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JP3067657B2 - Method of manufacturing gas discharge display panel - Google Patents
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JP3067657B2 - Method of manufacturing gas discharge display panel - Google Patents

Method of manufacturing gas discharge display panel

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JP3067657B2
JP3067657B2 JP27998096A JP27998096A JP3067657B2 JP 3067657 B2 JP3067657 B2 JP 3067657B2 JP 27998096 A JP27998096 A JP 27998096A JP 27998096 A JP27998096 A JP 27998096A JP 3067657 B2 JP3067657 B2 JP 3067657B2
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ridge
barrier rib
shaped
phosphor
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文男 中島
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Okaya Electric Industry Co Ltd
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  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、放電セル内の放
電生成によって発生した紫外線で蛍光体を励起させ、以
て所望の表示色を実現するガス放電表示パネルの製造方
法に係り、特に、蛍光体の被着方法に特徴を有してい
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a gas discharge display panel which excites a phosphor with ultraviolet rays generated by the generation of electric discharge in a discharge cell, thereby realizing a desired display color. It is characterized by the method of attaching the body.

【0002】[0002]

【従来の技術】図12に示すように、従来のガス放電表
示パネル60は、例えば平板ガラス等の絶縁材よりなる背
面基板12と、同じく平板ガラス等の透明絶縁材よりなる
前面基板14とを、所定の間隙を隔てて対向配置し、両基
板周縁を低融点ガラス等の図示しない封着材によって気
密封止して外囲器16を形成し、該外囲器16の内部空間に
紫外線放射ガスを主体とした放電ガスを封入することを
基本構成とする。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 12, a conventional gas discharge display panel 60 includes a rear substrate 12 made of an insulating material such as a flat glass and a front substrate 14 also made of a transparent insulating material such as a flat glass. Are disposed opposite each other with a predetermined gap therebetween, and the peripheral edges of both substrates are hermetically sealed with a sealing material (not shown) such as low-melting glass to form an envelope 16, and ultraviolet radiation is emitted to the internal space of the envelope 16. The basic configuration is to fill a discharge gas mainly composed of gas.

【0003】上記背面基板12の対向面には、Ag・Pd
系ペースト等よりなる帯状の陰極引出パターン18が、所
定の間隔をおいて複数本並設されている。また、各陰極
引出パターン18の上面には、GdB6とBaAl24
約2:1の比率で混合したエミッタ物質よりなる柱状陰
極62が、一定の間隔をおいて複数本立設されている。こ
の柱状陰極62は、円筒状の基端部62aが、背面基板12の
対向面上を覆う陰極保持層64内に埋没していると共に、
略半球状の先端部62bは、該陰極保持層64外に突出して
いる。この陰極保持層64は、ガラス等の絶縁材によって
構成されている。
[0003] Ag · Pd
A plurality of strip-shaped cathode extraction patterns 18 made of a system paste or the like are arranged side by side at predetermined intervals. On the upper surface of each cathode extraction pattern 18, a plurality of columnar cathodes 62 made of an emitter material in which GdB 6 and BaAl 2 O 4 are mixed at a ratio of about 2: 1 are erected at regular intervals. . The columnar cathode 62 has a cylindrical base end portion 62a buried in a cathode holding layer 64 covering the opposing surface of the back substrate 12, and
The substantially hemispherical tip portion 62b projects outside the cathode holding layer 64. The cathode holding layer 64 is made of an insulating material such as glass.

【0004】この陰極保持層64の表面には、バリアリブ
66が形成されている。このバリアリブ66は、ガラス等の
絶縁材よりなり、各柱状陰極62を取り囲む孔部66aが複
数形成されている。この孔部66aは、その下方(陰極保
持層64側)から上方(前面基板14側)に向けて孔径が徐
々に拡大するよう形成された、いわゆる漏斗形状をなし
ており、この孔部66a内の略中央に柱状陰極の先端部62
bが収容されている。バリアリブ66は、陰極保持層64の
表面に密着した第1の層68と、順次積層された第2の層
70及び第3の層72よりなる3層構造を備えており、各層
にはそれぞれ孔径の異なる貫通孔が形成されている。そ
して、最も孔径の小さい第1の層の貫通孔68a、次に孔
径の小さい第2の層の貫通孔70a、最も孔径の大きい第
3の層の貫通孔72aが、それぞれ同心円状に連続するよ
う位置決めされ、もって孔径が下方から上方に向けて徐
々に拡大するバリアリブの孔部66aが形成される。この
バリアリブの孔部66aの内面と、陰極保持層64の表面
(柱状陰極62の付根周辺)には、所望の発光色に対応し
た蛍光体24が所定の厚さで被着されている。
On the surface of the cathode holding layer 64, barrier ribs are provided.
66 are formed. The barrier rib 66 is made of an insulating material such as glass, and has a plurality of holes 66a surrounding each of the columnar cathodes 62. The hole 66a has a so-called funnel shape in which the hole diameter is gradually increased from below (the side of the cathode holding layer 64) to above (the side of the front substrate 14). At the approximate center of the tip of the columnar cathode 62
b is accommodated. The barrier rib 66 includes a first layer 68 in close contact with the surface of the cathode holding layer 64 and a second layer
It has a three-layer structure consisting of a third layer 72 and a third layer 72, and through-holes having different hole diameters are formed in each layer. Then, the through hole 68a of the first layer having the smallest hole diameter, the through hole 70a of the second layer having the next smallest hole diameter, and the through hole 72a of the third layer having the largest hole diameter are concentrically continuous. The hole portion 66a of the barrier rib is formed, and the hole diameter of the barrier rib is gradually increased from below to above. On the inner surface of the hole 66a of the barrier rib and on the surface of the cathode holding layer 64 (around the base of the columnar cathode 62), a phosphor 24 corresponding to a desired emission color is applied with a predetermined thickness.

【0005】上記前面基板14の対向面には、NESA膜
(SnO2)やITO膜(In23・SnO2)等よりな
る帯状の透明陽極28が、所定の間隔をおいて複数本並設
されている。上記した各柱状陰極の先端部62bは、所定
の間隙を隔てて透明陽極28と対向しており、この柱状陰
極62と透明陽極28との対向部分毎に、バリアリブの孔部
66aによって区画された放電セル74が形成されている。
上記バリアリブ66の上面には、ガラス等の絶縁材よりな
る複数のスペーサ26が配置されている。各スペーサ26の
端面は、前面基板14の対向面に当接しているため、前面
基板14とバリアリブ66との間には、スペーサ26の高さに
相当する隙間32が形成されている。
A plurality of strip-shaped transparent anodes 28 made of a NESA film (SnO 2 ), an ITO film (In 2 O 3 .SnO 2 ) or the like are arranged on the opposite surface of the front substrate 14 at predetermined intervals. Has been established. The tip 62b of each of the above-mentioned columnar cathodes faces the transparent anode 28 with a predetermined gap therebetween, and a hole of a barrier rib is provided for each facing portion of the columnar cathode 62 and the transparent anode 28.
A discharge cell 74 defined by 66a is formed.
A plurality of spacers 26 made of an insulating material such as glass are arranged on the upper surface of the barrier rib 66. Since the end face of each spacer 26 is in contact with the facing surface of the front substrate 14, a gap 32 corresponding to the height of the spacer 26 is formed between the front substrate 14 and the barrier rib 66.

【0006】しかして、図示しない電源より透明陽極28
及び柱状陰極62間に直流電圧を印加すると、放電セル74
内で放電が生成し、紫外線が発生する。この紫外線が放
電セル74内の蛍光体24を励起し、所定の発光色を有する
光が透明陽極28及び前面基板14を透過して外部に放射さ
れる。この電圧印加を、図示しない制御・駆動回路を介
して選択的に実行することにより、所望の放電セル74に
おいて放電発光を生成させ、前面基板14上に任意の文字
や図形を表示することができる。
However, a transparent anode 28 is supplied from a power source (not shown).
When a DC voltage is applied between the columnar cathode 62 and the
A discharge is generated in the inside, and ultraviolet rays are generated. The ultraviolet light excites the phosphor 24 in the discharge cell 74, and light having a predetermined emission color is emitted to the outside through the transparent anode 28 and the front substrate 14. By selectively executing this voltage application via a control / drive circuit (not shown), discharge light emission is generated in a desired discharge cell 74, and an arbitrary character or figure can be displayed on the front substrate 14. .

