JP3090107B2 - Photomask drawing apparatus and method - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、フォトマスクの作
画技術に係り、特に、CAD(computer aided design
)等を用いて設計された、印刷配線板等のCADデー
タ(作画データ)から、印刷配線板等のフォトマスクを
描画(作画)するフォトマスク作画装置及び方法に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for forming a photomask, and more particularly, to a CAD (computer aided design).
The present invention relates to a photomask drawing apparatus and method for drawing (drawing) a photomask of a printed wiring board or the like from CAD data (drawing data) of a printed wiring board or the like designed using the above method.
【0002】[0002]
【従来の技術】図4は、従来におけるフォトマスク作画
装置の構成の一例を示すブロック図である。2. Description of the Related Art FIG. 4 is a block diagram showing an example of the configuration of a conventional photomask drawing apparatus.
【0003】図4における従来のフォトマスク作画装置
は、作画データを入力するデータ入力部11と、作画デ
ータを変換するデータ処理部14と、データ処理部14
に入力されたデータにスケールを乗じて補正するととも
に、フォーマット変換を行う作画データスケール補正部
13と、印刷配線板用フォトマスクを作画する作画機械
部16と、作画データスケール補正部13により変換さ
れた入力データに基づき作画機械部16を制御する作画
機械制御部15とにより構成される。The conventional photomask drawing apparatus shown in FIG. 4 includes a data input unit 11 for inputting drawing data, a data processing unit 14 for converting drawing data, and a data processing unit 14.
The image data is corrected by a drawing data scale correction unit 13 for performing a format conversion while multiplying and correcting the data input to the unit, a drawing machine unit 16 for drawing a photomask for a printed wiring board, and a drawing data scale correction unit 13. And a drawing machine control unit 15 that controls the drawing machine unit 16 based on the input data.
【0004】従来におけるフォトマスク作画装置では、
例えば、作画を開始する前に、作画装置(作画機械部1
6)が設置されている周囲の環境変化に応じた所定のス
ケール値(例えば×1.0004)が、作業者により、
作画データスケール補正部13に設けられた図示しない
キーボード等の入力手段から、補正部13の内部に設け
られたメモリ等の記憶手段に登録される。In a conventional photomask drawing apparatus,
For example, before starting drawing, a drawing device (drawing machine 1
A predetermined scale value (for example, x 1.0004) according to a change in the surrounding environment where 6) is installed is determined by an operator.
The input data such as a keyboard (not shown) provided in the drawing data scale correction unit 13 is registered in a storage device such as a memory provided inside the correction unit 13.
【0005】これにより、データ入力部11より入力さ
れた作画データは、データ処理部14を介して作画デー
タスケール補正部13に供給され、作画データスケール
補正部13にて、作画データにスケール値を乗じて補正
され、さらに、作画データを作画機械制御部15の受け
取り易いフォーマットに変換されて、データ処理部14
を介して作画機械制御部15に供給される。そして、作
画機械制御部15により作画機械部16が制御され、任
意の縮尺のフォトマスクが作画される。Thus, the drawing data input from the data input unit 11 is supplied to the drawing data scale correction unit 13 via the data processing unit 14, and the drawing data scale correction unit 13 assigns a scale value to the drawing data. The image data is converted into a format that can be easily received by the image forming machine control unit 15 and corrected by the data processing unit 14.
Is supplied to the drawing machine control unit 15 via the. Then, the drawing machine controller 16 is controlled by the drawing machine controller 15, and a photomask of an arbitrary scale is drawn.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術によるフォトマスク装置では、フォトマスクが
作画される工程における環境に対して、フォトマスクが
実際に使用される工程における環境については、何ら考
慮がなされていないため、CAD等を用いてフォトマス
クを作画した時点では正確な寸法精度を維持していて
も、前述の実際にフォトマスクを使用する工程における
環境において、フォトマスクに伸縮が生じてしまうとい
う問題があった。However, in the above-described conventional photomask apparatus, the environment in the process in which the photomask is actually used is taken into consideration with respect to the environment in the process in which the photomask is formed. Therefore, even when accurate photometric accuracy is maintained when a photomask is drawn using CAD or the like, the photomask expands and contracts in an environment in the process of actually using the photomask described above. There was a problem that it would.
【0007】また、従来のフォトマスク作画装置では、
作画装置が設置されている周囲の環境変化に応じた、所
定のスケール値のフォトマスク作画装置への入力は、作
業者(人手)により、キーボード等の入力手段を用いて
行われるため、入力ミスを起こす可能性があり、この場
合、間違ったスケール値による間違った寸法により作画
されたフォトマスクが作成されてしまうという問題(欠
点)があった。In a conventional photomask drawing apparatus,
Input of a predetermined scale value to the photomask drawing device according to a change in the surrounding environment where the drawing device is installed is performed by an operator (manually) using input means such as a keyboard, and therefore, an input error occurs. In this case, there is a problem (defect) that a photomask is created with wrong dimensions due to wrong scale values.
【0008】そこで、本発明の目的は、前記問題点に鑑
みてなされたものであって、フォトマスクを作画する環
境と、実際にフォトマスクが使用される環境との温湿度
差を考慮して、スケール値を決定することにより、フォ
トマスクが使用される工程で最適の寸法精度を達成し得
るフォトマスク作画装置を提供することにある。Accordingly, an object of the present invention has been made in view of the above problems, and takes into consideration the temperature and humidity difference between the environment in which a photomask is drawn and the environment in which the photomask is actually used. It is an object of the present invention to provide a photomask drawing apparatus capable of achieving optimum dimensional accuracy in a process in which a photomask is used by determining a scale value.
