JP3077960B2 - Manufacturing method of liquid crystal display device - Google Patents
Manufacturing method of liquid crystal display deviceInfo
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Description
【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、対向配設された一対の
基板の間に表示媒体が挟持され、絵素部がマトリクス状
に配された液晶表示装置の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device in which a display medium is sandwiched between a pair of substrates arranged opposite to each other and picture elements are arranged in a matrix.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、液晶表示装置としては種々の表示
モードを利用したものが存在し、例えば電気光学効果を
利用した液晶表示素子としては、ネマティック液晶を用
いたツイスティッドネマティック(TN)モードやスー
パーツイスティッドネマティック(STN)モードの液
晶表示装置が実用化されている。また、強誘電性液晶
(FLC)モードを用いた液晶表示装置も提案されてい
る。これら従来の表示モードの液晶表示装置は偏光板を
必要とするので光の利用効率が低く、配向処理を必要と
するので製造工程が繁雑になる。2. Description of the Related Art Conventionally, there are liquid crystal display devices using various display modes. For example, as a liquid crystal display device utilizing an electro-optical effect, a twisted nematic (TN) mode using a nematic liquid crystal or a twisted nematic (TN) mode is used. A liquid crystal display device of a super twisted nematic (STN) mode has been put to practical use. Also, a liquid crystal display device using a ferroelectric liquid crystal (FLC) mode has been proposed. These conventional display mode liquid crystal display devices require a polarizing plate and thus have low light use efficiency, and require an alignment treatment, which complicates the manufacturing process.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
表示モードの液晶表示装置においては、視角特性が悪い
ことが問題となっている。例えば、TNモードでは、電
圧無印加時に液晶分子の初期配向が一対の基板間で90
°捩れ、かつ、液晶分子の長軸方向が一方の基板側に或
る角度(プレチルト角)で立ち上がった構造となってい
る。また、電圧印加時には、同一方向に液晶分子が立ち
上がっていくように配向処理が行われている。このた
め、中間調において液晶分子が立ち上がる場合、同一方
向に液晶分子が傾くので、液晶分子を見る方向によって
見かけ上の屈折率が異なる。このため、見る方向によっ
てコントラストが大きく異なり、極端な場合には反転現
象等の表示異常が発生する。However, in the conventional liquid crystal display device of the display mode, there is a problem that the viewing angle characteristics are poor. For example, in the TN mode, when no voltage is applied, the initial alignment of liquid crystal molecules is 90
It has a structure in which the liquid crystal molecules are twisted and the major axis direction of the liquid crystal molecules rises at a certain angle (pretilt angle) on one substrate side. When a voltage is applied, alignment processing is performed so that liquid crystal molecules rise in the same direction. For this reason, when the liquid crystal molecules rise in the halftone, the liquid crystal molecules tilt in the same direction, so that the apparent refractive index differs depending on the direction in which the liquid crystal molecules are viewed. For this reason, the contrast greatly differs depending on the viewing direction. In an extreme case, a display abnormality such as an inversion phenomenon occurs.
【0004】さらに、このような液晶表示装置のうちア
クティブマトリクス駆動型液晶表示装置においては、一
方の基板上に、液晶に電圧を印加するための画素電極が
複数形成され、各画素電極を選択駆動するスイッチング
素子として薄膜トランジスタ等の非線形素子が形成され
る。このような非線形素子は、光照射に対する特性依存
性および特性劣化が大きいので、通常、非線形素子上に
樹脂遮光膜を形成して非線形素子に対する遮光を行って
いる。このようなTFT−LCD上の樹脂遮光膜につい
ては、SID’92DIGEST pp789〜782
に報告されているが、形成方法については記載されてい
ない。一般に、このような樹脂遮光膜はスピンコート法
で形成されるので材料費や装置費用が高く、またスルー
プットが低いという問題があった。Further, among such liquid crystal display devices, in an active matrix drive type liquid crystal display device, a plurality of pixel electrodes for applying a voltage to the liquid crystal are formed on one substrate, and each pixel electrode is selectively driven. A non-linear element such as a thin-film transistor is formed as the switching element to perform. Such a non-linear element has a large dependence on characteristics and deterioration of characteristics with respect to light irradiation. Therefore, usually, a resin light-shielding film is formed on the non-linear element to shield the non-linear element from light. Regarding such a resin light-shielding film on a TFT-LCD, see SID'92 DIGEST pp 789-782.
However, there is no description on the formation method. In general, since such a resin light-shielding film is formed by a spin coating method, there is a problem that material cost and equipment cost are high and throughput is low.
【0005】本発明は、このような従来技術の問題点を
解決すべくなされたものであり、視角特性を改善できる
と共に、製造コストを低減し、スループットを向上させ
ることができる液晶表示装置の製造方法を提供すること
を目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and is intended to manufacture a liquid crystal display device capable of improving viewing angle characteristics, reducing manufacturing costs, and improving throughput. The aim is to provide a method .
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置の
製造方法は、各々電極が形成された一対の基板が互いに
該電極を内側にして対向配置され、該一対の基板の間に
表示媒体が狭持されていると共にマトリクス状に存在す
る電極対向部が絵素部となっている液晶表示装置の製造
方法において、該一対の基板の間に、光重合性樹脂また
は感光性樹脂中に少なくとも黒色フィラーを混入した材
料と液晶化合物との混合物を注入する工程と、該混合物
に、マスクを介して光エネルギーを照射し、光重合によ
り液晶相と高分子相とを相分離させて、該絵素部内に液
晶分子が放射状、同心円状または渦巻状に配列した少な
くとも1個のドメインを有する表示媒体を得る工程とを
含むので、そのことにより上記目的が達成される。According to the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising :
In the manufacturing method , a pair of substrates each having an electrode formed thereon are arranged facing each other with the electrodes inside, and a display medium is sandwiched between the pair of substrates and an electrode facing portion existing in a matrix is formed. Manufacture of liquid crystal display device as a picture element
In the method, between the pair of substrates, a photopolymerizable resin or
Is a material with at least black filler mixed in photosensitive resin
Injecting a mixture of a material and a liquid crystal compound, and the mixture
Is irradiated with light energy through a mask,
The liquid crystal phase and the polymer phase are phase-separated, and the liquid
Crystal molecules are arranged radially, concentrically or spirally.
