JP3119620B2 - Heater unit and heat treatment furnace - Google Patents
Heater unit and heat treatment furnaceInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は各種被熱物、例えば
電子部品の熱処理に好適なヒータユニット及びこのヒー
タユニットを使用した熱処理炉に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heater unit suitable for heat treatment of various objects to be heated, for example, electronic components, and a heat treatment furnace using the heater unit.
【0002】[0002]
【従来の技術】通常、被熱物の熱処理には電気炉などの
熱処理炉が用いられる。熱処理炉は、炉室内に一括収容
された被熱物を周囲から加熱するものであり、炉室内に
収容されたすべての被熱物を均一に加熱するには、炉室
内の空間を等温度に保持しなければならない。2. Description of the Related Art Generally, a heat treatment furnace such as an electric furnace is used for heat treatment of an object to be heated. The heat treatment furnace heats the objects to be heated collectively housed in the furnace chamber from the surroundings.To uniformly heat all the objects to be heated housed in the furnace chamber, the space in the furnace chamber is kept at the same temperature. Must be retained.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】したがって、炉内で一
度に処理するすべての被熱物の処理温度は同じでなけれ
ばならない。Therefore, the processing temperature of all the objects to be processed at once in the furnace must be the same.
【0004】一方、被熱物の種類によってはオープン雰
囲気中で熱処理が行われるものもある。例えば電子部品
のスクリーニング処理に関して、IC,トランジスタ,
CLCD,PDPなどの電子部品は、炉内で一括処理さ
れ、カラー液晶は炉外のオープン雰囲気中で処理され
る。オープン雰囲気中で熱処理を行うときには、パネル
ヒータを使用するのが好都合であり、また、パネルヒー
タを炉内に設置して各段のパネルヒータ上で熱処理を行
うことができれば、パネルヒータ毎に設定温度を変える
ことが可能となる。On the other hand, heat treatment is performed in an open atmosphere depending on the type of the object to be heated. For example, regarding the screening process for electronic components, ICs, transistors,
Electronic components such as CLCD and PDP are collectively processed in a furnace, and color liquid crystals are processed in an open atmosphere outside the furnace. When performing heat treatment in an open atmosphere, it is convenient to use a panel heater, and if the panel heater can be installed in a furnace and heat treatment can be performed on the panel heaters in each stage, it is set for each panel heater. It is possible to change the temperature.
【0005】本発明の目的は、パネルヒータ上の均熱性
を保持し、且つパネルヒータ上の加熱領域を任意に設定
しうるヒータユニットと、そのヒータユニットを用いた
熱処理炉を提供することにある。An object of the present invention is to provide a heater unit capable of maintaining a uniform temperature on a panel heater and arbitrarily setting a heating area on the panel heater, and a heat treatment furnace using the heater unit. .
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によるタユニットにおいては、パネルヒータ
と、レフレクタと、遠赤外線放射膜との組合せを有する
ヒータユニットであって、パネルヒータは、パネルの一
面を放熱面、他面を加熱面とし、加熱面は、熱を加える
面であり、面状発熱体のパターンが付設され、放熱面
は、被熱物を搭載して加熱処理する面であり、パネル
は、熱伝導性に優れた金属板であり、 面状発熱体のパタ
ーンは、第1及び第2の絶縁膜間に挟んで積層されたも
のであり、レフレクタは、面状発熱体の開放側の面を覆
い、面状発熱体の発する熱をパネル側に反射させるもの
であり、遠赤外線放射膜は、パネルの放熱面上に形成さ
れたものであり、 面状発熱体の発した熱は、パネルの厚
み方向を伝わる間に均等に均され、放熱面は、部分的な
温度の高低差がなくなり、均熱面となるものである。 In order to achieve the above object, the present invention provides a heater unit having a combination of a panel heater, a reflector and a far-infrared radiating film . One surface of the panel is a heat radiating surface, the other surface is a heating surface, the heating surface is a surface to which heat is applied, a pattern of a planar heating element is attached, and the heat radiating surface is a surface on which an object to be heated is mounted and subjected to heat treatment. And the panel
Is an excellent metal plate thermal conductivity, pattern of the planar heating element
Are stacked between the first and second insulating films.
The reflector covers the open surface of the sheet heating element and reflects the heat generated by the sheet heating element to the panel side. The far-infrared radiation film is formed on the heat dissipation surface of the panel.
The heat generated by the sheet heating element depends on the thickness of the panel.
