JP3087982B2 - ガスセンサ - Google Patents
ガスセンサInfo
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- JP3087982B2 JP3087982B2 JP04179102A JP17910292A JP3087982B2 JP 3087982 B2 JP3087982 B2 JP 3087982B2 JP 04179102 A JP04179102 A JP 04179102A JP 17910292 A JP17910292 A JP 17910292A JP 3087982 B2 JP3087982 B2 JP 3087982B2
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- gas sensor
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Description
【0001】
【発明の利用分野】この発明はガスセンサに関し、特に
湿度依存性と経時特性とを改良したガスセンサに関す
る。
湿度依存性と経時特性とを改良したガスセンサに関す
る。
【0002】
【従来技術】発明者らは、絶縁基板にガラス等の断熱膜
を介してヒータと金属酸化物半導体膜とを積層し、ヒー
タを瞬間的に発熱させて金属酸化物半導体膜も瞬間的に
加熱するようにした、ガスセンサを提案した(特開平1
−313,751号,実開平2−25,857号)。発明
者らはこのセンサの実用化研究を通じて、 1) センサの経時安定性が不足で、長期間使用するとガ
ス検出用の金属酸化物半導体が高抵抗化する、 2) センサの湿度依存性が大きい、特にCO検出の場合
の湿度依存性が大きい、との問題に直面した。またこの
センサの目的の一つは、小型化を通じてコストを低下さ
せることである。センサを小型化すると、ハウジングの
占めるコストが増加し、簡便なハウジングを開発する必
要にせまられた。
を介してヒータと金属酸化物半導体膜とを積層し、ヒー
タを瞬間的に発熱させて金属酸化物半導体膜も瞬間的に
加熱するようにした、ガスセンサを提案した(特開平1
−313,751号,実開平2−25,857号)。発明
者らはこのセンサの実用化研究を通じて、 1) センサの経時安定性が不足で、長期間使用するとガ
ス検出用の金属酸化物半導体が高抵抗化する、 2) センサの湿度依存性が大きい、特にCO検出の場合
の湿度依存性が大きい、との問題に直面した。またこの
センサの目的の一つは、小型化を通じてコストを低下さ
せることである。センサを小型化すると、ハウジングの
占めるコストが増加し、簡便なハウジングを開発する必
要にせまられた。
【0003】
【発明の課題】この発明の課題は、(1) 湿度依存性が
小さく、(2) 経時安定性を改善した、ガスセンサを提
供することにある(請求項1)。請求項2での課題は、
これらに加えて、安価で組立が容易なハウジングを提供
することにある。
小さく、(2) 経時安定性を改善した、ガスセンサを提
供することにある(請求項1)。請求項2での課題は、
これらに加えて、安価で組立が容易なハウジングを提供
することにある。
【0004】
【発明の構成】この発明は、ヒータと金属酸化物半導体
とを備えたセンサ本体を設け、このヒータをパルス駆動
して瞬間的に発熱させて、前記金属酸化物半導体を瞬間
的に加熱するようにした、ガスセンサにおいて、ガスセ
ンサのハウジングに、水の収着剤を保持させ、この収着
剤を介して外気をガスセンサ内に導入するようにしたこ
とを特徴とする。
とを備えたセンサ本体を設け、このヒータをパルス駆動
して瞬間的に発熱させて、前記金属酸化物半導体を瞬間
的に加熱するようにした、ガスセンサにおいて、ガスセ
ンサのハウジングに、水の収着剤を保持させ、この収着
剤を介して外気をガスセンサ内に導入するようにしたこ
とを特徴とする。
【0005】好ましくは、前記金属酸化物半導体を膜状
の金属酸化物半導体として、前記センサ本体を絶縁基板
上に前記ヒータと前記金属酸化物半導体とを設けたもの
とし、このセンサ本体を熱収縮チューブに収容して、熱
収縮チューブの一端からガスセンサのリードを引き出す
とともに、このリードの部分で熱収縮チューブを収縮さ
せてチューブの一端を閉じ、熱収縮チューブの他端側に
