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JP3077856B2 - Aromatic copolyester - Google Patents
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JP3077856B2 - Aromatic copolyester - Google Patents

Aromatic copolyester

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Publication number
JP3077856B2
JP3077856B2 JP04238774A JP23877492A JP3077856B2 JP 3077856 B2 JP3077856 B2 JP 3077856B2 JP 04238774 A JP04238774 A JP 04238774A JP 23877492 A JP23877492 A JP 23877492A JP 3077856 B2 JP3077856 B2 JP 3077856B2
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mmol
acid
temperature
dicarboxylic acid
aromatic copolyester
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陽則 塩谷
裕章 山口
克孝 恩塚
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Ube Industries Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、比較的低い温度で溶融
加工が可能な新規なサーモトロピック液晶コポリエステ
ルに関するものである。
The present invention relates to a novel thermotropic liquid crystal copolyester which can be melt-processed at a relatively low temperature.

【0002】[0002]

【従来の技術及びその問題点】近年、種々のエンジニア
リングプラスチックスが開発されている。特に光学異方
性を有する液晶コポリマーが注目されている。Adva
nces in Polymer Science
0/61,61(1984)には、P−ヒドロキシ安息
香酸ホモポリマー、テレフタル酸とハイドロキノンとの
コポリマー、あるいはナフタレン−2,6−ジカルボン
酸とハイドロキノンとのコポリマーなどが記載されてい
るが、これらのポリマーは、融点がそれぞれ610℃、
596℃、577℃と高いためポリマーの分解を伴わず
に溶融加工することが事実上不可能であった。また、特
公昭47−47870号公報には、P−ヒドロキシ安息
香酸、テレフタル酸およびハイドロキノンとの共重合体
が提案されているが、この重合体は500℃以上の高融
点を有し、溶融加工がきわめて困難である。
2. Description of the Related Art In recent years, various engineering plastics have been developed. In particular, liquid crystal copolymers having optical anisotropy have attracted attention. Adva
nces in Polymer Science 6
0/61 , 61 (1984) describe a homopolymer of P-hydroxybenzoic acid, a copolymer of terephthalic acid and hydroquinone, or a copolymer of naphthalene-2,6-dicarboxylic acid and hydroquinone. Have a melting point of 610 ° C.
Due to the high temperature of 596 ° C. and 577 ° C., it was practically impossible to carry out melt processing without decomposition of the polymer. Also, Japanese Patent Publication No. 47-47870 proposes a copolymer of P-hydroxybenzoic acid, terephthalic acid and hydroquinone, which has a high melting point of 500 ° C. or more and is melt-processed. Is extremely difficult.

【0003】上記のP−ヒドロキシ安息香酸ホモポリマ
ーあるいはテレフタル酸とハイドロキノンとのコポリマ
ーの融点を下げる方法として、ポリメチレンスペーサー
を有するコモノマーと共重合する方法が知られている
(Pure & Appl.Chem.Vo1.57,
pp.1537(1985))。しかし、このポリメチ
レンスペーサーを有するコモノマーを用いた共重合ポリ
マーでは、成形性と耐熱性が表裏の関係にあるため、融
点の低下ともに耐熱性も低下する問題点がある。また、
ポリメチレンスペーサー含量が増大するにつれて液晶性
も失われる。
As a method for lowering the melting point of the above-mentioned homopolymer of P-hydroxybenzoic acid or a copolymer of terephthalic acid and hydroquinone, there is known a method of copolymerizing with a comonomer having a polymethylene spacer (Pure & Appl. Chem. Vo1.57,
pp. 1537 (1985)). However, in a copolymer using a comonomer having a polymethylene spacer, there is a problem that the moldability and the heat resistance are opposite to each other, so that the melting point is lowered and the heat resistance is also lowered. Also,
As the polymethylene spacer content increases, liquid crystallinity is also lost.

【0004】[0004]

【発明の目的】溶融成形性と耐熱性とを良好に持ちあわ
せながら、十分に実用性のある機械的物性を有する新規
なコポリエステルを提供する。
An object of the present invention is to provide a novel copolyester having sufficiently practical mechanical properties while having good melt moldability and heat resistance.