Obtaining a display medium having at least one domain.
Therefore, the above object is achieved.
【0007】[0007]
【0008】[0008]
【0009】なお、ある実施態様では、一対の基板の少
なくとも一方が透明な基板からなり、この透明基板の上
に形成された電極が紫外線透過率の低い材料からなる構
成とすることができる。また、ある実施態様では、一対
の基板の少なくとも一方が透明な基板からなり、この透
明基板の上に紫外線吸収剤を含むカラーフィルターが形
成されている構成とすることができる。In one embodiment, at least one of the pair of substrates may be formed of a transparent substrate, and the electrodes formed on the transparent substrate may be formed of a material having a low ultraviolet transmittance. In one embodiment, at least one of the pair of substrates may be formed of a transparent substrate, and a color filter containing an ultraviolet absorbent may be formed on the transparent substrate.
【0010】[0010]
【作用】本発明の液晶表示装置にあっては、各々電極が
形成された少なくとも一方が透明な一対の絶縁性基板の
間隙に高分子相と液晶相とを含む表示媒体が狭持されて
いる。絵素部内では、図6に示すように液晶分子が高分
子相の壁方向に向いた放射状、同心円状または渦巻状に
配列した少なくとも1個のドメインを形成している。図
6(a)は液晶分子の配列が放射状の場合を示し、
(b)は同心円状を、(c)は渦巻状を示す。このよう
な液晶分子の配列は、例えば一例として、配向膜に球晶
を形成することにより得ることが可能である。In the liquid crystal display device of the present invention, a display medium containing a polymer phase and a liquid crystal phase is held between a pair of insulating substrates each having at least one electrode formed thereon and transparent. . In the picture element portion, as shown in FIG. 6, the liquid crystal molecules form at least one domain arranged in a radial, concentric or spiral shape oriented in the wall direction of the polymer phase. FIG. 6A shows a case where the arrangement of liquid crystal molecules is radial,
(B) shows a concentric shape, and (c) shows a spiral shape. Such an arrangement of liquid crystal molecules can be obtained, for example, by forming spherulites in the alignment film.
【0011】上記の液晶セルに電圧を印加すると、液晶
分子が放射状、同心円上または渦巻状に立ち上がる。こ
のため、各方向からの見かけ上の屈折率がほぼ同じ状態
になって、視角特性の改善に大きな効果がある。When a voltage is applied to the above liquid crystal cell, the liquid crystal molecules rise radially, concentrically, or spirally. For this reason, the apparent refractive index from each direction becomes substantially the same, and there is a great effect in improving the viewing angle characteristics.
【0012】更には、高分子相には黒色フィラーが分散
されており、この黒色フィラーを含む高分子相は遮光膜
として機能することとなる。Further, a black filler is dispersed in the polymer phase, and the polymer phase containing the black filler functions as a light-shielding film.
【0013】また、本発明方法にあっては、光硬化性樹
脂または感光性樹脂のモノマーまたはオリゴマー中に黒
色フィラーを混入した材料と液晶化合物との混合物を一
対の基板の間隙に注入し、その混合物に光エネルギーを
照射すると光重合により液晶相と高分子相とが相分離す
る。この時、上述したように球晶の形成された配向膜等
の作用により、液晶分子の配列が放射状、同心円上また
は渦巻状となったドメインが形成されることになる。上
記混合物中には、光開始材等の重合開始剤を含んでいて
もよい。In the method of the present invention, a mixture of a material in which a black filler is mixed in a monomer or oligomer of a photocurable resin or a photosensitive resin and a liquid crystal compound is injected into a gap between a pair of substrates. When the mixture is irradiated with light energy, the liquid crystal phase and the polymer phase undergo phase separation by photopolymerization. At this time, as described above, a domain in which the arrangement of the liquid crystal molecules is radial, concentric, or spiral is formed by the action of the alignment film having the spherulites. The mixture may contain a polymerization initiator such as a photoinitiator.
【0014】混合物にマスクを介して光エネルギーを照
射すると、被照射部分に高分子相が形成され、他の部分
が液晶相となる。よって、マスクの形成位置によって
は、黒色フィラーが分散された高分子相を薄膜トランジ
スタ素子上に形成して遮光膜として用いることができ
る。When the mixture is irradiated with light energy through a mask, a polymer phase is formed on the irradiated portion, and the other portion becomes a liquid crystal phase. Therefore, depending on the formation position of the mask, a polymer phase in which a black filler is dispersed can be formed over a thin film transistor element and used as a light-shielding film.
【0015】一対の基板の少なくとも一方が透明なの
で、この基板裏面にマスクをセットしてもよいが、透明
な一方の基板上に形成されるカラーフィルターを紫外線
吸収剤を含む材料から形成すると、この基板側から光エ
ネルギーを照射する場合にこれをマスクとして用いるこ
とができる。よって、セルフアラインメントで相分離を
行うことができ、位置合わせ精度の高い液晶表示装置と
することができる。また、一方の基板上に形成される電
極を紫外線透過率の低い材料から作製すると、これをマ
スクとして用いることができる上に、露光時に問題とな
るカラーフィルターの褪色を防ぐこともできる。Since at least one of the pair of substrates is transparent, a mask may be set on the back surface of the substrate. However, when a color filter formed on one of the transparent substrates is formed from a material containing an ultraviolet absorbent, this mask is formed. When irradiating light energy from the substrate side, this can be used as a mask. Therefore, phase separation can be performed by self-alignment, and a liquid crystal display device with high alignment accuracy can be obtained. In addition, when an electrode formed on one substrate is formed from a material having a low ultraviolet transmittance, the electrode can be used as a mask and can prevent color fading of a color filter which is a problem during exposure.
