JP3087649B2 - マーキング方法および装置 - Google Patents
マーキング方法および装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被処理体（以下ワ
ークという）の表面にレーザ光により文字、図形等のマ
ーキングを行うマーキング方法および装置に関する。
ークという）の表面にレーザ光により文字、図形等のマ
ーキングを行うマーキング方法および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ワークに文字、図形等をマーキングする
ために方法の一つとして、従来からレーザ光を照射する
方法が知られている。例えば、ワークに文字／図形を描
画するにはレーザマーキング法が用いられており、レー
ザマーキング法は次のように行われる。 （１）光内に挿入したマスク（ステンシル）にレーザ光
を照射し、マスクに施された文字／図形パターンを通過
したレーザ光によりワークにマーキングする。 （２）ビームの照射位置を移動制御して、所定の文字／
図形パターンをワーク上にマーキングする。
ために方法の一つとして、従来からレーザ光を照射する
方法が知られている。例えば、ワークに文字／図形を描
画するにはレーザマーキング法が用いられており、レー
ザマーキング法は次のように行われる。 （１）光内に挿入したマスク（ステンシル）にレーザ光
を照射し、マスクに施された文字／図形パターンを通過
したレーザ光によりワークにマーキングする。 （２）ビームの照射位置を移動制御して、所定の文字／
図形パターンをワーク上にマーキングする。
【０００３】上記した（２）の方法におけるレーザビー
ムの移動制御は、例えば回転角度が制御可能なモータに
取り付けられた２組のガルバノメータスキャナ（回転角
度が制御可能なモータに取り付けられたミラーにより光
を走査するスキャナ）を用いてなされる。図４は上記し
た（２）の方法によるワークにマーキングを行うマーキ
ング装置の概略構成を示す図であり、同図において、１
はレーザビームを放射するレーザ、２は上記したガルバ
ノメータスキャナ、３はシステムコントローラである。
同図において、レーザ１から放射されるレーザビームは
ガルバノメータスキャナ２の２組のミラーにより反射さ
れワークＷ上に照射される。システムコントローラ３は
ガルバノメータスキャナ２に文字／図形のパターンに応
じたＸ方向位置制御信号Ｓx 、Ｙ方向位置制御信号Ｓy
を送り、ガルバノメータスキャナ２の２つのミラーの角
度を制御する。
ムの移動制御は、例えば回転角度が制御可能なモータに
取り付けられた２組のガルバノメータスキャナ（回転角
度が制御可能なモータに取り付けられたミラーにより光
を走査するスキャナ）を用いてなされる。図４は上記し
た（２）の方法によるワークにマーキングを行うマーキ
ング装置の概略構成を示す図であり、同図において、１
はレーザビームを放射するレーザ、２は上記したガルバ
ノメータスキャナ、３はシステムコントローラである。
同図において、レーザ１から放射されるレーザビームは
ガルバノメータスキャナ２の２組のミラーにより反射さ
れワークＷ上に照射される。システムコントローラ３は
ガルバノメータスキャナ２に文字／図形のパターンに応
じたＸ方向位置制御信号Ｓx 、Ｙ方向位置制御信号Ｓy
を送り、ガルバノメータスキャナ２の２つのミラーの角
度を制御する。
【０００４】図５は上記ガルバノメータスキャナ２のミ
ラーの配置を示す図である。同図に示すように、回転軸
が直交した２組のＸ軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂが設
けられており、Ｘ軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂはＸ軸
スキャナー２ｃ、Ｙ軸スキャナー２ｄにより駆動され
る。レーザ装置１から照射されるレーザ光は、上記Ｘ軸
ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂにより反射され、レーザビ
ームがワークＷ上の所定位置に照射される。
ラーの配置を示す図である。同図に示すように、回転軸
が直交した２組のＸ軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂが設
けられており、Ｘ軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂはＸ軸
スキャナー２ｃ、Ｙ軸スキャナー２ｄにより駆動され
る。レーザ装置１から照射されるレーザ光は、上記Ｘ軸
ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂにより反射され、レーザビ
ームがワークＷ上の所定位置に照射される。
【０００５】図６はガルバノメータスキャナ２の構成の
一例を示す図である。同図は、Ｘ軸ミラー２ａを駆動す
るための回路構成を示しているが、Ｙ軸ミラー２ｂを駆
動するための回路構成も同様である。同図に示すよう
に、Ｘ軸ミラー２ａの回転軸にミラー駆動部２ｅとポジ
ションセンサ部２ｆが接続されており、ミラー駆動部２
ｅは増幅器Ａｍｐ１が出力する駆動電流Ｉx に応じてＸ
軸ミラー２ａを回転させる。また、Ｘ軸ミラー２ａの回
転角はポジションセンサ部２ｆのセンサＳｅｎにより検
出される。センサＳｅｎの出力は増幅器Ａｍｐ２に与え
られ、増幅器Ａｍｐ２はＸ軸ミラー２ａの回転角度に相
当した位置信号Ｐx を出力する。一方、増幅器Ａｍｐ１
は後述する制御部から与えられる照射位置制御信号Ｓx
と上記位置信号Ｐx を比較し、その差に応じた駆動電流
Ｉx を出力しミラー駆動部２ｅを駆動する。したがっ
て、Ｘ軸ミラー２ａは、上記位置制御信号Ｓx に応じた
回転角度に制御される。
一例を示す図である。同図は、Ｘ軸ミラー２ａを駆動す
るための回路構成を示しているが、Ｙ軸ミラー２ｂを駆
動するための回路構成も同様である。同図に示すよう
に、Ｘ軸ミラー２ａの回転軸にミラー駆動部２ｅとポジ
ションセンサ部２ｆが接続されており、ミラー駆動部２
ｅは増幅器Ａｍｐ１が出力する駆動電流Ｉx に応じてＸ
軸ミラー２ａを回転させる。また、Ｘ軸ミラー２ａの回
転角はポジションセンサ部２ｆのセンサＳｅｎにより検
出される。センサＳｅｎの出力は増幅器Ａｍｐ２に与え
られ、増幅器Ａｍｐ２はＸ軸ミラー２ａの回転角度に相