水の収着剤からなる収着フィルタを設けるとともに、熱
収縮チューブをこのフィルタの部分で収縮させて、フィ
ルタを熱収縮チューブに保持させる。
の金属酸化物半導体として、前記センサ本体を絶縁基板
上に前記ヒータと前記金属酸化物半導体とを設けたもの
とし、このセンサ本体を熱収縮チューブに収容して、熱
収縮チューブの一端からガスセンサのリードを引き出す
とともに、このリードの部分で熱収縮チューブを収縮さ
せてチューブの一端を閉じ、熱収縮チューブの他端側に
水の収着剤からなる収着フィルタを設けるとともに、熱
収縮チューブをこのフィルタの部分で収縮させて、フィ
ルタを熱収縮チューブに保持させる。
【0006】
【実施例】図8〜図10に、ガスセンサの構造を示す。
図8において、2はガスセンサで、4は合成樹脂の熱収
縮チューブ、6はセンサ本体、8は活性炭フィルタであ
る。10,12は活性炭フィルタ8の上下の金網、14,
16,18はセンサ本体6に接続したリードである。
図8において、2はガスセンサで、4は合成樹脂の熱収
縮チューブ、6はセンサ本体、8は活性炭フィルタであ
る。10,12は活性炭フィルタ8の上下の金網、14,
16,18はセンサ本体6に接続したリードである。
【0007】活性炭フィルタ8は好ましくはセンサ1個
当り10mg〜100mgを用い、10mg以上で湿度
依存性の抑制と経時変化の安定との効果が著しくなり、
センサ1個当り25mg以上とすることにより、特に効
果が著しくなる。また100mg以上の活性炭フィルタ
8を用いることは、ガスセンサ2を大型化させ好ましく
ない。
当り10mg〜100mgを用い、10mg以上で湿度
依存性の抑制と経時変化の安定との効果が著しくなり、
センサ1個当り25mg以上とすることにより、特に効
果が著しくなる。また100mg以上の活性炭フィルタ
8を用いることは、ガスセンサ2を大型化させ好ましく
ない。
【0008】フィルタ8の材質には、活性炭に限らず、
シリカゲルやモレキュラーシーブ、カオリン、あるいは
これらにポリエチレングリコールやグリセリン等を含浸
させたもの等を用いても良い。また活性炭は、酸処理に
よりアルカリ性物質への吸着能を高めたもの、アルカリ
処理により酸性物質への吸着能を高めたもの等のよう
に、化学的な修飾を施したものでも良い。活性炭の形状
は、粒状、繊維シート状、ハニカム状のいずれでも良
い。フィルタ8の基本的作用は、空気中の水を吸着ある
いは吸収し、センサ本体6が高湿雰囲気に触れないよう
にすることにある。フィルタ8は水の収着剤であり、例
えば活性炭は弱い水の吸着剤である。またモレキュラー
シーブやシリカゲルは強い水の吸着剤で、カオリンは弱
い吸着剤である。さらにポリエチレングリコールやグリ
セリンは潮解作用を持ち、その結果水を吸収する収着剤
である。これらのフィルタ8は周囲の湿度が増すと水を
吸収し、センサ本体6が高湿の雰囲気に触れることを防
止する。また湿度が低下すると水を放出し、次に高湿の
雰囲気に触れた際に水を吸収できるように再生する。そ
してセンサ2をパルス駆動すると、フィルタ8は昇温せ
ず室温のままに保たれるので、フィルタ8の水の吸着能
や吸収能が保たれる。なお好ましいフィルタ8の量は、
活性炭やモレキュラーシーブ,シリカゲルの場合は、い
ずれもセンサ1個当り10mg〜100mgで、10m
g以上で湿度依存性の抑制と経時変化の安定との効果が
得られ、センサ1個当り25mg以上とすることによ
り、特に効果が著しくなる。
シリカゲルやモレキュラーシーブ、カオリン、あるいは
これらにポリエチレングリコールやグリセリン等を含浸
させたもの等を用いても良い。また活性炭は、酸処理に
よりアルカリ性物質への吸着能を高めたもの、アルカリ
処理により酸性物質への吸着能を高めたもの等のよう
に、化学的な修飾を施したものでも良い。活性炭の形状
は、粒状、繊維シート状、ハニカム状のいずれでも良
い。フィルタ8の基本的作用は、空気中の水を吸着ある
いは吸収し、センサ本体6が高湿雰囲気に触れないよう
にすることにある。フィルタ8は水の収着剤であり、例
えば活性炭は弱い水の吸着剤である。またモレキュラー
シーブやシリカゲルは強い水の吸着剤で、カオリンは弱
い吸着剤である。さらにポリエチレングリコールやグリ
セリンは潮解作用を持ち、その結果水を吸収する収着剤
である。これらのフィルタ8は周囲の湿度が増すと水を