【0016】絵素電極上の液晶部分には黒色フィラーが
残ることも考えられるが、この黒色フィラーは、感光性
樹脂に均一に分散されており、感光性樹脂との密着性が
高まっているため、不純物として液晶に溶出することは
なく、また、高抵抗であるので表示に際して問題はな
い。It is conceivable that a black filler remains in the liquid crystal portion on the picture element electrode. However, this black filler is uniformly dispersed in the photosensitive resin, and the black filler has an increased adhesion to the photosensitive resin. It does not elute into the liquid crystal as an impurity and has a high resistance, so there is no problem in displaying.
【0017】[0017]
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0018】(実施例1)図1は、実施例1の液晶表示
装置を示す断面図である。この液晶表示装置は、ガラス
板等からなる一対の基板1、10が対向配設され、その
間隙に高分子相15と液晶相16とを有する表示媒体が
設けられている。一方(下側)の基板1の表示媒体側表
面には絵素電極9が形成され、他方の基板10の表示媒
体側表面には対向電極12が形成されて、両電極9、1
2が対向する部分が絵素部となっている。TFT13形
成領域を含む絵素部以外の領域には、主として高分子相
15が形成され、この高分子相15には黒色フィラーが
分散されている。また、絵素部には主として液晶相16
が形成され、例えば図6(a)に示すように、液晶分子
が高分子相15の壁方向に向いた放射状や、同心円状ま
たは渦巻状に配列されたドメインが形成されている。Embodiment 1 FIG. 1 is a sectional view showing a liquid crystal display device of Embodiment 1. In this liquid crystal display device, a pair of substrates 1 and 10 made of a glass plate or the like are arranged to face each other, and a display medium having a polymer phase 15 and a liquid crystal phase 16 is provided in the gap. A pixel electrode 9 is formed on the display medium side surface of one (lower) substrate 1, and a counter electrode 12 is formed on the display medium side surface of the other substrate 10.
A portion facing 2 is a picture element portion. A polymer phase 15 is mainly formed in a region other than the picture element portion including the TFT 13 formation region, and a black filler is dispersed in the polymer phase 15. The picture element mainly includes a liquid crystal phase 16.
For example, as shown in FIG. 6A, domains in which liquid crystal molecules are arranged radially or concentrically or spirally in the direction of the wall of the polymer phase 15 are formed.
【0019】この液晶表示装置は、以下のようにして製
造される。This liquid crystal display device is manufactured as follows.
【0020】まず、TFT形成側基板の作製工程につい
て説明する。絶縁性表面を有する基板1上に、p−Si
膜等の半導体膜を減圧化学気相成長法(LPCVD)等
により25nm〜200nm、好ましくは70〜100
nm程度の厚みに堆積させてパターニングし、半導体層
2を形成する。First, the steps of manufacturing the TFT forming substrate will be described. On a substrate 1 having an insulating surface, p-Si
A semiconductor film such as a film is formed by low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) or the like with a thickness of 25 to 200 nm, preferably 70 to 100 nm.
The semiconductor layer 2 is formed by depositing and patterning to a thickness of about nm.
【0021】次に、半導体層2上に、SiO2膜をPC
VD法等により200〜500nm、好ましくは200
nm程度の厚みに堆積させてパターニングし、ゲート絶
縁膜3を形成する。その上に、金属膜をスパッタリング
法等により200〜400nm程度の厚みに堆積させて
ゲート電極4を形成する。Next, an SiO 2 film is formed on the semiconductor layer 2 by PC.
200 to 500 nm, preferably 200 to 500 nm by a VD method or the like.
The gate insulating film 3 is formed by depositing and patterning to a thickness of about nm. A gate electrode 4 is formed thereon by depositing a metal film to a thickness of about 200 to 400 nm by a sputtering method or the like.
【0022】次に、ゲート電極4上からチャネル領域
に、リン等のV族元素またはその化合物やボロン等のI
II族元素またはその化合物の不純物を加速電圧50〜
100keV程度でイオン注入してコンタクト層5を形
成する。Next, from the gate electrode 4 to the channel region, a V group element such as phosphorus or a compound thereof or an I group such as boron.
Acceleration voltage of 50 to 50
The contact layer 5 is formed by ion implantation at about 100 keV.
【0023】次に、その上に、SiNxまたはSiO2膜
等をプラズマCVD法等により300〜500nm程度
の厚みに堆積させ、所定の箇所をエッチングしてコンタ
クトホールを開口し、層間絶縁膜6を形成する。Next, a SiN x or SiO 2 film or the like is deposited thereon to a thickness of about 300 to 500 nm by a plasma CVD method or the like, and a predetermined hole is etched to open a contact hole. To form
【0024】次に、その上に、導電膜をスパッタリング
法等により200〜700nm程度の厚みに堆積させて
ソース電極7およびドレイン電極8を形成する。さら
に、インジウム錫酸化膜(ITO)等の透明導電膜をス
パッタリング法等により50〜100nm程度の厚みに
堆積させて絵素電極9を形成してTFT13を完成させ
る。Next, a source electrode 7 and a drain electrode 8 are formed thereon by depositing a conductive film to a thickness of about 200 to 700 nm by a sputtering method or the like. Further, a transparent conductive film such as an indium tin oxide film (ITO) is deposited to a thickness of about 50 to 100 nm by a sputtering method or the like to form the picture element electrode 9, thereby completing the TFT 13.
【0025】次に、対向側基板の作製工程について説明
する。まず、絶縁性表面を有する基板10上に、印刷
法、電着法またはスピンコーター等により顔料分散型カ
ラーフィルター11を形成して所定の形状にパターニン
グする。その上にITO等の透明導電膜をスパッタリン
グ法等により50〜100nm程度の厚みに堆積させて
対向電極12を形成する。Next, a process for manufacturing the opposing substrate will be described. First, a pigment dispersion type color filter 11 is formed on a substrate 10 having an insulating surface by a printing method, an electrodeposition method, a spin coater or the like, and is patterned into a predetermined shape. A transparent conductive film such as ITO is deposited thereon by sputtering or the like to a thickness of about 50 to 100 nm to form the counter electrode 12.
