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JP3130097B2 - 新規なエリスロマイシン誘導体、その製造法、得られる新規な中間体及びそれらの薬剤としての使用 - Google Patents
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JP3130097B2 - 新規なエリスロマイシン誘導体、その製造法、得られる新規な中間体及びそれらの薬剤としての使用 - Google Patents

新規なエリスロマイシン誘導体、その製造法、得られる新規な中間体及びそれらの薬剤としての使用

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JP3130097B2
JP3130097B2 JP03331561A JP33156191A JP3130097B2 JP 3130097 B2 JP3130097 B2 JP 3130097B2 JP 03331561 A JP03331561 A JP 03331561A JP 33156191 A JP33156191 A JP 33156191A JP 3130097 B2 JP3130097 B2 JP 3130097B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、新規なエリスロマイ
シン誘導体、その製造法、得られる新規な中間体及びそ
れらの薬剤としての使用に関する。
【0002】
【発明の具体的な説明】しかして、本発明の主題は、次
式(I)
【化8】 {ここで、X及びX' はそれらが結合している炭素原子
と一緒になってC=O又はC=NORを形成し、ここ
で、Rは、 ・水素原子、 ・少なくとも1個の窒素原子を含有し、他のヘテロ原子
も含有し得る12員までの連結を含む飽和又は不飽和の
芳香族又は非芳香族一又は二環式複素環式基(窒素原子
上に4個までの炭素原子を含有するアルキル基が置換し
ていてもよい)、或いは ・18個までの炭素原子を含有する直鎖状、分岐鎖状又
は環状のアルキル、アルケニル又はアルキニル基(これ
らは、下記の基 ・・ヒドロキシル、 ・・ハロゲン、 ・・シアノ、 ・・ニトロ、 ・・アミジニル、 ・・グアニジニル、 ・・前記の複素環式基、 ・・多くとも6個の炭素原子を有するアルキルオキシ、
アルケニルオキシ又はアルキニルオキシ、 ・・多くとも6個の炭素原子を有するアルキルチオ、ア
ルケニルチオ又はアルキニルチオ(硫黄原子はスルホキ
シド又はスルホンに酸化されていてもよい)、 ・・アリール又はアラルキル、 ・・アリールオキシ又はアラルキルオキシ、 ・・アリールチオ又はアラルキルチオ(硫黄原子はスル
ホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい)、 (これらのアルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキ
ニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニ
ルチオ、アリール、アラルキル、アリールオキシ、アラ
ルキルオキシ、アリールチオ又はアラルキルチオ基のそ
れぞれは下記の基:ヒドロキシ、1〜6個の炭素原子を
有するアルキルオキシ若しくはアルキルチオ、6個まで
の炭素原子を有するアルケニルチオ若しくはアルキニル
チオ、アミノ、6個までの炭素原子を有するモノアルキ
ルアミノ、12個までの炭素原子を有するジアルキルア
ミノ、アミジニル、グアニジル、前記の複素環式基、ア
リール、アリールオキシ、アリールチオ、アラルキル、
アラルキルオキシ及びアラルキルチオ基(これらの基も
下記の基:メチル、エチル、プロピル、カルバモイル、
アミノメチル、ジメチルアミノメチル、アミノエチル、
ジメチルアミノエチル、カルボキシ、メチルオキシカル
ボニル、エチルオキシカルボニルから選ばれる基で置換
されていてもよい)のうちの1個以上で置換されていて
もよい)、 ・・基N(R'1)( R'2)(ここで、R'1及びR'2は、
同一であっても異なっていてもよく、水素原子、18個
までの炭素原子を有する直鎖状、分岐鎖状若しくは環状
のアルキル、アルケニル若しくはアルキニル基、アリー
ル又はアラルキルキを表わし、これらのR'1及びR'2
それぞれは下記の基:ヒドロキシ、8個までの炭素原子
を有するアルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニ
ルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ若しくはアル
キニルチオ、アミノ、4個までの炭素原子を有するモノ
アルキルアミノ、8個までの炭素原子を有するジアルキ
ルアミノ、シアノ、遊離の、エステル化された若しくは
塩形成されたカルボキシル、又は8個までの炭素原子を
有するアシル若しくはカルバモイルから選ばれる1個以
上の基で、基Si(alk)3 若しくはSi(Oal
k)3 (ここで、alkは4個までの炭素原子を有する
アルキル基を表わす)で、又は前記の複素環式基で置換
されていてもよく、或いはR'1とR'2はそれらが結合し
ている窒素原子と一緒になって12員までの連結を含む
飽和又は不飽和の芳香族又は非芳香族一又は二環式複素
環式基(他のヘテロ原子を含有し得る)を形成する)、 ・・第四アンモニウム基、 ・・1,2−エポキシエチル、2,2−ジメチル−1,
2−エポキシエチル又はこの基を求核性試薬により開環
することにより得られる基、 ・・基−C(O)−B1 (ここで、B1 は多くとも6個
の炭素原子を有するアルキル若しくはアルキルオキシ基
か又はアリール、アラルキル、アリールオキシ若しくは
アラルキルオキシ基を表わす)、 ・・遊離の若しくは保護されたホルミル、遊離の、エス
テル化された若しくは塩形成されたカルボキシ、チオシ
アネート、アシル又はカルバモイル、 ・・基(CH2)n R' (ここで、R' はアミノ酸の残基
を表わし、nは0〜6の整数を表わす)のうちから選ば
れる1個以上の基で置換されていてもよい)を表わし、
或いはXは基N(Ra)( Rb)(ここで、 ・Ra 及びRb は同一であっても異なっていてもよく、
水素原子、又は18個までの炭素原子を含有し、1個以
上のヘテロ原子も含有し得る置換されていてもよい炭化
水素基を表わし、 ・Ra 及びRb は、それらが結合している窒素原子と一
緒になって、少なくとも1個の窒素原子を含有し、酸
素、硫黄及び窒素原子から選ばれるさらに他のヘテロ原
子も含有し得る12員までの連結を含む飽和又は不飽和
の芳香族又は非芳香族一又は二環式複素環式基を形成す
ることができ、或いは ・Ra 及びRb は基Aと一緒になって9−N,11−O
環を形成することができる)を表わし、且つX' は水素
原子を表わし、Y及びY' は、X及びX' と同一であっ
ても異なっていてもよく、X及びX'の意味を有し、B
は水素原子又は基OR4 (ここで、R4 は水素原子を表
わす)を表わすか或いは基Aと一緒になってカーボネー
ト又はカルバメート基を形成し、Aはこれを有する炭素
原子及び10位置の炭素原子と共に二重結合を形成し、
或いはAは基OR'4(ここで、R'4は水素原子を表わ
す)を表わすか又は基Bと一緒になってカーボネート基
を形成し、或いはAは基N(R'5)(R'6)(ここで、
R'5はBと共にカルバメート基を形成するC=O基を表
わし、R'6は水素原子、12個までの炭素原子を有する
アルキル、アラルキル若しくはアルキルオキシ基、又は
基(CH2q N(R7)( R8)(ここで、R7 及びR8
は同一であっても異なっていてもよく、水素原子又は1
8個までの炭素原子を有するアルキル若しくはアラルキ
ル基を表わし、或いは窒素原子と一緒になって前記の複
素環を形成し、qは1〜6の整数を表わす)を表わす)
を表わし、或いはAは基O−CH2 −O−(CH2n
−N(R9)( R10) (ここで、R9 及びR10は水素原子
又は8個までの炭素原子を有するアルキル基を表わし、
或いは窒素原子と一緒になって前記の複素環を形成し、
nは1〜6の整数を表わす)を表わし、R2 は8個まで
の炭素原子を有するアルキル基、又はCONH2 、CO
NHCOR11又はCONHSO211(ここで、R11
18個までの炭素原子を含有し、1個以上のヘテロ原子
も含有し得る炭化水素基を表わす)を表わし、R3 はα
又はβ位置にあって、水素原子、8個までの炭素原子を
有するアルキル基、基(CH2)n −N(R12)(R13)
(ここで、R12及びR13は水素原子、8個までの炭素原
子を有するアルキル基を表わし、或いは窒素原子と一緒
になって前記の複素環を形成し、nは1〜6の整数を表
わす)、又は基N(R14)(R15)(ここで、R14及びR
15は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、8
個までの炭素原子若しくはヘテロ原子を有するアルキル
基又は8個までの炭素原子を有するアルキル若しくはア
ルキルオキシ基を表わす)を表わし、Zは水素原子又は
18個までの炭素原子を含有する脂肪酸の残基を表わ
し、X及びX' 又はY及びY' により表わされ得るオキ
シムはsyn又はanti配置であり得る}の化合物並
びに式(I)の化合物の酸付加塩にある。
【0003】本発明の誘導体の無機又は有機酸との付加
塩の例としては、下記の酸:酢酸、プロピオン酸、トリ
フルオル酢酸、マレイン酸、酒石酸、メタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、塩
酸、臭化水素酸、沃化水素酸、硫酸、りん酸、、特にス
テアリン酸、エチル琥珀酸又はラウリル硫酸で形成され
た塩があげられる。
【0004】本発明の化合物を定義するにあたり、 ・複素環式基は、好ましくは下記の基の一つである。ピ
ロリル、ピロリジニル、ピリジル、ピラジニル、ピリミ
ジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、キヌクリジニ
ル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、モルホリニル、
インドリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリ
