JP3060089B2 - Photocurable coating composition for flooring - Google Patents
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- 238000009408 flooring Methods 0.000 title claims description 11
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims description 10
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 claims description 66
- -1 alkylene diol Chemical class 0.000 claims description 54
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 25
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 25
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 23
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 claims description 23
- ZKJNETINGMOHJG-GGWOSOGESA-N (e)-1-[(e)-prop-1-enoxy]prop-1-ene Chemical compound C\C=C\O\C=C\C ZKJNETINGMOHJG-GGWOSOGESA-N 0.000 claims description 21
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 21
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 16
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims description 16
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 15
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 15
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 14
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 14
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 12
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 11
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 9
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 9
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 9
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 claims description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 claims description 7
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 7
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000013638 trimer Substances 0.000 claims description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 4
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 claims description 2
- 125000004427 diamine group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 claims description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 2
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 claims description 2
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 claims 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 11
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 6
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 4
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 4
- 125000004653 anthracenylene group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004977 cycloheptylene group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004978 cyclooctylene group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004979 cyclopentylene group Chemical group 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 4
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 4
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005562 phenanthrylene group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 2
- KFSJVNNERGJJEB-UHFFFAOYSA-N (4-chlorophenyl)-diphenylsulfanium Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KFSJVNNERGJJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 2
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical group OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 2
- VGHSXKTVMPXHNG-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC(N=C=O)=C1 VGHSXKTVMPXHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatocyclohexane Chemical compound O=C=NC1CCC(N=C=O)CC1 CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940008841 1,6-hexamethylene diisocyanate Drugs 0.000 description 1
- UCBQKJQXUPVHFJ-UHFFFAOYSA-N 1-cyclopenta-2,4-dien-1-yl-2-propan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1C1C=CC=C1 UCBQKJQXUPVHFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecene Chemical group CCCCCCCCCCC=C CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZVFICMRIHBAEK-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-3-[(3-isocyanato-2-methylphenyl)methyl]-2-methylbenzene Chemical compound C1=CC=C(N=C=O)C(C)=C1CC1=CC=CC(N=C=O)=C1C HZVFICMRIHBAEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical group CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQCPOLNSJCWPGT-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Bisphenol F Chemical compound OC1=CC=CC=C1CC1=CC=CC=C1O MQCPOLNSJCWPGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 2,2,5,8-tetramethyl-3,4-dihydrochromen-6-ol Chemical compound C1CC(C)(C)OC2=C1C(C)=C(O)C=C2C MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZSSMFVYZRQGIM-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)-2-propylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCC(CO)(CO)CO SZSSMFVYZRQGIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N Glycidol Chemical group OCC1CO1 CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000004472 Lysine Substances 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N Lysine Natural products NCCCCC(N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INWVTRVMRQMCCM-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 INWVTRVMRQMCCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIGAAOXXRKTFAM-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CC1=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C Chemical compound N=C=O.N=C=O.CC1=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C IIGAAOXXRKTFAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORUGOXNWQUALA-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.N=C=O.C1=CC=C(C(C2=CC=CC=C2)C2=CC=CC=C2)C=C1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.N=C=O.C1=CC=C(C(C2=CC=CC=C2)C2=CC=CC=C2)C=C1 QORUGOXNWQUALA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 206010040880 Skin irritation Diseases 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- PFHLXMMCWCWAMA-UHFFFAOYSA-N [4-(4-diphenylsulfoniophenyl)sulfanylphenyl]-diphenylsulfanium Chemical compound C=1C=C([S+](C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1SC(C=C1)=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PFHLXMMCWCWAMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229940105990 diglycerin Drugs 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- HSKKYAVRBWNUQB-UHFFFAOYSA-N ethene;propane-1,2,3-triol Chemical group C=C.C=C.C=C.OCC(O)CO HSKKYAVRBWNUQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 230000036556 skin irritation Effects 0.000 description 1
- 231100000475 skin irritation Toxicity 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- NWWZPOKUUAIXIW-UHFFFAOYSA-N thiamethoxam Chemical compound O=N(=O)N=C1N(C)COCN1CC1=CN=C(Cl)S1 NWWZPOKUUAIXIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は床材用光硬化型被覆
剤組成物に関する。さらに詳しくは、紫外線等の光照射
により高速に硬化し、特に塩化ビニル樹脂系(以下、単
に塩ビという。)床材に対して優れた密着性を有し、耐
摩耗性、耐汚染性を付与するプロペニルエーテル末端基
化合物を含む光カチオン硬化型被覆剤組成物に関する。The present invention relates to a photocurable coating composition for flooring. More specifically, it cures at high speed by irradiation with light such as ultraviolet rays, has excellent adhesion to vinyl chloride resin (hereinafter simply referred to as PVC) flooring, and imparts abrasion resistance and stain resistance. The present invention relates to a cationic photocurable coating composition containing a propenyl ether terminal group compound.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、有機溶剤を使用する塩ビ床材用被
覆剤は、作業者に対する有毒性、火災の危険性、環境汚
染、乾燥速度、溶剤の浪費などに問題があるため、有機
溶剤を必須成分として含まず、紫外線(UV)等の活性
エネルギー線の照射による硬化を利用した、無溶剤系の
被覆剤が検討されている。該無溶剤系の光硬化型被覆剤
としては、ラジカル重合型の不飽和ポリエステル、ポリ
エステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アク
リレートなどがあるが(例えば特開平3−215515
号、特開平6−279556号各公報)、光ラジカル重
合型の硬化は一般に体積収縮が起こり、塩ビ基材面に対
するの密着性が低下し易く、さらに、アクリル系組成物
は特有の臭気を有し、作業環境の悪化や皮膚刺激性が高
いという問題点がある。さらに、UV硬化に際して空気
(酸素)が介在するとラジカル硬化反応が阻害されるた
め、不活性ガス雰囲気中でUV照射を行う必要があり、
装置の面でも制約があった。このような問題点を改善す
るものとして、エポキシ系の光カチオン硬化性樹脂があ
るが、該樹脂は光反応性が低いため、硬化時に多大のU
Vエネルギーを必要とする。そのため、高UVエネルギ
ー照射装置を必要としたり、照射時間が長くかかるとい
う欠点があった。このような光カチオン硬化性樹脂の反
応性の低さを向上させる方法として、脂環式エポキシ化
合物をベースレジンまたは希釈剤として用いる方法が知
られている(特開平5−186755号公報など)。2. Description of the Related Art In recent years, PVC floor covering materials using an organic solvent have problems in terms of toxicity to workers, danger of fire, environmental pollution, drying speed, and waste of the solvent. Solvent-free coating agents that do not contain as an essential component but use curing by irradiation with active energy rays such as ultraviolet (UV) light have been studied. Examples of the solvent-free photocurable coating agent include radically polymerizable unsaturated polyesters, polyester (meth) acrylates, and urethane (meth) acrylates (for example, see JP-A-3-215515).
And JP-A-6-279556), photo-radical polymerization-type curing generally causes volume shrinkage, easily reduces the adhesion to the PVC substrate surface, and the acrylic composition has a peculiar odor. However, there is a problem that the working environment is deteriorated and skin irritation is high. Furthermore, when air (oxygen) is interposed during UV curing, the radical curing reaction is inhibited, so it is necessary to perform UV irradiation in an inert gas atmosphere.
There were also restrictions on the equipment. An epoxy photocationic curable resin has been proposed to improve such a problem. However, since the resin has low photoreactivity, a large amount of U.S.C.
Requires V energy. Therefore, there are drawbacks that a high UV energy irradiation device is required and irradiation time is long. As a method for improving the low reactivity of the photocationic curable resin, a method using an alicyclic epoxy compound as a base resin or a diluent is known (Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-186755, etc.).