【0026】以上のようにして得られたTFT形成側基
板の絵素電極9上と、対向側基板のカラーフィルター1
1上とに、配向膜(図示せず)を形成する。この配向膜
には、例えばナイロン6.6を配向膜として塗布し、焼
成を行って溶剤を除去し、その後除去することで球晶を
形成する。その後、対向基板上に4.5μmのプラスチ
ックビーズを散布し、両基板をシール樹脂を用いて貼り
合わせて図2(a)に示すような液晶セルを作製する。The pixel electrode 9 on the TFT-formed substrate obtained as described above and the color filter 1 on the opposing substrate are obtained.
1 and an alignment film (not shown) is formed. To this alignment film, for example, nylon 6.6 is applied as an alignment film, baked to remove the solvent, and then removed to form a spherulite. Thereafter, 4.5 μm plastic beads are sprinkled on the opposing substrate, and both substrates are bonded to each other using a sealing resin to produce a liquid crystal cell as shown in FIG. 2A.
【0027】次に、表示媒体の形成工程について説明す
る。まず、光重合性樹脂または感光性樹脂中に少なくと
も黒色フィラーを混入した材料と液晶化合物との混合物
を、上記一対の基板の間隙に注入し、混合物にマスクを
介して光エネルギーを照射する。これにより、光重合性
樹脂または感光性樹脂が光重合すると共に、重合により
得られる高分子化合物と液晶化合物とが相分離し、光照
射部に高分子相15が形成され、非照射部に液晶相16
が形成される。このとき、配向膜に球晶が形成されてい
るので、その球晶に基づいて液晶相中の液晶分子が放射
状となったドメインが1つ液晶相16に形成される。Next, a process for forming a display medium will be described. First, a mixture of a liquid crystal compound and a material in which at least a black filler is mixed in a photopolymerizable resin or a photosensitive resin is injected into a gap between the pair of substrates, and the mixture is irradiated with light energy through a mask. As a result, the photopolymerizable resin or the photosensitive resin undergoes photopolymerization, the polymer compound obtained by the polymerization and the liquid crystal compound undergo phase separation, and the polymer phase 15 is formed in the light-irradiated portion, and the liquid crystal is formed in the non-irradiated portion. Phase 16
Is formed. At this time, since a spherulite is formed in the alignment film, one domain in which liquid crystal molecules in the liquid crystal phase are radial is formed in the liquid crystal phase 16 based on the spherulite.
【0028】上記光硬化性樹脂としては、R−684
(日本化薬製)、スチレン、イソボルニルメタクリレー
ト等のモノマーまたはオリゴマーを用いることができ
る。また、感光性樹脂としては、ネガ型あるいはポジ型
のものを使用できる。The photocurable resin includes R-684
(Nihon Kayaku), styrene, isobornyl methacrylate, and other monomers or oligomers can be used. As the photosensitive resin, a negative type or a positive type can be used.
【0029】黒色フィラーとしては、カーボンフラッ
ク、またはチタンブラック、アニリンブラック、酸化
鉄、酸化マンガン、硫化ビスマス等の顔料等を用いるこ
とができる。As the black filler, carbon black, pigments such as titanium black, aniline black, iron oxide, manganese oxide and bismuth sulfide can be used.
【0030】上記液晶化合物としては、常温付近で液晶
状態を示す材料であればいずれも用いることができ、従
来のTNモード、STNモード、ECBモード、強誘電
性液晶表示モード、光散乱モード等に用いられる液晶材
料のいずれも用いることができる。例えば、カイラル剤
(S−811)を0.4重量%含有したZLI−479
2(メルク社製)等が挙げられる。As the above-mentioned liquid crystal compound, any material can be used as long as it shows a liquid crystal state at around normal temperature, and it can be used in conventional TN mode, STN mode, ECB mode, ferroelectric liquid crystal display mode, light scattering mode and the like. Any of the liquid crystal materials used can be used. For example, ZLI-479 containing 0.4% by weight of a chiral agent (S-811)
2 (manufactured by Merck).
【0031】上記混合物には、予め黒色フィラーを分散
させた光硬化性樹脂または感光性樹脂、および液晶材料
の他に光開始剤等を含んでもよい。光開始剤としては、
例えばIrgacure651(チバガイギー製)等を
用いることができる。The mixture may contain a photoinitiator in addition to a photocurable resin or a photosensitive resin in which a black filler is dispersed in advance, and a liquid crystal material. As a photoinitiator,
For example, Irgacure 651 (made by Ciba Geigy) or the like can be used.
【0032】上記マスクとしては、対向基板側に形成さ
れたカラーフィルター11や対向電極12を利用するこ
ともできる。As the mask, a color filter 11 and a counter electrode 12 formed on the counter substrate side can be used.
【0033】この実施例では、以下のようにして表示媒
体を形成した。In this example, a display medium was formed as follows.
【0034】まず、上述のようにして貼り合わせた基板
間隙に、図2(b)に示すように、光硬化性樹脂として
R−684(日本化薬製)0.1g中にカーボンブラッ
クまたは顔料等からなる黒色フィラーを35〜45wt
%分散させたものと、スチレン0.05gとイソボルニ
ルメタクリレート0.85gとを、液晶材料としてカイ
ラル剤(S−811)を0.4重量%含有したZLI−
4792(メルク社製)4gを、また、光開始剤として
Irgacure651(チバガイギー製)0.002
5gを混合した混合物14を透明状態(約35℃)で注
入する。First, as shown in FIG. 2B, carbon black or pigment was added to 0.1 g of R-684 (manufactured by Nippon Kayaku) as a photocurable resin between the substrates bonded as described above. 35-45wt black filler
% Of styrene and 0.85 g of isobornyl methacrylate as a liquid crystal material containing 0.4% by weight of a chiral agent (S-811).
4792 (manufactured by Merck) and Irgacure 651 (manufactured by Ciba-Geigy) 0.002 as a photoinitiator.
A mixture 14 containing 5 g is injected in a transparent state (about 35 ° C.).
