JP3079754B2 - Developing method and developing device - Google Patents
Developing method and developing deviceInfo
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はビデオディスクやオーデ
ィオディスク等の所謂光学式記録ディスクの原盤を製作
する際に使用する現像装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a developing apparatus used for producing a master of a so-called optical recording disk such as a video disk and an audio disk.
【0002】[0002]
【従来の技術】光学式記録ディスクの原盤は、一般に、
ガラス製の基盤の表面にホトレジストを塗布することに
より0.1μm程度の肉厚の光感度膜を形成し、該光感
応膜にマスターコードカッター等で記録信号に応じてレ
ーザ光等を露光したのち、該露光部を除去することによ
り製作されるようになっている。2. Description of the Related Art In general, an optical recording disc master is
A photosensitive film having a thickness of about 0.1 μm is formed by applying a photoresist on the surface of a glass substrate, and after exposing the photosensitive film to a laser beam or the like according to a recording signal using a master code cutter or the like. , By removing the exposed portion.
【0003】現像装置とは、上記光学式記録ディスク等
の原盤製作過程において、光感応膜の露光分を除去する
ために使用する装置をいい、図4に示したように、光感
応膜を形成したディスク基盤101を回転駆動手段10
2で回転させると共に、上記光感応膜上に現像液供給手
段103で現像液を散布(供給)し、該現像液で上記光
感応膜の感光部を溶かし、所謂ピットを形成しながら該
部にレーザ光源104からモニター用のレーザ光105
を照射し、ピットの成長により変化する回折光、つまり
0次光、1次光106、107を第1、第2の光電変換
手段108、109で検出し、検出レベルが所定値とな
ったときに、現像液供給手段103による現像液の散布
を停止するなどして、現像の進行を阻止することにより
ピットの断面寸法を制御するようにしたものが知られて
いる(例えば特公平2−43259号公報)。[0003] The developing device is a device used to remove the exposure of the photosensitive film in the process of manufacturing the master of the optical recording disk or the like. As shown in FIG. Rotating disk means 101 to rotating drive means 10
While rotating at 2, the developer is sprayed (supplied) on the photosensitive film by the developer supply means 103, and the developing solution dissolves the photosensitive portion of the photosensitive film, forming so-called pits on the photosensitive film. Monitor laser light 105 from laser light source 104
And the diffracted light that changes due to the growth of the pits, that is, the 0th-order light and the 1st-order lights 106 and 107 are detected by the first and second photoelectric conversion units 108 and 109, and when the detection level reaches a predetermined value. There is also known a method in which the development of the developer is stopped by, for example, stopping the spraying of the developer by the developer supply means 103 to control the cross-sectional dimension of the pit by preventing the progress of the development (for example, Japanese Patent Publication No. 2-35925). No.).
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで上記現像装置
は、レーザ光の光路中に浮遊する塵埃や霧状の現像液或
は現像液面のゆらぎ等の外乱要素により、図5に示した
ように、0次光及び1次光の出力に乱れ(脈動)が生
じ、このため、現像停止位置を検出する際に、誤差が生
じ、ピットの精度に悪影響を及ぼすという問題点があっ
た。By the way, the above-mentioned developing device is affected by external elements such as dust floating in the optical path of the laser beam, mist-like developer or fluctuation of the developer surface, as shown in FIG. In addition, the output of the 0th-order light and the 1st-order light is disturbed (pulsation), which causes an error in detecting the development stop position, which adversely affects the pit accuracy.
