JP3084809B2 - スプレー塗布装置 - Google Patents
スプレー塗布装置Info
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- JP3084809B2 JP3084809B2 JP03198027A JP19802791A JP3084809B2 JP 3084809 B2 JP3084809 B2 JP 3084809B2 JP 03198027 A JP03198027 A JP 03198027A JP 19802791 A JP19802791 A JP 19802791A JP 3084809 B2 JP3084809 B2 JP 3084809B2
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- film
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば陰極線管のパネ
ル表面に帯電防止膜や防眩膜等の表面塗膜を形成するの
に使用されるスプレー塗布装置に関する。
ル表面に帯電防止膜や防眩膜等の表面塗膜を形成するの
に使用されるスプレー塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】陰極線管においては、外光の反射光によ
るグレア（表面のぎらつき）を防止するためにパネル表
面に防眩効果を有するコーティング膜（いわゆる防眩
膜）を形成したり、また、パネル表面に電子ビームによ
る帯電が生じるを防止するために帯電防止膜を形成する
こと等が行われている。これら防眩膜、帯電防止膜は例
えばスプレー塗布装置を用いて被着形成することができ
る。
るグレア（表面のぎらつき）を防止するためにパネル表
面に防眩効果を有するコーティング膜（いわゆる防眩
膜）を形成したり、また、パネル表面に電子ビームによ
る帯電が生じるを防止するために帯電防止膜を形成する
こと等が行われている。これら防眩膜、帯電防止膜は例
えばスプレー塗布装置を用いて被着形成することができ
る。
【０００３】スプレー塗布装置は、通常、スプレー塗布
室内に被塗布体を載置、支持する支持台を配し、被塗布
体に対向するように先端にノズルを有したロボットを配
し、ロボットによってノズルを走査させてノズルからの
塗布液を被塗布面に吹き付けるように構成されている。
室内に被塗布体を載置、支持する支持台を配し、被塗布
体に対向するように先端にノズルを有したロボットを配
し、ロボットによってノズルを走査させてノズルからの
塗布液を被塗布面に吹き付けるように構成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】スプレー塗布装置を用
いて陰極線管のパネル表面に防眩膜、帯電防止膜等の塗
膜を形成する場合、所要時間内で塗布を完了させるた
め、複数のスプレーノズルを設けて、之等複数のノズル
を同時に走査することが考えられる。その場合、むらな
く均一にスプレー塗布するためには、各ノズルから一定
量の塗布液を安定して出射させる必要がある。
いて陰極線管のパネル表面に防眩膜、帯電防止膜等の塗
膜を形成する場合、所要時間内で塗布を完了させるた
め、複数のスプレーノズルを設けて、之等複数のノズル
を同時に走査することが考えられる。その場合、むらな
く均一にスプレー塗布するためには、各ノズルから一定
量の塗布液を安定して出射させる必要がある。
【０００５】本発明は、上述の点に鑑み、複数のノズル
によって一様に塗布するスプレー塗布装置において、各
ノズルからの出射する塗布液量を安定化して均一な塗膜
を形成できるようにしたスプレー塗布装置を提供するも
のである。
によって一様に塗布するスプレー塗布装置において、各
ノズルからの出射する塗布液量を安定化して均一な塗膜
を形成できるようにしたスプレー塗布装置を提供するも
のである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、垂直な被塗布
面に対して複数のノズル３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃを介し
て各ノズル３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃからの塗布範囲が一