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、脂環式
エポキシ化合物をを用いたものの反応速度も従来の光ラ
ジカル硬化性樹脂に比べると遅く、しかも工業的に入手
できる脂環式エポキシ化合物の種類は限られており、実
用性能を満足できるものを得るのは困難であった。本発
明は、有機溶剤、刺激性のモノマー、オリゴマーなどを
含まず、UV等の活性エネルギー線を照射することによ
り高速に硬化し、塩ビ樹脂への密着性にすぐれ、床材に
良好な耐摩耗性、耐汚染性等を付与する光カチオン硬化
型被覆組成物を提供することを目的とする。本発明の被
覆剤組成物は、従来技術における種々の問題点、すなわ
ち作業者に対する有害性、環境汚染、臭気対策、硬化速
度、塗膜物性等を大幅に改善するものである。However, the reaction rate of an alicyclic epoxy compound using an alicyclic epoxy compound is lower than that of a conventional photo-radical curable resin. It was limited, and it was difficult to obtain one that could satisfy practical performance. The present invention does not contain organic solvents, irritating monomers and oligomers, cures rapidly by irradiating active energy rays such as UV, has excellent adhesion to PVC resin, and has good abrasion resistance to flooring materials. It is an object of the present invention to provide a cationic photocurable coating composition that imparts properties, stain resistance, and the like. The coating composition of the present invention significantly improves various problems in the prior art, that is, harm to workers, environmental pollution, odor control, curing speed, coating film properties, and the like.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点を解決する塩ビ床材用被覆剤について鋭意検討を重ね
た結果、本発明に到達した。すなわち本発明の塩ビ床材
用光硬化型被覆剤組成物の特徴は、一般式(1)で表さ
れるプロペニルエーテル末端基を有する(ポリ)エーテ
ルオリゴマー、プロペニルエーテル末端基を有するポリ
エステルオリゴマー、プロペニルエーテル末端基を有す
るウレタンオリゴマーおよび一般式(6)、一般式
(6’)または一般式(7)で表されるプロペニルエー
テル末端基を有するモノマーの群から選ばれる分子内に
少なくとも2個のプロペニルエーテル末端基を有する化
合物(A)の1種以上並びに光カチオン重合開始剤
(B)を必須成分とする点にある。Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies on a coating material for a PVC flooring material that solves the above problems, and as a result, have reached the present invention. That is, the photocurable coating composition for a floor covering of PVC of the present invention is characterized by a (poly) ether oligomer having a propenyl ether terminal group, a polyester oligomer having a propenyl ether terminal group, and propenyl represented by the general formula (1). Urethane oligomer having an ether terminal group and at least two propenyls in a molecule selected from the group of monomers having a propenyl ether terminal group represented by the general formula (6), (6 ′) or (7) One or more compounds having ether terminal groups (A) and a cationic photopolymerization initiator (B) are essential components.
【0005】[0005]
【化10】 X1[−O−(AO)m−R1]n (1) {式中、nは3〜200の整数であり、n個のmは0〜
200の整数であり、mの少なくとも1個は1以上であ
る。n個のR1の少なくとも2個はプロペニル基であ
り、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール
基でもよい。Aは炭素数2〜12のアルキレン、アリー
レン、アラルキレンまたはシクロアルキレン基であり、
mが2以上の場合のAは同一でも異なっていてもよく、
(AO)m部分はランダム付加でもブロック付加でもよ
い。X1は多価アルコール残基である。}X 1 [—O— (AO) m—R 1 ] n (1) In the formula, n is an integer of 3 to 200;
An integer of 200, and at least one of m is 1 or more. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. A is an alkylene having 2 to 12 carbon atoms, arylene, aralkylene or cycloalkylene group,
When m is 2 or more, A may be the same or different,
The (AO) m portion may be random addition or block addition. X 1 is a polyhydric alcohol residue. }
【化11】 X1[−O−R1]n (6) {式中、nは2〜200の整数であり、X1は、ポリグ
リセリン(グリセリンの2〜18量体)の残基である。
n個のR1の少なくとも2個はプロペニル基であり、残
りはアルキル、アシルまたはアリール基でもよい。}X 1 [—OR 1 ] n (6) wherein n is an integer of 2 to 200, and X 1 is a residue of polyglycerin (2 to 18-mer of glycerin). is there.
At least two of the n R 1 are propenyl groups, and the rest may be alkyl, acyl or aryl groups. }
【化12】 X1[−O−R1]n (6’) {式中、nは2〜200の整数であり、X1は、トリメ
チロールアルカンの2〜3量体の残基である。n個のR
1の少なくとも2個はプロペニル基であり、残りは水素
原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。}X 1 [—O—R 1 ] n (6 ′) wherein n is an integer of 2 to 200, and X 1 is a residue of a 2- to 3-trimer of trimethylolalkane. . n R
At least two of 1 are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【化13】 Y1[−CO−X2O−R1]n (7) ‖ O {式中、nは2〜200の整数、X2は、HOX2OHで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、Y1は多価カルボン酸残基である。n個のR1の少な
くとも2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシルまたはアリール基でもよい。}Embedded image Y 1 [—CO—X 2 O—R 1 ] n (7) ‖ In the formula, n is an integer of 2 to 200, and X 2 is a residue of any one of alkylene diol, arylene diol, polyether diol, polyurethane diol and polycarbonate diol represented by HOX 2 OH, Y 1 is a polyvalent carboxylic acid residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】本発明の(A)として、特に好ま
しくはプロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリ
ゴマーである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As (A) of the present invention, a urethane oligomer having a propenyl ether terminal group is particularly preferred.
【0007】一般式(1)において、Aは炭素数1〜1
2のアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシク
ロアルキレン基よりなる群から選ばれる2価の基であ
り、使用しうるアルキレン基の例には、メチレン、エチ
レン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレ
ン、へプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウ
ンデシレン、ドデシレン等の炭素数1〜14のアルキレ
ン基が挙げられる。アリーレン基の例にはフェニレン、
ナフチレン、アントリレン、フェナントリレン等が挙げ
られる。アラルキレンの例には、ベンジレン、1−フェ
ニチレン、2−フェニチレン、3−フェニルプロピレ
ン、2−フェニルプロピレン、1−フェニルプロピレン
などが挙げられる。シクロアルキレン基の例には、シク
ロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、
シクロオクチレン等が挙げられる。これらのうち好まし
くは、エチレン基およびプロピレン基である。アルキレ
ン基の炭素数が12を越えるものでは後述する光カチオ
ン重合開始剤(B)の溶解性が悪くなる。In the general formula (1), A represents 1 to 1 carbon atoms.
2, a divalent group selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene and cycloalkylene groups, and examples of usable alkylene groups include methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, heptylene, Examples thereof include an alkylene group having 1 to 14 carbon atoms such as octylene, nonylene, decylene, undecylene, and dodecylene. Examples of arylene groups include phenylene,
Examples include naphthylene, anthrylene, phenanthrylene and the like. Examples of aralkylene include benzylene, 1-phenylene, 2-phenylene, 3-phenylpropylene, 2-phenylpropylene, 1-phenylpropylene, and the like. Examples of cycloalkylene groups include cyclopentylene, cyclohexylene, cycloheptylene,
And cyclooctylene. Of these, an ethylene group and a propylene group are preferred. If the alkylene group has more than 12 carbon atoms, the solubility of the cationic photopolymerization initiator (B) described later will be poor.
【0008】X1は多価アルコール残基であり、該多価
アルコールとしては、グリセリン、ポリグリセリン(グ
リセリンの2〜18量体、例えばジグリセリン、トリグ
リセリン、テトラグリセリン等)、グリシドールの開環
重合物(重合度が2〜5000である化合物)、トリメ
チロールアルカン(トリメチロールエタン、トリメチロ
ールプロパン、トリメチロールブタン等)およびこれら
の2〜3量体、モノペンタエリスリトール、ジペンタエ
リスリトール、1,3,5−ペンタエリスリトール、ソ
ルビトール、ソルビタンソルビタングリセリン縮合物等
が挙げられる。これらのうち特に好ましいものはグリセ
リン、ポリグリセリン、ならびにトリメチロールアルカ
ンおよびその2〜3量体である。X 1 is a polyhydric alcohol residue. Examples of the polyhydric alcohol include glycerin, polyglycerin (2 to 18-mer of glycerin, such as diglycerin, triglycerin, tetraglycerin, etc.) and glycidol ring opening. Polymers (compounds having a degree of polymerization of 2 to 5000), trimethylolalkanes (trimethylolethane, trimethylolpropane, trimethylolbutane and the like) and their dimers and trimers, monopentaerythritol, dipentaerythritol, 3,5-pentaerythritol, sorbitol, sorbitan sorbitan glycerin condensate, and the like. Of these, particularly preferred are glycerin, polyglycerin, and trimethylolalkane and its dimers and trimers.
【0009】該一般式(1)において、n個のmは通常
0〜200の整数でありmの少なくとも1個は1以上で
あり、好ましくは1〜80、特に好ましくは1〜5の整
数である。mが200を超えると粘度が高くなり(B)
の溶解が困難になる。In the general formula (1), n m is usually an integer of 0 to 200, and at least one of m is 1 or more, preferably 1 to 80, particularly preferably an integer of 1 to 5. is there. When m exceeds 200, the viscosity increases (B).
Becomes difficult to dissolve.