当した位置信号Ｐx を出力する。一方、増幅器Ａｍｐ１
は後述する制御部から与えられる照射位置制御信号Ｓx
と上記位置信号Ｐx を比較し、その差に応じた駆動電流
Ｉx を出力しミラー駆動部２ｅを駆動する。したがっ
て、Ｘ軸ミラー２ａは、上記位置制御信号Ｓx に応じた
回転角度に制御される。
【０００６】上記した図４〜図６に示したシステムの構
成をブロック図で示すと図７に示す構成となる。すなわ
ち、システムコントローラ３は、制御部３ａを備え、制
御部３ａは照射位置制御信号Ｓx ，Ｓy （Ｓy はＹ軸の
位置制御信号）を出力するとともにレーザ装置１を制御
する。また、ガルバノメータスキャナ２の比較部２ｇ
（上記増幅器Ａｍｐ１に相当）は上記位置制御信号Ｓx
，Ｓy と、ポジションセンサ部２ｆが出力する位置信
号Ｐx ，Ｐｙ（Ｐy はＹ軸の位置信号）とを比較し、ミ
ラー駆動部２ｅへ駆動電流Ｉx ，Ｉy を出力する。ミラ
ー駆動部２ｅは上記駆動電流Ｉx ，Ｉy に応じてＸ軸ミ
ラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂを駆動する。Ｘ軸ミラー２
ａ、Ｙ軸ミラー２ｂの回転角度はポジションセンサ部２
ｆで検出され比較部２ｇにフィードバックされる。一
方、レーザ装置１が放射するレーザ光はガルバノメータ
スキャナ２のＸ軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂで反射さ
れてワークＷに照射される。なお、上記のようにワーク
Ｗにレーザビームを照射して、ワークＷにマーキングを
行う場合、ワークＷの材質に応じてレーザビームの照射
量が定まる。このため、ワークＷの材質に応じて一定の
速度でレーザビームをスキャンする必要があり、ガルバ
ノメータスキャナ２のＸ軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂ
も一定の速度で動かす必要がある。すなわち、制御部３
ａから出力される照射位置制御信号Ｓx ，Ｓy もある一
定の速度で変化させる必要がある。
成をブロック図で示すと図７に示す構成となる。すなわ
ち、システムコントローラ３は、制御部３ａを備え、制
御部３ａは照射位置制御信号Ｓx ，Ｓy （Ｓy はＹ軸の
位置制御信号）を出力するとともにレーザ装置１を制御
する。また、ガルバノメータスキャナ２の比較部２ｇ
（上記増幅器Ａｍｐ１に相当）は上記位置制御信号Ｓx
，Ｓy と、ポジションセンサ部２ｆが出力する位置信
号Ｐx ，Ｐｙ（Ｐy はＹ軸の位置信号）とを比較し、ミ
ラー駆動部２ｅへ駆動電流Ｉx ，Ｉy を出力する。ミラ
ー駆動部２ｅは上記駆動電流Ｉx ，Ｉy に応じてＸ軸ミ
ラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂを駆動する。Ｘ軸ミラー２
ａ、Ｙ軸ミラー２ｂの回転角度はポジションセンサ部２
ｆで検出され比較部２ｇにフィードバックされる。一
方、レーザ装置１が放射するレーザ光はガルバノメータ
スキャナ２のＸ軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂで反射さ
れてワークＷに照射される。なお、上記のようにワーク
Ｗにレーザビームを照射して、ワークＷにマーキングを
行う場合、ワークＷの材質に応じてレーザビームの照射
量が定まる。このため、ワークＷの材質に応じて一定の
速度でレーザビームをスキャンする必要があり、ガルバ
ノメータスキャナ２のＸ軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂ
も一定の速度で動かす必要がある。すなわち、制御部３
ａから出力される照射位置制御信号Ｓx ，Ｓy もある一
定の速度で変化させる必要がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記したマーキング装
置において、マーキングのスループットの向上は次のよ
うにして実現される。 (1) ガルバノメータスキャナのスキャンニングスピード
を高速化する。 (2) ガルバノメータスキャナのミラーの移動距離が最短
になるように、文字／図形を作成する。 例えば、図８に示すように、「Ｄ」という文字をマーキ
ングする場合は、同図に示す〜に示す順序でガルバ
ノメータスキャナを制御する。
置において、マーキングのスループットの向上は次のよ
うにして実現される。 (1) ガルバノメータスキャナのスキャンニングスピード
を高速化する。 (2) ガルバノメータスキャナのミラーの移動距離が最短
になるように、文字／図形を作成する。 例えば、図８に示すように、「Ｄ」という文字をマーキ
ングする場合は、同図に示す〜に示す順序でガルバ
ノメータスキャナを制御する。
【０００８】ところで、高速でガルバノメータスキャナ
を駆動すると、ガルバノメータスキャナの可動部のイナ
ーシャにより、照射位置制御信号Ｓx,Ｓy に対して、Ｘ
軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂの追従遅れが発生する。
この追従遅れは、Ｘ方向とＹ方向で微妙に異なるため、
マーキングする文字／図形に歪みが発生する。図９は上
記追従遅れを示す図である。同図（ａ）に示すように、
頂点Ａを持つパターン（同図の実線）をマーキングする
とき、実際にマーキングされるパターンは、上記追従遅
れにより円弧状パターン（同図の点線）となる。また、
同図（ｂ）（ｃ）に示すように、上記追従遅れにより理
想的なパターン（同図の実線）に対して、実際にマーキ
ングされるパターン（同図の点線）の位置がずれる。
を駆動すると、ガルバノメータスキャナの可動部のイナ
ーシャにより、照射位置制御信号Ｓx,Ｓy に対して、Ｘ
軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂの追従遅れが発生する。
この追従遅れは、Ｘ方向とＹ方向で微妙に異なるため、
マーキングする文字／図形に歪みが発生する。図９は上
記追従遅れを示す図である。同図（ａ）に示すように、
頂点Ａを持つパターン（同図の実線）をマーキングする
とき、実際にマーキングされるパターンは、上記追従遅
れにより円弧状パターン（同図の点線）となる。また、
同図（ｂ）（ｃ）に示すように、上記追従遅れにより理
想的なパターン（同図の実線）に対して、実際にマーキ
ングされるパターン（同図の点線）の位置がずれる。