【0009】さらに、本発明の他の目的は、フォトマス
ク作画の際のスケール値を自動的に設定可能とすること
により、人手によるインプットミスを無くし信頼性の向
上を図ったフォトマスク作画装置を提供することにあ
る。A further object of the present invention is to provide a photomask drawing apparatus capable of automatically setting a scale value at the time of drawing a photomask, thereby eliminating input errors caused by manual operation and improving reliability. To provide.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、印刷配線板の作画データを読み込むデー
タ入力部と、作画室及び作画されたフォトマスクが使用
される各製造工程の温湿度等の各種のパラメータを格納
するパラメータ記憶部と、前記パラメータ記憶部より前
記パラメータを読み取り、前記作画室及び作画されたフ
ォトマスクが使用される各製造工程の温湿度から求まる
温湿度差により、最適なスケールファクタを算出するス
ケールファクタ演算部と、前記スケールファクタ演算部
にて算出されたスケールファクタを前記作画データに乗
じるデータスケール補正部と、前記データスケール補正
部にて処理された作画データに基づき、前記フォトマス
クを作画するための制御信号を出力する出力する作画機
制御部と、前記作画機制御部より出力された制御信号に
基づいてフォトマスクを作画する作画機械部と、を備え
て構成されることを特徴とするものである。In order to achieve the above object, the present invention provides a data input unit for reading drawing data of a printed wiring board, and a data input unit for reading data of a drawing room and a photomask formed in the manufacturing process. A parameter storage unit that stores various parameters such as humidity, and the parameters are read from the parameter storage unit, and a temperature-humidity difference obtained from the temperature-humidity of each manufacturing process in which the drawing room and the created photomask are used, A scale factor calculation unit that calculates an optimal scale factor, a data scale correction unit that multiplies the drawing data by the scale factor calculated by the scale factor calculation unit, and a drawing data processed by the data scale correction unit. A drawing machine control unit for outputting a control signal for drawing the photomask, Is characterized in being configured with a drawing machine unit for drawing a photomask, a based on the control signal outputted from the control unit.
【0011】また、本発明は、印刷配線板の作画データ
を読み込む工程と、作画室及び作画されたフォトマスク
が使用される各製造工程の温湿度等の各種のパラメータ
を記憶手段に格納する工程と、前記格納されたパラメー
タを読み取り、前記作画室及び作画されたフォトマスク
が使用される各製造工程の温湿度から求まる温湿度差に
より、最適なスケールファクタを算出する工程と、前記
算出されたスケールファクタを前記作画データに乗じる
工程と、前記スケールファクタを乗算された作画データ
に基づき、前記フォトマスクを作画するための制御信号
を出力し、前記制御信号に基づいてフォトマスクを作画
する工程と、を備えたことを特徴とするものである。Further, the present invention provides a step of reading drawing data of a printed wiring board and a step of storing various parameters such as temperature and humidity in a drawing room and each manufacturing step in which a drawn photomask is used in a storage means. Reading the stored parameters, and calculating an optimal scale factor by a temperature and humidity difference obtained from the temperature and humidity of each manufacturing process in which the drawing room and the drawn photomask are used; and Multiplying the drawing data by a scale factor; outputting a control signal for drawing the photomask based on the drawing data multiplied by the scale factor; and drawing a photomask based on the control signal. , Are provided.
【0012】上記記載の発明によれば、スケールファク
タ演算部は、データ入力部に登録されたフォトマスクデ
ータに含まれる製造工程を明示する属性情報と、パラメ
ータ記憶部に登録された作画室の温湿度や各製造工程の
温湿度、さらにはフォトマスクに使用されるフィルムの
温湿度に対する伸縮係数から作画時点のスケールファク
タを算出・登録する。また、作画データスケール補正部
は、演算されたスケールファクタをフォトマスクデータ
に乗じて登録する。データ処理部は、スケールファクタ
を乗じられたフォトマスクデータを作画機械制御部の受
け取り易いフォーマットに変換して作画機械制御部に引
き渡す。最後に作画機械部は、フォーマット変換された
フォトマスクデータを作画機か制御部のコントロールの
基でフィルム上に描画する。これにより、本発明におけ
るフォトマスは、フォトマスクが用いられる各工程にお
いて、常に最適の寸法精度を維持することができる。[0012] According to the invention described above, the scale factor calculating section includes the attribute information specifying the manufacturing process included in the photomask data registered in the data input section, and the temperature of the drawing room registered in the parameter storage section. The scale factor at the time of drawing is calculated and registered from the humidity, the temperature and humidity of each manufacturing process, and the expansion and contraction coefficient with respect to the temperature and humidity of the film used for the photomask. Further, the drawing data scale correction unit registers the calculated scale factor by multiplying it by the photomask data. The data processing unit converts the photomask data multiplied by the scale factor into a format that can be easily received by the drawing machine control unit, and delivers the format to the drawing machine control unit. Finally, the drawing machine draws the photomask data that has been format-converted on the film under the control of the drawing machine or the control unit. Thus, the photomass according to the present invention can always maintain the optimal dimensional accuracy in each step in which the photomask is used.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
【0014】図1は本発明におけるフォトマスク作画装
置の実施の形態を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a photomask drawing apparatus according to the present invention.