【0010】また、nは通常2〜200、好ましくは3
〜100、特に好ましくは3〜5の整数である。nが2
00を超えると、粘度が高くなり開始剤(B)の溶解が
困難になる。n個のR1の少なくとも2個はプロペニル
基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはア
リール基でもよい。N is usually 2 to 200, preferably 3
To 100, particularly preferably an integer of 3 to 5. n is 2
If it exceeds 00, the viscosity increases and the dissolution of the initiator (B) becomes difficult. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups.
【0011】本発明におけるプロペニルエーテル末端基
を有するポリエステルオリゴマーとしては、下記一般式
(2)、(3)または(4)で表される化合物が挙げら
れる。The polyester oligomer having a propenyl ether terminal group in the present invention includes a compound represented by the following general formula (2), (3) or (4).
【0012】 {式中、mは1〜200の整数、nは2〜200の整数
であり、X2、X3はそれぞれHOX2OH、HOX3OH
で表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、
ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポ
リカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基で
あり、Y1は多価カルボン酸残基であり、Y2は2価カル
ボン酸残基である。n個のR1の少なくとも2個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシル又
はアリール基でもよい。}[0012] In the formula, m is an integer of 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, and X 2 and X 3 are HOX 2 OH and HOX 3 OH, respectively.
Represented by an alkylene diol, arylene diol,
Polyether diol, a residue of any of the diols of the polyurethane diols or polycarbonate diols, Y 1 is a polyvalent carboxylic acid residue, Y 2 is a divalent carboxylic acid residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【0013】該一般式(2)におけるX2は、HOX2O
Hで表されるアルキレンジオール、アリーレンジオー
ル、ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまた
はポリカーボネートジオールのいずれかのジオールの残
基である。X 2 in the general formula (2) is HOX 2 O
H is a residue of any of diols of alkylene diol, arylene diol, polyether diol, polyurethane diol and polycarbonate diol.
【0014】HOX2OHで表されるアルキレンジオー
ルの具体例としては、エチレングリコール、プロピレン
グリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタン
ジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナン
ジオール、ネオペンチルグリコール、1.4−シクロヘ
キサンジオールなどがあげらる。これらのうち好ましく
は、エチレングリコールおよびプロピレングリコールで
ある。Specific examples of the alkylene diol represented by HOX 2 OH include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, and 1,9-nonane. Diol, neopentyl glycol, 1.4-cyclohexanediol and the like. Of these, ethylene glycol and propylene glycol are preferred.
【0015】HOX2OHで表されるアリーレンジオー
ルの具体例としては、カテコール、ビス(2−ヒドロキ
シフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)
メタン、ビスフェノールAなどが挙げられる。これらの
うち好ましくは、ビスフェノールAである。Specific examples of arylene diols represented by HOX 2 OH include catechol, bis (2-hydroxyphenyl) methane, bis (4-hydroxyphenyl)
Examples include methane and bisphenol A. Of these, bisphenol A is preferred.
【0016】HOX2OHで表されるポリエーテルジオ
ールの具体例としては、ポリ(オキシエチレン)ジオー
ル、ポリ(オキシプロピレン)ジオール、ポリ(オキシ
テトラメチレン)ジオール、ビスフェノールAのエチレ
ンオキサイド付加物、ビスフェノールAのプロピレンオ
キサイド付加物などが挙げられる。これらのうち好まし
くは、ポリ(オキシエチレン)ジオールおよびポリ(オ
キシプロピレン)ジオールである。Specific examples of the polyether diol represented by HOX 2 OH include poly (oxyethylene) diol, poly (oxypropylene) diol, poly (oxytetramethylene) diol, ethylene oxide adduct of bisphenol A, bisphenol And propylene oxide adduct of A. Of these, poly (oxyethylene) diol and poly (oxypropylene) diol are preferred.
【0017】上記ポリエーテルジオールの重合度は通常
1〜200、好ましくは2〜100、特に好ましくは3
〜20である。The degree of polymerization of the above polyether diol is usually from 1 to 200, preferably from 2 to 100, particularly preferably from 3 to 3.
-20.
【0018】HOX2OHで表されるポリウレタンジオ
ールの例としては、下記の(i)と(ii)との反応生
成物が挙げられる。 (i) H(OX5)m−OH で表されるジオール
(ただし、mは1〜200の整数、X5は炭素数2〜1
2のアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシク
ロアルキレンの基よりなる群から選ばれる2価の基であ
る。) (ii) OCN−Z3−NCO で表されるジイソシ
アネート(ただし、Z3はアルキレン、アリーレン、ア
ラルキレンおよびシクロアルキレンの基からなる群から
選ばれる2価の基である。)Examples of the polyurethane diol represented by HOX 2 OH include reaction products of the following (i) and (ii). (I) H (OX 5) diol represented by m-OH (provided that, m is an integer of 1 to 200, X 5 is a carbon number 2 to 1
And 2 divalent groups selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene and cycloalkylene groups. ) (Ii) a diisocyanate represented by OCN-Z 3 -NCO (However, Z 3 is a divalent group selected from the group consisting alkylene, arylene, a group aralkylene and cycloalkylene.)
【0019】上記(i)のジオールにおいて、mは通常
1〜200、好ましくは3〜20の整数である。In the above diol (i), m is an integer of usually 1 to 200, preferably 3 to 20.
【0020】上記(i)のジオールにおいて、X5は炭
素数2〜12のアルキレン、アリーレン、アラルキレン
およびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる2
価の基であり、使用しうるアルキレン基の例には、メチ
レン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、
へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニレン、デシ
レン、ウンデシレン、ドデシレン等が挙げられる。アリ
ーレン基の例にはフェニレン、ナフチレン、アントリレ
ン、フェナントリレン等が挙げられる。アルアルキレン
の例には、ベンジレン、1−フェニチレン、2−フェニ
チレン、3−フェニルプロピレン、2−フェニルプロピ
レン、1−フェニルプロピレンなどが挙げられる。シク
ロアルキレン基の例には、シクロペンチレン、シクロヘ
キシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン等が挙
げられる。これらのうち特に好ましくは、エチレン基お
よびプロピレン基である。アルキレン基の炭素数が12
を越えると重合開始剤(B)の溶解性が悪くなる。In the diol of the above (i), X 5 is 2 selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene and cycloalkylene groups having 2 to 12 carbon atoms.
Examples of the alkylene group that is a valent group and may be used include methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene,
Hexylene, heptylene, octylene, nonylene, decylene, undecylene, dodecylene and the like can be mentioned. Examples of the arylene group include phenylene, naphthylene, anthrylene, phenanthrylene and the like. Examples of aralkylene include benzylene, 1-phenylene, 2-phenylene, 3-phenylpropylene, 2-phenylpropylene, 1-phenylpropylene, and the like. Examples of cycloalkylene groups include cyclopentylene, cyclohexylene, cycloheptylene, cyclooctylene and the like. Of these, particularly preferred are an ethylene group and a propylene group. When the carbon number of the alkylene group is 12
If the ratio exceeds the above range, the solubility of the polymerization initiator (B) becomes poor.
【0021】上記(ii)のジイソシアネートの例とし
ては、トルエンジイソシアネート(TDI)、p−およ
びm−フェニレンジイソシアネート、1,4−テトラメ
チレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイ
ソシアネート(HDI)、2,2,4−トリメチルヘキ
サメチレンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサン
ジイソシアネート、4,4’−ジシクロヘキシルメタン
ジイソシアネート(水添MDI)、4,4’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート(MDI)、3,3’−ジメ
チル−4、4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、
1,5−テトラヒドロナフタリンジイソシアネート、ナ
フタリン−1,5’−ジイソシアネート、ビス(2−メ
チル−3−イソシアナトフェニル)メタン、4,4’−
ジフェニルプロパンジイソシアネート、テトラメチルキ
シレンジイソシアネート(TMXDI)、イソホロンジ
イソシアネート(IPDI)などが挙げられる。これら
のうち好ましくは、TDI、MDI、IPDI、TMX
DI、水添MDIおよびHDIである。Examples of the diisocyanate (ii) include toluene diisocyanate (TDI), p- and m-phenylene diisocyanate, 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate (HDI), 2,2 4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate (hydrogenated MDI), 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), 3,3'-dimethyl-4,4 '-Diphenylmethane diisocyanate,
1,5-tetrahydronaphthalene diisocyanate, naphthalene-1,5'-diisocyanate, bis (2-methyl-3-isocyanatophenyl) methane, 4,4'-
Examples include diphenylpropane diisocyanate, tetramethylxylene diisocyanate (TMXDI), and isophorone diisocyanate (IPDI). Of these, TDI, MDI, IPDI, TMX are preferred.