【0035】次に、対向基板側にTFT形成側基板の絵
素電極9に光が当たらないような遮光性を有するマスク
17をセットする。その後、同じ温度を保ちながら、平
行光線が得られる高圧水銀ランプを用いて照射強度が1
0mW/cm2の位置で、対向基板側から1秒照射−3
0秒無照射のサイクルを20回繰り返し、次いで10分
間照射する。これにより光硬化性樹脂が光重合されて、
図2(c)に示すように、黒色フィラーが分散された高
分子相15と液晶相16とに相分離される。Next, a mask 17 having a light shielding property is set on the counter substrate side so that light does not hit the pixel electrodes 9 on the TFT forming side substrate. Thereafter, while maintaining the same temperature, an irradiation intensity of 1 was obtained by using a high-pressure mercury lamp capable of obtaining parallel rays.
Irradiation for 1 second from the counter substrate side at the position of 0 mW / cm 2 -3
A cycle of no irradiation for 0 seconds is repeated 20 times, and then irradiation is performed for 10 minutes. This causes the photocurable resin to be photopolymerized,
As shown in FIG. 2C, the polymer is phase-separated into a polymer phase 15 in which a black filler is dispersed and a liquid crystal phase 16.
【0036】得られたパネルを偏光顕微鏡で観察したと
ころ、絵素電極9のドットパターンと同じ規則性(絵素
と同じ規則性)を有する液晶ドメイン16と、TFT1
3上を含むラインパターンの高分子相15(遮光層)が
確認された。また、液晶ドメイン16において、液晶分
子の配列は放射状となっていた。Observation of the obtained panel with a polarizing microscope revealed that the liquid crystal domain 16 having the same regularity as the dot pattern of the picture element electrode 9 (the same regularity as the picture element) and the TFT 1
The polymer phase 15 (light-shielding layer) having a line pattern including the upper part 3 was confirmed. In the liquid crystal domain 16, the arrangement of the liquid crystal molecules was radial.
【0037】(実施例2)この実施例では、光硬化性樹
脂としてネガ型感光性樹脂を用いて表示媒体を作製し
た。Example 2 In this example, a display medium was manufactured using a negative photosensitive resin as the photocurable resin.
【0038】実施例1と同様の手順で両基板を作製し、
図3(a)に示すように貼り合わせ、図3(b)に示す
ように、基板間隙に、ネガ型感光性樹脂としてのOMR
−83(東京応化製)0.1g中にカーボンブラックま
たは顔料等からなる黒色フィラーを35〜45wt%分
散させたものと、スチレン0.05gとイソボルニルメ
タクリレート0.85gとを、液晶材料としてカイラル
剤(S−811)を0.4重量%含有したZLI−47
92(メルク社製)4gを、また、光開始剤としてIr
gacure651(チバガイギー製)0.0025g
を混合した混合物24を透明状態(約35℃)で注入す
る。Both substrates were prepared in the same procedure as in Example 1,
As shown in FIG. 3A, bonding is performed, and as shown in FIG. 3B, an OMR as a negative photosensitive resin is
-83 (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) in which 35-45 wt% of a black filler composed of carbon black or pigment is dispersed in 0.1 g, 0.05 g of styrene and 0.85 g of isobornyl methacrylate are used as a liquid crystal material. ZLI-47 containing 0.4% by weight of a chiral agent (S-811)
92 (manufactured by Merck) and Ir as a photoinitiator
gacure651 (manufactured by Ciba-Geigy) 0.0025 g
Is injected in a transparent state (about 35 ° C.).
【0039】次に、対向基板側にTFT形成側基板の絵
素電極9に光が当たらないような遮光性を有するマスク
27をセットする。その後、同じ温度を保ちながら、平
行光線が得られる高圧水銀ランプを用いて照射強度が1
0mW/cm2の位置で、対向基板側から1秒照射−3
0秒無照射のサイクルを20回繰り返し、次いで10分
間照射する。これにより光硬化性樹脂が光重合されて、
図3(c)に示すように、黒色フィラーが分散された高
分子相25と液晶相26とに相分離される。Next, a mask 27 having a light-shielding property so that light does not hit the pixel electrodes 9 on the TFT forming substrate is set on the counter substrate side. Thereafter, while maintaining the same temperature, an irradiation intensity of 1 was obtained by using a high-pressure mercury lamp capable of obtaining parallel rays.
Irradiation for 1 second from the counter substrate side at the position of 0 mW / cm 2 -3
A cycle of no irradiation for 0 seconds is repeated 20 times, and then irradiation is performed for 10 minutes. This causes the photocurable resin to be photopolymerized,
As shown in FIG. 3C, the liquid crystal phase 26 and the polymer phase 25 in which the black filler is dispersed are phase-separated.
【0040】得られたパネルを偏光顕微鏡で観察したと
ころ、絵素電極9のドットパターンと同じ規則性(絵素
と同じ規則性)を有する液晶ドメイン26と、TFT1
3上を含むラインパターンの高分子相25(遮光層)が
確認された。また、液晶ドメイン26において、液晶分
子の配列は高分子相25の壁方向に向いた放射状となっ
ていた。When the obtained panel was observed with a polarizing microscope, the liquid crystal domain 26 having the same regularity (the same regularity as the picture element) as the dot pattern of the picture element electrode 9 and the TFT 1 were obtained.
The polymer phase 25 (light-shielding layer) having a line pattern including the top 3 was confirmed. In the liquid crystal domain 26, the arrangement of the liquid crystal molecules was radially oriented toward the wall of the polymer phase 25.
【0041】(実施例3)この実施例では、対向基板側
にマスクを形成する代わりに、対向基板上のカラーフィ
ルターに紫外線吸収剤を混入させ、これをマスクとして
紫外線照射を行った。Example 3 In this example, instead of forming a mask on the counter substrate side, an ultraviolet absorber was mixed into a color filter on the counter substrate, and ultraviolet irradiation was performed using this as a mask.