【0015】図1に示す本発明の、コンピュータ支援に
より処理を行う、フォトマスク作画装置は、媒体読取り
装置,CRT表示装置,キーボード,及びマウスを含む
データ入力部1と、ディジタルコンピュータで構成され
るスケールファクタ演算部2と、作画データスケール補
正部3と、データ処理部4と、ディジタルコンピュー
タ,オンライン回線等で構成される作画機械制御部5
と、レーザー発信装置やフィルム保持機構等で構成され
る作画機械部6により構成される。The photomask drawing apparatus of the present invention shown in FIG. 1, which performs processing with the aid of a computer, comprises a data input unit 1 including a medium reader, a CRT display, a keyboard and a mouse, and a digital computer. Scale factor calculation unit 2, drawing data scale correction unit 3, data processing unit 4, drawing machine control unit 5 composed of digital computer, online line, etc.
And a drawing machine 6 composed of a laser transmitting device, a film holding mechanism, and the like.
【0016】データ入力部1は、製造工程を明示する属
性情報を含む印刷配線板の作画データを読み込み記憶す
るものであり、スケールファクタ演算部2は、フォトマ
スク材料の温湿度伸縮係数を記憶しており、製造工程を
明示する属性情報からパラメータ記憶部7に記憶されて
いる作画室や印刷配線板製造工程の温湿度を抽出し、作
画時点での最適スケールファクタを算出するものであ
り、作画データスケール補正部3は、スケールファクタ
演算部2で算出されたスケールファクタデータ入力部1
に登録された作画データに乗じ登録するものである。A data input unit 1 reads and stores drawing data of a printed wiring board including attribute information indicating a manufacturing process, and a scale factor calculation unit 2 stores a temperature / humidity expansion / contraction coefficient of a photomask material. The temperature and humidity of the drawing room and the printed wiring board manufacturing process stored in the parameter storage unit 7 are extracted from the attribute information indicating the manufacturing process, and the optimum scale factor at the time of drawing is calculated. The data scale correction unit 3 includes a scale factor data input unit 1 calculated by the scale factor calculation unit 2.
Is registered by multiplying the drawing data registered in.
【0017】また、データ処理部4は、作画データスケ
ール補正部3に登録された作画データを作画機械制御部
5が受け取り易いフォーマットに変換するものであり、
作画機械制御部5は、データ処理部4でフォーマット変
換された作画データをフォトマスク材料のフィルムに作
画するための作画機をコントロールするものであり、作
画機械部6は、データ処理部4で変換された作画データ
を作画機械制御部5からの指示に基づいて、フォトマス
ク材料のフィルム上に実際に作画するものである。The data processing unit 4 converts the drawing data registered in the drawing data scale correction unit 3 into a format that the drawing machine control unit 5 can easily receive.
The drawing machine control unit 5 controls a drawing machine for drawing the drawing data converted in format by the data processing unit 4 on a film of a photomask material, and the drawing machine unit 6 converts the drawing data in the data processing unit 4. The created drawing data is actually drawn on a film of a photomask material based on an instruction from the drawing machine control unit 5.
【0018】さらに、データ入力部1は、印刷配線板製
造に必要な各工程毎のフォトマスク用の作画データを読
み込む。CAD等により作成された作画データは、印刷
配線板製造工程を明示する属性情報を有している。スケ
ールファクタ演算部2は、パラメータ記憶部7に記憶さ
れている作画データの属性情報が示す工程の温湿度と作
画室の温湿度を読み出し、作画室と印刷配線板製造工程
の温湿度差を求め、あらかじめ登録してあるフォトマス
ク材料のポリエステルフィルムの温湿度伸縮係数を乗
じ、温湿度差による寸法伸縮量を算出し、印刷配線板製
造工程で最適の寸法精度を維持するためのスケールファ
クタを算出する。Further, the data input unit 1 reads the drawing data for the photomask for each step required for manufacturing the printed wiring board. The drawing data created by CAD or the like has attribute information that specifies a printed wiring board manufacturing process. The scale factor calculation unit 2 reads the temperature and humidity of the process indicated by the attribute information of the drawing data stored in the parameter storage unit 7 and the temperature and humidity of the drawing room, and obtains the temperature and humidity difference between the drawing room and the printed wiring board manufacturing process. , Multiply the temperature / humidity expansion / contraction coefficient of the polyester film of the photomask material registered in advance, calculate the amount of dimensional expansion / contraction due to the temperature / humidity difference, and calculate the scale factor to maintain the optimal dimensional accuracy in the printed wiring board manufacturing process I do.
【0019】作画データスケール補正部3では、スケー
ルファクタ演算部2にて算出されたスケールファクタを
作画データに乗じて登録し、データ処理部4にて作画デ
ータを作画機が受け取り易いフォーマットに変換し、作
画機械制御部5にてフォトマスク材料のフィルムのハン
ドリングやレーザー発振等のスイッチングコントロール
を行い、作画機械部6にて実際にフィルム上にフォトマ
スクを作画する。The drawing data scale correction unit 3 multiplies the scale data calculated by the scale factor calculation unit 2 with the drawing data and registers the data. The data processing unit 4 converts the drawing data into a format that can be easily received by the drawing machine. The drawing machine control unit 5 performs switching control such as handling of a film of a photomask material and laser oscillation, and the drawing machine unit 6 actually forms a photomask on the film.