DI, hydrogenated MDI and HDI.
【0022】HOX2OHで表されるポリカーボネート
ジオールの例としては下記の一般式で表される化合物が
挙げられる。 (ただし、mは1〜200の整数であり、X6は炭素数
2〜12のアルキレン、アリーレン、アラルキレン、お
よびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる2価
の基である。)Examples of the polycarbonate diol represented by HOX 2 OH include compounds represented by the following general formula. (However, m is an integer of 1 to 200, and X 6 is a divalent group selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene, and cycloalkylene having 2 to 12 carbon atoms.)
【0023】上記一般式におけるmは通常1〜200、
好ましくは3〜20の整数である。M in the above general formula is usually from 1 to 200,
Preferably it is an integer of 3 to 20.
【0024】上記一般式におけるX6は炭素数2〜12
のアルキレン、アリーレン、アラルキレンおよびシクロ
アルキレンの基よりなる群から選ばれる2価の基であ
り、使用しうるアルキレン基の例には、メチレン、エチ
レン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレ
ン、へプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウ
ンデシレン、ドデシレン等が挙げられる。アリーレン基
の例にはフェニレン、ナフチレン、アントリレン、フェ
ナントリレン等が挙げられる。アルアルキレンの例に
は、ベンジレン、1−フェニチレン、2−フェニチレ
ン、3−フェニルプロピレン、2−フェニルプロピレ
ン、1−フェニルプロピレンなどが挙げられる。シクロ
アルキレン基の例には、シクロペンチレン、シクロヘキ
シレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン等が挙げ
られる。これらのうち好ましくはエチレン基およびプロ
ピレン基である。X 6 in the above general formula has 2 to 12 carbon atoms.
Alkylene, arylene, aralkylene and a divalent group selected from the group consisting of cycloalkylene, examples of alkylene groups that can be used include methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, heptylene, Octylene, nonylene, decylene, undecylene, dodecylene and the like can be mentioned. Examples of the arylene group include phenylene, naphthylene, anthrylene, phenanthrylene and the like. Examples of aralkylene include benzylene, 1-phenylene, 2-phenylene, 3-phenylpropylene, 2-phenylpropylene, 1-phenylpropylene, and the like. Examples of cycloalkylene groups include cyclopentylene, cyclohexylene, cycloheptylene, cyclooctylene and the like. Of these, an ethylene group and a propylene group are preferred.
【0025】前記一般式(2)におけるX3としては、
該式(2)のX2として例示したものと同一のものが挙
げられ、X2とX3とは同一であっても異なっていてもよ
い。X 3 in the general formula (2) is:
The same as those exemplified as X 2 in the formula (2) can be mentioned, and X 2 and X 3 may be the same or different.
【0026】一般式(2)におけるY1は2価以上の多
価カルボン酸残基であり、Y2は2価カルボン酸残基で
ある。該2価カルボン酸としては、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、
グルタル酸、アジピン酸等が挙げられる。3価以上多価
カルボン酸としてはトリメリット酸、ピリメリット酸等
が挙げられる。これらのうちY1、Y2ともにイソフタル
酸、テレフタル酸およびアジピン酸から選ばれる1種以
上であることがが好ましい。In the general formula (2), Y 1 is a divalent or higher polyvalent carboxylic acid residue, and Y 2 is a divalent carboxylic acid residue. Examples of the dicarboxylic acid include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid,
Glutaric acid, adipic acid and the like can be mentioned. Examples of the trivalent or higher polycarboxylic acid include trimellitic acid and pyrimellitic acid. Among these, it is preferable that both Y 1 and Y 2 are one or more selected from isophthalic acid, terephthalic acid and adipic acid.
【0027】一般式(2)において、mは通常1〜20
0、好ましくは1〜80、特に好ましくは1〜20の整
数である。mが200をこえると粘度が高くなり重合開
始剤(B)の溶解が困難になる。In the general formula (2), m is usually from 1 to 20.
It is an integer of 0, preferably 1 to 80, particularly preferably 1 to 20. When m exceeds 200, the viscosity becomes high and the dissolution of the polymerization initiator (B) becomes difficult.
【0028】一般式(2)おいて、nは通常2〜20
0、好ましくは3〜100、特に好ましくは3〜20の
整数である。nが200を越えると、粘度が高くなり開
始剤(B)の溶解が困難になる。また、n個のR1の少
なくとも2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、
アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。In the general formula (2), n is usually 2 to 20.
It is an integer of 0, preferably 3 to 100, particularly preferably 3 to 20. When n exceeds 200, the viscosity becomes high and the dissolution of the initiator (B) becomes difficult. Further, at least two of the n R 1 groups are a propenyl group, and the rest are hydrogen atoms,
It may be an alkyl, acyl or aryl group.
【0029】次に下記一般式(3)で表されるポリエス
テルオリゴマーについて説明する。 {式中、mは1〜200の整数、nは2〜200の整数
であり、X2はアルキレンまたはアリーレン基であり、
X1は多価アルコール残基である。n個のR1の少なくと
も2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシルまたはアリール基でもよい。}Next, the polyester oligomer represented by the following general formula (3) will be described. 中 wherein, m is an integer of 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, X 2 is an alkylene or an arylene group,
X 1 is a polyhydric alcohol residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【0030】該一般式(3)におけるX1は、前記一般
式(1)で示されたものと同一のものが挙げられ、
X2、mおよびnは、それぞれ前記一般式(2)で示さ
れたものと同一のものが挙げられる。X 1 in the general formula (3) is the same as that represented by the general formula (1).
X 2 , m and n are the same as those represented by the general formula (2).
【0031】次に下記一般式(4)で表されるポリエス
テルオリゴマーについて説明する。 {式中、mは1〜200、nは2〜200の整数であ
り、X2、X3はそれぞれ、HOX2OH、HOX3OHで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、X1は多価アルコール残基である。n個のR1の少な
くとも2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシル又はアリール基でもよい。}Next, the polyester oligomer represented by the following general formula (4) will be described. In the formula, m is an integer of 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, and X 2 and X 3 are an alkylene diol, an arylene diol, a polyether diol, a polyurethane represented by HOX 2 OH and HOX 3 OH, respectively. X 1 is a residue of a diol of either diol or polycarbonate diol, and X 1 is a polyhydric alcohol residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【0032】該一般式(4)におけるX1は、前記一般
式(1)で示されたものと同一のものが挙げられ、
X2、X3、mおよびnは、それぞれ前記一般式(2)で
示されたものと同一のものが挙げられる。X2とX3は同
一であっても異なっていてもよい。X 1 in the general formula (4) is the same as that represented by the general formula (1).
X 2 , X 3 , m and n are the same as those represented by the general formula (2). X 2 and X 3 may be the same or different.
【0033】本発明における(A)におけるプロペニル
エーテル末端基を有するウレタンオリゴマーは下記一般
式(5)で表される化合物である。 {式中、mは0〜200、nは2〜200の整数であ
り、Q1は−OX2O−または−N(R2)−X4−N(R
2)−で表される基であり、Q2は−OX2O−で表され
る基である。X2は、HOX2OHで表されるアルキルジ
オール、アリールジオール、ポリ エーテルジオール、
ポリエステルジオールまたはポリカーボネートジオール
のいずれかのジオールの残基である。−N(R2)−X4
−N(R2)−は、HN(R2)−X4−N(R2)Hで表
されるジアミン残基であり、X4は炭素数2〜12のア
ルキレン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアル
キレン基であり、R2は炭素数2〜12のアルキル、ア
リール、アラルキルまたはシクロアルキル基である。Z
1は多価イソシアネート残基であり、Z2は2価イソシア
ネート残基である。n個のR1の少なくとも2個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルま
たはアリール基でもよい。}The urethane oligomer having a propenyl ether terminal group in (A) in the present invention is a compound represented by the following general formula (5). {Wherein, m is 0 to 200, n is an integer of 2 to 200, Q 1 is -OX 2 O-or -N (R 2) -X 4 -N (R
2 )-and Q 2 is a group represented by -OX 2 O-. X 2 is an alkyl diol, aryl diol, polyether diol represented by HOX 2 OH,
It is a residue of a diol of either polyester diol or polycarbonate diol. -N (R 2) -X 4
—N (R 2 ) — is a diamine residue represented by HN (R 2 ) —X 4 —N (R 2 ) H, and X 4 is alkylene, arylene, aralkylene or cycloalkyl having 2 to 12 carbon atoms. An alkylene group, and R 2 is an alkyl, aryl, aralkyl or cycloalkyl group having 2 to 12 carbon atoms. Z
1 is a polyvalent isocyanate residue, and Z 2 is a divalent isocyanate residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【0034】該一般式(5)において、Z2における2
価イソシアネートとしては前記式(ii)で挙げられた
ものと同一のものが挙げられる。Z1における多価イソ
シアネートとしては上記2価イソシアネートの他にリジ
ンエステルトリイソシアネート、ジイソシアネートの変
性体(イソシアヌレート3量体、ビューレット3量体、
トリメチロールプロパンアダクト体など)、トリフェニ
ルメタントリイソシアネート、ポリフェニルメタンポリ
イソシアネート等が挙げられる。In the general formula (5), 2 in Z 2
Examples of the multivalent isocyanate include the same ones as those described in the above formula (ii). As the polyvalent isocyanate for Z 1, in addition to the above-mentioned divalent isocyanate, lysine ester triisocyanate, modified isocyanate (isocyanurate trimer, buret trimer,
Trimethylolpropane adduct), triphenylmethane triisocyanate, polyphenylmethane polyisocyanate and the like.
