JP3081952B2 - Method for processing alignment film for liquid crystal display element and method for manufacturing liquid crystal display element - Google Patents
Method for processing alignment film for liquid crystal display element and method for manufacturing liquid crystal display elementInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子用配向膜
の処理方法、液晶表示素子の製造方法およびこの方法で
製造された表示むらの極めて少ない液晶表示素子に関す
る。更に詳しくは液晶表示素子に用いる配向膜に、配向
処理を行った後に気体中にて軟X線を照射することを特
徴とする液晶表示素子用配向膜の処理方法、配向膜の配
向処理を行った後に気体中にて軟X線を照射する工程を
含むことにより液晶表示素子の表示むらを低減させて品
質ならびに歩留まりの改善された液晶表示素子の製造方
法、およびその製造法により製造された液晶表示素子に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for treating an alignment film for a liquid crystal display device, a method for producing a liquid crystal display device, and a liquid crystal display device produced by this method with very little display unevenness. More specifically, a method for treating an alignment film for a liquid crystal display element, comprising irradiating soft X-rays in a gas after performing an alignment treatment on the alignment film used for the liquid crystal display element, and performing an alignment treatment of the alignment film Irradiating soft X-rays in a gas after the process to reduce the unevenness of display of the liquid crystal display element to improve the quality and the yield thereof, and the liquid crystal manufactured by the method. It relates to a display element.
【0002】[0002]
【従来の技術】液晶表示装置は、駆動電圧が低く、軽量
かつ高画質であることから、パソコンやワープロなどの
OA機器分野への導入が活発である。これらの用途に用
いられる液晶表示素子は、文字表示や図面表示が求めら
れるので、必然的に大画面、多画素、高精細の方向に向
かっており表示欠陥の無い高品質の液晶表示素子の製造
方法が求められている。液晶表示素子としては、上下で
一対をなす電極基板の表面で、ネマチック液晶分子の配
列方向を90度ねじったツイストネマチックモードの物
が汎用されている。上記の液晶分子のねじれ角を180
〜300度と大きくした物も、スーパーツイステッドネ
マチックモードとして知られている。また近年はマトリ
クス表示やカラー表示等を行うために、多数の画素電極
のON−OFFを行うMIM(金属−絶縁相−金属)素
子や、TFT(電界効果型薄膜トランジスタ)素子を用
いるアクティブマトリックス型ツイストネマチックモー
ドの液晶表示素子の開発が盛んになってきた。2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices have a low driving voltage, are light in weight and have high image quality, and are therefore being actively introduced into the field of OA equipment such as personal computers and word processors. Since liquid crystal display elements used for these applications are required to display characters and drawings, it is inevitable to produce large-screen, multi-pixel, high-definition liquid crystal display elements with no display defects. A method is needed. As the liquid crystal display element, a twisted nematic mode in which the arrangement direction of nematic liquid crystal molecules is twisted by 90 degrees on the surface of a pair of upper and lower electrode substrates is generally used. The twist angle of the above liquid crystal molecules is 180
An object having a size as large as 300 degrees is also known as a super twisted nematic mode. In recent years, in order to perform matrix display, color display, or the like, an active matrix type twist using an MIM (metal-insulating phase-metal) element for turning on / off a large number of pixel electrodes or a TFT (field-effect thin film transistor) element The development of nematic mode liquid crystal display devices has become active.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】このような液晶表示素
子に使用される配向膜としては、おもにポリイミドやポ
リアミドなどの有機系の材料が用いられている。ポリイ
ミド系の配向膜は、表面の極性が大きい材料であり、特
に配向処理をした後に配向膜の表面が活性化されるため
に、イオン性または極性の不純物を吸着しやすくなって
いる。そして、不純物の吸着した部分は、配向膜の配向
能力が変化したり、不純物がコンデンサーとして作用し
たり、あるいは液晶と配向膜との界面に発生するであろ
う電気二重層の状態が変化したりして、画像表示用とし
ての液晶表示素子の表示むらの原因となっている。この
液晶表示素子の表示むらは、明るさやコントラストある
いは色度のむらが画面のごく一部に存在するものから、
画面全体に広がっているものなど多種多様である。たと
えば、(1)液晶表示素子に混入した微少なゴミの周囲
に発生するゴミむら、(2)液晶表示素子のシール剤の
周辺に発生するシール剤むら、(3)液晶表示素子の液
晶注入口の回りに発生する半円状のむら、(4)液晶表
示素子の洗浄の際に混入した不純物に起因する洗浄むら
などが挙げられる。As an alignment film used in such a liquid crystal display device, an organic material such as polyimide or polyamide is mainly used. The polyimide-based alignment film is a material having a large surface polarity. In particular, since the surface of the alignment film is activated after performing the alignment treatment, ionic or polar impurities are easily adsorbed. Then, in the portion where the impurities are adsorbed, the alignment ability of the alignment film changes, the impurities function as a capacitor, or the state of the electric double layer that may occur at the interface between the liquid crystal and the alignment film changes. This causes display unevenness of the liquid crystal display element for image display. The display unevenness of this liquid crystal display element is based on the fact that unevenness of brightness, contrast or chromaticity exists in only a part of the screen,
There are a wide variety, such as those that are spread over the entire screen. For example, (1) unevenness of dust generated around minute dust mixed in the liquid crystal display element, (2) unevenness of sealant generated around the sealant of the liquid crystal display element, (3) liquid crystal injection port of the liquid crystal display element And (4) cleaning unevenness caused by impurities mixed in cleaning the liquid crystal display element.
【0004】近年、空気中の微少なゴミ、特に人体から
発生する脂肪酸類などに起因するゴミむらが大きな問題
となっている。クリーン化技術の進歩にともない、大き
なゴミが混入することは希になったが、微少なゴミを完
全に取り除くことはまだ難しい。1ミクロン程度の微小
なゴミが入ってもゴミからイオン性または極性の不純物
が溶出し、それが周辺に影響して目に見えるほどのむら
として顕著に現れるものと考えられている。最近では、
この微小のゴミを除去するために、配向処理の後に純水
あるいは有機溶剤などによる洗浄処理が行われている。
洗浄力を大きくするために、ブラッシング、ジェットス
プレーあるいは超音波洗浄等の物理的洗浄法を組み合わ
せることも一般的であり、微小なゴミの除去に効果的で
ある。しかしながら、洗浄液中にも微量の不純物は含ま
れており、これを完全に除去することはやはり困難であ
る。そして、洗浄液中に含まれる不純物に起因する洗浄
むらが新たな問題となっている。一方、素子中に混入す
る不純物を低減する試みの外に、配向膜の吸着能を制御
して不純物の影響を少なくすることも提案されている。
特開平1ー185617号公報は、配向膜表面をフッ素
化することにより、配向膜表面への不純物の吸着をおさ
え、液晶パネルの表示むらを防止する方法を開示してい
る。しかしながら、該公報の方法は、不純物の吸着を抑
制する点では効果的であるが、フッ素化処理により配向
膜の表面状態が極端に変化してしまうため、配向膜の配
向能力までもが劣化するといった問題があった。[0004] In recent years, minute dust in the air, especially dust unevenness caused by fatty acids generated from the human body, has become a serious problem. With the progress of clean technology, it is rare that large trash is mixed in, but it is still difficult to completely remove small trash. It is considered that ionic or polar impurities are eluted from the dust even if minute dust of about 1 micron enters, and the dust affects the surroundings and appears as noticeable unevenness. recently,
In order to remove the minute dust, a cleaning process using pure water or an organic solvent is performed after the alignment process.
In order to increase the cleaning power, it is common to combine physical cleaning methods such as brushing, jet spraying, or ultrasonic cleaning, which is effective for removing minute dust. However, trace amounts of impurities are also contained in the cleaning solution, and it is still difficult to completely remove them. Further, uneven cleaning caused by impurities contained in the cleaning liquid is a new problem. On the other hand, in addition to attempts to reduce impurities mixed in the device, it has been proposed to control the adsorptivity of the alignment film to reduce the influence of impurities.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-185617 discloses a method of suppressing the adsorption of impurities on the surface of an alignment film by fluorinating the surface of the alignment film and preventing display unevenness of a liquid crystal panel. However, although the method of this publication is effective in suppressing the adsorption of impurities, the surface state of the alignment film is extremely changed by the fluorination treatment, so that the alignment ability of the alignment film is deteriorated. There was such a problem.
【0005】配向膜表面にイオン性または極性の不純物
が吸着される際に働く力は、水素結合、双極子−双極子
相互作用、クーロン−クーロン相互作用などが考えられ
る。一般にこのような相互作用は極性の大きいもの同士
の方が大きくなるため、配向膜の表面エネルギーの極性
成分を低減することにより、不純物の吸着を抑制できる
と考えられる。配向膜の表面エネルギーを低減する方法
としては、(1)配向膜の分子構造を調整したり、配向
膜中に添加剤を加えたりする方法、(2)配向膜形成の
後に表面処理剤で処理する方法、(3)配向処理をした
後に、酸素またはオゾンの存在する雰囲気中で紫外線を
照射する方法、等が挙げられる。この中、(1)と
(2)の方法では、配向能あるいは電気特性などの配向
膜自体の諸特性が大きく変化するため好ましくない。
(3)の方法では、紫外線照射によって配向膜が劣化し
てしまうために好ましくない。[0005] The force acting when an ionic or polar impurity is adsorbed on the surface of the alignment film is considered to be a hydrogen bond, a dipole-dipole interaction, a Coulomb-Coulomb interaction, or the like. In general, since such interactions are greater between those having a large polarity, it is considered that adsorption of impurities can be suppressed by reducing the polar component of the surface energy of the alignment film. Methods for reducing the surface energy of the alignment film include (1) a method of adjusting the molecular structure of the alignment film and adding an additive to the alignment film, and (2) a treatment with a surface treatment agent after forming the alignment film. And (3) a method of irradiating ultraviolet rays in an atmosphere in which oxygen or ozone is present after performing the orientation treatment. Among them, the methods (1) and (2) are not preferable because various characteristics of the alignment film itself such as the alignment ability and the electrical characteristics are greatly changed.