吸収し、センサ本体6が高湿の雰囲気に触れることを防
止する。また湿度が低下すると水を放出し、次に高湿の
雰囲気に触れた際に水を吸収できるように再生する。そ
してセンサ2をパルス駆動すると、フィルタ8は昇温せ
ず室温のままに保たれるので、フィルタ8の水の吸着能
や吸収能が保たれる。なお好ましいフィルタ8の量は、
活性炭やモレキュラーシーブ,シリカゲルの場合は、い
ずれもセンサ1個当り10mg〜100mgで、10m
g以上で湿度依存性の抑制と経時変化の安定との効果が
得られ、センサ1個当り25mg以上とすることによ
り、特に効果が著しくなる。
【0009】ここで重要なことは、センサ本体6がパル
ス駆動されることである。センサ本体6がパルス的に駆
動されるため、フィルタ8は昇温せず、このためフィル
タ8の水の収着能力が保たれる。例えばバルク状の金属
酸化物半導体を、60秒間300℃に加熱し、90秒間
80℃に保持するサイクルを用いたガスセンサでは、フ
ィルタ8の温度は60℃程度となる。すると温度が高い
ためフィルタ8の水の吸収能力は低下し、湿度依存性や
経時変化の抑制に寄与しなくなる。
ス駆動されることである。センサ本体6がパルス的に駆
動されるため、フィルタ8は昇温せず、このためフィル
タ8の水の収着能力が保たれる。例えばバルク状の金属
酸化物半導体を、60秒間300℃に加熱し、90秒間
80℃に保持するサイクルを用いたガスセンサでは、フ
ィルタ8の温度は60℃程度となる。すると温度が高い
ためフィルタ8の水の吸収能力は低下し、湿度依存性や
経時変化の抑制に寄与しなくなる。
【0010】今一つ重要なことは、パルス駆動ではセン
サ本体6の金属酸化物半導体は大部分の時間、室温付近
に保たれ、水の吸着が特に著しくなることである。この
ような水の吸着は、主として物理吸着によるものと考え
られる。そしてこのため、フィルタ8無しでセンサ2を
長期間使用すると、金属酸化物半導体の高抵抗化が生じ
る。このような現象は金属酸化物半導体を連続加熱する
センサでは見られず、センサを連続加熱すると高抵抗化
ではなく、通常は低抵抗化が生じる。即ちパルス駆動以
外のセンサでは、周囲の水の物理吸着という現象が問題
にならず、センサ本体6が高湿の雰囲気に触れることを
防止する必要も低いのである。
サ本体6の金属酸化物半導体は大部分の時間、室温付近
に保たれ、水の吸着が特に著しくなることである。この
ような水の吸着は、主として物理吸着によるものと考え
られる。そしてこのため、フィルタ8無しでセンサ2を
長期間使用すると、金属酸化物半導体の高抵抗化が生じ
る。このような現象は金属酸化物半導体を連続加熱する
センサでは見られず、センサを連続加熱すると高抵抗化
ではなく、通常は低抵抗化が生じる。即ちパルス駆動以
外のセンサでは、周囲の水の物理吸着という現象が問題
にならず、センサ本体6が高湿の雰囲気に触れることを
防止する必要も低いのである。
【0011】発明者は、このことを実験的に確認した。
前記の、バルク状の金属酸化物半導体を300℃と80
℃に交互に加熱するようにしたセンサでは、フィルタと
してセンサ1個当り600mgの活性炭を用いても、湿
度依存性に影響は無く、また経時特性にもフィルタは影
響しなかった。
前記の、バルク状の金属酸化物半導体を300℃と80
℃に交互に加熱するようにしたセンサでは、フィルタと
してセンサ1個当り600mgの活性炭を用いても、湿
度依存性に影響は無く、また経時特性にもフィルタは影
響しなかった。
【0012】ここでいうパルス駆動とは、センサ本体6
の金属酸化物半導体の加熱のデューテイ(加熱時間の動
作周期に対する比で、センサの熱時定数に伴う昇温や降
温の遅れは無視する)が1/10以下、特に1/20以
下で、実用的に好ましいものは1/50以下、1回の加
熱時間が0.1m秒〜5秒、特に1m秒〜2秒、実用的
に特に好ましくは1m秒〜0.1秒を意味する。
の金属酸化物半導体の加熱のデューテイ(加熱時間の動
作周期に対する比で、センサの熱時定数に伴う昇温や降
温の遅れは無視する)が1/10以下、特に1/20以
下で、実用的に好ましいものは1/50以下、1回の加
熱時間が0.1m秒〜5秒、特に1m秒〜2秒、実用的
に特に好ましくは1m秒〜0.1秒を意味する。
【0013】図9に、センサ本体6の構造を示す。図に