【0042】対向基板上のカラーフィルター31に紫外
線吸収剤を混入させる以外は、実施例1と同様の手順で
TFT形成側基板と対向側基板とを作製する。A substrate on which a TFT is formed and a substrate on the opposite side are manufactured in the same procedure as in Example 1 except that an ultraviolet absorber is mixed into the color filter 31 on the opposite substrate.
【0043】得られたTFT形成側基板の絵素電極9上
と、対向側基板のカラーフィルター上とに、前述の配向
膜(図示せず)を形成する。その後、対向基板上に4.
5μmのプラスチックビーズを散布し、両基板をシール
樹脂を用いて貼り合わせて図4(a)に示すような液晶
セルを作製する。The above-mentioned alignment film (not shown) is formed on the pixel electrodes 9 on the obtained TFT forming substrate and on the color filters on the opposing substrate. After that, 4.
5 μm plastic beads are sprinkled, and both substrates are bonded together using a sealing resin to produce a liquid crystal cell as shown in FIG.
【0044】次に、図4(b)に示すように、基板間隙
に、光硬化性樹脂としてR−684(日本化薬製)0.
1g中にカーボンブラックまたは顔料等からなる黒色フ
ィラーを35〜45wt%分散させたものと、スチレン
0.05gとイソボルニルメタクリレート0.85gと
を、液晶材料としてカイラル剤(S−811)を0.4
重量%含有したZLI−4792(メルク社製)4g
を、また、光開始剤としてIrgacure651(チ
バガイギー製)0.0025gを混合した混合物34を
透明状態(約35℃)で注入する。Next, as shown in FIG. 4B, R-684 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
35 g / g of a black filler made of carbon black or pigment dispersed in 1 g, 0.05 g of styrene and 0.85 g of isobornyl methacrylate, and 0 chiral agent (S-811) as a liquid crystal material. .4
4 g of ZLI-4792 (manufactured by Merck) containing weight%
And a mixture 34 obtained by mixing 0.0025 g of Irgacure 651 (manufactured by Ciba Geigy) as a photoinitiator is injected in a transparent state (about 35 ° C.).
【0045】その後、同じ温度を保ちながら、平行光線
が得られる高圧水銀ランプを用いて照射強度が10mW
/cm2の位置で、対向基板側から1秒照射−30秒無
照射のサイクルを20回繰り返し、次いで10分間照射
する。この時、紫外線吸収剤が混入されたカラーフィル
ター31がマスクとして機能し、光硬化性樹脂が光重合
されて、図4(c)に示すように、黒色フィラーが分散
された高分子相35と液晶相36とに相分離される。Then, while maintaining the same temperature, the irradiation intensity was 10 mW using a high-pressure mercury lamp capable of obtaining parallel rays.
At the position of / cm 2 , a cycle of irradiation for 1 second to 30 seconds without irradiation is repeated 20 times from the counter substrate side, and then irradiation is performed for 10 minutes. At this time, the color filter 31 in which the ultraviolet absorber is mixed functions as a mask, and the photocurable resin is photopolymerized, and as shown in FIG. The phase is separated into the liquid crystal phase 36.
【0046】得られたパネルを偏光顕微鏡で観察したと
ころ、絵素電極9のドットパターンと同じ規則性(絵素
と同じ規則性)を有する液晶ドメイン36と、TFT1
3上を含むラインパターンの高分子相35(遮光層)が
確認された。また、液晶ドメイン36において、液晶分
子の配列は高分子相35の壁方向に向いた放射状となっ
ていた。When the obtained panel was observed with a polarizing microscope, the liquid crystal domain 36 having the same regularity (the same regularity as the picture element) as the dot pattern of the picture element electrode 9 and the TFT 1 were obtained.
A polymer pattern 35 (light-shielding layer) having a line pattern including the upper part No. 3 was confirmed. In the liquid crystal domain 36, the arrangement of the liquid crystal molecules was radially oriented toward the wall of the polymer phase 35.
【0047】(実施例4)この実施例では、対向基板側
にマスクを形成する代わりに、ZnO等の紫外線透過率
の低い材料を用いて対向電極42を形成し、これをマス
クとして紫外線照射を行った。(Embodiment 4) In this embodiment, instead of forming a mask on the counter substrate side, a counter electrode 42 is formed using a material having a low ultraviolet transmittance, such as ZnO, and ultraviolet irradiation is performed using this as a mask. went.
【0048】実施例1と同様の手順で形成したTFT形
成側基板上に印刷法、電着法またはスピンコーター等に
より顔料分散型カラーフィルター41を形成し、所定の
形状にパターニングする。A pigment-dispersed color filter 41 is formed on a TFT forming substrate formed in the same procedure as in Example 1 by a printing method, an electrodeposition method, a spin coater, or the like, and is patterned into a predetermined shape.
【0049】次に、透明導電膜としてITOの代わりに
酸化亜鉛(ZnO)を用いる以外は実施例1と同様の手
順で対向側基板を作製する。この対向電極42の紫外線
透過率は、5%以下とすることができる。Next, an opposite substrate is manufactured in the same procedure as in Example 1 except that zinc oxide (ZnO) is used instead of ITO as the transparent conductive film. The ultraviolet transmittance of the counter electrode 42 can be set to 5% or less.
【0050】得られたTFT形成側基板の絵素電極9上
と、対向側基板の対向電極42上とに、前述の配向膜
(図示せず)を形成する。The above-mentioned alignment film (not shown) is formed on the pixel electrodes 9 of the obtained TFT forming substrate and on the counter electrode 42 of the counter substrate.
【0051】その後、対向基板上に4.5μmのプラス
チックビーズを散布し、両基板をシール樹脂を用いて貼
り合わせて図5(a)に示すような液晶セルを作製す
る。Thereafter, plastic beads of 4.5 μm are scattered on the opposing substrate, and both substrates are bonded to each other using a sealing resin to produce a liquid crystal cell as shown in FIG.
【0052】次に、図5(b)に示すように、基板間隙
に、光硬化性樹脂としてR−684(日本化薬製)0.