【0035】一般式(5)において、Q1は−OX2O−
または−N(R2)−X4−N(R2)−で表される基で
あり、Q2は−OX2O−で表される基である。X2はH
OX2OHで表されるアルキレンジオール、アリ−レン
ジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオー
ルまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオー
ルの残基であり、X2は前記一般式(2)におけるX2と
同一のものが挙げられる。In the general formula (5), Q 1 is —OX 2 O—
Or -N (R 2) -X 4 -N (R 2) - in a group represented, Q 2 is a group represented by -OX 2 O-. X 2 is H
Alkylene diol represented by OX 2 OH, ant - diol, polyether diol, a residue of any of the diol polyester diols or polycarbonate diols, X 2 is the same as X 2 in the general formula (2) Things.
【0036】上記HOX2OHがポリエステルジオール
の場合、下記の(iii)と(iv)との反応生成物が
挙げられる。 (iii) H(OX7)m−OH で表されるジオー
ル(式中、mは1〜200の整数、X7は炭素数2〜1
2のアルキレン、アリーレン、アラルキレン、およびシ
クロアルキレンの基よりなる群から選ばれる2価の基で
ある。) (iv) HOOC−Y3−COOH で表されるジカ
ルボン酸(式中、Y3はアルキレン、アリーレン、アラ
ルキレンおよびシクロアルキレンの基よりなる群から選
ばれる2価の基である。)When the HOX 2 OH is a polyester diol, the following reaction products of (iii) and (iv) can be mentioned. (Iii) H (OX 7) m-OH in the diol represented (wherein, m is an integer of 1 to 200, X 7 is a carbon number 2 to 1
And 2 divalent groups selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene, and cycloalkylene groups. (Iv) Dicarboxylic acid represented by HOOC-Y 3 —COOH (where Y 3 is a divalent group selected from the group consisting of alkylene, arylene, aralkylene and cycloalkylene).
【0037】上記(iii)のジオールにおいてmは通
常1〜200、好ましくは、3〜20の整数である。In the diol of the above (iii), m is usually an integer of 1 to 200, preferably 3 to 20.
【0038】上記(iii)のジオールにおいてX7は
炭素数2〜12のアルキレン、アリーレン、アラルキレ
ンおよびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる
2価の基であり、使用しうるアルキレン基の例には、メ
チレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレ
ン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニレン、
デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等が挙げられる。
アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレン、アント
リレン、フェナントリレン等が挙げられる。アルアルキ
レンの例には、ベンジレン、1−フェニチレン、2−フ
ェニチレン、3−フェニルプロピレン、2−フェニルプ
ロピレン、1−フェニルプロピレンなどが挙げられる。
シクロアルキレン基の例には、シクロペンチレン、シク
ロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン等
が挙げられる。これらのうち好ましくは、エチレン基お
よびプロピレン基である。アルキレン基がの炭素数が1
2を越えると重合開始剤(B)の溶解性が悪くなる。In the diol of the above (iii), X 7 is a divalent group selected from the group consisting of alkylene having 2 to 12 carbon atoms, arylene, aralkylene and cycloalkylene. Is methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, heptylene, octylene, nonylene,
Decylene, undecylene, dodecylene and the like can be mentioned.
Examples of the arylene group include phenylene, naphthylene, anthrylene, phenanthrylene and the like. Examples of aralkylene include benzylene, 1-phenylene, 2-phenylene, 3-phenylpropylene, 2-phenylpropylene, 1-phenylpropylene, and the like.
Examples of cycloalkylene groups include cyclopentylene, cyclohexylene, cycloheptylene, cyclooctylene and the like. Of these, an ethylene group and a propylene group are preferred. The alkylene group has 1 carbon atom
If it exceeds 2, the solubility of the polymerization initiator (B) becomes poor.
【0039】上記(iv)のジカルボン酸の例として
は、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、シュウ
酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ポ
リカルボン酸等が挙げられる。これらのうち好ましいも
のはイソフタル酸、テレフタル酸およびアジピン酸であ
る。X4は、前記一般式(2)におけるX2と同一のもの
が挙げられ、R2は前記一般式(1)中のAで示された
ものと同一のものが挙げられ、mおよびnは前記一般式
(2)で示されたものと同一のものが挙げられる。Examples of the dicarboxylic acid (iv) include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, polycarboxylic acid and the like. Preferred among these are isophthalic acid, terephthalic acid and adipic acid. X 4 is the same as X 2 in the general formula (2), R 2 is the same as A shown in the general formula (1), and m and n are The same as those represented by the general formula (2) can be mentioned.
【0040】本発明の(A)におけるプロペニルエーテ
ル末端基を有するモノマーは下記一般式(6)または一
般式(7)で表される化合物である。 X1[−O−R1]n (6) {式中、nは2〜200の整数であり、X1は多価アル
コール残基である。n個のR1の少なくとも2個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルま
たはアリール基でもよい。}The monomer having a propenyl ether terminal group in (A) of the present invention is a compound represented by the following general formula (6) or (7). X 1 [—O—R 1 ] n (6) In the formula, n is an integer of 2 to 200, and X 1 is a polyhydric alcohol residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
【0041】該一般式(6)において、nは通常2〜2
00、好ましくは2〜6の整数である。nが200を超
えると粘度が高くハンドリングが悪くなる。X1は前記
一般式(1)で示したものと同一のものが挙げられる。In the general formula (6), n is usually 2 to 2
00, preferably an integer of 2 to 6. If n exceeds 200, the viscosity is high and the handling becomes poor. X 1 is the same as that shown in the general formula (1).
【0042】 {式中、nは2〜200の整数、X2はHOX2OHで表
されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリ
エーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカ
ーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、Y1は多価カルボン酸残基である。n個のR1の少な
くとも2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシルまたはアリール基でもよい。} 該一般式(7)において、nは通常2〜200、好まし
くは2〜6の整数である。nが200を超えると粘度が
高くハンドリングが悪くなる。Y1およびX2は前記一般
式(2)で示されたものと同一のものが挙げられる。[0042] In the formula, n is an integer of 2 to 200, X 2 is a residue of any one of alkylene diol, arylene diol, polyether diol, polyurethane diol and polycarbonate diol represented by HOX 2 OH, and Y 1 Is a polyvalent carboxylic acid residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups.に お い て In the general formula (7), n is an integer of usually 2 to 200, preferably 2 to 6. If n exceeds 200, the viscosity is high and the handling becomes poor. Y 1 and X 2 are the same as those represented by the general formula (2).