The method (3) is not preferable because the alignment film is deteriorated by the irradiation of ultraviolet rays.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、このような従
来技術の欠点を改善するためになされたものであり、配
向膜の表面エネルギーを低減するような液晶表示素子用
配向膜の処理方法を提供すること、および前記配向膜の
処理方法を用いて液晶表示素子の表示むらを防止できる
ような製造方法およびこの方法により製造された表示む
らのない液晶表示素子を提供することを目的とする。本
発明の液晶表示素子用配向膜の処理方法は、透明電極を
設けた透明基板上に塗布された有機高分子材料からなる
配向膜をラビング処理した後、気体中で該配向膜に軟X
線を5秒間以上照射することを特徴とする。すなわち、
波長の長い軟X線を照射すると、その電離作用により発
生した気体イオンが配向膜上に吸着され、配向膜の表面
エネルギーの極性成分が低減するため、液晶表示素子の
表示むらを防止できる。このことは、軟X線照射により
発生した気体イオンが、配向処理により活性化した表面
の吸着サイトに吸着されて、これ以上の不純物を表面が
吸着し得なくなるといった現象としても理解できる。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and a method of treating an alignment film for a liquid crystal display device, which reduces the surface energy of the alignment film. And a manufacturing method capable of preventing display unevenness of a liquid crystal display element by using the method for treating an alignment film, and a liquid crystal display element manufactured by this method without display unevenness. . In the method for treating an alignment film for a liquid crystal display element of the present invention, a rubbing treatment is performed on an alignment film made of an organic polymer material applied on a transparent substrate provided with a transparent electrode.
It is characterized in that the line is irradiated for 5 seconds or more. That is,
When soft X-rays having a long wavelength are irradiated, gas ions generated by the ionizing action are adsorbed on the alignment film, and the polar component of the surface energy of the alignment film is reduced, so that display unevenness of the liquid crystal display element can be prevented. This can be understood as a phenomenon in which gas ions generated by the soft X-ray irradiation are adsorbed on the adsorption sites on the surface activated by the alignment treatment, and the surface cannot adsorb any more impurities.
【0007】本発明の軟X線を照射する雰囲気は、気体
中であればなんら限定されるものではない。好ましい気
体としては、酸素、窒素、二酸化炭素、水蒸気、ヘリウ
ム、ネオン、アルゴンおよびそれらの混合気体を挙げる
ことができる。本発明における軟X線照射による物質の
表面エネルギーを低減する効果は、液晶表示素子用配向
膜の表面処理だけに限られるものではなく、本質的に如
何なる物質に対しても用いることが出来る。本発明に用
いられる波長の長い軟X線は、エネルギーが低いため物
質の透過能が非常に弱いものである。これは、透明な塩
化ビニール板などで容易に遮蔽できるものであり、人体
に危険を及ぼすこともなく、安全管理の点で好ましいも
のである。さらに、配向膜の劣化を招かないといった点
でも有利に働くと考えられる。The atmosphere for irradiating the soft X-rays of the present invention is not particularly limited as long as it is in a gas. Preferred gases include oxygen, nitrogen, carbon dioxide, water vapor, helium, neon, argon and mixtures thereof. The effect of reducing the surface energy of a substance by soft X-ray irradiation in the present invention is not limited to the surface treatment of the alignment film for a liquid crystal display element, but can be used for essentially any substance. The soft X-rays having a long wavelength used in the present invention have a very low energy and a very low permeability to a substance. This can be easily shielded by a transparent vinyl chloride plate or the like, does not pose a danger to the human body, and is preferable in terms of safety management. Further, it is considered that this also works advantageously in that the alignment film is not deteriorated.
【0008】本発明で用いられる軟X線照射装置は、軟
X線のエネルギーが4〜9.5キロ電子ボルト(ke
V)で出力を安定してコントロールできるものであれば
特に限定はされるものではない。軟X線照射時間は2秒
以上であり、好ましくは5〜300秒である。照射時間
2秒未満では、軟X線照射による表面エネルギーの低減
効果が小さくなってしまう。軟X線照射距離は、特に限
定はされるものではないが、通常は1500mm以下に
調節され、好ましくは10〜400mmが適当である。The soft X-ray irradiator used in the present invention has a soft X-ray energy of 4 to 9.5 kiloelectron volts (ke).
There is no particular limitation as long as the output can be controlled stably in V). The soft X-ray irradiation time is 2 seconds or more, preferably 5 to 300 seconds. If the irradiation time is shorter than 2 seconds, the effect of reducing the surface energy by soft X-ray irradiation will be small. The soft X-ray irradiation distance is not particularly limited, but is usually adjusted to 1500 mm or less, and preferably 10 to 400 mm.
【0009】本発明の液晶表示素子の製造方法は、一対
の透明基板上に透明電極を設け、該透明電極上に有機高
分子物質からなる配向膜を形成し、該配向膜をラビング
処理し、該基板をスペーサーを介して対向させて組み立
てた後、液晶材料を封入する工程を含む液晶表示素子の
製造法において、配向膜をラビング処理した後に気体中
で該配向膜に軟X線を5秒間以上照射することを特徴と
する。本発明の液晶表示素子の製造法においては、軟X
線照射の前に洗浄液による洗浄処理を行うことも、ま
た、軟X線照射の後に洗浄処理を行うこともできる。洗
浄方法としては、ブラッシング、ジェットスプレー、蒸
気洗浄あるいは超音波洗浄などが挙げられる。これらの
方法は単独で行っても良いし、併用しても良い。洗浄液
としては純水あるいは、メチルアルコール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコールなどの各種アルコール
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、塩化メチレン等のハロゲン系溶剤、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン類を用いることができるがこ
れらに限定されるものではない。もちろん、これらの洗
浄液は十分に精製された不純物の少ない物が用いられ
る。In the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, a transparent electrode is provided on a pair of transparent substrates, an alignment film made of an organic polymer substance is formed on the transparent electrode, and the alignment film is rubbed. After assembling the substrate facing each other via a spacer, a method for manufacturing a liquid crystal display element including a step of enclosing a liquid crystal material, a soft X-ray is applied to the alignment film for 5 seconds in a gas after rubbing the alignment film in a gas. Irradiation is characterized above. In the manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention, the soft X
The cleaning treatment with the cleaning liquid can be performed before the irradiation with the X-rays, or the cleaning treatment can be performed after the irradiation with the soft X-rays. Examples of the cleaning method include brushing, jet spray, steam cleaning, and ultrasonic cleaning. These methods may be performed alone or in combination. As the cleaning liquid, pure water or various alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, and isopropyl alcohol, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, halogen solvents such as methylene chloride, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone are used. Although it can be used, it is not limited to these. Needless to say, these cleaning solutions are sufficiently purified and contain few impurities.
【0010】本発明おいては、配向膜の材料としてはポ
リイミド樹脂が好ましく用いられる。ポリイミドとして
は、その前駆体として、一般式(1)In the present invention, a polyimide resin is preferably used as a material for the alignment film. As a polyimide, a precursor represented by the general formula (1)
【0011】[0011]
【化3】 Embedded image
【0012】(式中、R1は4価の、脂環式、芳香族又
は複素環式の炭化水素残基を示し、基中にハロゲン等の
基を有することもでき、R2は2価の炭化水素残基を示
し、基中に−O−、−S−、または、ハロゲン原子また
はシアノ基を有することもできる。)で示される構造単
位を有するポリアミック酸を用いて製造された物が用い
られる。即ち、ポリアミック酸としては、ピロメリット
酸二無水物の様な芳香属環を有するテトラカルボン酸二
無水物や、シクロブタン酸テトラカルボン酸二無水物等
の脂環式テトラカルボン酸二無水物にジアミノ化合物を
反応させて得られるポリアミック酸等が好ましく用いら
れる。(Wherein, R 1 represents a tetravalent alicyclic, aromatic or heterocyclic hydrocarbon residue, and may have a group such as halogen in the group, and R 2 represents a divalent group. Which may have -O-, -S-, or a halogen atom or a cyano group in the group), and a product produced using a polyamic acid having a structural unit represented by: Used. That is, as the polyamic acid, tetracarboxylic dianhydride having an aromatic ring such as pyromellitic dianhydride, or alicyclic tetracarboxylic dianhydride such as cyclobutanoic tetracarboxylic dianhydride can be used as a diamino acid. A polyamic acid obtained by reacting a compound is preferably used.
