferred. When the resin particles undergo a desensitization treatment, a carboxyl group protected by a hydrolysis reaction, a redox reaction, a photolysis reaction, or the like chemically reacts to generate a carboxyl group, and has a hydrophobic to hydrophilic property. Has the property of converting to

【0016】この様な性質をもつ樹脂粒子は、該非水溶
媒には不溶となる保護されたカルボキシル基含有の重合
体成分と該非水溶媒に可溶性の分散安定用樹脂の重合体
成分とが物理化学的に吸着して成るか、又は上記式(I
I)で示される重合性二重結合基部分含有の分散安定用
樹脂の場合には、両重合体成分が化学結合して成ること
を特徴とするものである。
In the resin particles having such properties, a protected carboxyl group-containing polymer component which is insoluble in the non-aqueous solvent and a polymer component of a dispersion stabilizing resin which is soluble in the non-aqueous solvent are composed of a physicochemical compound. Adsorbed on the basis of the above formula (I
The dispersion stabilizing resin containing a polymerizable double bond group represented by I) is characterized in that both polymer components are chemically bonded.

【0017】本発明の他の特徴としては該結着樹脂
〔A〕が、1×103 〜2×104 の重量平均分子量を
有し、下記一般式(I)で示される繰り返し単位を重合
体成分として30重量%以上と、−PO3 2 ,−SO
3 H,−COOH,
Another feature of the present invention is that the binder resin [A] has a weight-average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 and comprises a repeating unit represented by the following general formula (I). 30% by weight or more as a coalescing component, -PO 3 H 2 , -SO
3 H, -COOH,

【化11】 及び酸無水物基から選択される少なくとも1種の極性基
を有する重合体成分0.5〜15重量%とを含有する樹
脂で構成される。 一般式(I)
Embedded image And a polymer component having 0.5 to 15% by weight of a polymer component having at least one polar group selected from acid anhydride groups. General formula (I)

【化12】 〔ただし上記一般式(I)において、a1 ,a2 は各
々、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基
を表す。R3 は炭化水素基を表す〕
Embedded image [However, in the above general formula (I), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R 3 represents a hydrocarbon group]

【0018】本発明の光導電層においては、光導電性酸
化亜鉛粒子及び該樹脂粒子が結着樹脂として含有される
該樹脂〔A〕によって密接に影響を受け、酸化亜鉛粒子
は一層微粒子化され、そして上記二の粒子類は均一に
分散させられる。さらには、通常分光増感色素を用いて
増感するが、本発明の光導電層では用いる分光増感色素
の種類が種々変った場合でも、これらの色素は光導電体
である酸化亜鉛粒子と充分に相互作用をすることができ
る。特に半導体レーザー光用分光増感に用いる色素では
公知の結着樹脂の系ではこの相互作用が不充分となって
しまうが、本発明の系は、この様な現象を生じない極め
て優れたものである。
In the photoconductive layer of the present invention, the photoconductive zinc oxide particles and the resin [A], which contains the resin particles as a binder resin, are closely affected, and the zinc oxide particles are further reduced to fine particles. and two kinds of particles such above is dispersed uniformly. Furthermore, although usually sensitized using a spectral sensitizing dye, even when the type of spectral sensitizing dye used in the photoconductive layer of the present invention is variously changed, these dyes are used as zinc oxide particles as a photoconductor. Can interact sufficiently. In particular, in the case of dyes used for spectral sensitization for semiconductor laser light, this interaction is insufficient with a known binder resin system, but the system of the present invention is an extremely excellent dye which does not cause such a phenomenon. is there.

【0019】このことは、その詳細は不明であるが酸化
亜鉛、樹脂〔A〕及び樹脂粒子、分光増感色素等の存在
下で分散された時に、特定の極性基を特定の位置に結合
して成る低分子量の樹脂〔A〕と特定の極性基を含有す
る単分散で微小粒子径の樹脂粒子の夫々の極性基が光導
電性酸化亜鉛の化学量論的な欠陥に吸着し、且つ、酸化
亜鉛の表面の被覆及び吸着状態が適切に行なわれること
で、光導電性酸化亜鉛のトラップを補償すると共に湿度
特性を飛躍的に向上させる一方、光導電性酸化亜鉛の分
散が充分に行われ、凝集を抑制することにるものと推
定される。
This is because the details are unknown, but when dispersed in the presence of zinc oxide, resin [A] and resin particles, spectral sensitizing dyes, etc., a specific polar group is bonded to a specific position. Each of the polar groups of the low-molecular-weight resin [A] and the monodisperse, fine-particle-size resin particles containing a specific polar group are adsorbed on the stoichiometric defect of the photoconductive zinc oxide, and Appropriate coating and adsorption on the surface of zinc oxide compensates for the trapping of the photoconductive zinc oxide and dramatically improves the humidity characteristics, while sufficiently dispersing the photoconductive zinc oxide. it is estimated that shall I to suppress aggregation.

【0020】本発明の平版印刷用原版では、該樹脂粒子
と樹脂〔A〕の両者の適切な存在によって初めて分光増
感色素を含めた光導電性酸化亜鉛のミクロな状態までも
の分散状態が制御されるので電子写真特性(特に実際の
撮像性)が良化し且つ高温・高湿あるいは低温・低湿と
いう過酷条件下でも良好な性能を安定に維持できる様に
なった。
In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the dispersion state of the photoconductive zinc oxide including the spectral sensitizing dye to the microscopic state is controlled only by the appropriate presence of both the resin particles and the resin [A]. As a result, the electrophotographic characteristics (particularly, the actual image-capturing properties) are improved, and good performance can be stably maintained even under severe conditions of high temperature and high humidity or low temperature and low humidity.

【0021】即ち、本方式においては電子写真特性が優
れた性能を示さないと複写画像形成時に、非画像部に地
汚れが発生したり画像部の原稿再現性が悪化し、結果と
して印刷物の画質を満足するものが得られなくなると同
時に重要なことは、非画像部分が不感脂化処理により充
分に親水化され印刷時のインキ付着を生じない高保水性
を有することである。本発明の平版印刷用原版は、酸化
亜鉛粒子の不感脂化処理液による不感脂化とともに、樹
脂粒子が不感脂化処理によって、カルボキシル基を生成
して親水性を発現し、更に、光導電層非画像部の保水性
が向上する機能をもつことを特徴としており、以上の様
な作用により、本発明の印刷用原版の非画像部の保水性
が飛躍的に向上する。
That is, in the present system, if the electrophotographic characteristics do not show excellent performance, background contamination occurs in the non-image portion and the reproducibility of the original in the image portion is deteriorated at the time of forming a copy image. What is important is that the non-image portion is sufficiently hydrophilized by the desensitizing treatment and has high water retention that does not cause ink adhesion during printing. The lithographic printing plate precursor of the present invention is characterized in that, with desensitization of zinc oxide particles by a desensitizing solution, the resin particles undergo a desensitizing treatment, thereby generating a carboxyl group and exhibiting hydrophilicity. It is characterized by having a function of improving the water retention of the non-image portion. By the above-described action, the water retention of the non-image portion of the printing original plate of the present invention is dramatically improved.

【0022】更には、前記した様に樹脂〔A〕によって
親水化される各粒子が光導電層中に適切な状態で分散
されていることから酸化亜鉛粒子及び樹脂粒子の親水化
が容易・迅速且つ充分に進行するものである。
Further, as described above , since each particle which is made hydrophilic by the resin [A] is dispersed in an appropriate state in the photoconductive layer, it is easy to make the zinc oxide particles and the resin particles hydrophilic. It proceeds quickly and satisfactorily.

【0023】一方本発明の樹脂粒子において、酸化亜鉛
粒子径よりも大きな粒径の該樹脂粒子が存在すると、電
子写真特性が劣化してくる(特に均一な帯電性が得られ
なくなる)結果として、複写画像において画像部の濃度
ムラ、文字・細線の切れ、飛び、あるいは非画像部の地
カブリ等が発生してしまう。具体的には、本発明の樹脂
粒子は最大粒子の粒子径が2μm 以下であり、好ましく
は0.5μm 以下である。そして、粒子の平均粒子径は
0.8μm 以下であり、好ましくは0.5μm 以下であ
る。なお、樹脂粒子は、粒子径が小さい程比表面積が大
きくなり、上記の電子写真特性上良好な作用をもたら
し、コロイド粒子(0.01μm 以下)程度でも充分で
あるが、余り小さくなり過ぎると分子分散の場合と類似
してしまい、保水力向上への粒子であることの効果が薄
れてくるため、0.001μm 以上で用いるのが好まし
い。
On the other hand, in the resin particles of the present invention, if the resin particles having a particle size larger than the zinc oxide particle size are present, the electrophotographic characteristics are deteriorated (particularly, uniform chargeability cannot be obtained). In the copied image, density unevenness in the image portion, cuts and jumps of characters and thin lines, or fogging in the non-image portion occurs. Specifically, the maximum particle size of the resin particles of the present invention is 2 μm or less, preferably 0.5 μm or less. The average particle size of the particles is 0.8 μm or less, preferably 0.5 μm or less. In addition, as for the resin particles, the specific surface area increases as the particle diameter decreases, and the above-described favorable effects on the electrophotographic characteristics are obtained. Even if the colloidal particles (0.01 μm or less) are sufficient, the molecular weight becomes too small. Since it is similar to the case of dispersion and the effect of the particles for improving the water holding power is weakened, it is preferable to use the particles having a particle diameter of 0.001 μm or more.

【0024】また、本発明において樹脂粒子は疎水性の
重合体成分、即ち、分散安定用樹脂が相当する重合体成
分を結合したものであり、この疎水性部分が光導電層の
結着樹脂と相互作用していることから、この部分のアン
カー効果によって印刷時の湿し水で溶出することはな
く、かなり多数枚の印刷を行っても良好な印刷特性を維
持することができる。
In the present invention, the resin particles are obtained by binding a hydrophobic polymer component, that is, a polymer component corresponding to the dispersion stabilizing resin, and the hydrophobic portion is combined with the binder resin of the photoconductive layer. Because of the interaction, it does not elute with the dampening solution at the time of printing due to the anchor effect of this portion, and it is possible to maintain good printing characteristics even when printing a considerably large number of sheets.

【0025】更に、本発明において、高次の網目構造を
形成している樹脂粒子であれば更に水での溶出性が抑え
られ、他方水膨潤性が発現し、更に保水性が良好とな
る。本発明において、上記のような高次の網目構造を形
成していない樹脂粒子又は高次の網目構造を形成してい
る樹脂粒子(以下、単に網目樹脂粒子)は、光導電性酸
化亜鉛100重量部に対して0.01〜10重量%の使
用量で用いることが好ましい。樹脂粒子又は網目樹脂粒
子が0.01重量%より少ないと非画像部の親水性が充
分とならず、逆に10重量%より多いと非画像部の親水
性の向上は更に図られるが、厳しい条件下での電子写真
特性が劣化し、複写画像が悪化してしまう。
Further, in the present invention, if the resin particles form a high-order network structure, the dissolution property in water can be further suppressed, and on the other hand, the water swelling property can be exhibited and the water retention property can be further improved. In the present invention, the resin particles that do not form a higher-order network structure as described above or the resin particles that form a higher-order network structure (hereinafter simply referred to as “network resin particles”) are 100% by weight of photoconductive zinc oxide. It is preferably used in an amount of 0.01 to 10% by weight based on parts. If the amount of the resin particles or the network resin particles is less than 0.01% by weight, the hydrophilicity of the non-image portion is not sufficient, and if it is more than 10% by weight, the hydrophilicity of the non-image portion is further improved, but severe. The electrophotographic characteristics under the conditions deteriorate, and the copied image deteriorates.

【0026】以下に、本発明で用いられる結着樹脂
〔A〕について更に詳細に説明する。該結着樹脂〔A〕
は、下記一般式(I)で示される特定の繰り返し単位の
重合体成分を30重量%以上と、特定の極性基を0.1
〜15重量%とを含有して成る樹脂である。 一般式(I)
Hereinafter, the binder resin [A] used in the present invention will be described in more detail. The binder resin [A]
Is a polymer component of a specific repeating unit represented by the following general formula (I) in an amount of 30% by weight or more and a specific polar group of 0.1% or more.
-15% by weight. General formula (I)

【化13】 〔式(I)中、a1 ,a2 は各々、水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基又は炭化水素基を表し、R3 は炭化水素
基を表す〕樹脂〔A〕において、重量平均分子量は1×
103 〜2×104 、好ましくは3×103 〜1×10
4 であり、樹脂〔A〕のガラス転移点は好ましくは−2
0℃〜110℃、より好ましくは−10℃〜90℃であ
る。
Embedded image [In the formula (I), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group, and R 3 represents a hydrocarbon group.] In the resin [A], the weight average molecular weight is 1 ×
10 3 to 2 × 10 4 , preferably 3 × 10 3 to 1 × 10
4 , and the glass transition point of the resin [A] is preferably -2.
0 ° C to 110 ° C, more preferably -10 ° C to 90 ° C.

【0027】樹脂〔A〕の分子量が103 より小さくな
ると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、一方
分子量が2×104 より大きくなると本発明の樹脂であ
っても、近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感光体にお
いて、高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条件下での暗減
衰保持率及び光感度の変動が多少大きくなり、安定した
複写画像が得られるという本発明の効果が薄れてしま
う。
When the molecular weight of the resin [A] is less than 10 3 , the film-forming ability is reduced and sufficient film strength cannot be maintained. On the other hand, when the molecular weight is more than 2 × 10 4 , even if the resin of the present invention is used, In photoreceptors using near-infrared to infrared spectral sensitizing dyes, fluctuations in dark decay retention and photosensitivity under severe conditions of high temperature and high humidity and low temperature and low humidity are slightly larger, and stable copy images are obtained. , The effect of the present invention in that

【0028】樹脂〔A〕の一般式(I)の繰り返し単位
に相当する重合体成分の存在割合は30重量%以上、好
ましくは50〜97重量%、主鎖末端に結合する極性基
の存在割合は0.5〜15重量%、好ましくは1〜10
重量%である。樹脂〔A〕における極性基含有量が0.
5重量%より少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃
度を得ることができない。一方該極性基含有量が15重
量%よりも多いと、いかに低分子量体といえども分散性
が低下し、更にオフセットマスターとして用いるときに
地汚れが増大する。
The content of the polymer component corresponding to the repeating unit of the general formula (I) of the resin [A] is 30% by weight or more, preferably 50 to 97% by weight, and the content of the polar group bonded to the terminal of the main chain. Is 0.5 to 15% by weight, preferably 1 to 10% by weight.
% By weight. The polar group content in the resin [A] is 0.
If it is less than 5% by weight, the initial potential is too low to obtain a sufficient image density. On the other hand, if the content of the polar group is more than 15% by weight, the dispersibility of even a low molecular weight substance is reduced, and the background stain is increased when used as an offset master.

【0029】また低分子量の樹脂〔A〕としては、前記
した一般式(Ia)及び一般式(Ib)で示される、2
位に、及び/又は2位と6位に特定の置換基を有するベ
ンゼン環又は無置換のナフタレン環を有する特定の置換
基をもつメタクリレート成分を含有する、末端に極性基
を結合した樹脂〔A〕(以降、この低分子量体を樹脂
〔A′〕とする)であることが好ましい。樹脂〔A′〕
における式(Ia)及び/又は式(Ib)の繰り返し単
位に相当するメタクリレートの共重合成分の存在割合は
30重量%以上、好ましくは50〜97重量%、重合体
主鎖の末端に結合する極性基の存在割合は樹脂〔A′〕
100重量部に対して0.5〜15重量%、好ましくは
1〜10重量%である。
As the low molecular weight resin [A], the resin represented by the general formula (Ia) or (Ib)
A resin having a methacrylate component having a benzene ring having a specific substituent at the 2-position and / or a specific substituent having an unsubstituted naphthalene ring at the 2- and 6-positions and having a polar group bonded to the terminal [A (Hereinafter, this low-molecular-weight product is referred to as resin [A ']). Resin [A ']
In the formula (Ia) and / or the formula (Ib), the proportion of the methacrylate copolymer component corresponding to the repeating unit is 30% by weight or more, preferably 50 to 97% by weight, and the polarity bonded to the terminal of the polymer main chain. The proportion of the groups is determined by the resin [A '].
It is 0.5 to 15% by weight, preferably 1 to 10% by weight based on 100 parts by weight.

【0030】次に樹脂〔A〕中に30重量%以上含有さ
れる、前記一般式(I)で示される繰り返し単位を更に
説明する。一般式(I)においてa1 ,a2 は、好まし
くは水素原子、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、−COO−R8 又は炭化水素基を介した−COO
−R8 (R8 は水素原子又は炭素数1〜18のアルキル
基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基又はアリー
ル基を表し、これらは置換されていてもよく、具体的に
は、下記R3 について説明したものと同様の内容を表
す)を表す。上記炭化水素を介した−COO−R8 基に
おける炭化水素としては、メチレン基、エチレン基、プ
ロピレン基などが挙げられる。R3 は、炭素数1〜18
の置換されていてもよいアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモ
エチル基、2−シアノエチル基、2−ヒドロキシエチル
基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、3
−ヒドロキシプロピル基等)、炭素数2〜18の置換さ
れてもよいアルケニル基(例えばビニル基、アリル基、
イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ヘプテ
ニル基、オクテニル基等)、炭素数7〜12の置換され
てもよいアラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル
基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基、メトキ
シベンジル基、エトキシベンジル基、メトキシベンジル
基等)、炭素数5〜8の置換されてもよいシクロアルキ
ル基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シ
クロヘプチル基等)、置換されていてもよいアリール基
(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル
基、ナフチル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニ
ル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、ブ
ロモフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル
基、ヨードフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、エトキシカルボニルフェニル基、シアノフェニル基
等)等が挙げられる。
Next, the repeating unit represented by the above general formula (I), which is contained in the resin [A] in an amount of 30% by weight or more, will be further described. In the general formula (I), a 1 and a 2 are preferably a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.), —COO—R 8 Or -COO via a hydrocarbon group
-R 8 (R 8 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group or an aryl group, which may be substituted, specifically, the following represents a represents) the same contents as those described for R 3. Examples of the hydrocarbon in the —COO—R 8 group via the above hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, and a propylene group. R 3 has 1 to 18 carbon atoms
An optionally substituted alkyl group (for example, a methyl group,
Ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, 2-chloroethyl, 2-bromoethyl, 2-cyanoethyl, 2-hydroxyethyl , 2-methoxyethyl group, 2-Etokishie ethyl group, 3
-Hydroxypropyl group or the like), an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, vinyl group, allyl group,
An isopropenyl group, a butenyl group, a hexenyl group, a heptenyl group, an octenyl group, etc., an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, methoxy group) A benzyl group, an ethoxybenzyl group, a methoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms (eg, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, etc.), an optionally substituted aryl group ( For example, phenyl, tolyl, xylyl, mesityl, naphthyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, fluorophenyl, difluorophenyl, bromophenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, iodophenyl, methoxycarbonylphenyl , Ethoxycarbo Butylphenyl group, a cyano phenyl group) and the like.

【0031】更に好ましくは、一般式(I)の繰り返し
単位に相当する共重合体成分において、一般式(Ia)
及び/又は一般式(Ib)で示される特定のアリール基
を含有するメタクリレート成分で表される共重合体成分
(樹脂〔A′〕)が挙げられる。 一般式(Ia)
More preferably, in the copolymer component corresponding to the repeating unit of the general formula (I),
And / or a copolymer component (resin [A ']) represented by a methacrylate component containing a specific aryl group represented by the general formula (Ib). General formula (Ia)

【化14】 一般式(Ib)Embedded image General formula (Ib)

【化15】 〔式(Ia)及び(Ib)中、T1 及びT2 は互いに独
立に、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、ハロゲ
ン、−COR6 又は−COOR7 (R6及びR7 は各々炭
素数1〜10の炭化水素基を表す)を表す。L1 ,L2
は各々−COO−とベンゼン環を結合する直接結合又は
連結原子数1〜4個の連結基を表す〕式(Ia)におい
て、好ましいT1 及びT2 として、互に独立に各々水素
原子、ハロゲン原子の外に、炭素数1〜10の炭化水素
基として、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)、炭
素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基、フェネ
チル基、3−フェニルプロピル基、クロロベンジル基、
ジクロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジ
ル基、メトキシベンジル基、クロロ−メチル−ベンジル
基)及びアリール基(例えばフェニル基、トリル基、キ
シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、ジクロロフェニル基)、並びに−CO
9 及び−COOR9 (好ましいR9 としては上記の炭
素数1〜10の好ましい炭化水素基として記載したもの
を挙げることができる)を挙げることができる。 式
(Ia)及び(Ib)において、L1 及びL2 は各々−
COO−とベンゼン環を結合する直接結合又は−(CH
2 n1−( n1 は1〜3の整数を表す)、−CH2 OC
O−、−CH2 CH2 OCO−、−(CH2 m1−( m
1 は1又は2の整数を表す),−CH2 CH2 O−等の
如き連結原子数1〜4個の連結基であり、より好ましく
は直接結合又は結合原子数1〜2個の連結基を挙げるこ
とができる。
Embedded image [In the formulas (Ia) and (Ib), T 1 and T 2 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, halogen, —COR 6 or —COOR 7 (R 6 and R 7 are Each represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms). L 1 , L 2
Represents a direct bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms each connecting -COO- and a benzene ring] In the formula (Ia), preferred T 1 and T 2 are each independently a hydrogen atom or a halogen, In addition to the atoms, the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.), and an aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms. (E.g., benzyl, phenethyl, 3-phenylpropyl, chlorobenzyl,
Dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chloro-methyl-benzyl group) and aryl group (for example, phenyl group, tolyl group, xylyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group) ), And -CO
R 9 and —COOR 9 (preferable R 9 include those described above as preferred hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms). In the formulas (Ia) and (Ib), L 1 and L 2 are each-
A direct bond connecting COO- and a benzene ring or-(CH
2) n1 - (n 1 represents an integer of 1~3), - CH 2 OC
O -, - CH 2 CH 2 OCO -, - (CH 2) m1 - (m
1 represents an integer of 1 or 2), a connecting group having 1 to 4 connecting atoms such as —CH 2 CH 2 O— and the like, more preferably a direct bonding or a connecting group having 1 to 2 bonding atoms. Can be mentioned.

【0032】本発明の樹脂〔A〕で用いられる式(I
a)又は(Ib)で示される繰り返し単位に相当する共
重合体成分の具体例を以下に挙げる。しかし、本発明の
範囲はこれに限定されるものではない。以下の(a−
1)〜(a−20)において、nは1〜4の整数、mは
0又は1〜3の整数、pは1〜3の整数、R10〜R13
いずれも−Cn 2n+1又は−(CH2 m −C6
5 (ただし、n,mは上記と同じ)、X1 及びX2 は同
じでも異なってもよく、水素原子、−Cl、−Br、−
Iのいずれかを表す。(a−1)
The formula (I) used in the resin [A] of the present invention
Specific examples of the copolymer component corresponding to the repeating unit represented by a) or (Ib) are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to this. The following (a-
In 1) ~ (a-20) , n is an integer of 1 to 4, m is 0 or an integer of 1 to 3, p is an integer of 1-3, R 10 ~R 13 -C Both n H 2n + 1 or - (CH 2) m -C 6 H
5 (however, n and m are the same as described above), X 1 and X 2 may be the same or different and include a hydrogen atom, -Cl, -Br,-
Represents any of I. (A-1)

【化16】 (a−2)Embedded image (A-2)

【化17】 (a−3)Embedded image (A-3)

【化18】 (a−4)Embedded image (A-4)

【化19】 (a−5)Embedded image (A-5)

【化20】 (a−6)Embedded image (A-6)

【化21】 (a−7)Embedded image (A-7)

【化22】 (a−8)Embedded image (A-8)

【化23】 (a−9)Embedded image (A-9)

【化24】 (a−10)Embedded image (A-10)

【化25】 (a−11)Embedded image (A-11)

【化26】 (a−12)Embedded image (A-12)

【化27】 (a−13)Embedded image (A-13)

【化28】 (a−14)Embedded image (A-14)

【化29】 (a−15)Embedded image (A-15)

【化30】 (a−16)Embedded image (A-16)

【化31】 (a−17)Embedded image (A-17)

【化32】 (a−18)Embedded image (A-18)

【化33】 (a−19)Embedded image (A-19)

【化34】 (a−20)Embedded image (A-20)

【化35】 Embedded image

【0033】次に低分子量の樹脂〔A〕に含有される特
定の極性基含有重合体成分について説明する。 該極性基は、−PO3 2 ,−SO3 H,−COOH
Next, the specific polar group-containing polymer component contained in the low molecular weight resin [A] will be described. Polar group, -PO 3 H 2, -SO 3 H, -COOH,

【化36】 及び環状酸無水物含有基から選ばれる少なくとも1種で
あることが好ましい。
Embedded image And at least one selected from cyclic acid anhydride-containing groups.