And the heat dissipation surface is partially even
The difference in temperature is eliminated, and the surface becomes a soaking surface.
【0007】 また、本発明による熱処理炉において
は、ヒータユニットを炉室内に上下2段以上内装した熱
処理炉であって、 ヒータユニットは、少なくともパネル
ヒータと、レフレクタとの組合せを有し、 パネルヒータ
は、パネルの一面を放熱面、他面を加熱面とし、加熱面
は、熱を加える面であり、面状発熱体のパターンが付設
され、放熱面は、被熱物を搭載して加熱処理する面であ
り、 レフレクタは、面状発熱体の開放側の面を覆い、面
状発熱体の発する熱をパネル側に反射させるものであ
り、 各段のヒータユニットの発熱面の発熱温度は、ヒ−
タユニット毎に調整可能であり、互いに処理温度が異な
る2種類又はそれ以上の被処理物を同じ炉内で同時処理
を可能としたものである。 Further, in the heat treatment furnace according to the present invention,
Means that the heater unit is installed in the furnace chamber at least two levels above and below.
In a processing furnace, the heater unit includes at least a panel.
Panel heater having a combination of a heater and a reflector
, One side of the panel is the heat dissipation side, the other side is the heating side,
Is a surface to which heat is applied, and a pattern of planar heating elements is attached.
The heat radiating surface is the surface on which the heat
The reflector covers the open side of the planar heating element,
The heat generated by the heating element is reflected to the panel side.
Ri, the heat producing temperature of the heater surface of the heater unit of each stage, heat -
Can be adjusted for each data unit, and processing temperatures differ from each other.
Simultaneous processing of two or more types of workpieces in the same furnace
Is made possible.
【0008】 また、ヒータユニットは、被熱物を搭載
する棚板となるものである。 Further , the heater unit mounts an object to be heated.
It becomes a shelf board.
【0009】[0009]
【0010】[0010]
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】以下に本発明によるヒータユニッ
ト及びこのヒータユニットを用いた熱処理炉の実施の形
態を図によって説明する。図1において、本発明による
ヒータユニット1は、パネルヒータ2と、レフレクタ3
との組合せからなるものである。パネルヒータ2は、パ
ネル4の一面に面状発熱体5のパターンを付した平板で
あり、レフレクタ3は、面状発熱体5の開放側の面を覆
う平板である。図2にパネルヒータ2の構成を示す。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of a heater unit according to the present invention and a heat treatment furnace using the heater unit will be described below with reference to the drawings. In FIG. 1, a heater unit 1 according to the present invention includes a panel heater 2 and a reflector 3.
And a combination of The panel heater 2 is a flat plate in which a pattern of the planar heating element 5 is provided on one surface of the panel 4, and the reflector 3 is a flat plate that covers an open surface of the planar heating element 5. FIG. 2 shows the configuration of the panel heater 2.
【0012】パネル4は、例えばステンレス(SUS3
04)のような熱伝導性に優れた金属板であり、その一
面(上面)を放熱面4a、他面(下面)を加熱面4bと
して利用するものである。加熱面4bは、パネル4に熱
を加える面であり、放熱面4aは被熱物の加熱処理面で
ある。面状発熱体5のパターンは、加熱面4b側に形成
されるが、この実施形態においては、図2(b)に示す
ようにパネル4の加熱面4b側に第1の絶縁膜6と第2
の絶縁膜7との間に挾んで面状発熱体5のパターンを積
層している。The panel 4 is made of, for example, stainless steel (SUS3
04) is a metal plate having excellent thermal conductivity, one surface (upper surface) of which is used as a heat radiation surface 4a and the other surface (lower surface) is used as a heating surface 4b. The heating surface 4b is a surface for applying heat to the panel 4, and the heat radiating surface 4a is a heat-treated surface of the object to be heated. The pattern of the planar heating element 5 is formed on the heating surface 4b side. In this embodiment, as shown in FIG. 2B, the first insulating film 6 and the first insulating film 6 are formed on the heating surface 4b side of the panel 4. 2
The pattern of the sheet heating element 5 is laminated between the insulating films 7.