【0005】本発明は上記従来の問題点を解決し、レー
ザ光の光路中に浮遊する塵埃や霧状の現像液或は現像液
面のゆらぎ等の外乱要素に影響されず、正確に現像停止
位置を検出することのできる現像方法及び現像装置を提
供することを目的として為されたものである。The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and accurately stops development without being influenced by disturbance factors such as dust floating in the optical path of a laser beam, mist-like developer, or fluctuation of the developer surface. The object of the present invention is to provide a developing method and a developing device capable of detecting a position.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】光感応膜を形成したディ
スク基盤を回転させると共に、上記光感応膜上に現像液
を供給し、該現像液で上記光感応膜の感光部を溶かしな
がら、該部にモニター用のレーザ光を照射して、回折光
の出力を検出し、その検出結果に基づいて現像を停止す
るようにした現像方法又は現像装置において、上記回折
光の出力を現像液面のゆらぎ等の外乱要素の存在に関係
なく安定させるために、上記光感応膜に照射されるレー
ザ光の光量を制御するようにした。The disk substrate on which the photosensitive film is formed is rotated, a developing solution is supplied onto the photosensitive film, and the developing solution is used to melt the photosensitive portion of the photosensitive film. Irradiating a laser beam for monitoring to the portion, detects the output of the diffracted light, and stops the development based on the detection result. In order to stabilize irrespective of the presence of disturbance elements such as fluctuations, the amount of laser light applied to the photosensitive film is controlled.
【0007】[0007]
【作用】レーザ光源の出力の変化やレーザ光の光路中に
浮遊する塵埃、霧状の現像液或は現像液面のゆらぎ等の
外乱要素が存在する場合でも、回折光の出力は、光感応
膜に照射されるレーザ光の光量を制御することにより、
乱れのない安定した状態に保たれるので、現像停止位置
を正確に検出することができ、精度のよいピットを形成
することが可能になる。The output of the diffracted light is light sensitive even when there is a disturbance such as a change in the output of the laser light source or dust floating in the optical path of the laser light, mist-like developer or fluctuation of the developer surface. By controlling the amount of laser light applied to the film,
Since a stable state without disturbance is maintained, the development stop position can be accurately detected, and a pit with high accuracy can be formed.
【0008】[0008]
【実施例】次に本発明の図1〜3を参照して説明する。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.
【0009】図1において1は、本発明の現像装置であ
り、該現像装置1は、光感応膜2としてのフォトレジス
ト膜を形成したガラス製のディスク基盤3を回転駆動手
段4で回転させ、かつ上記光感応膜2上に現像液供給手
段5で現像液6を供給散布し、該現像液6で上記光感応
膜2の感光部を溶かし、ピットを形成しながら該部にレ
ーザ光源7からモニター用のレーザ光8を照射し、0次
光9と1次光10をそれぞれ第1、第2の光電変換手段
(ディテクター)11,12で検出し、その検出結果に
基づいて、上記現像液供給手段5による現像液6の供給
散布を停止させるようになっている。In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a developing device of the present invention. The developing device 1 rotates a disk base 3 made of glass on which a photoresist film as a photosensitive film 2 is formed by a rotation driving means 4, Further, a developer 6 is supplied and sprayed on the photosensitive film 2 by a developer supply means 5, and the photosensitive portion of the photosensitive film 2 is melted with the developer 6 to form a pit from the laser light source 7 while forming a pit. The laser light 8 for monitoring is irradiated, the 0th-order light 9 and the 1st-order light 10 are detected by the first and second photoelectric conversion means (detectors) 11 and 12, respectively. The supply of the developer 6 by the supply unit 5 is stopped.
【0010】13はレーザ光の光路中に浮遊する塵埃や
霧状の現像液或は現像液面のゆらぎ等の外乱要素が存在
する場合でも、上記レーザ光源7の出力を制御すること
により、1次光9と0次光10の出力を乱れのない安定
した状態に保つための光量制御手段である。[0010] 13 Even if disturbance element of fluctuation such as dust or mist of the developing solution or a developing solution surface floating in the optical path of the laser light is present, by controlling the output of the laser light source 7, 1 This is a light amount control means for keeping the outputs of the next-order light 9 and the zero- order light 10 in a stable state without disturbance.
【0011】次に、各構成部分を具体的に説明する。Next, each component will be specifically described.