【0034】[0034]

【化37】 基とは、上記R1 が炭化水素基又は−OR2 基(R2
炭化水素基を表す)を表し、具体的にはR1 は炭素数1
〜22脂肪族基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ド
デシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル基、2−
メトキシエチル基、3−エトキシプロピル基、アリル
基、クロトニル基、ブテニル基、シクロヘキシル基、ベ
ンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、メ
チルベンジル基、クロロベンジル基、フルオロベンジル
基、メトキシベンジル基等)、又は置換されてもよいア
リール基(例えばフェニル基、トリル基、エチルフェニ
ル基、プロピルフェニル基、クロロフェニル基、フルオ
ロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−メチル−フ
ェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル基、
シアノフェニル基、アセトアミドフェニル基、アセチル
フェニル基、ブトキシフェニル基等)等であり、R2
1 と同一の内容である。
Embedded image In the group, R 1 represents a hydrocarbon group or an —OR 2 group (R 2 represents a hydrocarbon group), and specifically, R 1 has 1 carbon atom.
To 22 aliphatic groups (e.g., methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, octadecyl, 2-chloroethyl,
Methoxyethyl group, 3-ethoxypropyl group, allyl group, crotonyl group, butenyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, chlorobenzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc. ) Or an optionally substituted aryl group (eg, phenyl, tolyl, ethylphenyl, propylphenyl, chlorophenyl, fluorophenyl, bromophenyl, chloro-methyl-phenyl, dichlorophenyl, methoxyphenyl) ,
Cyanophenyl group, acetamidophenyl group, acetylphenyl group, butoxyphenyl group, etc.), and R 2 has the same content as R 1 .

【0035】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も1つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸無水物の例としては、コハク酸無水物環、グルタコ
ン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シクロペンタン−
1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキサン−1,
2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキセン−1,2−
ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシクロ〔2,2,
2〕オクタジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これら
の環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、
メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキ
ル基等が置換されていてもよい。また、芳香族ジカルボ
ン酸無水物の例としては、フタル酸無水物環、ナフタレ
ン−ジカルボン酸無水物環、ピリジン−ジカルボン酸無
水物環、チオフェン−ジカルボン酸無水物環等が挙げら
れ、これらの環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロ
ゲン原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等のアルキル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ
基、アルコキシカルボニル基(アルコキシ基としては、
例えばメトキシ基、エトキシ基等)等が置換されていて
もよい。
The cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride. Examples of the cyclic acid anhydride include aliphatic dicarboxylic anhydride and aromatic dicarboxylic anhydride. Things. Examples of the aliphatic dicarboxylic anhydride include a succinic anhydride ring, a glutaconic anhydride ring, a maleic anhydride ring, and a cyclopentane-
1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexane-1,
2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexene-1,2-
Dicarboxylic anhydride ring, 2,3-bicyclo [2,2
2] octadicarboxylic anhydride rings and the like; these rings include, for example, chlorine atoms, halogen atoms such as bromine atoms,
An alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group, and a hexyl group may be substituted. Examples of the aromatic dicarboxylic anhydride include a phthalic anhydride ring, a naphthalene-dicarboxylic anhydride ring, a pyridine-dicarboxylic anhydride ring, a thiophene-dicarboxylic anhydride ring, and the like. Are, for example, a chlorine atom, a halogen atom such as a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group (as an alkoxy group,
For example, a methoxy group, an ethoxy group, etc.) may be substituted.

【0036】これらの極性基は、重合体主鎖に直接結合
してもよいし、連結基を介して結合してもよい。連結基
としては、いずれの結合する基でもよいが、例えば具体
的に挙げるとすれば、
These polar groups may be directly bonded to the polymer main chain, or may be bonded via a linking group. The linking group may be any bonding group, but for example, if specifically mentioned,

【化38】 (d1 、d2 は同じでも異なってもよく、各々水素原
子、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子等)、OH基、
シアノ基、アルキル基(メチル基、エチル基、2−クロ
ロエチル基、2−ヒドロキシエチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基等)、アラルキル基(ベンジル基、
フェネチル基等)、フェニル基等)を表す)、
Embedded image (D 1 and d 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an OH group,
Cyano group, alkyl group (methyl group, ethyl group, 2-chloroethyl group, 2-hydroxyethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, etc.), aralkyl group (benzyl group,
Phenethyl group etc.), phenyl group etc.),

【化39】 (d3 、d4 はd1 、d2 と同一の内容を表す)、Embedded image (D 3 and d 4 represent the same contents as d 1 and d 2 ),

【化40】 Embedded image

【化41】 −O−,−S−,Embedded image -O-, -S-,

【化42】 〔d5 は、水素原子又は炭化水素基を表す(炭化水素
基、として具体的には炭素数1〜12の炭化水素基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2−メト
キシエチル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル
基、ベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、フ
ェニル基、トリル基、クロロフェニル基、メトキシフェ
ニル基、ブチルフェニル基等)が挙げられる)〕、−C
O−、−COO−、−OCO−、
Embedded image [D 5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group (specifically, as a hydrocarbon group, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group) Group, decyl group, dodecyl group, 2-methoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, benzyl group, methylbenzyl group, phenethyl group, phenyl group, tolyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, butylphenyl group ))), -C
O-, -COO-, -OCO-,

【化43】 Embedded image

【化44】 −SO2 −、−NHCONH−、−NHCOO−、−N
HSO2 −、−CONHCOO−、−CONHCONH
−、複素環(ヘテロ原子として、O、S、N等を少なく
とも1種含有する5〜6員環又はこれらの縮合環であれ
ばいずれでもよい:例えばチオフェン環、ピリジン環、
フラン環、イミダゾール環、ピペリジン環、モルホリン
環等が挙げられる)又は
Embedded image -SO 2 -, - NHCONH -, - NHCOO -, - N
HSO 2- , -CONHCOO-, -CONHCONH
-, A heterocyclic ring (a 5- to 6-membered ring containing at least one kind of O, S, N or the like as a hetero atom or a condensed ring thereof may be used; for example, a thiophene ring, a pyridine ring,
Furan ring, imidazole ring, piperidine ring, morpholine ring, etc.) or

【化45】 (d6 、d7 は同じでも異なってもよく、炭化水素基又
は−Od8 (d8 は炭化水素基)を表す。これらの炭化
水素基としては、d5 で挙げたものと同一のものを挙げ
ることができる)等の結合基の単独又は、これらの組合
わせによる構成された連結基等が挙げられる。
Embedded image (D 6 and d 7 may be the same or different and represent a hydrocarbon group or —Od 8 (d 8 is a hydrocarbon group). These hydrocarbon groups are the same as those exemplified for d 5 And the like, or a linking group constituted by a combination thereof.

【0037】更に、好ましくは結着樹脂〔A〕では、上
記一般式(I)で示される共重合成分〔一般式(Ia)
又は(Ib)で示されるものも含む〕とともに、これと
共重合する重合体成分として、−PO3 2 −、−SO
3 H−、−COOH−、
Further, preferably, in the binder resin [A], the copolymer component represented by the above general formula (I) [the general formula (Ia)
Or (Ib)), and -PO 3 H 2- , -SO
3 H-, -COOH-,

【化46】 及び環状酸無水物含有基から選択される少なくとも1種
の極性基を含有する共重合成分を0.5〜10重量%含
有することが、より静電特性を向上する上で好ましい。
Embedded image It is preferable to contain 0.5 to 10% by weight of a copolymer component containing at least one polar group selected from the group consisting of a cyclic acid anhydride and a group containing a cyclic acid anhydride, in order to further improve electrostatic properties.

【0038】本発明の極性基を含有する共重合成分は、
例えば一般式(I)〔一般式(Ia),(Ib)も含
む〕で示される繰り返し単位に相当する単量体と共重合
し得る該極性基を含有するビニル系化合物であればいず
れでもよく、例えば、高分子学会編「高分子データ・ハ
ンドブック〔基礎編〕」培風館(1986年刊)等に記
載されている。具体的には、アクリル酸、α及び/又は
β置換アクリル酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセ
トキシメチル体、α−(2−アミノ)メチル体、α−ク
ロロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブチル
シリル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ
体、α−クロロ−β−メトキシ体、α,β−ジクロロ体
等)、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステ
ル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、2−アルケ
ニルカルボン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メチル
−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−
ヘキセン酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マレイ
ン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド
類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホ
ン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボ
ン酸類のビニル基又はアリル基の半エステル誘導体、及
びこれらのカルボン酸又はスルホン酸のエステル誘導
体、アミド誘導体の置換基中に該極性基を含有する化合
物等が挙げられる。
The copolymer component containing a polar group of the present invention comprises:
For example, any vinyl compound containing the polar group which can be copolymerized with a monomer corresponding to the repeating unit represented by formula (I) (including formulas (Ia) and (Ib)) may be used. For example, it is described in “Polymer Data Handbook [Basic Edition]” edited by The Society of Polymer Science, Baifukan (1986). Specifically, acrylic acid, α- and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α- (2-amino) methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α-form -Fluoro, α-tributylsilyl, α-cyano, β-chloro, β-bromo, α-chloro-β-methoxy, α, β-dichloro), methacrylic acid, itaconic acid, itacone Acid half-esters, itaconic half-amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (eg, 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-
Hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half-esters, maleic acid half-amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, dicarboxylic acid Examples include a half ester derivative of a vinyl group or an allyl group, an ester derivative of a carboxylic acid or a sulfonic acid thereof, and a compound containing the polar group in a substituent of an amide derivative.

【0039】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、e1 はH又はCH3 を示し、e2
H、CH3 又はCH2 COOCH3 を示し、R14は炭素
数1〜4のアルキル基を示し、R15は炭素数1〜6のア
ルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示し、cは1〜
3の整数を示し、dは2〜11の整数を示し、eは1〜
11の整数を示し、fは2〜4の整数を示し、gは2〜
10の整数を示す。(b−1)
Examples of the copolymer component containing a polar group are described below. Here, e 1 represents H or CH 3 , e 2 represents H, CH 3 or CH 2 COOCH 3 , R 14 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 15 represents 1 to 6 carbon atoms. Represents an alkyl group, a benzyl group or a phenyl group, and c represents 1 to
3 represents an integer, d represents an integer of 2 to 11, and e represents 1 to
11 represents an integer of 11, f represents an integer of 2 to 4, and g represents 2 to
Indicates an integer of 10. (B-1)

【化47】 (b−2)Embedded image (B-2)

【化48】 (b−3)Embedded image (B-3)

【化49】 (b−4)Embedded image (B-4)

【化50】 (b−5)Embedded image (B-5)

【化51】 (b−6)Embedded image (B-6)

【化52】 (b−7)Embedded image (B-7)

【化53】 (b−8)Embedded image (B-8)

【化54】 (b−9)Embedded image (B-9)

【化55】 (b−10)Embedded image (B-10)

【化56】 (b−11)Embedded image (B-11)

【化57】 (b−12)Embedded image (B-12)

【化58】 (b−13)Embedded image (B-13)

【化59】 (b−14)Embedded image (B-14)

【化60】 (b−15)Embedded image (B-15)

【化61】 (b−16)Embedded image (B-16)

【化62】 (b−17)Embedded image (B-17)

【化63】 (b−18)Embedded image (B-18)

【化64】 (b−19)Embedded image (B-19)

【化65】 (b−20)Embedded image (B-20)

【化66】 (b−21)Embedded image (B-21)

【化67】 (b−22)Embedded image (B-22)

【化68】 (b−23)Embedded image (B-23)

【化69】 (b−24)Embedded image (B-24)

【化70】 (b−25)Embedded image (B-25)

【化71】 (b−26)Embedded image (B-26)

【化72】 (b−27)Embedded image (B-27)

【化73】 (b−28)Embedded image (B-28)

【化74】 (b−29)Embedded image (B-29)

【化75】 (b−30)Embedded image (B-30)

【化76】 (b−31)Embedded image (B-31)

【化77】 (b−32)Embedded image (B-32)

【化78】 (b−33)Embedded image (B-33)

【化79】 (b−34)Embedded image (B-34)

【化80】 (b−35)Embedded image (B-35)

【化81】 (b−36)Embedded image (B-36)

【化82】 (b−37)Embedded image (B-37)

【化83】 (b−38)Embedded image (B-38)

【化84】 (b−39)Embedded image (B-39)

【化85】 (b−40)Embedded image (B-40)

【化86】 (b−41)Embedded image (B-41)

【化87】 (b−42)Embedded image (B-42)

【化88】 (b−43)Embedded image (B-43)

【化89】 (b−44)Embedded image (B-44)

【化90】 (b−45)Embedded image (B-45)

【化91】 (b−46)Embedded image (B-46)

【化92】 (b−47)Embedded image (B-47)

【化93】 (b−48)Embedded image (B-48)

【化94】 (b−49)Embedded image (B-49)

【化95】 (b−50)Embedded image (B-50)

【化96】 (b−51)Embedded image (B-51)

【化97】 (b−52)Embedded image (B-52)

【化98】 Embedded image

【0040】更に、本発明の低分子量樹脂〔A〕
(〔A′〕を含む)は、前記した一般式(I),(I
a)及び/又は(Ib)の単量体及び該極性基を含有し
た単量体とともに、これら以外の他の単量体を共重合成
分として含有してもよい。
Further, the low molecular weight resin [A] of the present invention
(Including [A ']) are represented by the general formulas (I) and (I
Along with the monomer (a) and / or (Ib) and the monomer containing the polar group, other monomers other than these may be contained as a copolymerization component.

【0041】このような他の共重合成分としては、例え
ば一般式(I)で説明した以外の置換基を含有するメタ
クリル酸エステル類、アクリル酸エステル類、クロトン
酸エステル類に加え、α−オレフィン類、カルボン酸ビ
ニル又はアクリル酸エステル類(例えばカルボン酸とし
て、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナ
フタレンカルボン酸等)、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、ビニルエーテル類、イタコン酸エステル類
(例えばジメチルエステル、ジエチルエステル等)、ア
クリルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン類(例
えばスチレン、ビニルトルエン、クロロスチレン、ヒド
ロキシスチレン、N,N−ジメチルアミノメチルスチレ
ン、メトキシカルボニルスチレン、メタンスルホニルオ
キシスチレン、ビニルナフタレン等)、ビニルスルホン
含有化合物、ビニルケトン含有化合物、複素環ビニル類
(例えばビニルピロリドン、ビニルビリジン、ビニルイ
ミダゾール、ビニルチオフェン、ビニルイミダゾリン、
ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルキノリ
ン、ビニルテトラゾール、ビニルオキサジン等)等が挙
げられる。これら他の単量体は樹脂〔A〕中30重量%
を越えないことが望ましい。
Examples of such other copolymerization components include methacrylates, acrylates, crotonates having substituents other than those described in the general formula (I), and α-olefins. , Vinyl carboxylate or acrylic acid esters (for example, carboxylic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, benzoic acid, naphthalene carboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic esters (for example, Dimethyl ester, diethyl ester, etc.), acrylamides, methacrylamides, styrenes (for example, styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, hydroxystyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, Le naphthalene), vinyl sulfone-containing compounds, vinyl ketones containing compounds, heterocyclic vinyl compounds (e.g., vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene, vinylimidazoline,
Vinylpyrazole, vinyldioxane, vinylquinoline, vinyltetrazole, vinyloxazine, etc.). 30% by weight of these other monomers in the resin [A]
It is desirable not to exceed.

【0042】樹脂〔A〕は、重量平均分子量が1×10
3 〜2×104 の低分子量のランダム共重合体である
が、これらの重合方法は、従来公知の方法において、重
合条件を選択することによりラジカル重合、イオン重合
等の方法で容易に合成することができる。重合する単量
体、重合溶媒、反応設定温度等からラジカル重合反応
が、精製、装置、反応方法等から有利で好ましい。具体
的には、重合開始剤として、通常知られているアゾビス
系開始剤、過酸化物等が挙げられる。特に低分子量体を
合成する特徴としては、該開始剤の使用量の増量、ある
いは重合設定温度を高くするといった公知の方法を適用
すればよい。具体的には、開始剤使用量としては全単量
体量100重量部に対して、0.1〜20重量部の範囲
で又重合設定温度は30℃〜200℃の範囲で行う。
The resin [A] has a weight average molecular weight of 1 × 10
These are random copolymers having a low molecular weight of 3 to 2 × 10 4 , and these polymerization methods are easily synthesized by a conventionally known method such as radical polymerization or ionic polymerization by selecting polymerization conditions. be able to. A radical polymerization reaction is advantageous and preferred from the viewpoint of purification, equipment, reaction method, etc., based on the monomer to be polymerized, the polymerization solvent, the reaction set temperature, and the like. Specific examples of the polymerization initiator include azobis-based initiators and peroxides which are generally known. In particular, as a feature of synthesizing a low molecular weight compound, a known method such as increasing the amount of the initiator used or increasing the set polymerization temperature may be applied. Specifically, the amount of the initiator used is in the range of 0.1 to 20 parts by weight and the set temperature of polymerization is in the range of 30 to 200 ° C. based on 100 parts by weight of the total amount of the monomers.

【0043】更には、連鎖移動剤を併用する方法も知ら
れている。例えばメルカプト化合物、ハロゲン化化合物
等を、全単量体量100重量部に対して0.01〜10
重量部の範囲で用いることで所望の重量平均分子量に調
整することができる。
Further, a method in which a chain transfer agent is used in combination is also known. For example, a mercapto compound, a halogenated compound, or the like is used in an amount of 0.01 to 10 based on 100 parts by weight of the total amount of the monomers.
When used in the range of parts by weight, it can be adjusted to a desired weight average molecular weight.

【0044】以上の如き低分子量の樹脂〔A〕
(〔A′〕を含む)は、従来の光導電性亜鉛用の公知の
樹脂と併用することが好ましい。低分子量体の樹脂と他
の樹脂との使用割合は5〜50/95〜50(重量比)
が好ましい。
The low molecular weight resin [A] as described above
(Including [A ']) is preferably used in combination with a known resin for conventional photoconductive zinc. The ratio of the low molecular weight resin to the other resin is 5-50 / 95-50 (weight ratio).
Is preferred.

【0045】併用する他の樹脂としては、重量平均分子
量3×104 〜1×106 、好ましくは5×104 〜5
×105 の中〜高分子量体である。また、併用する樹脂
のガラス転移点は−10℃〜120℃、好ましくは0℃
〜90℃である。例えば、柴田隆治・石渡次郎,高分
子、第17巻、第278頁(1968年)、宮本晴視,
武井秀彦、イメージング,1973(No. 8)第9頁、
中村孝一編,「記録材料用バインダーの実際技術」第1
0章、C.H.C.出版(1985年刊)、D. Tatt ,
S. C. Heidecker , Tappi , 49(No. 10),439
(1966)、E. S. Baltazzi , R. G. Blanclotte et
al , Phot. Sci. Eng. 16(No. 5),354(19
72)、グエン・チャン・ケー,清水勇,井上英一,電
子写真学会誌18(No. 2),22(1980)、特公
昭50−51011、特開昭53−54027、同54
−20735、同57−202544各号公報等に開示
の材料が挙げられる。具体的には、オレフィン重合体及
び共重合体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン共重
合体、アルカン酸ビニル重合体及び共重合体、アルカン
酸アリル重合体及び共重合体、スチレン及びその誘導
体、重合体及び共重合体、ブタジエン−スチレン共重合
体、イソプレン−スチレン共重合体、ブタジエン−不飽
和カルボン酸エステル共重合体、アクリロニトリル共重
合体、メタクリロニトリル共重合体、アルキルビニルエ
ーテル共重合体、アクリル酸エステル重合体及び共重合
体、メタクリル酸エステル重合体及び共重合体、スチレ
ン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリ
ル酸エステル共重合体、イタコン酸ジエステル重合体及
び共重合体、無水マレイン酸共重合体、アクリルアミド
共重合体、メタクリルアミド共重合体、水酸基変性シリ
コン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ケトン樹脂、アミド
樹脂、水酸基及びカルボキシル基変性ポリエステル樹
脂、ブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、環化
ゴム−メタクリル酸エステル共重合体、環化ゴム−アク
リル酸エステル共重合体、窒素原子を含有しない複素環
を含有する共重合体(複素環として例えば、フラン環、
テトラヒドロフラン環、チオフェン環、ジオキサン環、
ジオキソフラン環、ラクトン環、ベンゾフラン環、ベン
ゾチオフェン環、1,3−ジオキセタン環等)、エポキ
シ樹脂等が挙げられる。
The other resin used in combination may have a weight average molecular weight of 3 × 10 4 to 1 × 10 6 , preferably 5 × 10 4 to 5
× 10 5 medium to high molecular weight. The glass transition point of the resin used in combination is from -10 ° C to 120 ° C, preferably 0 ° C.
9090 ° C. For example, Ryuji Shibata and Jiro Ishiwatari, Polymer, Vol. 17, p. 278 (1968), Harumi Miyamoto,
Hidehiko Takei, Imaging, 1973 (No. 8) Page 9,
Koichi Nakamura, Ed., "Practical Technology of Binders for Recording Materials" First
Chapter 0, C.I. H. C. Publishing (1985), D. Tatt,
SC Heidecker, Tappi, 49 (No. 10), 439
(1966), ES Baltazzi, RG Blanclotte et
al, Phot. Sci. Eng. 16 (No. 5), 354 (19
72), Nguyen Chan K, Isamu Shimizu, Eiichi Inoue, Journal of the Institute of Electrographic Photography 18 (No. 2), 22 (1980), Japanese Patent Publication No. 50-51011, Japanese Patent Application Laid-Open No. 53-54027, 54.
And JP-A-20735 / 57-202544. Specifically, olefin polymers and copolymers, vinyl chloride copolymers, vinylidene chloride copolymers, vinyl alkanoate polymers and copolymers, allyl alkanoate polymers and copolymers, styrene and its derivatives, Polymers and copolymers, butadiene-styrene copolymer, isoprene-styrene copolymer, butadiene-unsaturated carboxylic acid ester copolymer, acrylonitrile copolymer, methacrylonitrile copolymer, alkyl vinyl ether copolymer, Acrylic acid ester polymer and copolymer, methacrylic acid ester polymer and copolymer, styrene-acrylic acid ester copolymer, styrene-methacrylic acid ester copolymer, itaconic acid diester polymer and copolymer, maleic anhydride Acid copolymer, acrylamide copolymer, methacrylamide copolymer, water Group-modified silicone resin, polycarbonate resin, ketone resin, amide resin, hydroxyl and carboxyl group-modified polyester resin, butyral resin, polyvinyl acetal resin, cyclized rubber-methacrylate copolymer, cyclized rubber-acrylate copolymer A copolymer containing a heterocycle containing no nitrogen atom (for example, as a heterocycle, a furan ring,
Tetrahydrofuran ring, thiophene ring, dioxane ring,
Dioxofuran ring, lactone ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, 1,3-dioxetane ring, etc.), epoxy resin and the like.

【0046】更に併用する中〜高分子量体の樹脂とし
て、前記した物性を満たし、好ましくは下記一般式(II
I)で示される繰り返し単位の重合体成分を30重量部以
上含有する重合体が挙げられる。一般式(III)
Further, as the resin of the medium to high molecular weight used in combination, the above-mentioned physical properties are satisfied, and preferably, the following general formula (II)
Polymers containing 30 parts by weight or more of the polymer component of the repeating unit represented by I) are exemplified. General formula (III)

【化99】 〔式(III)中、Vは−COO−、−OCO−、−(CH
2 h −OCO−、−(CH2 h −COO−、−O−
または−SO2 −を表す。但しhは1〜4の整数を表
す〕一般式(III)において、f3 及びf4 は式(I)中
のa1 ,a2 と同一の内容を表す。R16は式(I)中の
3 と同一の内容を表す。一般式(III)で示される重合
体成分を含有する中〜高分子量の結着樹脂(以降、樹脂
〔B〕と称する)としては、例えば式(III)で示される
重合体成分含有のランダム共重合体の樹脂(特開昭63
−49817、同63−220149、同63−220
148各号公報等)、該ランダム共重合体と架橋性樹脂
との併用樹脂(特開平1−102573号等)、グラフ
ト型共重合体(特開平2−53064、同2−5655
8各号公報等)等の各号明細書記載の中〜高分子量体の
もの等が挙げられる。
Embedded image [In the formula (III), V represents -COO-, -OCO-,-(CH
2) h -OCO -, - ( CH 2) h -COO -, - O-
Or -SO 2 - represents a. Wherein h represents an integer of 1 to 4.] In the general formula (III), f 3 and f 4 represent the same contents as a 1 and a 2 in the formula (I). R 16 represents the same content as R 3 in the formula (I). Examples of the medium to high molecular weight binder resin (hereinafter referred to as resin [B]) containing the polymer component represented by the general formula (III) include, for example, a random copolymer containing the polymer component represented by the formula (III). Polymeric resin (Japanese
-49817, 63-220149, 63-220
148, etc.), a combination resin of the random copolymer and a crosslinkable resin (JP-A-1-102573, etc.), and a graft copolymer (JP-A-2-53064, JP-A-2-5655).
8 publications, etc.), medium to high molecular weight compounds described in each specification.

【0047】次に本発明で用いられる非水溶媒系分散樹
脂粒子について更に詳細に説明する。本発明の樹脂粒子
は、いわゆる非水系分散重合によって製造されたもので
ある。まず、非水溶媒には可溶であるが重合することに
よって不溶化する、分解によりカルボキシル基を生成す
る官能基を少なくとも1種含有する一官能性単量体
(A)について説明する。
Next, the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles used in the present invention will be described in more detail. The resin particles of the present invention are produced by so-called non-aqueous dispersion polymerization. First, the monofunctional monomer (A) which is soluble in a non-aqueous solvent but is insolubilized by polymerization and contains at least one functional group which generates a carboxyl group by decomposition will be described.