【0043】本発明において使用される光カチオン重合
開始剤(B)としては、公知の光カチオン重合開始剤が
使用できる。該(B)の具体例としては、トリフェニル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェ
ニルスルホニウムホスフェート、p−(フェニルチオ)
フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチ
モネート、p−(フェニルチオ)フェニルジフェニルス
ルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4−クロルフ
ェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェ
ート、4−クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロアンチモネート、ビス[4−ジフェニル−ス
ルフォニオ)フェニル]スルフィド−ビス−ヘキサフル
オロフォスフェート、ビス[4−ジフェニル−スルフォ
ニオ)フェニル]スルフィド‐ビス‐ヘキサフルオロア
ンチモネート、(2、4−シクロペンタジエン−1−イ
ル)[(1−メチルエチル)ベンゼン]−Fe−ヘキサ
フルオロホスフェート等を挙げることができる。これら
は市場より容易に入手することができる。市販品の例と
しては、旭電化(株)製の「SP−150」、「SP−
170」;チバ・ガイギー社製の「イルガキュアー26
1」;ユニオンカーバイド社製の「UVR−697
4」、「UVR−6990」等を挙げることができる。As the cationic photopolymerization initiator (B) used in the present invention, known cationic photopolymerization initiators can be used. Specific examples of (B) include triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium phosphate, p- (phenylthio)
Phenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate, p- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4-chlorophenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4-chlorophenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate, bis [4-diphenyl-sulfonio) phenyl Sulfide-bis-hexafluorophosphate, bis [4-diphenyl-sulfonio) phenyl] sulfide-bis-hexafluoroantimonate, (2,4-cyclopentadien-1-yl) [(1-methylethyl) benzene] -Fe-hexafluorophosphate and the like. These are readily available from the market. Examples of commercially available products include “SP-150” and “SP-150” manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.
170 ";" Irgacure 26 "manufactured by Ciba Geigy
"UVR-697" manufactured by Union Carbide
4 "," UVR-6990 "and the like.
【0044】本発明において組成物の粘度を調節する目
的で必要により反応性希釈剤(C)を使用できる。In the present invention, a reactive diluent (C) can be used if necessary for the purpose of adjusting the viscosity of the composition.
【0045】該(C)としては、下記一般式(8)で表
される化合物が挙げられる。 CH3−CH=CH−O−X2−O−R3 (8) {式中、X2は、HOX2OHで表されるアルキレンジオ
ール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポ
リウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールの
いずれかのジオールの残基であり、R3は炭素数が2〜
12のアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキ
ル基または水素原子である。}As the compound (C), a compound represented by the following general formula (8) can be mentioned. CH 3 —CH = CH—O—X 2 —O—R 3 (8) wherein X 2 is an alkylene diol, arylene diol, polyether diol, polyurethane diol or polycarbonate diol represented by HOX 2 OH R 3 is a residue of any diol, and R 3 has 2 to 2 carbon atoms.
12 alkyl, aryl, aralkyl, cycloalkyl groups or hydrogen atoms. }
【0046】上記一般式(8)におけるX2は、前記一
般式(2)で示されたものと同一のものが挙げられ、R
3は炭素数が2〜12のアルキル、アリール、アラルキ
ル、シクロアルキル基または水素原子である。X 2 in the above general formula (8) is the same as that represented by the above general formula (2).
3 is an alkyl, aryl, aralkyl, cycloalkyl group or hydrogen atom having 2 to 12 carbon atoms.
【0047】本発明において(A):(B)の使用割合
は重量比で通常(95〜99.9):(0.01〜
5)、好ましくは(96〜98):(2〜4)である。
(B)の比率が0.05未満では十分な重合開始効果が
得られず、5を越えて使用しても硬化速度の更なる向上
効果はなく不経済である。In the present invention, the weight ratio of (A) :( B) is usually (95-99.9) :( 0.01-
5), preferably (96-98): (2-4).
If the ratio of (B) is less than 0.05, a sufficient effect of initiating polymerization cannot be obtained, and if it exceeds 5, the effect of further improving the curing speed is uneconomical.
【0048】反応性希釈剤(C)を用いる場合の該
(C)の量は、(A)と(B)の合計重量に対して通常
5〜60重量%、好ましくは10〜30重量%である。
(C)の量が60重量%を越えると、硬化速度が低下す
る。When the reactive diluent (C) is used, the amount of the (C) is usually 5 to 60% by weight, preferably 10 to 30% by weight based on the total weight of (A) and (B). is there.
When the amount of (C) exceeds 60% by weight, the curing speed decreases.
【0049】本発明の組成物には必要により公知の光ラ
ジカル重合性組成物(D)を含有させることができる。
該(D)の量は、本発明の組成物100重量部あたり、
通常0〜100重量部、好ましくは0〜40重量部であ
る。If necessary, the composition of the present invention may contain a known photo-radical polymerizable composition (D).
The amount of (D) is per 100 parts by weight of the composition of the present invention,
It is usually 0 to 100 parts by weight, preferably 0 to 40 parts by weight.
【0050】本発明の組成物には、更に必要に応じて、
公知のエポキシ樹脂(ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、テトラブロモビ
スフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ
樹脂等)、顔料、着色剤、無機充填剤、非反応樹脂(ロ
ジン誘導体など)、レベリング剤、帯電防止剤、有機溶
剤、その他各種添加剤等を含有させることができる。The composition of the present invention may further comprise, if necessary,
Known epoxy resins (bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, tetrabromobisphenol A type epoxy resin, novolak type epoxy resin, etc.), pigments, colorants, inorganic fillers, non-reactive resins (rosin derivatives, etc.), A leveling agent, an antistatic agent, an organic solvent, and other various additives can be contained.
【0051】本発明の組成物からなる床材用光カチオン
硬化型被覆剤は、例えばシート状またはタイル状の塩ビ
基材に塗布後、UV等の光エネルギーを照射することに
より高速に硬化し、密着性、耐汚染性等に優れた皮膜を
形成する。また、光硬化に際して従来の光ラジカル硬化
型のように酸素による硬化阻害を受けることがなく、さ
らに硬化時の収縮がほとんどないので被覆時の反りが極
めて小さい。The cationic photocurable coating material for flooring made of the composition of the present invention is applied to, for example, a sheet-like or tile-like vinyl chloride base material and then cured at high speed by irradiation with light energy such as UV. Forms a film with excellent adhesion, stain resistance, etc. In addition, unlike the conventional radical photocuring type, photocuring does not cause curing inhibition due to oxygen, and there is almost no shrinkage during curing, so that warpage during coating is extremely small.
【0052】本発明の組成物が適用される床材基材は、
硬質、半硬質、軟質または発泡体のいずれであってもよ
い。基材への塗布方法については特に限定はなく、公知
の方法(ロールコート、グラビアコート、ナイフコー
ト、カーテンコート、スプレーコートなど)を用いるこ
とができる。また、使用できる光としては高圧水銀ラン
プ、メタルハライドランプ、低圧水銀ランプ等から放出
されるUVなどを挙げることができる。The flooring substrate to which the composition of the present invention is applied includes:
It may be any of hard, semi-rigid, soft or foam. There is no particular limitation on the method of coating the substrate, and a known method (roll coating, gravure coating, knife coating, curtain coating, spray coating, etc.) can be used. Examples of light that can be used include UV emitted from a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a low-pressure mercury lamp, and the like.
【0053】[0053]
【実施例】以下、実施例を以て本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、配
合組成欄の数値は重量部である。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. The numerical values in the composition column are parts by weight.
【0054】実施例1〜6、比較例1〜3 表1に示した配合処方で調製した液状組成物を、厚さ1
mmの軟質塩ビシートの表面に70μmの厚さに塗布
し、下記評価方法および評価基準にしたがい、光反応
性、密着性および耐汚染性の評価をおこなった。得られ
た評価結果を表1に示す。 光反応性:組成物塗布面に、紫外線(UV)を所定量照
射して硬化性を観察した。硬化性は、一定エネルギー量
のUVを照射後の被覆面を綿棒でこすり、未硬化物の綿
への付着の程度により下記基準で評価した。 評価基準; ○ 表面完全硬化(タックフリー) △ 表面未硬化部分多少あり × 表面未硬化 密着性 :900mJ/cm2のUVを照射して得た被
覆シート(床材)を、被覆面を外側にして180゜に折
り曲げ、被覆剤層の剥離およびひび割れの有無で評価し
た。 評価基準; ○ 異常なし × 剥離またはひび割れあり 耐汚染性:上記密着性試験に用いたものと同じ被覆シー
トの被覆面に、黒のマジックインキで印をつけ、24時
間後にエタノールを含ませたガーゼで拭き取った後の汚
染の程度で評価した。 Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 Liquid compositions prepared according to the formulation shown in Table 1
It was applied to the surface of a soft PVC sheet having a thickness of 70 μm to a thickness of 70 μm, and the photoreactivity, adhesion and stain resistance were evaluated according to the following evaluation methods and evaluation criteria. Table 1 shows the obtained evaluation results. Photoreactivity: Curing property was observed by irradiating a predetermined amount of ultraviolet rays (UV) to the surface coated with the composition. The curability was evaluated according to the following criteria based on the degree of adhesion of the uncured product to cotton by rubbing the coated surface after irradiation with UV of a certain energy amount with a cotton swab. Evaluation criteria: ○ Surface completely cured (tack-free) △ Some surface uncured part × Surface uncured Adhesion: Covered sheet (floor material) obtained by irradiating 900 mJ / cm 2 UV with the coated surface facing outside The coating was evaluated by the presence or absence of peeling and cracking of the coating layer. Evaluation criteria: ○ No abnormality × Peeling or cracking Stain resistance: Gauze that was marked with black magic ink on the coated surface of the same coated sheet as that used in the above adhesion test, and was allowed to contain ethanol after 24 hours And the degree of contamination after wiping was evaluated.