【0005】[0005]

【問題点解決のための技術的手段】本発明は、下式の反
復単位A、B、C、D、及びEから構成され、
The present invention comprises a repeating unit A, B, C, D and E of the following formula:

【化1】 (但し、式中のnは1〜10の整数を示し、Arは、Embedded image (However, n in the formula represents an integer of 1 to 10, and Ar is

【化2】 から選ばれた基を示す) A/〔A+B+C+D〕のモル比が0〜85/100、
〔B+C〕/〔B+C+D〕のモル比が5/100以上
1未満であり、〔B+C+D〕とEとは実質的に等モル
である芳香族コポリエステルに関する。
Embedded image Wherein the molar ratio of A / [A + B + C + D] is 0 to 85/100;
The present invention relates to an aromatic copolyester in which the molar ratio of [B + C] / [B + C + D] is not less than 5/100 and less than 1, and [B + C + D] and E are substantially equimolar.

【0006】本発明の芳香族コポリエステルを形成して
いる反復単位Aは、p−ヒドロキシ安息香酸、その酸エ
ステル、酸ハロゲン化物、p−アセトキシ安息香酸など
から誘導されたものである。
The repeating unit A forming the aromatic copolyester of the present invention is derived from p-hydroxybenzoic acid, its acid ester, acid halide, p-acetoxybenzoic acid and the like.

【0007】反復単位Bは、3,3’−ジメチルビフェ
ニル−4,4’−ジカルボン酸、そのジカルボン酸エス
テル、ジカルボン酸ハロゲン化物などから誘導されたも
のである。
The repeating unit B is derived from 3,3'-dimethylbiphenyl-4,4'-dicarboxylic acid, its dicarboxylic acid ester, dicarboxylic acid halide and the like.

【0008】反復単位Cは、3,4’−ジメチルビフェ
ニル−4,3’−ジカルボン酸、そのジカルボン酸エス
テル、ジカルボン酸ハロゲン化物などから誘導されたも
のである。上記の3,3’−ジメチルビフェニル−4,
4’−ジカルボン酸及び3,4’−ジメチルビフェニル
−4,3’−ジカルボン酸は、例えば、オルトトルイル
酸アルキルの酸化カップリング反応によって合成するこ
とができる(特願昭63−267202号、及び特願平
1−211334号)。
The repeating unit C is derived from 3,4'-dimethylbiphenyl-4,3'-dicarboxylic acid, its dicarboxylic acid ester, dicarboxylic acid halide and the like. The above 3,3′-dimethylbiphenyl-4,
4'-dicarboxylic acid and 3,4'-dimethylbiphenyl-4,3'-dicarboxylic acid can be synthesized, for example, by an oxidative coupling reaction of alkyl orthotoluate (Japanese Patent Application No. 63-267202 and Japanese Patent Application No. 63-267202). No. Hei 1-211334).

【0009】反復単位Dは、4,4’−(アルキレンジ
オキシ)−ビス−安息香酸、そのジカルボン酸エステ
ル、ジカルボン酸ハロゲン化物などから誘導されたもの
である。4,4’−(アルキレンジオキシ)−ビス−安
息香酸の具体例としては、例えば、4,4’−(エチレ
ンジオキシ)−ビスー安息香酸、4,4’−(ブチレン
ジオキシ)−ビス−安息香酸、4,4’−(ヘキシレン
ジオキシ)−ビス−安息香酸などが挙げられる。4,
4’−(アルキレンジオキシ)−ビス−安息香酸の製造
法として、例えば、4,4’−(ヘキシレンジオキシ)
−ビス−安息香酸は、p−ヒドロキシ安息香酸のジカリ
ウム塩と1.6−ジクロロヘキサンとの反応によって合
成することができる(特開平2−255639号)。
The repeating unit D is derived from 4,4 '-(alkylenedioxy) -bis-benzoic acid, its dicarboxylic acid ester, dicarboxylic acid halide and the like. Specific examples of 4,4 ′-(alkylenedioxy) -bis-benzoic acid include, for example, 4,4 ′-(ethylenedioxy) -bis-benzoic acid and 4,4 ′-(butylenedioxy) -bis -Benzoic acid and 4,4 '-(hexylenedioxy) -bis-benzoic acid. 4,
As a method for producing 4 ′-(alkylenedioxy) -bis-benzoic acid, for example, 4,4 ′-(hexylenedioxy)
-Bis-benzoic acid can be synthesized by reacting a dipotassium salt of p-hydroxybenzoic acid with 1.6-dichlorohexane (JP-A-2-255639).