【0007】この際、柱状陰極の先端部62bは、その頂
点のみならず側周面も放電に関与することとなる。した
がって、放電によって発生した紫外線は、バリアリブの
内面のみならず、陰極保持層64の表面に被着された蛍光
体24にも遍く照射されることとなり、平面状の非突出型
陰極を用いた場合に比べてより高輝度な表示が可能とな
る。また、各放電セル74を区画するバリアリブ66の孔部
66aが、下方から上方に向かって孔径が徐々に拡大する
形状をなしており、放電により生じた光はこの孔部66a
の内面で反射されて前面基板14側に集光されるため、極
めて高輝度な表示が可能となる。さらに、柱状陰極の先
端部62bが半球状に湾曲しているため、表面の電界強度
が均一化し、放電特性が安定化する利点もある。
At this time, not only the apex but also the side peripheral surface of the tip portion 62b of the columnar cathode participates in the discharge. Therefore, the ultraviolet light generated by the discharge is uniformly irradiated not only on the inner surface of the barrier rib but also on the phosphor 24 attached to the surface of the cathode holding layer 64, and when a flat non-projecting cathode is used. The display with higher luminance can be performed as compared with. In addition, the hole of the barrier rib 66 that partitions each discharge cell 74 is formed.
66a has a shape in which the hole diameter gradually increases from below to above, and the light generated by the discharge
Since the light is reflected by the inner surface of the substrate and condensed on the front substrate 14 side, an extremely high-luminance display is possible. Further, since the tip portion 62b of the columnar cathode is curved in a hemispherical shape, there is an advantage that the electric field intensity on the surface is uniform and the discharge characteristics are stabilized.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上記のように、放電セ
ル74内の放電生成によって生じた紫外線によって蛍光体
24を励起し、以て必要な表示色を得る方式のガス放電表
示パネル60にあっては、放電セル74内のできるだけ広い
範囲に蛍光体24を被着させることが、表示の高輝度化に
は欠かせない条件となる。特に、上記のように柱状陰極
62を採用する場合、バリアリブ66の最下層部分や柱状陰
極62の付け根付部分にも十分に蛍光体24を被着させなけ
れば、突出陰極を採用した利点が減殺されてしまう。そ
の一方で、柱状陰極の先端部62bの表面が隠れるほど放
電セル74内を蛍光体24で満たしてしまうと、今度は放電
生成に支障を来すこととなる。したがって、蛍光体24
は、柱状陰極の先端部62bの表面を除いた、放電セル74
の内面にできるだけ広くかつ適当な厚さで被着させるこ
とが肝要となる。
As described above, the fluorescent substance is generated by the ultraviolet rays generated by the discharge in the discharge cell 74.
In the gas discharge display panel 60 of the type in which the required display colors are obtained by exciting the 24, the phosphor 24 is applied over as wide a range as possible within the discharge cell 74, in order to increase the display brightness. Is an indispensable condition. In particular, the columnar cathode as described above
In the case of employing the cathode 62, unless the phosphor 24 is sufficiently adhered to the lowermost layer portion of the barrier rib 66 or the root portion of the columnar cathode 62, the advantage of employing the protruding cathode is diminished. On the other hand, if the inside of the discharge cell 74 is filled with the phosphor 24 so that the surface of the tip end portion 62b of the columnar cathode is hidden, the generation of discharge will be hindered. Therefore, the phosphor 24
Are discharge cells 74 excluding the surface of the tip portion 62b of the columnar cathode.
It is important that the inner surface be adhered to the inner surface as wide and as appropriate as possible.

【0009】この蛍光体24を放電セル74内に被着させる
方法として、厚膜印刷法やフォト法が従来から知られて
いる。厚膜印刷法とは、バリアリブ66を形成した背面基
板12の対向面に、バリアリブの孔部66aに対応した部分
が開口したマスクを被せ、その上からバインダと混練さ
せたペースト状の蛍光体24をスキージやローラを介して
何度も塗り込み、バリアリブの孔部66a内に蛍光体24を
充填させる方法である(図示省略)。またフォト法と
は、感光性の樹脂と蛍光体24をバインダを介してペース
ト状にしたものを、バリアリブ66の上面全域に被着させ
た後に、バリアリブの孔部66aに対応した部分のみが透
光性を帯びると共に、他の部分には遮光性のパターンが
印刷されたマスクフィルムを被せ、上から紫外線露光を
施してバリアリブの孔部66a内に被着された蛍光体24の
みを硬化させ、つぎに特殊な現像液に漬けて硬化されて
いない蛍光体24を溶解・除去させ、結果的にバリアリブ
の孔部66a内のみに蛍光体24を配置させる方法である
(図示省略)。
As a method of attaching the phosphor 24 to the inside of the discharge cell 74, a thick film printing method and a photo method are conventionally known. The thick film printing method is to cover a surface of the rear substrate 12 on which the barrier rib 66 is formed with a mask having an opening corresponding to a hole 66a of the barrier rib, and knead the binder with a binder over the mask. Is applied many times via a squeegee or a roller to fill the phosphor 24 into the hole 66a of the barrier rib (not shown). The photo method is a method in which a photosensitive resin and a phosphor 24 are formed into a paste through a binder, and the paste is applied to the entire upper surface of the barrier rib 66. Then, only the portion corresponding to the hole 66a of the barrier rib is transparent. While taking on the light, the other part is covered with a mask film on which a light-shielding pattern is printed, and ultraviolet light is applied from above to cure only the phosphor 24 applied in the hole 66a of the barrier rib, Next, a method of dissolving and removing the uncured phosphor 24 by immersing it in a special developing solution and consequently disposing the phosphor 24 only in the hole 66a of the barrier rib (not shown).

【0010】しかしながら、上記従来の方法は、何れも
ある程度の粘性を備えたペースト状の蛍光体24をバリア
リブ66の上面から孔部66a内に塗り込めることを基本と
しているため、一定の深さを備えた孔部66aの奥部内面
にまで蛍光体24を一定の厚さで被着させることは、極め
て困難であった。すなわち、孔部66aの上層付近には蛍
光体24が被着し易い反面、最下層部分には蛍光体24が届
き難いためである。このため従来は、図13に示すよう
に、一旦バリアリブの孔部66a内に必要な量に比べてか
なり多めに蛍光体24を充填させた上で、焼成を施して余
計なバインダ成分を飛ばした後に、研磨材を噴射させて
不要な蛍光体24を削り取るという手法を用いていた。こ
の場合、柱状陰極先端部62bの側周面とバリアリブ66の
内面との間に詰まった蛍光体24を確実に除去しなけれ
ば、当該側周面は蛍光体24の中に埋もれてしまうことと
なり、突出陰極としての実効性を確保できなくなるた
め、余剰蛍光体24の除去作業を高精度で制御する必要が
ある。しかしながら、図示のように深く堆積された蛍光
体24を、バリアリブ66の内面全域にわたって適度な厚さ
になるまで削ぎ取っていくことは決して容易な作業とは
いえず、削り残しや削り過ぎが生じる可能性が高いもの
であった。特に、上記のようにバリアリブ66の内面が上
から下にに向かって狭まる漏斗形状をなしていると共
に、陰極も突出した柱状をなしており、両者によって複
雑な形状が現出されている場合には、その分緻密な作業
が要求され、少しでも加減を誤ると柱状陰極の先端部62
bを損ねてしまう危険性があった。
However, the above-mentioned conventional methods are basically based on the fact that the paste-like phosphor 24 having a certain degree of viscosity can be applied from the upper surface of the barrier rib 66 into the hole 66a. It was extremely difficult to apply the phosphor 24 with a constant thickness to the inner surface at the back of the provided hole 66a. That is, the phosphor 24 is easily attached to the vicinity of the upper layer of the hole 66a, but is difficult to reach the lowermost layer. For this reason, conventionally, as shown in FIG. 13, the phosphor 24 was once filled in the hole 66a of the barrier rib considerably more than the required amount, and then fired to remove unnecessary binder components. Later, a method was used in which an unnecessary abrasive 24 was scraped off by spraying an abrasive. In this case, if the phosphor 24 clogged between the side peripheral surface of the columnar cathode tip portion 62b and the inner surface of the barrier rib 66 is not reliably removed, the side peripheral surface will be buried in the phosphor 24. Since the effectiveness as a protruding cathode cannot be secured, it is necessary to control the operation of removing the surplus phosphor 24 with high accuracy. However, it is not an easy task to scrape the phosphor 24 that is deeply deposited as shown in the drawing until the phosphor 24 has an appropriate thickness over the entire inner surface of the barrier rib 66, and uncut or excessively cut off occurs. It was likely. In particular, when the inner surface of the barrier rib 66 has a funnel shape narrowing from top to bottom as described above, and the cathode also has a protruding columnar shape, a complicated shape appears by both. Requires more precise work, and if you make any mistakes, the tip of the columnar cathode 62
There was a risk of damaging b.