【０００９】例えば、図８に示した「Ｄ」という文字を
マーキングする場合、追従遅れがあると図１０に示すよ
うに文字が歪む。図１０において、（ａ）は理想的な文
字「Ｄ」のパターン（同図実線）と実際にマーキングさ
れる「Ｄ」のパターン（同図点線）を示し、（ｂ）はＸ
軸方向の照射位置制御信号Ｓx （同図実線）と実際にマ
ーキングされるＸ方向の位置（同図点線）を示し、ま
た、（ｃ）はＹ軸方向の照射位置制御信号Ｓy （同図実
線）と実際にマーキングされるＹ方向の位置（同図点
線）を示している。なお、図１０は直線から構成されて
いる文字「Ｄ」をマーキングする場合を示している。図
１０に示すように上記追従遅れにより、文字「Ｄ」をマ
ーキングするとき、頂点の近傍が円弧状になる。ま
た、頂点−間では、実際にマーキングされるパター
ンが理想のパターンの外側にマークされ、頂点−間
では、実際にマーキングされるパターンが理想のパター
ンの内側にマークされる。
マーキングする場合、追従遅れがあると図１０に示すよ
うに文字が歪む。図１０において、（ａ）は理想的な文
字「Ｄ」のパターン（同図実線）と実際にマーキングさ
れる「Ｄ」のパターン（同図点線）を示し、（ｂ）はＸ
軸方向の照射位置制御信号Ｓx （同図実線）と実際にマ
ーキングされるＸ方向の位置（同図点線）を示し、ま
た、（ｃ）はＹ軸方向の照射位置制御信号Ｓy （同図実
線）と実際にマーキングされるＹ方向の位置（同図点
線）を示している。なお、図１０は直線から構成されて
いる文字「Ｄ」をマーキングする場合を示している。図
１０に示すように上記追従遅れにより、文字「Ｄ」をマ
ーキングするとき、頂点の近傍が円弧状になる。ま
た、頂点−間では、実際にマーキングされるパター
ンが理想のパターンの外側にマークされ、頂点−間
では、実際にマーキングされるパターンが理想のパター
ンの内側にマークされる。
【００１０】上記のように、高速でガルバノメータスキ
ャナを駆動すると追従遅れが発生し、マーキングされる
文字／図形がいびつに描かれている印象を与えることに
なり、マーキング文字として採用できない場合がでてく
る。このため、ガルバノメータスキャナの駆動速度の高
速化には限界があり、マーキングのスループットの向上
にも限界が生じていた。本発明は上記した従来技術の問
題点を解決するためになされたものであって、上記追従
遅れが発生しても、文字／図形のマーキング順序を選定
することにより、いびつな印象を与えることなく文字／
図形をマーキングすることができ、マーキングのスルー
プットの向上を図ることができるマーキング方法および
装置を提供することである。
ャナを駆動すると追従遅れが発生し、マーキングされる
文字／図形がいびつに描かれている印象を与えることに
なり、マーキング文字として採用できない場合がでてく
る。このため、ガルバノメータスキャナの駆動速度の高
速化には限界があり、マーキングのスループットの向上
にも限界が生じていた。本発明は上記した従来技術の問
題点を解決するためになされたものであって、上記追従
遅れが発生しても、文字／図形のマーキング順序を選定
することにより、いびつな印象を与えることなく文字／
図形をマーキングすることができ、マーキングのスルー
プットの向上を図ることができるマーキング方法および
装置を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明においては、上記
課題を次のように解決する。 （１）ガルバノメータスキャナに位置制御信号を与え、
該ガルバノメータスキャナにより、被処理物上における
光ビームの照射位置を制御して、該被処理物に文字／図
形等をマーキングするに際し、マーキングする文字／図
形の線対称部分について、ガルバノメータスキャナの追
従遅れにより生ずるマーキング位置のずれが線対称にな
るように、上記文字／図形のマーキング順序を選定す
る。 （２）ガルバノメータスキャナに位置制御信号を与え、
該ガルバノメータスキャナにより、被処理物上における
光ビームの照射位置を制御して、該被処理物に文字／図
形等をマーキングするに際し、マーキングする文字／図
形に、上記ガルバノメータスキャナのＸ，Ｙ軸の走査方
向に平行な線に対して線対称部分が存在するとき、マー
キングする文字／図形を線対称な部分に分割し、各線対
称部分について光ビームの走査方向が線対称になるよう
に光ビームを走査する。本発明の請求項１〜３の発明
は、上記（１）〜（２）のようにマーキングを行ってい
るので、ガルバノメータスキャナに追従遅れが発生して
も、いびつな印象を与えることなく文字／図形をマーキ
ングすることができ、マーキングのスループットの向上
を図ることができる。
課題を次のように解決する。 （１）ガルバノメータスキャナに位置制御信号を与え、
該ガルバノメータスキャナにより、被処理物上における
光ビームの照射位置を制御して、該被処理物に文字／図
形等をマーキングするに際し、マーキングする文字／図
形の線対称部分について、ガルバノメータスキャナの追
従遅れにより生ずるマーキング位置のずれが線対称にな
るように、上記文字／図形のマーキング順序を選定す
る。 （２）ガルバノメータスキャナに位置制御信号を与え、
該ガルバノメータスキャナにより、被処理物上における
光ビームの照射位置を制御して、該被処理物に文字／図
形等をマーキングするに際し、マーキングする文字／図
形に、上記ガルバノメータスキャナのＸ，Ｙ軸の走査方
向に平行な線に対して線対称部分が存在するとき、マー
キングする文字／図形を線対称な部分に分割し、各線対
称部分について光ビームの走査方向が線対称になるよう
に光ビームを走査する。本発明の請求項１〜３の発明
は、上記（１）〜（２）のようにマーキングを行ってい
るので、ガルバノメータスキャナに追従遅れが発生して
も、いびつな印象を与えることなく文字／図形をマーキ
ングすることができ、マーキングのスループットの向上
を図ることができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例のシステ
ムの構成を示す図である。同図において、前記図７に示
したものと同一のものには、同一の符号が付されてお
り、１はレーザ、２は前記したガルバノメータスキャナ
であり、２ａ，２ｂはＸ軸ミラー，Ｙ軸ミラー、２ｅは
ミラー駆動部、２ｆはポジションセンサ部、２ｇは比較
部である。また、３は前記したシステムコントローラで