【0012】上記回転駆動手段4は、上記ディスク基盤
3をバキュームでチャッキングして載置するターンテー
ブル41と、該ターンテーブル41を取付けたスピンド
ル42と、該スピンドル42を支持しているベースプレ
ート43及び上記スピンドル42をベルト44を介して
回転させるサーボモータ45とを備えていて、該サーボ
モータ45により上記ベルト44、スピンドル42、タ
ーンテーブル41を介してディスク基盤3を回転せるよ
うになっている。The rotation driving means 4 comprises a turntable 41 on which the disk base 3 is chucked and mounted by vacuum, a spindle 42 on which the turntable 41 is mounted, and a base plate 43 supporting the spindle 42. And a servo motor 45 for rotating the spindle 42 via a belt 44. The servo motor 45 rotates the disk base 3 via the belt 44, the spindle 42, and the turntable 41. .
【0013】また、上記現像液供給手段5は上記ターン
テーブル41の上方に配置されたノズル51と、該ノズ
ル51を一端側に取付けたノズルアーム52と、該ノズ
ルアーム52の他端側を回動可能に支持しているアーム
支持台53と、上記ノズル51の他端側にチューブ54
を介して連結されていて、該チューブ54及び上記ノズ
ルアーム52を介して現像液又は純水を上記ノズル51
に供給する電磁弁(三方向弁)55と、該電磁弁55を
制御する制御回路56と、該制御回路56に接続された
比較回路57とを備えている。The developer supply means 5 rotates a nozzle 51 disposed above the turntable 41, a nozzle arm 52 having the nozzle 51 attached to one end thereof, and a nozzle arm 52 provided at the other end of the nozzle arm 52. An arm support base 53 movably supported, and a tube 54 at the other end of the nozzle 51
The developing solution or pure water is connected to the nozzle 51 through the tube 54 and the nozzle arm 52.
, A control circuit 56 for controlling the solenoid valve 55, and a comparison circuit 57 connected to the control circuit 56.
【0014】そして、上記比較回路57には、上記第2
の光電変換手段12からの出力信号が入力されるように
なっていて、これが現像停止レベルVbに達したときに
は、上記制御回路56で上記電磁弁55を切換操作し
て、現像液に代えて純水を供給し、該純水を上記ノズル
51から光感応膜2上に散布し、現像液を洗い流して、
現像の進行を停止させるようになっている。The comparison circuit 57 includes the second
When the output signal from the photoelectric conversion means 12 reaches the development stop level Vb, the control circuit 56 switches the solenoid valve 55 so that the pure liquid is used instead of the developer. Water is supplied, the pure water is sprayed from the nozzle 51 onto the photosensitive film 2, and the developer is washed away.
The development is stopped.
【0015】また、レーザ光源7にはコヒーレント長の
短い半導体レーザが用いられていて、コヒーレント長の
短いレーザ光8を、光感応膜2としてのフォトレジスト
膜に照射するようになっている。Further, the laser light source 7 have been used a short semiconductor laser of coherence length, the coherence length
A short laser beam 8 is applied to a photoresist film as the photosensitive film 2.
【0016】次に光量制御手段13について述べる。Next, the light amount control means 13 will be described.
【0017】上記光量制御手段13は、レーザ光源7の
出力を制御するレーザドライバ61と、該レーザドライ
バ61の制御回路62と、該制御回路62に接続されて
いて、第1の光電変換手段11の出力が入力される比較
回路63とで構成されていて、該比較回路63には上記
第1の光電変換手段11の出力が入力されて、該第1の
光電変換手段11の出力が上記外乱要素に関係なく、常
に安定した状態を保つように、上記制御回路62及びレ
ーザドライバ61を介してレーザ光源7としての半導体
レーザの出力を制御するようになっている。The light quantity control means 13 includes a laser driver 61 for controlling the output of the laser light source 7, a control circuit 62 of the laser driver 61, and a first photoelectric conversion means 11 connected to the control circuit 62. And a comparison circuit 63 to which the output of the first photoelectric conversion means 11 is input. The output of the first photoelectric conversion means 11 is input to the comparison circuit 63, and the output of the first photoelectric conversion means 11 is The output of the semiconductor laser as the laser light source 7 is controlled via the control circuit 62 and the laser driver 61 so as to always maintain a stable state regardless of the elements.