アゾリル、チアゾリル、アゼチジニル、アジリジニル。
もちろん、好ましくは、後記の実験の部に記載した複素
環式基もあげられる。 ・アルキル、アルケニル又はアルキニル基は好ましくは
下記の基の一つである。メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、デ
シル若しくはドデシル、ビニル、アリル、エチニル若し
くはプロピニル、シクロブチル、シクロペンチル若しく
はシクロヘキシル。 ・ハロゲンは、好ましくは弗素、塩素又は臭素である。 ・アリール基は、好ましくはフェニル基である。 ・アラルキル基は、好ましくは(C65 )−(CH
2a 基(ここで、aは1〜6の整数であり、例えば
1、2、3又は4である)又はナフチル基である。 ・アルキルオキシ基は、好ましくは、下記の基の一つで
ある。メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、イソプロ
ピルオキシ、n−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、t
−ブチルオキシ、n−ペンチルオキシ、イソペンチルオ
キシ、sec−ペンチルオキシ、t−ペンチルオキシ、
ネオペンチルオキシ、n−ヘキシルオキシ又はt−ヘキ
シルオキシ基。 ・上記のアルキルオキシ基の酸素原子を硫黄原子で置き
換えた対応するアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エ
チルチオ基なども使用できる。さらに、この硫黄原子は
酸化されていてもよい。例えば、メチルスルフィニル、
メチルスルホニルなど。 ・アルケニルオキシ基は、好ましくは下記の基の一つで
ある。ビニルオキシ、1−プロペニルオキシ、アリルオ
キシ、1−ブテニルオキシ、2−ブテニルオキシ、3−
ブテニルオキシ、2−メチル−1−ブテニルオキシ、ペ
ンテニルオキシ、ヘキセニルオキシ、3−メチル−2−
ブテニルオキシ基。 ・上記のアルケニルオキシ基の酸素原子を酸化されてい
てもよい硫黄原子で置き換えた対応するアルケニルチオ
基を使用することができる。 ・アルキニルオキシ基は、好ましくはエチニルオキシ、
プロパルギルオキシ、プロピニルオキシ、ブチニルオキ
シ、ペンチニルオキシ又はヘキシニルオキシ基である。 ・上記のアルキニルオキシ基の酸素原子を酸化されてい
てもよい硫黄原子で置き換えた対応するアルキニルチオ
基を使用することができる。 ・アリールオキシ基は、好ましくは下記の基の一つであ
る。フェニルオキシ、チエニルオキシ、フリルオキシ、
チアゾリルオキシ、チアジアゾリルオキシ、オキサゾリ
ルオキシ、テトラゾリルオキシ、ピロリルオキシ、イミ
ダゾリルオキシ、ピラゾリルオキシ、イソチアゾリルオ
キシ、イソオキサゾリルオキシ、トリアゾリルオキシ、
チアトリアゾリルオキシ、ピリジルオキシ及び下記の縮
合環式基:ベンゾチエニルオキシ、ベンゾフリルオキ
シ、インドリルオキシ、ベンゾイミダゾリルオキシ基。 ・上記の対応する酸化されていてもよいアリールチオ
基、例えばフェニルチオ、フェニルスルホニル、フェニ
ルスルフィニル基などももちろん使用できる。 ・アラルキルオキシ基は、好ましくは下記の基の一つで
ある。ベンジルオキシ、フェニルエチルオキシ、フェニ
ルプロピルオキシ、チエニルメチルオキシ、チエニルエ
チルオキシ、チエニルプロピルオキシ、フルフリルオキ
シ、フリルエチルオキシ、フリルプロピルオキシ、チア
ゾリルメチルオキシ、チアゾリルエチルオキシ、テトラ
ゾリルメチルオキシ、チアジアゾリルメチルオキシ、チ
アジアゾリルエチルオキシ基。 ・これらに対応する酸化されていてもよいアラルキルチ
オ基ももちろん使用することができる。
【0005】保護されたホルミル基のうちでは、特にア
セタール型の基が挙げられる。下記の基が好ましい。
1,3−ジオキソラン−2−イル、ジメトキシメチル、
ジエトキシメチル基。エステル化されたカルボキシル基
としては、多くとも7個の炭素原子を有するあるアルコ
キシカルボニル基、例えばメトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、プロピルオキシカルボニル、イソプロピ
ルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル基が挙げ
られる。下記の基も挙げられる。メトキシメトキシカル
ボニル、イソプロピルオキシメトキシカルボニル基のよ
うなアルキルオキシアルキルオキシカルボニル基;メチ
ルチオメトキシカルボニル、イソプロピルチオメトキシ
カルボニル基のようなアルキルチオメトキシカルボニル
基;ピバロイルオキシメトキシカルボニル、アセトキシ
エトキシカルボニル基のようなアシルオキシアルキルオ
キシカルボニル基。カルボキシル基により形成される塩
としては、ナトリウム、カリウム、リチウム、カルシウ
ム、マグネシウムおよびアンモニウム塩が挙げられ、ま
たトリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタンのような
アミノ有機塩基により形成された塩も挙げられる。アシ
ル基としては、特に下記の基が挙げられる。アセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、n−バレリ
ル、イソバレリル、t−バレリル及びピバリル基。
【0006】本発明のさらに特定の主題は、X及びX'
がそれらが結合している炭素原子と一緒になってC=N
OR基(ここで、Rは前記と同じ意味を有する)を形成
する式(I)の化合物にある。これらの化合物のうち
で、特に本発明の主題は、Rが基N(R'1)(R'2) (こ
こで、R'1及びR'2は上記と同じ意味を有する)によっ
て置換された6個までの炭素原子を有するアルキル基を
表わす式(I)の化合物、例えばR基が(CH2)2 −N
(R'1)( R'2)(ここで、R'1及びR'2は4個までの
炭素原子を有するアルキル基を表わす)、特に(CH2)
2 −N(CH3)2 基である化合物、或いはR'1が水素原
子を表わしかつR'2が少なくとも1個の窒素原子を含む
複素環式基で置換された4個までの炭素原子を有するア
ルキル基、特に次式
【化12】 の基を表わす化合物にある。
【0007】本発明の好ましい化合物のうちだは、R
が、6個までの炭素原子を有するアルキルオキシ基(場
合によりメトキシ基で置換されていてもよい)で置換さ
れた6個までの炭素原子を有するアルキル基を表わす式
(I)の化合物、例えばRが次式
【化13】 の基を表わす化合物も挙げられる。
【0008】また、本発明の好ましい化合物のうちで
は、Rが少なくとも1個の窒素原子を含有する複素環、
特に3−ピペリジニル基を表わす式(I)の化合物も挙
げられる。
【0009】また、本発明の特定の主題は、X及びX'
はそれらが結合している炭素原子と一緒になってC=O
基を形成する式(I)の化合物にある。
【0010】本発明の好ましい化合物のうちでは、特に
下記のものが挙げられる。 ・XとX' 及びYとY' がそれぞれ一緒になってC=O
基を形成する式(I)の化合物。 ・YとY' が一緒になってC=NOR基(ここで、Rは
前記の意味、特にベンジル基を表わす)を形成する式
(I)の化合物。 ・R2 が1〜4個の炭素原子を有するアルキル基、特に
メチル基を表わすの(I)の化合物。 ・R3 が水素原子(α又はβ)を表わす式(I)の化合
物。 ・AがOH基を表わす式(I)の化合物。 ・BがOH基を表わす式(I)の化合物。 ・AとBが環状の11,12−カーボネート基を形成す
る式(I)の化合物。 ・AとBが次式
【化14】 (ここで、R'6は水素原子、12個までの炭素原子を有
するアルキル、アラルキル若しくはアルキルオキシ基又
は基(CH2)q −N(R7)( R8)(ここで、R7とR8
は同一であっても異なっていてもよく、水素原子又は1
8個までの炭素原子を有するアルキル若しくはアラルキ
ル基を表わし、或いは窒素原子と一緒になって前記のよ
うな複素環を形成し、qは1〜6の整数を表わす)を表
わす)の2価基を形成する式(I)の化合物。これらの
化合物のうちでは、R'6が12個までのの炭素原子を有
するアラルキル基、例えば(CH2)465 基を表わ
す式(I)の化合物が挙げられる。
【0011】本発明の好ましい化合物のうちでは、特に
Zが水素原子を表わす式(I)の化合物が挙げられる。
本発明の好ましい化合物のうちでは、実験の部に記載の
化合物、特に例1、2、3、7、10、13、36及び
37の化合物である。
【0012】一般式(I)の化合物は、葡萄球菌属、連
鎖球菌属、肺炎球菌属のようなグラム陽性細菌に対し非
常に良好な抗生物質活性を持っている。したがって、本
発明の化合物は、感受性細菌感染症の治療に、特に、葡
萄球菌性敗血症、顔又は皮膚の悪性葡萄球菌感染症、膿
皮症、敗血性又は化膿性びらん、せつ、炭疽、フレグモ
ーネ、丹毒及びざ瘡のような葡萄球菌感染症、原発性又
はインフルエンザ後急性アンギナ、気管支肺炎、肺化膿
症のような葡萄球菌感染症、急性アンギナ、耳炎、副鼻
腔炎、猩紅熱のような連鎖球菌感染症、肺炎、気管支炎
のような肺炎球菌症、ブルセラ症、ジフテリア、淋菌感
染症の治療に使用することができる。また、本発明の化
合物は、インフルエンザ菌、リケッチャ菌、肺炎マイコ
プラズマ、クラミジア属、レジュネラ菌、ウレアプラズ
マ属、トキソプラズマのような細菌による感染症に対し
て活性である。
【0013】したがって、本発明の主題は、上記のよう
な式(I)の化合物並びにそれらの製薬上許容できる無
機又は有機酸との付加塩よりなる薬剤、特に抗生物質剤
にある。本発明のさらに特別の主題は、前述のような式
(I)の好ましい化合物、特に例1、2、3、7、1
0、13、36及び37の化合物並びにそれらの製薬上
許容できる無機又は有機酸との付加塩よりなる薬剤、特
に抗生物質剤にある。
【0014】また、本発明の主題は、前記の薬剤の少な
くとも1種を活性成分として含有する製薬組成物にあ
る。これらの組成物は、経口的に、直腸経路で又は非経
口的に或いは皮膚及び粘膜上への局部適用として局部経
路で投与することができるが、好ましい投与経路は経口
投与である。これらの製薬組成物は、固体又は液体状で
あってよく、人の医薬として慣用されているあらゆる製
薬形態で、例えば無味錠剤又は糖衣錠、カプセル、顆
粒、座薬、注射用製剤、軟膏、クリーム、ジェルの形で