【0010】反復単位Eは、ハイドロキノン、4,4’
−ジヒドロキシビフェニル、2,6−ジヒドロキシナフ
タレン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、
及びこれらのジアセチル誘導体から誘導されたものであ
る。本発明において、反復単位Eとして、上記の複数の
種類の混合物を使用することができる。
The repeating unit E is hydroquinone, 4,4 '
-Dihydroxybiphenyl, 2,6-dihydroxynaphthalene, 4,4'-dihydroxydiphenyl ether,
And those derived from these diacetyl derivatives. In the present invention, as the repeating unit E, a mixture of a plurality of types described above can be used.

【0011】本発明の芳香族コポリエステルにおいて、
A/〔A+B+C+D〕のモル比は、0以上85/10
0以下である。この比が85/100を越えると芳香族
コポリエステルの溶融温度が高くなり、成形加工が困難
である。〔B+C〕/〔B+C+D〕のモル比は、5/
100以上1未満であり、好ましくは8/100以上〜
1未満である。このモル比が5/100より小さいと、
耐熱性が低下する傾向にある。〔B+C+D〕とEと
は、実質的に等モルである。
[0011] In the aromatic copolyester of the present invention,
The molar ratio of A / [A + B + C + D] is from 0 to 85/10
0 or less. When this ratio exceeds 85/100, the melting temperature of the aromatic copolyester becomes high, and molding processing is difficult. The molar ratio of [B + C] / [B + C + D] is 5 /
100 or more and less than 1, preferably 8/100 or more
It is less than 1. If this molar ratio is less than 5/100,
Heat resistance tends to decrease. [B + C + D] and E are substantially equimolar.

【0012】前記の反復単位A、B、C、D及びE以外
に、他のエステル結合を形成できる僅かな量のモノマー
から誘導される反復単位によってA、B、C、D及びE
が置換されてもよい。他のエステル結合を形成できる反
復単位の具体例としては、テレフタル酸、イソフタル
酸、ナフタリン−1.5−ジカルボン酸、ジフェニルエ
ーテル−4,4’−ジカルボン酸、ジフェニルケトン−
4,4’−ジカルボン酸、2,2’−ジフェニルプロパ
ン−4,4’−ジカルボン酸などから誘導されるような
ジカルボキシ単位、レゾルシン、メチルハイドロキノ
ン、エチルハイドロキノン、プロピルハイドロキノン、
ブチルハイドロキノン、フェニルハイドロキノン、ハロ
ゲン原子置換ハイドロキノン、2,5−ジ−t−ブチル
ハイドロキノン、2,3,5−トリメチルハイドロキノ
ン、1.5−ジヒドロキシナフタレン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)ケトン、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホンなどから誘導されるジオキシ単位及びm−
ヒドロキシ安息香酸、4−ヒドロキシ−4’−カルボキ
シジフェニルエーテル、1−ヒドロキシ−4−ナフトエ
酸、4’−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸など
から誘導されるオキシカルボキシ単位を挙げることがで
きる。
In addition to the recurring units A, B, C, D and E described above, A, B, C, D and E are recurring by recurring units derived from small amounts of monomers capable of forming other ester bonds.
May be replaced. Specific examples of the repeating unit capable of forming another ester bond include terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalene-1.5-dicarboxylic acid, diphenyl ether-4,4′-dicarboxylic acid, and diphenyl ketone.
Dicarboxy units such as those derived from 4,4′-dicarboxylic acid, 2,2′-diphenylpropane-4,4′-dicarboxylic acid, resorcinol, methylhydroquinone, ethylhydroquinone, propylhydroquinone,
Butylhydroquinone, phenylhydroquinone, halogen-substituted hydroquinone, 2,5-di-t-butylhydroquinone, 2,3,5-trimethylhydroquinone, 1.5-dihydroxynaphthalene, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane Dioxy units derived from bis (4-hydroxyphenyl) ketone, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, and m-
Oxycarboxy units derived from hydroxybenzoic acid, 4-hydroxy-4'-carboxydiphenyl ether, 1-hydroxy-4-naphthoic acid, 4'-hydroxybiphenyl-4-carboxylic acid and the like can be mentioned.