部重なり合うように塗布するスプレー塗布装置におい
て、各ノズル３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃに対応する複数の
塗布液収納部３２Ａ，３２Ｂ，３２Ｃを階段状に一体に
配し、各ノズル３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃと塗布液面６ａ
間の高さＨA ，ＨB ，ＨC を互に同一に設定して構成す
る。
面に対して複数のノズル３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃを介し
て各ノズル３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃからの塗布範囲が一
部重なり合うように塗布するスプレー塗布装置におい
て、各ノズル３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃに対応する複数の
塗布液収納部３２Ａ，３２Ｂ，３２Ｃを階段状に一体に
配し、各ノズル３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃと塗布液面６ａ
間の高さＨA ，ＨB ，ＨC を互に同一に設定して構成す
る。
【０００７】
【作用】本発明においては、各ノズル３１Ａ，３１Ｂ，
３１Ｃに対応する複数の塗布液収納部３２Ａ，３２Ｂ，
３２Ｃを階段状に一体に配し、各ノズル３１Ａ，３１
Ｂ，３１Ｃと塗布液面６ａ間の高さＨA ，ＨB ，ＨC を
互に同一に設定することにより、各ノズル３１Ａ，３１
Ｂ，３１Ｃにおける出射圧が同じになり、各ノズル３１
Ａ，３１Ｂ，３１Ｃから出射する塗布液量が安定化し、
均一な塗膜を形成することができる。
３１Ｃに対応する複数の塗布液収納部３２Ａ，３２Ｂ，
３２Ｃを階段状に一体に配し、各ノズル３１Ａ，３１
Ｂ，３１Ｃと塗布液面６ａ間の高さＨA ，ＨB ，ＨC を
互に同一に設定することにより、各ノズル３１Ａ，３１
Ｂ，３１Ｃにおける出射圧が同じになり、各ノズル３１
Ａ，３１Ｂ，３１Ｃから出射する塗布液量が安定化し、
均一な塗膜を形成することができる。
【０００８】
【実施例】以下、図面を用いて本発明によるスプレー塗
布装置の実施例を説明する。
布装置の実施例を説明する。
【０００９】図１は本実施例に係るスプレー塗布装置１
の全体的構成を示し、図２はその要部即ちノズルブロッ
ク部７を示す。スプレー塗布装置１は、実質的に密閉さ
れるスプレー塗布室２を有し、このスプレー塗布室２内
に通常工程で完成した防爆バンド付の陰極線管３をその
パネル４の面が垂直となるように載置、支持する支持台
５と、先端に塗布液６を出射するノズルブロック部７を
取付けたロボット８とが配される。ノズルブロック部７
はロボット８によって垂直に配されたパネル４表面に対
して水平、垂直走査するようになされる。
の全体的構成を示し、図２はその要部即ちノズルブロッ
ク部７を示す。スプレー塗布装置１は、実質的に密閉さ
れるスプレー塗布室２を有し、このスプレー塗布室２内
に通常工程で完成した防爆バンド付の陰極線管３をその
パネル４の面が垂直となるように載置、支持する支持台
５と、先端に塗布液６を出射するノズルブロック部７を
取付けたロボット８とが配される。ノズルブロック部７
はロボット８によって垂直に配されたパネル４表面に対
して水平、垂直走査するようになされる。
【００１０】また、塗布室２内の温度、湿度等を制御す
るための空調装置１７が配され、之よりエアフィルター
を付した空調の噴き出し口１６を通して温度、湿度制御
された清浄な空気１９が塗布室２内に導入される。ま
た、陰極線管３を覆うように移動可能のフード１８が配
され、空調装置１７からの清浄な空気１９は、パネル４
の表面に供給された後、フード１８を通して排気口２７
より排気されるようになすを可とする。
るための空調装置１７が配され、之よりエアフィルター
を付した空調の噴き出し口１６を通して温度、湿度制御
された清浄な空気１９が塗布室２内に導入される。ま
た、陰極線管３を覆うように移動可能のフード１８が配
され、空調装置１７からの清浄な空気１９は、パネル４
の表面に供給された後、フード１８を通して排気口２７
より排気されるようになすを可とする。
【００１１】さらに、塗布室２内でのごみの舞い上がり