おいて、20はアルミナ等の基板、22はガラス等の断
熱膜で、例えば厚さ20〜200μm程度のものを用
い、ここでは50μmのガラス膜とした。24は酸化ル
テニウムの厚膜ヒータで、これ以外に窒化タンタルや酸
化イリジウム等の薄膜ヒータを用いても良い。26は厚
さ1μm程度のシリカやアルミナ薄膜等からなる絶縁膜
で、28はSnO2,In2O3,WO3等の金属酸化物半導
体膜である。また30はヒータ24の電極膜で、ヒータ
24用のリード14に接続する。リード14,16,18
には、先端を2又あるいは3又に切り分けたF型リード
を用い、電極30の表面や基板20の裏面に設けた半田
等のバンプで固定する。
おいて、20はアルミナ等の基板、22はガラス等の断
熱膜で、例えば厚さ20〜200μm程度のものを用
い、ここでは50μmのガラス膜とした。24は酸化ル
テニウムの厚膜ヒータで、これ以外に窒化タンタルや酸
化イリジウム等の薄膜ヒータを用いても良い。26は厚
さ1μm程度のシリカやアルミナ薄膜等からなる絶縁膜
で、28はSnO2,In2O3,WO3等の金属酸化物半導
体膜である。また30はヒータ24の電極膜で、ヒータ
24用のリード14に接続する。リード14,16,18
には、先端を2又あるいは3又に切り分けたF型リード
を用い、電極30の表面や基板20の裏面に設けた半田
等のバンプで固定する。
【0014】ここでは基板20とヒータ24を断熱膜2
2で断熱し、パルス加熱を可能にしたセンサ本体6を示
した。しかしこれに限らず、例えばシリコン基体をアン
ダーカットエッチングした空洞上に設けたSiO2の薄
膜を絶縁基板とし、この上にヒータ24,絶縁膜26,金
属酸化物半導体膜28を設けても良い。いずれの場合で
も、金属酸化物半導体膜28を連続加熱しないことが重
要である。
2で断熱し、パルス加熱を可能にしたセンサ本体6を示
した。しかしこれに限らず、例えばシリコン基体をアン
ダーカットエッチングした空洞上に設けたSiO2の薄
膜を絶縁基板とし、この上にヒータ24,絶縁膜26,金
属酸化物半導体膜28を設けても良い。いずれの場合で
も、金属酸化物半導体膜28を連続加熱しないことが重
要である。
【0015】このようなセンサ2の組立に当たっては、
公知法によりセンサ本体6を製造し、次いで合成樹脂の
熱収縮チューブ4に差し込む。次に金網12をセット
し、フィルタ8の活性炭を充填した後、金網10をセッ
トする。局所ヒータや赤外線等でリード14,16,18
の部分の熱収縮チューブ4を加熱すると、チューブ4は
収縮し、リード14,16,18に密着して結合される。
もちろんリード14,16,18の側に僅かな通気性が残
っていても良い。同様に局所ヒータや赤外線等で、フィ
ルタ8の部分の熱収縮チューブ4を収縮させると、チュ
ーブ4は金網10,12に結合され、活性炭をフィルタ
8として閉じ込めることができる。この部分での熱収縮
チューブ4の加熱条件は、フィルタ8の充填密度と通気
性とを最適化するように定める。この結果、安価な熱収
縮チューブ4で、簡単にセンサ本体6とフィルタ8とを
保持することができる。
公知法によりセンサ本体6を製造し、次いで合成樹脂の
熱収縮チューブ4に差し込む。次に金網12をセット
し、フィルタ8の活性炭を充填した後、金網10をセッ
トする。局所ヒータや赤外線等でリード14,16,18
の部分の熱収縮チューブ4を加熱すると、チューブ4は
収縮し、リード14,16,18に密着して結合される。
もちろんリード14,16,18の側に僅かな通気性が残
っていても良い。同様に局所ヒータや赤外線等で、フィ
ルタ8の部分の熱収縮チューブ4を収縮させると、チュ
ーブ4は金網10,12に結合され、活性炭をフィルタ
8として閉じ込めることができる。この部分での熱収縮
チューブ4の加熱条件は、フィルタ8の充填密度と通気
性とを最適化するように定める。この結果、安価な熱収
縮チューブ4で、簡単にセンサ本体6とフィルタ8とを
保持することができる。
【0016】金網10,12に代えて、例えばテフロン
等の気体選択性透過膜で活性炭等の収着剤をくるみ、こ
の気体選択性透過膜をチューブ4に結合させて保持して
も良い。
等の気体選択性透過膜で活性炭等の収着剤をくるみ、こ
の気体選択性透過膜をチューブ4に結合させて保持して
も良い。
【0017】図1〜図7に、ガスセンサ2の特性を示