提供できる。これらは、通常の方法により製造される。
活性成分は、これらの製薬組成物に通常使用される補助
剤、例えばタルク、アラビアゴム、ラクトース、でんぷ
ん、ステアリン酸マグネシウム、ココアバター、水性又
は非水性ビヒクル、動物性又は植物性の脂肪物質、パラ
フィン誘導体、グリコール、各種の湿潤剤、分散剤又は
乳化剤、保存剤と配合することができる。これらの組成
物は、また、適当なビヒクル、例えば非発熱性無菌水に
即時に溶解するように意図された粉末の形態で提供でき
る。投薬量は、治療する感染症、問題の患者、投与経路
及び化合物によって変わる。それは、例えば、例1に記
載の化合物については、成人の場合に経口投与で1に当
たり50mg〜300mgであろう。
【0015】また、本発明の主題は、前記のような式
(I)の化合物の製造法にあり、この方法は次式(II)
【化15】 (ここで、X、X' 、R2 、B及びAは前記の意味を有
する)の化合物に水性媒体中で酸を作用させて次式(II
I)
【化16】 の化合物を得、この化合物に2' 位置のヒドロキシル官
能基の保護剤を作用させて次式(IV)
【化17】 (ここで、OMは保護されたヒドロキシル基を表わし、
他の置換基は前記の意味を有する)の化合物を得、この
化合物に3位置のヒドロキシル官能基の酸化剤を作用さ
せて次式(V)
【化18】 の化合物を得、所望ならば、この化合物に基R'3(ここ
で、R'3は水素原子を除いたR3 と同じ意味を有する)
の導入剤を作用させ、次いで(a)適当ならば、2' 位
置のヒドロキシル官能基の遊離化剤を作用させて次式
(IA
【化19】 の化合物、即ちYとY' がそれらが結合している炭素原
子と共にケトン官能基を形成する式(I)化合物を得、
次いで所望ならば、この式(IA )の化合物にケトン又
はβ−ケトエステル官能基のオキシム化剤を作用させて
式(I)の所望化合物を得、次いで所望ならば、得られ
た化合物に2’位置のヒドロキシルのエステル化剤を作
用させ、或いは(b)ケトン又はβ−ケトエステル官能
基のオキシム化剤を作用させ、次いで適当ならば、2'
位置のヒドロキシル官能基の遊離化剤を作用させて式
(I)の所望化合物を得、次いで所望ならば、このよう
にして得られた式(I)の化合物に酸を作用させて塩を
形成させることを特徴とする式(I)の化合物の製造法
にある。
【0016】本発明の製造法の好ましい実施態様におい
ては、 ・クラジノースの加水分解は、塩酸水溶液を使用して又
はメタノール中で行われる。 ・2' 位置のヒドロキシル基の保護は、酸又は酸の官能
性誘導体、例えば酸無水物、酸ハロゲン化物又は珪素誘
導体を使用して行われる。使用された保護剤に応じて、
式(V)の化合物は式(I)の化合物を構成し又は構成
しない。 ・R'3基の導入は、当業者に知られた方法、例えばハロ
ゲン化物を使用して行われる。 ・2' 位置のヒドロキシル官能基の遊離化はメタノリシ
スにより行なわれる。 ・3位置のヒドロキシルの酸化は、ジョーンズの酸化反
応に従い希硫酸中で無水クロム酸を使用するか、又はジ
メチルスルホキシド(DMSO)の存在下にジイミドを
使用して行なわれる。 ・ケトン官能基の酸化は、所望の置換基Rを持つRON
2 ヒドロキシルアミンを使用して一段階で行なうか、
又はH2 N−O−(CH2n −Halヒドロキシルア
ミンを使用してXとX' が一緒になって=N−O−(C
2n −Hal基を表わす式(I)の所望化合物を
得、所望ならばこの化合物に式NH(R'1)(R'2
(ここで、R'1及びR'2は前記の意味を有する)のアミ
ンを作用させてXとX' が一緒になって=N−O−(C
2n −N(R'1)(R'2)基を表わす式(I)の化
合物を得、適当ならばこの化合物を例えばアルキル化
剤、アシル化剤又は還元剤を使用して転化して所望の式
(I)の化合物を得ることができる。 ・2' 位置のエステル化は標準法に従って行なわれる。 ・塩形成は、標準法に従って酸を使用して行なわれる。
【0017】出発物質として使用される式(II)の化合
物は、ヨーロッパ特許第0216169 号、同41355 号及び同
0180415号に記載の既知の化合物から、後記の実験の部
に記載の方法を使用して製造される。6−O−メチルエ
リスロマイシンオキシムは、例えばヨーロッパ特許第01
80415 号に記載されている。
【0018】また、本発明の主題は、異なった工程を異
なった順序で行なう上記製造法の別法にある。さらに、
本発明は、XとX' がC=NOR基を形成する式(I)
の化合物を製造するにあたり、X及びX' がC=NOR
基を表わす式(IVA )の化合物が、相当する式(II)の
ケトンから酸性媒体中でNH2 ORを作用させて反応の
pHに応じて対応する次式(IVA
【化20】 (ここで、Aは10(11)位置に不飽和がない場合に
はOH基を表わし、又はAは10(11)位置に不飽和
がある場合には水素原子を表わす)の10(11)位置
が飽和又は不飽和の化合物を得るようにすることによっ
て製造されることを特徴とする前記のの製造法の別法を
包含する。
【0019】最後に、本発明の主題は、XとX' がC=
NOR基(ここで、Rは前記の通りである)を形成する
式(I)の化合物を製造するにあたり、X及びX' がケ
ト基を形成する式(IA )の化合物に式NH2 ORの化
合物を作用させてXとX' がC=NOR基を形成し、Z
が水素原子を表わす相当する式(I)の化合物を得、次
いで適当ならば、この化合物をエステル化又は塩形成す
ることを特徴とする該式(I)の化合物の製造法にあ
る。
【0020】本発明の製造法の実施中に得られる中間体
化合物ならびに式(II)の化合物は新規であって、それ
自体本発明の主題をなす。
【0021】下記の実施例は本発明を例示するものであ
って、それを何ら制限するものではない。
【0022】例1:3−デ[(2,6−ジデオキシ−3
−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピ
ラノシル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリ
スロマイシンの9−O−[2−(ジメチルアミノ)エチ
ル]オキシム工程A :3−O−デ(2,6−ジデオキシ−3−C−メ
チル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシ
ル)−6−O−メチルエリスロマイシンの9−[O−
[2−(ジメチルアミノ)エチル]オキシム] 100mgの製造例1で得た化合物と0.3ccの22
度Be塩酸溶液を3ccの水に懸濁させ、全体を周囲温
度で3時間撹拌し続ける。この溶液を数滴の20%水酸
化アンモニウムを添加して塩基性pHとなし、2ccの
塩化ナトリウム飽和溶液を添加し、酢酸エチル及びクロ
ロホルムで抽出する。乾燥後、溶媒を蒸発させる。残留
物をシリカでクロマトグラフィーし、先ず酢酸エチル
で、次いで酢酸エチル−トリエチルアミン(98/2)
混合物で溶離する。このようにして、50mgの所望化
合物を得た。分析 IR:(ヌジョール法、ニコレット上) CO:1733cm-1 MS(FAB) (M+H)+ = 676+ 工程B :2’−O−アセチル−3−デ[(2,6−ジデ
オキシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リ
ボヘキソピラノシル)]−6−O−メチル−3−オキソ
エリスロマイシンの9−[O−[2−(ジメチルアミ
ノ)エチル]オキシム] 150mgの上記工程で製造した化合物、38mgの炭
酸カリウム及び33μlの無水酢酸を2ccのアセトン
に懸濁させる。得られた懸濁液を20時間撹拌する。1
ccの氷を加え、次いで5分撹拌し、塩化ナトリウムで
飽和させる。1ccの水を加え、次いで酢酸エチルで抽
出し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を蒸発させる。
110mgの粗生成物を得、これをシリカでクロマトグ
ラフィーし、酢酸エチル−トリエチルアミン混合物(9
6/4)で溶離する。110mgの所望化合物を単離し
た。分析 MS(FAB) (M+H+ =718+ 工程C :3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチ
ル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)
オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロマイシ
ンの9−O−[2−(ジメチルアミノ)エチル]オキシ
工程C1 :酸化 110mgの上記工程で製造した化合物、0.21cc
のジメチルスルホキシド及び165mgの1−[3−
(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイ
ミド塩酸塩(EDAC)をアルゴン雰囲気下に2ccの
塩化メチレンに溶解する。この溶液を20分間撹拌し、
165mgのトリフルオル酢酸ピリジニウムを添加す
る。2時間後に70μlのジメチルスルホキシドと55
mgのEDACを添加する。20分間撹拌し、55mg
のトリフルオル酢酸ピリジニウムを添加する。得られた
溶液に2ccの水を添加し、10分間撹拌し、この溶液
を塩化メチレンで溶解し、水洗し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を蒸発させる。240mgの粗生成物を得
た。これをシリカでクロマトグラフィーし、酢酸エチル
とトリエチルアミンとの混合物(95/5)で溶離す
る。85mgの所望化合物を得た。工程C2 :2’位置のヒドロキシルの遊離化 85mgの上で得た化合物を3ccのメタノールに溶解
する。24時間撹拌する。溶媒を減圧下に蒸発させる。
得られた生成物をクロマトグラフィーし、酢酸エチルと
トリエチルアミンとの混合物(95/5)で溶離するこ
とにより精製する。75mgの所望化合物を得た。分析 IR:(CHCl3、ニコレット上) OH:3606、 3510、 3415cm-1 C=O:1744、 1714cm-1 UV:max 287nm ε=10900 MS:(FD) M+= 673+ NMR:(CDCl3 、400MHz、δppm ) 3.86(H2); 3.12(H4); 4.31(H5); 1.39(6位置のCH3); 2.