を防止するために、塗布室２の内側に給水手段１０に連
結されたスポンジ等からなる含水性部材９が配されるを
可とする。この含水性部材９は、より具体的にはスポン
ジ壁１１内に給水管１２を配し、給水管１２を通じてス
ポンジ壁に水が供給される。この含水性部材９によって
塗布室２内のごみが付着し、スプレー塗布時のごみのま
き込みが防止できる。１４は排水口である。
を防止するために、塗布室２の内側に給水手段１０に連
結されたスポンジ等からなる含水性部材９が配されるを
可とする。この含水性部材９は、より具体的にはスポン
ジ壁１１内に給水管１２を配し、給水管１２を通じてス
ポンジ壁に水が供給される。この含水性部材９によって
塗布室２内のごみが付着し、スプレー塗布時のごみのま
き込みが防止できる。１４は排水口である。
【００１２】一方、ノズルブロック部７は図２に示すよ
うに、複数、本例では３つのノズル本体３１〔３１Ａ，
３１Ｂ，３１Ｃ〕と、各ノズル本体３１Ａ，３１Ｂ，３
１Ｃに塗布液６を供給するための塗布液収納部３２〔３
２Ａ，３２Ｂ，３２Ｃ〕からなる補助タンク３３とを有
して成る。３１ａ，３１ｂ，３１ｃはノズル口である。
各ノズル本体３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃは垂直方向に関し
て位置を異ならせるも互に干渉しないように水平走査方
向ａに対して斜めに等間隔をおいて配列される。この場
合、各ノズル本体３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃから出射され
た塗布液６の各塗布範囲が相互間で一部重なり合うよう
な位置関係をもって配置される。即ち、ノズルブロック
部７を水平方向ａに走査させながら、塗布液６を出射し
たときに、図３に示すように各塗布範囲３４Ａ，３４
Ｂ，３４Ｃが一部重なるように垂直方向に関して所定の
幅Ｗで一様に塗膜３５が形成されるようになる。
うに、複数、本例では３つのノズル本体３１〔３１Ａ，
３１Ｂ，３１Ｃ〕と、各ノズル本体３１Ａ，３１Ｂ，３
１Ｃに塗布液６を供給するための塗布液収納部３２〔３
２Ａ，３２Ｂ，３２Ｃ〕からなる補助タンク３３とを有
して成る。３１ａ，３１ｂ，３１ｃはノズル口である。
各ノズル本体３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃは垂直方向に関し
て位置を異ならせるも互に干渉しないように水平走査方
向ａに対して斜めに等間隔をおいて配列される。この場
合、各ノズル本体３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃから出射され
た塗布液６の各塗布範囲が相互間で一部重なり合うよう
な位置関係をもって配置される。即ち、ノズルブロック
部７を水平方向ａに走査させながら、塗布液６を出射し
たときに、図３に示すように各塗布範囲３４Ａ，３４
Ｂ，３４Ｃが一部重なるように垂直方向に関して所定の
幅Ｗで一様に塗膜３５が形成されるようになる。
【００１３】そして、補助タンク３３の各ノズル本体３
１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃに対応する塗布液収納部３２Ａ，
３２Ｂ，３２Ｃはノズル本体３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃの
段差に応じて階段状に配され、その各塗布液収納部３２
Ａ，３２Ｂ，３２Ｃの液面６ａと対応する各ノズル口３
１ａ，３１ｂ及び３１ｃ間の高さＨA，ＨB 及びＨC を
同じにするように、各塗布液収納部３２Ａ，３２Ｂ及び
３２Ｃには同じ高さ位置に排出口３６Ａ，３６Ｂ及び３
６Ｃが設けられる。
１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃに対応する塗布液収納部３２Ａ，
３２Ｂ，３２Ｃはノズル本体３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃの
段差に応じて階段状に配され、その各塗布液収納部３２
Ａ，３２Ｂ，３２Ｃの液面６ａと対応する各ノズル口３
１ａ，３１ｂ及び３１ｃ間の高さＨA，ＨB 及びＨC を
同じにするように、各塗布液収納部３２Ａ，３２Ｂ及び
３２Ｃには同じ高さ位置に排出口３６Ａ，３６Ｂ及び３