【0013】これらの置換反復単位の置換割合は、芳香
族コポリエステルの溶融点を比較的に低くするために、
反復単位〔A+B+C+D+E〕に対して10モル%以
下であることが好ましい。置換割合が10モル%を越え
ると、置換反復単位の種類によるが、一般に芳香族コポ
リエステルの溶融温度が高くなり、成形加工が困難にな
ったり、溶融温度は比較的低温に保たれるものの、液晶
性が低下し、そのため溶融粘度が上昇する等の欠点が生
じる。
The substitution ratio of these substituted repeating units is determined so that the melting point of the aromatic copolyester is relatively low.
It is preferably at most 10 mol% with respect to the repeating unit [A + B + C + D + E]. When the substitution ratio exceeds 10 mol%, although the melting temperature of the aromatic copolyester generally increases, depending on the type of the substituted repeating unit, the molding process becomes difficult or the melting temperature is kept relatively low. There are disadvantages such as a decrease in liquid crystallinity and an increase in melt viscosity.

【0014】本発明の芳香族コポリエステルの製法につ
いては特に制限はなく、公知のエステル重縮合反応によ
って製造することができる。製造法の具体例としては、
(1)ジカルボン酸ジクロライドとジオールを第3級ア
ミンの存在下に重縮合する方法、(2)ジカルボン酸の
ジフェニルエステルとジオールから脱フェノール法にて
重縮合する方法、(3)ジカルボン酸とジオールのジア
セチル誘導体から脱酢酸法で重縮合する方法が挙げられ
る。特に好ましい方法は脱酢酸重合法である。
The method for producing the aromatic copolyester of the present invention is not particularly limited, and the aromatic copolyester can be produced by a known ester polycondensation reaction. As a specific example of the manufacturing method,
(1) a method of polycondensing dicarboxylic acid dichloride and diol in the presence of a tertiary amine; (2) a method of polycondensing diphenyl ester of dicarboxylic acid and diol by a phenol removal method; and (3) a method of polycondensing diol with diol. A polycondensation from a diacetyl derivative of the above by a deacetic acid method. A particularly preferred method is a deacetic acid polymerization method.

【0015】脱酢酸重合法の場合、全コモノマー成分を
反応槽に加えてから、反応を開始しても良いし、コモノ
マーを段階的に分けて添加しても良い。この重縮合反応
に際して、A成分のモノマーとE成分のモノマーをアセ
チル化及び/又は予備縮合させた後、ジカルボン酸成分
を添加して重縮合させる方法を用いると、均質なポリマ
ーを製造することができる。この方法においては、重縮
合は230〜350℃で行い、段階的に昇温して酢酸を
留去した後、減圧(約0.1Torr)にして反応を完
結させる。反応時間は1〜10時間が好ましい。
In the case of the deacetic acid polymerization method, the reaction may be started after all the comonomer components have been added to the reaction vessel, or the comonomer may be added stepwise. In this polycondensation reaction, a method of acetylating and / or pre-condensing the monomer of the component A and the monomer of the component E and then adding the dicarboxylic acid component to perform polycondensation can produce a homogeneous polymer. it can. In this method, the polycondensation is carried out at 230 to 350 ° C., the temperature is raised stepwise to remove acetic acid, and then the reaction is completed under reduced pressure (about 0.1 Torr). The reaction time is preferably 1 to 10 hours.

【0016】重縮合反応は、触媒の存在下又は不存在下
に行うことができる。触媒の具体例としては、酢酸第一
スズ、酢酸第一鉄、酢酸ナトリウム、三酸化アンチモ
ン、マグネシウム、アセチルアセトン鉄(III)、チ
タンテトラブトキシド、次亜リン酸ナトリウム、リン酸
カリウムなどの金属あるいは金属化合物を挙げることが
できるが、これらに限定されるものではない。添加量
は、生成ポリマー重量に対し、0.001〜0.5%で
ある。添加時期は、予備縮合開始時でも、重縮合反応開
始時でもよい。
The polycondensation reaction can be carried out in the presence or absence of a catalyst. Specific examples of the catalyst include metals such as stannous acetate, ferrous acetate, sodium acetate, antimony trioxide, magnesium, iron (III) acetylacetone, titanium tetrabutoxide, sodium hypophosphite, and potassium phosphate. Compounds can be mentioned, but are not limited thereto. The amount of addition is 0.001 to 0.5% based on the weight of the produced polymer. The timing of addition may be at the start of the precondensation or at the start of the polycondensation reaction.