【0011】さらに、従来の被着方法は、ペースト状の
蛍光体24を塗布して焼成させるだけなので、被着面に対
する蛍光体24の接着強度が比較的弱く、放電生成に伴う
スパッタリング等の衝撃で剥離し易いという欠点があっ
た。
Further, in the conventional deposition method, since the paste-like phosphor 24 is only applied and baked, the adhesion strength of the phosphor 24 to the surface to be adhered is relatively weak, and the impact of sputtering or the like accompanying the generation of electric discharge. There is a disadvantage that it is easily peeled off.

【0012】この発明は、従来の製造方法において生じ
ていた上記問題を解決せんとするものであり、バリアリ
ブや放電電極の形状が複雑な場合であっても、放電セル
内面の広い範囲にわたって、蛍光体を必要な厚さで比較
的容易かつ強固に被着でき、しかも後処理によって放電
電極を損傷させる危険性の少ないガス放電表示パネルの
製造方法を実現することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problem which has occurred in the conventional manufacturing method. Even if the shapes of the barrier ribs and the discharge electrodes are complicated, the fluorescent light can be spread over a wide area of the inner surface of the discharge cell. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a gas discharge display panel which can relatively easily and firmly attach a body to a required thickness and has a low risk of damaging a discharge electrode by post-processing.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、この発明に係るガス放電表示パネルの製造方法は、
一面に、複数の透明陽極を形成した透明絶縁材よりなる
前面基板と、一面に、並設配置された複数本の陰極引出
パターンと、該陰極引出パターンの表面に立設され、該
陰極引出パターンに沿って連なる複数本の畦状陰極と、
上記一面と接するベース部、各畦状陰極を所定の間隔を
おいて長さ方向に区切る複数の第1の隔壁、各畦状陰極
間を仕切る複数の第2の隔壁、及び上記第1の隔壁及び
第2の隔壁によって囲繞された多数の凹部空間とを有す
るバリアリブを備えた絶縁材よりなる背面基板とを、所
定の間隙を隔てて対向配置して両電極間に放電セルを形
成し、両基板の周縁を気密封止して外囲器を構成すると
共に、該外囲器内に蛍光体と紫外線放射ガスを封入して
なり、また、上記畦状陰極の先端部の一部は上記凹部空
間内に突出していると共に、上記畦状陰極の基端部は、
上記バリアリブのベース部内に埋設され、さらに、上記
畦状陰極の先端部は断面略半円状の湾曲面を成してお
り、また、上記バリアリブの凹部空間は、背面基板側か
ら前面基板側に向けて徐々に広がる断面略漏斗形状をな
しているガス放電表示パネルの製造方法であって、背面
基板の一面に、複数本の陰極引出パターンを被着形成す
る工程と、上記背面基板の一面に、上記陰極引出パター
ンの被着箇所を避けてバリアリブの第1の素地を所定の
厚さで配置し、以て、上記陰極引出パターンに沿って上
記第1の素地が形成されていない溝を形成する工程と、
上記溝内に、畦状陰極の素地を配置させる工程と、上記
バリアリブの第1の素地の表面に、バリアリブの第2の
素地を所定の厚さで配置させる工程と、該バリアリブの
第2の素地の表面に、多数の貫通孔を備えたマスクを密
着させる工程と、該マスクの上から研磨材を吹き付け、
上記の各貫通孔に対応した箇所で上記バリアリブの第2
の素地及び第1の素地を所定量掘り下げることにより、
上記畦状陰極の素地の先端部を必要な量だけ突出させる
と同時に、該先端部を断面略半円状の湾曲面に整形し、
さらに断面略漏斗形状の上記凹部空間を形成する工程
と、上記マスクを除去した上で上記バリアリブの第1の
素地、第2の素地及び畦状陰極の素地を焼成させてバリ
アリブ及び畦状陰極を完成させる工程と、上記バリアリ
ブの凹部空間に向けて蛍光体をプラズマ溶射して、上記
凹部空間の内面及び畦状陰極先端部の表面に所定の厚さ
で被着させた後、上記畦状陰極先端部の表面及びバリア
リブの上面を覆っている蛍光体を除去する工程、とを含
むことを特徴とする。上記蛍光体として、BaMgAl
1423:Eu2+やBaAl1219:Mn、または(YE
u)23を用いることが望ましい。
In order to achieve the above object, a method of manufacturing a gas discharge display panel according to the present invention comprises:
On one surface, a front substrate made of a transparent insulating material formed with a plurality of transparent anodes, and on one surface, a plurality of cathode extraction patterns arranged side by side, and the cathode extraction pattern is erected on the surface of the cathode extraction pattern. A plurality of ridge-shaped cathodes extending along
A base portion in contact with the one surface, a plurality of first partitions partitioning each ridge-shaped cathode in the length direction at a predetermined interval, a plurality of second partitions partitioning each ridge-shaped cathode, and the first partition And a rear substrate made of an insulating material provided with a barrier rib having a large number of concave spaces surrounded by the second partition wall, and opposed to each other with a predetermined gap therebetween to form a discharge cell between both electrodes. The outer periphery of the substrate is hermetically sealed to form an envelope, and a phosphor and an ultraviolet radiation gas are sealed in the envelope. While projecting into the space, the base end of the ridge-shaped cathode is
It is embedded in the base of the barrier rib, and the tip of the ridge-shaped cathode forms a curved surface having a substantially semicircular cross section.The recessed space of the barrier rib extends from the rear substrate side to the front substrate side. A method of manufacturing a gas discharge display panel having a substantially funnel-shaped cross-section gradually spreading toward, wherein a step of applying and forming a plurality of cathode extraction patterns on one surface of a back substrate, Disposing the first base of the barrier rib at a predetermined thickness so as to avoid a place where the cathode extraction pattern is attached, thereby forming a groove on which the first base is not formed along the cathode extraction pattern. The process of
Arranging the base of the ridge-shaped cathode in the groove, arranging the second base of the barrier rib with a predetermined thickness on the surface of the first base of the barrier rib, A step of bringing a mask having a large number of through holes into close contact with the surface of the substrate, and spraying an abrasive from above the mask,
At a position corresponding to each of the through holes, the second of the barrier ribs
By digging a predetermined amount of the base and the first base,
At the same time that the tip of the base of the ridge-shaped cathode is projected by a necessary amount, the tip is shaped into a curved surface having a substantially semicircular cross section,
A step of forming the concave space having a substantially funnel-shaped cross section; removing the mask; and firing the first base, the second base, and the ridge-shaped cathode of the barrier rib to form the barrier rib and the ridge-shaped cathode. The step of completing and plasma-spraying the phosphor toward the recessed space of the barrier rib, and applying the phosphor with a predetermined thickness on the inner surface of the recessed space and the surface of the ridge-shaped cathode tip, and then the ridged cathode Removing the fluorescent material covering the surface of the tip portion and the upper surface of the barrier rib. As the phosphor, BaMgAl
14 O 23 : Eu 2+ or BaAl 12 O 19 : Mn, or (YE
u) It is desirable to use 2 O 3 .