【0013】第1及び第2の絶縁膜6、7は、例えば厚
さ100〜200μmの酸化物系セラミックス(融点1
300℃)の膜であり、面状発熱体5には(ニッケル
系、シリコン系、Fe系)と、セラミックチタニア系と
の複合抵抗体、金属化合物の抵抗体、又は、セラミック
スあるいはチタニア単体の抵抗体(抵抗値数Ω〜数10
Ω)(厚さ10〜200μm)を選択的に使用し、これ
らの低抗体の印刷パターンを付すことによって、面状発
熱体を形成することができる。The first and second insulating films 6 and 7 are made of, for example, oxide ceramics having a thickness of 100 to 200 μm (having a melting point of 1 μm).
(300 ° C.), and the sheet heating element 5 has a composite resistor of (nickel, silicon, Fe) and ceramic titania, a resistor of a metal compound, or a resistor of ceramics or titania alone. Body (resistance several ohms to several tens)
Ω) (thickness: 10 to 200 μm) is selectively used and a printing pattern of these low antibodies is applied to form a sheet heating element.
【0014】面状発熱体5のパターンの両端末にはそれ
ぞれ端子8を取り付けてリード線9を引き出し、端子8
は、絶縁碍子10を介してねじ11でパネル4に緊締さ
れる。レフレクタ3には、ステンレス板などの耐熱性反
射板を用いる。レフレクタ3は、面状発熱体5に発した
熱をパネル4側に反射させる鏡面を有するものであり、
スペーサ12を介してパネル4に組付けられ、面状発熱
体5の外面側を覆うとともに、パネル4から一定の間隔
を置いて配置される。Terminals 8 are attached to both ends of the pattern of the sheet heating element 5 and lead wires 9 are drawn out.
Are tightened to the panel 4 with the screws 11 via the insulator 10. A heat-resistant reflector such as a stainless steel plate is used for the reflector 3. The reflector 3 has a mirror surface for reflecting the heat generated by the planar heating element 5 to the panel 4 side.
It is assembled to the panel 4 via the spacer 12, covers the outer surface side of the sheet heating element 5, and is arranged at a fixed distance from the panel 4.
【0015】レフレクタ3をパネル4から離して配置す
ることにより、面状発熱体5に発した熱は籠らず、レフ
レクタ3によって、パネル4側に反射され、パネル4の
加熱面4bは、面状発熱体5から直接パネル4に伝えら
れる伝導熱とレフレクタ3の反射による輻射熱とによっ
て加熱され、その熱は、パネル4の放熱面4aから放熱
される。By arranging the reflector 3 away from the panel 4, the heat generated by the sheet heating element 5 is not trapped, but is reflected by the reflector 3 toward the panel 4, and the heating surface 4b of the panel 4 It is heated by conduction heat directly transmitted from the heating element 5 to the panel 4 and radiant heat by reflection of the reflector 3, and the heat is radiated from the heat radiation surface 4 a of the panel 4.
【0016】パネル4の放熱面4aには、さらに遠赤外
線放射膜13を形成しておくことができる。遠赤外線放
射膜13をパネル面に形成することにより、遠赤外線が
放熱面4a上に放射され、物品の加熱処理を促進するこ
とができる。遠赤外線放射膜13は、例えば、セラミッ
クスの遠赤外線放射材の微粉末を溶射材とし、低温溶射
法を用い、この溶射材をパネル4の放熱面4a上に被着
することによって形成する(特公平6−7508号参
照)。A far-infrared radiation film 13 can be further formed on the heat radiation surface 4a of the panel 4. By forming the far-infrared radiating film 13 on the panel surface, far-infrared rays are radiated on the heat radiating surface 4a, and the heat treatment of the article can be promoted. The far-infrared radiating film 13 is formed, for example, by using a fine powder of ceramic far-infrared radiating material as a thermal spraying material and applying the thermal spraying material on the heat radiating surface 4a of the panel 4 using a low-temperature thermal spraying method. No. 6-7508).
【0017】本発明において、パネルヒータ2とレフレ
クタ3とは、一定の間隔を置いて上下に配置する場合に
限らず、図3のようにレフレクタ3を第2絶縁膜7上に
直接積層してパネル4と一体に組付けることもできる。
レフレクタ3とパネル4とを積層一体化したときには、
レフレクタ3は、パネルヒータ2に保形されることにな
るため、レフレクタ3には、必ずしも自己保型性が必要
ではなく、従って、例えば耐熱性金属箔を使用すること
ができる。In the present invention, the panel heater 2 and the reflector 3 are not limited to the case where they are vertically arranged at a fixed interval, but the reflector 3 is directly laminated on the second insulating film 7 as shown in FIG. It can also be assembled integrally with the panel 4.