【0048】まず、本発明において用いられる分解して
少なくとも1個のカルボキシル基を生成する官能基(以
下単に、カルボキシル基生成官能基と称することもあ
る)について詳しく説明する。本発明のカルボキシル基
生成官能基は分解によってカルボキシル基を生成する
が、1つの官能基から生成するカルボキシル基は1個で
も2個以上でもよい。
First, the functional group used in the present invention, which decomposes to form at least one carboxyl group (hereinafter, may be simply referred to as a carboxyl group-forming functional group) will be described in detail. The carboxyl group-forming functional group of the present invention generates a carboxyl group by decomposition, but the number of carboxyl groups generated from one functional group may be one or two or more.

【0049】本発明の1つの好ましい態様によれば、カ
ルボキシル基生成官能基含有単量体は、一般式(IV)
〔−COO−L3 〕で示される官能基を少なくとも1種
含有する単量体である。 一般式(IV)〔−COO−L3 〕において、L3
According to one preferred embodiment of the present invention, the carboxyl-forming functional group-containing monomer has the general formula (IV)
It is a monomer containing at least one functional group represented by [-COO-L 3]. In the general formula (IV) [—COO-L 3 ], L 3 is

【化100】 Embedded image

【化101】 −N=CH−Q1 Embedded image -N = CH-Q 1,

【化102】 −NH−OHEmbedded image -NH-OH

【化103】 又はEmbedded image Or

【化104】 を表わす。但し、R17,R18は互いに同じでも異なって
もよく、水素原子又は脂肪族基を表わし、X3 は芳香族
基を表わし、Zは水素原子,ハロゲン原子,トリハロメ
チル基,アルキル基,−CN,−NO2 ,−SO
2 17′(但し、R17′は炭化水素基を示す)、−CO
OR18′(但し、R18′は炭化水素基を示す)又は−O
−R19′(但し、R19′は炭化水素基を示す)を表わ
し、n′,m′は0,1又は2を表わす。但しn′,
m′が共に0の場合、Zは水素原子ではない。R19,R
20,R21は互いに同じでも異なってもよく、炭化水素基
又は−O−R20′(但し、R20′は炭化水素基を示す)
を表わし、MはSi,Sn又はTiを表わす。Q1 ,Q
2 は各々炭化水素基を表わす。Y1 は酸素原子又はイオ
ウ原子を表わし、R22,R23,R24は同じでも異なって
もよく、各々水素原子又は炭化水素基を表わし、p′は
3又は4の整数を表わす。Y2 は環状イミド基を形成す
る有機残基を表わす。
Embedded image Represents However, R 17 and R 18 may be the same or different and represent a hydrogen atom or an aliphatic group, X 3 represents an aromatic group, Z represents a hydrogen atom, a halogen atom, a trihalomethyl group, an alkyl group,- CN, -NO 2, -SO
2 R 17 ′ (where R 17 ′ represents a hydrocarbon group), —CO
OR 18 ′ (where R 18 ′ represents a hydrocarbon group) or —O
—R 19 ′ (where R 19 ′ represents a hydrocarbon group), and n ′ and m ′ represent 0, 1 or 2. Where n ',
When both m 'are 0, Z is not a hydrogen atom. R 19 , R
20 and R 21 may be the same or different from each other, and represent a hydrocarbon group or —O—R 20 ′ (where R 20 ′ represents a hydrocarbon group)
And M represents Si, Sn or Ti. Q 1 , Q
2 represents a hydrocarbon group. Y 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom, R 22 , R 23 , and R 24 may be the same or different, each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group, and p ′ represents an integer of 3 or 4. Y 2 represents an organic residue forming a cyclic imide group.

【0050】一般式(IV)〔−COO−L3 〕の官能基
は、分解によってカルボキシル基を生成するものであ
り、以下更に詳しく説明する。L3 が、
The functional group of the general formula (IV) [—COO-L 3 ] generates a carboxyl group by decomposition, and will be described in more detail below. L 3 is,

【化105】 を表わす場合において、R17,R18は互いに同じでも異
なってもよく、好ましくは水素原子又は置換されてもよ
い炭素数1〜12の直鎖状又は分枝状アルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、クロロメチル基、
ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロ
メチル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ヒドロキシエチル基、3−クロロプロピル基等)を
表わし、X3 は好ましくは置換されてもよいフェニル基
又はナフチル基(例えばフェニル基、メチルフェニル
基、クロロフェニル基、ジメチルフェニル基、クロロメ
チルフニル基、ナフチル基等)を表わし、Zは好ましく
は水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、フッ素原
子等)、トリハロメチル基(例えばトリクロロメチル
基、トリフルオロメチル基等)、炭素数1〜12の置換
されてもよい直鎖状又は分枝状アルキル基(例えばメチ
ル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、テトラフルオロエ
チル基、オクチル基、シアノエチル基、クロロエチル基
等)、−CH、−NO2 、−SO2 17′〔R17′は脂
肪族基(例えば炭素数1〜12の置換されてもよいアル
キル基:具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、クロロエチル基、ペンチル基、オクチル基
等、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基:
具体的にはベンジル基、フェネチル基、クロロベンジル
基、メトキシベンジル基、クロロフェネチル基、メチル
フェネチル基等)又は芳香族基(例えば置換基を含有し
てもよいフェニル基又はナフチル基:具体的には、フェ
ニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、メチ
ルフェニル基、メトキシフェニル基、アセチルフェニル
基、アセトアミドフェニル基、メトキシカルボニルフェ
ニル基、ナフチル基等)を表わす〕、−COOR18
(R18′は上記R17′と同義である)又は−O−R19
(R19′は上記R17′と同義である)を表わす。n′,
m′は0,1又は2を表わす。(但しn′,m′が共に
0の場合、Zは水素原子ではない)
Embedded image In the formula, R 17 and R 18 may be the same or different from each other, and are preferably a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group). Group, propyl group, chloromethyl group,
Dichloromethyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, hydroxyethyl group, 3-chloropropyl group, etc., and X 3 is preferably phenyl which may be substituted Represents a group or a naphthyl group (eg, phenyl group, methylphenyl group, chlorophenyl group, dimethylphenyl group, chloromethylphenyl group, naphthyl group, etc.), and Z is preferably a hydrogen atom, a halogen atom (eg, chlorine atom, fluorine atom, etc. ), A trihalomethyl group (eg, a trichloromethyl group, a trifluoromethyl group, etc.), a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (eg, a methyl group, a chloromethyl group, a dichloromethyl group) , Ethyl group,
Propyl group, butyl group, hexyl group, tetrafluoroethyl group, octyl group, cyanoethyl group, chloroethyl group, etc.), - CH, -NO 2, -SO 2 R 17 ' [R 17' is an aliphatic group (e.g., carbon atoms 1 to 12 optionally substituted alkyl groups: specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group,
An aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms which may be substituted, such as a butyl group, a chloroethyl group, a pentyl group, and an octyl group:
Specifically, a benzyl group, a phenethyl group, a chlorobenzyl group, a methoxybenzyl group, a chlorophenethyl group, a methylphenethyl group, etc.) or an aromatic group (for example, a phenyl group or a naphthyl group which may contain a substituent): Represents a phenyl group, a chlorophenyl group, a dichlorophenyl group, a methylphenyl group, a methoxyphenyl group, an acetylphenyl group, an acetamidophenyl group, a methoxycarbonylphenyl group, a naphthyl group, etc.), -COOR 18
(R 18 ′ has the same meaning as R 17 ′) or —O—R 19
(R 19 ′ has the same meaning as R 17 ′). n ',
m 'represents 0, 1 or 2. (However, when n 'and m' are both 0, Z is not a hydrogen atom.)

【0051】以上記述したL3 が、L 3 described above is

【化106】 を表わす場合について、より具体的に説明すると、以下
の様な置換基例を挙げることができる。例えば、β,
β,β−トリクロロエチル基、β,β,β−トリフルオ
ロエチル基、ヘキサフルオロ−i−プロピル基、−CH
2 −(CF2 CF2 )n ″−H基(n ″は1〜5を示
す)、2−シアノエチル基、2−ニトロエチル基、2−
メタンスルホニルエチル基、2−エタンスルホニルエチ
ル基、2−ブタンスルホニルエチル基、ベンゼンスニホ
ニルエチル基、4−ニトロベンゼンスルホニルエチル
基、4−シアノベンゼンスルホニルエチル基、4−メチ
ルベンゼンスルホニルエチル基、置換基を含有してもよ
いベンジル基(例えばベンジル基、メトキシベンジル
基、トリメチルベンジル基、ペンタメチルベンジル基、
ニトロベンジル基等)、置換基を含有してもよいフェナ
シル基(例えばフェナシル基、プロモフェナシル基
等)、置換基を含有してもよいフェニル基(例えばフェ
ニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、メタン
スルホニルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル
基、ジニトロフェニル基等)を表わす。
Embedded image More specifically, the following examples of substituents can be given. For example, β,
β, β-trichloroethyl group, β, β, β-trifluoroethyl group, hexafluoro-i-propyl group, —CH
2 - (CF 2 CF 2) n "-H group (n" denotes 1 to 5), 2-cyanoethyl, 2-nitroethyl group, 2-
Methanesulfonylethyl group, 2-ethanesulfonylethyl group, 2-butanesulfonylethyl group, benzenesulfonylethyl group, 4-nitrobenzenesulfonylethyl group, 4-cyanobenzenesulfonylethyl group, 4-methylbenzenesulfonylethyl group, substitution Benzyl group which may contain a group (for example, benzyl group, methoxybenzyl group, trimethylbenzyl group, pentamethylbenzyl group,
Nitrobenzyl group, etc.), phenacyl group which may contain a substituent (for example, phenacyl group, promofenacyl group, etc.), and phenyl group which may contain a substituent (for example, phenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group) Methanesulfonylphenyl group, trifluoromethylphenyl group, dinitrophenyl group, etc.).

【0052】又、L3 が、Also, L 3 is

【化107】 を表わす場合において、R19,R20,R21は互いに同じ
でも異なってもよく、好ましくは炭素数1〜18の置換
されてもよい脂肪族基〔脂肪族基はアルキル基、アルケ
ニル基、アラルキル基又は脂環式基を示し、置換基とし
ては例えばハロゲン原子、−CN基、−OH基、−O−
Q′(Q′はアルキル基、アラルキル基、脂環式基、ア
リール基を示す)等が挙げられる〕、炭素数6〜18の
置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、トリル
基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、アセトア
ミドフェニル基、ナフチル基等)又は−O−R20′(R
20′は置換されてもよい炭素数1〜12のアルキル基、
置換されてもよい炭素数2〜12のアルケニル基、置換
されてもよい炭素数7〜12のアラルキル基、炭素数5
〜18の置換されてもよい脂環式基、炭素数6〜18の
置換されてもよいアリール基を示す)を表わす。
Embedded image In the formula, R 19 , R 20 and R 21 may be the same or different from each other, and are preferably an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted [the aliphatic group is an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group]. A substituent or alicyclic group, and examples of the substituent include a halogen atom, a —CN group, a —OH group, and —O—
Q ′ (Q ′ represents an alkyl group, an aralkyl group, an alicyclic group, an aryl group) and the like], and an optionally substituted aromatic group having 6 to 18 carbon atoms (for example, a phenyl group, a tolyl group, chlorophenyl group, a methoxyphenyl group, acetamidophenyl group, a naphthyl group), or -O-R 20 '(R
20 ′ is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted;
An alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms which may be substituted, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms which may be substituted, and 5 carbon atoms;
To 18 substituted or unsubstituted alicyclic groups and 6 to 18 carbon atoms which may be substituted).

【0053】MはSi,Ti,又はSnの各原子を表わ
し、より好ましくはSi原子を表わす。
M represents each atom of Si, Ti or Sn, more preferably Si atom.

【0054】又L3 が−N=CH−Q1 又はL 3 is -N = CH-Q 1 or

【化108】 を表わす場合においては、Q1 ,Q2 は好ましくは各々
炭素数1〜18の置換されてもよい脂肪族基(脂肪族基
としては、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、
脂環式基を示し、置換基としては例えばハロゲン原子、
CN基、アルコキシ基等を挙げることができる)又は炭
素数6〜18の置換されてもよいアリール基(例えばフ
ェニル基、メトキシフェニル基、トリル基、クロロフェ
ニル基、ナフチル基等)を表わす。
Embedded image In the formula, Q 1 and Q 2 are each preferably an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (the aliphatic group includes an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group,
Represents an alicyclic group, examples of the substituent include a halogen atom,
And a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms (e.g., phenyl, methoxyphenyl, tolyl, chlorophenyl, and naphthyl).

【0055】L3 が、L 3 is

【化109】 を表わす場合において、Y1 は酸素原子又はイオウ原子
を表わす。R22、R23、R24は互いに同じでも異なって
いてもよく、好ましくは水素原子、置換されてもよい炭
素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル
基、クロロエチル基、メトキシエチル基、メトキシプロ
ピル基等)、置換されてもよい脂環式基(例えばシクロ
ベンチル基、シクロヘキシル基等)、置換されてもよい
炭素数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル基、フ
ェネチル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基
等)、置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、
ナフチル基、クロロフェニル基、トリル基、メトキシフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ジクロロフ
ェニル基等)又は−O−R21′(R21′は炭化水素基を
表わし、具体的には上記R22、R23、R24の炭化水素基
と同一の置換基類を示す)を表わす。p′は3又は4の
整数を表わす。
Embedded image In the formula, Y 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom. R 22 , R 23 and R 24 may be the same or different from each other, and are preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, a methyl group, an ethyl group, A propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, an octadecyl group, a chloroethyl group, a methoxyethyl group, a methoxypropyl group, etc., an alicyclic group which may be substituted (for example, a cyclobentyl group, a cyclohexyl group) Etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted aromatic group (e.g., phenyl group,
Naphthyl group, chlorophenyl group, tolyl group, methoxyphenyl group, a methoxycarbonylphenyl group, dichlorophenyl group), or -O-R 21 '(R 21 ' represents a hydrocarbon group, the specifically R 22, R 23 , R 24 represents the same substituents as the hydrocarbon group). p 'represents an integer of 3 or 4.

【0056】L3 が、L 3 is

【化110】 を表わす場合において、Y2 は環状イミド基を形成する
有機残基を表わす。好ましくは、一般式(V)または
(VI)で示される有機残基を表わす。一般式(V)
Embedded image In the formula, Y 2 represents an organic residue forming a cyclic imide group. Preferably, it represents an organic residue represented by the general formula (V) or (VI). General formula (V)

【化111】 一般式(VI)Embedded image General formula (VI)

【化112】 式(V)中、R25、R26は各々同じでも異なってもよ
く、各々水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭
素原子等)、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキ
ル基〔例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル
基、2−メトキシエチル基、2−シアノエチル基、3−
クロロプロピル基、2−(メタンスルホニル)エチル
基、2−(エトキシオキシ)エチル基等〕、炭素数7〜
12の置換されてもよいアラルキル基(例えばベンジル
基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、メチルベ
ンジル基、ジメチルベンジル基、メトキシベンジル基、
クロロベンジル基、ブロモベンジル基等)、炭素数3〜
18の置換されてもよいアルケニル基(例えばアリル
基、3−メチル−2−プロペニル基、2−ヘキセニル
基、4−プロピル−2−ペンテニイル基、12−オクタ
デセニル基等)、−S−R22′(R22′は前記R25又は
26のアルキル基、アラルキル基、アルケニル基と同一
の内容を表わす)、置換されてもよいアリール基(例え
ばフェニル基、トリル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、
エトキシカルボニルフェニル基等)、又は−NHR23
(R23′は前記R22′と同一の内容を表わす)を表わ
す。又、R25とR26で環を形成する残基を表わしてもよ
い〔例えば5〜6員環の単環(例えばシクロペンチル
環、シクロヘキシル環)、又は5〜6員環のビシクロ環
(例えばビシクロヘプタン環、ビシクロヘプチン環、ビ
シクロオクタン環、ビシクロオクテン環等)、更にはこ
れら環は置換されなくてもよく、置換基としてはR25
26で前記した内容と同一のものを含む〕。qは2又は
3の整数を表わす。式(VI)中、R27、R28は同一でも
異なってもよく、前記R25、R26と同一の内容のものを
表わす。更にはR27とR28は連続して芳香族環を形成す
有機残基を表わしてもよい(例えばベンゼン環、ナフタ
レン環等)。
Embedded image In the formula (V), R 25 and R 26 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom or the like), or an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms [ For example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group,
Hexadecyl, octadecyl, 2-chloroethyl, 2-methoxyethyl, 2-cyanoethyl, 3-
Chloropropyl group, 2- (methanesulfonyl) ethyl group, 2- (ethoxyoxy) ethyl group, etc.];
12 aralkyl groups which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, methoxybenzyl group,
Chlorobenzyl group, bromobenzyl group, etc.), having 3 to 3 carbon atoms
18 an optionally substituted alkenyl group (e.g. allyl, 3-methyl-2-propenyl group, 2-hexenyl, 4-propyl-2-Penteniiru group, 12-octadecenyl group, etc.), - S-R 22 ' (R 22 ′ represents the same content as the alkyl group, aralkyl group and alkenyl group of R 25 or R 26 ), and optionally substituted aryl group (for example, phenyl group, tolyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, Methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group,
Ethoxycarbonylphenyl group) or —NHR 23
(R 23 ′ represents the same content as R 22 ′). R 25 and R 26 may represent a ring-forming residue [eg, a 5- to 6-membered monocyclic ring (eg, a cyclopentyl ring, a cyclohexyl ring), or a 5- to 6-membered bicyclo ring (eg, a bicyclo ring). heptane ring, Bishikurohepuchin ring, bicyclooctane ring, bicyclooctene ring), and further these rings may not be substituted, the substituent R 25,
Including the same as the contents described above in R 26]. q represents an integer of 2 or 3. In the formula (VI), R 27 and R 28 may be the same or different and represent the same as R 25 and R 26 . Further, R 27 and R 28 may represent an organic residue which continuously forms an aromatic ring (for example, a benzene ring, a naphthalene ring, etc.).

【0057】本発明の好ましい他の1つの態様として、
一般式(VII)〔−CO−L4 〕で示される官能基を少な
くとも一種含有す単量体が挙げられる。一般式(VII)
〔−CO−L4 〕において、L4
In another preferred embodiment of the present invention,
Formula (VII) - of at least one you containing monomer functional group represented by [CO-L 4] can be mentioned. General formula (VII)
In [-CO-L 4 ], L 4 is

【化113】 又はEmbedded image Or

【化114】 を表わす。但し、R29,R30,R31,R32,R33は各々
水素原子又は脂肪族基を表わす。脂肪族基としては、好
ましくは前記R22,R23,R24と同一の内容を表わす。
又、R30とR31及びR32とR33は連結して縮合環を形成
してもよい有機残基を表わす。好ましくは5〜6員環の
単環(例えばシクロペンチル環、シクロヘキシル環
等)、5員〜12員環の芳香族環(例えばベンゼン環、
ナフタレン環、チオフェン環、ピロール環、ピラン環、
キノリン環等)等を表わす。
Embedded image Represents Here, R 29 , R 30 , R 31 , R 32 and R 33 each represent a hydrogen atom or an aliphatic group. The aliphatic group, preferably the same meaning as the R 22, R 23, R 24 .
R 30 and R 31 and R 32 and R 33 represent an organic residue which may combine to form a condensed ring. Preferably, a 5- to 6-membered monocyclic ring (for example, a cyclopentyl ring, a cyclohexyl ring, etc.) or a 5- to 12-membered aromatic ring (for example, a benzene ring,
Naphthalene ring, thiophene ring, pyrrole ring, pyran ring,
Quinoline ring).

【0058】更に、本発明の好ましい他の1つの態様と
して、下記一般式(VIII) で示されるオキサゾロン環を
少なくとも一種含有する単量体が挙げられる。一般式
(VIII)
[0058] Further, other preferred aspect of the present invention, Ru monomers include at least one containing oxazolone ring represented by the following general formula (VIII). General formula (VIII)

【化115】 一般式(VIII) において、R34,R35は互いに同じでも
異なっていてもよく、各々水素原子、炭化水素基を表わ
すか、又はR34とR35とが一緒に環を形成してもよい。
好ましくは、R34、R35は互いに同じでも異なってもよ
く、各々水素原子、置換されていてもよい炭素数1〜1
2の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、2−クロ
ロエチル基、2−メトキシエチル基、2−メトキシカル
ボニルエチル基、3−ヒドロキシプロピル基等)、置換
されていてもよい炭素数7〜12のアラルキル基(例え
ばベンジル基、4−クロロベンジル基、4−アセトアミ
ドベンジル基、フェネチル基、4−メトキシベンジル基
等)、置換されていてもよい炭素数2〜12のアルケニ
ル基(例えばエチレン基、アリル基、イソプロペニル
基、ブテニル基、ヘキセニル基等)、置換されていても
よい5〜7員環の脂環式基(例えばシクロペンチル基、
シクロヘキシル基、クロロシクロヘキシル基等)、置換
されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、クロロフェ
ニル基、メトキシフェニル基、アセトアミドフェニル
基、メチルフェニル基、ジクロロフェニル基、ニトロフ
ェニル基、ナフチル基、ブチルフェニル基、ジメチルフ
ェニル基等)を表わすか、又はR34とR35とが一緒に環
(例えばテトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサ
メチレン基等)を形成してもよい。
Embedded image In the general formula (VIII), R 34 and R 35 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group, or R 34 and R 35 may form a ring together. .
Preferably, R 34 and R 35 may be the same or different from each other, and each may be a hydrogen atom or an optionally substituted C 1 -C 1.
2 linear or branched alkyl groups (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-hydroxypropyl group Etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-acetamidobenzyl group, phenethyl group, 4-methoxybenzyl group, etc.), and optionally substituted Good alkenyl groups having 2 to 12 carbon atoms (eg, ethylene group, allyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, etc.), and optionally substituted 5- to 7-membered alicyclic group (eg, cyclopentyl group,
A cyclohexyl group, a chlorocyclohexyl group, etc., an aromatic group which may be substituted (for example, phenyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, acetamidophenyl group, methylphenyl group, dichlorophenyl group, nitrophenyl group, naphthyl group, butylphenyl group) , Dimethylphenyl group, etc.), or R 34 and R 35 may together form a ring (eg, tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, etc.).

【0059】本発明に用いられる一般式(IV) 〜(VII
I) で示される官能基の群から選択される官能基を少な
くとも一種含有する単量体は、従来公知の有機合成反応
によって容易に合成される。例えば日本化学会編「新実
験化学講座第14巻、有機化合物の合成と反応(V〕」
第2535頁(丸善株式会社刊)、岩倉義雄:栗田恵輔
「反応性高分子」第170頁(講談社刊)、J. F. W. M
cOmie,「 ProtectiveGroups in Organic Chemistry 」
第183頁( Plenum Press 刊、1973年)等に記載
された方法が挙げられる。
The formulas (IV) to (VII) used in the present invention
The monomer containing at least one functional group selected from the group of functional groups represented by I) can be easily synthesized by a conventionally known organic synthesis reaction. For example, The Chemical Society of Japan, “New Experimental Chemistry, Vol. 14, Synthesis and Reaction of Organic Compounds (V)”
Page 2535 (published by Maruzen Co., Ltd.), Yoshio Iwakura: Keisuke Kurita, "Reactive Polymers", page 170 (published by Kodansha), JFW M
cOmie, "ProtectiveGroups in Organic Chemistry"
183 (Plenum Press, 1973) and the like.

【0060】また、一般式(VIII) で示されるオキサゾ
ロン環を含有する単量体は、重合性不飽和結合を含有す
るN−アシロイル−α−アミノ酸類の脱水閉環反応によ
り製造することができる。具体的には、岩倉義雄:栗田
恵輔「反応性高分子」第3章(講談社刊)に記載の方法
によって製造することができる。
The oxazolone ring-containing monomer represented by the general formula (VIII) can be produced by a dehydration ring-closure reaction of N-acyloyl-α-amino acids containing a polymerizable unsaturated bond. Specifically, it can be produced by the method described in Yoshio Iwakura: Keisuke Kurita, "Reactive Polymers", Chapter 3 (published by Kodansha).

【0061】これらの単量体と共重合しうる他の単量体
としては、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪
酸ビニル、酢酸アリル、プロピオン酸アリル等の如き脂
肪族カルボン酸ビニルあるいはアリルエステル類、アク
リル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレ
イン酸、フマール酸等の如き不飽和カルボン酸のエステ
ル類又はアミド類、スチレン、ビニルトルエン、α−メ
チルスチレンの如きスチレン誘導体、α−オレフィン
類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、N−ビニ
ルピロリドンの如きビニル基置換のヘテロ環化合物等が
挙げられる。
Other monomers copolymerizable with these monomers include, for example, aliphatic vinyl carboxylates such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, allyl acetate, allyl propionate and allyl esters. Esters or amides of unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, styrene derivatives such as styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, α-olefins , Acrylonitrile, methacrylonitrile, and heterocyclic compounds substituted with a vinyl group such as N-vinylpyrrolidone.