【0014】プラズマ溶射は、アルゴン、ヘリウムなど
の不活性ガスをアークによってプラズマ化し、これを細
いノズルから噴出させて形成した超高温、高速流のジェ
ット中に粉末状の溶射物質を送給し、これを溶融させつ
つ加速して基材の表面に皮膜を形成する技術であり、高
密度、高強度の皮膜を形成することができる。そして、
溶射物質を無数の微細な粒子状にして噴き飛ばすため、
噴射の際の圧力を調節したり、噴射時間を加減すること
により、被着の厚さを比較的自由に制御できる利点を備
えている。また、蛍光体のみを被着させることができる
ため、バインダの添加によってある程度の粘性が生じた
ペースト状の蛍光体を被着させる従来の方法に比べ、複
雑な表面形状を備えている基材の表面にも満遍なく被着
できる利点を備えている。このため、上記の通り、蛍光
体をバリアリブの凹部空間に向けてプラズマ溶射すれ
ば、断面略漏斗形状を備えたバリアリブの内面及び畦状
陰極の先端部の表面に、略意図した通りの厚さで蛍光体
を被着させることができる。この結果、畦状陰極の表面
を覆っている蛍光体を除去する作業も僅かで済み、蛍光
体に深く埋没した放電電極を掘り出す従来の方法に比
べ、誤って畦状陰極の先端部を傷つける危険性が少な
く、簡単かつ短時間で完了させることができる。しか
も、溶融した蛍光体は、バリアリブの内面に相当の勢い
で到達させられるものであり、その一部はバリアリブ内
面にめり込む形で定着することとなるため、単に表面を
覆っている場合に比べて接着強度が高まる特徴を備えて
いる。
In the plasma spraying, an inert gas such as argon or helium is turned into plasma by an arc, and the powder is sprayed into an ultra-high-temperature, high-speed jet formed by ejecting the gas from a fine nozzle. This is a technique for forming a film on the surface of the base material by accelerating it while melting it, and it is possible to form a film with high density and high strength. And
In order to blow off the sprayed material in countless fine particles,
By adjusting the pressure at the time of injection or by adjusting the injection time, there is an advantage that the thickness of the coating can be controlled relatively freely. Further, since only the phosphor can be applied, compared to the conventional method of applying a paste-like phosphor having a certain degree of viscosity due to the addition of the binder, a substrate having a complicated surface shape is required. It has the advantage that it can be applied evenly to the surface. Therefore, as described above, if the phosphor is plasma-sprayed toward the concave space of the barrier rib, the thickness of the barrier rib having a substantially funnel-shaped cross section and the surface of the tip of the ridge-shaped cathode are substantially as intended. The phosphor can be adhered. As a result, only a small amount of work is required to remove the phosphor that covers the surface of the ridge-shaped cathode, and the risk of accidentally damaging the tip of the ridge-shaped cathode is lower than with the conventional method of digging a discharge electrode buried deep in the phosphor. It can be completed easily and in a short time with little property. Moreover, the molten phosphor is allowed to reach the inner surface of the barrier rib with considerable force, and a part of the phosphor is fixed by being sunk into the inner surface of the barrier rib, so that compared to a case where the surface is simply covered. It has the feature of increasing the bonding strength.

【0015】また、上記製造方法によれば、バリアリブ
の第1の素地の掘り下げ量を調節することによって、畦
状陰極先端部の突出量を自由に制御することが可能とな
る。さらに、研磨材を吹き付ける工程で、畦状陰極の素
地の先端部を必要な量だけ突出させること、畦状陰極の
先端部を断面略半円状の湾曲面に整形すること、断面略
漏斗形状の凹部空間を形成することが同時に実現され
る。
Further, according to the above-described manufacturing method, the protrusion amount of the ridge-shaped cathode tip portion can be freely controlled by adjusting the depth of the barrier rib first base material. Furthermore, in the step of spraying the abrasive, the tip of the base of the ridge-shaped cathode is protruded by a necessary amount, the tip of the ridge-shaped cathode is shaped into a curved surface having a substantially semicircular cross section, and the cross section is substantially funnel-shaped. Is simultaneously realized.

【0016】[0016]

【発明の実施の態様】以下にこの発明に係るガス放電表
示パネルを、添付図面に基づいて説明する。図1は、ガ
ス放電表示パネル10を示す概略断面図であり、このガス
放電表示パネル10は、平板ガラス等の絶縁材よりなる背
面基板12と、同じく平板ガラス等の透明絶縁材よりなる
前面基板14を、所定の間隙を隔てて対向配置し、両基板
周縁を低融点ガラス等の図示しない封着材によって気密
封止して外囲器16を形成し、該外囲器16の内部空間に紫
外線放射用のXeガスに、He及びArを所定の比率で
混合した放電ガスを封入することを基本構成とする。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A gas discharge display panel according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a gas discharge display panel 10. The gas discharge display panel 10 has a rear substrate 12 made of an insulating material such as a flat glass and a front substrate 12 made of a transparent insulating material such as a flat glass. 14 are arranged facing each other with a predetermined gap therebetween, and the peripheral edges of both substrates are hermetically sealed with a sealing material (not shown) such as low-melting glass to form an envelope 16. The basic configuration is that a discharge gas in which He and Ar are mixed at a predetermined ratio is sealed in Xe gas for ultraviolet radiation.

【0017】上記背面基板12の対向面には、Ag・Pd
系ペースト等よりなる帯状の陰極引出パターン18が複数
列並設されている。各陰極引出パターン18の上面には、
所定の高さを備えた畦状陰極20が立設されている。この
畦状陰極20は、GdB6とBaAl24を約2:1の比
率で混合したエミッタ物質よりなる。また、畦状陰極20
は断面略「逆U字」形状を備えており、背面基板12の部
分斜視図である図2に示すように、陰極引出パターン18
の長手方向に沿って長く連なるように形成されている。
On the opposite surface of the rear substrate 12, Ag.Pd
A plurality of strip-shaped cathode extraction patterns 18 made of a system paste or the like are arranged in parallel. On the upper surface of each cathode extraction pattern 18,
A ridge-shaped cathode 20 having a predetermined height is provided upright. The ridge-shaped cathode 20 is made of an emitter material in which GdB 6 and BaAl 2 O 4 are mixed at a ratio of about 2: 1. Also, the ridge cathode 20
Has a substantially inverted U-shaped cross-section, and as shown in FIG.
Are formed so as to be long and continuous along the longitudinal direction.

【0018】上記背面基板12の表面には、ガラス等の絶
縁材より成るバリアリブ22が形成されている(図1)。
このバリアリブ22は、背面基板12の表面と接するベース
部22aと、各畦状陰極20を長さ方向に所定の間隔で区切
る複数の第1の隔壁22bと、各畦状陰極20相互間を仕切
る複数の第2の隔壁22cと、第1の隔壁22b及び第2の
隔壁22cによって囲繞された凹部空間22dとを備えてい
る。図3の拡大部分断面図に示すように、上記畦状陰極
20の基端部20aはバリアリブ22のベース部22a内に埋設
されていると共に、先端部20bは上記凹部空間22d内に
突出している。バリアリブの第1の隔壁22b及び第2の
隔壁22cは、背面基板12の対向面から垂直に立設されて
いるわけではなく、背面基板12に近づくにつれて厚さが
増すように形成されている。この結果、上記凹部空間22
dは、背面基板12側から前面基板14側に向けて徐々に広
がる断面略漏斗形状をなしており、該凹部空間22d内面
は反射面を構成している。上記凹部空間22dの内面に
は、所望の発光色に対応した蛍光体24が、略全域にわた
って被着されている。また、上記バリアリブ22の上面
で、第1の隔壁22b及び第2の隔壁22cが交差する部分
には、図2に示すように、所定の高さを備えたガラス等
より成るスペーサ26が配置されている。
A barrier rib 22 made of an insulating material such as glass is formed on the surface of the back substrate 12 (FIG. 1).
The barrier ribs 22 partition a base portion 22a in contact with the surface of the rear substrate 12, a plurality of first partition walls 22b separating the ridge-shaped cathodes 20 at predetermined intervals in the length direction, and partition between the ridge-shaped cathodes 20. It has a plurality of second partition walls 22c and a concave space 22d surrounded by the first partition walls 22b and the second partition walls 22c. As shown in the enlarged partial sectional view of FIG.
The base end portion 20a of the barrier rib 22 is embedded in the base portion 22a of the barrier rib 22, and the tip end portion 20b projects into the recess space 22d. The first ribs 22b and the second ribs 22c of the barrier ribs are not formed upright from the opposite surface of the rear substrate 12, but are formed so as to increase in thickness as approaching the rear substrate 12. As a result, the concave space 22
d has a substantially funnel-shaped cross section that gradually expands from the rear substrate 12 side to the front substrate 14 side, and the inner surface of the concave space 22d forms a reflection surface. On the inner surface of the concave space 22d, a phosphor 24 corresponding to a desired emission color is attached over substantially the entire area. As shown in FIG. 2, a spacer 26 made of glass or the like having a predetermined height is disposed at a portion where the first partition 22b and the second partition 22c intersect on the upper surface of the barrier rib 22. ing.