【0017】重合中の熱劣化による着色防止及び生成ポ
リマーの熱安定性向上の目的で、得られる重合体の物性
に大きな影響を与えない範囲で、安定剤の存在下で重縮
合反応を行うことができる。安定剤の具体例として、リ
ン酸、亜リン酸、次亜リン酸ナトリウム、リン酸トリフ
ェニル、亜リン酸トリフェニルなどのリン系化合物、あ
るいはヒンダードフェノール類を挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。添加量は、生成
ポリマー重量に対し、0.001〜0.5%である。添
加時期は、予備縮合開始時でも、重縮合反応開始時でも
よい。
To carry out a polycondensation reaction in the presence of a stabilizer within a range that does not significantly affect the physical properties of the obtained polymer, for the purpose of preventing coloration due to thermal deterioration during polymerization and improving the thermal stability of the resulting polymer. Can be. Specific examples of the stabilizer include phosphorus compounds such as phosphoric acid, phosphorous acid, sodium hypophosphite, triphenyl phosphate, and triphenyl phosphite, and hindered phenols. It is not limited. The amount of addition is 0.001 to 0.5% based on the weight of the produced polymer. The timing of addition may be at the start of the precondensation or at the start of the polycondensation reaction.

【0018】本発明の芳香族コポリエステルは、60℃
にてペンタフルオロフェノール中、0,.2g/dlの
濃度で、対数粘度(ηinh)1.0以上を有し、ま
た、偏光顕微鏡観察において、溶融状態で光学的異方性
(液晶性)を示す。
The aromatic copolyester of the present invention has a temperature of 60 ° C.
In pentafluorophenol, 0,. It has a logarithmic viscosity (η inh ) of 1.0 or more at a concentration of 2 g / dl, and exhibits optical anisotropy (liquid crystallinity) in a molten state by observation with a polarizing microscope.

【0019】[0019]

【発明の効果】本発明の芳香族コポリエステルは、比較
的低い温度、例えば400℃以下の温度で溶融状態を形
成し、通常知られた各種の成形加工法によって、バルク
成形品、フィルム、繊維などにすることができる。ま
た、ペンタフルオロフェノール、p−クロロフェノール
などの有機極性溶媒に溶解するので、溶解加工法によっ
て成形品を得ることが可能である。これらの成形品は、
電気、電子、自動車材料などに幅広く使用できる。顕著
な特性として、溶融状態において液晶性を有するため、
高度に分子配向した成形品にすることができる。従っ
て、機械的強度に優れた高分子材料を製造することがで
きる。
The aromatic copolyester of the present invention forms a molten state at a relatively low temperature, for example, at a temperature of 400 ° C. or less, and can be formed into bulk molded articles, films, and fibers by various commonly known molding methods. And so on. Further, since it is dissolved in an organic polar solvent such as pentafluorophenol and p-chlorophenol, it is possible to obtain a molded article by a solution processing method. These moldings are
It can be widely used for electric, electronic and automotive materials. As a remarkable characteristic, because it has liquid crystal properties in the molten state
A highly molecularly oriented molded article can be obtained. Therefore, a polymer material having excellent mechanical strength can be manufactured.