６Ｃが設けられる。
【００１４】即ち、主タンク（図示せず）から液供給管
３７を通じて第１の塗布液収納部３２Ａへ塗布液６が供
給される。第１の塗布液収納部３２Ａ内に排出口３６Ａ
まで満たされると排出口３６Ａを通じて塗布液６が第２
の塗布液収納部３２Ｂに供給され、さらに第２の塗布液
収納部３２Ｂが満たされると排出口３６Ｂを通じて第３
の塗布液収納部３２Ｃに供給され、第３の塗布液収納部
３２Ｃが満たされると排出口３６Ｃを通じて液供給管３
８より主タンク（図示せず）に還流されるようになる。
このようにすることにより、各ノズル本体３１と、補助
タンク３３の各収納部３２の液面６ａとの間の高さ
ＨA ，ＨB ，ＨC を互に一定にすることができる。各収
納部３２Ａ，３２Ｂ及び３２Ｃの塗布液６は導管３９
Ａ，３９Ｂ及び３９Ｃを通じて対応するノズル本体３１
Ａ，３１Ｂ及び３１Ｃに供給される。
３７を通じて第１の塗布液収納部３２Ａへ塗布液６が供
給される。第１の塗布液収納部３２Ａ内に排出口３６Ａ
まで満たされると排出口３６Ａを通じて塗布液６が第２
の塗布液収納部３２Ｂに供給され、さらに第２の塗布液
収納部３２Ｂが満たされると排出口３６Ｂを通じて第３
の塗布液収納部３２Ｃに供給され、第３の塗布液収納部
３２Ｃが満たされると排出口３６Ｃを通じて液供給管３
８より主タンク（図示せず）に還流されるようになる。
このようにすることにより、各ノズル本体３１と、補助
タンク３３の各収納部３２の液面６ａとの間の高さ
ＨA ，ＨB ，ＨC を互に一定にすることができる。各収
納部３２Ａ，３２Ｂ及び３２Ｃの塗布液６は導管３９
Ａ，３９Ｂ及び３９Ｃを通じて対応するノズル本体３１
Ａ，３１Ｂ及び３１Ｃに供給される。
【００１５】かかる構成によれば、斜めに配した３つの
ノズル本体３１Ａ，３１Ｂ及び３１Ｃに対して各塗布液
収納部３２Ａ，３２Ｂ及び３２Ｃを一体とした補助タン
ク３３を設けて各ノズル本体のノズル口３１ａ，３１ｂ
及び３１ｃと各収納部３２Ａ，３２Ｂ及び３２Ｃの塗布
液面６ａとの高さＨA ，ＨB ，ＨC を同一にすることに
より、ノズル本体３１Ａ，３１Ｂ及び３１Ｃからの出射
圧力を同じにすることができる。従って、各ノズル本体
３１Ａ，３１Ｂ及び３１Ｃから出射する塗布液量が安定
化し、所定幅Ｗに塗布むらのない均一な塗膜３５を形成
することができる。
ノズル本体３１Ａ，３１Ｂ及び３１Ｃに対して各塗布液
収納部３２Ａ，３２Ｂ及び３２Ｃを一体とした補助タン
ク３３を設けて各ノズル本体のノズル口３１ａ，３１ｂ
及び３１ｃと各収納部３２Ａ，３２Ｂ及び３２Ｃの塗布
液面６ａとの高さＨA ，ＨB ，ＨC を同一にすることに
より、ノズル本体３１Ａ，３１Ｂ及び３１Ｃからの出射
圧力を同じにすることができる。従って、各ノズル本体
３１Ａ，３１Ｂ及び３１Ｃから出射する塗布液量が安定
化し、所定幅Ｗに塗布むらのない均一な塗膜３５を形成
することができる。
【００１６】一方、ノズルブロック部７を走査してパネ
ル４の表面に塗膜３５を形成する場合、図７に示すよう
な軌跡４１をもって塗布すると、１段目の塗膜６１が乾
き切らないうちに２段目の塗膜６２を塗布すると図８に
示すようにその重なり部分４２の乾燥速度が他より遅
れ、結果として塗布むら等により塗膜６の品質が劣化す
る。
ル４の表面に塗膜３５を形成する場合、図７に示すよう
な軌跡４１をもって塗布すると、１段目の塗膜６１が乾
き切らないうちに２段目の塗膜６２を塗布すると図８に
示すようにその重なり部分４２の乾燥速度が他より遅
れ、結果として塗布むら等により塗膜６の品質が劣化す
る。
【００１７】この点を改善する実施例を図４に示す。本
例においては、図４の軌跡４４に示すようにノズル本体
３１を例えばパネル４の表面の最上部の左端から水平方
向に走査し、１段目を塗布したら垂直方向に下方に走査
し、１段分空けて、３段目を右端から左端に走査し、以
後同じように１段分づつ空けながらジグザグ状に上辺か
ら下辺に亘ってノズル本体３１を走査し、次は空けた段
を塗布するように下辺から上辺に向ってジグザグに走査
するようになす。
例においては、図４の軌跡４４に示すようにノズル本体
３１を例えばパネル４の表面の最上部の左端から水平方
向に走査し、１段目を塗布したら垂直方向に下方に走査
し、１段分空けて、３段目を右端から左端に走査し、以
後同じように１段分づつ空けながらジグザグ状に上辺か