74 (6 位置のCH3); 3.56(H8); 2.5-2.65(H10、CH2-N);
3.89(H11); 1.22(12-CH3); 5.17(H13); 0.86(H1 5); 4.0
9(O-CH2 -CH2); 2.27(Ch3-N); 0.97-1.16-1.26-1.3-1.32
(CH3); 4.31(H'1); 3.19(H'2); 2.5(H'3); 3.64(H'5) [α]D = +4 °(c =0.5 % 、CHCl3)製造例1 :6−O−メチルエリスロマイシンの9−[O
−[2−(ジメチルアミノ)エチル]オキシム] 160mgのクロル−2−N,N−ジメチルアミン塩酸
塩を窒素雰囲気下に1.5ccのジメチルスルホキシド
に溶解する。60mgの50%油中水素化ナトリウムを
添加し、窒素雰囲気下に30分間撹拌し、380mgの
6−O−メチルエリスロマイシン−9−オキシム、0.
5ccのテトラヒドロフラン及び30mgの水素化ナト
リウムを添加する。得られた溶液を窒素雰囲気下に4時
間保持する。数滴の塩化アンモニウム飽和溶液を添加
し、20ccの酢酸エチルを添加し、次いで炭酸水素ナ
トリウム飽和水溶液で、次いで塩化ナトリウム飽和水溶
液で洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を
蒸発させる。得られた残留物をシリカでクロマトグラフ
ィーし、クロロホルム、メタノール及び水酸化アンモニ
ウムの混合物(97/7/0.5)で溶離する。200
mgの所望化合物を得た。 [α]= -99°(c=1% 、 クロロホルム) IRスペクトル(CHCl3) OH:3600cm-1 C=O:1728cm-1 C=N:1626cm-1 質量スペクトル(FAB) (M+H)= 834+
【0023】例2:3−デ[(2,6−ジデオキシ−3
−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピ
ラノシル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリ
スロマイシンの9−[O−[(2−メトキシエトキシ)
メチル]オキシム]工程A :3−O−デ(2,6−ジデオキシ−3−C−メ
チル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシ
ル)−6−O−メチルエリスロマイシンの9−[O−
[(2−メトキシエトキシ)メチル]オキシム] 1.7gの製造例2で得た1.7gの化合物より出発
し、例1の工程Aにおけるように操作して、1.25g
の所望化合物を得た。 [α]D = -28°±1.5 °(c =0.95% 、CHCl3) IRスペクトル:(CHCl3、ニコレット上) OH:3420cm-1 C=O:1725cm-1 C=N:1636cm-1 質量スペクトル:(FAB) (M+H)+ =693+ 工程B :2’−O−アセチル−3−デ(2,6−ジデオ
キシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボ
ヘキソピラノシル)−6−O−メチルエリスロマイシン
の9−[O−[(2−メトキシエトキシ)メチル]オキ
シム] 346mgの工程Aで得た化合物より出発し、例1の工
程Bにおけるように操作して、351mgの所望化合物
を得た。分析 IR:(CHCl3、ニコレット上) OH:3620、 3600cm-1 C=O:1730cm-1 MS:(FAB) (M+H)+ =735+ [α]D = -52.5°±1 °(c = 1% 、 CHCl3)工程C :2’−O−アセチル−3−デ[(2,6−ジデ
オキシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リ
ボヘキソピラノシル)オキシ]−6−O−メチル−3−
オキソエリスロマイシンの9−[O−[(2−メトキシ
エトキシ)メチル]オキシム] 4gの工程Bで製造した化合物と2.71ccのジョー
ンズ試薬を100ccのアセトンに溶解する。反応混合
物を0℃で1時間撹拌する。10ccの1−プロパノー
ルを添加し、0℃で20分間撹拌し続ける。減圧下にア
セトンを蒸発させる。残留物を50ccの塩化メチレン
と20ccの水に溶解する。全体を炭酸カリウムにより
pH8とする。塩化メチレンで抽出し、次いで水洗し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、次いで減圧下に蒸
発乾固する。4.5gの生成物を得、これをシリカでク
ロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル−トリエチルア
ミン98−2)し、2.45gの所望化合物を得た。 IRスペクトル(CHCl3、ニコレット上) C=N:1630cm-1 C=O:1742、 1716cm-1 OH:3510、 3410cm-1 工程D :3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチ
ル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)
オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロマイシ
ンの9−[O−[(2−メトキシエトキシ)メチル]オ
キシム] 300mgの上記工程Cで得た化合物より出発し、例1
の工程C1におけるように操作して、0.27gの所望
化合物を得た。分析 IR:(CHCl3、ニコレット上) OH:3430、 3505cm-1 C=O:1744、 1714cm-1 NMR:(CDCl3 、400MHz、δppm ) 0.86( エチル のCH3); 1.00-1.17; 1.26-1.30-1.32(判定さ
れないCH3); 1.23(12位置のCH3); 1.38( 6 位置のCH3);
2.37(N(CH3)2); 2.61(H10 及びH3');2.73(6位置のOC
H3); 3.13(H4); 3.26(H2'); 3.38(MEMのOCH3); 3.53、3.
76(MEM のOCH2CH2O); 3.59(H5'); 3.70(H8); 3.86(H2);
3.91(H11); 4.33(H1' 及び H5); 5.14(OCH2O); 5.18(H
13) MS:分子ピーク(M+)=690+ 製造例2 :6−O−メチルエリスロマイシンの9−[O
−[(2−メトキシエトキシ)メチル]オキシム] 15.2gの6−O−メチルエリスロマイシン−9−オ
キシムを80ccのテトラヒドロフランに溶解してなる
溶液に1.35gのナトリウムメチラートを+5℃で添
加し、+5℃で15分間撹拌し、次いで2.85ccの
塩化(2−メトキシエトキシ)メチルを20ccのテト
ラヒドロフランに溶解してなる溶液を添加する。+5℃
で30分間撹拌し、次いで全体を周囲温度に戻す。減圧
下にテトラヒドロフランを蒸発させ、乾燥し、蒸発乾固
する。残留物(16.1g)をシリカでクロマトグラフ
ィー(溶離剤:塩化メチレン−メタノール−水酸化アン
モニウム95−5−0.1)し、第一画分として8.1
g、第二画分として3.56gの所望化合物を得た。 IRスペクトル:(CHCl3) OH:3600cm-1 C=O:1728cm-1 C=N:1630cm-1 質量スペクトル:(FAB) (M+H)+ =851+
【0024】例3:3−デ[(2,6−ジデオキシ−3
−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピ
ラノシル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリ
スロマイシン工程A :3−O−デ(2,6−ジデオキシ−3−C−メ
チル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシ
ル)−6−O−メチルエリスロマイシン 380mgの6−O−メチルエリスロマイシンを3cc
の水に懸濁させる。0.3ccの22度Be塩酸を添加
する。反応混合物を2時間撹拌し続ける。混合物を20
℃で数滴の水酸化アンモニウムを添加して塩基性pH
(>8)にもたらし、次いで5ccの酢酸エチルで希釈
する。有機相を塩化ナトリウムを飽和させ、デカンテー
ションさせ、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を蒸発させる。350mgの粗生成物を
得、これをシリカでクロマトグラフィーし、酢酸エチル
−トリエチルアミン(94−4)混合物で溶離する。2
00mgの所望化合物を得た。 IRスペクトル:(CHCl3、ニコレット上) OH:3450cm-1 C=O:1725、 1689cm-1 質量スペクトル:(FAB) (M+H)+ =590+ 工程B :2’−O−アセチル−3−O−デ(2,6−ジ
デオキシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−
リボヘキソピラノシル)−6−O−メチルエリスロマイ
シン 310mgの上記工程で製造した化合物、80μlの無
水酢酸及び90mgの炭酸カリウムを窒素雰囲気下に4
ccのアセトンに撹拌しながら溶解する。周囲温度で1
2時間後に20μlの無水酢酸と10mgの炭酸カリウ
ムを添加する。周囲温度で再度撹拌する。氷を添加し、
撹拌し、次いで塩化メチレンで抽出し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を蒸発させる。得られた生成物をシリ
カでクロマトグラフィーし、酢酸エチル−トリエチルア
ミン(96−4)混合物で溶離し、所望化合物を得た。分析 質量スペクトル(FAB) (M+H)+ =631+ 工程C :3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチ
ル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)
オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロマイシ
工程C1 :酸化 420mgの上記工程で製造された化合物、0.84c
cのジメチルスルホキシド及び0.84gの1−[3−
(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイ
ミド塩酸塩を5ccの塩化メチレンに溶解する。得られ
た溶液を周囲温度で4時間撹拌する。溶液に4ccの水
を添加する。10分間撹拌し、全体を20ccの塩化メ
チレンで溶解し、次いで水洗し、硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を蒸発させる。得られた生成物をシリカでク
ロマトグラフィーし、イソプロピルエーテル−トリエチ
ルアミン(9−1)混合物で溶離する。130mgの署
も化合物を得た。工程C2 :加水分解 130mgの上記化合物より出発し、例1の工程C2に
おけるように操作して、シリカでクロマトグラフィー
(溶離剤:イソプロピルエーテル−トリエチルアミン
(9−1)した後、100mgの所望化合物を得た。分析 IRスペクトル:(CHCl3、ニコレット上) OH:3475cm-1 C=O:1745、 1714、 1689cm-1 MS:(FAB) (M+H)+ =588+ NMR:(CDCl3 、300MHz、δppm ) 3.86(H2); 2.6(H4); 1.35(6-CH3); 2.7(6-OCH3); 3.1(H
8); 2.97(H10); 3.91(H11); 1.22(H12); 5.12(H13); 0.