【0013】テトラカルボン酸二無水物としては、ピロ
メリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’
−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,
4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、
2,3,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)スルホン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタリ
ンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタ
リンテトラカルボン酸二無水物等の芳香属系テトラカル
ボン酸二無水物を、又、脂環式テトラカルボン酸として
は、シクロブタン、シクロヘキサン、シクロオクタン、
ビシクロオクタン等の環を有する脂環式テトラカルボン
酸の二無水物や下記の構造式の物をあげることができ
る。Examples of the tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride. Acid dianhydride, 2,3,3 ', 4'
-Biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ',
4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride,
2,3,3 ′, 4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfonic acid dianhydride An aromatic tetracarboxylic dianhydride such as 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride or 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride; As the formula tetracarboxylic acid, cyclobutane, cyclohexane, cyclooctane,
Examples thereof include dianhydrides of alicyclic tetracarboxylic acids having a ring such as bicyclooctane and those having the following structural formulas.
【0014】[0014]
【化4】 Embedded image
【0015】又、ポリアミック酸のもう一方の原料であ
るジアミノ化合物としては、1,1−ビス[4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル]シクロヘキサン、1,1
−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−4
−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス[4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル]−4−エチルシクロヘキサ
ン、1,1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル]−4−プロピルシクロヘキサン、1,1−ビス
[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−4−ブチ
ルシクロヘキサン、1,1−ビス[4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル]−4−ペンチルシクロヘキサン、
1,1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]−4−ヘキシルシクロヘキサン、1,1−ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−4−ヘプチル
シクロヘキサン、1,1−ビス[4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル]−4−オクチルシクロヘキサン、The diamino compound which is another raw material of the polyamic acid includes 1,1-bis [4- (4-
Aminophenoxy) phenyl] cyclohexane, 1,1
-Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -4
-Methylcyclohexane, 1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -4-ethylcyclohexane, 1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -4-propylcyclohexane, 1-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -4-butylcyclohexane, 1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -4-pentylcyclohexane,
1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -4-hexylcyclohexane, 1,1-bis [4
-(4-aminophenoxy) phenyl] -4-heptylcyclohexane, 1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -4-octylcyclohexane,
【0016】2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル]ブタン、2,2−ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ペンタン、2,
2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘ
キサン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)
フェニル]ヘプタン、2,2−ビス[4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル]オクタン、2,2−ビス[4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル]ノナン、2,2−
ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]デカ
ン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル]ドデカン、1,1−ビス[4−(4−アミノベン
ジル)フェニル]シクロヘキサン、1,1−ビス[4−
(4−アミノベンジル)フェニル]−4−メチルシクロ
ヘキサン、1,1−ビス[4−(4−アミノベンジル)
フェニル]−4−エチルシクロヘキサン、1,1−ビス
[4−(4−アミノベンジル)フェニル]−4−プロピ
ルシクロヘキサン、1,1−ビス[4−(4−アミノベ
ンジル)フェニル]−4−ブチルシクロヘキサン、1,
1−ビス[4−(4−アミノベンジル)フェニル]−4
−ペンチルシクロヘキサン、1,1−ビス[4−(4−
アミノベンジル)フェニル]メタン、2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] butane, 2,2-bis [4
-(4-aminophenoxy) phenyl] pentane, 2,
2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy)
Phenyl] heptane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] octane, 2,2-bis [4-
(4-aminophenoxy) phenyl] nonane, 2,2-
Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] decane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] dodecane, 1,1-bis [4- (4-aminobenzyl) phenyl] cyclohexane, 1,1-bis [4-
(4-aminobenzyl) phenyl] -4-methylcyclohexane, 1,1-bis [4- (4-aminobenzyl)
Phenyl] -4-ethylcyclohexane, 1,1-bis [4- (4-aminobenzyl) phenyl] -4-propylcyclohexane, 1,1-bis [4- (4-aminobenzyl) phenyl] -4-butyl Cyclohexane, 1,
1-bis [4- (4-aminobenzyl) phenyl] -4
-Pentylcyclohexane, 1,1-bis [4- (4-
Aminobenzyl) phenyl] methane,
【0017】4,4’−ジアミノフェニルエーテル、
4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジア
ミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニ
ルスルフィド、4,4’−ジ(メタ−アミノフェノキ
シ)ジフェニルスルホン、4,4’−(パラ−アミノフ
ェノキシ)ジフェニルスルホン、オルト−フェニレンジ
アミン、メタ−フェニレンジアミン、パラ−フェニレン
ジアミン、ベンジジン、2,2’−ジアミノベンゾフェ
ノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−
ジアミノジフェニル−2,2’−プロパン、1,5−ジ
アミノナフタレン、1,8−ジアミノナフタレン、2,
2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘ
キサメチルプロパン等の芳香族ジアミノ化合物、ならび
に1,4−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−ジアミ
ノジシクロヘキシルメタン等の脂環式ジアミノ化合物が
ある。しかし、本発明で用いられる配向膜の原料である
テトラカルボン酸二無水物およびジアミノ化合物はこれ
らに限定されるものではない。また、酸無水物及びジア
ミノ化合物はそれらの2種類以上を組み合わせて用いる
こともできる。4,4′-diaminophenyl ether,
4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 4,4'-di (meth-aminophenoxy) diphenylsulfone, 4,4 '-(para-amino Phenoxy) diphenyl sulfone, ortho-phenylenediamine, meta-phenylenediamine, para-phenylenediamine, benzidine, 2,2′-diaminobenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, 4,4′-
Diaminodiphenyl-2,2′-propane, 1,5-diaminonaphthalene, 1,8-diaminonaphthalene, 2,
There are aromatic diamino compounds such as 2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexamethylpropane, and alicyclic diamino compounds such as 1,4-diaminocyclohexane and 4,4'-diaminodicyclohexylmethane. However, the tetracarboxylic dianhydride and the diamino compound which are the raw materials of the alignment film used in the present invention are not limited to these. Further, the acid anhydride and the diamino compound may be used in combination of two or more thereof.
【0018】本発明に関わるポリイミド配向膜を基板上
に設けるには、一般にポリイミド化合物は溶媒に不溶で
あるため、この前駆体であるテトラカルボン酸二無水物
とジアミノ化合物の縮合によって得られるポリアミック
酸を溶媒に溶かして、基板上に塗布した後、加熱してイ
ミド化する方法が用いられる。具体的には、ポリアミッ
ク酸をN−メチル−2−ピロリドン(NMP)、ジメチ
ルアセトアミド(DMAc)、ジメチルホルムアミド
(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、ブチ
ルセルソルブ(BC)、エチルカルビトール、プロピレ
ングリコールモノブチルエーテル、3−メチル−3−メ
トキシブタノールなどの溶剤に溶解し、0.1〜30重
量%溶液、好ましくは1〜10重量%溶液に調製し、こ
の溶液を刷毛塗り法、浸積法、回転塗布法、スプレー
法、印刷法などにより塗布し、基板上に塗膜を形成す
る。塗膜形成後、50〜150℃、好ましくは80〜1
20℃で溶媒を蒸発させた後、150℃〜400℃、好
ましくは、180℃〜280℃で加熱処理を行い、脱水
閉環反応をさせてポリベンジルイミド系高分子膜からな
る液晶配向膜を設ける。得られた高分子膜の基板への密
着性が良好でない場合には、事前に基板表面上にシラン
カップリング剤で表面処理を行った後、高分子膜を形成
すれば接着性は改善される。このようにして有機高分子
系の膜を基板面に設けた後、この被膜面を布などで一定
方向にラビングして液晶配向膜が得られる。In order to provide a polyimide alignment film according to the present invention on a substrate, since a polyimide compound is generally insoluble in a solvent, a polyamic acid obtained by condensation of a tetracarboxylic dianhydride and a diamino compound as a precursor thereof is used. Is dissolved in a solvent, applied on a substrate, and then heated to imidize. Specifically, the polyamic acid is N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), dimethylacetamide (DMAc), dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMSO), butylcellosolve (BC), ethyl carbitol, propylene glycol It is dissolved in a solvent such as monobutyl ether or 3-methyl-3-methoxybutanol to prepare a 0.1 to 30% by weight solution, preferably a 1 to 10% by weight solution, and the solution is brushed, dipped, Coating is performed by a spin coating method, a spray method, a printing method, or the like to form a coating film on a substrate. After coating film formation, 50 to 150 ° C, preferably 80 to 1
After evaporating the solvent at 20 ° C, a heat treatment is performed at 150 ° C to 400 ° C, preferably 180 ° C to 280 ° C, and a dehydration ring-closing reaction is performed to provide a liquid crystal alignment film made of a polybenzylimide polymer film. . If the adhesion of the obtained polymer film to the substrate is not good, after performing a surface treatment with a silane coupling agent on the substrate surface in advance and then forming the polymer film, the adhesion is improved. . After the organic polymer film is provided on the substrate surface in this manner, the coated surface is rubbed in a certain direction with a cloth or the like to obtain a liquid crystal alignment film.