す。用いたセンサ2は、金属酸化物半導体膜28をSn
O2に1.5wt%のPd(金属換算)を添加したものと
し(膜厚5μm)、パルス加熱の条件は8m秒加熱(最
高温度400℃強)で、加熱周期は1秒である。また特
性は加熱開始後2m秒後の特性で、数個のセンサの平均
値を示した。フィルタ8は粒状活性炭で、センサ1個当
り30mgである。比較例として、フィルタ8を設けな
かった他は同一のものを用いた。
す。用いたセンサ2は、金属酸化物半導体膜28をSn
O2に1.5wt%のPd(金属換算)を添加したものと
し(膜厚5μm)、パルス加熱の条件は8m秒加熱(最
高温度400℃強)で、加熱周期は1秒である。また特
性は加熱開始後2m秒後の特性で、数個のセンサの平均
値を示した。フィルタ8は粒状活性炭で、センサ1個当
り30mgである。比較例として、フィルタ8を設けな
かった他は同一のものを用いた。
【0018】図1,図2に、空気中とCO1000pp
m中で、温度を40℃に固定し、相対湿度を35%から
100%の範囲で変化させた際の抵抗値を示す。図1が
実施例の結果を、図2が比較例の結果を示す。実施例で
は湿度依存性が小さく、CO感度が高い。
m中で、温度を40℃に固定し、相対湿度を35%から
100%の範囲で変化させた際の抵抗値を示す。図1が
実施例の結果を、図2が比較例の結果を示す。実施例で
は湿度依存性が小さく、CO感度が高い。
【0019】図3に、実施例のセンサ2を、相対湿度を
65%に固定し、温度を10℃〜40℃の範囲で変化さ
せた際の抵抗値を示す。雰囲気は空気中〜CO150p
pm中である。金属酸化物半導体を用いたCOの検出で
は、一般に湿度依存性が致命的な問題であるが、ここで
は図3から明らかなように、湿度依存性が小さい。
65%に固定し、温度を10℃〜40℃の範囲で変化さ
せた際の抵抗値を示す。雰囲気は空気中〜CO150p
pm中である。金属酸化物半導体を用いたCOの検出で
は、一般に湿度依存性が致命的な問題であるが、ここで
は図3から明らかなように、湿度依存性が小さい。
【0020】図4,図5に、240日間のパルス駆動で
の経時特性を示す。駆動条件は8m秒/1秒で、図4が
実施例の結果を、図5が比較例の結果を示す。実施例の
センサでは抵抗値は安定であるが、比較例のセンサでは
どのガスに対しても高抵抗化する。なおガス濃度はLP
Gが3000ppm,他は1000ppmである。また
図4の実施例では、図5の比較例よりもCO感度が高
い。これは図1,図2で示したものと同じ傾向である。
の経時特性を示す。駆動条件は8m秒/1秒で、図4が
実施例の結果を、図5が比較例の結果を示す。実施例の
センサでは抵抗値は安定であるが、比較例のセンサでは
どのガスに対しても高抵抗化する。なおガス濃度はLP
Gが3000ppm,他は1000ppmである。また
図4の実施例では、図5の比較例よりもCO感度が高
い。これは図1,図2で示したものと同じ傾向である。
【0021】図6,図7に、金属酸化物半導体膜28と
して、PdをPt触媒(添加量1.0wt%)に変えた
際の、240日間のパルス駆動での経時特性を示す。図
6が実施例の結果を、図7が比較例の結果を示す。実施
例では抵抗値は安定で、比較例では抵抗値が徐々に増加
する。さらに図6の実施例は、図7の比較例よりもCO
感度が高い。
して、PdをPt触媒(添加量1.0wt%)に変えた
際の、240日間のパルス駆動での経時特性を示す。図
6が実施例の結果を、図7が比較例の結果を示す。実施
例では抵抗値は安定で、比較例では抵抗値が徐々に増加
する。さらに図6の実施例は、図7の比較例よりもCO
感度が高い。
【0022】活性炭をフィルタ8に用いるとLPGやア
ルコールを吸着するので、LPGやアルコールの検出に
は用いられない。そこで活性炭に変えて、シリカゲルや
モレキュラーシーブを用いたところ、図1〜図3の結果
と同様に湿度依存性を抑制し、図4,図5と同様に長期
使用による高抵抗化を防止できた。またこれらのフィル
タはLPGやアルコールを吸着せず、アルコール、LP
Gの検出に有効であった。そこでLPGやメタン,アル
コールの検出では、シリカゲルやモレキュラーシーブを
フィルタ8の材料に用いることが好ましい。
ルコールを吸着するので、LPGやアルコールの検出に
は用いられない。そこで活性炭に変えて、シリカゲルや