あり、３ａは制御部である。 本実施例における制御部
３ａには、レーザビームの位置制御信号Ｓx ，Ｓy を出
力する位置信号発生手段３１と、マーキングの対象とな
るパターン信号、およびそのマーキング順序を記憶した
記憶部３２が設られている。
ムの構成を示す図である。同図において、前記図７に示
したものと同一のものには、同一の符号が付されてお
り、１はレーザ、２は前記したガルバノメータスキャナ
であり、２ａ，２ｂはＸ軸ミラー，Ｙ軸ミラー、２ｅは
ミラー駆動部、２ｆはポジションセンサ部、２ｇは比較
部である。また、３は前記したシステムコントローラで
あり、３ａは制御部である。 本実施例における制御部
３ａには、レーザビームの位置制御信号Ｓx ，Ｓy を出
力する位置信号発生手段３１と、マーキングの対象とな
るパターン信号、およびそのマーキング順序を記憶した
記憶部３２が設られている。
【００１３】図２は本実施例における文字／図形のマー
キング順序を説明する図であり、本実施例においては、
文字／図形のマーキング順序を次のよう定めマーキング
を行う。 (1) マーキングする文字／図形が、Ｘ，Ｙ方向に平行な
線に対して線対称な部分を持っているか否かを調べ、マ
ーキングする文字／図形に線対称部分がある場合には線
対称な２つの要素に分ける。 (2) ２つに分割された線対称部分について、走査方向が
線対称になるようなマーキング順序を選定する。上記
Ｘ，Ｙ方向は前記したガルバノメータスキャナのＸ，Ｙ
軸ミラーの走査方向である。 (3）マーキングする文字／図形がＸ，Ｙ方向に平行な線
分を持つ場合には、その線分のマーキング順序は任意に
選定するが、上記線分の端点が他の線分の端点と一致
し、かつ、上記線分と他の線分が円弧状に接続されない
ようにマーキングする場合には、原則として、上記線分
を書き終わったのち、引き続き上記他の線分の端点から
書き始めないようにマーキング順序を選定する。なお、
上記のように線分の端点が他の線分の端点と一致すると
き、上記のようにマーキング順序を選定する代わりに、
線分の端点までマーキングしたとき、一旦その端点で停
止したのち、他の線分を書き始めるようにしてもよい。
キング順序を説明する図であり、本実施例においては、
文字／図形のマーキング順序を次のよう定めマーキング
を行う。 (1) マーキングする文字／図形が、Ｘ，Ｙ方向に平行な
線に対して線対称な部分を持っているか否かを調べ、マ
ーキングする文字／図形に線対称部分がある場合には線
対称な２つの要素に分ける。 (2) ２つに分割された線対称部分について、走査方向が
線対称になるようなマーキング順序を選定する。上記
Ｘ，Ｙ方向は前記したガルバノメータスキャナのＸ，Ｙ
軸ミラーの走査方向である。 (3）マーキングする文字／図形がＸ，Ｙ方向に平行な線
分を持つ場合には、その線分のマーキング順序は任意に
選定するが、上記線分の端点が他の線分の端点と一致
し、かつ、上記線分と他の線分が円弧状に接続されない
ようにマーキングする場合には、原則として、上記線分
を書き終わったのち、引き続き上記他の線分の端点から
書き始めないようにマーキング順序を選定する。なお、
上記のように線分の端点が他の線分の端点と一致すると
き、上記のようにマーキング順序を選定する代わりに、
線分の端点までマーキングしたとき、一旦その端点で停
止したのち、他の線分を書き始めるようにしてもよい。
【００１４】例えば、図２（ａ）に示すようなマーキン
グされる文字／図形が円の場合には、線対称軸は２つあ
るので、そのマーキング順序は、例えば同図の〜に
示すように選定される。なお、この場合、マーキング順
序が→，→，→，→であっても、ま
た、同図の矢印の向きが逆であってもよく、要は上記
(1)(2)の条件を満たしていればよい。このようなマーキ
ング順序とすることにより、実際にマークされるパター
ンは、追従遅れにより同図の点線に示すように円がやや
左右に膨らんだ形となるが、上下左右の対称性が保持さ
れるので、いびつな印象を与えることがない。
グされる文字／図形が円の場合には、線対称軸は２つあ
るので、そのマーキング順序は、例えば同図の〜に
示すように選定される。なお、この場合、マーキング順
序が→，→，→，→であっても、ま
た、同図の矢印の向きが逆であってもよく、要は上記
(1)(2)の条件を満たしていればよい。このようなマーキ
ング順序とすることにより、実際にマークされるパター
ンは、追従遅れにより同図の点線に示すように円がやや
左右に膨らんだ形となるが、上下左右の対称性が保持さ
れるので、いびつな印象を与えることがない。
【００１５】また、例えば、図２（ｂ）に示すようにマ
ーキングされる文字／図形が菱形の場合にも、線対称軸
は２つあるので、上記円の場合と同様、そのマーキング
順序は例えば同図の〜に示すように選定される。こ
の場合にも、実際にマークされるパターンは、追従遅れ
により同図の点線に示すように菱形がやや左右に膨らん
だ形となるが、上下左右の対称性が保持されるので、い
びつな印象を与えることがない。さらに、例えば、図２
（ｃ）に示すように、マーキングされる文字／図形が文
字「Ａ」の場合には、線対称軸は一つであるので、その
マーキング順序は同図の〜に示すように選定され
る。なお、Ｘ方向に平行な線分→については、マー
キング順序は任意に選定することができ、例えば、マー
キング順序が→であってもよい。この場合にも、追
従遅れにより実際にマーキングされる文字は、同図の点
線に示すように文字「Ａ」の斜め線が左右に膨らんだ形
となるが、左右の対称性が保持されるので、いびつな印
象を与えることがない。
ーキングされる文字／図形が菱形の場合にも、線対称軸
は２つあるので、上記円の場合と同様、そのマーキング
順序は例えば同図の〜に示すように選定される。こ
の場合にも、実際にマークされるパターンは、追従遅れ
により同図の点線に示すように菱形がやや左右に膨らん
だ形となるが、上下左右の対称性が保持されるので、い
びつな印象を与えることがない。さらに、例えば、図２
（ｃ）に示すように、マーキングされる文字／図形が文
字「Ａ」の場合には、線対称軸は一つであるので、その
マーキング順序は同図の〜に示すように選定され
る。なお、Ｘ方向に平行な線分→については、マー
キング順序は任意に選定することができ、例えば、マー
キング順序が→であってもよい。この場合にも、追
従遅れにより実際にマーキングされる文字は、同図の点