1g中にカーボンブラックまたは顔料等からなる黒色フ
ィラーを35〜45wt%分散させたものと、スチレン
0.05gとイソボルニルメタクリレート0.85gと
を、液晶材料としてカイラル剤(S−811)を0.4
重量%含有したZLI−4792(メルク社製)4g
を、また、光開始剤としてIrgacure651(チ
バガイギー製)0.0025gを混合した混合物44を
透明状態(約35℃)で注入する。Next, as shown in FIG. 5B, R-684 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
35 g / g of a black filler made of carbon black or pigment dispersed in 1 g, 0.05 g of styrene and 0.85 g of isobornyl methacrylate, and 0 chiral agent (S-811) as a liquid crystal material. .4
4 g of ZLI-4792 (manufactured by Merck) containing weight%
And a mixture 44 obtained by mixing 0.0025 g of Irgacure 651 (manufactured by Ciba Geigy) as a photoinitiator is injected in a transparent state (about 35 ° C.).
【0053】その後、同じ温度を保ちながら、平行光線
が得られる高圧水銀ランプを用いて照射強度が10mW
/cm2の位置で、対向基板側から1秒照射−30秒無
照射のサイクルを20回繰り返し、次いで10分間照射
する。この時、紫外線透過率が5%以下と低い対向電極
42がマスクとして機能し、光硬化性樹脂が光重合され
て、図5(c)に示すように、黒色フィラーが分散され
た高分子相45と液晶相46とに相分離される。Thereafter, while maintaining the same temperature, using a high-pressure mercury lamp capable of obtaining parallel rays, the irradiation intensity was 10 mW.
At the position of / cm 2 , a cycle of irradiation for 1 second to 30 seconds without irradiation is repeated 20 times from the counter substrate side, and then irradiation is performed for 10 minutes. At this time, the counter electrode 42 having an ultraviolet transmittance as low as 5% or less functions as a mask, the photocurable resin is photopolymerized, and as shown in FIG. 45 and a liquid crystal phase 46.
【0054】得られたパネルを偏光顕微鏡で観察したと
ころ、絵素電極9のドットパターンと同じ規則性(絵素
と同じ規則性)を有する液晶ドメイン46と、TFT1
3上を含むラインパターンの高分子相45(遮光層)が
確認された。また、液晶ドメイン46において、液晶分
子の配列は高分子相45の壁方向に向いた放射状となっ
ていた。Observation of the obtained panel with a polarizing microscope revealed that the liquid crystal domain 46 having the same regularity as the dot pattern of the picture element electrode 9 (the same regularity as the picture element) and the TFT 1
The polymer phase 45 (light-shielding layer) having a line pattern including the upper part No. 3 was confirmed. Further, in the liquid crystal domain 46, the arrangement of the liquid crystal molecules was radially oriented toward the wall of the polymer phase 45.
【0055】以上、本発明の実施例について説明した
が、本発明はこれに限られず種々の変更が可能である。Although the embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to this, and various modifications can be made.
【0056】上記実施例では配向膜に球晶を形成するこ
とにより液晶分子の配列を放射状としているが、本発明
はこれに限らず、同様に配向膜に球晶を形成して液晶分
子の配列を同心円状や渦巻状にしてもよい。また、配向
膜に球晶を形成することに代えて、他の方式により液晶
分子の配列を放射状、同心円状または渦巻状にできる総
ての方式を採用できる。例えば、上述の液晶分子の配列
と同様の配列に凹凸を配向膜に形成する方式や、配向膜
の絵素部中央部に対応する位置に山状突起を形成する方
式などが採用できる。また、配向膜の下地膜に同様のも
のを形成してその形状を配向膜に伝え、結果として配向
膜に所望の形状を作製する方式を採用できることはもち
ろんである。In the above embodiment, the arrangement of liquid crystal molecules is made radial by forming spherulites on the alignment film. However, the present invention is not limited to this. May be concentric or spiral. Instead of forming spherulites on the alignment film, any other method that can arrange the liquid crystal molecules radially, concentrically, or spirally by another method can be adopted. For example, a method of forming concavities and convexities on the alignment film in the same arrangement as that of the liquid crystal molecules described above, or a method of forming a mountain-like projection at a position corresponding to the center of a pixel portion of the alignment film can be adopted. In addition, it is a matter of course that a method can be adopted in which a similar material is formed on the base film of the alignment film and its shape is transmitted to the alignment film, and as a result, a desired shape is formed in the alignment film.
【0057】また、上記実施例では絵素部に1つのドメ
インを形成するようにしているが、本発明はこれに限ら
ず、各絵素部に、液晶分子の配列が放射状、同心円状ま
たは渦巻状となったドメインを2以上有するような構成
としてもよいことはもちろんである。Further, in the above embodiment, one domain is formed in the picture element portion. However, the present invention is not limited to this, and the arrangement of liquid crystal molecules may be radial, concentric or spiral in each picture element portion. Needless to say, a configuration having two or more domains in a shape may be employed.
【0058】上記実施例においてはTFTを用いたアク
ティブマトリクス駆動により表示が行われる液晶表示装
置について説明したが、本発明はこれに限らず、MIM
(Metal Insulator Metal)等を用
いたアクティブマトリクス駆動により表示が行われる液
晶表示装置、または単純マトリクス駆動の液晶表示装置
などにも適用できる。In the above embodiment, a liquid crystal display device in which display is performed by active matrix driving using a TFT has been described. However, the present invention is not limited to this.
The present invention can also be applied to a liquid crystal display device that performs display by active matrix driving using (Metal Insulator Metal) or the like, or a liquid crystal display device driven by simple matrix driving.
【0059】液晶材料としては、従来のTNモード、S
TNモード、ECBモード、強誘電性液晶表示モード、
光散乱モード等の液晶表示装置に用いられる液晶材料の
いずれでも用いることができ、偏光板を形成した構成も
可能である。さらに、透過型液晶表示装置および反射型
液晶表示装置のいずれにも適用することができる。As a liquid crystal material, a conventional TN mode, S
TN mode, ECB mode, ferroelectric liquid crystal display mode,
Any of liquid crystal materials used for a liquid crystal display device such as a light scattering mode can be used, and a structure in which a polarizing plate is formed is also possible. Further, the present invention can be applied to both a transmission type liquid crystal display device and a reflection type liquid crystal display device.