【0020】[0020]

【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。 (測定方法)本発明における実施例で示されている各物
性値は、以下の方法で測定した。 (1)光学異方性;偏光顕微鏡に試料をのせ、リンカム
社製TH600RMS型加熱装置を用いて、窒素気流下
に10℃/分で昇温して肉眼観察した(液晶開始温
度)。 (2)熱分解開始温度;セイコー電子工業社製SSC/
5200TGA装置を用い、試料を窒素中、10℃/分
で昇温し、重量の経時変化を観測した。 (3)融点;セイコー電子工業社製SSC/5200D
SC装置を用い、試料を窒素中、20℃/分で昇温し、
吸熱ピークを観測した。 (4)対数粘度;60℃にてペンタフルオロフェノール
中、0.2g/dlの濃度で試料を溶解し、ウベローデ
型粘度計を用いて測定した。ηinhは、次式に従って
計算した。 ηinh=ln(t/t)/c ただし、tはペン
タフルオロフェノールの落下時間、tは試料溶液の落下
時間、cは試料の濃度。
Embodiments of the present invention will be described below. (Measurement method) Each physical property value shown in the examples of the present invention was measured by the following method. (1) Optical anisotropy: The sample was placed on a polarizing microscope, and the temperature was raised at a rate of 10 ° C./min under a nitrogen stream using a TH600 RMS type heating device manufactured by Linkham Inc., and visually observed (liquid crystal onset temperature). (2) Thermal decomposition onset temperature; SSC / Seiko Denshi Kogyo
Using a 5200 TGA device, the sample was heated in nitrogen at a rate of 10 ° C./min, and the time-dependent change in weight was observed. (3) Melting point: SSC / 5200D manufactured by Seiko Instruments Inc.
Using an SC device, the sample was heated at 20 ° C./min in nitrogen,
An endothermic peak was observed. (4) Logarithmic viscosity: A sample was dissolved in pentafluorophenol at a concentration of 0.2 g / dl at 60 ° C. and measured using an Ubbelohde viscometer. η inh was calculated according to the following equation. η inh = ln (t / t 0 ) / c where t 0 is the falling time of pentafluorophenol, t is the falling time of the sample solution, and c is the concentration of the sample.

【0021】実施例1 ステンレス製容器(100ml)にガラス製のセパラブ
ル三つ口フラスコの上部を用い、攪拌機、窒素導入管及
びクライゼンを取りつけた。この容器内に、4,4’−
ジアセトキシビフェニル(BP−Ac)7.44g(2
7.54ミリモル)、p−アセトキシ安息香酸(PHB
A−Ac)17.30g(96.0ミリモル)、リン酸
トリフェニル30mgを仕込んだ。真空脱気し、窒素置
換を3回繰り返した後、錫を溶かした金属浴中で240
℃で10分間加熱した後、放冷し、減圧にした後、窒素
で常圧に戻した。
Example 1 A stirrer, a nitrogen inlet tube and Claisen were attached to a stainless steel container (100 ml) using the upper part of a glass separable three-necked flask. In this container, 4,4'-
7.44 g of diacetoxybiphenyl (BP-Ac) (2
7.54 mmol), p-acetoxybenzoic acid (PHB
(A-Ac) 17.30 g (96.0 mmol) and 30 mg of triphenyl phosphate were charged. After degassing in vacuum and repeating nitrogen replacement three times, the solution was placed in a metal bath in which tin was melted.
After heating at 10 ° C. for 10 minutes, the mixture was allowed to cool, reduced in pressure, and then returned to normal pressure with nitrogen.

【0022】この予備縮合混合物に、3,3’−ジメチ
ルビフェニル−4,4’−ジカルボン酸(PA)3.0
4g(11.25ミリモル)、3,4’−ジメチルビフ
ェニル−4,3’−ジカルボン酸(QA)2.43g
(9.00ミリモル)、4,4’−(エチレンジオキ
シ)−ビス−安息香酸(PEDA)2.04g(6.7
5ミリモル)を添加した。真空脱気し、窒素置換を3回
繰り返した後、錫浴中で240℃で1時間加熱した。1
時間かけて300℃に昇温して、300℃で1時間保
ち、生成する酢酸を流通窒素とともに留出させた。30
0℃に保ったまま、徐々に減圧度を上昇させた。減圧度
が0.3Torr以下に達してからさらに1時間反応を
続けた。
To this precondensed mixture was added 3,3'-dimethylbiphenyl-4,4'-dicarboxylic acid (PA) 3.0.
4 g (11.25 mmol), 2.43 g of 3,4'-dimethylbiphenyl-4,3'-dicarboxylic acid (QA)
(9.00 mmol), 2.04 g of 4,4 '-(ethylenedioxy) -bis-benzoic acid (PEDA) (6.7 g).
5 mmol) was added. After degassing under vacuum and repeating nitrogen replacement three times, the resultant was heated in a tin bath at 240 ° C. for 1 hour. 1
The temperature was raised to 300 ° C. over a period of time and maintained at 300 ° C. for 1 hour, and the generated acetic acid was distilled off together with flowing nitrogen. 30
While maintaining the temperature at 0 ° C., the degree of vacuum was gradually increased. The reaction was continued for another hour after the degree of reduced pressure reached 0.3 Torr or less.