線に示すように文字「Ａ」の斜め線が左右に膨らんだ形
となるが、左右の対称性が保持されるので、いびつな印
象を与えることがない。
【００１６】また、図２（ｄ）に示すように、マーキン
グされる文字／図形が文字「Ｄ」の場合には、線対称軸
は一つであるので、そのマーキング順序は同図の〜
に示すように選定される。なお、文字「Ｄ」の線分→
の端点，は他の線分→、→の端点，
と一致しているので、前記(3) に記したように、線分
→を書きおわったのち、引き続き端点から線分→
を書きはじめないように、線分→を書いたのち、
線分→を書くようにマーキング順序を選定する。こ
の場合にも、追従遅れにより実際にマーキングされる文
字は、同図の点線に示すように文字「Ｄ」の曲線部分が
右に膨らんだ形となるが、上下の対称性が保持されるの
で、いびつな印象を与えることがない。
グされる文字／図形が文字「Ｄ」の場合には、線対称軸
は一つであるので、そのマーキング順序は同図の〜
に示すように選定される。なお、文字「Ｄ」の線分→
の端点，は他の線分→、→の端点，
と一致しているので、前記(3) に記したように、線分
→を書きおわったのち、引き続き端点から線分→
を書きはじめないように、線分→を書いたのち、
線分→を書くようにマーキング順序を選定する。こ
の場合にも、追従遅れにより実際にマーキングされる文
字は、同図の点線に示すように文字「Ｄ」の曲線部分が
右に膨らんだ形となるが、上下の対称性が保持されるの
で、いびつな印象を与えることがない。
【００１７】同様に、例えば文字「Ｂ」，「Ｃ」等につ
いても、線対称部分と、Ｙ方向に平行な線分から構成さ
れるので、上記文字「Ａ」，「Ｄ」と同様にマーキング
順序が選定される。また、Ｘ，Ｙ方向に対して線対称部
分を持たない文字「θ」のように斜めに傾いた文字、あ
るいは斜めに傾いた楕円等の場合には、追従遅れにより
若干文字／図形が歪んでも、いびつな印象を与えること
がないので、大きな支障のない範囲でマーキング順序を
任意に選定することができる。
いても、線対称部分と、Ｙ方向に平行な線分から構成さ
れるので、上記文字「Ａ」，「Ｄ」と同様にマーキング
順序が選定される。また、Ｘ，Ｙ方向に対して線対称部
分を持たない文字「θ」のように斜めに傾いた文字、あ
るいは斜めに傾いた楕円等の場合には、追従遅れにより
若干文字／図形が歪んでも、いびつな印象を与えること
がないので、大きな支障のない範囲でマーキング順序を
任意に選定することができる。
【００１８】図３は上記文字「Ｄ」をマーキングすると
きのＸ軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂの動作を示す図で
あり、（ａ）は理想的な文字「Ｄ」のパターン（同図実
線）と実際にマーキングされる「Ｄ」のパターン（同図
点線）を示し、（ｂ）はＸ軸方向の照射位置制御信号Ｓ
x （同図実線）と実際にマーキングされるＸ方向の位置
（同図点線）を示し、また、（ｃ）はＹ軸方向の照射位
置制御信号Ｓy （同図実線）と実際にマーキングされる
Ｙ方向の位置（同図点線）を示している。なお、図３
は、前記図１０と同様、直線から構成されている文字
「Ｄ」をマーキングする場合を示しており、本実施例に
おいては、前記図２（ｄ）に示したように、文字「Ｄ」
を同図（ａ）の点線で示す線で線対称に分割し（同図の
が線分−の中点）、線対称部分の→、→
について、走査方向が線対称になるようにマーキングし
ている。
きのＸ軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂの動作を示す図で
あり、（ａ）は理想的な文字「Ｄ」のパターン（同図実
線）と実際にマーキングされる「Ｄ」のパターン（同図
点線）を示し、（ｂ）はＸ軸方向の照射位置制御信号Ｓ
x （同図実線）と実際にマーキングされるＸ方向の位置
（同図点線）を示し、また、（ｃ）はＹ軸方向の照射位
置制御信号Ｓy （同図実線）と実際にマーキングされる
Ｙ方向の位置（同図点線）を示している。なお、図３
は、前記図１０と同様、直線から構成されている文字
「Ｄ」をマーキングする場合を示しており、本実施例に
おいては、前記図２（ｄ）に示したように、文字「Ｄ」
を同図（ａ）の点線で示す線で線対称に分割し（同図の
が線分−の中点）、線対称部分の→、→
について、走査方向が線対称になるようにマーキングし
ている。
【００１９】次に前記した図１および図３により本実施
例の動作について説明する。 （１）制御部３ａの位置信号発生手段３１はまずＸ軸ミ
ラー２ａ，Ｙ軸ミラー２ｂによりマーキングされる位置
が文字の書き始め位置になるようにＸ軸ミラー２ａ，Ｙ
軸ミラー２ｂを位置決めし、記憶部３２に記憶されたパ
ターン信号の文字「Ｄ」のマーキング順序を読み出す。 （２）次に、位置信号発生手段３１は文字「Ｄ」の線分
→をマーキングするため、Ｘ軸ミラー２ａに対する
位置制御信号Ｓx を一定に保ったまま、Ｙ軸ミラー２ｂ
に対する位置制御信号Ｓy を所定速度で変化させる。ま
た、これと同時に位置信号発生手段３１はレーザ１をオ
ンにして、レーザ光をガルバノメータスキャナ２に導入
する。これにより、図３（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すよう
に、線分→がマーキングされる。線分→をマー
キングする際、図３（ｃ）に示すようにＹ軸ミラー２ｂ
によりマーキングされる位置は位置制御信号Ｓy より遅
れるが、Ｘ軸ミラー２ａは駆動されていないため、実際
にマーキングされるパターンは図３（ａ）に示すように
理想のパターンと一致する。
例の動作について説明する。 （１）制御部３ａの位置信号発生手段３１はまずＸ軸ミ
ラー２ａ，Ｙ軸ミラー２ｂによりマーキングされる位置
が文字の書き始め位置になるようにＸ軸ミラー２ａ，Ｙ
軸ミラー２ｂを位置決めし、記憶部３２に記憶されたパ
ターン信号の文字「Ｄ」のマーキング順序を読み出す。 （２）次に、位置信号発生手段３１は文字「Ｄ」の線分
→をマーキングするため、Ｘ軸ミラー２ａに対する
位置制御信号Ｓx を一定に保ったまま、Ｙ軸ミラー２ｂ
に対する位置制御信号Ｓy を所定速度で変化させる。ま
た、これと同時に位置信号発生手段３１はレーザ１をオ
ンにして、レーザ光をガルバノメータスキャナ２に導入
する。これにより、図３（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すよう