【0018】なお64は半導体レーザから発射されたレ
ーザ光8を光感応膜側に向けて屈折させるミラー、65
は現像液や純水の散布や回収を行うためのチャンバであ
る。A mirror 64 refracts the laser beam 8 emitted from the semiconductor laser toward the photosensitive film.
Is a chamber for spraying and collecting a developer or pure water.
【0019】次に上記の現像装置の作用を説明する。Next, the operation of the developing device will be described.
【0020】マスターコードカッター等で光感応膜2に
記録信号に見合う感光部を形成したディスク基盤3をタ
ーンテーブル41上に載置し、該ターンテーブル41を
回転させながらノズル51から純水を散布して、光感応
膜2を水洗する。A disk base 3 having a photosensitive portion corresponding to a recording signal formed on the photosensitive film 2 by a master code cutter or the like is placed on a turntable 41, and pure water is sprayed from a nozzle 51 while rotating the turntable 41. Then, the photosensitive film 2 is washed with water.
【0021】光感応膜2を水洗したのち、ノズルアーム
52を回転させ、ノズル51を光感応膜2上の所定位置
に停止させると共に、レーザ光源7としての半導体レー
ザからレーザ光8を光感応膜2上に照射する。After washing the photosensitive film 2 with water, the nozzle arm 52 is rotated to stop the nozzle 51 at a predetermined position on the photosensitive film 2, and the laser light 8 is supplied from the semiconductor laser as the laser light source 7 to the photosensitive film. Irradiate on 2
【0022】そして、ターンテーブル41によりディス
ク基盤3を回転させながら光感応膜2に向けて、ノズル
51から現像液6を散布する。Then, the developer 6 is sprayed from the nozzle 51 toward the photosensitive film 2 while rotating the disk base 3 by the turntable 41.
【0023】現像液6の散布により、光感応膜2の露光
部が侵触されてピットが形成され始め、該ピットが所定
の断面寸法になり、上記0次光10により第2の光電変
換手段12の出力が現像停止レベルVbに達すると、電
磁弁55が作動して、現像液6の代わりにノズル51か
ら純水を散布し、現像液6を洗い流して現像を停止させ
るのであるが、このとき、上記レーザ光源7から光感応
膜2に至るまでのレーザ光の光路中に浮遊する塵埃或は
霧状の現像液等の外乱要素により、回折光の出力に乱れ
が生じる虞れがある場合でも、上記比較回路63、制御
回路62、レーザドライバ61からなる光量制御手段1
3がレーザ光源7の出力を制御し、図2に示したように
1次光9の出力を安定させるので0次光10の出力の乱
れは抑制され、現像停止位置を正確に検出することが可
能になるのである。[0023] The spraying of the developer 6, is exposed portion of the photosensitive film 2 is no erosion begin to form pits, the pit becomes a predetermined cross-sectional dimension, by the zero-order light 10 and the second photoelectric conversion unit 12 When the output reaches the development stop level Vb, the solenoid valve 55 is operated to spray pure water from the nozzle 51 instead of the developer 6 to wash out the developer 6 to stop the development. Even when there is a possibility that the output of the diffracted light may be disturbed by a disturbance element such as dust or a mist-like developer floating in the optical path of the laser light from the laser light source 7 to the photosensitive film 2. Light amount control means 1 including the comparison circuit 63, the control circuit 62, and the laser driver 61.
3 controls the output of the laser light source 7, and as shown in FIG.
Since the output of the primary light 9 is stabilized, the disturbance of the output of the zero- order light 10 is suppressed, and the development stop position can be accurately detected.
【0024】図3は光量制御手段13を、レーザ光源7
から発射されたレーザ光が光感応膜2に至るまでの光路
上に設けられたモジュレータ(E・Oモジュレータ)7
1と、該モジュレータ71を制御するモジュレータドラ
イバ72と、該モジュレータドライバ72の制御回路7
3と、該制御回路73に接続されていて、第1の光電変
換手段12の出力が入力される比較回路74とで構成す
ることにより、外乱要素により、回折光に乱れが生じる
虞れがある場合でも、上記比較回路74、制御回路7
3、モジュレータドライバ72でモジュレータ71を制
御し、該モジュレータ71からの出力を制御することに
より、上述のレーザ光源7の出力を直接、制御するのと
同様に、0次光の出力を安定させて現像停止位置を正確
に検出することができるようになっている。FIG. 3 shows that the light quantity control means 13 is
(EO modulator) 7 provided on the optical path until the laser beam emitted from the light reaches the photosensitive film 2
1, a modulator driver 72 for controlling the modulator 71, and a control circuit 7 for the modulator driver 72.