【0019】上記前面基板14の対向面には、NESA膜
(SnO2)やITO膜(In23・SnO2)等よりな
る帯状の透明陽極28が形成されている。図1において
は、1本の透明陽極28の断面のみが表れているが、実際
には所定の間隔をおいて複数本の透明陽極28が並設され
ている。この複数本の透明陽極28と上記した各畦状陰極
20とは、それぞれ所定の間隙を隔てて交差するよう位置
決めされており、各交差部分毎にバリアリブ22によって
囲繞された放電セル30が形成されている。なお、前面基
板14の対向面にはスペーサ26の端面が当接しているた
め、前面基板14とバリアリブ22の上面との間には、スペ
ーサ26の高さに相応した隙間32が形成されている。
A band-shaped transparent anode 28 made of a NESA film (SnO 2 ), an ITO film (In 2 O 3 .SnO 2 ) or the like is formed on the facing surface of the front substrate 14. Although only one cross section of one transparent anode 28 is shown in FIG. 1, a plurality of transparent anodes 28 are actually arranged side by side at predetermined intervals. The plurality of transparent anodes 28 and each of the ridge-shaped cathodes described above
20 are positioned so as to intersect with a predetermined gap therebetween, and a discharge cell 30 surrounded by a barrier rib 22 is formed at each intersection. Since the end surface of the spacer 26 is in contact with the facing surface of the front substrate 14, a gap 32 corresponding to the height of the spacer 26 is formed between the front substrate 14 and the upper surface of the barrier rib 22. .

【0020】しかして、図示しない電源より、透明陽極
28及び畦状陰極20間に直流電圧を印加すると、放電セル
30内で放電が生成し、紫外線が発生する。この紫外線が
放電セル30内の蛍光体24を励起し、所定の発光色を有す
る光が透明陽極28及び前面基板14を透過して外部に放射
される。この電圧印加を、図示しない制御・駆動回路を
介して選択的に実行することにより、所望の放電セル30
において放電発光を生成させ、前面パネル14上に任意の
文字や図形を表示することができる。
Thus, a transparent anode is supplied from a power source (not shown).
When a DC voltage is applied between 28 and the ridge-shaped cathode 20, the discharge cell
Electric discharge is generated within 30 and ultraviolet rays are generated. The ultraviolet light excites the phosphor 24 in the discharge cell 30, and light having a predetermined emission color is transmitted to the outside through the transparent anode 28 and the front substrate 14. By selectively executing this voltage application via a control / drive circuit (not shown), a desired discharge cell 30 is obtained.
, Discharge light emission is generated, and an arbitrary character or figure can be displayed on the front panel 14.

【0021】この際、畦状陰極20の先端部20bは、その
頂面のみならず側面部分も放電に関与することとなる。
この結果、放電セル30内の比較的広い範囲で放電生成が
実現されることとなり、放電によって発生した紫外線は
バリアリブの凹部空間22d内面に被着された蛍光体24の
略全体に十分照射されるため、極めて高輝度な表示が可
能となる。
At this time, not only the top surface but also the side surface of the tip 20b of the ridge-shaped cathode 20 participates in the discharge.
As a result, a discharge is generated in a relatively wide range in the discharge cell 30, and the ultraviolet light generated by the discharge is sufficiently applied to substantially the entire phosphor 24 attached to the inner surface of the concave space 22d of the barrier rib. Therefore, extremely high-luminance display can be performed.

【0022】また、バリアリブの凹部空間22dが上記の
ように下方から上方に向かって徐々に広がる断面略漏斗
形状をなしており、その内面が反射面を構成しているた
め、放電によって発生した光はこの内面で反射されて前
面基板14側に集光されることとなり、さらに高輝度な表
示が可能となる。
The concave space 22d of the barrier rib has a substantially funnel-shaped cross section which gradually expands from the lower side to the upper side as described above, and the inner surface thereof constitutes a reflecting surface. Is reflected by the inner surface and is condensed on the front substrate 14 side, so that a higher-luminance display is possible.

【0023】図3に示すように、畦状陰極の下端部20a
はバリアリブのベース部22aに埋没し、該ベース部22a
によって確実に保持されている。したがって、単に陰極
引出パターン18の表面に畦状陰極20の下端面を接続する
場合に比べ、陰極引出パターン18への接続強度は格段に
高くなり、容易に抜け難いものとなっている。このた
め、放電セル30の細密化に対応して畦状陰極20を細く形
成しても、十分な接続強度を確保できる。また、上記の
通り、畦状陰極20は陰極引出パターン18に沿って長く連
なるように形成されているため、従来の柱状陰極に比べ
てそれ自体の強度が増している。
As shown in FIG. 3, the lower end 20a of the row-shaped cathode
Is buried in the base portion 22a of the barrier rib, and the base portion 22a
Is securely held by Therefore, compared to the case where the lower end face of the row-shaped cathode 20 is simply connected to the surface of the cathode extraction pattern 18, the connection strength to the cathode extraction pattern 18 is significantly higher, and it is difficult to remove easily. For this reason, sufficient connection strength can be ensured even if the ridge-shaped cathode 20 is formed thinner in accordance with the miniaturization of the discharge cells 30. Further, as described above, since the ridge-shaped cathode 20 is formed so as to extend long along the cathode extraction pattern 18, the strength of itself is increased as compared with the conventional columnar cathode.

【0024】さらに、畦状陰極の先端部20bが断面略半
円状に形成されているため、陰極表面の電界強度が略均
一となり、放電特性の安定化が図れる。もちろん、畦状
陰極先端部20bの形状を断面略半円状に整形することな
く、単に断面矩形状のまま用いても陰極としての機能を
果たすことは可能である。しかし、陰極先端にエッジ部
分を残しておくと、そこに電界集中が生じるため該エッ
ジ部分と陽極間の電界強度が他の部分よりも高まり、放
電特性が不安定となる恐れがある。そこで、畦状陰極先
端部20bの表面をエッジを落とした曲面に形成し、電界
強度の均一化を図ることが望ましいのである。なお、放
電セル30内で放電が生成した際には、上記隙間32を介し
て各放電セル30間のイオンの流通が確保される。
Furthermore, since the tip portion 20b of the ridge-shaped cathode is formed in a substantially semicircular cross section, the electric field intensity on the cathode surface becomes substantially uniform, and the discharge characteristics can be stabilized. Of course, it is possible to perform the function as a cathode simply by using the ridge-shaped cathode tip portion 20b with a rectangular cross-section without shaping it into a substantially semicircular cross-section. However, if an edge portion is left at the tip of the cathode, electric field concentration occurs at the edge portion, so that the electric field intensity between the edge portion and the anode is higher than in other portions, and the discharge characteristics may be unstable. Therefore, it is desirable to form the surface of the ridge-shaped cathode tip portion 20b into a curved surface with a reduced edge to make the electric field intensity uniform. When a discharge is generated in the discharge cell 30, the flow of ions between the discharge cells 30 is ensured through the gap 32.