【0019】この基板上には透明電極、具体的にはIT
O(酸化インジウム−酸化スズ)などの透明電極が形成
されている。更に、この電極の下に基板からのアルカリ
の溶出を防止する目的で絶縁膜を形成していてもよく、
また、偏光板、カラーフィルター膜、光透過防止膜など
をセルに設けてもよい。これらその他のセル構成要素は
従来の液晶素子の構成に従って適当な物を使用すること
ができる。このような基板を用いてセルを作り、液晶を
注入した後、注入口を封止する。または、液晶を基板上
に散布した後、基板を重ね合わせ、液晶が漏れないよう
に密封することにより液晶表示素子を作成してもよい。
本発明の液晶表示素子に使用される液晶としては、通常
のネマチック液晶のほかに二色性色素を添加した液晶、
強誘電性液晶そのほか通常表示用素子に使用できる液晶
ならば何でも使用することができる。本発明で用いるこ
とのできる液晶の成分としては、一例をあげると、後記
の一般式(2)で表される液晶化合物や一般式(3)で
表される液晶化合物などを示すことができる。On this substrate, a transparent electrode, specifically, an IT
A transparent electrode such as O (indium oxide-tin oxide) is formed. Further, an insulating film may be formed under the electrode for the purpose of preventing alkali elution from the substrate,
Further, a polarizing plate, a color filter film, a light transmission preventing film, or the like may be provided in the cell. As these other cell components, appropriate components can be used according to the configuration of a conventional liquid crystal element. A cell is formed using such a substrate, and after the liquid crystal is injected, the injection port is sealed. Alternatively, a liquid crystal display element may be formed by dispersing liquid crystal on a substrate, then superposing the substrates, and sealing the liquid crystal so that the liquid crystal does not leak.
As the liquid crystal used in the liquid crystal display device of the present invention, a liquid crystal to which a dichroic dye is added in addition to a normal nematic liquid crystal,
Any ferroelectric liquid crystal or any other liquid crystal that can be used for a normal display device can be used. Examples of the liquid crystal component that can be used in the present invention include a liquid crystal compound represented by the following general formula (2) and a liquid crystal compound represented by the following general formula (3).
【0020】[0020]
【化5】 Embedded image
【0021】(式中、R1は、炭素原子数1〜10の直
鎖状アルキル基または炭素原子数2〜10のアルケニル
基を表わし、R2は炭素原子数1〜10の直鎖状のアル
キル基もしくはアルキルオキシ基、−CN、フッ素原
子、塩素原子、−CF3、−CHF2、−OCF3または
−OCHF2を表わし、S1およびS2は水素原子、フッ
素原子、塩素原子、−CF3、−CHF2、−OCF3ま
たは−OCHF2を表わし、これらは互いに同一であっ
ても異なっていてもよく、Z1は、−COO−、−CH2
CH2−、−C≡C−または単結合を表わし、A1は、Wherein R 1 represents a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and R 2 represents a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. alkyl group or alkyloxy group, -CN, fluorine atom, chlorine atom, -CF 3, -CHF 2, represents -OCF 3 or -OCHF 2, S 1 and S 2 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, - Represents CF 3 , —CHF 2 , —OCF 3, or —OCHF 2, which may be the same or different, and Z 1 represents —COO—, —CH 2
CH 2 -, - C≡C- or a single bond, A 1 is
【0022】[0022]
【化6】 を表わす。)、Embedded image Represents ),
【0023】[0023]
【化7】 Embedded image
【0024】(式中、R3 は、一般式(2)におけるR
1と同意義であり、R4は一般式(2)におけるR2と同
意義であり、S3およびS4はそれぞれ一般式(2)にお
けるS1およびS2と同意義であり互いに同一であっても
異なっていてもよく、Z2およびZ3は、互いに同一であ
っても異なっていてもよく、一般式(2)のZ1と同意
義であり、A2およびA3は一般式(2)のA1と同意義
であり、これらは互いに同一であっても異なっていても
よい。) これらの液晶組成物の成分は、単一成分であっても複数
成分の混合物であっても良い。本発明の液晶表示素子に
用いられる液晶混合物には、発明の目的を損なわない限
り、上記した物以外の化合物を用いることができる。(Wherein R 3 is the same as R 3 in the general formula (2))
Has the same meaning as 1 , R 4 has the same meaning as R 2 in formula (2), and S 3 and S 4 have the same meaning as S 1 and S 2 in formula (2), respectively, Z 2 and Z 3 may be the same or different from each other, and have the same meaning as Z 1 in the general formula (2), and A 2 and A 3 represent the general formula It has the same meaning as A 1 in (2), and these may be the same or different. The components of these liquid crystal compositions may be a single component or a mixture of multiple components. As the liquid crystal mixture used in the liquid crystal display device of the present invention, compounds other than those described above can be used as long as the object of the invention is not impaired.
【0025】本発明の更に好ましい態様は以下の(ア)
乃至(サ)の各項に記載される。 (ア)透明電極を設けた透明基板上に形成されたポリイ
ミド系配向膜をラビング処理後、空気中で配向膜に軟X
線を5〜300秒の間のある時間照射することを特徴と
する配向膜の処理方法。 (イ)前項において軟X線のエネルギーが4〜9.5キ
ロ電子ボルト(keV)である配向膜の処理方法。 (ウ)前記(ア)項において、配向膜と軟X線源との間
隔が10〜400mmである配向膜の処理方法。 (エ)前記(ア)項において、軟X線のエネルギーが4
〜9.5keVである線源から10〜400mmの離れ
た所に配向膜をおいて軟X線を照射する、配向膜の処理
方法。 (オ)一対の透明基板上に透明電極を設け、該透明電極
上にポリイミド系配向膜を形成し、該配向膜をラビング
処理し、該基板をスペーサーを介して対向させて組み立
てた後、液晶材料を封入する工程を含む液晶表示素子の
製造法において、配向膜をラビング処理した後、空気中
で該配向膜に軟X線を5〜300秒間照射することを特
徴とする、液晶表示素子の製造方法。 (カ)前項において、軟X線のエネルギーが4〜9.5
キロ電子ボルト(keV)である液晶表示素子の製造方
法。 (キ)前記(オ)項において、軟X線源から10〜40
0mmの距離に配向膜をおいて軟X線を照射する、液晶
表示素子の製造方法。 (ク)前記(オ)項において、軟X線のエネルギーが4
〜9.5keVである線源から10〜400mmの離れ
た所に配向膜をおいて軟X線を照射する、液晶表示素子
の製造方法。 (ケ)一対の透明基板上に透明電極を設け、該透明電極
上にポリイミド系配向膜を形成し、該配向膜をラビング
処理し、該基板をスペーサーを介して対向させて組み立
てた後、前記した一般式(1)または(2)で示される
化合物を少なくとも一つ含有する液晶混合物を封入して
作成された液晶表示素子において、該配向膜がラビング
処理後に空気中で5〜300秒間の軟X線照射を受けて
いることを特徴とする液晶表示素子。 (コ)前項において、軟X線のエネルギーが4〜9.5
キロ電子ボルト(keV)である軟X線照射を受けてい
る液晶表示素子。 (サ)前記(ケ)項において、軟X線のエネルギーが4
〜9.5キロ電子ボルト(keV)である線源から10
〜400mmの距離に配向膜をおいて軟X線照射を受け
ている液晶表示素子。Further preferred embodiments of the present invention include the following (A)
(A) to (c). (A) After rubbing a polyimide-based alignment film formed on a transparent substrate provided with a transparent electrode, the alignment film is soft X in air.
A method for treating an alignment film, comprising irradiating a line with light for a certain time period of 5 to 300 seconds. (A) A method for treating an alignment film in which soft X-ray energy is 4 to 9.5 kiloelectron volts (keV) in the preceding paragraph. (C) The method for treating an alignment film according to item (a), wherein the distance between the alignment film and the soft X-ray source is 10 to 400 mm. (D) In the above item (a), the soft X-ray energy is 4
A method for treating an alignment film, which comprises irradiating soft X-rays with an alignment film placed at a distance of 10 to 400 mm from a radiation source of 9.5 keV. (E) A transparent electrode is provided on a pair of transparent substrates, a polyimide-based alignment film is formed on the transparent electrodes, the alignment film is subjected to a rubbing process, and the substrates are assembled to face each other via a spacer. In a method of manufacturing a liquid crystal display device including a step of enclosing a material, after rubbing the alignment film, irradiating the alignment film with soft X-rays for 5 to 300 seconds in air. Production method. (F) In the preceding paragraph, the energy of soft X-rays is 4 to 9.5.
A method for manufacturing a liquid crystal display element having kilo-electron volts (keV). (G) In the above item (e), 10 to 40 minutes from the soft X-ray source.
A method for manufacturing a liquid crystal display element, wherein soft X-rays are irradiated with an alignment film at a distance of 0 mm. (H) In the above item (e), the energy of the soft X-ray is 4
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising irradiating soft X-rays with an alignment film placed at a distance of 10 to 400 mm from a radiation source of 9.5 keV. (G) A transparent electrode is provided on a pair of transparent substrates, a polyimide-based alignment film is formed on the transparent electrodes, the alignment film is subjected to a rubbing treatment, and the substrates are assembled by facing each other via a spacer. In a liquid crystal display element prepared by enclosing a liquid crystal mixture containing at least one compound represented by the general formula (1) or (2), the alignment film is softened in air for 5 to 300 seconds after rubbing. A liquid crystal display device which is receiving X-ray irradiation. (G) In the preceding paragraph, the energy of the soft X-ray is 4 to 9.5.