When the reflector 3 and the panel 4 are laminated and integrated,
Since the reflector 3 is held by the panel heater 2, the reflector 3 does not necessarily need to have a self-retaining property, and therefore, for example, a heat-resistant metal foil can be used.
【0018】面状発熱体5は、パターンにしたがって部
分的に発熱するために、パネル4の加熱面4bの温度
は、パターンの有無によって局部的に異なるが、面状発
熱体5に発した熱は、パネル4の厚み方向を伝わる間に
均等に均されるため、放熱面は、部分的な温度の高低差
がなくなり、均熱面となり、さらに遠赤外線放射膜13
からは、遠赤外線が放熱面4a上に放射される。Since the sheet heating element 5 partially generates heat in accordance with the pattern, the temperature of the heating surface 4b of the panel 4 varies locally depending on the presence or absence of the pattern. Is uniformly distributed while traveling in the thickness direction of the panel 4, so that the heat radiating surface has a uniform temperature difference, becomes a heat uniforming surface, and further has a far-infrared radiation film 13.
Radiates far infrared rays onto the heat radiation surface 4a.
【0019】本発明においては、パネル4の放熱面4a
上に被熱物Mを置いてその熱処理を行う。例えば、カラ
ー液晶のスクリーニング処理を行なうときには、カラー
液晶を被熱物Mとし、大気中に置かれたヒータユニット
1のパネル4面上にこれを搭載して処理を行う。In the present invention, the heat radiation surface 4a of the panel 4
The object to be heated M is placed thereon, and the heat treatment is performed. For example, when a color liquid crystal screening process is performed, the color liquid crystal is used as the object to be heated M and mounted on the panel 4 of the heater unit 1 placed in the atmosphere.
【0020】また、本発明によるヒータユニット1は、
図4のように、熱処理炉14の炉室15内に上下多段に
設置し、各段のヒータユニット1上で被熱物M、例えば
IC,トランジスタ,CLCD,PDPなどの電子部品
のスクリーニング処理を行うことができる。この場合
に、本発明によるヒータユニットのパネル4は、被熱物
Mを搭載する棚板となり、したがって、被熱物が接する
棚板そのものを加熱することになるために、温度の立上
りが早く、短時間の内に発熱温度を安定させることがで
き、実質的に熱処理時間を短縮することが可能となり、
また、熱処理炉14の壁の厚みを薄く設定することがで
きる。Further, the heater unit 1 according to the present invention comprises:
As shown in FIG. 4, a plurality of heaters 1 are installed in a furnace chamber 15 of a heat treatment furnace 14, and a screening process for an electronic component such as an IC, a transistor, a CLCD, or a PDP is performed on the heater unit 1 at each stage. It can be carried out. In this case, the panel 4 of the heater unit according to the present invention becomes a shelf on which the object to be heated M is mounted, and therefore, the shelf itself to which the object to be heated contacts is heated, so that the temperature rises quickly, The heat generation temperature can be stabilized within a short time, and the heat treatment time can be substantially reduced,
Further, the thickness of the wall of the heat treatment furnace 14 can be set thin.
【0021】また、ヒータユニット1を上下多段に配列
した各段のヒータユニット1の放熱面4a上で被熱物M
の熱処理を行う場合に、各段のヒータユニット1,1…
の発熱温度をそれぞれのヒータユニット毎に制御するこ
とにより、それぞれの段の棚板の発熱温度を異ならせ、
各段上の被熱物を段毎に異なる温度で熱処理を行うこと
ができる。Further, on the heat radiating surface 4a of each of the heater units 1 in which the heater units 1 are vertically arranged in multiple stages, the object to be heated M
When the heat treatment is performed, the heater units 1, 1.
By controlling the heat generation temperature of each of the heater units, the heat generation temperatures of the shelves in each stage are made different,
Heat treatment can be performed on the object to be heated on each stage at a different temperature for each stage.
【0022】さらに、本発明のヒータユニットからはガ
スが発しないため、熱処理炉に真空炉を用い、その炉室
内に本発明のヒータユニットを設置して真空中で物品の
熱処理を行なう場合にも有効である。Further, since no gas is emitted from the heater unit of the present invention, a vacuum furnace is used as a heat treatment furnace, and the heater unit of the present invention is installed in the furnace chamber to heat-treat an article in a vacuum. It is valid.