【0025】つぎに、このガス放電表示パネル10の、特
に背面基板12側の製造方法について説明する。まず、図
4に示すように、背面基板12の一面に、Ag・Pd系ペ
ーストを印刷等することにより、帯状の陰極引出パター
ン18を被着形成すると共に、ガラスペーストやセラミッ
クペースト等の絶縁材料を厚膜印刷等することにより、
バリアリブの第1の素地40を所定の厚さで配置してお
く。この際、バリアリブの第1の素地40は陰極引出パタ
ーン18が被着された箇所を避けて配置されるため、陰極
引出パターン18に沿ってバリアリブの第1の素地40が配
置されていない溝42が形成され、該溝42の底には陰極引
出パターン18の表面が露出している。つぎに、上記バリ
アリブの第1の素地40の表面に、GdB6とBaAl2
4との混合物よりなるエミッタ物質44をプラズマ溶射に
よって吹き付ける(図5)。この結果、上記溝42内に畦
状陰極の素地46が充填される。
Next, a method of manufacturing the gas discharge display panel 10, particularly on the rear substrate 12, will be described. First, as shown in FIG. 4, an Ag / Pd-based paste is printed on one surface of a back substrate 12 to form a strip-shaped cathode extraction pattern 18 and to form an insulating material such as a glass paste or a ceramic paste. By thick film printing etc.
The first base material 40 of the barrier rib is arranged at a predetermined thickness. At this time, since the first base material 40 of the barrier rib is arranged so as to avoid the place where the cathode extraction pattern 18 is attached, the groove 42 where the first base material 40 of the barrier rib is not arranged along the cathode extraction pattern 18. The surface of the cathode extraction pattern 18 is exposed at the bottom of the groove 42. Next, GdB 6 and BaAl 2 O are formed on the surface of the first base material 40 of the barrier rib.
4 is sprayed by plasma spraying (FIG. 5). As a result, the base material 46 of the ridge-shaped cathode is filled in the groove 42.

【0026】その後、バリアリブの第1の素地40の表面
に堆積したエミッタ物質44を研磨し、これを削除する
(図6)。この結果、上記溝42内に充填されたエミッタ
物質(畦状陰極の素地46)のみが残されることとなる。
Thereafter, the emitter material 44 deposited on the surface of the first base material 40 of the barrier rib is polished and removed (FIG. 6). As a result, only the emitter material (the base material 46 of the ridge-shaped cathode) filled in the groove 42 is left.

【0027】つぎに、図7に示すように、バリアリブの
第1の素地40の表面に、ガラス等の絶縁材料を厚膜印刷
することにより、バリアリブの第2の素地48を所定の厚
さで配置させる。また、このバリアリブの第2の素地48
の表面には、感光性樹脂より成るフォトレジストフィル
ム50が一面に被着される。つぎに、上記フォトレジスト
フィルム50の表面に格子状パターンの印刷されたマスク
を密着させて紫外線による露光処理を施し(図示省
略)、当該パターンに対応する硬化部分を形成した後、
これを所定の現像液に漬けて硬化されていない部分を除
去することにより、図8に示すように、略正方形状の貫
通孔52がドット・マトリクス状に多数配置された格子状
のマスク54を形成する。
Next, as shown in FIG. 7, a thick film of an insulating material such as glass is printed on the surface of the first base material 40 of the barrier rib, so that the second base material 48 of the barrier rib is formed with a predetermined thickness. Let it be placed. In addition, the second base material 48 of this barrier rib is used.
On one surface, a photoresist film 50 made of a photosensitive resin is applied on one surface. Next, a mask on which a lattice pattern is printed is brought into close contact with the surface of the photoresist film 50, and an exposure process using ultraviolet light is performed (not shown) to form a cured portion corresponding to the pattern.
This is immersed in a predetermined developing solution to remove the uncured portion, thereby forming a lattice-shaped mask 54 in which a large number of substantially square through holes 52 are arranged in a dot matrix as shown in FIG. Form.

【0028】つぎに、図9に示すように、上記マスク54
の上方に配置されたノズル56より研磨材を吹き付ける、
いわゆるサンドブラスト処理を施す。上記バリアリブの
第2の素地48及び第1の素地40は、ガラスペーストを単
に乾燥させただけの状態にあり、未だ焼成による硬化を
行っていないため、上記サンドブラスト処理を施される
と、マスク54で覆われていない露出部分(マスクの貫通
孔52に該当する部分)が掘り下げられていく。これに対
し、畦状陰極の素地46の方はプラズマ溶射を経て堆積さ
れており、バリアリブの素地に比べて高い硬度を備えて
いるため、上記サンドブラスト処理によって大きく損な
われることはない。上記サンドブラスト処理は、微細な
口径のノズルを用いて個々の貫通孔52毎に実施しても勿
論よいが、図示のように比較的口径の大きなノズル56
(例えば20〜30φ)を用い、複数の貫通孔52に対して同
時に研磨材を吹き付ける方が効率的に遂行できる。この
場合、ノズル56は各貫通孔52の上方を何回も往復移動す
ることにより、各貫通孔52に対応したバリアリブの第2
の素地48及び第1の素地40を徐々に掘り下げていく。
Next, as shown in FIG.
Abrasive is sprayed from a nozzle 56 arranged above the
A so-called sandblasting process is performed. The second base 48 and the first base 40 of the barrier ribs are in a state where the glass paste is simply dried, and have not yet been cured by firing. Exposed portions (portions corresponding to the through holes 52 of the mask) which are not covered with the metal are dug down. On the other hand, the base material 46 of the ridge-shaped cathode is deposited through plasma spraying and has a higher hardness than the base material of the barrier ribs. The above-mentioned sandblasting may be carried out for each individual through-hole 52 using a nozzle having a fine diameter, but as shown in the drawing, a nozzle 56 having a relatively large diameter is used.
(For example, 20 to 30φ), it is more efficient to spray the abrasive simultaneously on the plurality of through holes 52. In this case, the nozzle 56 reciprocates many times above each through-hole 52, thereby forming the second barrier rib corresponding to each through-hole 52.
The base body 48 and the first base body 40 are gradually dug down.

【0029】バリアリブの第1の素地40の掘り下げ量
は、ノズル56の往復回数を加減したり、ノズル56の移動
速度や研磨材の噴射速度を調節することにより、あるい
は研磨材の粒径や材質を適宜選択することにより、自由
に制御することが可能となり、この結果として畦状陰極
の素地46の突出量を柔軟に設定できる。例えば、バリア
リブの第1の素地40及び第2の素地48をそれぞれ約10
0μmの高さに積層させた上で、第1の素地40を表面か
ら約60μm程掘り下げることにより、畦状陰極の素地
46の先端部を約60μmの高さで突出させる。もちろ
ん、必要であればさらに深く第1の素地40を掘り下げ
て、畦状陰極の素地46の突出度を高めることも可能であ
る。この場合、第1の素地40をより深く掘り下げる分、
畦状陰極の素地46の基端部と陰極引出パターン18との接
続強度が低下することとなるが、初めから第1の素地40
をより厚く堆積させておけば問題ない。
The amount of digging of the first base material 40 of the barrier rib can be adjusted by adjusting the number of reciprocations of the nozzle 56, adjusting the moving speed of the nozzle 56 and the injection speed of the abrasive, or the particle size and material of the abrasive. Can be freely controlled by selecting, as a result, the protrusion amount of the base 46 of the ridge-shaped cathode can be flexibly set. For example, the first base 40 and the second base 48 of the barrier ribs are each
After stacking at a height of 0 μm, the first base 40 is dug down by about 60 μm from the surface to obtain the base of the ridge-shaped cathode.
The tip of 46 is projected at a height of about 60 μm. Of course, if necessary, the first substrate 40 can be dug deeper to increase the degree of protrusion of the ridge-shaped cathode substrate 46. In this case, the first body 40 is dug deeper,
Although the connection strength between the base end portion of the ridge-shaped cathode base material 46 and the cathode extraction pattern 18 is reduced, the first base material 40 is initially provided.
There is no problem if is deposited thicker.

【0030】上記のサンドブラスト処理において、一定
の速度でノズル56を移動させれば、貫通孔52の中心付近
ほど研磨材が多く吹き付けられ、周辺付近ほどマスク54
で邪魔される確率が高くなるため、丁度畦状陰極の素地
46の周辺部分が最も深く掘られることとなる。この結
果、畦状陰極の素地46の先端部を露出させるのと同時
に、自然に断面略漏斗形状の凹部空間22dを形成するこ
とができる。また、上記サンドブラスト処理を通じて、
畦状陰極の素地46の先端部分も若干ではあるが研磨され
ることとなり、その角が落ちて自然に断面略半円状の湾
曲面が形成される。
In the above sandblasting process, if the nozzle 56 is moved at a constant speed, the abrasive is sprayed more near the center of the through-hole 52, and the mask 54 near the periphery.
Because the probability of being disturbed by the cathode increases,
The 46 perimeters will be dug deepest. As a result, at the same time as exposing the tip of the base 46 of the ridge-shaped cathode, a concave space 22d having a substantially funnel-shaped cross section can be naturally formed. In addition, through the above sandblasting process,
The tip portion of the base 46 of the ridge-shaped cathode is also slightly polished, and its corners are dropped to naturally form a curved surface having a substantially semicircular cross section.