A liquid crystal display device receiving soft X-ray irradiation of kiloelectron volts (keV). (C) In the above (g), the energy of the soft X-ray is 4
From a source that is ~ 9.5 kiloelectron volts (keV)
A liquid crystal display device receiving soft X-ray irradiation with an alignment film at a distance of up to 400 mm.
【0026】[0026]
【実施例】以下に実施例および比較例を示して本発明を
更に具体的に記載するが、本発明は、これらの実施例に
限定されるものではない。なお、これらの例で用いた表
面エネルギーの測定法は以下の通りである。配向膜の表
面エネルギーの測定は表面エネルギーの極性成分、分散
成分が既知である2つの液体を用いてその接触角を測定
し算出した。接触角の値は以下のような式から表面エネ
ルギーと関係づけられる。固体表面(固体の表面エネル
ギーをγSとする)に表面エネルギーγLを持つ液体が接
触角θで平衡になっている場合を示す。この系では、Y
oungの式が成立する。 γS = γSL + γLcosθ ここで、γSLは固体と液体の間に働くエネルギーで界面
の相互作用力と関係がある。付着の仕事は Wa = γS + γL − γSL で表され、式と組み合わせると、 Wa = γL(1+cosθ) となる。ここで、Forkesらの考えに基づいて、表
面エネルギーを分散成分(γD)と極性成分(γP)にわ
けると、 γ = γD + γP となる。ここで、表面エネルギーの分散成分は分散成
分、極性成分は極性成分とのみ相互作用すると仮定する
と、 Wa =(γS DγL D)1/2 + (γS PγL P)1/2 式より γL(1+cosθ)=(γS DγL D)1/2 + (γS PγL P)1/2 これから、表面エネルギーの分散成分、極性成分が既知
である液体2種類を用いて、接触角を測定すれば基盤の
表面エネルギーの分散成分、極性成分を算出することが
できる。以下の例においては、表面エネルギーの値が既
知である純水(H2O)およびエチレングリコール(E
G)を用いて表面エネルギーを求めた。なお、使用した
表面エネルギーの分散成分、極性成分の値は以下の通り
である。 γL D γL P γL H2O 22.0 50.2 72.2 (ergcm-2) EG 29.3 19.0 48.3 (ergcm-2)The present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples below, but the present invention is not limited to these examples. In addition, the measuring method of the surface energy used in these examples is as follows. The surface energy of the alignment film was measured and calculated by using two liquids whose polar components and dispersion components of the surface energy were known and measuring their contact angles. The value of the contact angle is related to the surface energy from the following equation. Shows the case where a liquid having a surface energy gamma L to a solid surface (the surface energy of the solid and gamma S) is in equilibrium contact angle theta. In this system, Y
The equation of “ung” is established. [gamma] S = [gamma] SL + [gamma] L cos [theta] Here, [gamma] SL is the energy acting between the solid and the liquid and is related to the interaction force at the interface. Attachment work Wa = γ S + γ L - represented by gamma SL, when combined with equation becomes Wa = γ L (1 + cosθ ). Here, if the surface energy is divided into a dispersion component (γ D ) and a polar component (γ P ) based on the idea of Forkes et al., Then γ = γ D + γ P. Here, assuming that the dispersive component of the surface energy interacts only with the dispersive component and the polar component interacts only with the polar component, Wa = (γ S D γ L D ) 1/2 + (γ S P γ L P ) 1/2 From the formula, γ L (1 + cos θ) = (γ S D γ L D ) 1/2 + (γ S P γ L P ) 1/2 From this, two kinds of liquids having known surface energy dispersion components and polar components are used. By measuring the contact angle, the variance component and the polar component of the surface energy of the substrate can be calculated. In the following example, pure water (H 2 O) and ethylene glycol (E
G) was used to determine the surface energy. The dispersion component and the polar component of the surface energy used are as follows. γ L D γ L P γ L H 2 O 22.0 50.2 72.2 (ergcm -2 ) EG 29.3 19.0 48.3 (ergcm -2 )
【0027】実施例1 4,4’−ジアミノフェニルエーテル3.46gとピロ
メリット酸二無水物4.36gとパラアミノフェニュル
トリメトキシシラン0.11gを重合させてポリアミッ
ク酸溶液を得た。この溶液にブチルセロソルブ(BC)
とN−メチル−2−ピロリドン(NMP)との重量比
1:1の混合溶液を加えてポリアミック酸を3重量%に
希釈した後、この溶液を片面にITO電極を設けた透明
ガラス基板上に回転塗布法(スピンナー法)で塗布し
た。塗布条件は3000rpm、15秒であった。塗膜
後100℃で10分乾燥した後、エアーオーブン中で一
時間かけて200℃まで昇温を行い、200℃で90分
間加熱処理を行い、膜厚約600オングストロームのポ
リイミド膜を透明電極を設けた基板上に得た。同様の操
作により合計5枚の配向膜を得て、次の試験に供した。
得られた配向膜にラビング布を用いて配向処理した後、
4枚の基板に浜松ホトニクス(株)製の軟X線照射装置
(C4870)を用いて膜面垂直方向50mmの位置か
ら軟X線を照射した。なお、軟X線の照射時間は、6
秒、15秒、30秒、60秒の各条件でテストを行っ
た。軟X線照射装置のエネルギーは6keVであり、そ
の管電圧および管電流は、それぞれ9.5kVおよび
0.2mAであった。この方法により形成した膜の表面
エネルギーは、軟X線照射処理の後、室温にて速やかに
測定した。軟X線照射時間に伴って膜の表面エネルギー
は急激に低減した。軟X線照射時間60秒の膜の純水お
よびエチレングリコールの接触角はそれぞれ67.4度
および51.8度であり、表面エネルギーの極性成分の
値は23.7ergcm-2であった。Example 1 A polyamic acid solution was obtained by polymerizing 3.46 g of 4,4'-diaminophenyl ether, 4.36 g of pyromellitic dianhydride and 0.11 g of para-aminophenyl trimethoxysilane. Butyl cellosolve (BC)
And N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) in a weight ratio of 1: 1 was added to dilute the polyamic acid to 3% by weight, and this solution was placed on a transparent glass substrate provided with an ITO electrode on one side. Coating was performed by a spin coating method (spinner method). The application conditions were 3000 rpm for 15 seconds. After the coating was dried at 100 ° C. for 10 minutes, the temperature was raised to 200 ° C. in an air oven for 1 hour, and heat treatment was performed at 200 ° C. for 90 minutes, and a polyimide film having a thickness of about 600 Å was formed on the transparent electrode. Obtained on the substrate provided. By the same operation, a total of five alignment films were obtained and used for the next test.
After performing an alignment treatment on the obtained alignment film using a rubbing cloth,
The four substrates were irradiated with soft X-rays from a position 50 mm perpendicular to the film surface using a soft X-ray irradiator (C4870) manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd. The soft X-ray irradiation time is 6
The test was performed under each condition of seconds, 15 seconds, 30 seconds, and 60 seconds. The energy of the soft X-ray irradiator was 6 keV, and the tube voltage and tube current were 9.5 kV and 0.2 mA, respectively. The surface energy of the film formed by this method was measured immediately at room temperature after the soft X-ray irradiation treatment. The surface energy of the film rapidly decreased with the soft X-ray irradiation time. The contact angles of pure water and ethylene glycol of the film with a soft X-ray irradiation time of 60 seconds were 67.4 degrees and 51.8 degrees, respectively, and the value of the polar component of the surface energy was 23.7 ergcm -2 .
【0028】同様にして作成したポリイミド膜に軟X線
を60秒間照射した基板に純水中での超音波洗浄処理お
よび乾燥処理を行った。この基板を用いて、セル厚6ミ
クロンでツイスト角が240゜になるような液晶セルを
組み立て、チッソ(株)製STN用液晶(商品名LIX
ON 4032−000XX)を封入した。封入後12
0℃で30分間アイソトロピック処理を行い、室温まで
徐冷して液晶素子を得た。同様にして10枚の液晶素子
を作成し、得られた素子に通電して表示むらの有無を調
べたところ、3枚の素子において僅かに表示むらが観察
されたが、残り7枚の素子においては表示むらは認めら
れなかった。The polyimide film prepared in the same manner was irradiated with soft X-rays for 60 seconds, and the substrate was subjected to ultrasonic cleaning treatment and drying treatment in pure water. Using this substrate, a liquid crystal cell having a cell thickness of 6 microns and a twist angle of 240 ° is assembled, and a liquid crystal for STN manufactured by Chisso Corporation (trade name LIX)
ON 4032-000XX). 12 after encapsulation
The liquid crystal element was obtained by performing an isotropic treatment at 0 ° C. for 30 minutes and gradually cooling to room temperature. In the same manner, ten liquid crystal elements were prepared, and the obtained elements were energized to check for display unevenness. As a result, display unevenness was slightly observed in three elements, but in the remaining seven elements, No uneven display was observed.