86(H15); 4.32(H1); 3.18(H'2); 2.46(H'3); 2.26(N-CH
3); 3.57(H'5) [α]D = +21°(c =0.5%、 CHCl3)
【0025】例4:3−デ[(2,6−ジデオキシ−3
−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピ
ラノシル)オキシ]−6−O−メチル−3−[(フェニ
ルメトキシ)イミノ]エリスロマイシンの9−[O−
[(2−メトキシエトキシ)メチル]オキシム] 500mgの例2で製造した化合物を10ccのエタノ
ールに溶解し、172μlのトリエチルアミンと543
mgのO−ベンジルヒドロキシルアミン塩酸塩を添加
し、全体を還流させ、4日間還流し続ける。次いで、1
72μlのトリエチルアミンと543mgのO−ベンジ
ルヒドロキシルアミン塩酸塩を添加する。全体をさらに
3日間還流し続ける。反応媒体をろ過し、溶媒を蒸発さ
せ、残留物を塩化メチレンと水で溶解する。水酸化アン
モニウムで中和し、デカンテーションした後、水性相を
塩化メチレンで抽出する。有機相を一緒にし、水洗し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、濃縮乾固する。8
00mgの油状物を得、これをシリカでクロマトグラフ
ィーし、まず酢酸エチルのみで、次いでAcOEt/T
EA(99−1)で溶離する。500mgの固形物を回
収し、これを分取HPLCにより精製する。溶離剤:ア
セトニトリル−酢酸アンモニウム0.2M(4−1)。
130mgの所望化合物を得た。 NMR:(CDCl3、 300MHz、 δppm ) 0.86(t)(エチル CH3); 0.90-1.45(他のメチル ); 2.27(s)(N(M
e)2); 2.90(dq)(H10);2.30(m)(H3); 3.28(m)(遮蔽され
たH4又は H'5); 4.52(q)(H2); 2.70(s)(6-Me);3.54(m)
及び 3.76(m)(MEMのOCH2CH2O); 5.13(MEM のOCH2O 及び
OCH2 φ); 4.00(広いs)(H11); 4.59(d)(H1'); 3.18(d
d)(H2'); 4.01(d)(H5); 5.29(dd)(H13);7.31(フェニル) 質量スペクトル:分子ピーク(M+H)+=796+ IRスペクトル:(CHCl3、ニコレット上) OH:〜3600cm-1 + 会合した複合形 C=O:1730cm-1 C=N:〜1636、 1606cm-1 芳香族:1494cm-1
【0026】例5:3−デ[(2,6−ジデオキシ−3
−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピ
ラノシル)オキシ]−3−(ヒドロキシイミノ)−6−
O−メチルエリスロマイシンの9−[O−[(2−メト
キシエトキシ)メチル]オキシム] 110mgの例4で製造した化合物を12.5ccのエ
タノールに溶解する。52mgの10%パラジウム担持
活性炭を添加する。この溶液を水素圧下に2日間保持す
る。ろ過し、蒸発させた後、得られた生成物をシリカで
クロマトグラフィーし、イソプロピルエーテル−メタノ
ール−トリエチルアミン(90−5−5)混合物で溶離
することにより精製する。39mgの所望化合物を回収
した(異性体1)。 NMR:(CDCl3、 300MHz、 δppm ) 0.87(t)(エチル CH3); 0.99(d)-1.18(d)-1.40(d)(他のメチル
); 1.23(s)(12-Me); 1.36(s)(6-Me); 2.23(s)(N(M
e)2); 2.90(dq)(H10); 〜2.30(m)(H3' + 1 個の他のH);
4.49(q)(H2); 2.86(s)(6-Me); 3.38(s)(MEM のOMe);
3.54(m) 及び3.76(m)(MEM のOCH2CH2O); 5.15(MEM のOC
H2O); 4.56(d)(H1'); 3.27(dd)(H2'); 4.05(広いs); 4.
20(d)(H5及び H11); 5.31(dd)(H13); 〜3.31; 4.39(s);
1.80(易動性H)MS:分子ピーク(H)+=705+ IRスペクトル:(CHCl3、ニコレット上) OH:〜3590cm-1 + 会合 C=O:1725cm-1
【0027】例6:3−デ[(2,6−ジデオキシ−3
−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピ
ラノシル)オキシ]−2−メチル−6−O−メチル−3
−オキソエリスロマイシンの9−[O−[(2−メトキ
シエトキシ)メチル]オキシム]工程A :2’−O−アセチル−3−デ[(2,6−ジデ
オキシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リ
ボヘキソピラノシル)オキシ]−2−メチル−6−O−
メチル−3−オキソエリスロマイシンの9−[O−
[(2−メトキシエトキシ)メチル]オキシム] 0.1gの例2の工程Bで製造した化合物と17μlの
よう化メチルを1ccの塩化メチレンに溶解する。次い
で0.046gの硫酸水素テトラブチルアンモニウム、
0.20ccの水及び0.27ccの1N苛性ソーダを
添加する。5時間撹拌し、次いで塩化メチレンで抽出
し、水洗する。有機相を一緒にし、乾燥し、ろ過し、減
圧下に蒸発乾固する。残留物を酢酸エチルで溶解し、ろ
過する。ろ液を蒸発乾固する。得られた130mgの生
成物をシリカでクロマトグラフィーし、酢酸エチル−ト
リエチルアミン(98−2)混合物で溶離する。49m
gの所望化合物を得た。Rf=0.2。分析 NMR:(CDCl3、 300MHz、 δppm) 2位置のプロトンの消失及びH4 プロトンへの変化が認
められた。 0.85(CH3(-CH2)); 0.99-1.28-1.88(CH3(-CH)); 1.25-1.
36-1.50(CH3(-C)); 2.03(OAc); 3.30(dq, J=3 及び7Hz)
(H4); 3.4 〜3.8(OCH2CH2O)工程B :3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチ
ル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)
オキシ]−2−メチル−6−O−メチル−3−オキソエ
リスロマイシンの9−[O−[(2−メトキシエトキ
シ)メチル]オキシム] 0.095gの上記工程Aにおけるように製造した化合
物を5ccのメタノールに溶解する。周囲温度で24時
間撹拌する。得られた95mgの生成物をシリカでクロ
マトグラフィーし、酢酸エチル−トリエチルアミン(9
8−2)混合物で溶離する。46mgの所望化合物を得
た。分析 NMR:(CDCl3、 300MHz、 δppm) 「OAc」基のプロトンの消失が認められた。 0.85(CH3(-CH2)); 0.99-1.18-1.23-1.35(CH3(-CH)); 1.
26-1.32-1.37-1.52(CH3(-C)); 2.82(6-OMe); 3.54 〜3.
76(OCH2CH2O); 3.35-4.33(易動性H) MS:(M+H)+=705+
【0028】例7:3−デ[(2,6−ジデオキシ−3
−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピ
ラノシル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリ
スロマイシン環状11,12−カーボネート
工程A :3−O−デ(2,6−ジデオキシ−3−C−メ
チル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシ
ル)−6−O−メチルエリスロマイシン2’−アセテー
ト環状11,12−カーボネート 876mgの6−O−メチルエリスロマイシン2’−ア
セテート4”−(フェニルメチルカーボネート)環状1
1,12−カーボネート(W.R.ベーカー、J.D.