【0020】次に、以上のように構成された、本発明の
動作について、図1及び図2を参照してに説明を行う。
尚、図2は、本発明の実施の形態の動作を説明するため
の流れ図である。Next, the operation of the present invention configured as described above will be described with reference to FIGS.
FIG. 2 is a flowchart for explaining the operation of the embodiment of the present invention.
【0021】図2に示す如くに、本発明のフォトマスク
作画装置は、先ず、印刷配線板製造に必要な各種作画デ
ータを入力し(ステップ21)、作画データ(CADデ
ータ)に追加(付加)されている属性情報を読みとる
(ステップ22)。属性情報とは、作画データを基に作
画されたフォトマスクが印刷配線板製造工程のどこの工
程で使用されるかを明確化するために付けられた工程識
別情報であり、データ入力部1により読み取られ、パラ
メータ記憶部7に記憶される。As shown in FIG. 2, the photomask drawing apparatus of the present invention first inputs various drawing data necessary for manufacturing a printed wiring board (step 21) and adds (adds) the drawing data (CAD data) to the drawing data (CAD data). The read attribute information is read (step 22). The attribute information is process identification information attached in order to clarify in which step of the printed wiring board manufacturing process a photomask drawn based on the drawing data is used. It is read and stored in the parameter storage unit 7.
【0022】次に、パラメータ記憶部7のパラメータフ
ァイルから、本発明のフォトマスク作画装置が設置して
ある作画室の温湿度、作画データに追加されている属性
情報が示す印刷配線板製造工程の温湿度が読み取られ
(ステップ23)、作画室と属性情報が示す印刷配線板
製造工程間の温度差・湿度差を求め、あらかじめ登録さ
れている温湿度伸縮係数を乗じフィルム伸縮量を算出し
て作画時点のスケールファクタを決定する(ステップ2
4)。Next, from the parameter file in the parameter storage unit 7, the temperature and humidity of the drawing room in which the photomask drawing apparatus of the present invention is installed, and the attribute information added to the drawing data in the printed wiring board manufacturing process. The temperature and humidity are read (step 23), the temperature difference and the humidity difference between the drawing room and the printed wiring board manufacturing process indicated by the attribute information are obtained, and the film expansion amount is calculated by multiplying the temperature and humidity expansion coefficient registered in advance. Determine the scale factor at the time of drawing (step 2
4).
【0023】次に、作画データにスケールファクタを乗
じ(ステップ25)、スケールファクタの乗じられた作
画データを、作画機械制御部5が受け取り易いフォーマ
ットに変換して出力する(ステップ26)。Next, the drawing data is multiplied by the scale factor (step 25), and the drawing data multiplied by the scale factor is converted into a format that can be easily received by the drawing machine control unit 5 and output (step 26).
【0024】そして最後に、作画機械制御部5にてフォ
トマスク材料のフィルムのハンドリングやレーザー発振
等のスイッチングコントロールが行われ、作画データを
基に作画機械部6にて、フィルム上にフォトマスクが作
画され一連のステップが終了する(ステップ27)。Finally, the drawing machine control unit 5 controls the handling of the film of the photomask material and performs switching control such as laser oscillation, and based on the drawing data, the drawing machine unit 6 places the photomask on the film. The image is drawn, and a series of steps ends (step 27).
【0025】次に、上記の動作について、具体例(実際
のデータ等用い)を挙げながら、さらに詳細に説明す
る。Next, the above operation will be described in more detail with reference to specific examples (using actual data and the like).
【0026】先ず、作画データ入力部1より、製造され
る印刷配線板の品名,版数,総層数,層面,並びに製造
工程識別のための属性情報の5項目をキーとしたフォト
マスク用の作画データを登録する(ステップ21)。そ
して、ステップ21で登録された作画データの製造工程
識別のための属性情報(例えば、回路形成工程を示す
“DE”やソルダーレジスト工程を示す“DS”等)を
読み取る(ステップ22)。First, from a drawing data input unit 1, a photomask for a photomask using five items of a product name, a version number, a total number of layers, a layer surface, and attribute information for identifying a manufacturing process as a key. The drawing data is registered (step 21). Then, attribute information (for example, "DE" indicating a circuit forming process, "DS" indicating a solder resist process, etc.) for identifying a manufacturing process of the drawing data registered in step 21 is read (step 22).
【0027】次に、フォトマスクが必要な印刷配線板製
造の各工程の温湿度をそれぞれ個別にセンサでモニタリ
ングし、リアルタイムでメモリ上に記憶している、図1
のパラメータ記憶部7から、作画データに付加されてい
る製造工程識別のための属性情報が示す、印刷配線板製
造工程の温湿度(例えば、回路形成工程の温度=25
℃,湿度=60%RH)及びフォトマスク作画装置が設
置されている作画室の温湿度(例えば、温度=22.5
℃,湿度=53%RH)を読み取る(ステップ23)。Next, the temperature and humidity of each step of manufacturing a printed wiring board requiring a photomask are individually monitored by sensors and stored in a memory in real time.
Of the printed wiring board manufacturing process (for example, the temperature of the circuit forming process = 25) indicated by the attribute information for manufacturing process identification added to the drawing data from the parameter storage unit 7
° C, humidity = 60% RH) and the temperature and humidity of the drawing room in which the photomask drawing device is installed (for example, temperature = 22.5
(° C., humidity = 53% RH) is read (step 23).