【0031】つぎに、上記マスク54を剥離した上で背面
基板12全体に加熱処理を施し、バリアリブの第1の素地
40、第2の素地48、及び畦状陰極の素地46をそれぞれ焼
成させてバリアリブ22及び畦状陰極20を完成させた後
に、バリアリブの凹部空間22dの内面(反射面)に所定
の蛍光体24を被着させる。この蛍光体24の被着に際して
は、まず図10に示すように、バリアリブの凹部空間22
dに向けてノズル58から蛍光体24をプラズマ溶射させ
る。この結果、図11に示すように、凹部空間22dの内
面及び畦状陰極先端部20bの表面に蛍光体24が膜状に被
着される。最後に、畦状陰極の先端部20bの表面及びバ
リアリブ22の上面を覆っている蛍光体24をサンドブラス
ト等の手段を用いて除去することにより、バリアリブ22
の内面の略全域に蛍光体24を被着させることができる。
Next, after the mask 54 is peeled off, the entire back substrate 12 is subjected to a heat treatment, so that the first base material of the barrier ribs is formed.
After sintering the base material 40, the second base material 48, and the base member 46 of the ridge-shaped cathode to complete the barrier rib 22 and the ridge-shaped cathode 20, respectively, the predetermined phosphor 24 Is adhered. When attaching the phosphor 24, first, as shown in FIG.
The phosphor 24 is plasma-sprayed from the nozzle 58 toward d. As a result, as shown in FIG. 11, the phosphor 24 is applied in the form of a film on the inner surface of the concave space 22d and the surface of the ridge-shaped cathode tip 20b. Finally, the phosphor 24 covering the surface of the tip portion 20b of the ridge-shaped cathode and the upper surface of the barrier rib 22 is removed by means such as sandblasting, so that the barrier rib 22 is removed.
The phosphor 24 can be applied to substantially the entire inner surface of the substrate.

【0032】プラズマ溶射は、上記のように噴射の際の
圧力を調節したり噴射時間を加減することにより、皮膜
の厚さを比較的自由に制御できると共に、複雑な表面形
状を備えている対象物の表面にも満遍なく被着できる利
点を備えている。したがって、断面略漏斗形状を備えた
バリアリブ22の内面及び畦状陰極の先端部20bの表面
に、略意図した通りの厚さで蛍光体24を被着させること
ができる。この結果、先端部20bの表面を覆っている蛍
光体24を除去する作業も僅かで済み、その分誤って畦状
陰極の先端部20bを傷つける危険性が少なく、簡単かつ
短時間で完了させることができる。
In the plasma spraying, as described above, the thickness of the coating can be controlled relatively freely by adjusting the pressure at the time of spraying or adjusting the spraying time, and the object having a complicated surface shape can be controlled. It has the advantage that it can be evenly applied to the surface of an object. Therefore, the phosphor 24 can be applied to the inner surface of the barrier rib 22 having a substantially funnel-shaped cross section and the surface of the tip portion 20b of the ridge-shaped cathode with a thickness substantially as intended. As a result, only a small amount of work is required to remove the phosphor 24 covering the surface of the tip portion 20b, and there is little risk of damaging the tip portion 20b of the ridge-shaped cathode by that much. Can be.

【0033】また、溶融した高温の蛍光体粒子は、相当
の勢いでバリアリブ22の内面に衝突するものであり、そ
の一部はその内面にめり込む形で定着することとなるた
め、単に蛍光体を表面に塗布する場合に比べて接着強度
が格段に高まる特徴を備えている。さらに、蛍光体24そ
のものを溶射でき、つなぎとなるバインダを混練する必
要がないため、バインダを焼成して除去する工程を省く
ことができる。
The molten high-temperature phosphor particles collide with the inner surface of the barrier rib 22 with considerable force, and a part of the particles is fixed in the inner surface of the barrier rib 22. It has the feature that the adhesive strength is much higher than when it is applied to the surface. Furthermore, since the phosphor 24 itself can be thermally sprayed and there is no need to knead a binder to be a binder, a step of firing and removing the binder can be omitted.

【0034】なお、プラズマ溶射法を用いる場合、蛍光
体24としては還元雰囲気中でも変化しないものを用いる
必要があり、例えば青色発光用としてBaMgAl14
23:Eu2+が、緑色発光用としてBaAl1219:Mn
が、また赤色発光用として(YEu)23などが該当す
る。
When the plasma spraying method is used, it is necessary to use a phosphor 24 which does not change even in a reducing atmosphere, for example, BaMgAl 14 O for emitting blue light.
23 : Eu 2+ is used for emitting green light, and BaAl 12 O 19 : Mn is used.
And (YEu) 2 O 3 for red emission.

【0035】この発明は、上記のように放電電極の先端
部が突出したり、バリアリブの内面が反射面を形成する
といった複雑な構造を備えたガス放電表示パネルの製造
に限定されるものではなく、より単純な構造のガス放電
表示パネルの製造にも適用できることはいうまでもな
い。
The present invention is not limited to the production of a gas discharge display panel having a complicated structure in which the tip of the discharge electrode protrudes or the inner surface of the barrier rib forms a reflective surface as described above. It goes without saying that the present invention can be applied to the manufacture of a gas discharge display panel having a simpler structure.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明に係るガス放電表示パネルの製造
方法にあっては、バリアリブの内面に蛍光体をプラズマ
溶射によって被着させるため、複雑な表面形状の対象面
に対しても蛍光体を必要な厚さで被着させることが可能
となる。この結果、畦状陰極の先端部表面を露出させる
ためにその表面を覆っている蛍光体を除去する作業も最
小限で済み、畦状陰極を誤って損傷させる危険性もほと
んどない。また、バリアリブ内面への接着強度が高まる
ため、ガス放電表示パネルの寿命特性の向上にも資す
る。
In the method of manufacturing a gas discharge display panel according to the present invention, since the phosphor is applied to the inner surface of the barrier rib by plasma spraying, the phosphor is applied to the target surface having a complicated surface shape. It is possible to apply the required thickness. As a result, the work of removing the phosphor covering the surface of the ridge-shaped cathode in order to expose the surface of the ridge-shaped cathode is minimized, and there is almost no danger of accidentally damaging the ridge-shaped cathode. Further, since the adhesive strength to the inner surface of the barrier rib is increased, it contributes to the improvement of the life characteristics of the gas discharge display panel.

【0037】さらに、上記製造方法によれば、バリアリ
ブの第1の素地の掘り下げ量を調節することによって、
畦状陰極先端部の突出量を自由に制御することが可能と
なる。また、研磨材を吹き付ける工程で、畦状陰極の素
地の先端部を必要な量だけ突出させること、畦状陰極の
先端部を断面略半円状の湾曲面に整形すること、断面略
漏斗形状の凹部空間を形成することが同時に実現でき
る。
Further, according to the above manufacturing method, by adjusting the depth of the first base material of the barrier rib,
The protrusion amount of the ridge-shaped cathode tip can be freely controlled. Also, in the step of spraying the abrasive, the tip of the base of the ridge-shaped cathode is protruded by a necessary amount, the tip of the ridge-shaped cathode is shaped into a curved surface having a substantially semicircular cross section, and the cross-section is substantially funnel-shaped. Can be simultaneously realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るガス放電表示パネルの一例を示す
概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of a gas discharge display panel according to the present invention.

【図2】上記ガス放電表示パネルの背面基板側を示す部
分斜視図である。
FIG. 2 is a partial perspective view showing the back substrate side of the gas discharge display panel.

【図3】上記ガス放電表示パネルの畦状陰極周辺を示す
概略拡大断面図である。
FIG. 3 is a schematic enlarged sectional view showing the vicinity of a row-shaped cathode of the gas discharge display panel.

【図4】上記ガス放電表示パネルの背面基板側の製造工
程を示す概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process on the back substrate side of the gas discharge display panel.

【図5】上記ガス放電表示パネルの背面基板側の製造工
程を示す概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process on the back substrate side of the gas discharge display panel.