に、線分→がマーキングされる。線分→をマー
キングする際、図３（ｃ）に示すようにＹ軸ミラー２ｂ
によりマーキングされる位置は位置制御信号Ｓy より遅
れるが、Ｘ軸ミラー２ａは駆動されていないため、実際
にマーキングされるパターンは図３（ａ）に示すように
理想のパターンと一致する。
【００２０】（３）次に、位置信号発生手段３１は記憶
部３２から次にマーキングする線分→を読み出し、
レーザ１をオフにしたのち、Ｘ軸ミラー２ａに対する位
置制御信号Ｓx を一定に保ったまま、Ｙ軸ミラー２ｂに
対する位置制御信号Ｓy を線分→の書き始め位置ま
で変化させる。これに応じて図３（ｃ）に示すように、
Ｙ軸ミラー２ｂによるマーキング位置はまで移動す
る。このとき、Ｙ軸ミラー２ｂによりマーキングされる
位置は位置制御信号Ｓy より大きく遅れるが、レーザ１
がオフなので影響はない。
部３２から次にマーキングする線分→を読み出し、
レーザ１をオフにしたのち、Ｘ軸ミラー２ａに対する位
置制御信号Ｓx を一定に保ったまま、Ｙ軸ミラー２ｂに
対する位置制御信号Ｓy を線分→の書き始め位置ま
で変化させる。これに応じて図３（ｃ）に示すように、
Ｙ軸ミラー２ｂによるマーキング位置はまで移動す
る。このとき、Ｙ軸ミラー２ｂによりマーキングされる
位置は位置制御信号Ｓy より大きく遅れるが、レーザ１
がオフなので影響はない。
【００２１】（４）位置信号発生手段３１は線分→
をマーキングするため、Ｙ軸ミラー２ｂに対する位置制
御信号Ｓy を一定に保ったまま、Ｘ軸ミラー２ａに対す
る位置制御信号Ｓx を所定速度で変化させる。また、こ
れと同時にレーザ１を駆動して、レーザ光をガルバノメ
ータスキャナ２に導入する。これにより、図３（ａ）
（ｂ）（ｃ）に示すように、線分→がマーキングさ
れる。線分→をマーキングする際、図３（ｂ）に示
すようにＸ軸ミラー２ａによりマーキングされる位置は
位置制御信号Ｓx より遅れるが、Ｙ軸ミラー２ｂは駆動
されていないため、実際にマーキングされるパターンは
図３（ａ）に示すように理想のパターンと一致する。
をマーキングするため、Ｙ軸ミラー２ｂに対する位置制
御信号Ｓy を一定に保ったまま、Ｘ軸ミラー２ａに対す
る位置制御信号Ｓx を所定速度で変化させる。また、こ
れと同時にレーザ１を駆動して、レーザ光をガルバノメ
ータスキャナ２に導入する。これにより、図３（ａ）
（ｂ）（ｃ）に示すように、線分→がマーキングさ
れる。線分→をマーキングする際、図３（ｂ）に示
すようにＸ軸ミラー２ａによりマーキングされる位置は
位置制御信号Ｓx より遅れるが、Ｙ軸ミラー２ｂは駆動
されていないため、実際にマーキングされるパターンは
図３（ａ）に示すように理想のパターンと一致する。
【００２２】（５）位置信号発生手段３１は記憶部３２
から次にマーキングする線分→を読み出し、レーザ
１をオンにしたまま、Ｘ軸ミラー２ａ，Ｙ軸ミラー２ｂ
に対する位置制御信号Ｓx ，Ｓy を所定速度で変化させ
る。これにより、図３（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すよう
に、線分→がマーキングされる。線分→をマー
キングする際、図３（ｂ）に示すようにＸ軸ミラー２
ａ，Ｙ軸ミラー２ｂによりマーキングされる位置は位置
制御信号Ｓx ，Ｓy より遅れ、実際にマーキングされる
パターンは図３（ａ）に示すように理想のパターンより
右側にマーキングされる。
から次にマーキングする線分→を読み出し、レーザ
１をオンにしたまま、Ｘ軸ミラー２ａ，Ｙ軸ミラー２ｂ
に対する位置制御信号Ｓx ，Ｓy を所定速度で変化させ
る。これにより、図３（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すよう
に、線分→がマーキングされる。線分→をマー
キングする際、図３（ｂ）に示すようにＸ軸ミラー２
ａ，Ｙ軸ミラー２ｂによりマーキングされる位置は位置
制御信号Ｓx ，Ｓy より遅れ、実際にマーキングされる
パターンは図３（ａ）に示すように理想のパターンより
右側にマーキングされる。
【００２３】（６）位置信号発生手段３１は記憶部３２
から次にマーキングする線分→を読み出し、レーザ
１をオンにしたまま、Ｘ軸ミラー２ａに対する位置制御
信号Ｓx を一定に保ち、Ｙ軸ミラー２ｂに対する位置制
御信号Ｓy を所定速度で変化させる。これにより、図３
（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すように、線分→がマーキ
ングされる。線分→をマーキングする際、図３
（ｂ）に示すようにＹ軸ミラー２ｂによりマーキングさ
れる位置は位置制御信号Ｓy より遅れるが、Ｘ軸ミラー
２ａは駆動されていないため、実際にマーキングされる
パターンは図３（ａ）に示すように理想のパターンと一
致する。
から次にマーキングする線分→を読み出し、レーザ
１をオンにしたまま、Ｘ軸ミラー２ａに対する位置制御
信号Ｓx を一定に保ち、Ｙ軸ミラー２ｂに対する位置制
御信号Ｓy を所定速度で変化させる。これにより、図３
（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すように、線分→がマーキ
ングされる。線分→をマーキングする際、図３
（ｂ）に示すようにＹ軸ミラー２ｂによりマーキングさ
れる位置は位置制御信号Ｓy より遅れるが、Ｘ軸ミラー
２ａは駆動されていないため、実際にマーキングされる
パターンは図３（ａ）に示すように理想のパターンと一
致する。
【００２４】（７）次に、位置信号発生手段３１は記憶
部３２から次にマーキングする線分→を読み出し、
レーザ１をオフにしたのち、Ｘ軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラ
ー２ｂに対する位置制御信号Ｓx ，Ｓy を線分→の
書き始め位置まで変化させる。これに応じて図３（ｂ）
（ｃ）に示すように、Ｘ軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂ
によるマーキング位置はまで移動する。このとき、Ｘ
軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂによりマーキングされる
位置は位置制御信号Ｓx ，Ｓy より大きく遅れるが、レ
ーザ１がオフなので影響はない。
部３２から次にマーキングする線分→を読み出し、