【0062】前記した如く、所望の単量体を製造する方
法において用いられる一般式(IV)〜(VIII) の官能基
を含有する単量体(A)について更に具体的に述べる
と、例えば下記一般式(IX) の成分が挙げられる。但
し、これらの単量体に限定されるものではない。一般式
(IX)
As described above, the monomer (A) containing a functional group represented by any of the general formulas (IV) to (VIII) used in the method for producing a desired monomer will be described more specifically. And a component represented by the general formula (IX). However, it is not limited to these monomers. General formula (IX)

【化116】 式(IX) 中、X′は−O−,−CO−,−COO−,Embedded image In the formula (IX), X ′ represents —O—, —CO—, —COO—,

【化117】 芳香族基,又はヘテロ環基を示す〔但し、d9 ,d10
11,d12は各々水素原子,炭化水素基,又は式(IX)
中の−〔Y′−W〕を表わし、b1 ,b2 は同じでも異
なっていてもよく、水素原子、炭化水素基又は式(IX)
中の−〔Y′−W〕を表わし、lは0〜18の整数を示
す〕。Y′は結合基X′と結合基〔W〕を連結するヘテ
ロ原子を介していてもよい炭素−炭素結合を表わし(ヘ
テロ原子としては酸素原子,イオウ原子,窒素原子を示
す)、例えば
Embedded image Represents an aromatic group or a heterocyclic group [provided that d 9 , d 10 ,
d 11 and d 12 are each a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or the formula (IX)
Wherein b 1 and b 2 may be the same or different, and represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a compound of the formula (IX)
Represents-[Y'-W], and l represents an integer of 0 to 18]. Y 'represents a carbon-carbon bond which may be connected via a hetero atom connecting the bonding group X' and the bonding group [W] (hetero atoms are oxygen, sulfur and nitrogen atoms);

【化118】 等の結合単位の単独又は組合せの構成より成るものであ
る(但し、b3 ,b4 ,b5 は各々前記b1 ,b2 と同
義である)。Wは式(IV) 〜(VIII) で表わされる官能
基を表わす。a1 ′,a2 ′は同じでも異なってもよ
く、水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原
子等)、シアノ基、炭化水素基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、メトキシカルボニル基、
エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブト
キシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、メト
キシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル
基、ブトキシカルボニルメチル基等の置換されてもよい
炭素数1〜12のアルキル基、ベンジル基、フェネチル
基等のアラルキル基、フェニル基、トリル基、シリル
基、クロロフェニル基等のアリール基等)又は式(IX)
中の−W基を含む置換基で置換されてもよい炭素数1〜
18のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環
式基、芳香族基を表わす。又、式(IX) 中の〔−X′−
Y′−〕結合残基は
Embedded image (In which b 3 , b 4 , and b 5 have the same meanings as b 1 and b 2 , respectively). W represents a functional group represented by any of formulas (IV) to (VIII). a 1 ′ and a 2 ′ may be the same or different and include a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, a hydrocarbon group (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, Methoxycarbonyl group,
An ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, a hexyloxycarbonyl group, a methoxycarbonylmethyl group, an ethoxycarbonylmethyl group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted such as a butoxycarbonylmethyl group, a benzyl group, An aralkyl group such as a phenethyl group, an aryl group such as a phenyl group, a tolyl group, a silyl group, or a chlorophenyl group) or the formula (IX)
Having 1 to 1 carbon atoms which may be substituted with a substituent containing a -W group.
18 represents an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group, or an aromatic group. Also, [-X'- in the formula (IX)
Y'-] bonding residue is

【化119】 部と−Wを直接連結させてもよい。Wは一般式(IV) 〜
(VIII) で表わされる記号内容を表わす。
Embedded image You may connect a part and -W directly. W is the general formula (IV)
Represents the symbolic content represented by (VIII).

【0063】本発明の一般式(IV) 〜(VIII) で表わさ
れる官能基〔式(IX) 中のW基〕について具体的例を以
下に述べる。但し、本発明の範囲はこれらに限定される
ものではない。(c−1)
Specific examples of the functional group represented by the general formulas (IV) to (VIII) [W group in the formula (IX)] of the present invention are described below. However, the scope of the present invention is not limited to these. (C-1)

【化120】 (c−2)Embedded image (C-2)

【化121】 (c−3)Embedded image (C-3)

【化122】 (c−4)Embedded image (C-4)

【化123】 (c−5)Embedded image (C-5)

【化124】 (c−6)Embedded image (C-6)

【化125】 (c−7)Embedded image (C-7)

【化126】 (c−8)Embedded image (C-8)

【化127】 (c−9)Embedded image (C-9)

【化128】 (c−10)Embedded image (C-10)

【化129】 (c−11)Embedded image (C-11)

【化130】 (c−12)Embedded image (C-12)

【化131】 (c−13)Embedded image (C-13)

【化132】 (c−14)Embedded image (C-14)

【化133】 (c−15)Embedded image (C-15)

【化134】 (c−16)Embedded image (C-16)

【化135】 (c−17)Embedded image (C-17)

【化136】 (c−18)Embedded image (C-18)

【化137】 (c−19)Embedded image (C-19)

【化138】 (c−20)Embedded image (C-20)

【化139】 (c−21)Embedded image (C-21)

【化140】 (c−22)Embedded image (C-22)

【化141】 (c−23)Embedded image (C-23)

【化142】 (c−24)Embedded image (C-24)

【化143】 (c−25)Embedded image (C-25)

【化144】 (c−26)Embedded image (C-26)

【化145】 (c−27)Embedded image (C-27)

【化146】 (c−28)Embedded image (C-28)

【化147】 (c−29)Embedded image (C-29)

【化148】 (c−30)Embedded image (C-30)

【化149】 (c−31)Embedded image (C-31)

【化150】 (c−32)Embedded image (C-32)

【化151】 (c−33)Embedded image (C-33)

【化152】 (c−34)Embedded image (C-34)

【化153】 (c−35)Embedded image (C-35)

【化154】 (c−36)Embedded image (C-36)

【化155】 (c−37)Embedded image (C-37)

【化156】 (c−38)Embedded image (C-38)

【化157】 (c−39)Embedded image (C-39)

【化158】 (c−40)Embedded image (C-40)

【化159】 (c−41)Embedded image (C-41)

【化160】 (c−42)Embedded image (C-42)

【化161】 (c−43)Embedded image (C-43)

【化162】 (c−44)Embedded image (C-44)

【化163】 (c−45)Embedded image (C-45)

【化164】 (c−46)Embedded image (C-46)

【化165】 (c−47)Embedded image (C-47)

【化166】 (c−48)Embedded image (C-48)

【化167】 (c−49)Embedded image (C-49)

【化168】 (c−50)Embedded image (C-50)

【化169】 (c−51)Embedded image (C-51)

【化170】 (c−52)Embedded image (C-52)

【化171】 Embedded image

【0064】本発明の樹脂粒子〔L〕におけるカルボキ
シル基生成官能基を含有する重合体成分は、樹脂粒子
〔L〕が共重合体である場合には全共重合体中の10〜
95重量%、特に20〜90重量%であることが好まし
い。
When the resin particles [L] are copolymers, the polymer component containing a carboxyl group-forming functional group in the resin particles [L] of the present invention is 10 to 10% of the total copolymer.
It is preferably 95% by weight, particularly preferably 20 to 90% by weight.

【0065】本発明の樹脂粒子〔L〕は更に少なくとも
その一部分が架橋されていることを特徴とする。重合体
の少なくとも一部分が予め架橋された樹脂粒子〔L〕
(重合体中に架橋構造を有する樹脂)は、該樹脂中に含
有される前記のカルボキシル基生成官能基が分解により
カルボキシル基を生成したときに、酸性及びアルカリ性
の水溶液に対して難溶もしくは不溶性である樹脂粒子が
好ましい。
The resin particles [L] of the present invention are further characterized in that at least a part thereof is crosslinked. Resin particles [L] in which at least a portion of the polymer has been previously crosslinked
(Resin having a crosslinked structure in the polymer) is hardly soluble or insoluble in an acidic or alkaline aqueous solution when the carboxyl group-forming functional group contained in the resin generates a carboxyl group by decomposition. Is preferred.

【0066】以上の様な極性基含有の単量体(A)とと
もに、これら以外の共重合しうる他の単量体を重合体成
分として含有してもよい。他の単量体としては後記する
一般式(X)の繰り返し単位に相当する単量体あるいは
該式(X)で示される成分に相当する単量体と共重合す
るものが挙げられる。
In addition to the polar group-containing monomer (A) as described above, other copolymerizable monomers other than these may be contained as a polymer component. Examples of the other monomer include a monomer corresponding to a repeating unit represented by the following general formula (X) or a monomer copolymerized with a monomer corresponding to a component represented by the formula (X).

【0067】該樹脂中の重合成分として、単量体(A)
の存在割合は、30重量%以上好ましくは50重量%以
上であり、他の共重合し得る単量体を含有する場合は、
多くても20重量%以下である。この非水溶媒に不溶性
となる重合成分として重要なことはカルボキシル基を生
成した後の物として蒸留水に対する接触角で表される
親水性が50度以下を満足できるものであればよい。
As the polymerization component in the resin, monomer (A)
Is 30% by weight or more, preferably 50% by weight or more, and when containing other copolymerizable monomers,
It is at most 20% by weight or less. This in a non-aqueous solvent important as a polymerization component as a insoluble may be one hydrophilic represented by the contact angle to distilled water as the object of after generating a carboxyl group can satisfy the following 50 degrees.

【0068】次に本発明の分散安定用樹脂について説明
する。該分散安定用樹脂は非水溶媒と溶媒和し可溶性で
あることが重要であり、いわゆる非水系分散重合におけ
る分散安定化作用を担うものであり、具体的には該溶媒
100重量部に対し、温度25℃において少なくとも5
重量%溶解するものであればよい。
Next, the dispersion stabilizing resin of the present invention will be described. It is important that the dispersion stabilizing resin is solvated and soluble with a non-aqueous solvent, and is responsible for the dispersion stabilizing effect in so-called non-aqueous dispersion polymerization.Specifically, with respect to 100 parts by weight of the solvent, At least 5 at 25 ° C
Any substance that dissolves by weight% may be used.

【0069】該分散安定用樹脂の重量平均分子量は1×
103 ×105 であり、好ましくは2×103 〜1
×105 であり、特に好ましくは×103 ×10
4 である。該樹脂の重量平均分子量が1×103 未満に
なると、生成した分散樹脂粒子の凝集が発生し、平均粒
径が揃った微粒子が得られなくなってしまう。一方5×
105 を越えると、光導電層中に添加した時に電子写真
特性を満足しつつ保水性向上するという本発明の効果が
薄れてしまう。
The weight average molecular weight of the dispersion stabilizing resin is 1 ×
10 3 to 5 × 10 5 , preferably 2 × 10 3 to 1
× 10 5 , particularly preferably 3 × 10 3 to 5 × 10 5
4 If the weight average molecular weight of the resin is less than 1 × 10 3 , the resulting dispersed resin particles will aggregate, making it impossible to obtain fine particles having a uniform average particle size. 5x
If it exceeds 10 5 , the effect of the present invention of improving water retention while satisfying electrophotographic properties when added to the photoconductive layer will be diminished.

【0070】本発明の分散安定用樹脂は該非水溶媒に可
溶性の重合体であればいずれでもよいが、具体的には、
K. E. J. Barrett「 Dispersion Polymerization in Or
ganic Media 」John Wiley and Sons (1975年
刊)、R. Dowpenco , D. P. Hart, Ind. Eng. Chem. Pr
od. Res. Develop. 12,(No. 1)、14(197
3)、丹下豊吉、日本接着協会誌 23(1),26
(1987)、D. J. Walbridge 、NATO. Adv. Study I
nst. Ser.E. No.67,40(1983)、Y. Sasakia
nd M. Yabuta , Proc, 10th, Int. Conf. Org. Coat. S
ci. Technol, 10,263(1984)等の総説に引
例の各重合体が挙げられる。
The dispersion stabilizing resin of the present invention may be any polymer as long as it is a polymer soluble in the non-aqueous solvent.
KEJ Barrett `` Dispersion Polymerization in Or
ganic Media "John Wiley and Sons (1975), R. Dowpenco, DP Hart, Ind. Eng. Chem. Pr.
od. Res. Develop. 12 , (No. 1), 14 (197
3), Tokichi Tange, Journal of the Adhesion Society of Japan 23 (1), 26
(1987), DJ Walbridge, NATO. Adv. Study I
nst. Ser. E. No. 67, 40 (1983), Y. Sasakia
nd M. Yabuta, Proc, 10th, Int. Conf. Org. Coat. S
Review articles such as ci. Technol, 10 , 263 (1984) include each polymer of the reference.

【0071】例えばオレフィン重合体、変性オレフィン
重合体、スチレン−オレフィン共重合体、脂肪族カルボ
ン酸ビニルエステル共重合体、変性無水マレイン酸共重
合体、ポリエステル重合体、ポリエーテル重合体、メタ
クリレートホモ重合体、アクリレートホモ重合体、メタ
クリレート共重合体、アクリレート共重合体、アルキッ
ド樹脂等である。
For example, olefin polymers, modified olefin polymers, styrene-olefin copolymers, aliphatic carboxylic acid vinyl ester copolymers, modified maleic anhydride copolymers, polyester polymers, polyether polymers, methacrylate homopolymers Coalescent, acrylate homopolymer, methacrylate copolymer, acrylate copolymer, alkyd resin and the like.

【0072】より具体的には、本発明の分散安定用樹脂
の繰り返し単位として供される重合体成分としては、下
記一般式(X)で表される成分が挙げられる。一般式
(X)
More specifically, the polymer component used as a repeating unit of the dispersion stabilizing resin of the present invention includes a component represented by the following general formula (X). General formula (X)

【化172】 式(X)中、X4 は式(II)のV0 と同一の内容を表わ
し、詳細は式(II)のV0 の説明に記載されている。
Embedded image In formula (X), X 4 has the same content as V 0 in formula (II), and details are described in the description of V 0 in formula (II).

【0073】R36は、炭素数1〜22の置換されてもよ
いアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、
ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テト
ラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ドサコ
ニル基、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル基、2
−(N−モルホリノ)エチル基、2−クロロエチル基、
2−ブロモエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−シ
アノエチル基、2−(α−チエニル)エチル基、2−カ
ルボキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、
2,3−エポキシプロピル基、2,3−ジアセトキシプ
ロピル基、3−クロロプロピル基、4−エトキシカルボ
ニルブチル基等)、炭素数3〜22の置換されてもよい
アルケニル基(例えばアリル基、ヘキセニル基、オクテ
ニル基、ドセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、
オクタデセニル基、オレイル基、リノレイル基等)、炭
素数7〜22の置換されてもよいアラルキル基(例えば
ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、
2−ナフチルメチル基、2−(2′−ナフチル)エチル
基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベン
ジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、
メトキシベンジル基、ジメトキシベンジル基、ブチルベ
ンジル基、メトキシカルボニルベンジル基等)、炭素数
4〜12の置換されてもよい脂環式基(例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、アダ
マンチル基、クロロシクロヘキシル基、メチルシクロヘ
キシル基、メトキシシクロヘキシル基等)、炭素数6〜
22の置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、
トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、アン
トラニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ブ
チルフェニル基、ヘキシルフェニル基、オクチルフェニ
ル基、デシルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、オクチルオキシフ
ェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、アセチルフ
ェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、ブチルメチ
ルフェニル基、N,N−ジブチルアミノフェニル基、N
−メチル−N−ドデシルフェニル基、チエニル基、ヒラ
ニル基等)等が挙げられる。c1 , c2 は式(II)中の
3 , a4 と同一の内容を表わし、詳細は式(I)のa
1 , a2 の説明に記載される。
R 36 is an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl,
Nonyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, dosaconyl group, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl group, 2
-(N-morpholino) ethyl group, 2-chloroethyl group,
2-bromoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2- (α-thienyl) ethyl group, 2-carboxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group,
A 2,3-epoxypropyl group, a 2,3-diacetoxypropyl group, a 3-chloropropyl group, a 4-ethoxycarbonylbutyl group and the like, an alkenyl group having 3 to 22 carbon atoms which may be substituted (for example, an allyl group, Hexenyl group, octenyl group, dodecenyl group, dodecenyl group, tridecenyl group,
An octadecenyl group, an oleyl group, a linoleyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 22 carbon atoms (eg, a benzyl group, a phenethyl group, a 3-phenylpropyl group,
2-naphthylmethyl group, 2- (2'-naphthyl) ethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group,
A methoxybenzyl group, a dimethoxybenzyl group, a butylbenzyl group, a methoxycarbonylbenzyl group, etc., an alicyclic group having 4 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclooctyl group, an adamantyl group, a chloro group) Cyclohexyl group, methylcyclohexyl group, methoxycyclohexyl group, etc.)
22 optionally substituted aromatic groups (for example, phenyl group,
Tolyl, xylyl, mesityl, naphthyl, anthranyl, chlorophenyl, bromophenyl, butylphenyl, hexylphenyl, octylphenyl, decylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, Octyloxyphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, acetylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, butylmethylphenyl group, N, N-dibutylaminophenyl group, N
-Methyl-N-dodecylphenyl group, thienyl group, hydranyl group and the like). c 1 and c 2 represent the same contents as a 3 and a 4 in the formula (II).
1, are described in the description of a 2.

【0074】本発明の分散安定用樹脂中の重合体成分と
して、以上述べた成分とともに、他の重合体成分を含有
してもよい。他の重合体成分としては、一般式(X)で
示される成分に相当する単量体と共重合するものであれ
ばいずれでもよく、相当する単量体としては、例えば、
α−オレフィン類、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、ビニル含有複素環類(複素環としては例えばピラ
ン環、ピロドリン環、イミダゾール環、ピリジン環
等)、ビニル基含有のカルボン酸類(例えばアクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン
酸等)、ビニル基含有のカルボキシアミド類(例えばア
クリルアミド、メタクリルアミド、クロトン酸アミド、
イタコン酸アミド、イタコン酸半アミド、イタコン酸ジ
アミド等)等が挙げられる。
As the polymer component in the dispersion stabilizing resin of the present invention, other polymer components may be contained in addition to the components described above. The other polymer component may be any as long as it copolymerizes with a monomer corresponding to the component represented by the general formula (X). As the corresponding monomer, for example,
α-olefins, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl-containing heterocycles (for example, a heterocyclic ring such as a pyran ring, a pyrodrine ring, an imidazole ring, and a pyridine ring), and vinyl group-containing carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, Crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, etc.), vinyl group-containing carboxamides (eg acrylamide, methacrylamide, crotonic amide,
Itaconamide, itaconic half-amide, itaconic diamide and the like).

【0075】本発明の分散安定用樹脂において、一般式
(X)で示される重合体成分は、該樹脂の全重合体10
0重量部中30重量部以上、好ましくは50重量部以上
である。
In the dispersion stabilizing resin of the present invention, the polymer component represented by the general formula (X) is the total polymer 10 of the resin.
It is at least 30 parts by weight, preferably at least 50 parts by weight in 0 parts by weight.

【0076】更には、本発明の分散安定用樹脂が、高分
子鎖中に前記した一般式(II)で示される重合性二重結
合基部分を少なくとも1種含有して成ることが好まし
い。以下に、該重合性二重結合基部分について説明す
る。一般式(II)
Further, it is preferable that the dispersion stabilizing resin of the present invention contains at least one polymerizable double bond group represented by the general formula (II) in the polymer chain. Hereinafter, the polymerizable double bond group portion will be described. General formula (II)

【化173】 一般式(II)において、V0 は−O−、−COO−、−
OCO−、−(CH2 p −OCO−、−(CH2 p
−COO−、−SO2 −、
Embedded image In the general formula (II), V 0 represents -O-, -COO-,-
OCO -, - (CH 2) p -OCO -, - (CH 2) p
-COO -, - SO 2 -,

【化174】 −CONHCOO−、又は−CONHCONH−を表わ
す(pは1〜4の整数を表す)。
Embedded image Represents -CONHCOO- or -CONHCONH- (p represents an integer of 1 to 4).

【0077】ここでR4 は水素原子のほか、好ましい炭
化水素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シ
アノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−
メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数
4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば2−
メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペン
テニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテ
ニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メ
チル−2−ヘキセニル基、等)、炭素数7〜12の置換
されていてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、
フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチ
ル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロ
モベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、
メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシ
ベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されていてもよい
脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキ
シルエチル基、2−シクロペンチルエチル基、等)、又
は、炭素数6〜12の置換されていてもよい芳香族基
(例えばフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル
基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチル
フェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル
基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシル
オキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニ
ル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチル
フェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシ
カルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル
基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェニル
基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙げられる。
Here, R 4 is a hydrogen atom, and a preferable hydrocarbon group is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group). , Hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-
A methoxyethyl group, a 3-bromopropyl group, etc., an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example, 2-
Methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, Etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group,
Phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group,
A methoxybenzyl group, a dimethylbenzyl group, a dimethoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (eg, a cyclohexyl group, a 2-cyclohexylethyl group, a 2-cyclopentylethyl group, etc.) Or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, propylphenyl, butylphenyl, octylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl) Group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl Group, propionitrile amido phenyl group, such as dodecane white ylamide phenyl group).

【0078】V0 が、V 0 is

【化175】 を表わす場合、ベンゼン環は、置換基を有してもよい。
置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素
原子等)、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチ
ル基、等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキ
シ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げられ
る。
Embedded image In the case where is represented, the benzene ring may have a substituent.
Examples of the substituent include a halogen atom (eg, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group,
A propyl group, a butyl group, a chloromethyl group, a methoxymethyl group and the like; an alkoxy group (for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group and a butoxy group).

【0079】a3 及びa4 は、互いに同じでも異なって
いてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4の
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等)−COO−R5 又は炭化水素を介した
COOR5 (R5 は、水素原子又は炭素数1〜18のア
ルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基又は
アリール基を表わし、これらは置換されていてもよく、
具体的には、上記R4 について説明したものと同様の内
容を表わす)を表わす。
A 3 and a 4 may be the same or different from each other, and are preferably a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a chlorine atom or a bromine atom), a cyano group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, COOR 5 (R 5 via a butyl group) -COO-R 5 or hydrocarbons, hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, fat Represents a cyclic group or an aryl group, which may be substituted;
Specifically, represent represent) the same contents as those described above R 4.

【0080】上記炭化水素を介した−COOR5 基にお
ける炭化水素としては、メチレン基、エチレン基、プロ
ピレン基等が挙げられる。更に好ましくは、一般式(I
I)において、V0 は、−COO−、−OCO−、−C
2 OCO−、−CH2 COO−、−O−、−CONH
−、−SO2 NH−、−CONHCOO−又は
Examples of the hydrocarbon in the —COOR 5 group via the above hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, a propylene group and the like. More preferably, the compound represented by the general formula (I
In I), V 0 represents -COO-, -OCO-, -C
H 2 OCO -, - CH 2 COO -, - O -, - CONH
-, - SO 2 NH -, - CONHCOO- or

【化176】 を表わし、a3 及びa4 は互いに同じでも異なっていて
もよく、水素原子、メチル基、−COOR5 又は−CH
2 COOR5 を表し、(R5 は水素原子又は炭素数1〜
6のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基等を表わす)を表わす。更に
より好ましくはa3 及びa4 においていずれか一方が必
ず水素原子を表わす。
Embedded image A 3 and a 4 may be the same or different from each other, and represent a hydrogen atom, a methyl group, -COOR 5 or -CH
Represents 2 COOR 5, (R 5 is 1 to hydrogen atom or a carbon atoms
6 represents an alkyl group (for example, represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, etc.). Even more preferably, one of a 3 and a 4 always represents a hydrogen atom.

【0081】即ち、一般式(II) で表わされる重合性二
合基含有部分として、具体的には
[0081] That is, the polymerizable double bond Gomoto containing moiety represented by the formula (II), specifically,

【化177】 Embedded image

【化178】 等が挙げられる。Embedded image And the like.

【0082】これらの重合性二重結合基含有部分は高分
子鎖の主鎖に直接結合されるか又は任意の連結基で結合
されたものである。連結する基として具体的には二価の
有機残基であって、−O−、−S−、
These polymerizable double bond group-containing portions are directly bonded to the main chain of the polymer chain or bonded by an arbitrary connecting group. Specifically, the linking group is a divalent organic residue, such as -O-, -S-,

【化179】 から選ばれた結合基を介在させてもよい、二価の脂肪族
基もしくは二価の芳香族基、又はこれらの二価の残基の
組合せにより構成された有機残基を表わす。ここで、d
13〜d17は式(II)におけるR4 と同一の内容を表わ
す。
Embedded image Represents a divalent aliphatic group or a divalent aromatic group, or an organic residue composed of a combination of these divalent residues, which may have a bonding group selected from the group consisting of: Where d
13 to d 17 are the same meaning as R 4 in formula (II).

【0083】二価の脂肪族基として、例えばAs the divalent aliphatic group, for example,

【化180】 が挙げられる{e3 及びe4 は、互いに同じでも異なっ
てもよく、各々水素原子、ハロゲン原子(例えばフッ素
原子、塩素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜12のア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ク
ロロメチル基、ブロモメチル基、ブチル基、ヘシキル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基等)を表わす。Q
は−O−、−S−又は−NR37−を表わし、R37は炭素
数1〜4のアルキル基、−CH2 Cl又は−CH2 Br
を表わす}。
Embedded image {E 3 and e 4 may be the same or different from each other, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (eg, a methyl group , Ethyl, propyl, chloromethyl, bromomethyl, butyl, hexyl, octyl, nonyl, decyl, etc.). Q
Is -O -, - S- or -NR 37 - represents, R 37 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, -CH 2 Cl or -CH 2 Br
}.