【0028】そして、ステップ23で読み取られた、印
刷配線板製造工程の温湿度と作画室の温湿度から、温湿
度差を算出し、あらかじめ登録してあるフォトマスク材
料であるポリエステルベースを支持体とし、ハロゲン化
銀(AgCl等)を感光材とするフィルムの温湿度に対
する伸縮係数(それぞれ1.79×10-5cm/cm/
℃,1.03×10-5cm/cm/%RH)を乗じ、印
刷配線板製造工程と作画室の温湿度差に起因するフォト
マスクフィルムの寸法伸縮量を算出し、フォトマスクを
使用する印刷配線板製造工程で最適の寸法値を維持する
ためのスケールファクタを算出する(ステップ24)。Then, a temperature / humidity difference is calculated from the temperature / humidity of the printed wiring board manufacturing process and the temperature / humidity of the drawing room read in step 23, and a polyester base, which is a photomask material registered in advance, is used as a support. And the expansion and contraction coefficient (1.79 × 10 −5 cm / cm / cm, respectively) of a film using a silver halide (AgCl or the like) as a photosensitive material with respect to temperature and humidity.
(1.0 ° C., 1.03 × 10 −5 cm / cm /% RH) to calculate the dimensional expansion / contraction of the photomask film due to the temperature and humidity difference between the printed wiring board manufacturing process and the drawing room, and use the photomask. A scale factor for maintaining an optimal dimensional value in the printed wiring board manufacturing process is calculated (Step 24).
【0029】具体的算出方法の一例について、以下に記
す。即ち、回路形成工程において、フォトマスクの寸法
精度が理論値を欲せられているとした場合、作画室(温
度=22.5℃,湿度=53%RH)でシーズニング
(環境馴らし)されたXcm基長のフィルムは、回路形
成工程では、温度差の影響で、An example of a specific calculation method will be described below. That is, in the circuit forming process, when it is assumed that the dimensional accuracy of the photomask is required to be a theoretical value, Xcm subjected to seasoning (environmental adaptation) in the drawing room (temperature = 22.5 ° C., humidity = 53% RH). In the circuit formation process, the base film is affected by the temperature difference.
【0030】[0030]
【数1】(回路形成工程の温度−作画室の温度)×1.79
×10-5(cm/cm/℃)×X(cm)・・・ (式1)だけ伸び
る。よって、上記条件の場合、[Equation 1] (Temperature of circuit forming process−Temperature of drawing room) × 1.79
× 10 −5 (cm / cm / ° C.) × X (cm) ··· Expands by (formula 1). Therefore, in the case of the above conditions,
【0031】[0031]
【数2】 (25℃-22.5℃)×1.79×-5(cm/cm/℃)×X(cm)=4.475×10-5×X(cm) ・・・ (式2) だけ伸びることになる。また、湿度差の影響で[Equation 2] (25 ° C.-22.5 ° C.) × 1.79 × -5 (cm / cm / ° C.) × X (cm) = 4.475 × 10 -5 × X (cm) Become. Also, under the influence of humidity difference
【0032】[0032]
【数3】 (回路形成工程の湿度−作画室の湿度)×1.03×10-5(cm/cm/%RH)×X(cm) ・・・ (式3) だけ伸びる。よって、上記条件の場合、[Expression 3] (Humidity of circuit forming process−Humidity of drawing room) × 1.03 × 10 −5 (cm / cm /% RH) × X (cm) (Expression 3) Therefore, in the case of the above conditions,
【0033】[0033]
【数4】 (60%RH-53%RH)×1.03×10-5(cm/cm/%RH)×X(cm)=7.21×10-5×X(cm) ・・・ (式4) だけ伸びることになる。(60% RH-53% RH) × 1.03 × 10 −5 (cm / cm /% RH) × X (cm) = 7.21 × 10 −5 × X (cm) (Equation 4) Will only grow.
【0034】したがって、理論値で作成された作画デー
タでそのままフォトマスクを作画したとすると、回路形
成工程では、Therefore, assuming that a photomask is created as it is with the image data created based on the theoretical values, in the circuit forming process,
【0035】[0035]
【数5】 4.475×10−5×X(cm)+7.21×10-5×X(cm)=11.685×10-5×X(cm) ・・・ (式5) だけ理論値より伸びた状態となるため、回路形成工程に
おいて理論値を維持するためには、フォトマスク作画時
点において作画データに対し、(Expression 5) 4.475 × 10−5 × X (cm) + 7.21 × 10 −5 × X (cm) = 11.685 × 10 −5 × X (cm) (Equation 5) Therefore, in order to maintain the theoretical value in the circuit forming process, it is necessary to
【0036】[0036]
【数6】 X(cm)/(X+11.685×10-5×X(cm)=0.99988(倍) ・・・ (式6) のスケールファクタを乗じる必要がある。X (cm) / (X + 11.685 × 10 −5 × X (cm) = 0.99988 (times) It is necessary to multiply by the scale factor of (Equation 6).
【0037】このようにして算出されたスケールファク
タは、回路形成工程で用いられるフォトマスク用の原画
データに乗じられる(ステップ25)。The scale factor calculated in this way is multiplied by the original image data for the photomask used in the circuit forming step (step 25).