モレキュラーシーブを用いたところ、図1〜図3の結果
と同様に湿度依存性を抑制し、図4,図5と同様に長期
使用による高抵抗化を防止できた。またこれらのフィル
タはLPGやアルコールを吸着せず、アルコール、LP
Gの検出に有効であった。そこでLPGやメタン,アル
コールの検出では、シリカゲルやモレキュラーシーブを
フィルタ8の材料に用いることが好ましい。
【0023】
【発明の効果】この発明では、(1) 湿度依存性が小さ
く、(2) 経時安定性を改善した、ガスセンサが得られ
る(請求項1)。また請求項2の発明では、これらに加
えて、安価で組立が容易なハウジングを用い、センサの
コストを低下させることができる。
く、(2) 経時安定性を改善した、ガスセンサが得られ
る(請求項1)。また請求項2の発明では、これらに加
えて、安価で組立が容易なハウジングを用い、センサの
コストを低下させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 40℃相対湿度35〜100%での、絶対
湿度依存性を示す実施例のガスセンサの特性図
湿度依存性を示す実施例のガスセンサの特性図
【図2】 40℃相対湿度35〜100%での、絶対
湿度依存性を示す従来例のガスセンサの特性図
湿度依存性を示す従来例のガスセンサの特性図
【図3】 10℃相対湿度65%〜40℃65%で
の、空気中と低濃度%の絶対湿度依存性を示す実施例の
ガスセンサの特性図
の、空気中と低濃度%の絶対湿度依存性を示す実施例の
ガスセンサの特性図
【図4】 実施例のガスセンサの、240日間の経時
特性を示す特性図
特性を示す特性図
【図5】 従来例のガスセンサの、240日間の経時
特性を示す特性図
特性を示す特性図
【図6】 他の実施例のガスセンサの、240日間の
経時特性を示す特性図
経時特性を示す特性図
【図7】 他の従来例のガスセンサの、240日間の
経時特性を示す特性図
経時特性を示す特性図
【図8】 実施例のガスセンサの、斜視図
【図9】 実施例のガスセンサの、要部断面図
【図10】 実施例のガスセンサの、熱収縮チューブを
示す断面図
示す断面図
2 ガスセンサ 4 熱収縮チューブ 6 センサ本体 8 活性炭フィルタ 10,12 金網 14,16,18 リード 20 基板 22 断熱膜 24 ヒータ 26 絶縁膜 28 金属酸化物半導体膜 30 電極膜
Claims (2)
- 【請求項1】 ヒータと金属酸化物半導体とを備えたセ
ンサ本体を設け、このヒータをパルス駆動して瞬間的に
発熱させて、前記金属酸化物半導体を瞬間的に加熱する
ようにした、ガスセンサにおいて、 ガスセンサのハウジングに、水の収着剤を保持させ、こ
の収着剤を介して外気をガスセンサ内に導入するように
したことを特徴とする、ガスセンサ。 - 【請求項2】 前記金属酸化物半導体を膜状の金属酸化
物半導体として、前記センサ本体を絶縁基板上に前記ヒ
ータと前記金属酸化物半導体とを設けたものとし、 このセンサ本体を熱収縮チューブに収容して、熱収縮チ
ューブの一端からガスセンサのリードを引き出すととも
に、このリードの部分で熱収縮チューブを収縮させてチ
ューブの一端を閉じ、 熱収縮チューブの他端側に水の収着剤からなる収着フィ
ルタを設けるとともに、熱収縮チューブをこのフィルタ
の部分で収縮させて、フィルタを熱収縮チューブに保持
させたことを特徴とする、請求項1のガスセンサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04179102A JP3087982B2 (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | ガスセンサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04179102A JP3087982B2 (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | ガスセンサ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05340910A JPH05340910A (ja) | 1993-12-24 |
| JP3087982B2 true JP3087982B2 (ja) | 2000-09-18 |
Family