【0084】二価の芳香族基としては、例えばベンゼン
環基、ナフタレン環基及び5又は6員の複素環基(複素
環を構成するヘテロ原子として、酸素原子、イオウ原
子、窒素原子から選ばれたヘテロ原子を少なくとも1種
含有する)が挙げられる。これらの芳香族基は置換基を
有していてもよく、例えばハロゲン原子(例えばフッ素
原子、塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜8のアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基等)、炭素数1〜6のアル
コキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキ
シ基、ブトキシ基等)が置換基の例として挙げられる。
複素環基としては、例えばフラン環、チオフェン環、ピ
リジン環、ピラジン環、ピペラジン環、テトラヒドロフ
ラン環、ピロール環、テトラヒドロピラン環、1,3−
オキサゾリン環等が挙げられる。
The divalent aromatic group includes, for example, a benzene ring group, a naphthalene ring group and a 5- or 6-membered heterocyclic group (hetero atoms constituting a heterocyclic ring are selected from oxygen, sulfur and nitrogen atoms. Containing at least one heteroatom). These aromatic groups may have a substituent, for example, a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group) , A butyl group, a hexyl group, an octyl group, etc.) and a C1-C6 alkoxy group (for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, etc.) are mentioned as examples of the substituent.
Examples of the heterocyclic group include a furan ring, a thiophene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a piperazine ring, a tetrahydrofuran ring, a pyrrole ring, a tetrahydropyran ring, and a 1,3-
Oxazoline ring and the like.

【0085】以上のような重合性二重結合基含有部分
は、具体的には高分子鎖中にランダム結合されている、
又は高分子鎖の主鎖の片末端にのみ結合されている。好
ましくは、高分子鎖主鎖の片末端にのみ重合性二重結合
基含有部分が結合された重合体(以下、一官能性重合体
〔M〕と略記する)が挙げられる。
The polymerizable double bond group-containing portion as described above is specifically randomly bonded in a polymer chain.
Alternatively, it is bonded only to one end of the main chain of the polymer chain. Preferably, a polymer in which a polymerizable double bond group-containing portion is bonded to only one end of a polymer chain main chain (hereinafter, abbreviated as a monofunctional polymer [M]) is used.

【0086】上記一官能性重合体〔M〕の一般式(II)
で示される重合性二重結合基含有部分と、これに連結す
る有機残基で構成される部分の具体例として各々次のも
のが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
但し、以下の各例において、P1 は−H、−CH3 、−
CH2 COOCH3 、−Cl、−Br又は−CNを示
し、P2 は−H又は−CH3 を示し、X5 は−Cl又は
−Brを示し、n2 は2〜12の整数を示し、m2 は1
〜4の整数を示す。(d−1)
The monofunctional polymer [M] represented by the general formula (II)
Specific examples of the polymerizable double bond group-containing portion represented by and the portion composed of an organic residue linked thereto include the following, but are not limited thereto.
However, in each of the following examples, P 1 is -H, -CH 3 ,-
CH 2 COOCH 3, -Cl, shows -Br or -CN, P 2 represents -H or -CH 3, X 5 represents a -Cl or -Br, n 2 represents an integer of 2 to 12, m 2 is 1
Shows an integer of ~ 4. (D-1)

【化181】 (d−2)Embedded image (D-2)

【化182】 (d−3)Embedded image (D-3)

【化183】 (d−4)Embedded image (D-4)

【化184】 (d−5)Embedded image (D-5)

【化185】 (d−6)Embedded image (D-6)

【化186】 (d−7)Embedded image (D-7)

【化187】 (d−8)Embedded image (D-8)

【化188】 (d−9)Embedded image (D-9)

【化189】 (d−10)Embedded image (D-10)

【化190】 (d−11)Embedded image (D-11)

【化191】 (d−12)Embedded image (D-12)

【化192】 (d−13)Embedded image (D-13)

【化193】 (d−14)Embedded image (D-14)

【化194】 (d−15)Embedded image (D-15)

【化195】 (d−16)Embedded image (D-16)

【化196】 (d−17)Embedded image (D-17)

【化197】 (d−18)Embedded image (D-18)

【化198】 (d−19)Embedded image (D-19)

【化199】 (d−20)Embedded image (D-20)

【化200】 (d−21)Embedded image (D-21)

【化201】 (d−22)Embedded image (D-22)

【化202】 (d−23)Embedded image (D-23)

【化203】 (d−24)Embedded image (D-24)

【化204】 (d−25)Embedded image (D-25)

【化205】 (d−26)Embedded image (D-26)

【化206】 (d−27)Embedded image (D-27)

【化207】 (d−28)Embedded image (D-28)

【化208】 (d−29)Embedded image (D-29)

【化209】 (d−30)Embedded image (D-30)

【化210】 Embedded image

【0087】好ましくは本発明の分散安定用樹脂は重合
性二重結合基部分を高分子中の側鎖に含有するが、この
重合体の合成は従来公知の方法によって製造することが
できる。例えば、重合反応性の異なる重合性二重結合
基を分子中に2個含有した単量体を共重合させる方法、
分子中に、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ
基、エポキシ基等の反応性基を含有した一官能性単量体
を共重合させて高分子を得た後、この高分子側鎖中の反
応基と化学結合しうる他の反応性基を含有した重合性二
重結合基を含む有機低分子化合物との反応を行う、いわ
ゆる高分子反応によって導入する方法、等が通常よく知
られた方法として挙げられる。
Preferably, the dispersion stabilizing resin of the present invention contains a polymerizable double bond group in a side chain of a polymer, and the polymer can be synthesized by a conventionally known method. For example, a method of copolymerizing a monomer containing two polymerizable double bond groups having different polymerization reactivity in a molecule,
After polymerizing a monofunctional monomer containing a reactive group such as a carboxyl group, a hydroxy group, an amino group, or an epoxy group in the molecule to obtain a polymer, the reactive group in the polymer side chain is obtained. A method of conducting a reaction with an organic low-molecular compound containing a polymerizable double bond group containing another reactive group capable of chemically bonding with, for example, a method of introducing the compound by a so-called polymer reaction, and the like, are commonly known methods. Can be

【0088】上記の方法として、例えば特開昭60−
185962号公報に記載の方法等が挙げられる。上記
の方法として、具体的には岩倉義男,栗田恵輔「反応
性高分子」講談社(1977年刊)、小田良平「高分子
ファインケミカル」講談社(1976年刊)、特開昭6
1−43757号公報、特願平1−149305号とし
て出願した明細書等に詳細に記載されている。
As the above-mentioned method, for example,
185962. As the above method, specifically, Yoshio Iwakura and Keisuke Kurita, “Reactive Polymers” Kodansha (1977), Ryohei Oda “Polymer Fine Chemicals” Kodansha (1976),
This is described in detail in the specification and the like filed as Japanese Patent Application No. 1-43757 and Japanese Patent Application No. 1-149305.

【0089】例えば、下記表−1のA群の官能基とB群
の官能基の組み合わせによる高分子反応が、通常よく知
られた方法として挙げられる。なお表−1のR38, R39
は炭化水素基で、前出の式(II)におけるR4 と同一の
内容を表す。
For example, a polymer reaction by a combination of a functional group of Group A and a functional group of Group B shown in Table 1 below can be mentioned as a well-known method. In Table 1, R 38 and R 39
Is a hydrocarbon group and has the same contents as R 4 in the above formula (II).

【表1】 [Table 1]

【0090】本発明の分散安定用樹脂として更に好まし
い、重合性二重結合基部分を主鎖の片末端に含有する一
官能性重合体〔M〕は、従来公知の合成方法によって製
造することができる。例えば、イ)アニオン重合あるい
はカチオン重合によって得られるリビングポリマーの末
端に種々の試薬を反応させて一官能性重合体〔M〕を得
る、イオン重合法による方法、ロ)分子中にカルボキシ
ル基、ヒドロキシル基、アミノ基等の反応性基を含有し
た重合開始剤及び/又は連鎖移動剤を用いて、ラジカル
重合して得られる末端反応性基結合の重合体と種々の試
薬を反応させて一官能性重合体〔M〕を得るラジカル重
合法による方法、ハ)重付加あるいは重縮合反応により
得られた重合体に上記ラジカル重合法と同様にして、重
合性二重結合基を導入する重付加縮合法による方法等が
挙げられる。
A monofunctional polymer [M] containing a polymerizable double bond group at one end of the main chain, which is more preferable as the dispersion stabilizing resin of the present invention, can be produced by a conventionally known synthesis method. it can. For example, a) a method using an ionic polymerization method, in which various reagents are reacted with the terminal of a living polymer obtained by anionic or cationic polymerization to obtain a monofunctional polymer [M], b) a carboxyl group or a hydroxyl group in the molecule. Using a polymerization initiator and / or a chain transfer agent containing a reactive group such as an amino group or an amino group to react a polymer having a terminal reactive group bond obtained by radical polymerization with various reagents to obtain a monofunctional compound A method by a radical polymerization method for obtaining a polymer [M]; c) a polyaddition condensation method for introducing a polymerizable double bond group into a polymer obtained by a polyaddition or polycondensation reaction in the same manner as in the radical polymerization method described above. And the like.

【0091】具体的には、P. Dreyfuss & R. P. Quirk
, Encycl. Polym. Sci. Eng., ,551(198
7)、P. F. Rempp, E. Franta, Adv. Polym. Sci.,
,1(1984)、V. Percec, Appl. Poly. Sci.,
85,95(1984)、R. Asami, M. Takari, Macro
mol. Chem. Suppl.,12,163(1985)、P. Rem
pp., et al, Macromol. Chem. Suppl., ,3(198
4)、川上雄資,化学工業,38,56(1987)、
山下雄也,高分子,31,988(1982)、小林四
郎,高分子,30,625(1981)、東村敏延,日
本接着協会誌,18,536(1982)、伊藤浩一,
高分子加工,35,262(1986)、東貴四郎,津
田隆,機能材料,1987,No. 10,5等の総説及び
それに引例の文献・特許等に記載の方法に従って合成す
ることができる。
[0091] Specifically, P. Dreyfuss & RP Quirk
, Encycl. Polym. Sci. Eng., 7 , 551 (198
7), PF Rempp, E. Franta, Adv. Polym. Sci., 5
8 , 1 (1984), V. Percec, Appl. Poly. Sci., 2
85 , 95 (1984), R. Asami, M. Takari, Macro
mol. Chem. Suppl., 12 , 163 (1985), P. Rem.
pp., et al, Macromol. Chem. Suppl., 8 , 3 (198
4), Yusuke Kawakami, Chemical Industry, 38 , 56 (1987),
Yuya Yamashita, High Polymer, 31 , 988 (1982), Shiro Kobayashi, High Polymer, 30 , 625 (1981), Toshinobu Higashimura, Journal of the Adhesion Society of Japan, 18 , 536 (1982), Koichi Ito,
Polymer synthesis, 35 , 262 (1986), Kishiro Higashi, Takashi Tsuda, Functional Materials, 1987 , No. 10, 5, and the like, and synthesis can be performed according to the methods described in the references and patents.

【0092】以上の如き一官能性重合体〔M〕の合成方
法として更に具体的には、ラジカル重合性単量体に相当
する繰り返し単位を含有する重合体〔M〕は、特開平2
−67563号公報、特願昭63−64970、特願平
1−206989、同1−69011各号として出願の
明細書等に記載されており、又、ポリエステル構造又は
ポリエーテル構造を繰り返し単位として含有する重合体
〔M〕は、特願平1−56379、同1−58989、
同1−56380各号として出願の明細書等に各々記載
されている方法と同様にして得られる。
More specifically, as a method for synthesizing the above monofunctional polymer [M], a polymer [M] containing a repeating unit corresponding to a radical polymerizable monomer is disclosed in
No. 67563, Japanese Patent Application No. 63-64970, Japanese Patent Application Nos. 1-206989 and 1-69011, each of which is described in the specification of the application, and contains a polyester structure or a polyether structure as a repeating unit. The polymer [M] to be obtained is disclosed in Japanese Patent Application Nos. 1-56379 and 1-58989.
It is obtained in the same manner as the method described in the specification of the application as each of the above-mentioned 1-56380.

【0093】本発明の分散樹脂粒子は以上説明した様
に、極性基含有の一官能性単量体(A)を上記分散安定
用樹脂の存在下で分散重合させて得られる共重合体樹脂
粒子である。更に、本発明の分散樹脂粒子が網目構造を
有する場合は、上記した極性基含有一官能性単量体
(A)〔重合体成分(A)と略記する〕として成る重合
体の重合体間が橋架けされており、高次の網目構造を形
成している。
As described above, the dispersed resin particles of the present invention are copolymer resin particles obtained by dispersion-polymerizing the polar group-containing monofunctional monomer (A) in the presence of the dispersion stabilizing resin. It is. Further, when the dispersed resin particles of the present invention have a network structure, the distance between the polymers of the polar group-containing monofunctional monomer (A) [abbreviated as the polymer component (A)] is reduced. It is bridged and forms a higher-order network structure.

【0094】すなわち、本発明の分散樹脂粒子は、重合
体成分(A)から構成される非水分散溶媒に不溶な部分
と、該溶媒に可溶となる重合体とで構成される、非水系
ラテックスであり、網目構造を有する場合は、この該溶
媒に不溶な部分を形成している重合体成分(A)の分子
間が橋架けされているものである。これにより、カルボ
キシル基生成後の網目樹脂粒子は水に対して難溶性ある
いは不溶性となったものである。具体的には、該樹脂の
水への溶解性は、80重量%以下好ましくは50重量%
以下である。
That is, the dispersed resin particles of the present invention comprise a non-aqueous resin composed of a portion insoluble in a non-aqueous dispersion solvent composed of the polymer component (A) and a polymer soluble in the solvent. When it is a latex and has a network structure, the molecules of the polymer component (A) forming a part insoluble in the solvent are bridged. As a result, the network resin particles after the generation of the carboxyl group become hardly soluble or insoluble in water. Specifically, the solubility of the resin in water is 80% by weight or less, preferably 50% by weight.
It is as follows.

【0095】本発明の架橋は、従来公知の架橋方法によ
って行うことができる。即ち、(a)該重合体成分
(A)を含有する重合体を種々の架橋剤あるいは硬化剤
によって架橋する方法、(b)該重合体成分(A)に相
当する単量体を少なくとも含有させて重合反応を行う際
に、重合性官能基を2個以上含有する多官能性単量体あ
るいは多官能性オリゴマーを共存させることにより分子
間に網目構造を形成する方法、及び(c)該重合体成分
(A)と反応性基を含有する成分を含む重合体類とを重
合反応あるいは高分子反応によって架橋させる方法等の
方法によって行うことができる。
The crosslinking of the present invention can be carried out by a conventionally known crosslinking method. That is, (a) a method of crosslinking a polymer containing the polymer component (A) with various crosslinking agents or curing agents, and (b) a method of containing at least a monomer corresponding to the polymer component (A). A method of forming a network structure between molecules by coexisting a polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer containing two or more polymerizable functional groups when performing a polymerization reaction by It can be carried out by a method such as a method of cross-linking the united component (A) with a polymer containing a component containing a reactive group by a polymerization reaction or a polymer reaction.

【0096】上記(a)の方法の架橋剤としては、通常
架橋剤として用いられる化合物を挙げることができる。
具体的には、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブッ
ク」大成社刊(1981年),高分子学会編「高分子デ
ータハンドブック 基礎編」培風館(1986年)等に
記載されている化合物を用いることができる。
As the cross-linking agent in the above method (a), there can be mentioned compounds usually used as a cross-linking agent.
Specifically, compounds described in Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, “Handbook of Crosslinking Agents” Taiseisha (1981), edited by the Society of Polymer Science, “Basic Edition of Polymer Data Handbook”, Baifukan (1986), etc. Can be used.

【0097】例えば、有機シラン系化合物(例えば、ビ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤
等)、ポリイソシアナート系化合物(例えば、トルイレ
ンジイソシアナート、o−トルイレンジイソシアナー
ト、ジフェニルメタンジイソシアナート、トリフェニル
メタントリイソシアナート、ポリメチレンポリフェニル
イソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、イ
ソホロンジイソシアナート、高分子ポリイソシアナート
等)、ポリオール系化合物(例えば、1,4−ブタンジ
オール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシ
アルキレングリコール、1,1,1−トリメチロールプ
ロパン等)、ポリアミン系化合物(例えば、エチレンジ
アミン、γ−ヒドロキシプロピル化エチレンジアミン、
フェニレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、N−ア
ミノエチルピペラジン、変性脂肪族ポリアミン類等)、
ポリエポキシ基含有化合物及びエポキシ樹脂(例えば、
垣内弘編著「新エポキシ樹脂」昭晃堂(1985年
刊)、橋本邦之編著「エポキシ樹脂」日刊工業新聞社
(1969年刊)等に記載された化合物類)、メラミン
樹脂(例えば,三輪一郎、松永英夫編著「ユリア・メラ
ミン樹脂」日刊工業新聞社(1969年刊)等に記載さ
れた化合物類)、ポリ(メタ)アクリレート系化合物
(例えば、大河原信、三枝武夫、東村敏延編「オリゴマ
ー」講談社(1976年刊)、大森英三「機能性アクリ
ル系樹脂」テクノシステム(1985年刊)等に記載さ
れた化合物類が挙げられ、具体的には、ポリエチレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールポリアクリレート、ビスフエノールA−
ジグリシジルエーテルジアクリレート、オリゴエステル
アクリレート及びこれらのメタクリレート体等がある。
For example, organic silane compounds (for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltributoxysilane,
silane coupling agents such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, etc.), polyisocyanate-based compounds (eg, toluylene diisocyanate, o-toluene) Range isocyanate, diphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, polymethylene polyphenyl isocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, polymer polyisocyanate, etc.), polyol compound (for example, 1, 4-butanediol, polyoxypropylene glycol, polyoxyalkylene glycol, 1,1,1-trimethylolpropane, etc.), polyamine-based compounds (for example, ethylenediamine, γ-hydroxyp Pill of ethylene diamine,
Phenylenediamine, hexamethylenediamine, N-aminoethylpiperazine, modified aliphatic polyamines, etc.),
Polyepoxy group-containing compound and epoxy resin (for example,
"New epoxy resin" edited by Hiroshi Kakiuchi, Shokodo (1985), "Epoxy resin" edited by Kuniyuki Hashimoto, compounds described in Nikkan Kogyo Shimbun (1969), etc., melamine resin (for example, Ichiro Miwa, Hideo Matsunaga) Compounds described in “Uria Melamine Resin” edited by Nikkan Kogyo Shimbun (1969) and the like, and poly (meth) acrylate compounds (for example, “Oligomer” Kodansha (1976) edited by Shin Okawara, Takeo Saegusa, Toshinobu Higashimura Compounds described in Eizo Omori, “Functional Acrylic Resin” Techno System (published in 1985) and the like. Specifically, polyethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6- Hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol polyacryle Door, bisphenol A-
Examples include diglycidyl ether diacrylate, oligoester acrylate, and methacrylates thereof.

【0098】又、上記(b)の方法で共存させる重合性
官能基を2個以上含有する多官能性単量体〔多官能性単
量体(D)とも称する〕あるいは多官能性オリゴマーの
重合性官能基としては、具体的には
Further, polymerization of a polyfunctional monomer (also referred to as a polyfunctional monomer (D)) or a polyfunctional oligomer containing two or more polymerizable functional groups coexisting by the method (b). As the functional functional group, specifically,

【化211】 等を挙げることができる。これらの重合性官能基の同一
のものあるいは異なったものを2個以上有した単量体あ
るいはオリゴマーであればよい。
Embedded image And the like. Any monomer or oligomer having two or more of the same or different polymerizable functional groups may be used.

【0099】重合性官能基を2個以上有した単量体の具
体例は、例えば同一の重合性官能基を有する単量体ある
いはオリゴマーとして、ジビニルベンゼン、トリビニル
ベンゼン等のスチレン誘導体:多価アルコール(例え
ば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ポリエチレングリコール♯20
0、♯400、♯600、1,3−ブチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパ
ン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトールな
ど)、又はポリヒドロキシフェノール(例えばヒドロキ
ノン、レゾルシン、カテコールおよびそれらの誘導体)
のメタクリル酸、アクリル酸又はクロトン酸のエステル
類、ビニルエーテル類又はアリルエーテル類:二塩基酸
(例えばマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン
酸、ピメリン酸、マレイン酸、フタル酸、イタコン酸
等)のビニルエステル類、アリルエステル類、ビニルア
ミド類又はアリルアミド類:ポリアミン(例えばエチレ
ンジアミン、1,3−プロピレンジアミン、1,4−ブ
チレンジアミン等)とビニル基を含有するカルボン酸
(例えば、メタクリル酸、アクリル酸、クロトン酸、ア
リル酢酸等)との縮合体などが挙げられる。
Specific examples of the monomer having two or more polymerizable functional groups include, for example, monomers or oligomers having the same polymerizable functional group, such as styrene derivatives such as divinylbenzene and trivinylbenzene; Alcohol (eg, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol # 20)
0, $ 400, $ 600, 1,3-butylene glycol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, or the like, or polyhydroxyphenol (e.g., hydroquinone, resorcin, catechol) And their derivatives)
Methacrylic acid, acrylic acid or crotonic acid esters, vinyl ethers or allyl ethers: dibasic acids (eg, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, maleic acid, phthalic acid, itaconic acid, etc.) Vinyl esters, allyl esters, vinyl amides or allyl amides: polyamines (eg, ethylenediamine, 1,3-propylenediamine, 1,4-butylenediamine, etc.) and carboxylic acids containing vinyl groups (eg, methacrylic acid, acrylic Acid, crotonic acid, allyl acetic acid, etc.).

【0100】又、異なる重合性官能基を有する単量体あ
るいはオリゴマーとしては、例えば、ビニル基を含有す
るカルボン酸(例えばメタクリル酸、アクリル酸、メタ
クリロイル酢酸、アクリロイル酢酸、メタクリロイルプ
ロピオン酸、アルリロイルプロピオン酸、イタコニロイ
ル酢酸、イタコニロイルプロピオン酸、カルボン酸無水
物等)とアルコール又はアミンの反応体(例えばアリル
オキシカルボニルプロピオン酸、アリルオキシカルボニ
ル酢酸、2−アリルオキシカルボニル安息香酸、アリル
アミノカルボニルプロピオン酸等)等のビニル基を含有
したエステル誘導体又はアミド誘導体(例えばメタクリ
ル酸ビニル、アクリル酸ビニル、イタコン酸ビニル、メ
タクリル酸アリル、アクリル酸アリル、イタコン酸アリ
ル、メタクリロイル酢酸ビニル、メタクリロイルプロピ
オン酸ビニル、メタクリロイルプロピオン酸アリル、メ
タクリル酸ビニルオキシカルボニルメチルエステル、ア
クリル酸ビニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニ
ルエチレンエステル、N−アリルアクリルアミド、N−
アリルメタクリルアミド、N−アリルイタコン酸アミ
ド、メタクリロイルプロピオン酸アリルアミド等)又は
アミノアルコール類(例えばアミノエタノール、1−ア
ミノプロパノール、1−アミノブタノール、1−アミノ
ヘキサノール、2−アミノブタノール等)とビニル基を
含有したカルボン酸との縮合体などが挙げられる。
Examples of the monomer or oligomer having a different polymerizable functional group include, for example, a carboxylic acid having a vinyl group (eg, methacrylic acid, acrylic acid, methacryloyl acetic acid, acryloyl acetic acid, methacryloyl propionic acid, allyloyl) Reactants of propionic acid, itaconiloyl acetic acid, itaconiloyl propionic acid, carboxylic anhydride, etc. with alcohols or amines (eg, allyloxycarbonylpropionic acid, allyloxycarbonylacetic acid, 2-allyloxycarbonylbenzoic acid, allylaminocarbonylpropion) Ester derivative or amide derivative containing a vinyl group such as an acid or the like (eg, vinyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl itaconate, allyl methacrylate, allyl acrylate, allyl itaconate, methacryloy) Vinyl acetate, methacryloyl propionic acid vinyl, methacryloyl propionic acid allyl, vinyl methacrylate oxycarbonyl ester, vinyl acrylate oxycarbonyl methyloxycarbonyl ethylene ester, N- allyl acrylamide, N-
Allyl methacrylamide, N-allylitaconic acid amide, methacryloylpropionic acid allylamide, etc.) or amino alcohols (eg, aminoethanol, 1-aminopropanol, 1-aminobutanol, 1-aminohexanol, 2-aminobutanol, etc.) and vinyl group And a condensate with a carboxylic acid containing the same.

【0101】本発明に用いられる2個以上の重合性官能
基を有する単量体あるいはオリゴマーは、単量体(A)
及び(A)と共存する他の単量体との総量に対して10
モル%以下、好ましくは5モル%以下用いて重合し、樹
脂を形成する。
The monomer or oligomer having two or more polymerizable functional groups used in the present invention may be a monomer (A)
And 10% based on the total amount of other monomers coexisting with (A).
Polymerization is carried out using not more than 5 mol%, preferably not more than 5 mol% to form a resin.