クラーク、R.L.ステフェン及びK.K.キムにより
J.Org. Chem.,1988, 53, 2340-2345に記載の方法に従
って得た)を25ccのメタノールに加えてなる懸濁液
に952μlの22度Be塩酸を添加する。周囲温度で
16時間撹拌し、メタノールを蒸発させ、媒体を2N苛
性ソーダで中和する。塩化メチレンで抽出し、次いで乾
燥し、ろ過し、蒸発乾固する。残留物をシリカでクロマ
トグラフィー(溶離剤:酢酸エチル−トリエチルアミン
(95−5)混合物)し、463mgの所望化合物を得
た。 NMRスペクトル:(CDCl3、 300MHz、 ppm) 0.87(t)(エチル のCH3) 1.28(s)(6-Me); 0.94(d)-1.11(d)-
1.19(d)-1.24(d)-1.25(d)(他のMe); 1.49(s)(12-Me);
2.06(s)(OAc); 2.26(s)(N(Me)2); 2.5 〜2.75(H2、H3'、H
8) 2.95(q)(H10); 2.92(s)(6-OMe); 3.49(m)(H5' 及びH
3); 3.70(d,J=2.5)(H5); 4.73(s)(H11); 4.58(d,J=7.5)
(H1'); 4.75(dd)(H2'); 5.13(dd)(HY13)工程B :3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチ
ル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)
オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロマイシ
ン環状11,12−カーボネート2’−アセテート 962μlのジメチルスルホキシドお752mgの1−
エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジ
イミド塩酸塩(EDAC)を、368mgの上記工程B
で得た化合物の溶液に添加し、周囲温度で20時間撹拌
し、742mgのトリフルオル酢酸ピリジニウムを添加
し、16時間撹拌し続ける。10ccの水を添加し、次
いで撹拌し、塩化メチレンで抽出し、重炭酸ナトリウム
溶液で洗浄し、乾燥し、ろ過し、蒸発乾固する。残留物
をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル−
トリエチルアミン(98−2)する。278mgの所望
化合物を得た。これはそのまま次の工程に使用する。工程C :3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチ
ル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)
オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロマイシ
ン環状11,12−カーボネート 278mgの工程Bで得た化合物を20ccのメタノー
ルに溶解してなる溶液を周囲温度で16時間撹拌する。
溶媒を蒸発させ、残留物(245mg。これに予め製造
した75mgを加えた)をシリカでクロマトグラフィー
して254mgの所望化合物を得た。これをエーテルか
ら結晶化し、176mgの所期化合物を集めた。 [α]D =+63°( c =0.45 %、 CHCl3) NMRスペクトル:(CDCl3、 400MHz、 ppm) 2.65(s)(6-OCH3); 2.68(m)(H8); 2.97(q)(H10); 3.04
(Q)(H4); 3.18(dd)(H2'); 3.81(q)(H2); 4.31(d)(H1');
4.18(d)(H5); 4.61(H11)
【0029】例8:(9S)3−デ[(2,6−ジデオ
キシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボ
ヘキソピラノシル)オキシ]−9−デオキソ−6−O−
メチル−3−オキソ−9−(1−ピペリジニル)エリス
ロマイシン工程A :9−デオキソ−9−イミノ−6−O−メチルエ
リスロマイシン 8.4gの6−O−メチルエリスロマイシン9−オキシ
ム(EP0180415 号に従って得た)と220ccのメタ
ノール及び酢酸アンモニウムとの溶液に45.1ccの
15%塩化チタンを添加する。周囲温度で3時間撹拌
し、全体を500ccの塩化メチレンに注ぐ。10%炭
酸カリウム溶液を添加し、次いでろ過し、デカンテーシ
ョンし、水洗し、乾燥し、蒸発乾固する。7.08gの
所期化合物を得た。これはそのまま次の工程に使用す
る。工程B :9−アミノ−9−デオキソ−6−O−メチルエ
リスロマイシン 7.0gの上記工程で得た化合物を140ccの酢酸に
溶解し、700mgの80%酸化パラジウムの存在下に
1400ミリバールの水素圧の下で接触還元する。吸収
が終わったならばろ過し、次いで塩化メチレンで洗浄
し、蒸発乾固する。残留物を塩化メチレンで溶解し、重
炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、乾燥し、蒸発乾固し、
6.71gの所期化合物を得た。これはそのまま次の工
程に使用する。工程C :9−アミノ−3−O−デ(2,6−ジデオキシ
−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキ
ソピラノシル)−9−デオキソ−6−O−メチルエリス
ロマイシン 2gの上記工程で得た化合物と40ccの水及び1cc
の22度Be塩酸とを周囲温度で5時間撹拌する。塩化
ナトリウムを添加し、次いで水酸化アンモニウムにより
pHを8〜9にもたらす。塩化メチレンで抽出し、全体
を減圧乾燥する。残留物(2.2g)をシリカでクロマ
トグラフィー(溶離剤:酢酸エチル−メタノール−トリ
エチルアミン(92−5−3))する。1.22gの所
望化合物を得た。これはそのまま次の工程に使用する。工程D :(9S)3−O−デ(2,6−ジデオキシ−3
−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピ
ラノシル)−9−デオキソ−6−O−メチル−9−(1
−ピペリジル)エリスロマイシン 0.59gの工程Cで得た化合物を2.8ccのメタノ
ールに溶解してなる溶液に0.28ccの酢酸と0.6
ccの50%グルタルアルデヒド水溶液を添加し、次い
で0.125gのシアノほう水素化ナトリウムを添加す
る。周囲温度で1時間30分撹拌しする。反応媒体を9
0ccの5%りん酸一ナトリウム水溶液中に注ぎ、塩化
メチレンで抽出し、乾燥し、ろ過し、蒸発乾固する。
0.7gの残留物を得た。これをシリカでクロマトグラ
フィー(溶離剤:酢酸エチル−トリエチルアミン(98
−2))する。328mgの所望化合物を得た。 IRスペクトル:(CHCl3、ニコレット上) OH複合:3490-3390cm-1 C=O:1723cm-1 NMRスペクトル:(CDCl3、 300MHz、 ppm) 0.85(t)(エチル CH3); 1.01(s)(12-CH3); 1.28(s)(6-CH3);
2.72(dq)(H2); 3.84(dl)(H3); ≒1.54(m)(H4); ≒3.
39(マスクされた)(H5); 3.01(s)(6-OMe); 5.02(dd)(H
13); 1.47(m) 及び1.89(m)(エチル CH2); 3.93(s)(H11);
2.85〜3.1(m)(H9及びH10); 2.65( 混合) 及び2.86( 混
合)(NCH2); 4.62(d)(H1'); 3.24(dd)(H2'); 2.50(H3');
1.27(m)及び1.66(m)(4'位置のCH2); 3.53(m)(H5')工程E :(9S)3−O−デ(2,6−ジデオキシ−3
−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピ
ラノシル)−9−デオキソ−6−O−メチル−9−(1
−ピペリジル)エリスロマイシン2’−アセテート16
0mgの工程Dで得た化合物を9ccのアセトンに溶解
してなる溶液に242.8mgの炭酸カリウムと17
2.7μlの無水酢酸を添加する。周囲温度で72時間
撹拌する。反応媒体を氷上に注ぎ、エーテルで抽出し、
重炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、次いで水洗し、乾燥
し、蒸発乾固する。164mgの所望化合物を得た。 IRスペクトル:(CHCl3、ニコレット上) OAc:1743cm-1 ラクトン:1723cm-1 OH:≒3520cm-1 NMRスペクトル:(CDCl3、 250MHz、 ppm) 0.84(t)(エチル CH3); 1.05〜1.30(CH3CHのCH3); 2.11(s)
(OAc); 3.12( 広いs)(6-OMe); ≒5.01(H13); 3.94(広
いs)(H11); 2.6〜3.1(CH2N及びH2、 H9、 H10); 4.85(d)
(H1'); 4.65(dd)(H2'); ≒3.46(H5')工程F :(9S)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−
C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラ
ノシル)オキシ]−9−デオキソ−6−O−メチル−3
−オキソ−9−(1−ピペリジル)エリスロマイシン
2’−アセテート207mgの工程Eで得た化合物より
出発し、489μlのジメチルスルホキシド、374m
gの1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)
カルボジイミド(EDAC)及び374mgのトリフル
オル酢酸ピリジニウムを使用して、例7の工程Bにおけ
るように操作を行う。シリカでクロマトグラフィー(溶
離剤:イソプロピルエーテル−メタノール−トリエチル
アミン(95−5−5))した後、120mgの所期化
合物を得た。これはそのまま次の工程に使用する。工程G :(9S)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−
C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラ
ノシル)オキシ]−9−デオキソ−6−O−メチル−3
−オキソ−9−(1−ピペリジニル)エリスロマイシン 120mgの工程Eで得た化合物より出発して、例7の
上程Cにおけるように操作を行う。シリカ(溶離剤:イ
ソプロピルエーテル−メタノール−トリエチルアミン
(95−5−5))で、次いでマイクロボンダパック
(microbodapack)C18(溶離剤:アセトニトリル−水
(80−20)、0.075%のトリフルオル酢酸を含
む)でクロマトグラフィーした後、70mgの所望化合
物を得た。 [α]D =+39°( c =1%、 CHCl3) NMRスペクトル:(CDCl3、 300MHz、 ppm) 0.88(t)(エチル CH3); 1.08(s)(12-Me); 1.23(s)(6-Me);
1.01 〜1.28; 1.44(d)(CH3CH のCH3); 2.34(s)(N(M
e)2); 2.5〜2.8(CH2N、 H3他); 3.13(s)(OMe); 3.51(m)
(H5'及びH2'); 3.22(s)(H11); 3.98(q)(H2); 4.35(d)(H
1'); 4.78(d)(H5'); 5.05(dd)(H13')
【0030】例9:(9S)9−アミノ−3−デ
[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチル−3−O−メ
チル−α−L−リボヘキソピラノシル)オキシ]−9−
デオキソ−6−O−メチル−3−オキソエリスロマイシ
工程A :3−O−デ(2,6−ジデオキシ−3−C−メ
チル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシ
ル)−9−デオキソ−6−O−メチル−9−[[(フェ
ニルメトキシ)カルボニル]アミノ]エリスロマイシン
2’−(フェニルメチルカーボネート) 1.5gの例8の工程Cで得た化合物と11ccのジオ
キサン及び0.88gの炭酸カリウムとの混合物に0.