【0029】比較例1 軟X線照射を行わなかったこと以外は実施例1と同様の
方法で10枚の液晶表示素子を作成した。なお、形成さ
れた膜の、純水およびエチレングリコールの接触角はそ
れぞれ64.6度および51.4度であり、表面エネル
ギーの極性成分の値は28.3ergcm-2であった。
また、得られた10枚の素子に通電して表示むらの有無
を調べたところ、すべての素子において表示むらが観察
され、特に7枚の素子においては顕著な表示むらが認め
られた。図1に実施例1および比較例1から得られた、
軟X線照射時間と表面エネルギーの極性成分との関係を
示す。図1から、軟X線照射後の試料(実施例1)は軟
X線未照射の試料(比較例1)より表面エネルギーが小
さくなっていることがわかる。Comparative Example 1 Ten liquid crystal display elements were prepared in the same manner as in Example 1 except that soft X-ray irradiation was not performed. The contact angles of the formed film with pure water and ethylene glycol were 64.6 degrees and 51.4 degrees, respectively, and the value of the polar component of the surface energy was 28.3 ergcm -2 .
When the obtained ten elements were energized and the presence or absence of display unevenness was examined, display unevenness was observed in all the elements, and remarkable display unevenness was particularly observed in the seven elements. FIG. 1 shows the results obtained from Example 1 and Comparative Example 1.
4 shows a relationship between a soft X-ray irradiation time and a polar component of surface energy. FIG. 1 shows that the sample after soft X-ray irradiation (Example 1) has a smaller surface energy than the sample without soft X-ray irradiation (Comparative Example 1).
【0030】実施例2 脱水精製したNMP50gを溶媒にして、1,1−ビス
[4−(4−アミノベンジル)フェニル]−4−シクロ
ヘキサン7.43gとピロメリット酸二無水物3.69
gを冷却しながら反応させた。一時間後、パラアミノフ
ェニルトリメトキシシラン0.11gを加えて20℃で
1時間反応させた。その後、反応液をNMP51.1g
で希釈することによりポリアミック酸10重量%の透明
溶液が得られた。この溶液の25℃における粘度は18
70センチポイズであった。この溶液をBCとNMPの
混合溶媒(1:1)を用いてポリアミック酸が3重量%
になるように希釈した後、片面にITO電極を設けた透
明ガラス基盤上に回転塗布法(スピンナー法)で塗布し
た。塗布条件は4500rpm、15秒であった。塗膜
後100℃で10分乾燥した後、エアーオーブン中で一
時間かけて200℃まで昇温を行い、200℃で90分
間加熱処理を行い、膜厚約600オングストロームのポ
リイミド膜を設けたガラス基板5枚を得た。得られた配
向膜にラビング布を用いて配向処理した後、4枚の基板
に浜松ホトニクス(株)製の軟X線照射装置(C487
0)を用いて膜面垂直方向50mmの位置から軟X線を
照射した。なお、軟X線の照射時間は、6秒、15秒、
30秒、60秒の各条件でテストを行った。軟X線照射
装置のエネルギーは6keVであり、その管電圧および
管電流は、それぞれ9.5kVおよび0.2mAであっ
た。Example 2 Using 50 g of dehydrated and purified NMP as a solvent, 7.43 g of 1,1-bis [4- (4-aminobenzyl) phenyl] -4-cyclohexane and 3.69 of pyromellitic dianhydride were used.
g was reacted while cooling. One hour later, 0.11 g of paraaminophenyltrimethoxysilane was added and reacted at 20 ° C. for 1 hour. Thereafter, 51.1 g of NMP was added to the reaction solution.
Then, a clear solution of 10% by weight of polyamic acid was obtained. The viscosity of this solution at 25 ° C. is 18
It was 70 centipoise. This solution was mixed with a mixed solvent of BC and NMP (1: 1) to make the polyamic acid 3% by weight.
Then, the solution was applied on a transparent glass substrate provided with an ITO electrode on one side by a spin coating method (spinner method). The application conditions were 4500 rpm for 15 seconds. After the coating film was dried at 100 ° C. for 10 minutes, the temperature was raised to 200 ° C. in an air oven over 1 hour, and heat treatment was performed at 200 ° C. for 90 minutes to provide a polyimide film having a film thickness of about 600 Å. Five substrates were obtained. After the obtained alignment film is subjected to an alignment treatment using a rubbing cloth, a soft X-ray irradiator (C487, manufactured by Hamamatsu Photonics KK) is applied to the four substrates.
Using 0), soft X-rays were irradiated from a position 50 mm perpendicular to the film surface. The irradiation time of the soft X-ray was 6 seconds, 15 seconds,
The test was performed under each condition of 30 seconds and 60 seconds. The energy of the soft X-ray irradiator was 6 keV, and the tube voltage and tube current were 9.5 kV and 0.2 mA, respectively.
【0031】この方法により形成した膜の表面エネルギ
ーは、軟X線照射処理の後、室温にて速やかに測定し
た。軟X線照射時間に伴って膜の表面エネルギーは急激
に低減した。軟X線照射時間60秒の膜の純水およびエ
チレングリコールの接触角はそれぞれ75.0度および
54.2度であり、表面エネルギーの極性成分の値は1
3.8ergcm-2であった。同条件にて作成し、ラビ
ング処理したポリイミド膜に60秒間軟X線を上記に従
って照射して得られた基板を純水中で超音波洗浄し乾燥
処理を行った。この基板を用いて、セル厚6ミクロンで
ツイスト角が240゜の液晶セル10枚を組み立て、チ
ッソ社製STN用液晶(商品名LIXON 4032−
000XX)を封入した。封入後120℃で30分間ア
イソトロピック処理を行い、室温まで徐冷して液晶素子
を得た。得られた液晶表示素子に通電して表示むらの有
無を調べたところ、すべての素子において表示むらは認
められなかった。The surface energy of the film formed by this method was measured immediately at room temperature after the soft X-ray irradiation treatment. The surface energy of the film rapidly decreased with the soft X-ray irradiation time. The contact angles of pure water and ethylene glycol of the film with a soft X-ray irradiation time of 60 seconds were 75.0 degrees and 54.2 degrees, respectively, and the value of the polar component of the surface energy was 1
It was 3.8 ergcm -2 . The substrate obtained by irradiating the rubbed polyimide film under the same conditions with soft X-rays for 60 seconds as described above was subjected to ultrasonic cleaning in pure water and drying treatment. Using this substrate, 10 liquid crystal cells having a cell thickness of 6 microns and a twist angle of 240 ° were assembled, and a liquid crystal for STN manufactured by Chisso Corporation (trade name: LIXON 4032) was used.
000XX). After the encapsulation, an isotropic treatment was performed at 120 ° C. for 30 minutes, and the resultant was gradually cooled to room temperature to obtain a liquid crystal element. When current was applied to the obtained liquid crystal display elements and the presence or absence of display unevenness was examined, display unevenness was not observed in all the elements.
【0032】比較例2 軟X線照射を行わなかったこと以外は実施例2と同様の
方法で10枚の液晶素子を作成した。この方法により形
成した配向膜の純水およびエチレングリコールの接触角
はそれぞれ73.4度および60.6度であり、表面エ
ネルギーの極性成分の値は21.1ergcm-2であっ
た。また、得られた素子に通電して表示むらの有無を調
べたところ、8枚の素子において表示むらが観察され、
特に5枚の素子においては顕著な表示むらが認められ
た。Comparative Example 2 Ten liquid crystal elements were prepared in the same manner as in Example 2 except that soft X-ray irradiation was not performed. The contact angles of pure water and ethylene glycol of the alignment film formed by this method were 73.4 degrees and 60.6 degrees, respectively, and the value of the polar component of the surface energy was 21.1 ergcm -2 . When the obtained elements were energized to check for display unevenness, display unevenness was observed in eight elements,
In particular, remarkable display unevenness was observed in five elements.
【0033】図2に実施例2および比較例2で得られ
た、軟X線照射時間と表面エネルギーの極性成分との関
係を示す。図2から、軟X線照射後の試料(実施例2)
は軟X線未照射の試料(比較例2)より表面エネルギー
が小さくなっていることがわかる。FIG. 2 shows the relationship between the soft X-ray irradiation time and the polar component of the surface energy obtained in Example 2 and Comparative Example 2. FIG. 2 shows that the sample after soft X-ray irradiation (Example 2)
Indicates that the surface energy is smaller than that of the sample not irradiated with soft X-rays (Comparative Example 2).
【0034】実施例3 2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン8.06gとピロメリット酸二無水物4.
36gとパラアミノフェニュルトリメトキシシラン0.
11gを重合させてポリアミック酸溶液を得た。この溶
液にブチルセロソルブとNMPとの1:1の混合溶液を
加えてポリアミック酸を3重量%に希釈した後、片面に
ITO電極を設けた透明ガラス基盤上に回転塗布法(ス
ピンナー法)で塗布した。塗布条件は3000rpm、
15秒であった。塗膜後100℃で10分乾燥した後、
エアーオーブン中で一時間かけて200℃まで昇温を行
い、200℃で90分間加熱処理を行い、膜厚約600
オングストロームのポリイミド膜を設けたガラス基板5
枚を得た。得られた配向膜にラビング布を用いて配向処
理した後、4枚の基板に浜松ホトニクス社製の軟X線照
射装置(C4870)を用いて膜面垂直方向50mmの
位置から軟X線を60秒間照射した。軟X線照射装置の
エネルギーは6keVであり、その管電圧および管電流
は、それぞれ9.5kVおよび0.2mAであった。こ
の方法により形成した膜の表面エネルギーは、軟X線照
射処理の後、室温にて速やかに測定した。軟X線照射時
間に伴って膜の表面エネルギーは急激に低減した。軟X
線照射時間60秒の膜の純水およびエチレングリコール
の接触角はそれぞれ71.0度および55.2度であ
り、表面エネルギーの極性成分の値は20.5ergc
m-2であった。得られたポリイミド膜は、純水中での超
音波洗浄処理および乾燥処理を行った。この基板を用い
て、セル厚6ミクロンでツイスト角が240゜の液晶セ
ルを組み立て、チッソ社製STN用液晶(商品名LIX
ON 4032ー00XX)を封入した。封入後120
℃で30分間アイソトロピック処理を行い、室温まで徐
冷して液晶表示素子を得た。同様にして同時に10枚の
液晶素子を作成し、得られた素子に通電して表示むらの
有無を調べたところ、2枚の素子において僅かに表示む
らが観察されたが、残り8枚の素子においては表示むら
は全く認められなかった。Example 3 8.06 g of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane and pyromellitic dianhydride
36 g and paraaminophenyl trimethoxysilane 0.