【0055】[0055]
【表1】 [Table 1]
【0056】表1に示した配合に用いた化合物は以下の
通りである。なお、CH3−CH=CH−基(プロペニ
ル基)はPrと略す。 プロペニルエーテル末端基化合物(1): Pr−O−(CH2CH2O)12−Pr プロペニルエーテル末端基化合物(2): (Y:テレフタル酸残基) プロペニルエーテル末端基化合物(3): (X:トリエチレングリコール残基) (Z:4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート残
基) プロペニルエーテル末端基化合物(4): (X:トリエチレングリコール残基) プロペニルエーテル末端基化合物(5): R[O−(CH2CH2O)12−Pr]3 (R:グリセリン残基) プロペニルエーテル末端基化合物(6): (X1:トリエチレングリレリン残基) (Y:テレフタル酸残基) (X2:次式のポリウレタンジオールの残基) (Z:4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート残
基) アクリレート末端基化合物(7): エポキシ末端基化合物(8):「エピコート828」
(油化シェル社製、ビスフェノール型エポキシ樹脂) 脂環式エポキシ末端基化合物(9):「ERL−422
1」(ユニオンカーバイド社製、脂環式エポキシ樹脂) 反応性希釈剤(10):Pr−O−CH2CH2−OH 反応性希釈剤(11):2−ヒドロキエチルアクリレー
ト 反応性希釈剤(12):「BRL−4206」(ユニオ
ンカーバイド社製、脂環式エポキシ樹脂希釈剤) 光カチオン重合触媒(13):「UVR−6974」
{p−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウ
ムヘキサフルオロアンチモネートとビス[4−(ジフェ
ニルスルフォニオ)フェニル]スルフィドビスヘキサフ
ルオロアンチモネートの混合物の50%エチレンカーボ
ネート溶液、ユニオンカーバイド社製} 光ラジカル重合触媒(14):「イルガキュアー18
4」(チバガイギー社製)The compounds used in the formulations shown in Table 1 are as follows. The CH 3 —CH = CH— group (propenyl group) is abbreviated as Pr. Propenyl ether end groups Compound (1): Pr-O- ( CH 2 CH 2 O) 12 -Pr propenyl ether end groups of compound (2): (Y: Terephthalic acid residue) Propenyl ether terminal group compound (3): (X: triethylene glycol residue) (Z: 4,4'-diphenylmethane diisocyanate residue) Propenyl ether terminal group compound (4): (X: triethylene glycol residue) Propenyl ether terminal group compound (5): R [O- (CH 2 CH 2 O) 12 -Pr] 3 (R: glycerin residue) propenyl ether terminal group compound (6): (X 1 : triethylene glycerin residue) (Y: terephthalic acid residue) (X 2 : polyurethane diol residue of the following formula) (Z: 4,4′-diphenylmethane diisocyanate residue) Acrylate terminal compound (7): Epoxy terminal compound (8): "Epicoat 828"
(Bisphenol type epoxy resin manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) Alicyclic epoxy terminal group compound (9): "ERL-422
1 "(manufactured by Union Carbide Corporation, alicyclic epoxy resins) reactive diluent (10): Pr-O- CH 2 CH 2 -OH reactive diluent (11): 2-hydroxyethyl acrylate reactive diluent ( 12): "BRL-4206" (manufactured by Union Carbide Co., Ltd., alicyclic epoxy resin diluent) Photocationic polymerization catalyst (13): "UVR-6974"
<< 50% ethylene carbonate solution of a mixture of p- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate and bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide bishexafluoroantimonate, manufactured by Union Carbide Co., Ltd. (14): “Irgacure 18
4 "(made by Ciba-Geigy)
【0057】[0057]
【発明の効果】本発明のプロペニルエーテル末端基を有
する化合物を含む光カチオン硬化型の床材用被覆剤組成
物は、従来のラジカル重合型のアクリレート系のものよ
りも表面硬化性が良く、基材との密着性および耐汚染性
が優れるという効果を有する。また、従来公知のエポキ
シ系UVカチオン硬化型樹脂を用いたものに比べても高
速硬化性である。上記効果を奏することから、本発明の
光カチオン硬化型被覆剤組成物は、特に塩ビ床材用の無
溶剤系被覆剤として極めて有用である。The photocationically curable floor covering coating composition containing a compound having a propenyl ether terminal group according to the present invention has better surface curability than conventional radical polymerization type acrylate-based ones, This has the effect of providing excellent adhesion to materials and stain resistance. In addition, it has a high-speed curing property as compared with those using a conventionally known epoxy UV cation curing resin. Because of the above effects, the photocationically curable coating composition of the present invention is extremely useful as a solventless coating, especially for PVC flooring.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 米国特許5334772(US,A) “J.Macromol.Sci., Pure Appl.Chem.”, 1994年,A31(12),p.1927−1941 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C09D 4/00 C08F 299/06 C09D 167/07 C09D 175/16 CA(STN) CAOLD(STN) REGISTRY(STN)────────────────────────────────────────────────── (5) References US Pat. No. 5,334,772 (US, A) “J. Macromol. Sci., Pure Appl. Chem.”, 1994, A31 (12), p. 1927-1941 (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C09D 4/00 C08F 299/06 C09D 167/07 C09D 175/16 CA (STN) CAOLD (STN) REGISTRY (STN)
Claims (8)
テル末端基を有する(ポリ)エーテルオリゴマー、プロ
ペニルエーテル末端基を有するポリエステルオリゴマ
ー、プロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリゴ
マーおよび一般式(6)、一般式(6’)または一般式
(7)で表されるプロペニルエーテル末端基を有するモ
ノマーの群から選ばれる分子内に少なくとも2個のプロ
ペニルエーテル末端基を有する化合物(A)の1種以
上、並びに光カチオン重合開始剤(B)を必須成分とす
ることを特徴とする塩ビ床材用光硬化型被覆剤組成物。 【化1】 X1[−O−(AO)m−R1]n (1) {式中、nは3〜200の整数であり、n個のmは0〜
200の整数であり、mの少なくとも1個は1以上であ
る。n個のR1の少なくとも2個はプロペニル基であ
り、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール
基でもよい。Aは炭素数2〜12のアルキレン、アリー
レン、アラルキレンまたはシクロアルキレン基であり、
mが2以上の場合のAは同一でも異なっていてもよく、
(AO)m部分はランダム付加でもブロック付加でもよ
い。X1は多価アルコール残基である。} 【化2】 X1[−O−R1]n (6) {式中、nは2〜200の整数であり、X1は、ポリグ
リセリン(グリセリンの2〜18量体)の残基である。
n個のR1の少なくとも2個はプロペニル基であり、残
りはアルキル、アシルまたはアリール基でもよい。} 【化3】 X1[−O−R1]n (6’) {式中、nは2〜200の整数であり、X1は、トリメ
チロールアルカンの2〜3量体の残基である。n個のR
1の少なくとも2個はプロペニル基であり、残りは水素
原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。} 【化4】 Y1[−CO−X2O−R1]n (7) ‖ O {式中、nは2〜200の整数、X2は、HOX2OHで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、Y1は多価カルボン酸残基である。n個のR1の少な
くとも2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシルまたはアリール基でもよい。}1. A (poly) ether oligomer having a propenyl ether terminal group, a polyester oligomer having a propenyl ether terminal group, a urethane oligomer having a propenyl ether terminal group represented by the general formula (1), and a compound represented by the general formula (6): At least one compound (A) having at least two propenyl ether terminal groups in a molecule selected from the group of monomers having a propenyl ether terminal group represented by the general formula (6 ′) or (7), And a photocurable coating composition for PVC flooring, comprising a cationic photopolymerization initiator (B) as an essential component. X 1 [—O— (AO) m—R 1 ] n (1) In the formula, n is an integer of 3 to 200, and n m is 0 to
An integer of 200, and at least one of m is 1 or more. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. A is an alkylene having 2 to 12 carbon atoms, arylene, aralkylene or cycloalkylene group,
When m is 2 or more, A may be the same or different,
The (AO) m portion may be random addition or block addition. X 1 is a polyhydric alcohol residue. X 1 [—OR 1 ] n (6) wherein n is an integer of 2 to 200, and X 1 is a residue of polyglycerin (2 to 18 mer of glycerin) It is.