8ccのクロル蟻酸ベンジルを添加する。周囲温度で5
時間撹拌し、0.44gの炭酸カリウムと0.4gのク
ロル蟻酸ベンジルを添加する。2時間撹拌し続け、全体
を塩化メチレンで溶解し、水洗し、乾燥し、真空下に蒸
発乾固する。残留物(2.5g)をシリカでクロマトグ
ラフィー(溶離剤:塩化メチレン−メタノール−トリエ
チルアミン(96−3−1))する。1.71gの所望
化合物を得た。これはそのまま次の工程に使用する。工程B :(9S)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−
C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラ
ノシル)オキシ]−9−デオキソ−6−O−メチル−3
−オキソ−9−[[(フェニルメトキシ)カルボニル]
アミノ]エリスロマイシン2’−(フェニルメチルカー
ボネート) 上記工程Aにおけるようにして得た2gの化合物より出
発し、1.5ccのジメチルスルホキシド、1.8gの
EDAC及び1.8gのトリフルオル酢酸ピリジニウム
を使用して、例7の工程Bにおけるように操作を行う。
シリカでクロマトグラフィー(溶離剤:塩化メチレン−
メタノール(97−3))した後、757mgの所望化
合物を得た。これはそのまま次の工程に使用する。工程C :(9S)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−
C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラ
ノシル)オキシ]−9−デオキソ−6−O−メチル−3
−オキソ−9−[[(フェニルメトキシ)カルボニル]
アミノ]エリスロマイシン 0.75gの上記工程で得た化合物より出発して、例7
の工程Cにおけるように操作を行う。シリカでクロマト
グラフィーした後、372mgの所望化合物を得た。こ
れはそのまま次の工程に使用する。工程D :(9S)9−アミノ−3−デ[(2,6−ジデ
オキシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リ
ボヘキソピラノシル)オキシ]−9−デオキソ−6−O
−メチル−3−オキソエリスロマイシン 150mgの工程Cで得た化合物、6ccの酢酸及び1
50mgの9.5%パラジウム担持活性炭を水素圧力
(1.5バール)下に24時間撹拌する。ろ過し、エタ
ノールで洗浄し、蒸発乾固させた後、残留物を塩化メチ
レンで溶解し、2N苛性ソーダ溶液で洗浄し、次いで水
洗し、乾燥し、蒸発乾固する。シリカでクロマトグラフ
ィー(溶離剤:クロロホルム−メタノール−水酸化アン
モニウム(9−1−0.1)した後、50mgの所望化
合物を得た。 NMRスペクトル:(CDCl3、 ppm) 1.88(H8); 1.94(H10); 2.48(H3'); 2.55(H9); 3.08
(H4); 3.28(H2'); 3.65(H1 1); 3.8(H2); 4.3(H1'); 5.1
3(H13)
【0031】例10:11,12−ジデオキシ−3−デ
[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチル−3−O−メ
チル−α−L−リボヘキソピラノシル)オキシ]−6−
O−メチル−3−オキソ−12,11−[オキシカルボ
ニル[(4−フェニルブチル)イミノ]]エリスロマイ
シン工程B :11,12−ジデオキシ−3−O−デ(2,6
−ジデオキシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−
L−リボヘキソピラノシル)−6−O−メチル−12,
11−[オキシカルボニル[(4−フェニルブチル)イ
ミノ]]エリスロマイシン2’−アセテート 649mgの11,12−ジデオキシ−6−O−メチル
−12,11−[オキシカルボニル[(4−フェニルブ
チル)イミノ]]エリスロマイシン2’−アセテート−
4”−(フェニルメチルカーボネート)(この製造は後
記する)を、13ccのメタノール及び0.23ccの
濃塩酸を含有する溶液中に導入する。反応混合物を周囲
温度で48時間撹拌する。メタノールを減圧下に蒸発さ
せ、10ccの酢酸エチルを添加する。氷冷し、中和
し、デカンテーションした後、水性相を酢酸エチルで抽
出し、水洗し、乾燥する。得られた626mgの生成物
をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル−
メタノール(95−5))する。このようにして、33
9mgの所望化合物を得た。 IRスペクトル:(CHCl3) OH:3618、 3594cm-1 C=O:1740, 1711cm-1 C6H5C :1492cm-1 質量スペクトル:分子ピークMH+ =789.6 NMRスペクトル:(CDCl3、 300MHz、 ppm) 2.45-2.8(m) CH2Ph+H2+H8+H3'ax 3.42(dd) H3 3.65(m) CH2N-C=O 4.76(dd) H2'ax 7.11-7.28 芳香族工程B :11,12−ジデオキシ−3−デ[(2,6−
ジデオキシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L
−リボヘキソピラノシル)−6−O−メチル−12,1
1−[オキシカルボニル[(4−フェニルブチル)イミ
ノ]]エリスロマイシン2’−アセテート 300mgの上記工程で製造した化合物及び2.15c
cの塩化メチレンを含有する溶液を、0.4ccのDM
SO、1.6ccの塩化メチレン及び438mgのED
ACを含有する懸濁液に21℃で注ぐ。反応混合物を周
囲温度で30分間撹拌し続ける。15℃に冷却した後、
438mgのトリフルオル酢酸ピリジニウムを1.5c
cの塩化メチレンに溶解してなる溶液を導入する。混合
物を重炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、次いで水洗し、乾
燥し、蒸発乾固する。348mgの所望化合物を得た。 NMR:(CDCCl3、 ppm) 2.07(s) OCOCH3 3.00 H4 3.89(q) H2 3.66(m) CH2=N-C=O 7.10〜7.30 芳香族H 4.74(dd) H2' 工程C :11,12−ジデオキシ−3−デ[(2,6−
ジデオキシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L
−リボヘキソピラノシル)オキシ]−6−O−メチル−
3−オキソ−12,11−[オキシカルボニル[(4−
フェニルブチル)イミノ]]エリスロマイシン 278mgの上記工程で製造した化合物を3ccのメタ
ノールに懸濁させる。反応混合物を周囲温度で60時間
撹拌し続ける。シリカでクロマトグラフィーし、酢酸エ
チル−メタノール混合物(95−5)で溶離した後、メ
タノールを減圧下に蒸発させる。得られた280mgの
生成物を塩化メチレン−メタノール混合物(9−1)を
使用してクロマトグラフィーする。133mgの所望化
合物を得た。 IRスペクトル OH:3440cm-1 C=O:1747、 1711cm-1 NMR 2.49(dd) H3' 3.20(dd) H2' 3.10 H4 3.86 H2 例10の出発物質の製造 1.17gの10,11−ジデヒドロ−11−デオキシ
−6−O−メチルエリスロマイシン2’−アセテート−
12−(1H−イミダゾール−1−カルボキシレート)
−4”−(フェニルメチルカーボネート)(J. Org. Ch
em. (1988), 53, 2340-2345 に記載のように製造)、
2.7ccのシアン化メチレン及び0.27ccの水を
含む懸濁液に830mgの4−フェニルブチルアミンを
アルゴン雰囲気下に導入する。反応混合物を50℃で2
時間撹拌し続ける。150ccの塩化メチレンを添加
し、全体を氷浴で冷却する。30ccの0.5Mりん酸
水素ナトリウム溶液を添加し、次いでデカンテーション
し、塩化メチレンで抽出し、洗浄し、乾燥し、蒸発乾固
する。得られた生成物をシリカでクロマトグラフィー
(溶離剤:酢酸エチル−メタノール(95−5))す
る。952mgの所望化合物を得た。 IRスペクトル C=O 1739, 1711cm-1 C6H5C 1495cm-1 紫外スペクトル inf: 216nm E1=103 inf: 295nm E1=4.5 inf: 266nm E1=3 質量スペクトル 分子ピーク=1081.7=MH+ NMRスペクトル(CDCl3、 400MHz) 2.5 〜2.8 NCH2C6H5H8H3' 3.66 CO-NCH2 3.60 H1' 7.10〜7.25 C6H5(CH2)4 7.35 C6H5CH2O
【0032】例11:11,12−ジデオキシ−3−デ
[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチル−3−O−メ
チル−α−L−リボヘキソピラノシル)オキシ]−6−
O−メチル−3−オキソ−12,11−[オキシカルボ
ニル[[2−[メチル(フェニルメチル)アミノ]エチ
ル]イミノ]]エリスロマイシン工程A :11,12−ジデオキシ−3−O−デ(2,6
−ジデオキシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−
L−リボヘキソピラノシル)−6−O−メチル−12,
11−[オキシカルボニル[[2−[メチル(フェニル
メチル)アミノ]エチル]イミノ]]エリスロマイシン 460mgの後で製造する化合物(出発物質)、9.2
ccのメタノール及び0.23ccの濃塩酸溶液を周囲
温度で1時間撹拌し、次いで周囲温度で48時間撹拌す
る。残留物を水で溶解し、次いで塩化メチレンで溶解す
る。塩基性pHにした後、全体をデカンテーションし、
水性相を塩化メチレンで抽出し、洗浄し、乾燥し、蒸発
乾固する。得られた生成物をシリカでクロマトグラフィ
ー(溶離剤:酢酸エチル−メタノール(9−1))す
る。このようにして312mgの所望化合物を得た。 IRスペクトル OH:3618、 3594cm-1 C=O:1742、 1709cm1 NMRスペクトル(CDCl3、 300MHz) 1.42(S) 6Me 1.24(s) 12Me 2.20(s) CH3-N= 3.48(d)-3.77(d) =N-CH2 -C6H5 3.80(m)-3.95(m) CO-N-CH2 3.40 -CH2-N(CH3)(C6H5) 4.74 H2' 工程B :11,12−ジデオキシ−3−デ[(2,6−
ジデオキシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L
−リボヘキソピラノシル)オキシ]−6−O−メチル−
12,11−[オキシカルボニル[[2−[メチル(フ
ェニルメチル)アミノ]エチル]イミノ]]エリスロマ
イシン2’−アセテート 200mgの上記工程で製造した化合物を1.4ccの
塩化メチレンに溶解してなる溶液を、286mgのED
AC、0.26mgのDMSO及び1.2ccの塩化メ
チレンを含有する懸濁液に添加する。反応混合物を周囲
温度で30分間撹拌し続ける。14℃に冷却した後、2
86mgのトリフルオル酢酸ピリジニウムと1.3cc