【0060】基板材料としては、少なくとも一対の内の
一方が透明で、絶縁表面を有する基板であればいずれも
用いることができ、ガラス基板の他にプラスチックフィ
ルム基板等を使用してもよく、基板上に絶縁膜が形成さ
れたものであってもよい。As the substrate material, any substrate can be used as long as at least one of the pair is transparent and has an insulating surface. In addition to a glass substrate, a plastic film substrate or the like may be used. An insulating film may be formed thereon.
【0061】[0061]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
においては液晶分子が絵素部内で放射状、同心円状また
は渦巻状に配列しているので、従来の液晶表示装置にお
いて問題となっていた視角方向によるコントラストの変
化や反転現象などの表示異常が生じず、視角特性を改善
させることができる。偏光板を設ける必要が無いので光
の利用効率を高めることができ、配向膜の配向処理を行
う必要が無いので製造工程を簡便にすることができる。As is apparent from the above description, in the present invention, the liquid crystal molecules are arranged radially, concentrically or spirally in the picture element portion, which has been a problem in the conventional liquid crystal display device. A display abnormality such as a change in contrast or an inversion phenomenon depending on the viewing angle direction does not occur, and the viewing angle characteristics can be improved. Since there is no need to provide a polarizing plate, the light use efficiency can be increased, and there is no need to perform alignment treatment of the alignment film, so that the manufacturing process can be simplified.
【0062】黒色フィラーを分散させた高分子相と液晶
相とを相分離させているので、遮光膜の形成コストを低
減し、スループットを向上させることができる。また、
マスクを介して光エネルギーを照射することにより、絵
素電極上に液晶ドメインを形成し、TFT上に遮光膜を
形成することができる。Since the polymer phase in which the black filler is dispersed and the liquid crystal phase are separated, the cost of forming the light-shielding film can be reduced and the throughput can be improved. Also,
By irradiating light energy through the mask, a liquid crystal domain can be formed on the picture element electrode and a light-shielding film can be formed on the TFT.
【図1】実施例1の液晶表示装置を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal display device according to a first embodiment.
【図2】実施例1の液晶表示装置の製造工程を示す断面
図である。FIG. 2 is a sectional view illustrating a manufacturing process of the liquid crystal display device of Example 1.
【図3】実施例2の液晶表示装置の製造工程を示す断面
図である。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the liquid crystal display device of Example 2.
【図4】実施例3の液晶表示装置の製造工程を示す断面
図である。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the liquid crystal display device of Example 3.
【図5】実施例4の液晶表示装置の製造工程を示す断面
図である。FIG. 5 is a sectional view illustrating a manufacturing process of the liquid crystal display device of Example 4.
【図6】絵素部内における液晶分子の配列状態を示す図
である。FIG. 6 is a view showing an arrangement state of liquid crystal molecules in a picture element portion.
1、10 絶縁性基板 2 半導体層 3 ゲート絶縁膜 4 ゲート電極 5 コンタクト層 6 層間絶縁膜 7 ソース電極 8 ドレイン電極 9 絵素電極 11、31、41 カラーフィルター 12、42 対向電極 13 TFT素子 14、24、34、44 混合物 15、25、35、45 高分子相 16、26、36、46 液晶相 17、27 マスク DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 10 Insulating substrate 2 Semiconductor layer 3 Gate insulating film 4 Gate electrode 5 Contact layer 6 Interlayer insulating film 7 Source electrode 8 Drain electrode 9 Pixel electrode 11, 31, 41 Color filter 12, 42 Counter electrode 13 TFT element 14, 24, 34, 44 Mixture 15, 25, 35, 45 Polymer phase 16, 26, 36, 46 Liquid crystal phase 17, 27 Mask
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−131231(JP,A) 特開 平5−107527(JP,A) 特開 昭51−20854(JP,A) 特開 平4−251220(JP,A) 特表 平5−504210(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1334 G02F 1/1343 G02F 1/1362 G02F 1/13 101 G09F 9/30 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-62-131231 (JP, A) JP-A-5-107527 (JP, A) JP-A-51-20854 (JP, A) JP-A-4- 251220 (JP, A) Special Table Hei 5-504210 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G02F 1/1334 G02F 1/1343 G02F 1/1362 G02F 1/13 101 G09F 9/30
Claims (1)
に該電極を内側にして対向配置され、該一対の基板の間
に表示媒体が狭持されていると共にマトリクス状に存在
する電極対向部が絵素部となっている液晶表示装置の製
造方法において、 該一対の基板の間に、光重合性樹脂または感光性樹脂中
に少なくとも黒色フィラーを混入した材料と液晶化合物
との混合物を注入する工程と、 該混合物に、マスクを介して光エネルギーを照射し、光
重合により液晶相と高分子相とを相分離させて、該絵素
部内に液晶分子が放射状、同心円状または渦巻状に配列
した少なくとも1個のドメインを有する表示媒体を得る
工程とを含む液晶表示装置の製造方法。 1. A pair of substrates each having electrodes formed thereon are opposed to each other with the electrodes inside, and a display medium is sandwiched between the pair of substrates and an electrode facing portion exists in a matrix. In the method of manufacturing a liquid crystal display device having a pixel portion, a mixture of a liquid crystal compound and a material obtained by mixing at least a black filler in a photopolymerizable resin or a photosensitive resin is injected between the pair of substrates. Irradiating the mixture with light energy through a mask to separate the liquid crystal phase and the polymer phase by photopolymerization, and the liquid crystal molecules are arranged radially, concentrically or spirally in the picture element portion. Obtaining a display medium having at least one domain as described above.
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|---|---|---|---|
| JP06137419A JP3077960B2 (en) | 1994-06-20 | 1994-06-20 | Manufacturing method of liquid crystal display device |
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