【0038】次に、ステップ25にて、最適スケールフ
ァクタを乗じられた作画データは、図1に示されるデー
タ処理部4にて、同じく図1の作画機械制御部5が受け
取り易いフォーマットに変換されて、作画機械制御部5
に供給される(ステップ26)。Next, in step 25, the drawing data multiplied by the optimum scale factor is converted by the data processing unit 4 shown in FIG. 1 into a format which is also easily received by the drawing machine control unit 5 in FIG. And the drawing machine control unit 5
(Step 26).
【0039】その後、図1に示される作画機械部6に
て、フォトマスク作画装置内部にセットされたフィルム
の作画テーブルへのセッティングや作画光源であるアル
ゴンイオンレーザのスイッチング及び作画光源の移動等
が制御され、作画機械制御部5により供給されたスケー
ルファクタが乗じられた作画データに基づいて、所定の
絵柄が作画される(ステップ27)。Thereafter, in the drawing machine section 6 shown in FIG. 1, setting of the film set in the photomask drawing apparatus to the drawing table, switching of the argon ion laser as the drawing light source, movement of the drawing light source, and the like are performed. A predetermined pattern is drawn based on the drawing data controlled and multiplied by the scale factor supplied by the drawing machine controller 5 (step 27).
【0040】ところで、回路形成工程で使用されるプリ
ンタは、超高圧水銀ランプを用いているため、露光の
際、フォトマスク表面の温度が若干上昇することにな
る。By the way, since the printer used in the circuit forming process uses an ultra-high pressure mercury lamp, the temperature of the photomask surface slightly increases during exposure.
【0041】そこで次に、作画室の温湿度と各製造工程
の温湿度に、実際にフォトマスクを用いて製造を行う際
に使用する、製造設備に起因する温度上昇を考慮したス
ケールファクタを算出してフォトマスクを作画するフォ
トマスク作画装置について説明を行う。Next, a scale factor is calculated for the temperature and humidity of the drawing room and the temperature and humidity of each manufacturing process, taking into account the temperature rise caused by the manufacturing equipment, which is used when actually manufacturing using a photomask. Next, a photomask drawing apparatus for drawing a photomask will be described.
【0042】図3は、パラメータ記憶部7に記憶されて
いる各種のパラメータを示した図である。FIG. 3 is a diagram showing various parameters stored in the parameter storage unit 7.
【0043】図3に示すように、パラメータ記憶部7に
は、作画室の温湿度と各製造工程の温湿度が前述の通り
リアルタイムに記憶(更新)されている。このパラメー
タ記憶部7に対して、さらに、実際にフォトマスクを用
いて製造を行う際、使用する製造設備に起因する上昇温
度7aを記憶させておく。As shown in FIG. 3, the parameter storage unit 7 stores (updates) the temperature and humidity of the drawing room and the temperature and humidity of each manufacturing process in real time as described above. In the parameter storage unit 7, a temperature rise 7a caused by a manufacturing facility to be used when manufacturing is actually performed using a photomask is stored.
【0044】例えば、回路形成工程で使用されるプリン
タは、超高圧水銀ランプを用いているため、露光の際、
フォトマスク表面が28℃に上昇する。従って、作画室
の温湿度(例えば、温度=22.5℃、湿度=53%R
H),回路形成工程の温湿度(例えば、温度=25℃、
湿度=60%RH)の場合、フィルム伸縮量は、For example, a printer used in a circuit forming process uses an ultra-high pressure mercury lamp.
The surface of the photomask rises to 28 ° C. Therefore, the temperature and humidity of the drawing room (for example, temperature = 22.5 ° C., humidity = 53% R
H), temperature and humidity (for example, temperature = 25 ° C.,
Humidity = 60% RH), the film stretch amount is
【0045】[0045]
【数7】 {(28℃-22.5℃)×1.79×10-5(cm/cm/℃)+(60%RH-53%RH)1.03 ×10-5(cm/cm/%RH)}×Xcm=17.055×10-5×X(cm) ・・・(式7) だけ伸びるため、スケールファクタは、[Expression 7] {(28 ° C.-22.5 ° C.) × 1.79 × 10 −5 (cm / cm / ° C.) + (60% RH−53% RH) 1.03 × 10 −5 (cm / cm /% RH)} × Xcm = 17.055 × 10 −5 × X (cm) (Equation 7)
【0046】[0046]
【数8】 X(cm)/(X+17.055×10-5×X)(cm)=0.99983 ・・・(式8) となる。このように、新たなパラメータである上昇温度
7a付加してスケールファクタの算出を行うことによ
り、より正確なスケールファクタを算出することが可能
となる。X (cm) / (X + 17.055 × 10 −5 × X) (cm) = 0.99983 (Expression 8) As described above, by calculating the scale factor by adding the temperature rise 7a as a new parameter, it is possible to calculate a more accurate scale factor.
【0047】そして、この(式8)により算出されたス
ケールファクタを用いて、図2のステップ25以降を実
行することにより、さらに正確で、且つ最適な寸法精度
を有するフォトマスクを作画し得る、フォトマスク作画
装置を提供することが可能となる。Then, by using the scale factor calculated by this (Equation 8) and executing the steps after step 25 in FIG. 2, it is possible to draw a photomask having a more accurate and optimum dimensional accuracy. It is possible to provide a photomask drawing apparatus.