At least two of the n R 1 are propenyl groups, and the rest may be alkyl, acyl or aryl groups. X 1 [—O—R 1 ] n (6 ′) wherein n is an integer of 2 to 200, and X 1 is a residue of a trimer of trimethylolalkane. is there. n R
At least two of 1 are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. } Embedded image Y 1 [—CO—X 2 O—R 1 ] n (7) ‖ In the formula, n is an integer of 2 to 200, and X 2 is a residue of any one of alkylene diol, arylene diol, polyether diol, polyurethane diol and polycarbonate diol represented by HOX 2 OH, Y 1 is a polyvalent carboxylic acid residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
エステルオリゴマーが下記一般式(2)、一般式
(3)、または一般式(4)で表されるオリゴマーであ
る請求項1記載の組成物。 【化5】 Y1[−CO−(X2O−CY2C−O)m−X3O−R1]n (2) ‖ ‖ ‖ O O O {式中、mは1〜200の整数、nは2〜200の整数
であり、X2、X3はそれぞれHOX2OH、HOX3OH
で表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、
ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポ
リカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基で
あり、Y1は多価カルボン酸残基であり、Y2は2価カル
ボン酸残基である。n個のR1の少なくとも2個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシル又
はアリール基でもよい。} 【化6】 X1[−O−(CX2O)m−R1]n (3) ‖ O {式中、mは1〜200の整数、nは2〜200の整数
であり、X2はアルキレンまたはアリーレン基であり、
X1は多価アルコール残基である。n個のR1の少なくと
も2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシルまたはアリール基でもよい。} 【化7】 X1[−(OX2OC)m−OX3O−R1]n (4) ‖ O {式中、mは1〜200、nは2〜200の整数であ
り、X2、X3はそれぞれ、HOX2OH、HOX3OHで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、X1は多価アルコール残基である。n個のR1の少な
くとも2個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシル又はアリール基でもよい。}2. The composition according to claim 1, wherein the polyester oligomer having a propenyl ether terminal group is an oligomer represented by the following general formula (2), (3) or (4). Embedded image Y 1 [—CO— (X 2 O—CY 2 C—O) m—X 3 O—R 1 ] n (2) ‖ ‖ ‖ O O O {In the formula, m is an integer of 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, and X 2 and X 3 are HOX 2 OH and HOX 3 OH, respectively.
Represented by an alkylene diol, arylene diol,
Polyether diol, a residue of any of the diols of the polyurethane diols or polycarbonate diols, Y 1 is a polyvalent carboxylic acid residue, Y 2 is a divalent carboxylic acid residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. } Embedded image X 1 [—O— (CX 2 O) m—R 1 ] n (3) ‖ In the formula, m is an integer of 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, X 2 is an alkylene or an arylene group,
X 1 is a polyhydric alcohol residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. } Embedded image X 1 [-(OX 2 OC) m-OX 3 O-R 1 ] n (4) ‖ In the formula, m is an integer of 1 to 200, n is an integer of 2 to 200, and X 2 and X 3 are respectively HOX 2 OH, alkylene diol represented by HOX 3 OH, arylene diol, polyether diol, X 1 is a residue of a diol of either polyurethane diol or polycarbonate diol, and X 1 is a polyhydric alcohol residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
タンオリゴマーが下記一般式(5)で表されるオリゴマ
ーである請求項1記載の組成物。 【化8】 Z1[−N−C−(Q1−C−NZ2N−C)m−Q2−R1]n (5) | ‖ ‖ | | ‖ H O O H H O {式中、mは0〜200、nは2〜200の整数であ
り、Q1は−OX2O−または−N(R2)−X4−N(R
2)−で表される基であり、Q2は−OX2O−で表され
る基である。X2は、HOX2OHで表されるアルキルジ
オール、アリールジオール、ポリエーテルジオール、ポ
リエステルジオールまたはポリカーボネートジオールの
いずれかのジオールの残基である。−N(R2)−X4−
N(R2)−はHN(R2)−X4−N(R2)Hで表され
るジアミン残基であり、X4は炭素数2〜12のアルキ
レン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキレ
ン基であり、R2は炭素数2〜12のアルキル、アリー
ル、アラルキルまたはシクロアルキル基である。Z1は
多価イソシアネート残基であり、Z2は2価イソシアネ
ート残基である。n個のR1の少なくとも2個はプロペ
ニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまた
はアリール基でもよい。}3. The composition according to claim 1, wherein the urethane oligomer having a propenyl ether terminal group is an oligomer represented by the following general formula (5). Embedded image Z 1 [-NC- (Q 1 -C-NZ 2 NC) m-Q 2 -R 1 ] n (5) | ‖ | | | ‖ H O O H During H O {wherein, m is 0 to 200, n is an integer of 2 to 200, Q 1 is -OX 2 O-or -N (R 2) -X 4 -N (R
2 )-and Q 2 is a group represented by -OX 2 O-. X 2 is a residue of any one of alkyl diol, aryl diol, polyether diol, polyester diol and polycarbonate diol represented by HOX 2 OH. -N (R 2) -X 4 -
N (R 2 ) — is a diamine residue represented by HN (R 2 ) —X 4 —N (R 2 ) H, and X 4 is an alkylene, arylene, aralkylene or cycloalkylene group having 2 to 12 carbon atoms. R 2 is an alkyl, aryl, aralkyl or cycloalkyl group having 2 to 12 carbon atoms Z 1 is a polyvalent isocyanate residue, and Z 2 is a divalent isocyanate residue. At least two of the n R 1 groups are propenyl groups, and the rest may be hydrogen atoms, alkyl, acyl or aryl groups. }
9.9):(0.01〜5)である請求項1〜3のいず
れか記載の組成物。4. The weight ratio of (A) :( B) is (95-9)
9.9): The composition according to any one of claims 1 to 3, which is (0.01 to 5).
なり、(C)の含量が、(A)と(B)の合計重量に対
して5〜60重量%である請求項1〜4のいずれか記載
の組成物。5. The method according to claim 1, further comprising a reactive diluent (C), wherein the content of (C) is 5 to 60% by weight based on the total weight of (A) and (B). 5. The composition according to any of 4.
応性希釈剤である請求項5記載の組成物。 【化9】 CH3−CH=CH−O−X2−O−R3 (8) {式中、X2は、HOX2OHで表されるアルキレンジオ
ール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポ
リウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールの
いずれかのジオールの残基であり、R3は炭素数が2〜
12のアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキ
ル基または水素原子である。}6. The composition according to claim 5, wherein (C) is a reactive diluent represented by the following general formula (8). CH 3 —CH = CH—O—X 2 —O—R 3 (8) wherein X 2 is an alkylene diol, arylene diol, polyether diol, or polyurethane diol represented by HOX 2 OH Or a residue of any diol of polycarbonate diol, wherein R 3 has 2 to 2 carbon atoms.
12 alkyl, aryl, aralkyl, cycloalkyl groups or hydrogen atoms. }
に、さらにエポキシ樹脂を含有させてなる塩ビ床材用光
硬化型被覆剤組成物。7. A photocurable coating composition for PVC flooring, wherein the composition according to claim 1 further contains an epoxy resin.
ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、カーテ
ンコート又はスプレーコートで塗布後、塗布面に光を照
射して硬化させる塩ビ床材の製造方法。8. A PVC flooring material which is obtained by applying the composition according to claim 1 by roll coating, gravure coating, knife coating, curtain coating or spray coating, and then irradiating the coated surface with light to cure the floor. Production method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7323790A JP3060089B2 (en) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | Photocurable coating composition for flooring |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7323790A JP3060089B2 (en) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | Photocurable coating composition for flooring |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09137079A JPH09137079A (en) | 1997-05-27 |
| JP3060089B2 true JP3060089B2 (en) | 2000-07-04 |
Family
ID=18158650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7323790A Expired - Fee Related JP3060089B2 (en) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | Photocurable coating composition for flooring |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3060089B2 (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5334772A (en) | 1989-10-04 | 1994-08-02 | Isp Investments Inc. | Polyalk-1-enyl ethers |
-
1995
- 1995-11-17 JP JP7323790A patent/JP3060089B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5334772A (en) | 1989-10-04 | 1994-08-02 | Isp Investments Inc. | Polyalk-1-enyl ethers |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| "J.Macromol.Sci.,Pure Appl.Chem.",1994年,A31(12),p.1927−1941 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09137079A (en) | 1997-05-27 |
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