【0102】更には、上記(c)の方法の高分子間の反
応性基同志の反応により化学結合を形成し高分子間の橋
架けを行う場合には、通常の有機低分子化合物の反応と
同様に行うことができる。具体的には、分散安定用樹脂
の合成法において記載したと同様の方法に従って合成す
ることができる。分散重合において、粒子の粒径が揃っ
た単分散性の粒子が得られること及び0.5μm 以下の
微小粒子が得られ易いこと等から、網目構造形成の方法
としては、多官能性単量体を用いる(b)の方法が好ま
しい。
Further, when a chemical bond is formed by a reaction between reactive groups between polymers in the above method (c) to form a bridge between polymers, the reaction between the ordinary organic low-molecular compound and The same can be done. Specifically, it can be synthesized according to the same method as described in the synthesis method of the dispersion stabilizing resin. In dispersion polymerization, monodisperse particles having a uniform particle diameter are obtained, and fine particles of 0.5 μm or less are easily obtained. (B) is preferred.

【0103】以上の如く、本発明の網目分散樹脂粒子
は、保護されたカルボキシル基を含有する繰り返し単位
と、該非水溶媒に可溶性の重合体成分とを含有し、且つ
分子鎖間が高次に橋架けされた構造を有する重合体の粒
子である。
As described above, the network-dispersed resin particles of the present invention contain a repeating unit having a protected carboxyl group and a polymer component soluble in the non-aqueous solvent, and have a high molecular weight between the molecular chains. Polymer particles having a bridged structure.

【0104】非水溶媒系分散樹脂粒子の製造に用いられ
る非水溶媒としては、沸点200℃以下の有機溶媒であ
ればいずれでもよく、それは単独であるいは2種以上を
混合して使用してもよい。この有機溶媒の具体例は、メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、フ
ッ化アルコール、ベンジルアルコール等のアルコール
類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、ジエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル
等のカルボン酸エステル類、ヘキサン、オクタン、デカ
ン、ドデカン、トリデカン、シクロヘキサン、シクロオ
クタン等の炭素数6〜14の脂肪族炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭
化水素類、メチレンクロリド、ジクロロエタン、テトラ
クロロエタン、クロロホルム、メチルクロロホルム、ジ
クロロプロパン、トリクロロエタン等のハロゲン化炭化
水素類等が挙げられる。ただし、以上述べた化合物例に
限定されるものではない。
The non-aqueous solvent used for the production of the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles may be any organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower, and may be used alone or as a mixture of two or more. Good. Specific examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, fluorinated alcohol and benzyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ketones such as diethyl ketone, diethyl ether,
Ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; carboxylic esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate and methyl propionate; and fats having 6 to 14 carbon atoms such as hexane, octane, decane, dodecane, tridecane, cyclohexane and cyclooctane. Group hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and chlorobenzene; and halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, dichloroethane, tetrachloroethane, chloroform, methylchloroform, dichloropropane, and trichloroethane. However, the present invention is not limited to the compound examples described above.

【0105】これらの非水溶媒系で分散樹脂粒子を分散
重合法で合成することにより、樹脂粒子の平均粒子径は
容易に0.8μm 以下となり、しかも粒子径の分布が非
常に狭く且つ単分散の粒子とすることができる。具体的
には、K. E. J. Barrett「 Dispersion Polymerization
in Organic Media 」John Wiley(1975年)、村田
耕一郎、高分子加工、23、20(1974)、松本恒
隆・丹下豊吉、日本接着協会誌、183(197
3)、丹下豊吉、日本接着協会誌23、26(198
7)、D. J. Walbridge 、NATO. Adv. study. Inst. Se
r. E. No. 67、40(1983)、英国特許第893
429、同934038各号明細書、米国特許第112
2397、同3900412、同4606989各号明
細書、特開昭60−179751、同60−18596
3各号公報等にその方法が開示されている。
By synthesizing the dispersed resin particles by a dispersion polymerization method in these non-aqueous solvent systems, the average particle diameter of the resin particles can be easily reduced to 0.8 μm or less, and the particle diameter distribution is very narrow and monodispersed. Particles. Specifically, KEJ Barrett "Dispersion Polymerization
in Organic Media "John Wiley (1975), Koichiro Murata, Polymer Processing, 23 , 20 (1974), Tsunetaka Matsumoto, Toyoyoshi Tange, Journal of the Adhesion Society of Japan 9 , 183 (197)
3), Tokichi Tange, Journal of the Adhesion Society of Japan 23 , 26 (198)
7), DJ Walbridge, NATO. Adv. Study. Inst. Se
r. E. No. 67, 40 (1983), UK Patent 893
429, 934038, U.S. Pat.
Nos. 2397, 3900412 and 460689, JP-A-60-179751, 60-18596
The method is disclosed in three publications.

【0106】本発明の分散樹脂は、単量体(A)と分散
安定用樹脂の少なくとも各々1種以上から成り、網目構
造を形成する場合には必要に応じて多官能性単量体
(D)を共存させて成り、いずれにしても重要な事は、
これら単量体から合成された樹脂が該非水溶媒に不溶で
あれば、所望の分散樹脂を得ることができる。より具体
的には、不溶化する単量体(A)に対して分散安定用樹
脂を1〜50重量%使用することが好ましく、さらに好
ましくは2〜30重量%である。又本発明の分散樹脂粒
子の分子量は104 〜106 であり、好ましくは104
〜5×105 である。
The dispersion resin of the present invention comprises at least one of the monomer (A) and the dispersion stabilizing resin. When forming a network structure, the polyfunctional monomer (D) may be used, if necessary. ) Coexist, and the important thing in any case is
If the resin synthesized from these monomers is insoluble in the non-aqueous solvent, a desired dispersed resin can be obtained. More specifically, it is preferable to use 1 to 50% by weight, more preferably 2 to 30% by weight of the dispersion stabilizing resin based on the monomer (A) to be insolubilized. The molecular weight of the dispersed resin particles of the present invention is 10 4 to 10 6 , preferably 10 4
55 × 10 5 .

【0107】以上の如き本発明で用いられる分散樹脂粒
子を製造するには、一般に、単量体(A),単量体
(B),分散安定用樹脂更には、多官能性単量体(D)
とを非水溶媒中で過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチ
ロニトリル、ブチルリチウム等の重合開始剤の存在下に
加熱重合させればよい。具体的には、(i)単量体
(A),単量体(B),分散安定用樹脂及び多官能性単
量体(D)の混合溶液中に重合開始剤を添加する方法、
(ii)非水溶媒中に、上記重合性化合物及び重合開始剤
の混合物を滴下又は任意に添加する方法等があり、これ
らに限定されずいかなる方法を用いても製造することが
できる。
In order to produce the dispersed resin particles used in the present invention as described above, generally, the monomer (A), the monomer (B), the dispersion stabilizing resin, and the polyfunctional monomer ( D)
May be heated and polymerized in a non-aqueous solvent in the presence of a polymerization initiator such as benzoyl peroxide, azobisisobutyronitrile, and butyllithium. Specifically, (i) a method of adding a polymerization initiator to a mixed solution of a monomer (A), a monomer (B), a dispersion stabilizing resin and a polyfunctional monomer (D),
(Ii) A method in which a mixture of the polymerizable compound and the polymerization initiator is added dropwise or arbitrarily to a non-aqueous solvent, and the like. The method is not limited to these, and the method can be used by any method.

【0108】重合性化合物の総量は非水溶媒100重量
部に対して5〜80重量部程度であり、好ましくは10
〜50重量部である。重合開始剤の量は、重合性化合物
の総量の0.1〜5重量%である。又、重合温度は30
〜180℃程度であり、好ましくは40〜120℃であ
る。反応時間は1〜15時間が好ましい。
The total amount of the polymerizable compound is about 5 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the non-aqueous solvent, and preferably 10 to 80 parts by weight.
5050 parts by weight. The amount of the polymerization initiator is 0.1 to 5% by weight based on the total amount of the polymerizable compound. The polymerization temperature is 30
To 180 ° C, preferably 40 to 120 ° C. The reaction time is preferably 1 to 15 hours.

【0109】以上の如くして本発明により製造された非
水系分散樹脂は、微細でかつ粒度分布が均一な粒子とな
る。
As described above, the non-aqueous dispersion resin produced according to the present invention becomes fine particles having a uniform particle size distribution.

【0110】本発明に使用する無機光導電材料は、光導
電性酸化亜鉛である。さらに他の無機光導電体として酸
化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テル
ル、硫化鉛、等を併用してもよい。しかし、これら他の
光導電材料は、光導電性酸化亜鉛の40重量%以下であ
り、好ましくは20重量%以下である。他の光導電材料
が40重量%を越えると、平版印刷用原版としての非画
像部の親水性向上の効果が薄れてしまう。
The inorganic photoconductive material used in the present invention is a photoconductive zinc oxide. Further, titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide, lead sulfide, and the like may be used in combination as other inorganic photoconductors. However, these other photoconductive materials comprise up to 40% by weight of the photoconductive zinc oxide, preferably up to 20% by weight. If the amount of the other photoconductive material exceeds 40% by weight, the effect of improving the hydrophilicity of the non-image area as a lithographic printing original plate is diminished.

【0111】無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の
総量は、光導電体100重量部に対して、結着樹脂を1
0〜100重量部なる割合、好ましくは15〜50重量
部なる割合で使用する。
The total amount of the binder resin used for the inorganic photoconductive material is such that 1 part of the binder resin is used for 100 parts by weight of the photoconductor.
It is used in a proportion of 0 to 100 parts by weight, preferably in a proportion of 15 to 50 parts by weight.

【0112】本発明では、必要に応じて各種の色素を分
光増感剤として併用することができる。例えば、宮本晴
視,武井秀彦:イメージング1973(No. 8)第12
頁、C. J. Young 等 :RCA Review 15 ,469頁
(1954)、清田航平等:電気通信学会論文誌 J6
3−C(No. 2)97頁(1980)、原崎勇次等、工
業化学雑誌66, 78及び188頁(1963)、谷忠
昭、日本写真学会誌35、208頁(1972)等の総
説引例のカーボニウム系色素、ジフェニルメタン色素、
トリフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイ
ン系色素、ポリメチン色素( 例えば、オキソノール色
素、メロシアニン色素、シアニン色素、ロダシアニン色
素、スチリル色素等) 、フタロシアニン色素( 金属を含
有してもよい)等が挙げられる。
In the present invention, various dyes can be used in combination as a spectral sensitizer, if necessary. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei: Imaging 1973 (No. 8) No. 12
Page, CJ Young et al .: RCA Review 15 , p. 469 (1954); Kohei Kiyota: IEICE Transactions J6
3-C (No. 2) p. 97 (1980), Yuji Harazaki et al., Industrial Chemistry Magazines 66 , 78 and 188 (1963), Tadaaki Tani, Photographic Society of Japan 35 , p. 208 (1972). Carbonium dye, diphenylmethane dye,
Triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (eg, oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes, etc.), phthalocyanine dyes (which may contain metals), and the like. .

【0113】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、フタレイ
ン系色素を中心に用いたものとしては、特公昭51−4
52、特開昭50−90334、同50−11422
7、同53−39130、同53−82353各号公
報、米国特許第3052540、同第4054450各
号明細書、特開昭57−16456号公報等に記載のも
のが挙げられる。
More specifically, those using mainly carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes and phthalein dyes are described in JP-B-51-4.
52, JP-A-50-90334 and 50-11422
7, 53-39130 and 53-82353, U.S. Pat. Nos. 3,052,540, 4,054,450, and JP-A-57-16456.

【0114】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、F. M. Harmmer 「The Cyanine Dyes and Related
Compounds 」等に記載の色素類が使用可能であり、更
に具体的には、米国特許第3047384、同3110
591、同3121008、同3125447、同31
28179、同3132942、同3622317各号
明細書、英国特許第1226892、同130927
4、同1405898各号明細書、特公昭48−781
4、同55−18892各号公報等に記載の色素が挙げ
られる。
Examples of polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, and rhodacyanine dyes include FM Harmmer “The Cyanine Dyes”. and Related
Compounds "and the like, and more specifically, US Pat. Nos. 3,047,384 and 3,110.
591, 312008, 3125447, 31
28179, 3132942 and 3622317, British Patent Nos. 1226892 and 130927
4, the specifications of 1405898, JP-B-48-781
And the dyes described in JP-A-55-18892 and the like.

【0115】更に、700nm以上の長波長の近赤外〜赤
外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭4
7−840、同47−44180、特公昭51−410
61、特開昭49−5034、同49−45122、同
57−46245、同56−35141、同57−15
7254、同61−26044、同61−27551各
号公報、米国特許第361954、同4175956各
号明細書、「ResearchDisclosure 」1982年、21
6、第117〜118頁等に記載のものが挙げられる。
本発明の感光体は種々の増感色素を併用させても、その
性能が増感色素により変動しにくい点においても優れて
いる。
Further, as a polymethine dye for spectrally sensitizing the near infrared to infrared light region having a long wavelength of 700 nm or more, JP-A No.
7-840, 47-44180, JP-B-51-410
61, JP-A-49-5034, JP-A-49-45122, JP-A-57-46245, JP-A-56-35141, and JP-A-57-15-15
Nos. 7254, 61-26044 and 61-27551, U.S. Pat. Nos. 361,954 and 4,175,956, "Research Disclosure", 1982, 21.
6, pages 117 to 118 and the like.
The photoreceptor of the present invention is also excellent in that even when various sensitizing dyes are used in combination, the performance is hardly changed by the sensitizing dye.

【0116】更には、必要に応じて、化学増感剤等の従
来知られている電子写真感光層用各種添加剤を併用する
こともできる。例えば、前記した総説:イメージング
973(No. 8)第12頁等の総説引例の電子受容性化
合物(例えば、ハロゲン、ベンゾキノン、クロラニル、
酸無水物、有機カルボン酸等)、小門宏等、「最近の光
導電材料と感光体の開発・実用化」第4章〜第6章: 日
本科学情報(株)出版部(1986年)の総説引例のポ
リアリールアルカン化合物、ヒンダートフェノール化合
物、p−フェニレンジアミン化合物等が挙げられる。
Further, if necessary, various known additives for an electrophotographic photosensitive layer such as a chemical sensitizer can be used in combination. For example, the review mentioned above: Imaging 1
973 (No. 8), page 12, etc., as electron-accepting compounds (for example, halogen, benzoquinone, chloranil,
Acid anhydrides, organic carboxylic acids, etc.), Hiroshi Komon et al., "Recent development and practical application of photoconductive materials and photoconductors" Chapters 4 to 6: Japan Science Information Co., Ltd. Publishing Division (1986) Polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, p-phenylenediamine compounds, and the like described in the above-cited references.

【0117】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体100重量部に対して0.0
01〜2.0重量部である。
The amounts of these various additives are not particularly limited, but are usually 0.0
01 to 2.0 parts by weight.

【0118】光導電層の厚さは1〜100μ、特には1
0〜50μが好適である。
The thickness of the photoconductive layer is 1 to 100 μm, especially 1
0 to 50μ is preferred.

【0119】また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感
光体の電荷発生層として光導電層を使用する場合は電荷
発生層の厚さは0.01〜1μ、特には 0.05〜
0.5μが好適である。
When a photoconductive layer is used as the charge generation layer of the photoreceptor having the charge generation layer and the charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is 0.01 to 1 μm, particularly 0.05 to 1 μm.
0.5μ is preferred.

【0120】積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリ
ビニルカルバゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン
系色素、トリフェニルメタン系色素などがある。電荷輸
送層の厚さとしては5〜40μ、特には10〜30μが
好適である。電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては、
代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ−酸ビ共重合体樹脂、ポリア
クリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン
樹脂の熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂が適宜用いられる。
Examples of the charge transport material for the laminated photoreceptor include polyvinyl carbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, and triphenylmethane dyes. The thickness of the charge transport layer is preferably 5 to 40 μm, particularly preferably 10 to 30 μm. As the resin used for forming the charge transport layer,
Typical ones are polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride-co-copolymer resin, polyacryl resin, polyolefin resin, urethane resin, polyester resin, epoxy Resins, melamine resins, thermoplastic resins such as silicone resins, and curable resins are appropriately used.

【0121】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基体に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基体の裏面(感光層を設け
る面と反対面)に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも1層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも1層以上のプレ
コート層が設けたもの、Al等を蒸着した基体導電化プラ
スチックを紙にラミネートしたもの等が使用できる。具
体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例として、坂
本幸男、電子写真、14、(No. 1)、p2〜11(1
975)、森賀弘之,「入門特殊紙の化学」高分子刊行
会(1975)、M. F. Hoover, J. Macromol. Sci. Ch
em. A−4(6),第1327〜1417頁(197
0)等に記載されているもの等を用いる。
The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally, the support of the electrophotographic photosensitive layer is preferably conductive. As the conductive support, a base material such as a metal, paper, or a plastic sheet is impregnated with a low-resistance substance in the same manner as in the related art. A substrate that has been subjected to a conductive treatment, for example, by applying a conductivity to the back surface of the substrate (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided), and further has at least one layer coated for the purpose of preventing curling,
A substrate provided with a water-resistant adhesive layer on the surface of the support, a substrate provided with at least one or more pre-coat layers as needed on the surface layer of the support, and a base conductive plastic on which Al or the like has been deposited on paper. Laminated ones can be used. Specifically, as an example of the conductive substrate or the conductive material, Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14, (No. 1), p2-11 (1)
975), Hiroyuki Moriga, "Introduction to Special Paper Chemistry", Polymer Publishing Association (1975), MF Hoover, J. Macromol. Sci. Ch.
em. A-4 (6), pp. 1327-1417 (197
0) etc. are used.

【0122】実際に本発明の平版印刷用原版を作るに
は、常法に従って導電性支持体上に本発明の樹脂、更に
は必要により前記した添加剤等を沸点が200℃以下の
揮発性炭化水素溶剤に溶解又は分散し、これを塗布・乾
燥することによって電子写真感光層(光導電層)を形成
して製造することができる。用いる有機溶剤としては、
具体的には特にジクロロメタン、クロロホルム、1,2
−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、ジクロロプロ
パンまたはトリクロロエタンなどの如き、炭素数1〜3
のハロゲン化炭化水素が好ましい。その他クロロベンゼ
ン、トルエン、キシレンまたはベンゼンなどの如き芳香
族炭化水素、アセトンまたは2−ブタノン等の如きケト
ン類、テトラヒドロフランなどの如きエーテルおよびメ
チレンクロリドなど、塗布用組成物に用いられる各種の
溶剤及び上記溶剤の混合物も使用可能である。
In order to actually prepare the lithographic printing plate precursor of the present invention, the resin of the present invention and, if necessary, the above-mentioned additives and the like are added on a conductive support in a conventional manner by volatile carbonization having a boiling point of 200 ° C. or less. It can be manufactured by dissolving or dispersing in a hydrogen solvent, and applying and drying this to form an electrophotographic photosensitive layer (photoconductive layer). As the organic solvent used,
Specifically, dichloromethane, chloroform, 1,2
-Having 1 to 3 carbon atoms, such as dichloroethane, tetrachloroethane, dichloropropane or trichloroethane;
Halogenated hydrocarbons are preferred. Other solvents used in the coating composition, such as aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, toluene, xylene or benzene, ketones such as acetone or 2-butanone, ethers such as tetrahydrofuran, and methylene chloride; Can also be used.

【0123】本発明の平版印刷用原版を用いた印刷版の
作製は、上記した構成から成る電子写真用原版に常法に
より複写画像を形成後、非画像部を不感脂化処理する事
で作製される。本発明に供される不感脂化処理は、酸
化亜鉛粒子と樹脂粒子とを同時に不感脂化反応を行う、
酸化亜鉛粒子を不感脂化後樹脂粒子の分解処理を行
う、樹脂粒子を分解処理後酸化亜鉛粒子の不感脂反応
を行う等いずれかの手順でも行うことができる。
A printing plate using the lithographic printing plate precursor of the present invention is prepared by forming a copy image on the electrophotographic printing plate having the above-described structure by a conventional method, and then subjecting the non-image portion to desensitization treatment. Is done. The desensitizing treatment provided in the present invention performs a desensitizing reaction simultaneously with zinc oxide particles and resin particles,
The desensitization of the zinc oxide particles may be followed by decomposing the resin particles, or the resin particles may be decomposed and then subjected to a desensitization reaction of the zinc oxide particles.

【0124】酸化亜鉛の不感脂化方法としては、従来公
知の処理液のいずれをも用いることができる。例えば、
フェロシアン系化合物を不感脂化の主剤として用いた、
特開昭62−239158、同62−292492、同
63−99993、同63−9994、特公昭40−7
334、同45−33683、特開昭57−10788
9、特公昭46−21244、同44−9045、同4
7−32681、同55−9315、特開昭52−10
1102各号公報等が挙げられる。しかし、該処理液の
安全性の点から以下の処理液が好ましい。例えば、フィ
チン酸系化合物を主剤として用いた、特公昭43−28
408、同45−24609、特開昭51−10350
1、同54−10003号、同53−83805、同5
3−83806、同53−127002、同54−44
901、同56−2189、同57−2796、同57
−20394、同59−207290各号公報に記載の
もの、金属キレート形成可能な水溶性ポリマーを主剤と
して用いた、特公昭38−9665、同39−2226
3、同40−763、同43−28404、同47−2
9642、特開昭52−126302、同52−134
501、同53−49506、同53−59502、同
53−104302各号公報等に記載のもの、金属錯体
系化合物を主剤として用いた、特開昭53−10430
1、特公昭55−15313、同54−41924各号
公報等に記載のもの、あるいは無機及び有機酸系化合物
を主剤として用いた、特公昭39−13702、同40
−10308、同46−26124、特開昭51−11
8501、同56−111695各号公報等に記載され
たもの等が挙げられる。
As a method for desensitizing zinc oxide, any of conventionally known treatment solutions can be used. For example,
Using a ferrocyanide compound as the main agent of desensitization,
JP-A-62-239158, JP-A-62-292492, JP-A-63-99993, JP-A-63-9994, JP-B-40-7
334, 45-33683, JP-A-57-10788
9. JP-B 46-21244, 44-9045, 4
7-32681, 55-9315, JP-A-52-10
No. 1102, and the like. However, the following treatment liquids are preferred from the viewpoint of the safety of the treatment liquid. For example, JP-B-43-28 using a phytic acid-based compound as a main ingredient
408, 45-24609, JP-A-51-10350
1, 54-10003, 53-83805, 5
3-83806, 53-127002, 54-44
901, 56-2189, 57-2796, 57
JP-B-38-9656 and JP-B-39-2226, each using a water-soluble polymer capable of forming a metal chelate as described in JP-B-20394 and JP-B59-207290.
3, 40-763, 43-28404, 47-2
9642, JP-A-52-126302 and JP-A-52-134.
Nos. 501, 53-49506, 53-59502 and 53-104302, and JP-A-53-10430 using a metal complex compound as a main agent.
1, JP-B-55-15313 and JP-B-54-41924, or JP-B-39-13702, JP-B-40-13, using inorganic and organic acid compounds as main agents.
-10308, 46-26124, JP-A-51-11
8501, 56-1111695, and the like.

【0125】樹脂粒子の不感脂化方法即ち、保護された
カルボキシル基を分解する方法としては、保護されたカ
ルボキシル基の分解反応性により任意に選択される。
の1つとしてpH1〜6の酸性条件、pH8〜12のア
ルカリ性条件の水溶液で加水分解する方法が挙げられ
る。これらのpHの調整は、公知の化合物によって、容
易に行うことができる。あるいは還元性又は酸化性の水
溶性化合物によるレドックス反応による方法も可能であ
り、これらの化合物としては公知の化合物を用いことが
でき、例えば包水ヒドラジン、亜硫酸塩、リポ酸、ハイ
ドロキノン類、ギ酸、チオ硫酸塩、過酸化水素、過硫酸
塩、キノン類等が挙げられる。
[0125] desensitizing method of the resin particles or as a method of decomposing a protected carboxyl group is arbitrarily selected by the decomposition reaction of the protected carboxyl group. So
One of the methods is a method of hydrolyzing with an aqueous solution under acidic conditions of pH 1 to 6 and alkaline conditions of pH 8 to 12. Adjustment of these pH can be easily performed by a known compound. Alternatively, a method by a redox reaction with a reducing or oxidizing water-soluble compound is also possible, and as these compounds, known compounds can be used, for example, hydrous hydrazine, sulfite, lipoic acid, hydroquinones, formic acid, Thiosulfate, hydrogen peroxide, persulfate, quinones and the like.

【0126】該処理液は、反応促進あるいは処理液の保
存安定性を改良するために他の化合物を含有してもよ
い。例えば、水に可溶性の有機溶媒を水100重量部中
に1〜50重量部含有してもよい。このような水に可溶
性の有機溶媒としては、例えばアルコール類(メタノー
ル、エタノール、プロパノール、プロパギルアルコー
ル、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等)、
ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、アセトフェ
ノン等)、エーテル類(ジオキサン、トリオキサン、テ
トラヒドロフラン、エチレングリコール、プロピレング
リコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロ
ピラン等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エ
チル、ギ酸エチル等)等が挙げられ、これらは単独又は
2種以上を混合して用いてもよい。
The treatment liquid may contain other compounds for accelerating the reaction or improving the storage stability of the treatment liquid. For example, 1 to 50 parts by weight of an organic solvent soluble in water may be contained in 100 parts by weight of water. Examples of such water-soluble organic solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, propargyl alcohol, benzyl alcohol, phenethyl alcohol, etc.),
Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, acetophenone, etc.), ethers (dioxane, trioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol, propylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, tetrahydropyran, etc.), amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.) ), Esters (methyl acetate, ethyl acetate, ethyl formate, etc.) and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

【0127】また、界面活性剤を水100重量部中に
0.1〜20重量部含有してもよい。界面活性剤として
は、従来公知のアニオン性、カチオン性あるいはノニオ
ン性の各界面活性剤が挙げられる。例えば、堀口博「新
界面活性剤」三共出版(株)、(1975年刊)、小田
良平、寺村一広「界面活性剤の合成とその応用」槇書店
(1980年刊)等に記載される化合物を用いることが
できる。
The surfactant may be contained in an amount of 0.1 to 20 parts by weight in 100 parts by weight of water. Examples of the surfactant include conventionally known anionic, cationic or nonionic surfactants. For example, compounds described in Hiroshi Horiguchi “New Surfactant” Sankyo Publishing Co., Ltd. (1975), Ryohei Oda, Kazuhiro Teramura “Synthesis of Surfactant and Its Application” Maki Shoten (1980) Can be used.