【0048】[0048]
【発明の効果】以上述べたように、上記本発明によれ
ば、フォトマスクを作画する場所の温湿度だけでなく、
実際にフォトマスクを使用する製造工程の温湿度を考慮
して作画時点のスケールファクタを決定すると共に、ス
ケールファクタ算出及び作画データへのスケールファク
タ展開を自動化したことにより、フォトマスクが使用さ
れる印刷配線板製造工程において、最適の寸法精度を保
持することができると共に印刷配線板の製造歩留を大幅
に向上することができる。As described above, according to the present invention, not only the temperature and humidity at the place where the photomask is drawn, but also
The scale factor at the time of drawing is determined in consideration of the temperature and humidity of the manufacturing process that actually uses the photomask, and the scale factor calculation and the expansion of the scale factor into the drawing data are automated, so that the printing using the photomask is performed. In the wiring board manufacturing process, optimal dimensional accuracy can be maintained, and the manufacturing yield of printed wiring boards can be significantly improved.
【図1】本発明のフォトマスク作画装置の実施の形態を
示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a photomask drawing apparatus of the present invention.
【図2】本発明の実施の形態の動作を説明するための流
れ図である。FIG. 2 is a flowchart for explaining the operation of the embodiment of the present invention.
【図3】パラメータ記憶部に記憶されている各種のパラ
メータを示した図である。FIG. 3 is a diagram showing various parameters stored in a parameter storage unit.
【図4】従来のフォトマスク作画装置の構成の一例を示
すブロック図である。FIG. 4 is a block diagram showing an example of a configuration of a conventional photomask drawing apparatus.
1 データ入力部 2 スケールファクタ演算部 3 作画データスケール補正部 4 データ処理部 5 作画機械制御部 6 作画機械部 7 パラメータ記憶部 1 data input unit 2 scale factor calculation unit 3 drawing data scale correction unit 4 data processing unit 5 drawing machine control unit 6 drawing machine unit 7 parameter storage unit
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 1/08 - 1/16 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G03F 1/08-1/16
Claims (14)
工程の環境情報等の各種のパラメータを格納するパラメ
ータ記憶部と、 前記パラメータ記憶部より前記パラメータを読み取り、
前記作画室及び作画されたフォトマスクが使用される各
製造工程の環境の差に基づいて、最適なスケールファク
タを算出するスケールファクタ演算部と、 前記スケールファクタ演算部にて算出されたスケールフ
ァクタに基づいて、前記作画データに所定の演算処理を
施すデータスケール補正部と、 前記データスケール補正部にて演算処理された作画デー
タに基づき、前記フォトマスクを作画するための制御信
号を出力する出力する作画機制御部と、 前記作画機制御部より出力された制御信号に基づいてフ
ォトマスクを作画する作画機械部と、 を備えたことを特徴とするフォトマスク作画装置。1. A data input unit for reading drawing data, a parameter storage unit for storing various parameters such as environment information of each of manufacturing steps in which a drawing room and a drawn photomask are used, and a parameter storage unit. Reading the parameters,
A scale factor calculation unit that calculates an optimum scale factor based on a difference between environments in the respective manufacturing processes in which the drawing room and the drawn photomask are used; and a scale factor calculated by the scale factor calculation unit. A data scale correction unit that performs a predetermined calculation process on the drawing data based on the drawing data, and outputs a control signal for drawing the photomask based on the drawing data calculated by the data scale correction unit. A photomask drawing apparatus, comprising: a drawing machine control unit; and a drawing machine unit that draws a photomask based on a control signal output from the drawing machine control unit.
入力部と、 作画室及び作画されたフォトマスクが使用される各製造
工程の温湿度等の各種のパラメータを格納するパラメー
タ記憶部と、 前記パラメータ記憶部より前記パラメータを読み取り、
前記作画室及び作画されたフォトマスクが使用される各
製造工程の温湿度から求まる温湿度差により、最適なス
ケールファクタを算出するスケールファクタ演算部と、 前記スケールファクタ演算部にて算出されたスケールフ
ァクタを前記作画データに乗じるデータスケール補正部
と、 前記データスケール補正部にて処理された作画データに
基づき、前記フォトマスクを作画するための制御信号を
出力する出力する作画機制御部と、 前記作画機制御部より出力された制御信号に基づいてフ
ォトマスクを作画する作画機械部と、 を備えたことを特徴とするフォトマスク作画装置。2. A data input unit for reading drawing data of a printed wiring board; a parameter storage unit for storing various parameters such as temperature and humidity in each of manufacturing steps in which a drawing room and a drawn photomask are used; Reading the parameter from the parameter storage unit,
A scale factor calculator for calculating an optimum scale factor based on a temperature / humidity difference obtained from the temperature / humidity of each manufacturing process in which the drawing room and the drawn photomask are used; and a scale calculated by the scale factor calculator. A data scale correction unit that multiplies the drawing data by a factor; a drawing machine control unit that outputs a control signal for drawing the photomask based on the drawing data processed by the data scale correction unit; And a drawing machine unit for drawing a photomask based on a control signal output from the drawing machine control unit.
室及び作画されたフォトマスクが使用される各製造工程
の温湿度から求まる温湿度差情報に、さらに、フォトマ
スクを用いて製造を行う際に使用する、製造設備に起因
する温度上昇情報を加えることにより、さらに最適なス
ケールファクタを算出することを特徴とする請求項2に
記載のフォトマスク作画装置。3. The manufacturing method according to claim 1, wherein the scale factor calculation unit is further configured to perform temperature-humidity difference information obtained from the temperature-humidity of each of the manufacturing steps in which the drawing room and the drawn photomask are used, and further perform manufacturing using the photomask. 3. The photomask drawing apparatus according to claim 2, wherein a further optimum scale factor is calculated by adding information on a temperature rise caused by the manufacturing equipment used in the process.