【図6】上記ガス放電表示パネルの背面基板側の製造工
程を示す概略断面図である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process on the back substrate side of the gas discharge display panel.

【図7】上記ガス放電表示パネルの背面基板側の製造工
程を示す概略断面図である。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process on the back substrate side of the gas discharge display panel.

【図8】上記ガス放電表示パネルの背面基板側の製造工
程を示す概略断面図である。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process on the back substrate side of the gas discharge display panel.

【図9】上記ガス放電表示パネルの背面基板側の製造工
程を示す概略断面図である。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process on the back substrate side of the gas discharge display panel.

【図10】上記ガス放電表示パネルの背面基板側の製造
工程を示す概略断面図である。
FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process on the back substrate side of the gas discharge display panel.

【図11】上記ガス放電表示パネルの背面基板側の製造
工程を示す概略拡大断面図である。
FIG. 11 is a schematic enlarged cross-sectional view showing a manufacturing process on the back substrate side of the gas discharge display panel.

【図12】従来のガス放電表示パネルを示す概略断面図
である。
FIG. 12 is a schematic sectional view showing a conventional gas discharge display panel.

【図13】従来のガス放電表示パネルの柱状陰極周辺を
示す概略拡大断面図である。
FIG. 13 is a schematic enlarged sectional view showing the periphery of a columnar cathode of a conventional gas discharge display panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ガス放電表示パネル 12 背面基板 14 前面基板 16 外囲器 20 畦状陰極 22 バリアリブ 24 蛍光体 28 透明陽極 30 放電セル 10 Gas discharge display panel 12 Rear substrate 14 Front substrate 16 Envelope 20 Row cathode 22 Barrier rib 24 Phosphor 28 Transparent anode 30 Discharge cell

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 9/227 H01J 9/02 H01J 17/06 H01J 17/16 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Surveyed fields (Int.Cl. 7 , DB name) H01J 9/227 H01J 9/02 H01J 17/06 H01J 17/16

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一面に複数の透明陽極を形成した透明
絶縁材よりなる前面基板と、一面に、並設配置された複
数本の陰極引出パターンと、該陰極引出パターンの表面
に立設され、該陰極引出パターンに沿って連なる複数本
の畦状陰極と、上記一面と接するベース部、各畦状陰極
を所定の間隔をおいて長さ方向に区切る複数の第1の隔
壁、各畦状陰極間を仕切る複数の第2の隔壁、及び上記
第1の隔壁及び第2の隔壁によって囲繞された多数の凹
部空間とを有するバリアリブを備えた絶縁材よりなる背
面基板とを、所定の間隙を隔てて対向配置して両電極間
に放電セルを形成し、両基板の周縁を気密封止して外囲
を構成すると共に、該外囲器内に蛍光体と紫外線放射
ガスを封入してなり、また、上記畦状陰極の先端部の一
部は上記凹部空間内に突出していると共に、上記畦状陰
極の基端部は、上記バリアリブのベース部内に埋設さ
れ、さらに、上記畦状陰極の先端部は断面略半円状の湾
曲面を成しており、また、上記バリアリブの凹部空間
は、背面基板側から前面基板側に向けて徐々に広がる断
面略漏斗形状をなしているガス放電表示パネルの製造方
法であって、背面基板の一面に、複数本の陰極引出パタ
ーンを被着形成する工程と、上記背面基板の一面に、上
記陰極引出パターンの被着箇所を避けてバリアリブの第
1の素地を所定の厚さで配置し、以て、上記陰極引出パ
ターンに沿って上記第1の素地が形成されていない溝を
形成する工程と、上記溝内に、畦状陰極の素地を配置さ
せる工程と、上記バリアリブの第1の素地の表面に、バ
リアリブの第2の素地を所定の厚さで配置させる工程
と、該バリアリブの第2の素地の表面に、多数の貫通孔
を備えたマスクを密着させる工程と、該マスクの上から
研磨材を吹き付け、上記の各貫通孔に対応した箇所で上
記バリアリブの第2の素地及び第1の素地を所定量掘り
下げることにより、上記畦状陰極の素地の先端部を必要
な量だけ突出させると同時に、該先端部を断面略半円状
の湾曲面に整形し、さらに断面略漏斗形状の上記凹部空
間を形成する工程と、上記マスクを除去した上で上記バ
リアリブの第1の素地、第2の素地及び畦状陰極の素地
を焼成させてバリアリブ及び畦状陰極を完成させる工程
と、上記バリアリブの凹部 空間に向けて蛍光体をプラズ
マ溶射して、上記凹部空間の内面及び畦状陰極先端部の
表面に所定の厚さで被着させた後、上記畦状陰極先端部
の表面及びバリアリブの上面を覆っている蛍光体を除去
する工程、とを含むことを特徴とするガス放電表示パネ
ルの製造方法。
1. A front substrate made of a transparent insulating material having a plurality of transparent anodes formed on one surface, and a plurality of juxtaposed and arranged in parallel on one surface.
Several cathode extraction patterns and the surface of the cathode extraction pattern
And a plurality of tubes standing along the cathode extraction pattern
Ridge-shaped cathode, base part in contact with the above-mentioned one surface, each ridge-shaped cathode
Are divided into a plurality of first spaces at predetermined intervals in the longitudinal direction.
A wall, a plurality of second bulkheads partitioning between the ridge-shaped cathodes, and
A number of recesses surrounded by a first partition and a second partition
A rear substrate made of an insulating material having a barrier rib having a partial space is disposed opposite to a predetermined gap to form a discharge cell between both electrodes, and the outer edges of both substrates are hermetically sealed to surround the substrate. together constituting the vessel, Ri Na encapsulated phosphor and ultraviolet radiation gas into the outer envelope, also, one tip of the ridge-shaped cathode
Part protrudes into the recessed space, and
The base end of the pole is embedded in the base of the barrier rib.
In addition, the tip of the ridge-shaped cathode is a semi-circular bay.
A curved surface, and a concave space of the barrier rib.
Is gradually expanding from the rear substrate side to the front substrate side.
A method for manufacturing a gas discharge display panel having a substantially funnel shape , comprising a plurality of cathode extraction patterns on one surface of a back substrate.
And forming an upper surface on one surface of the back substrate.
Avoid the area where the cathode extraction pattern is attached
1 is placed at a predetermined thickness, and the cathode
A groove along which the first base is not formed is formed along the turn.
Forming step, and placing the base of the ridge-shaped cathode in the groove.
And forming a barrier on the surface of the first substrate of the barrier rib.
Arranging the second base of the rear rib with a predetermined thickness
And a large number of through holes in the surface of the second substrate of the barrier rib.
Adhering a mask provided with
Spray the abrasive and move it up at the locations corresponding to the above through holes.
Excavating a predetermined amount of the second base and the first base of the barrier rib
By lowering, the tip of the base of the above ridge-shaped cathode is required
At the same time as the tip is approximately semicircular in cross section
Shaped into a curved surface, and furthermore, the above-mentioned concave portion with a substantially funnel-shaped cross section
Forming a gap, and removing the mask and removing the mask.
First body, second body and ridge-shaped cathode body of rear rib
Of firing ribs to complete barrier ribs and ridge-shaped cathodes
Then, the phosphor was plasma-sprayed toward the concave space of the barrier rib, and was applied with a predetermined thickness to the inner surface of the concave space and the surface of the tip of the ridge-shaped cathode . After, the ridge-shaped cathode tip
Surface and the step of removing the phosphor covering the upper surface of the barrier ribs, capital manufacturing method for a gas discharge display panel, which comprises a.
【請求項2】 上記蛍光体が、BaMgAl1423:E
2+であることを特徴とする請求項1に記載のガス放電
表示パネルの製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the phosphor is BaMgAl 14 O 23 : E.
The method according to claim 1, wherein the gas discharge display panel is u2 + .
【請求項3】 上記蛍光体が、BaAl1219:Mnで
あることを特徴とする請求項1に記載のガス放電表示パ
ネルの製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the phosphor is BaAl 12 O 19 : Mn.
【請求項4】 上記蛍光体が、(YEu)23であるこ
とを特徴とする請求項1に記載のガス放電表示パネルの
製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the phosphor is (YEu) 2 O 3 .
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