ら下辺に亘ってノズル本体３１を走査し、次は空けた段
を塗布するように下辺から上辺に向ってジグザグに走査
するようになす。
【００１８】このとき、各隣り合う段の塗膜６１〜６ｎ
は一部重なり合うように塗布する。このようなノズル走
査の軌跡４４をもって塗布することにより、充分に乾い
た状態の塗膜６１に一部重なるように次の塗膜６２が形
成されるので、図５に示すように塗膜６の乾燥むらが低
減し、全面均一な品質のより塗膜６を形成することがで
きる。
は一部重なり合うように塗布する。このようなノズル走
査の軌跡４４をもって塗布することにより、充分に乾い
た状態の塗膜６１に一部重なるように次の塗膜６２が形
成されるので、図５に示すように塗膜６の乾燥むらが低
減し、全面均一な品質のより塗膜６を形成することがで
きる。
【００１９】次に、上述の装置１及び方法によって図６
に示すように陰極線管３のパネル４の表面に黒色染料を
含む可視光吸収膜５１ａ及び無機金属化合物を含む帯電
防止膜５１ｂを有する２層構造の防眩膜５１を形成する
例を説明する。
に示すように陰極線管３のパネル４の表面に黒色染料を
含む可視光吸収膜５１ａ及び無機金属化合物を含む帯電
防止膜５１ｂを有する２層構造の防眩膜５１を形成する
例を説明する。
【００２０】通常の工程により完成した陰極線管３をそ
のパネル４を所定温度に設定した状態でスプレー塗布室
２に入れる。そして、黒色染料０．１〜０．５ｗｔ％と
光散乱用のＳｉＯ2 成分１〜１０ｗｔ％とを含むエチル
シリケート溶液を、０．２〜０．５ｍｌ／ｓｅｃのスプ
レー流量でパネル４表面に吹き付けて可視光吸収膜５１
ａを形成する。
のパネル４を所定温度に設定した状態でスプレー塗布室
２に入れる。そして、黒色染料０．１〜０．５ｗｔ％と
光散乱用のＳｉＯ2 成分１〜１０ｗｔ％とを含むエチル
シリケート溶液を、０．２〜０．５ｍｌ／ｓｅｃのスプ
レー流量でパネル４表面に吹き付けて可視光吸収膜５１
ａを形成する。
【００２１】さらに、導電剤として酸化スズ、酸化イン
ジウム等の金属酸化物の粉末を固形分中に４０〜６０ｗ
ｔ％含み、ＳｉＯ2 成分を１〜１０ｗｔ％含むエチルシ
リケート溶液を、０．２〜０．５ｍｌ／ｓｅｃのスプレ
ー流量で、上記可視光吸収膜５１ａ上に吹き付けて帯電
防止膜５１ｂを形成する。
ジウム等の金属酸化物の粉末を固形分中に４０〜６０ｗ
ｔ％含み、ＳｉＯ2 成分を１〜１０ｗｔ％含むエチルシ
リケート溶液を、０．２〜０．５ｍｌ／ｓｅｃのスプレ
ー流量で、上記可視光吸収膜５１ａ上に吹き付けて帯電
防止膜５１ｂを形成する。
【００２２】その後１５０〜２００℃の温度で１０〜３
０分焼成して、２層構造の防眩膜５１を完成させる。
０分焼成して、２層構造の防眩膜５１を完成させる。
【００２３】なお、可視光吸収膜５１ａ及び帯電防止膜
５１ｂの塗布に際して、パネル温度を１００℃以下、好
ましくは４５℃程度にし、塗布室２内の湿度を５０〜６
０％、温度を２５±５℃に設定すれば防眩効果の高い防
眩膜５１が形成される。また、パネル温度を３０℃程度
にし、塗布室２内の湿度を７０±１０％、温度を２５±
５℃に設定すれば防眩効果を落して高光沢度、即ちグロ
ス値８０以上の防眩膜５１を形成することができる。
５１ｂの塗布に際して、パネル温度を１００℃以下、好
ましくは４５℃程度にし、塗布室２内の湿度を５０〜６
０％、温度を２５±５℃に設定すれば防眩効果の高い防
眩膜５１が形成される。また、パネル温度を３０℃程度
にし、塗布室２内の湿度を７０±１０％、温度を２５±
５℃に設定すれば防眩効果を落して高光沢度、即ちグロ
ス値８０以上の防眩膜５１を形成することができる。
【００２４】尚、上例では２層構造の防眩膜５１の形成
に適用したが、他の単独の帯電防止膜、防眩膜等の塗膜
の形成にも本発明は適用できる。又、陰極線管のパネル
面の塗膜に限らず、他の塗膜形成の場合にも適用でき
る。
に適用したが、他の単独の帯電防止膜、防眩膜等の塗膜
の形成にも本発明は適用できる。又、陰極線管のパネル
面の塗膜に限らず、他の塗膜形成の場合にも適用でき
る。
【００２５】
【発明の効果】本発明によれば、垂直な被塗布面に対し
て複数のノズルを介して各塗布範囲が一部重なり合うよ
うにしてスプレー塗布する際に、各ノズルからの塗布液
量を安定化させることができ、所定時間内に品質のよい
塗膜を形成することができる。従って、例えば陰極線管