【0023】[0023]
【発明の効果】以上のように本発明によるときには、金
属パネル上に自由に面発熱体を形成することができ、面
状発熱体のパターンの太さ、形状、パターンの形成範囲
を任意に決定することにより、ヒータユニットの加熱温
度、加熱範囲を自由に設定でき、また、ヒータユニット
とレフレクタとを組合せて熱効率が高く、大気中、真空
中での使用はもとより、保温炉中で使用して同時に2種
以上の処理を行うことができる効果を有する。As described above, according to the present invention, the surface heating element can be freely formed on the metal panel, and the thickness, the shape, and the pattern forming range of the pattern of the sheet heating element can be arbitrarily determined. By doing so, the heating temperature and heating range of the heater unit can be set freely, and the heat efficiency is high by combining the heater unit and the reflector. This has the effect that two or more types of processing can be performed simultaneously.
【図1】本発明によるヒータユニットの一実施形態を示
す図である。FIG. 1 is a diagram showing one embodiment of a heater unit according to the present invention.
【図2】パネルヒータの構成を示すもので、(a)は下
面図、(b)は断面図である。FIGS. 2A and 2B show the configuration of a panel heater, wherein FIG. 2A is a bottom view and FIG.
【図3】本発明によるヒータユニットの他の実施形態を
示す図である。FIG. 3 is a view showing another embodiment of the heater unit according to the present invention.
【図4】本発明による熱処理槽の一実施形態を示す図で
ある。FIG. 4 is a view showing one embodiment of a heat treatment tank according to the present invention.
1 ヒータユニット 2 パネルヒータ 3 レフレクタ 4 パネル 4a 放熱面 4b 加熱面 5 面状発熱体 6 第1の絶縁膜 7 第2の絶縁膜 8 端子 9 リード線 10 絶縁碍子 11 ねじ 12 スペーサ 13 遠赤外線放射膜 14 保温槽 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Heater unit 2 Panel heater 3 Reflector 4 Panel 4a Heat radiating surface 4b Heating surface 5 Planar heating element 6 First insulating film 7 Second insulating film 8 Terminal 9 Lead wire 10 Insulator 11 Screw 12 Spacer 13 Far infrared radiation film 14 Insulation tank
Claims (2)
内装した熱処理炉であって、 ヒータユニットは、少なくともパネルヒータと、レフレ
クタとの組合せを有し、 パネルヒータは、パネルの一面を放熱面、他面を加熱面
とし、加熱面は、熱を加える面であり、面状発熱体のパ
ターンが付設され、放熱面は、被熱物を搭載して加熱処
理する面であり、 レフレクタは、面状発熱体の開放側の面を覆い、面状発
熱体の発する熱をパネル側に反射させるものであり、各
段のヒータユニットの発熱面の発熱温度は、ヒ−タユニ
ット毎に調整可能であり、互いに処理温度が異なる2種
類又はそれ以上の被処理物を同じ炉内で同時処理を可能
とした熱処理炉。1. A heat treatment furnace in which a heater unit is installed in a furnace chamber at two or more upper and lower stages, wherein the heater unit has at least a combination of a panel heater and a reflector, and the panel heater has a heat radiation surface on one side of the panel. The other surface is a heating surface, the heating surface is a surface to which heat is applied, a pattern of a planar heating element is attached, a heat radiation surface is a surface on which a heat-receiving object is mounted, and a heat treatment is performed. Covers the open side of the planar heating element and reflects the heat generated by the planar heating element to the panel side. The heating temperature of the heating surface of each stage heater unit can be adjusted for each heater unit. And a heat treatment furnace capable of simultaneously processing two or more kinds of workpieces having different processing temperatures in the same furnace.
板となるものであることを特徴とする請求項1に記載の
熱処理炉。2. The heat treatment furnace according to claim 1 , wherein the heater unit serves as a shelf on which the object to be heated is mounted.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10136907A JP3119620B2 (en) | 1998-05-19 | 1998-05-19 | Heater unit and heat treatment furnace |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP10136907A JP3119620B2 (en) | 1998-05-19 | 1998-05-19 | Heater unit and heat treatment furnace |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11329687A JPH11329687A (en) | 1999-11-30 |
| JP3119620B2 true JP3119620B2 (en) | 2000-12-25 |
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Family Applications (1)
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| JP10136907A Expired - Fee Related JP3119620B2 (en) | 1998-05-19 | 1998-05-19 | Heater unit and heat treatment furnace |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP3119620B2 (en) |
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1998
- 1998-05-19 JP JP10136907A patent/JP3119620B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JPH11329687A (en) | 1999-11-30 |
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