ID=16060068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04179102A Expired - Lifetime JP3087982B2 (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | ガスセンサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3087982B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012247239A (ja) * | 2011-05-26 | 2012-12-13 | Figaro Eng Inc | ガス検出装置とガス検出方法 |
| JP2016211896A (ja) * | 2015-04-30 | 2016-12-15 | 日本写真印刷株式会社 | 半導体式ガスセンサ、およびこれを備えたガス検知装置 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3568060B2 (ja) * | 1995-03-16 | 2004-09-22 | フィガロ技研株式会社 | ガスセンサ |
| JP4401445B2 (ja) * | 1997-01-14 | 2010-01-20 | パナソニックエコシステムズ株式会社 | 検知素子 |
| JP4908683B2 (ja) * | 2000-06-15 | 2012-04-04 | 日本碍子株式会社 | 酸化窒素分析用装置および酸化窒素測定用センサ素子 |
| JP4596664B2 (ja) * | 2001-03-02 | 2010-12-08 | 大阪瓦斯株式会社 | ガスセンサ |
| DE102004053460A1 (de) * | 2004-11-05 | 2006-05-11 | Emitec Gesellschaft Für Emissionstechnologie Mbh | Schutzelement für einen Messfühler, sowie entsprechender Messfühler und Wabenkörper |
| JP4721341B2 (ja) * | 2005-11-18 | 2011-07-13 | フィガロ技研株式会社 | ガス検出装置用の0ガス空気の発生装置 |
| JP6083065B2 (ja) * | 2012-06-22 | 2017-02-22 | 株式会社 京都モノテック | ガスセンサとそのガスセンサを用いたガス検出装置 |
| WO2018053656A1 (en) | 2016-09-21 | 2018-03-29 | Sensirion Ag | Gas sensor |
| JP7060217B2 (ja) * | 2018-09-07 | 2022-04-26 | フィガロ技研株式会社 | ガス検出装置 |
| WO2026018550A1 (ja) * | 2024-07-19 | 2026-01-22 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ガス検出装置及びガス検出方法 |
-
1992
- 1992-06-11 JP JP04179102A patent/JP3087982B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| JP2012247239A (ja) * | 2011-05-26 | 2012-12-13 | Figaro Eng Inc | ガス検出装置とガス検出方法 |
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| JP2016211896A (ja) * | 2015-04-30 | 2016-12-15 | 日本写真印刷株式会社 | 半導体式ガスセンサ、およびこれを備えたガス検知装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05340910A (ja) | 1993-12-24 |
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