温湿度を個別に認識・記憶できることを特徴とする請求
項2または3に記載のフォトマスク作画装置。4. The photomask drawing apparatus according to claim 2, wherein the parameter storage unit can individually recognize and store the temperature and humidity for each manufacturing process.
スク材料の温湿度に対する伸縮係数を保有していること
を特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のフォトマ
スク作画装置。5. The photomask drawing apparatus according to claim 1, wherein said scale factor calculation unit has a coefficient of expansion and contraction of the photomask material with respect to temperature and humidity.
スクが使用される製造工程を明示する属性情報が含まれ
ていることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載
のフォトマスク作画装置。6. The photomask according to claim 1, wherein said drawing data includes attribute information specifying a manufacturing process in which the drawn photomask is used. Drawing device.
とを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のフォト
マスク作画装置。7. The photomask drawing apparatus according to claim 1, wherein said drawing data is CAD data.
工程の環境情報等の各種のパラメータを記憶手段に格納
する工程と、 前記格納されたパラメータを読み取り、前記作画室及び
作画されたフォトマスクが使用される各製造工程の環境
の差に基づいて、最適なスケールファクタを算出する工
程と、 前記算出されたスケールファクタに基づいて、前記作画
データに所定の演算処理を施す工程と、 前記演算処理された作画データに基づき、前記フォトマ
スクを作画するための制御信号を出力し、前記制御信号
に基づいてフォトマスクを作画する工程と、 を備えたことを特徴とするフォトマスク作画方法。8. A step of reading drawing data, a step of storing various parameters such as environmental information of each of manufacturing steps in which the drawing room and the drawn photomask are used in a storage means, and a step of reading the stored parameters. Reading, based on the environment difference of each manufacturing process in which the drawing room and the drawn photomask are used, a step of calculating an optimal scale factor, based on the calculated scale factor, based on the drawing data, Performing a predetermined arithmetic process, outputting a control signal for creating the photomask based on the image data subjected to the arithmetic process, and creating a photomask based on the control signal. A method for creating a photomask, comprising:
と、 作画室及び作画されたフォトマスクが使用される各製造
工程の温湿度等の各種のパラメータを記憶手段に格納す
る工程と、 前記格納されたパラメータを読み取り、前記作画室及び
作画されたフォトマスクが使用される各製造工程の温湿
度から求まる温湿度差により、最適なスケールファクタ
を算出する工程と、 前記算出されたスケールファクタを前記作画データに乗
じる工程と、 前記スケールファクタを乗算された作画データに基づ
き、前記フォトマスクを作画するための制御信号を出力
し、前記制御信号に基づいてフォトマスクを作画する工
程と、 を備えたことを特徴とするフォトマスク作画方法。9. A step of reading drawing data of a printed wiring board; a step of storing various parameters such as temperature and humidity in a drawing room and each manufacturing step in which a drawn photomask is used; Reading the calculated parameters, calculating the optimum scale factor by the temperature and humidity difference obtained from the temperature and humidity of each manufacturing process in which the drawing room and the drawn photomask are used, and calculating the calculated scale factor. Multiplying the drawing data, and outputting a control signal for drawing the photomask based on the drawing data multiplied by the scale factor, and drawing a photomask based on the control signal. A method for creating a photomask, comprising:
画室及び作画されたフォトマスクが使用される各製造工
程の温湿度から求まる温湿度差情報に、さらにフォトマ
スクを用いて製造を行う際に使用される製造設備に起因
する温度上昇情報を加えることにより算出されることを
特徴とする請求項9に記載のフォトマスク作画方法。10. The method according to claim 1, wherein the scale factor is calculated based on temperature / humidity difference information obtained from temperature / humidity of each of the manufacturing steps in which the drawing room and the drawn photomask are used, and further using a photomask. 10. The photomask drawing method according to claim 9, wherein the calculation is performed by adding information on a temperature rise caused by a manufacturing facility used.
を個別に認識・記憶できることを特徴とする請求項9ま
たは10に記載のフォトマスク作画方法。11. The photomask drawing method according to claim 9, wherein said storage means is capable of individually recognizing and storing temperature and humidity for each manufacturing process.
マスク材料の温湿度に対応する伸縮係数に基づいて行わ
れることを特徴とする請求項8〜11のいずれかに記載
のフォトマスク作画方法。12. The photomask drawing method according to claim 8, wherein the calculation of the scale factor is performed based on an expansion / contraction coefficient corresponding to the temperature and humidity of the photomask material.
マスクが使用される製造工程を明示する属性情報が含ま
れていることを特徴とする請求項8〜12のいずれかに
記載のフォトマスク作画方法。13. The photomask according to claim 8, wherein the drawing data includes attribute information specifying a manufacturing process in which the drawn photomask is used. Drawing method.
ことを特徴とする請求項8〜13のいずれかに記載のフ
ォトマスク作画方法。14. The method according to claim 8, wherein the drawing data is CAD data.
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|---|---|---|---|
| JP31018997A JP3090107B2 (en) | 1997-11-12 | 1997-11-12 | Photomask drawing apparatus and method |
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|---|---|---|---|
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