のパネル表面に帯電防止膜、防眩膜等をスプレー塗布す
る場合に適用して好適ならしめるものである。
て複数のノズルを介して各塗布範囲が一部重なり合うよ
うにしてスプレー塗布する際に、各ノズルからの塗布液
量を安定化させることができ、所定時間内に品質のよい
塗膜を形成することができる。従って、例えば陰極線管
のパネル表面に帯電防止膜、防眩膜等をスプレー塗布す
る場合に適用して好適ならしめるものである。
【図１】本発明に係るスプレー塗布装置の一例を示す全
体の構成図である。
体の構成図である。
【図２】本発明に係るスプレー塗布装置の要部の構成図
である。
である。
【図３】本発明に係る塗布状態の例を示す説明図であ
る。
る。
【図４】本発明に係るノズルの塗布軌跡の例を示す説明
図である。
図である。
【図５】本発明に係る塗布状態の断面図である。
【図６】本発明装置で防眩膜を形成した陰極線管の一部
断面とする側面図である。
断面とする側面図である。
【図７】比較例に係るノズルの塗布軌跡を示す説明図で
ある。
ある。
【図８】比較例に係る塗布状態の断面図である。
１ スプレー塗布装置 ２ スプレー塗布室 ３ 陰極線管 ４ パネル ５ 支持台 ６ 塗布液 ６ａ 液面 ７ ノズルブロック部 ８ ロボット ３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃ ノズル本体 ３１ａ，３１ｂ，３１ｃ ノズル口 ３２Ａ，３２Ｂ，３２Ｃ 塗布液収納部 ４１，４４ ノズルの塗布軌跡
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 実開 昭63−39451（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B05B 15/06 B05B 7/24 - 7/32 B05C 11/10
Claims (1)
- 【請求項１】 垂直な被塗布面に対して複数のノズルを
介して該各ノズルからの塗布範囲が一部重なり合うよう
に塗布するスプレー塗布装置において、 上記各ノズルに対応する複数の塗布液収納部が階段状に
一体に配され、上記各ノズルと塗布液面間の高さが互い
に同一に設定されて成るスプレー塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03198027A JP3084809B2 (ja) | 1991-08-07 | 1991-08-07 | スプレー塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03198027A JP3084809B2 (ja) | 1991-08-07 | 1991-08-07 | スプレー塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0538475A JPH0538475A (ja) | 1993-02-19 |
| JP3084809B2 true JP3084809B2 (ja) | 2000-09-04 |
Family
ID=16384308
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03198027A Expired - Fee Related JP3084809B2 (ja) | 1991-08-07 | 1991-08-07 | スプレー塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3084809B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4755942B2 (ja) * | 2006-06-02 | 2011-08-24 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板の処理装置 |
-
1991
- 1991-08-07 JP JP03198027A patent/JP3084809B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0538475A (ja) | 1993-02-19 |
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