11 g was polymerized to obtain a polyamic acid solution. A 1: 1 mixed solution of butyl cellosolve and NMP was added to this solution to dilute the polyamic acid to 3% by weight, and then applied on a transparent glass substrate provided with an ITO electrode on one side by a spin coating method (spinner method). . The application condition is 3000 rpm,
15 seconds. After drying at 100 ° C for 10 minutes after coating,
The temperature was raised to 200 ° C. over 1 hour in an air oven, and heat treatment was performed at 200 ° C. for 90 minutes.
Glass substrate 5 with Angstrom polyimide film
I got one. After the obtained alignment film is subjected to an alignment treatment using a rubbing cloth, soft X-rays are applied to the four substrates from a position 50 mm in the direction perpendicular to the film surface using a soft X-ray irradiator (C4870) manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd. Irradiated for seconds. The energy of the soft X-ray irradiator was 6 keV, and the tube voltage and tube current were 9.5 kV and 0.2 mA, respectively. The surface energy of the film formed by this method was measured immediately at room temperature after the soft X-ray irradiation treatment. The surface energy of the film rapidly decreased with the soft X-ray irradiation time. Soft X
The contact angles of pure water and ethylene glycol of the film with a line irradiation time of 60 seconds were 71.0 degrees and 55.2 degrees, respectively, and the value of the polar component of the surface energy was 20.5 ergc.
m -2 . The obtained polyimide film was subjected to an ultrasonic cleaning treatment and a drying treatment in pure water. Using this substrate, a liquid crystal cell having a cell thickness of 6 μm and a twist angle of 240 ° was assembled, and a liquid crystal for STN manufactured by Chisso Corporation (trade name: LIX)
ON 4032-00XX). 120 after encapsulation
The liquid crystal display device was obtained by performing isotropic treatment at 30 ° C. for 30 minutes and gradually cooling to room temperature. In the same manner, ten liquid crystal elements were simultaneously formed, and the resulting elements were energized to check for display unevenness. As a result, display unevenness was slightly observed in the two elements, but the remaining eight elements were used. No unevenness in display was observed in.
【0035】比較例3 軟X線照射を行わなかったこと以外は実施例3と同様の
方法で10枚の液晶素子を作成した。なお、形成された
膜の純水およびエチレングリコールの接触角はそれぞれ
65.6度および50.4度であり、表面エネルギーの
極性成分の値は25.6ergcm-2であった。また、
得られた素子に通電して表示むらの有無を調べたとこ
ろ、すべての素子において表示むらが観察され、特に7
枚の素子においては顕著な表示むらが認められた。Comparative Example 3 Ten liquid crystal elements were prepared in the same manner as in Example 3 except that soft X-ray irradiation was not performed. The contact angles of the formed film with pure water and ethylene glycol were 65.6 degrees and 50.4 degrees, respectively, and the value of the polar component of the surface energy was 25.6 ergcm -2 . Also,
When current was applied to the obtained devices and the presence or absence of display unevenness was examined, display unevenness was observed in all the devices, and in particular, 7
Significant display unevenness was observed in one element.
【0036】実施例4 1,1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]−4−トランス−4−エチルシクロヘキサン7.0
5gとピロメリット酸二無水物2.18gとシクロブタ
ンテトラカルボン酸0.65gとパラアミノフェニルト
リメトキシシラン0.09gを重合させてポリアミック
酸溶液を得た。この溶液にブチルセロソルブとNMPと
の重量比1:1の混合溶液を加えてポリアミック酸を3
重量%に希釈した後、片面にITO電極を設けた透明ガ
ラス基盤上に回転塗布法(スピンナー法)で塗布した。
塗布条件は3000rpm、15秒であった。塗膜後1
00℃で10分乾燥した後、エアーオーブン中で一時間
かけて200℃まで昇温を行い、200℃で90分間加
熱処理を行い、膜厚約600オングストロームのポリイ
ミド膜を設けたガラス基板を得た。得られた配向膜にラ
ビング布を用いて配向処理した後、浜松ホトニクス
(株)製の軟X線照射装置(C4870)を用いて膜面
垂直方向50mmの位置から軟X線を60秒間照射し
た。軟X線照射装置のエネルギーは6keVであり、そ
の管電圧および管電流は、それぞれ9.5kVおよび
0.2mAであった。この方法により形成した膜の表面
エネルギーは、軟X線照射処理の後、室温にて速やかに
測定した。この膜の純水およびエチレングリコールの接
触角はそれぞれ69.8度および54.9度であり、表
面エネルギーの極性成分の値は22.3ergcm-2で
あった。Example 4 1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -4-trans-4-ethylcyclohexane 7.0
5 g, 2.18 g of pyromellitic dianhydride, 0.65 g of cyclobutanetetracarboxylic acid and 0.09 g of paraaminophenyltrimethoxysilane were polymerized to obtain a polyamic acid solution. To this solution was added a mixed solution of butyl cellosolve and NMP at a weight ratio of 1: 1 to reduce the amount of polyamic acid to 3%.
After dilution to weight%, it was applied on a transparent glass substrate provided with an ITO electrode on one side by a spin coating method (spinner method).
The application conditions were 3000 rpm for 15 seconds. After coating 1
After drying at 00 ° C. for 10 minutes, the temperature was raised to 200 ° C. in an air oven for 1 hour, and heat treatment was performed at 200 ° C. for 90 minutes to obtain a glass substrate provided with a polyimide film having a thickness of about 600 Å. Was. After the obtained alignment film was subjected to an alignment treatment using a rubbing cloth, soft X-rays were irradiated for 60 seconds from a position 50 mm perpendicular to the film surface using a soft X-ray irradiation device (C4870) manufactured by Hamamatsu Photonics KK . The energy of the soft X-ray irradiator was 6 keV, and the tube voltage and tube current were 9.5 kV and 0.2 mA, respectively. The surface energy of the film formed by this method was measured immediately at room temperature after the soft X-ray irradiation treatment. The contact angles of pure water and ethylene glycol of this film were 69.8 degrees and 54.9 degrees, respectively, and the value of the polar component of the surface energy was 22.3 ergcm -2 .
【0037】得られたポリイミド膜は、純水中での超音
波洗浄処理および乾燥処理を行った。この基板を用い
て、セル厚6ミクロンでツイスト角が240゜の液晶セ
ルを組み立て、チッソ社製STN用液晶(商品名LIX
ON 4032ー000XX)を封入した。封入後12
0℃で30分間アイソトロピック処理を行い、室温まで
徐冷して液晶素子を得た。同用にして10枚の液晶表示
素子を作成し、得られた素子に通電して表示むらの有無
を調べたところ、3枚の素子において僅かに表示むらが
観察されたが、残り7枚の素子においては表示むらは全
く認められなかった。The obtained polyimide film was subjected to an ultrasonic cleaning treatment and a drying treatment in pure water. Using this substrate, a liquid crystal cell having a cell thickness of 6 μm and a twist angle of 240 ° was assembled, and a liquid crystal for STN manufactured by Chisso Corporation (trade name: LIX)
ON 4032-000XX). 12 after encapsulation
The liquid crystal element was obtained by performing an isotropic treatment at 0 ° C. for 30 minutes and gradually cooling to room temperature. Ten liquid crystal display elements were prepared in the same manner, and current was applied to the obtained elements to check for display unevenness. As a result, display unevenness was slightly observed in three elements, but the remaining seven elements were not. No display unevenness was observed in the device.
【0038】比較例4 軟X線照射を行わなかったこと以外は実施例4と同様の
方法で10枚の液晶素子を作成した。この方法により形
成した膜の純水およびエチレングリコールの接触角はそ
れぞれ65.0度および50.9度であり、表面エネル
ギーの極性成分の値は27.1ergcm-2であった。
また、得られた液晶表示素子に通電して表示むらの有無
を調べたところ、すべての素子において表示むらが観察
され、特に8枚の素子においては顕著な表示むらが認め
られた。Comparative Example 4 Ten liquid crystal elements were prepared in the same manner as in Example 4 except that soft X-ray irradiation was not performed. The contact angles of pure water and ethylene glycol of the film formed by this method were 65.0 degrees and 50.9 degrees, respectively, and the value of the polar component of the surface energy was 27.1 ergcm -2 .
When the obtained liquid crystal display element was energized and examined for display unevenness, display unevenness was observed in all the elements, and remarkable display unevenness was observed particularly in eight elements.