レーザ１をオフにしたのち、Ｘ軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラ
ー２ｂに対する位置制御信号Ｓx ，Ｓy を線分→の
書き始め位置まで変化させる。これに応じて図３（ｂ）
（ｃ）に示すように、Ｘ軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂ
によるマーキング位置はまで移動する。このとき、Ｘ
軸ミラー２ａ、Ｙ軸ミラー２ｂによりマーキングされる
位置は位置制御信号Ｓx ，Ｓy より大きく遅れるが、レ
ーザ１がオフなので影響はない。
【００２５】（８）以下、上記（４）〜（６）と同様に
線分→→→をマーキングする。上記マーキング
において、線分→をマーキングする場合と同様、線
分→をマーキングするとき、実際にマーキングされ
るパターンは図３（ａ）に示すように理想のパターンよ
り右側にマーキングされる。以上のように、本実施例で
は、マーキングする文字「Ｄ」を線対称の要素に分割し
線対称部分の→、→について、走査方向が線対
称になるようにマーキングしているので、線分→、
線分→のマーキングを行う際、追従遅れにより実際
のマーキング位置が理想のパターンとずれても、マーキ
ングされる文字の対称性が保たれる。
線分→→→をマーキングする。上記マーキング
において、線分→をマーキングする場合と同様、線
分→をマーキングするとき、実際にマーキングされ
るパターンは図３（ａ）に示すように理想のパターンよ
り右側にマーキングされる。以上のように、本実施例で
は、マーキングする文字「Ｄ」を線対称の要素に分割し
線対称部分の→、→について、走査方向が線対
称になるようにマーキングしているので、線分→、
線分→のマーキングを行う際、追従遅れにより実際
のマーキング位置が理想のパターンとずれても、マーキ
ングされる文字の対称性が保たれる。
【００２６】すなわち、本実施例においては、マーキン
グされる文字／図形の歪みを完全に除去することはでき
ないが、歪み部分が対称の位置に存在するので、文字の
いびつな印象を与えることが少なくなり、マーキング文
字として採用することが可能となる。なお、本実施例に
おいては、マーキングする文字／図形を線対称の要素に
分割し線対称部分の走査方向が線対称になるようにマー
キングしているので、文字／図形を連続的にマーキング
することができず、レーザをオフにした状態でマーキン
グ位置を線分の書き始め位置に移動させる回数が増え
る。このため、Ｘ軸ミラー２ａ，Ｙ軸ミラー２ｂの移動
距離が最短になるようなマーキングを行うことができず
マーキングに要する時間は増加するが、ガルバノメータ
スキャナを高速に駆動することができるので、結果とし
てマーキングのスループットを向上させることができ
る。
グされる文字／図形の歪みを完全に除去することはでき
ないが、歪み部分が対称の位置に存在するので、文字の
いびつな印象を与えることが少なくなり、マーキング文
字として採用することが可能となる。なお、本実施例に
おいては、マーキングする文字／図形を線対称の要素に
分割し線対称部分の走査方向が線対称になるようにマー
キングしているので、文字／図形を連続的にマーキング
することができず、レーザをオフにした状態でマーキン
グ位置を線分の書き始め位置に移動させる回数が増え
る。このため、Ｘ軸ミラー２ａ，Ｙ軸ミラー２ｂの移動
距離が最短になるようなマーキングを行うことができず
マーキングに要する時間は増加するが、ガルバノメータ
スキャナを高速に駆動することができるので、結果とし
てマーキングのスループットを向上させることができ
る。
【００２７】また、上記実施例においは、マーキングす
る文字／図形を、ガルバノメータスキャナのＸ，Ｙ軸に
平行な線に対して線対称な２つの要素に分けているが、
本発明は上記実施例に限定されるものではなく、文字／
図形に線対称部分があるとき、ガルバノメータスキャナ
の追従遅れにより生ずるマーキング位置のずれが線対称
になるように、上記文字／図形のマーキング順序を選定
すればよい。
る文字／図形を、ガルバノメータスキャナのＸ，Ｙ軸に
平行な線に対して線対称な２つの要素に分けているが、
本発明は上記実施例に限定されるものではなく、文字／
図形に線対称部分があるとき、ガルバノメータスキャナ
の追従遅れにより生ずるマーキング位置のずれが線対称
になるように、上記文字／図形のマーキング順序を選定
すればよい。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、ガルバノメータスキャナに位置制御信号を与え、該
ガルバノメータスキャナにより、被処理物上における光
ビームの照射位置を制御して、該被処理物に文字／図形
等をマーキングするに際し、マーキングする文字／図形
の線対称部分について、ガルバノメータスキャナの追従
遅れにより生ずるマーキング位置のずれが線対称になる
ように、上記文字／図形のマーキング順序を選定し、文
字／図形のマーキングを行っているので、ガルバノメー
タスキャナに追従遅れが発生しても、いびつな印象を与
えることなく文字／図形をマーキングすることができ、
マーキングのスループットを向上させることができる。
は、ガルバノメータスキャナに位置制御信号を与え、該
ガルバノメータスキャナにより、被処理物上における光
ビームの照射位置を制御して、該被処理物に文字／図形
等をマーキングするに際し、マーキングする文字／図形
の線対称部分について、ガルバノメータスキャナの追従
遅れにより生ずるマーキング位置のずれが線対称になる
ように、上記文字／図形のマーキング順序を選定し、文
字／図形のマーキングを行っているので、ガルバノメー
タスキャナに追従遅れが発生しても、いびつな印象を与
えることなく文字／図形をマーキングすることができ、
マーキングのスループットを向上させることができる。
【図１】本発明の実施例の構成を示す図である。
【図２】本発明の実施例における文字／図形のマーキン
グ順序を説明する図である。
グ順序を説明する図である。
【図３】本実施例において文字「Ｄ」をマーキングする
ときの動作を示す図である。
ときの動作を示す図である。
【図４】ビームの照射位置を移動制御するマーキング装
置の構成を示す図である。
置の構成を示す図である。
【図５】ガルバノメータスキャナのミラーの配置を示す
図である。
図である。
【図６】ガルバノメータスキャナの構成の一例を示す図