3 and the comparison circuit 74 connected to the control circuit 73 and to which the output of the first photoelectric conversion means 12 is input, there is a possibility that the disturbance light may cause disturbance in the diffracted light. Even in this case, the comparison circuit 74 and the control circuit 7
3. By controlling the modulator 71 with the modulator driver 72 and controlling the output from the modulator 71, the output of the zero-order light can be stabilized in the same manner as directly controlling the output of the laser light source 7 described above. The development stop position can be accurately detected.
【0025】なお、レーザ光源7の出力を光量制御手段
により直接制御する場合には、レーザ光源7そのものが
制御応答性の良い半導体レーザ等に限定されるが、上記
モジュレータ71を用いた光量制御手段はHe−Neレ
ーザ等のガスレーザのような応答性の悪いレーザ光源に
も適用できるという利点がある。When the output of the laser light source 7 is directly controlled by the light quantity control means, the laser light source 7 itself is limited to a semiconductor laser or the like having a good control response, but the light quantity control means using the modulator 71 is used. Is advantageous in that it can be applied to a laser light source with poor response, such as a gas laser such as a He-Ne laser.
【0026】[0026]
【発明の効果】本発明の現像方法及び現像装置には以
上、説明したような構成であって、レーザ光の光路中に
浮遊する塵埃や霧状の現像液或は現像液面のゆらぎ等の
外乱要素が存在する場合でも、これら外乱要素に影響さ
れず、正確に正規の現像停止位置を検出し、精度の良い
ピットを形成することを可能にするという効果がある。As described above, the developing method and the developing apparatus of the present invention have the above-described structure, and are capable of preventing dust floating in the optical path of laser light, fog-like developer or fluctuation of the developer surface. Even when there are disturbance elements, there is an effect that the normal development stop position can be accurately detected without being affected by these disturbance elements, and a highly accurate pit can be formed.
【図1】第1実施例のブロック図。FIG. 1 is a block diagram of a first embodiment.
【図2】出力波形図。FIG. 2 is an output waveform diagram.
【図3】第2実施例のブロック図。FIG. 3 is a block diagram of a second embodiment.
【図4】従来例のブロック図。FIG. 4 is a block diagram of a conventional example.
【図5】出力波形図。FIG. 5 is an output waveform diagram.
1…現像装置、2…光感応膜、3…ディスク基盤、4…
回転駆動手段、5…現像液供給手段、6…現像液、7…
レーザ光源、8…モニター光、9…0次光、10…1次
光、11,12…第1、第2の光電変換手段、13…光
量制御手段、61…レーザドライバ、62…制御回路、
63…比較回路、71…モジュレータ、72…モジュレ
ータドライバ、73…制御回路、74…比較回路。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Developing device, 2 ... Light sensitive film, 3 ... Disc base, 4 ...
Rotation driving means, 5: developer supply means, 6: developer, 7 ...