【0128】本発明の範囲は、上記した具体的化合物例
に限定されるものではない。処理の条件は、温度15℃
〜60℃で浸漬時間は10秒〜5分間が好ましい。更に
は、光分解でカルボキシル基を生成される保護基を含有
する場合には、例えば低圧又は高圧水銀灯、ハロゲンラ
ンプ等の下で1分〜10分間光照射することで達成され
る。
The scope of the present invention is not limited to the specific compound examples described above. The condition of the treatment is a temperature of 15 ° C.
The immersion time at 6060 ° C. is preferably 10 seconds to 5 minutes. Further, when a protective group that generates a carboxyl group by photolysis is contained, it can be achieved, for example, by irradiating light under a low-pressure or high-pressure mercury lamp, a halogen lamp or the like for 1 minute to 10 minutes.

【0129】[0129]

【実施例】以下に本発明の実施例を例示するが、本発明
の内容がこれらに限定されるものではない。 結着樹脂〔A〕の合成例1:〔A−1〕 ベンジルメタクリレート95g、アクリル酸5g及びト
ルエン200gの混合溶液を窒素気流下90℃の温度に
加温した後、A.I.B.N.6.0gを加え4時間反応させ
た。更にA.I.B.N. 2gを加え2時間反応させた。得ら
れた共重合体〔A−1〕のMwは8500であった。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the content of the present invention is not limited to these examples. Synthesis Example 1 of Binder Resin [A]: [A-1] A mixed solution of 95 g of benzyl methacrylate, 5 g of acrylic acid and 200 g of toluene was heated to a temperature of 90 ° C. under a nitrogen stream, and 6.0 g of AIBN was added thereto for 4 hours. Reacted. Further, 2 g of AIBN was added and reacted for 2 hours. Mw of the obtained copolymer [A-1] was 8,500.

【0130】結着樹脂〔A〕の合成例2〜28:〔A−
2〕〜〔A−28〕 樹脂〔A〕の合成例1の重合条件と同様に操作して下記
表−2の各樹脂〔A−2〕〜〔A−28〕を合成した。
Synthesis Examples 2 to 28 of Binder Resin [A]: [A-
2] to [A-28] Resins [A-2] to [A-28] in Table 2 below were synthesized in the same manner as in the polymerization conditions of Synthesis Example 1 for Resin [A].

【表2】 [Table 2]

【表3】 [Table 3]

【表4】 [Table 4]

【表5】 [Table 5]

【表6】 [Table 6]

【0131】結着樹脂〔A〕の合成例29:〔A−2
9〕 2,6−ジクロロフェニルメタクリレート95g、アク
リル酸5g、n−ドデシルメルカプタン2g及びトルエ
ン200gの混合溶液を窒素気流下80℃の温度に加温
した後、A.I.B.N. 2gを加え4時間反応し、次にA.I.
B.N. 0.5gを加え2時間、更にA.I.B.N. 0.5g
を加え3時間反応した。冷却後、メタノール/水(9/
1)の混合溶液2l中に再沈し、沈澱物をデカンテーシ
ョンで集し、減圧乾燥した。得られたワックス状の共
重合体の収量は78gで、Mwは6.3×103 であっ
た。
Synthesis Example 29 of Binder Resin [A]: [A-2]
9] A mixed solution of 95 g of 2,6-dichlorophenyl methacrylate, 5 g of acrylic acid, 2 g of n-dodecylmercaptan and 200 g of toluene was heated to a temperature of 80 ° C. under a nitrogen stream, and 2 g of AIBN was added and reacted for 4 hours. AI
Add 0.5 g of BN and 2 hours, then 0.5 g of AIBN
And reacted for 3 hours. After cooling, methanol / water (9 /
Was reprecipitated in a mixed solution of 2l of 1), the precipitate was collecting capturing by decantation and dried under reduced pressure. The yield of the obtained waxy copolymer was 78 g, and Mw was 6.3 × 10 3 .

【0132】分散安定用樹脂の製造例1:〔P−1〕 ドデシルメタクリレート97g、グリシジルメタクリレ
ート3g及びトルエン200gの混合溶液を、窒素気流
下攪拌しながら、温度75℃に加温した。2,2′−ア
ゾビスイソブチロニトリル(略称A.I.B.N.)1.0gを
加え4時間攪拌し、更にA.I.B.N. 0.5gを加え4時
間攪拌した。次に、この反応混合物にメタアクリル酸5
g、N,N−ジメチルドデシルアミン1.0g、t−ブ
チルハイドロキノン0.5gを加え、温度110℃に
て、8時間攪拌した。冷却後、メタノール2l中に再沈
し、やや褐色気味の油状物を集後、乾燥した。収量7
3gで重量平均分子量(Mw)3.6×104 であっ
た。〔P−1〕
Production Example 1 of Dispersion Stabilizing Resin: [P-1] A mixed solution of 97 g of dodecyl methacrylate, 3 g of glycidyl methacrylate and 200 g of toluene was heated to a temperature of 75 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 1.0 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile (abbreviation: AIBN) was added and stirred for 4 hours, and 0.5 g of AIBN was further added and stirred for 4 hours. Next, methacrylic acid 5 was added to the reaction mixture.
g, N, N-dimethyldodecylamine (1.0 g) and t-butylhydroquinone (0.5 g) were added, and the mixture was stirred at 110 ° C. for 8 hours. After cooling, it was reprecipitated in methanol 2l, after slightly collector capturing a brown oil Pounds, and dried. Yield 7
The weight average molecular weight (Mw) of 3 g was 3.6 × 10 4 . [P-1]

【化212】 Embedded image

【0133】分散安定用樹脂の製造例2:〔P−2〕 2−エチルヘキシルメタクリレート100g、トルエン
150g及びイソプロパノール50gの混合溶液を、窒
素気流下攪拌しながら温度75℃に加温した。2,2′
−アゾビス(4−シアノ吉草酸)(略称A.C.V.) を2g
加え4時間反応し、更にA.C.V. 0.8gを加えて4時
間反応した。冷却後、メタノール2l中に再沈し、油状
物を集し乾燥した。
Production Example 2 of dispersion stabilizing resin: [P-2] A mixed solution of 100 g of 2-ethylhexyl methacrylate, 150 g of toluene and 50 g of isopropanol was heated to a temperature of 75 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 2,2 '
2 g of -azobis (4-cyanovaleric acid) (abbreviation: ACV)
The mixture was reacted for 4 hours, and 0.8 g of ACV was further added and reacted for 4 hours. After cooling, it was reprecipitated in methanol 2l, and then collecting capturing an oil drying.

【0134】得られた油状物50g、2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート6g、テトラヒドロフラン150g
の混合物を溶解し、これにジシクロヘキシルカルボンジ
イミド(D.C.C.) 8g、4−(N,N−ジメチルアミ
ノ)ピリジン0.2g及び塩化メチレン20gの混合溶
液を温度25〜30℃で滴下し、更にそのまま4時間攪
拌した。次にこの反応混合物にギ酸5gを加え1時間攪
拌した。析出した不溶物を濾別した後、濾液をメタノー
ル1l中に再沈し油状物を濾集した。更に、この油状物
をテトラヒドロフラン200gに溶解し、不溶物を濾別
後再びメタノール1l中に再沈し、油状物を集し乾燥
した。収量32gでMw 4.2×104であった。
〔P−2〕
50 g of the obtained oil, 6 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 150 g of tetrahydrofuran
And a mixed solution of 8 g of dicyclohexylcarbondiimide (DCC), 0.2 g of 4- (N, N-dimethylamino) pyridine and 20 g of methylene chloride was added dropwise at a temperature of 25 to 30 ° C. Stirred for hours. Next, 5 g of formic acid was added to the reaction mixture, and the mixture was stirred for 1 hour. After filtering out the precipitated insoluble matter, the filtrate was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the oily matter was collected by filtration. Further, the oil was dissolved in tetrahydrofuran 200 g, it was reprecipitated insolubles in filtered again after methanol 1l, and then collecting capturing an oil drying. The Mw was 4.2 × 10 4 in a yield of 32 g.
[P-2]

【化213】 Embedded image

【0135】分散安定用樹脂の製造例3:〔P−3〕 ブチルメタクリレート96g、チオグリコール酸4g及
びトルエン200gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しな
がら、温度70℃に加温した。A.I.B.N.を1.0gを加
え8時間反応した。次にこの反応溶液にグリシジルメタ
クリレート8g、N,N−ジメチルドデシルアミン1.
0g及びt−ブチルハイドロキノン0.5gを加え、温
度100℃にて、12時間攪拌した。冷却後この反応溶
液をメタノール2l中に再沈し、油状物を82g得た。
重合体の数平均分子量は5600であった。〔P−3〕
Production Example 3 of dispersion stabilizing resin: [P-3] A mixed solution of 96 g of butyl methacrylate, 4 g of thioglycolic acid and 200 g of toluene was heated to a temperature of 70 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 1.0 g of AIBN was added and reacted for 8 hours. Next, 8 g of glycidyl methacrylate and N, N-dimethyldodecylamine were added to the reaction solution.
0 g and 0.5 g of t-butylhydroquinone were added, and the mixture was stirred at a temperature of 100 ° C. for 12 hours. After cooling, the reaction solution was reprecipitated in 2 l of methanol to obtain 82 g of an oily substance.
The number average molecular weight of the polymer was 5,600. [P-3]

【化214】 Embedded image

【0136】分散安定用樹脂の製造例4:〔P−4〕 n−ブチルメタクリレート107g、β−メルカプトプ
ロピオン酸4g及びトルエン200gの混合溶液を、窒
素気流下攪拌しながら温度70℃に加温した。これにA.
I.B.N. 1gを加え6時間反応させた。この反応混合物
を冷却し、温度25℃に設定した後、2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート10g及びジカルボキシルカルボン
ジイミド(D.C.C.) 8g、4−(N,N−ジメチルアミ
ノ)ピリジン0.2g及び塩化メチレン20gの混合溶
液を温度25〜30℃で滴下し、更にそのまま4時間攪
拌した。次にこの反応混合物にギ酸5gを加え1時間攪
拌した。析出した不溶物を濾別した後、濾液をメタノー
ル1l中に再沈し油状物を濾集した。更に、この油状物
をテトラヒドロフラン200gに溶解し、不溶物を濾別
後再びメタノール2l中に再沈し、油状物を集し乾燥
した。収量68gでMw 6.6×103 であった。
〔P−4〕
Production Example 4 of dispersion stabilizing resin: [P-4] A mixed solution of 107 g of n-butyl methacrylate, 4 g of β-mercaptopropionic acid and 200 g of toluene was heated to 70 ° C. while stirring under a nitrogen stream. . A.
1 g of IBN was added and reacted for 6 hours. After cooling the reaction mixture and setting the temperature at 25 ° C., 10 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 8 g of dicarboxylcarboxylic diimide (DCC), 0.2 g of 4- (N, N-dimethylamino) pyridine and 20 g of methylene chloride were added. The mixed solution was added dropwise at a temperature of 25 to 30 ° C., and the mixture was further stirred for 4 hours. Next, 5 g of formic acid was added to the reaction mixture, and the mixture was stirred for 1 hour. After filtering out the precipitated insoluble matter, the filtrate was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the oily matter was collected by filtration. Further, the oil was dissolved in tetrahydrofuran 200 g, and reprecipitated again into methanol 2l The insoluble material was filtered off, and was then current capturing an oil drying. The yield was 68 g and Mw was 6.6 × 10 3 .
[P-4]

【化215】 Embedded image

【0137】分散安定用樹脂の製造例5〜12:〔P−
5〕〜〔P−12〕製造例4において、n−ブチルメタ
クリレート100gの代わりに下記表−3に相当する単
量体群に代えた他は、製造例4と同様にして各樹脂を製
造した。各樹脂のMwは5.5×103 〜7×103
範囲であった。
Production Examples 5-12 of Dispersion Stabilizing Resins: [P-
5] to [P-12] In Production Example 4, each resin was produced in the same manner as in Production Example 4, except that 100 g of n-butyl methacrylate was replaced with a monomer group corresponding to Table 3 below. . Mw of each resin was in the range of 5.5 × 10 3 to 7 × 10 3 .

【表7】 [Table 7]

【0138】分散安定用樹脂の製造例13〜16:〔P
−13〕〜〔P−16〕製造例4において、2−ヒドロ
キシメタクリレートの代わりに下記の表4に相当する
化合物を用いた他は、製造例4と同様に操作して各樹脂
を製造した。各樹脂のMwは6×103 〜7×103
範囲であった。
Production Examples of Dispersion Stabilizing Resins 13-16: [P
In -13] - [P-16] Preparation Example 4, 2- the table below in place of the hydroxy methacrylate - except for using the compound corresponding to 4 were prepared each resin and operating similarly to Production Example 4 . The Mw of each resin was in the range of 6 × 10 3 to 7 × 10 3 .

【表8】 [Table 8]

【0139】樹脂粒子の製造例1:〔L−1〕 分散安定用樹脂〔P−1〕8.0g(固形分量とし
て)、下記構造の単量体(M−1)35g、メチルメタ
クリレート15g、ジエチレングリコールジメタクリレ
ート1.0g及びn−ヘプタン250gの混合溶液を窒
素気流下、攪拌しながら温度60℃に加温した。2,
2′−アゾビス(イソバレロニトリル)(略称A.I.V.
N.) 0.3gを加え6時間反応した。開始剤(A.I.V.
N.) 添加20分後、均一溶液が白濁を始め、反応温度は
90℃まで上昇した。冷却後、200メッシュのナイロ
ン布を通して白色分散物を得た。平均粒子径0.25μ
m のラテックスであった。(単量体M−1)
Production Example 1 of Resin Particles: [L-1] Dispersion stabilizing resin [P-1] 8.0 g (as solid content), monomer (M-1) having the following structure 35 g, methyl methacrylate 15 g, A mixed solution of 1.0 g of diethylene glycol dimethacrylate and 250 g of n-heptane was heated to a temperature of 60 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 2,
2'-azobis (isovaleronitrile) (abbreviation AIV
N.) was added and reacted for 6 hours. Initiator (AIV
N.) Twenty minutes after the addition, the homogeneous solution began to become cloudy and the reaction temperature rose to 90 ° C. After cooling, a white dispersion was obtained through a 200 mesh nylon cloth. Average particle size 0.25μ
m latex. (Monomer M-1)

【化216】 Embedded image

【0140】樹脂粒子の製造例2〜11:〔L−2〕〜
〔L−11〕樹脂粒子の製造例1において、単量体
−1の代わりに下記表−5の単量体に代えた他は、製
造例1と同様にして樹脂粒子を製造した。
Production Examples 2-11 of Resin Particles: [L-2]-
[L-11] In Production Example 1 of resin particles, the monomer ( M
Resin particles were produced in the same manner as in Production Example 1, except that the monomers shown in Table 5 below were used instead of -1 ) .

【表9】 [Table 9]

【表10】 [Table 10]

【0141】樹脂粒子の製造例12:〔L−12〕 下記単量体M−1230g、AB−6(東亜合成
(株)製:ブチルアクリレート単位から成る一官能性マ
クロモノマー)5g、エチレングリコールジアクリレー
ト3g、酢酸エチル80g及びn−ヘキサン70gの混
合溶液を窒素気流下に60℃に加温した。これにA.I.V.
N. 0.05gを加え、4時間反応して白色分散物を得
た。冷却後、200メッシュのナイロン布を通して得ら
れた分散物の平均粒径は0.35μm であった。(単量
体M−12)
Production Example 12 of Resin Particles: [L-12] 30 g of the following monomer ( M-12 ), 5 g of AB-6 (manufactured by Toagosei Co., Ltd .: monofunctional macromonomer composed of butyl acrylate unit), A mixed solution of 3 g of ethylene glycol diacrylate, 80 g of ethyl acetate and 70 g of n-hexane was heated to 60 ° C. under a nitrogen stream. AIV
N. 0.05 g was added and reacted for 4 hours to obtain a white dispersion. After cooling, the dispersion obtained through a 200 mesh nylon cloth had an average particle size of 0.35 μm. (Monomer M-12)

【化217】 Embedded image

【0142】樹脂粒子の製造例13〜23:〔L−1
3〕〜〔L−23〕 下記表−6の各分散安定用樹脂〔P〕6g(固形分量と
して)及びメチルエチルケトン100gの混合溶液を窒
素気流下攪拌しながら温度60℃に加温した。この溶液
に、下記表−6の各単量体(M)30g、エチレングリ
コールジメタクリレート5g、A.I.V.N. 0.3g及び
メチルエチルケトン150gの混合溶液を1時間で滴下
した。そのまま1時間攪拌後、A.I.V.N. 0.2gを加
え3時間反応した。冷却後200メッシュのナイロン布
を通して白色分散物を得た。得られた各ラテックスの平
均粒径は0.20μm 〜0.30μm の範囲内であっ
た。
Production Examples of Resin Particles 13 to 23: [L-1
3] to [L-23] A mixed solution of 6 g (as a solid content) of each of the dispersion stabilizing resins [P] shown in Table 6 below and 100 g of methyl ethyl ketone was heated to a temperature of 60 ° C while stirring under a nitrogen stream. To this solution, a mixed solution of 30 g of each monomer (M) in Table 6 below, 5 g of ethylene glycol dimethacrylate, 0.3 g of AIVN, and 150 g of methyl ethyl ketone was added dropwise over 1 hour. After stirring for 1 hour as it was, 0.2 g of AIVN was added and reacted for 3 hours. After cooling, a white dispersion was obtained through a 200-mesh nylon cloth. The average particle size of each obtained latex was in the range of 0.20 μm to 0.30 μm.

【表11】 [Table 11]

【表12】 [Table 12]

【0143】実施例1及び比較例A 実施例1 樹脂〔A−3〕6g(固形分量として)、下記構造の樹
脂〔B−1〕30g(固形分量として)、光導電性酸化
亜鉛200g、下記構造のメチン色素〔I〕0.018
g、サリチル酸0.15g及びトルエン300gの混合
物を、ホモジナイザー(日本精機(株)製)中で7×1
3 r.p.m.の回数で10分間分散した。これに分散樹脂
粒子〔L−5〕4g(固形分量として)を添加し、更に
回転数1×103 r.p.m.で1分間分散した。この感光層
形成用分散物を導電処理した紙に乾燥付着量が25g/
2 となるようにワイヤーバーで塗布し、100℃で3
分間乾燥した。ついで暗所で20℃、65%RHの条件
下で24時間放置することにより、電子写真感光材料を
作製した。〔B−1〕
Example 1 and Comparative Example A Example 1 6 g of resin [A-3] (as solid content), 30 g of resin [B-1] having the following structure (as solid content), 200 g of photoconductive zinc oxide, Methine dye of structure [I] 0.018
g, 0.15 g of salicylic acid and 300 g of toluene were mixed in a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) at 7 × 1.
The mixture was dispersed at a frequency of 0 3 rpm for 10 minutes. To this, 4 g (as a solid content) of dispersed resin particles [L-5] was added, and the mixture was further dispersed at 1 × 10 3 rpm for 1 minute. The dispersion for forming a photosensitive layer was dried on a paper treated with a conductive material so that the dry adhesion amount was 25 g /
m 2 with a wire bar, and 3
Dried for minutes. Then, the mixture was allowed to stand in a dark place at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours to produce an electrophotographic photosensitive material. [B-1]

【化218】 Embedded image

【0144】比較例A 実施例1において、樹脂粒子〔L−5〕4gを除いた他
は実施例1と同様操作して電子写真感光材料を作製し
た。
Comparative Example A An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1, except that 4 g of the resin particles [L-5] were omitted.

【0145】比較例B 実施例1において、樹脂〔A−3〕6g及び樹脂〔B−
1〕30gの代わりに樹脂〔B−1〕のみ36gを用い
た他は実施例1と同様に操作して電子写真感光材料を作
製した。
Comparative Example B In Example 1, 6 g of resin [A-3] and resin [B-
1] An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 36 g of the resin [B-1] alone was used instead of 30 g.

【0146】これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑
度)、静電特性、光導電層の不感脂化性(不感脂化処理
後の光導電層の水との接触角で表わす)及び印刷性を調
べた。印刷性は、全自動製版機ELP404V(富士写
真フイルム(株)製)に現像剤ELP−Tを用いて、露
光・現像処理して画像を形成し、不感脂化処理をして得
られた平版印刷板を用いて調べた。(なお印刷機にはハ
マダスター(株)製ハマダスター800SX型を用い
た)以上の結果をまとめて、表−7に示す。
The film properties (surface smoothness), electrostatic properties, desensitization property of the photoconductive layer (expressed by the contact angle of the photoconductive layer with water after the desensitization treatment) and printing of these photosensitive materials. The sex was examined. The printability of the lithographic plate obtained by exposing and developing a fully automatic plate making machine ELP404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) using a developer ELP-T to form an image and performing desensitization processing The examination was performed using a printing plate. (The printing machine used was Hamadastar 800SX manufactured by Hamadastar Co., Ltd.) The above results are summarized in Table-7.

【表13】 [Table 13]

【0147】表−7に記した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注1) 光導電層の平滑性: 得られた感光材料を、ベック平滑度試験機(熊谷理工
(株)製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑
度(sec/cc)を測定した。
The embodiments of the evaluation items described in Table 7 are as follows. Note 1) Smoothness of photoconductive layer: The obtained photosensitive material was measured for its smoothness (sec / cc) using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.) under the condition of an air capacity of 1 cc. It was measured.

【0148】注2) 静電特性: 温度20℃、65%RHの暗室中で、各感光材料にペー
パーアナライザー(川口電機(株)製ペーパーアナライ
ザー−SP−428型)を用いて−6kVで20秒間コロ
ナ放電をさせた後10秒間放置し、この時の表面電位を
10を測定した。次いでそのまま暗中で120秒間静置
した後の電位V120 を測定し、120秒間暗減衰させた
後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率〔DRR(%) 〕
を〔(V120 /V10)×100(%)〕で求めた。ま
た、コロナ放電により光導電層表面を−500Vに帯電
させた後、波長780nmの単色光で照射し、表面電位
(V10)が1/10に減衰するまでの時間を求め、これから
露光量E1/10 (erg/cm2 ) を算出する。更にE1/10測定
と同様にコロナ放電により−500Vに帯電させた後、
波長780nmの単色光で照射し、表面電位(V10)が1/
100 に減衰するまでの時間を求め、これから露光量E
1/100 (erg/cm2 ) を算出する。撮像時の環境条件はI
(20℃,65%RH)と、II(30℃,80%RH)
で実施した。
Note 2) Electrostatic characteristics: In a dark room at a temperature of 20 ° C. and a relative humidity of 65%, each photosensitive material was subjected to -20 kV at −6 kV using a paper analyzer (Paper Analyzer-SP-428, manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.). After a corona discharge for 2 seconds, the device was left for 10 seconds, and the surface potential at this time was measured as V 10 . Next, the potential V 120 after standing still in the dark for 120 seconds was measured, and the potential retention after dark decay for 120 seconds, that is, the dark decay retention rate [DRR (%)]
Was determined by [(V 120 / V 10 ) × 100 (%)]. After charging the surface of the photoconductive layer to −500 V by corona discharge, irradiation with monochromatic light having a wavelength of 780 nm was performed, and the time required for the surface potential (V 10 ) to decrease to 1/10 was determined. Calculate 1/10 (erg / cm 2 ). Further, after charging to -500 V by corona discharge as in the E 1/10 measurement,
Irradiation with monochromatic light having a wavelength of 780 nm results in a surface potential (V 10 ) of 1 /
The time required to decay to 100 is calculated, and the exposure
Calculate 1/100 (erg / cm 2 ). Environmental conditions at the time of imaging are I
(20 ° C, 65% RH) and II (30 ° C, 80% RH)
It was carried out in.

【0149】注3) 撮像性: 各感光材料を環境条件I又はIIで1昼夜放置した。次に
−5kVで帯電し、光源として2.8mW出力のガリウ
ム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザー(発振波長78
0nm)を用いて、感光材料表面上で50erg/cm2 の照射
量下、ピッチ25μm 及びスキャニング速度330m/
sec のスピード露光後、液体現像剤としてELP−T
(富士写真フイルム(株)製)を用いて現像し、定着す
ることで得られた複写画像につき、カブリ、画像の画質
を目視で評価した。
Note 3) Image-capturing property: Each photosensitive material was left under environmental conditions I or II for one day. Next, it is charged at -5 kV, and a 2.8 mW output gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 78
0 nm), a pitch of 25 μm and a scanning speed of 330 m / cm 2 at an irradiation dose of 50 erg / cm 2 on the surface of the photosensitive material.
sec speed exposure, ELP-T as liquid developer
(Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used to develop and fix the copy image obtained, and the fog and image quality of the image were visually evaluated.