【0039】[0039]
【発明の効果】以上説明したように、配向膜に配向処理
を行った後に気体中にて軟X線を照射する方法により、
液晶表示素子の表示むらを低減させて液晶表示装置の表
示品質を改良し、製品の歩留まりを改善することができ
る。As described above, a method of irradiating soft X-rays in a gas after performing an alignment treatment on an alignment film,
The display quality of the liquid crystal display device can be improved by reducing the display unevenness of the liquid crystal display element, and the yield of the product can be improved.
【図1】実施例1および比較例1から得られた軟X線照
射時間と表面エネルギーの極性成分との関係を示す。FIG. 1 shows the relationship between the soft X-ray irradiation time obtained from Example 1 and Comparative Example 1 and the polar component of the surface energy.
【図2】実施例2および比較例2から得られた軟X線照
射時間と表面エネルギーの極性成分との関係を示す。FIG. 2 shows the relationship between the soft X-ray irradiation time and the surface energy polar component obtained from Example 2 and Comparative Example 2.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷岡 聡 千葉県市原市辰巳台東2丁目17番地 (72)発明者 村田 鎮男 千葉県市原市椎津545番地9 (72)発明者 河野 誠 長野県茅野市玉川字原山11400−1078 株式会社飯沼ゲージ製作所内 (72)発明者 平野 雅之 静岡県浜松市市野町1126番地の1 浜松 ホトニクス株式会社内 (56)参考文献 特開 平5−323322(JP,A) 特開 平4−284419(JP,A) 国際公開94/5138(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/13,1/1337 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Satoshi Tanioka 2-17-17 Tatsumidaihigashi, Ichihara-shi, Chiba (72) Inventor Norio Murata 545-9, Shiitsu, Shizuhara-shi, Chiba-ken (72) Inventor Makoto Kawano Chino, Nagano Prefecture Tamagawa character Harayama 11400-1078 Inside Iinuma Gauge Mfg. Co., Ltd. (72) Inventor Masayuki Hirano 1126 Nomachi, Hamamatsu-shi, Shizuoka Prefecture Inside Hamamatsu Photonics Co., Ltd. (56) References JP-A-5-323322 (JP, A) JP-A-4-284419 (JP, A) WO 94/5138 (WO, A1) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G02F 1/13, 1/1337
Claims (4)
た有機高分子材料からなる配向膜をラビング処理した
後、該配向膜から軟X線源までの距離が1500mm以
下である気体中で該配向膜に線源のエネルギーが4〜
9.5keVである軟X線を5秒間以上照射し、該膜上
の表面エネルギーを低減させることを特徴とする液晶表
示素子用配向膜の処理方法。After rubbing an alignment film made of an organic polymer material formed on a transparent substrate provided with a transparent electrode, a distance from the alignment film to a soft X-ray source is 1500 mm or less.
4 is an energy of the source to the alignment film in a gas is below
A method for treating an alignment film for a liquid crystal display device, comprising irradiating a soft X-ray of 9.5 keV for 5 seconds or more to reduce surface energy on the film.
透明電極上に有機高分子物質からなる配向膜を形成し、
該配向膜をラビング処理し、該基板をスペーサーを介し
て対向させて組み立てた後、液晶材料を封入する工程を
含む液晶表示素子の製造法において、配向膜をラビング
処理した後に該配向膜から軟X線源までの距離が150
0mm以下である気体中で該配向膜に線源のエネルギー
が4〜9.5keVである軟X線を5秒間以上照射し、
該膜上の表面エネルギーを低減させることを特徴とす
る、液晶表示素子用配向膜の製造方法。2. A transparent electrode is provided on a pair of transparent substrates, and an alignment film made of an organic polymer substance is formed on the transparent electrode,
After rubbing the alignment film, assembling the substrate so that the substrates face each other via a spacer, and enclosing a liquid crystal material, in a method of manufacturing a liquid crystal display element, the alignment film is rubbed and then softened from the alignment film. Distance to X-ray source is 150
The energy of the radiation source is applied to the alignment film in a gas of 0 mm or less.
Is irradiated with soft X-rays of 4 to 9.5 keV for 5 seconds or more,
A method for producing an alignment film for a liquid crystal display device, comprising reducing surface energy on the film.
透明電極上に有機高分子物質からなる配向膜を形成し、
該配向膜をラビング処理し、この基板をスペーサーを介
して対向させて組み立てた後、液晶材料を封入して作成
された液晶表示素子において、該配向膜がラビング処理
後該配向膜から軟X線源までの距離が1500mm以下
である気体中で該配向膜に線源のエネルギーが4〜9.
5keVである軟X線の照射を5秒間以上受け、該膜上
の表面エネルギーを低減させていることを特徴とする液
晶表示素子。3. A transparent electrode is provided on a pair of transparent substrates, and an alignment film made of an organic polymer substance is formed on the transparent electrode.
After rubbing the alignment film, assembling the substrate with the substrates facing each other via a spacer, and then assembling a liquid crystal material, in a liquid crystal display device, the alignment film is rubbed and then soft X-rays are generated from the alignment film. The distance to the source is 1500mm or less
The energy of the radiation source is 4 to 9.
A liquid crystal display device characterized by receiving irradiation of soft X-rays of 5 keV for 5 seconds or more to reduce surface energy on the film.
(3) 【化1】 (これらの式において、R1 およびR3 はそれぞれ独
立に炭素数1〜10の直鎖状アルキル基または炭素数2
〜10のアルケニル基を、R2 およびR4 はそれぞれ
独立に炭素数1〜10の直鎖状のアルキル基もしくはア
ルキルオキシ基、−CN、フッ素原子、塩素原子、−C
F3 、−CHF2 、−OCF3 または−OCHF2
を、S1 、S2 、S3 およびS4 はそれぞれ独立に
水素原子、フッ素原子、塩素原子、−CF3 、−CH
F2 、−OCF3 または−OCHF2 を、Z1 、Z
2 およびZ3 はそれぞれ独立に−COO−、−CH2
CH2 −、−C≡C−または単結合をそれぞれ表わ
し、A1 、A2 およびA3 はそれぞれ独立に 【化2】 を表わす)で示される化合物を少なくとも一つ含む液晶
混合物であることを特徴とする請求項3記載の液晶表示
素子。4. A liquid crystal material according to the general formula (2) or the general formula (3): (In these formulas, R1 and R3 are each independently a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a linear alkyl group having 2 carbon atoms.
R2 and R4 each independently represent a linear alkyl or alkyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, -CN, a fluorine atom, a chlorine atom, -C
F3, -CHF2, -OCF3 or -OCHF2
And S1, S2, S3 and S4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, -CF3, -CH
F2, -OCF3 or -OCHF2 is converted to Z1, Z
2 and Z3 are each independently -COO-, -CH2
CH 2 —, —C≡C— or a single bond, and A 1, A 2 and A 3 each independently represent 4. A liquid crystal display device according to claim 3 , which is a liquid crystal mixture containing at least one compound represented by the following formula:
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06204631A JP3081952B2 (en) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | Method for processing alignment film for liquid crystal display element and method for manufacturing liquid crystal display element |
| TW084103787A TW339415B (en) | 1994-04-28 | 1995-04-18 | Processing and manufacturing method of LCD elements |
| KR1019950009690A KR100353742B1 (en) | 1994-04-28 | 1995-04-25 | A treatment method of an orientation membrane for a liquid crystal display element and a process for making the liquid crystal display element |
| US08/429,102 US5625475A (en) | 1994-04-28 | 1995-04-26 | Method for treating an aligning film for a liquid crystal display element |
| CN95105792A CN1067161C (en) | 1994-04-28 | 1995-04-28 | A method for treating an aligning film for a liquid crystal display element and a method for preparing a liquid crystal display element |
| US08/738,492 US5798810A (en) | 1994-04-28 | 1996-10-28 | Method for treating an aligning film for a liquid crystal display element and a method for preparing a liquid crystal display element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06204631A JP3081952B2 (en) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | Method for processing alignment film for liquid crystal display element and method for manufacturing liquid crystal display element |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0850293A JPH0850293A (en) | 1996-02-20 |
| JP3081952B2 true JP3081952B2 (en) | 2000-08-28 |
Family
ID=16493676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06204631A Expired - Fee Related JP3081952B2 (en) | 1994-04-28 | 1994-08-05 | Method for processing alignment film for liquid crystal display element and method for manufacturing liquid crystal display element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3081952B2 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3223142B2 (en) | 1997-08-22 | 2001-10-29 | チッソ株式会社 | Manufacturing method of liquid crystal display element |
| JP2003107486A (en) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Jsr Corp | Liquid crystal aligning agent for horizontal electric field type liquid crystal display device and horizontal electric field type liquid crystal display device |
| JP4872184B2 (en) * | 2003-11-21 | 2012-02-08 | Dic株式会社 | Nematic liquid crystal display element display defect resolution method |
| JP5055971B2 (en) * | 2006-11-16 | 2012-10-24 | 株式会社ニコン | Surface treatment method, surface treatment apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
-
1994
- 1994-08-05 JP JP06204631A patent/JP3081952B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0850293A (en) | 1996-02-20 |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| S531 | Written request for registration of change of domicile |
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|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080630 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090630 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100630 Year of fee payment: 10 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
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|
| R371 | Transfer withdrawn |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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