【0023】反応終了後、窒素を導入しながら常温常圧
に戻した。得られたポリマーを粉砕して容器から取り出
した。得られたポリマーの収量、光学的異方性を示す温
度(液晶開始温度)、融点、熱分解開始温度、対数粘
度、及び元素分析の結果を表1に示した。
After completion of the reaction, the pressure was returned to normal temperature and normal pressure while introducing nitrogen. The obtained polymer was pulverized and taken out of the container. Table 1 shows the yield of the obtained polymer, the temperature at which the polymer exhibits optical anisotropy (liquid crystal onset temperature), the melting point, the thermal decomposition onset temperature, the logarithmic viscosity, and the results of elemental analysis.

【0024】実施例2 ジアセトキシハイドロキノン(HQu−Ac)5.75
g(29.65ミリモル)、PHBA−Ac 18.6
5g(103.5ミリモル)、PA3.18g(11.
77ミリモル)、QA2.54g(9.41ミリモ
ル)、PEDA2.13g(7.06ミリモル)及びリ
ン酸トリフェニル30mgを用いた以外は実施例1と同
様の操作をした。得られたポリマーの収量、光学的異方
性を示す温度(液晶開始温度)、融点、熱分解開始温
度、対数粘度、及び元素分析の結果を表1に示した。
Example 2 5.75 diacetoxyhydroquinone (HQu-Ac)
g (29.65 mmol), PHBA-Ac 18.6
5 g (103.5 mmol), PA 3.18 g (11.
The same operation as in Example 1 was performed except that 77 mmol), 2.54 g (9.41 mmol) of QA, 2.13 g (7.06 mmol) of PEDA, and 30 mg of triphenyl phosphate were used. Table 1 shows the yield of the obtained polymer, the temperature at which the polymer exhibits optical anisotropy (liquid crystal onset temperature), the melting point, the thermal decomposition onset temperature, the logarithmic viscosity, and the results of elemental analysis.

【0025】実施例3 HQu−Ac 6.12g(31.5ミリモル)、PH
BA−Ac 18.02g(100.0ミリモル)、P
A4.05g(15.0ミリモル)、QA3.24g
(12.0ミリモル)、PEDA0.91g(3.0ミ
リモル)、リン酸トリフェニル30mg及びリン酸カリ
ウム5mgを用いた以外は実施例1と同様の操作をし
た。得られたポリマーの収量、光学的異方性を示す温度
(液晶開始温度)、融点、熱分解開始温度、対数粘度、
及び元素分析の結果を表1に示した。
Example 3 6.12 g (31.5 mmol) of HQu-Ac, PH
18.02 g (100.0 mmol) of BA-Ac, P
A4.05 g (15.0 mmol), QA3.24 g
(12.0 mmol), 0.91 g (3.0 mmol) of PEDA, 30 mg of triphenyl phosphate and 5 mg of potassium phosphate were used in the same manner as in Example 1. The yield of the obtained polymer, the temperature showing the optical anisotropy (liquid crystal onset temperature), melting point, thermal decomposition onset temperature, logarithmic viscosity,
And the results of elemental analysis are shown in Table 1.