である。
である。
【図７】マーキング装置のブロック図である。
【図８】文字「Ｄ」のマーキング順序の一例を示す図で
ある。
ある。
【図９】ガルバノメータスキャナを高速駆動したときの
追従遅れを示す図である。
追従遅れを示す図である。
【図１０】図８の順序で文字「Ｄ」をマーキングをする
ときの動作を示す図である。
ときの動作を示す図である。
【符号の説明】 １ レーザ ２ ガルバノメータスキャナ ２ａ，２ｂ Ｘ軸ミラー、Ｙ軸ミラー ２ｃ Ｘ軸スキャナ ２ｄ Ｙ軸スキャナ ２ｅ ミラー駆動部 ２ｆ ポジションセンサ部 ２ｇ 比較部 ３ システムコントローラ ３ａ 制御部 ３１ 位置信号発生手段 ３２ 記憶部 Ａｍｐ１，Ａｍｐ２ 増幅器 Ｓｅｎ ポジションセンサ
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−55282（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−290257（ＪＰ，Ａ) 実開 平７−33476（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B23K 26/00 - 26/08
Claims (3)
- 【請求項１】 ガルバノメータスキャナに位置制御信号
を与え、該ガルバノメータスキャナにより、被処理物上
における光ビームの照射位置を制御して、該被処理物に
文字／図形等をマーキングするマーキング方法であっ
て、 マーキングする文字／図形の線対称部分について、ガル
バノメータスキャナの追従遅れにより生ずるマーキング
位置のずれが線対称になるように、上記文字／図形のマ
ーキング順序を選定することを特徴とするマーキング方
法。 - 【請求項２】 ガルバノメータスキャナに位置制御信号
を与え、該ガルバノメータスキャナにより、被処理物上
における光ビームの照射位置を制御して、該被処理物に
文字／図形等をマーキングするマーキング方法であっ
て、 マーキングする文字／図形に、上記ガルバノメータスキ
ャナのＸ，Ｙ軸の走査方向に平行な線に対して線対称部
分が存在するとき、マーキングする文字／図形を線対称
な部分に分割し、各線対称部分について光ビームの走査
方向が線対称になるように光ビームを走査することを特
徴とするマーキング方法。 - 【請求項３】 光ビームを放出する光ビーム放出部と、 被処理物に文字／図形をマーキングするため、被処理物
上における上記光ビームの照射位置を制御するガルバノ
メータスキャナと、 上記ガルバノメータスキャナに位置制御信号を与えて、
ガルバノメータスキャナを駆動制御する制御部とを備え
たマーキング装置であって、 上記制御部は、マーキングする文字／図形に、上記ガル
バノメータスキャナのＸ，Ｙ軸の走査方向に平行な線に
対して線対称部分が存在するとき、マーキングする文字
／図形を線対称な部分に分割し、各線対称部分について
光ビームの走査方向が線対称になるような位置制御信号
をガルバノメータスキャナに与えることを特徴とするマ
ーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08102901A JP3087649B2 (ja) | 1996-04-24 | 1996-04-24 | マーキング方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08102901A JP3087649B2 (ja) | 1996-04-24 | 1996-04-24 | マーキング方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09285881A JPH09285881A (ja) | 1997-11-04 |
| JP3087649B2 true JP3087649B2 (ja) | 2000-09-11 |
Family
ID=14339772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08102901A Expired - Lifetime JP3087649B2 (ja) | 1996-04-24 | 1996-04-24 | マーキング方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3087649B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001225181A (ja) * | 2000-02-18 | 2001-08-21 | Sunx Ltd | レーザマーキング装置 |
| JP3629196B2 (ja) * | 2000-09-29 | 2005-03-16 | サンクス株式会社 | レーザマーキング装置 |
| JP5256575B2 (ja) * | 2005-10-17 | 2013-08-07 | 株式会社安川電機 | ガルバノ制御用コントローラ装置および制御方法 |
| JP6742839B2 (ja) * | 2016-07-04 | 2020-08-19 | 株式会社キーエンス | レーザ加工装置、レーザ加工装置の加工パターン調整方法、レーザ加工装置の加工パターン調整プログラム、コンピュータで読み取り可能な記録媒体及び記録した機器 |
| JP6850085B2 (ja) * | 2016-07-04 | 2021-03-31 | 株式会社キーエンス | レーザ加工装置、レーザ加工装置の操作方法、レーザ加工装置の操作プログラム、コンピュータで読み取り可能な記録媒体及び記録した機器 |
| JP6866853B2 (ja) * | 2018-01-11 | 2021-04-28 | ブラザー工業株式会社 | レーザ加工装置およびレーザ加工方法 |
-
1996
- 1996-04-24 JP JP08102901A patent/JP3087649B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09285881A (ja) | 1997-11-04 |
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|---|---|---|---|
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