Laser light source, 8 monitor light, 9 zero-order light, 10 primary light, 11, 12 first and second photoelectric conversion means, 13 light quantity control means, 61 laser driver, 62 control circuit,
63: comparison circuit, 71: modulator, 72: modulator driver, 73: control circuit, 74: comparison circuit.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−280232(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 7/26 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-3-280232 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G11B 7/26
Claims (4)
させると共に、上記光感応膜上に現像液を供給し、該現
像液で上記光感応膜の感光部を溶かしながら、該部にモ
ニター用のレーザ光を照射して、回折光の出力を検出
し、その検出結果に基づいて現像を停止するようにした
現像方法において、 上記光感応膜に照射されるレーザ光の光量を制御するこ
とにより、現像液面のゆらぎ等の回折光の出力の外乱要
素に基づく、上記回折光の出力の乱れを除去することが
できるようにしたことを特徴とする現像方法。1. A disk substrate on which a photosensitive film is formed is rotated, a developing solution is supplied onto the photosensitive film, and the photosensitive solution of the photosensitive film is melted with the developing solution. In the developing method of irradiating the laser light, detecting the output of the diffracted light, and stopping the development based on the detection result, by controlling the amount of the laser light applied to the photosensitive film, A developing method for removing the disturbance of the output of the diffracted light based on a disturbance element of the output of the diffracted light such as fluctuation of the developer surface.
駆動手段で回転させると共に、上記光感応膜上に現像液
供給手段で現像液を供給し、該現像液で上記光感応膜の
感光部を溶かしながら、該部にレーザ光源からモニター
用のレーザ光を照射して、回折光の出力を、光電変換手
段で検出し、その検出結果に基づいて現像を停止するよ
うにした現像装置において、 上記光感応膜に照射されるレーザ光の光量を制御する光
量制御手段を設け、該光量制御手段により、現像液面の
ゆらぎ等の回折光の出力の外乱要素の存在に関係なく、
上記回折光の出力を安定させたことを特徴とする現像装
置。2. A disk substrate on which a photosensitive film is formed is rotated by a rotation driving means, a developing solution is supplied onto the photosensitive film by a developing solution supply means, and the photosensitive solution of the photosensitive film is supplied with the developing solution. While melting, irradiating the laser light for monitoring from the laser light source to the portion, the output of the diffracted light is detected by the photoelectric conversion means, in a developing device that stops the development based on the detection result, Providing light amount control means for controlling the amount of laser light applied to the light-sensitive film, by the light amount control means, regardless of the presence of a disturbance element in the output of diffracted light such as fluctuations in the developer surface,
A developing device wherein the output of the diffracted light is stabilized.
手段を、レーザ光源の出力を制御するレーザドライバ
と、該レーザドライバの制御回路と、該制御回路に接続
されていて、光電変換手段の出力が入力される比較回路
とで構成したことを特徴とする現像装置。3. The developing device according to claim 2, wherein the light amount control means includes a laser driver for controlling an output of the laser light source, a control circuit of the laser driver, and a control circuit of the photoelectric conversion means connected to the control circuit. A developing device comprising a comparison circuit to which an output is input.
手段を、レーザ光源から発射されたレーザ光が光感応膜
に至るまでの光路上に設けられたモジュレータと、該モ
ジュレータを制御するモジュレータドライバと、該モジ
ュレータドライバの制御回路と、該制御回路に接続され
ていて、光電変換手段の出力が入力される比較回路とで
構成したことを特徴とする現像装置。4. A developing device according to claim 2, wherein said light amount controlling means includes a modulator provided on an optical path from a laser light emitted from a laser light source to a photosensitive film, and a modulator driver for controlling said modulator. And a control circuit for the modulator driver, and a comparison circuit connected to the control circuit and to which an output of the photoelectric conversion unit is input.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04066518A JP3079754B2 (en) | 1992-03-25 | 1992-03-25 | Developing method and developing device |
| US08/035,251 US5357304A (en) | 1992-03-25 | 1993-03-22 | Image development apparatus and method |
| EP93302243A EP0562841B1 (en) | 1992-03-25 | 1993-03-24 | Image development apparatus and method |
| AT93302243T ATE167947T1 (en) | 1992-03-25 | 1993-03-24 | DEVICE AND METHOD FOR DEVELOPING AN IMAGE |
| DE69319363T DE69319363T2 (en) | 1992-03-25 | 1993-03-24 | Device and method for developing an image |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04066518A JP3079754B2 (en) | 1992-03-25 | 1992-03-25 | Developing method and developing device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05274721A JPH05274721A (en) | 1993-10-22 |
| JP3079754B2 true JP3079754B2 (en) | 2000-08-21 |
Family
ID=13318166
Family Applications (1)
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