【0026】実施例4 2,6−ジアセトキシナフタレン(NP−Ac)7.4
7g(30.6ミリモル)、PHBA−Ac 18.3
8g(102.0ミリモル)、PA3.38g(12.
5ミリモル)、QA2.70g(10.0ミリモル)、
PEDA2.27g(7.5ミリモル)及びリン酸トリ
フェニル50mgを用いた以外は実施例1と同様の操作
をした。得られたポリマーの収量、光学的異方性を示す
温度(液晶開始温度)、融点、熱分解開始温度、対数粘
度、及び元素分析の結果を表1に示した。
Example 4 2,6-diacetoxynaphthalene (NP-Ac) 7.4
7 g (30.6 mmol), PHBA-Ac 18.3
8 g (102.0 mmol), PA 3.38 g (12.
5 mmol), 2.70 g (10.0 mmol) of QA,
The same operation as in Example 1 was performed except that 2.27 g (7.5 mmol) of PEDA and 50 mg of triphenyl phosphate were used. Table 1 shows the yield of the obtained polymer, the temperature at which the polymer exhibits optical anisotropy (liquid crystal onset temperature), the melting point, the thermal decomposition onset temperature, the logarithmic viscosity, and the results of elemental analysis.

【0027】実施例5 BP−Ac7.94g(29.38ミリモル)、PHB
A−Ac 18.45g(102.4ミリモル)、PA
3.24g(12.0ミリモル)、QA2.59g
(9.6ミリモル)、4,4’−(ブチレンジオキシ)
−ビス−安息香酸(PBDA)2.38g(7.20ミ
リモル)及びリン酸トリフェニル30mgを用いた以外
は実施例1と同様の操作をした。得られたポリマーの収
量、光学的異方性を示す温度(液晶開始温度)、融点、
熱分解開始温度、対数粘度、及び元素分析の結果を表1
に示した。
Example 5 7.94 g (29.38 mmol) of BP-Ac, PHB
18.45 g (102.4 mmol) of A-Ac, PA
3.24 g (12.0 mmol), QA2.59 g
(9.6 mmol), 4,4 '-(butylenedioxy)
The same operation as in Example 1 was performed except that 2.38 g (7.20 mmol) of -bis-benzoic acid (PBDA) and 30 mg of triphenyl phosphate were used. The yield of the obtained polymer, the temperature showing the optical anisotropy (liquid crystal onset temperature), the melting point,
Table 1 shows the thermal decomposition onset temperature, logarithmic viscosity, and the results of elemental analysis.
It was shown to.

【0028】実施例6 BP−Ac7.94g(29.38ミリモル)、PHB
A−Ac18.45g(102.4ミリモル)、PA
3.24g(12.0ミリモル)、QA2.59g
(9.6ミリモル)、4,4’−(ヘキシレンジオキ
シ)−ビス−安息香酸(PHDA)2.58g(7.2
0ミリモル)及びリン酸トリフェニル30mgを用いた
以外は実施例1と同様の操作をした。得られたポリマー
の収量、光学的異方性を示す温度(液晶開始温度)、融
点、熱分解開始温度、対数粘度、及び元素分析の結果を
表1に示した。
Example 6 7.94 g (29.38 mmol) of BP-Ac, PHB
18.45 g (102.4 mmol) of A-Ac, PA
3.24 g (12.0 mmol), QA2.59 g
(9.6 mmol), 2.58 g of 4,4 '-(hexylenedioxy) -bis-benzoic acid (PHDA) (7.2
0 mmol) and 30 mg of triphenyl phosphate were performed in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the yield of the obtained polymer, the temperature at which optical anisotropy is exhibited (liquid crystal onset temperature), the melting point, the thermal decomposition onset temperature, the logarithmic viscosity, and the results of elemental analysis.

【表1】 [Table 1]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 63/60 CA(STN) REGISTRY(STN)──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) C08G 63/60 CA (STN) REGISTRY (STN)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 下式の反復単位A、B、C、D、及びE
から構成され、 【化1】 (但し、式中のnは1〜10の整数を示し、Arは、 【化2】 から選ばれた基を示す) A/〔A+B+C+D〕のモル比が0〜85/100、
〔B+C〕/〔B+C+D〕のモル比が5/100以上
1未満であり、〔B+C+D〕とEとは実質的に等モル
である芳香族コポリエステル。
1. The repeating units A, B, C, D and E of the following formula
Consisting of: (Where n represents an integer of 1 to 10, and Ar represents Wherein the molar ratio of A / [A + B + C + D] is 0 to 85/100;
An aromatic copolyester wherein the molar ratio of [B + C] / [B + C + D] is 5/100 or more and less than 1, and [B + C + D] and E are substantially equimolar.
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