【0150】注4) 生版保水性: 感光材料を印刷用原版として用いる際の不感脂化処理に
よる親水化の程度を、下記の強制条件で処理して調べ
た。各感光材料そのものを(製版しない原版:即ち、生
版と略称)富士写真フイルム(株)製不感脂化処理液E
LP−EXを蒸留水で5倍に希釈した水溶液を用いて、
エッチングマシーンを1回通した。更にこれを、0.5
モルモノエタノールアミンを1lの蒸留水に希釈した溶
液中に3分間浸漬した。次に、これらの版をハマダスタ
ー(株)製ハマダスター8005X型を用いて印刷し、
刷り出しから50枚目の印刷物の地汚れの有無を目視で
評価した。
Note 4) Raw plate water retention: The degree of hydrophilization due to desensitizing treatment when the photosensitive material was used as a printing original plate was examined under the following forced conditions. Each light-sensitive material itself was used as a desensitizing solution E (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.).
Using an aqueous solution obtained by diluting LP-EX five times with distilled water,
The etching machine was passed once. In addition, 0.5
I was soaked for 3 minutes in a solution of molar monoethanolamine diluted in 1 liter of distilled water. Next, these plates were printed using a Hamada Star 8005X manufactured by Hamada Star Co., Ltd.
The presence / absence of background stain on the 50th printed matter from the start of printing was visually evaluated.

【0151】注5) 印刷物の地汚れ: 各感光材料を上記注3)と同一の操作で製版した後、EL
P−EXを用いて、エッチングマシーンを1回通した
後、注4)のモルエタノールアミン含有水溶液に3分間浸
した後水洗した。これらのオフセットマスター用原版
を、湿し水としてELP−FX(富士写真フイルム
(株)製湿し水)を用いて印刷し、印刷物の地汚れが目
視で判別できるまでの印刷枚数を調べた。
Note 5) Background smear of printed matter: After making each photosensitive material in the same operation as in the above note 3), EL was applied.
After passing through the etching machine once using P-EX, it was immersed in an aqueous solution containing molar ethanolamine of Note 4) for 3 minutes and then washed with water. These offset master masters were printed using ELP-FX (fountain solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) as a fountain solution, and the number of printed sheets until the background stain on the printed material could be visually discriminated was examined.

【0152】表−7に示すように、本発明及び比較例A
の感光材料は光導電層の平滑性及び静電特性が良好で実
際の複写画像も地カブリがなく、複写画質も鮮明であっ
た。
As shown in Table 7, the present invention and Comparative Example A
The light-sensitive material had good photoconductive layer smoothness and electrostatic properties, and the actual copied image was free of background fog and the copied image quality was clear.

【0153】次にオフセットマスター原版として用いた
場合、製版しない感光材料を不感脂化処理液を希釈し
て、厳しい条件下で不感脂化処理して実際に印刷して保
水性を調べたところ、本発明のものは刷り出しから地汚
れのない良好な保水性を示し、更に実際に製版した原版
を用いても地汚れのない鮮明な印刷物が1万枚得られ
た。これに対し、親水化を促進する樹脂粒子が添加され
ていない比較例Aは保水性が不充分で、印刷物の地汚れ
が刷り出しから発生し、刷り込んでも解消されることは
なかった。
Next, when used as an offset master master, a photosensitive material not to be plate-made was diluted with a desensitizing solution, subjected to desensitizing treatment under severe conditions, and actually printed to check the water retention. The prints of the present invention exhibited good water retention without any background stains from the start of printing, and 10,000 clear prints free of background stains were obtained even by using an actual plate. On the other hand, Comparative Example A, to which no resin particles for promoting hydrophilicity were added, had insufficient water retention, and the background stain of the printed matter was generated from the start of printing, and was not eliminated by printing.

【0154】比較例Bは静電特性が著しく低下し、実際
の撮像性において満足な複写画像が得られなかった。一
方、オフセット原版としての保水性は、インキ付着が著
しく汚れが顕著であった。これは親水化が充分になされ
ないものによるもので、実際に通常の不感脂化条件で親
水化処理した原版で印刷しても、印刷物の地汚れが著し
く且つ製版後の原版では、複写画像が劣化しており、満
足な印刷原版の印刷物は刷り出しから得られなかった。
In Comparative Example B, the electrostatic characteristics were remarkably reduced, and a satisfactory copied image could not be obtained in the actual imaging performance. On the other hand, the water retention as an offset original plate was markedly stained with ink and markedly stained. This is due to the fact that hydrophilization is not sufficiently performed, and even when printing is performed on an original that has been subjected to hydrophilization under ordinary desensitizing conditions, the printed image is significantly stained, and the copied image cannot be obtained on the original after plate making. The printed matter was deteriorated and a satisfactory printing original plate was not obtained from printing.

【0155】以上のことより、本発明の樹脂〔A〕及び
樹脂粒子〔L〕の両者を用いた場合にのみ、静電特性及
び印刷特性を満足する電子写真感光体が得られることが
判る。
From the above, it can be seen that an electrophotographic photosensitive member satisfying electrostatic characteristics and printing characteristics can be obtained only when both the resin [A] and the resin particles [L] of the present invention are used.

【0156】実施例2 樹脂〔A−7〕5.5g(固形分量として)、下記構造
の樹脂〔B−2〕30g、樹脂粒子〔L−12〕4.5
g(固形分量として)、下記構造のメチン色素〔II〕
0.02gの他は実施例1と同様に操作して電子写真感
光材料を作成した。 樹脂〔B−2〕
Example 2 5.5 g (as solid content) of resin [A-7], 30 g of resin [B-2] having the following structure, and resin particles [L-12] 4.5
g (as solid content), methine dye [II] having the following structure
An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1, except for 0.02 g. Resin [B-2]

【化219】 メチン色素〔II〕Embedded image Methine dye [II]

【化220】 Embedded image

【0157】得られた感光材料の電子写真特性及び印刷
適性について実施例1と同様にして測定し、下記の結果
を得た。 静電特性(30℃,80%RH); V10 : −600V DRR : 82% E1/10 : 35erg/cm2 撮像性 I(20℃,65%RH); 良好 II(30℃,80%RH); 良好 保水性 ; ◎ 良好 耐刷性 ; 1万枚 以上の如く、電子写真特性、印刷適性共に良好なもので
あった。
The electrophotographic properties and printability of the obtained photosensitive material were measured in the same manner as in Example 1, and the following results were obtained. Electrostatic characteristics (30 ° C., 80% RH); V 10 : −600 V DRR: 82% E 1/10 : 35 erg / cm 2 Image pickup I (20 ° C., 65% RH); Good II (30 ° C., 80%) RH); good water retention; 良好 good printing durability; as in 10,000 or more, both electrophotographic properties and printability were good.

【0158】実施例3〜18 下記表−8の樹脂〔A〕各5g(固形分量として)、樹
脂粒子〔L〕4g(固形分量として)、下記構造の樹脂
〔B−3〕31g及びメチン色素〔III 〕0.018g
の他は実施例1と同様にして各感光材料を作成した。樹
脂〔B−3〕
Examples 3 to 18 Resins [A] shown in Table 8 below (5 g each (as solid content), resin particles [L] 4 g (as solid content), 31 g of resin [B-3] having the following structure and methine dye [III] 0.018 g
Other than the above, each photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1. Resin [B-3]

【化221】 メチン色素〔III 〕Embedded image Methine dye [III]

【化222】 Embedded image

【0159】各感光材料について実施例1と同様にし
て、静電特性、印刷適性を調べた。結果を表−8に示
す。
In the same manner as in Example 1, electrostatic characteristics and printability of each photosensitive material were examined. The results are shown in Table-8.

【表14】 [Table 14]

【0160】静電特性は表−8に示した如く、30℃、
80%RHの過酷な条件でも大変良好な結果を示した。
実際の撮像性も良好であり、これらのオフセットマスタ
ー用原版としての保水性も良好で且つ耐刷性もいずれも
1万枚まで印刷できた。
The electrostatic characteristics were as shown in Table 8 at 30 ° C.
Very good results were shown under severe conditions of 80% RH.
The actual image-capturing properties were also good, the water retention of these masters for offset masters was good, and the printing durability was able to print up to 10,000 sheets.

【0161】実施例19及び比較例C 樹脂〔A−1〕4g、下記構造の樹脂〔B−4〕31.
5g、樹脂粒子〔L−18〕4.5g、酸化亜鉛200
g、ウラニン0.02g、ローズベンガル0.04g、
ブロムフェノールブルー0.03g、無水フタル酸0.
20g及びトルエン300gの混合物をホモジナイザー
中で回転数1×103 r.p.m.で10分間分散して感光層
形成物を調製し、これを導電処理した紙に乾燥付着量が
22g/m2 となるようにワイヤーバーで塗布し、11
0℃で1分間乾燥した。次いで暗所で20℃、65%R
Hの条件下で24時間放置することにより下記表−9に
示す各電子写真感光材料を作成した。樹脂〔B−4〕
Example 19 and Comparative Example C 4 g of resin [A-1], resin [B-4] having the following structure:
5 g, 4.5 g of resin particles [L-18], 200 of zinc oxide
g, uranine 0.02 g, rose bengal 0.04 g,
Bromphenol blue 0.03 g, phthalic anhydride 0.
A mixture of 20 g and 300 g of toluene was dispersed in a homogenizer at a rotation speed of 1 × 10 3 rpm for 10 minutes to prepare a photosensitive layer-formed product, which was dried on a conductive treated paper so that the dry adhesion amount was 22 g / m 2. Apply with wire bar, 11
Dry at 0 ° C. for 1 minute. Then, at 20 ° C, 65% R in the dark
Each of the electrophotographic photosensitive materials shown in Table 9 below was prepared by being left under the condition of H for 24 hours. Resin [B-4]

【化223】 Embedded image

【0162】比較例C 実施例19において、樹脂〔A−1〕4g及び樹脂〔B
−4〕31.5gの代わりに樹脂〔B−4〕のみ35.
5gを用いた他は実施例19と同様にして電子写真感光
材料を作製した。各感光体を実施例1と同様にして各特
性を調べその結果を表−9に示した。
Comparative Example C In Example 19, 4 g of resin [A-1] and resin [B
-4] instead of 31.5 g but only resin [B-4].
An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 19 except that 5 g was used. The characteristics of each photoreceptor were examined in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table-9.

【表15】 [Table 15]

【0163】上記の測定において、静電特性及び撮像性
については下記の操作に従った他は、実施例1と同様の
操作で行った。
In the above measurement, the same operation as in Example 1 was carried out, except that the following operations were performed for the electrostatic characteristics and the image pickup properties.

【0164】注6) 静電特性のE1/10及びE1/100 の測
定方法: コロナ放電により光導電層表面を−400Vに帯電させ
た後、該光導電層表面を照度2.0ルックスの可視光で
照射し、表面電位(V10)が1/10又はE1/100に減衰す
るまでの時間を求め、これから露光量E1/10又はE
1/100 (ルックス・秒)を算出する。
Note 6) Measurement method of E 1/10 and E 1/100 of electrostatic characteristics: After charging the surface of the photoconductive layer to −400 V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer was illuminated at 2.0 lux. And the time required for the surface potential (V 10 ) to attenuate to 1/10 or E 1/100 was determined, and the exposure amount E 1/10 or E
Calculate 1/100 (looks per second).

【0165】注7) 撮像性 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、全自
動製版機EPL−404V(富士写真フイルム(株)
製)でEPL−Tをトナーとして用いて製版して得られ
た複写画像につき、カブリ、画像の画質を目視評価し
た。撮像時の環境条件は、20℃、65%RH(I)と
30℃、80%RH(II)で実施した。
Note 7) Image-capturing property After leaving each photosensitive material for one day and night under the following environmental conditions, a fully automatic plate making machine EPL-404V (Fuji Photo Film Co., Ltd.)
The fogging and image quality of the copied image obtained by making a plate using EPL-T as a toner were evaluated by visual inspection. Environmental conditions during imaging were 20 ° C. and 65% RH (I) and 30 ° C. and 80% RH (II).

【0166】表−9に示した如く、各感光材料とも良好
な静電特性及び撮像性を示したが、本発明及び比較例C
ともに、静電特性が良好で、鮮明な画質の複写画像を得
ることができた。また、オフセトマスター原版として用
いた場合、本発明は保水性は良好で、耐刷性は1万枚ま
で可能であった。しかし、樹脂粒子を除いた比較例Cは
強制条件である親水化を行った保水性が充分でなく、又
実際に通常の条件で不感脂化し印刷してみた所、非画像
部の地汚れが見られない印刷物は5千枚までであった。
以上のことより、本発明の感光材料のみが、静電特性、
印刷特性ともに優れた性能で維持できるものであった。
As shown in Table 9, all the photosensitive materials exhibited good electrostatic characteristics and good image-capturing properties.
In both cases, the electrostatic characteristics were good, and a copy image of clear image quality could be obtained. When used as an offset master master, the present invention had good water retention and printing durability of up to 10,000 sheets. However, Comparative Example C, from which the resin particles were removed, did not have sufficient water-retention due to the hydrophilization, which is a forced condition, and when it was made insensitive under actual conditions and printed, the background stain on the non-image area was reduced. Unprinted printed matter was up to 5,000 sheets.
From the above, only the photosensitive material of the present invention has an electrostatic property,
Both printing characteristics could be maintained with excellent performance.

【0167】実施例20〜27 実施例19において、下記表−10の樹脂〔A〕5g
(固形分量として)、樹脂粒子〔L〕4g(固形分量と
して)の他は実施例19と同様に操作して、各感光材料
を作製した。
Examples 20 to 27 In Example 19, 5 g of resin [A] shown in Table 10 below was used.
Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example 19, except that (as the solid content) and 4 g of the resin particles [L] (as the solid content).

【表16】 [Table 16]

【0168】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿
(30℃、80%RH)の過酷な条件においけも地カブ
リの発生や細線飛びの発生等のない鮮明な画像を与え
た。更にオフセットマスター原版として印刷したとこ
ろ、1万枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の
印刷物が得られた。
The light-sensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention and photosensitivity, and actual copied images can be subjected to severe conditions of high temperature and high humidity (30 ° C., 80% RH). A clear image without generation of fine lines and skipping of fine lines was given. Further, when printing was performed as an offset master plate, a printed matter of clear image quality free of background smear was obtained even after printing 10,000 sheets.

【0169】実施例28〜31 実施例19において、樹脂〔A−1〕5.5g、樹脂
〔B−4〕31.5gの代わりに、下記表−11の結着
樹脂31.5gを用いた他は実施例19と同様にし、各
電子写真感光体を作成した。
Examples 28 to 31 In Example 19, 31.5 g of the binder resin shown in Table 11 below was used in place of 5.5 g of the resin [A-1] and 31.5 g of the resin [B-4]. Other than that was carried out similarly to Example 19, and produced each electrophotographic photoreceptor.

【表17】 [Table 17]

【0170】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿
(30℃、80%RH)の苛酷な条件においも地カブ
リの発生や細線飛びの発生等のない鮮明な画像を与え
た。更にオフセットマスター原版として印刷したとこ
ろ、1万枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の
印刷物が得られた。
[0170] sensitive material Any chargeable present invention, dark charge retention rate, excellent light sensitivity, the actual copy image is also high temperature and high humidity (30 ℃, 80% RH) rigors smell of fogging even in A clear image free of generation and fine line skipping was provided. Further, when printing was performed as an offset master plate, a printed matter of clear image quality free of background smear was obtained even after printing 10,000 sheets.

【0171】実施例32〜33 実施例19において、樹脂粒子〔L−18〕4.5gの
代わりに樹脂粒子〔L−15〕(実施例32)又は樹脂
粒子〔L−16〕(実施例33)を各4.5g(固形分
量として)用いた他は実施例19と同様にして各電子写
真感光体を作成した。各感光体を実施例19と同様にし
て静電特性及び撮像性を調べた所、いずれも良好であっ
た。
Examples 32 to 33 In Example 19, instead of 4.5 g of the resin particles [L-18], the resin particles [L-15] (Example 32) or the resin particles [L-16] (Example 33) were used. ) Was used in the same manner as in Example 19 except that 4.5 g (as a solid content) of each electrophotographic photoreceptor was prepared. When the electrostatic characteristics and the image-capturing properties of each photoconductor were examined in the same manner as in Example 19, all were good.

【0172】次に、実施例19と同様にして製版した原
版を下記条件下で光分解による不感脂化処理をした。 光分解条件: 400W高圧水銀灯下、30cmの距離で3分間全面光照
射した。次にこれらの版を、ELP−EXの不感脂化処
理液でエッチングマシーンを1回通した。この印刷用原
版を実施例1と同様にして印刷した所、地汚れの発生の
ない鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた。
Next, the original plate produced in the same manner as in Example 19 was subjected to a photosensitizing desensitization treatment under the following conditions. Photolysis conditions: The entire surface was irradiated with light under a 400 W high-pressure mercury lamp at a distance of 30 cm for 3 minutes. Next, these plates were passed through an etching machine once with a desensitizing solution of ELP-EX. When this printing original plate was printed in the same manner as in Example 1, 10,000 prints of clear image quality free of background stain were obtained.

【0173】実施例34〜37 下記表−12の各感光体を製版した後の原版をELP−
EX中に4分間浸せきして不感脂化処理した後、実施例
1と同様にして印刷した所、地汚れの発生のない鮮明な
画質の印刷物が各々1万枚得られた。
Examples 34 to 37 Each of the photoreceptors shown in Table 12 below was subjected to plate making to prepare an ELP-
After immersion in EX for 4 minutes to make it desensitized, printing was performed in the same manner as in Example 1. As a result, 10,000 prints of clear image quality free of background smear were obtained.

【表18】 [Table 18]

【0174】実施例38〜43 下記表−13の各感光体を製版した後の原版をELP−
EXを用いてエッチングマシーンを1回通した後、下記
処方の樹脂粒子不感脂化液中に3分間浸せきして不感脂
化した。
Examples 38 to 43 Each of the photoreceptors shown in Table 13 below was subjected to plate making to prepare an original plate of ELP-
After passing through the etching machine once using EX, it was immersed in a resin particle desensitizing solution having the following formulation for 3 minutes to desensitize the resin.

【0175】 樹脂粒子不感脂化液 ジエタノールアミン 80g ニューコールBSN(日本乳化剤(株)製) 6g ベンジルアルコール 100g を蒸留水に溶解して全量を1lとした後水酸化カリウム
でpH10.5に調整した水溶液
Resin particle desensitizing liquid Diethanolamine 80 g Newcol BSN (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) 6 g Benzyl alcohol 100 g is dissolved in distilled water to make the total volume 1 liter, and then adjusted to pH 10.5 with potassium hydroxide.

【表19】 [Table 19]

【0176】これらを、実施例1と同様にして印刷した
所、各原版とも地汚れ発生のない鮮明な画質の印刷物が
各々1万枚以上得られた。
When these were printed in the same manner as in Example 1, 10,000 or more prints of clear image quality with no background smear were obtained for each master.

【0177】[0177]

【発明の効果】本発明によれば、苛酷な条件下において
も、優れた印刷画像と高耐刷性を有する電子写真式平版
印刷用原版を得ることができる。また、本発明の平版印
刷用原版は、半導体レーザー光を用いたスキャニング露
光方式に有効である。
According to the present invention, an electrophotographic lithographic printing plate precursor having excellent printed images and high printing durability can be obtained even under severe conditions. Further, the lithographic printing original plate of the present invention is effective for a scanning exposure method using a semiconductor laser beam.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−17664(JP,A) 特開 平3−2870(JP,A) 特開 平1−261658(JP,A) ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-3-17664 (JP, A) JP-A-3-2870 (JP, A) JP-A-1-261658 (JP, A)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 導電性支持体上に、光導電性酸化亜鉛と
結着樹脂とを含有してなる光導電層を少なくとも1層設
けてなる電子写真式平版印刷用原版において、該結着樹
脂として、下記の樹脂〔A〕を少なくとも1種含有し、
更に該光導電層中に前記光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒
子径と同じかそれより小さい粒子径を有する下記の非水
溶媒系分散樹脂粒子を少なくとも1種含有することを特
徴とする電子写真式平版印刷用原版。 樹脂〔A〕: 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、下記
一般式(I)で示される繰り返し単位を重合体成分とし
て30重量%以上と、−PO3 2 ,−SO3H,−C
OOH, 【化1】 及び酸無水物基から選択される少なくとも1種の極性基
を有する重合体成分0.5〜15重量%とを含有する樹
脂: 一般式(I) 【化2】 〔ただし上記一般式(I)において、a1 ,a2 は各
々、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基
を表す。R3 は炭化水素基を表す〕非水溶媒系分散樹脂
粒子: 非水溶媒中において、該非水溶媒には可溶であるが重合
することにより不溶化する、分解によりカルボキシル基
を生成する官能基を少なくとも1種含有する一官能性単
量体(A)の少なくとも1種を、該非水溶媒に可溶性の
分散安定用樹脂の存在下に分散重合反応させることによ
り得られる共重合体樹脂粒子。
An electrophotographic lithographic printing plate precursor comprising at least one photoconductive layer containing a photoconductive zinc oxide and a binder resin on a conductive support, wherein the binder resin Contains at least one of the following resins [A],
Electrophotography, wherein the photoconductive layer further contains at least one of the following nonaqueous solvent-based dispersed resin particles having a particle size equal to or smaller than the maximum particle size of the photoconductive zinc oxide particles. A lithographic printing original plate. Resin [A]: having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 , containing 30% by weight or more of a repeating unit represented by the following general formula (I) as a polymer component, and -PO 3 H 2 , -SO 3 H, -C
OOH, embedded image And a polymer component having 0.5 to 15% by weight of a polymer component having at least one polar group selected from acid anhydride groups: general formula (I): [However, in the above general formula (I), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R 3 represents a hydrocarbon group] Non-aqueous solvent-based dispersed resin particles: In a non-aqueous solvent, a functional group which is soluble in the non-aqueous solvent but insolubilized by polymerization, and which forms a carboxyl group by decomposition. Copolymer resin particles obtained by subjecting at least one kind of the monofunctional monomer (A) to a dispersion polymerization reaction in the presence of a dispersion stabilizing resin soluble in the non-aqueous solvent.
【請求項2】 上記非水溶媒系分散樹脂粒子が高次の網
目構造を形成していることを特徴とする請求項1の電子
写真式平版印刷用原版。
2. The electrophotographic lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles form a high-order network structure.
【請求項3】 上記分散安定用樹脂が、高分子鎖中に、
下記一般式(II) で示される重合性二重結合基部分を少
なくとも1種含有していることを特徴とする請求項1の
電子写真式平版印刷用原版。一般式(II) 【化3】 〔一般式(II) において、V0 は−O−、−COO−、
−OCO−、−(CH2p −OCO−、−(CH2
p −COO−、−SO2 −、 【化4】 −CONHCOO−、又は−CONHCONH−を表わ
し(但し、pは1〜4の整数を表わし、R4 は水素原子
又は炭素数1〜18の炭化水素基を表わす)、a3 ,a
4 は、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロ
ゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−R5 −又
は炭化水素基を介した−COO−R5 (R5 は水素原子
又は置換されてもよい炭化水素基を示す)を表わす〕
3. The method according to claim 1, wherein the dispersion stabilizing resin is
2. The electrophotographic lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the lithographic printing plate precursor contains at least one polymerizable double bond group represented by the following general formula (II). General formula (II) [In the general formula (II), V 0 represents -O-, -COO-,
-OCO -, - (CH 2) p -OCO -, - (CH 2)
p -COO -, - SO 2 - , ## STR4 ## -CONHCOO-, or -CONHCONH- a represents (wherein, p represents an integer of 1 to 4, R 4 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms), a 3, a
4, which may be the same or different, a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COO-R 5 - or -COO-R 5 via a hydrocarbon group (R 5 is a hydrogen atom or a substituent Represents a hydrocarbon group which may be
【請求項4】 上記樹脂〔A〕が、一般式(I)で示さ
れる共重合体成分として下記一般式(Ia)及び下記一
般式(Ib)で示されるアリール基含有のメタクリレー
ト成分のうちの少なくとも1つを含有することを特徴と
する請求項1又は請求項2の電子写真式平版印刷用原
版。一般式(Ia) 【化5】 一般式(Ib) 【化6】 〔ただし上記一般式(Ia)及び(Ib)において、T
1 及びT2 は互いに独立に各々水素原子、炭素数1〜1
0の炭化水素基、ハロゲン、−COR6 又は−COOR
7 (R6 及びR7 は各々炭素数1〜10の炭化水素基を
表す)を表し、L1 及びL2 は各々−COO−とベンゼ
ン環を結合する単結合又は連結原子数1〜4個の連結基
を表す〕
4. The resin [A] is a copolymer component represented by the general formula (I), which is selected from aryl group-containing methacrylate components represented by the following general formulas (Ia) and (Ib). The original plate for electrophotographic lithographic printing according to claim 1 or 2, wherein the original plate contains at least one. General formula (Ia) General formula (Ib) [However, in the above general formulas (Ia) and (Ib), T
1 and T 2 each independently represent a hydrogen atom, a carbon number of 1 to 1;
0 hydrocarbon group, halogen, -COR 6 or -COOR
7 (R 6 and R 7 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), and L 1 and L 2 each represent a single bond or a connecting atom having 1 to 4 atoms connecting —COO— and a benzene ring. Represents a linking group of
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