の塩化メチレンを含有する溶液をこの温度で導入する。
15℃で30分間撹拌し、混合物を周囲温度に戻す。重
炭酸ナトリウムで処理した後、混合物を塩化メチレンで
希釈し、洗浄し、乾燥し、蒸発乾固する。350mgの
粗製の所望化合物を得た。これをシリカでクロマトグラ
フィー(溶離剤:酢酸エチル−メタノール(95−
5))する。145mgの所望化合物を得た。 UVスペクトル ・EtOH中 max 258nm ε=400 ・EtOH-NaOH(0.1N) 中 max 292 ε=20100 ・β-ケトエステル の存在 NMRスペクトル 2.17(s) =N(CH2C6H5)(CH3) 2.25(s) -N(CH3)(CH3) 3.48(d) 〜3.70(d) N-CH2OΦ 3.80 H2 3.87 O-CO-N(CH2) 4.87(dd) H2' 7.17〜7.30 芳香族工程C :11,12−ジデオキシ−3−デ[(2,6−
ジデオキシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L
−リボヘキソピラノシル)オキシ]−6−O−メチル−
3−オキソ−12,11−[オキシカルボニル[[2−
[メチル(フェニルメチル)アミノ]エチル]イミ
ノ]]エリスロマイシン 106mgの上記工程で得た化合物と6ccのメタノー
ルを周囲温度で16時間撹拌下に保持する。メタノール
を蒸発させる。得られた106mgの生成物をシリカで
クロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル−トリエチル
アミン(95−5))し、55mgの所望化合物を得
た。 MRスペクトル 1.34(s) 12Me 1.48(s) 6Me 2.18(s) N(CH2 Φ)-CH3 2.27(s) N(CH3)(CH3) 3.00〜3.24 H2'及びH4 3.57(s) H11 4.23(d) 及び4.28(d) H1' 及びH5 2.48 H3'、 H8及びCH2 Φ例11の出発物質の製造 、11,12−ジデオキシ−6
−O−メチル−12,11−[オキシカルボニル[[2
−[メチル(フェニルメチル)アミノ]エチル]イミ
ノ]]エリスロマイシン工程A :11,12−ジデオキシ−6−O−メチル−1
2,11−[オキシカルボニル[[2−[(フェニルメ
チル)アミノ]エチル]イミノ]]エリスロマイシン 1.1gの10,11−ジデヒドロ−11−デオキシ−
6−O−メチルエリスロマイシン2’−アセテート−1
2−(1H−イミダゾール−1−カルボキシレート)−
4”−(フェニルメチルカーボネート)を2.7ccの
シアン化メチルと0.27ccの水との混合物に導入す
る。次いで1.8ccのN−ベンジルエチレンジアミン
を導入する。反応混合物を50℃で5時間撹拌下に保持
する。混合物を塩化メチレンで希釈し、氷浴で冷却す
る。30ccの0.5M燐酸一ナトリウム溶液を添加
し、次いでデカンテーションし、塩化メチレンで抽出
し、洗浄し、乾燥し、蒸発乾固する。得られた1.6g
の生成物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:酢酸
エチル−メタノール(98−2))する。800mgの
所望化合物を得た。物理的分析 赤外スペクトル C=O 1739、 1710cm-165 1494cm-1 質量スペクトル 分子ピーク=1082=MH+ NMRスペクトル(CDCl3、 300MHz) 3.07(q) H10 3.34(s) 3"OMe 3.61(s) H11 3.83(m) CH 2N-C=O及びN-CH 2Ph 7.15〜7.35 N-CH2Ph 芳香族工程B :11,12−ジデオキシ−6−O−メチル−1
2,11−[オキシカルボニル[[2−[メチル(フェ
ニルメチル)アミノ]エチル]イミノ]]エリスロマイ
シン 13ccの塩化メチレンと0.60gの上記工程で製造
した化合物を含有する溶液に50ccの37%ホルムア
ルデヒド溶液を添加する。反応混合物を周囲温度で4時
間、次いで70℃で7時間撹拌下に保持する。塩化メチ
レンで希釈した後、水を加え、この混合物を重炭酸ナト
リウムで中和し、次いでデカンテーションし、洗浄し、
乾燥し、蒸発乾固する。シリカえクロマトグラフィー
(溶離剤;酢酸エチル−メタノール(95−5))した
後、480mgの所望化合物を得た。分析 IRスペクトル C=O 1737、 1708cm-1 C65 1494cm-1 MSスペクトル MH+ =1096.9+ NMRスペクトル 1.12(s) 12Me 1.40(s) 6Me 2.19 CH3-N= 2.96(s) 6OMe 3.62(sl) H11 4.30(m) H5"ax 4.73(dd) H2"ax 7.15〜7.39 芳香族 2.87 H2
【0033】例12:3−デ[(2,6−ジデオキシ−
3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソ
ピラノシル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエ
リスロマイシンの9−O−(2−ブロムエチル)オキシ
ム 1.18gの例3で得た化合物を20ccのメタノール
に溶解してなる溶液にpHを3に保持しながら周囲温度
で24時間撹拌した後、880mg、次いで440mg
の2−ブロムエチルヒドロキシルアミン臭化水素酸を添
加する。さらに18時間撹拌した後、30ccの水を添
加し、結晶を分離し、6,0℃で乾燥し、1.2gの
(9R)9−デオキソ−12−デオキシ−3−デ
[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチル−3−O−メ
チル−α−L−リボヘキソピラノシル)オキシ]−9,
12−エポキシ−9−メトキシエリスロマイシン(MP
=188〜190℃)を10ccの水中で得た。濃水酸
化アンモニウムをpH=11〜12まで添加する。酢酸
エチルで抽出し、次いで減圧下に濃縮し、1.0gの所
期化合物を得た。Mp=150〜152℃。 NMRスペクトル(CDCl3、 ppm) 0.86(t) エチル CH3 1.23(s) 12-Me 1.40(s) 6-Me 2.26(s) N(Me)2 2.45(m) H3 2.60(pl) H10 2.76(s) 6-Me 3.13(m) H4 3.18(dd) H2' 3.52(m) CH2Br 3.55(m) H'5 3.70 H8 E 異性体 3.86(q) H2 3.90(d) H11 4.18〜4.35 H'1、 H5及びNOCH2 + 易動性1H 5.17(dd) H13 3.26(s) 3.45 易動性1H
【0034】例13:(E)3−デ[(2,6−ジデオ
キシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボ
ヘキソピラノシル)オキシ]−6−O−メチル−3−オ
キソエリスロマイシンの9−O−[2−[[2−(1−
ピロリジニルエチル]アミノ]エチル]オキシム 0.3gの例12で得た化合物と3ccのN−アミノエ
チルピロリジンを周囲温度で72時間撹拌し、5ccの
エタノールを加え、さらに24時間撹拌し、次いで減圧
下に蒸発させ、乾燥抽出物(0.35g)をシリカでク
ロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル−メタノール−
トリエチルアミン90−8−2)し、0.204gの所
望化合物を集めた。 NMRスペクトル(CDCl3、 300MHz、 ppm) 0.86 CH3-CH2 0.98 8-CH3 1.22 12-CH3 1.38 6-CH3 1.75-2.49 ピロリジニルのCH2 2.26 -N-(CH3)2 2.4 〜2.6 2.74 NH-CH2-CH2-(1-ピロリジニル) 2.8 〜3 4.0〜4.2 O-CH 2-CH 2-NH 3.19 H'2 3.86 H2 5.17 H13
【0035】例3で得た化合物と塩酸塩の形の適当なヒ
ドロキシルアミン誘導体より出発して、例12における
ようにして操作を行なうことにより、下記の例の化合物
を製造した。例14 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[(2−ピリジニル)メチル]オキ
シム Mp=167−169℃。例15 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[(3,5−ジメチル−4−イソオ
キサゾリル)メチル]オキシム Mp=222−224℃。例16 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[(4−ニトロフェニル)メチル]
オキシム Rf=0.40(CH2 Cl2 −MeOH9−1)例17 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−オキシム Mp=268−270℃。
【0036】例12で得た臭素誘導体と適当なアミン反
応体から出発して、例13におけるように操作すること
により、下記の例に記載の化合物を製造した。例18 :3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチ
ル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)
オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリトロマイシ
ンの9−O−[2−(ジエチルアミノ)エチル]オキシ
ム Mp=158−160℃。[α]D =+2.5°(c=
0.5%、CHCl3)例19 :3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチ
ル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)
オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロマイシ
ンの9−O−[2−(1−ピロリジニル)エチル]オキ
シム Mp=210−212℃。[α]D =+8.5°( c=
0.85%、CHCl3)例20 :3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチ
ル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)
オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロマイシ
ンの9−O−[2−(1−アゼチジニル)エチル]オキ
シム Rf=0.37(AcOEt−MeOH−TEA90−
5−5)例21 :3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチ
ル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)
オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロマイシ
ンの9−O−[2−(4−モルホリニル)エチル]オキ
シム Mp=198−200℃。[α]D =+5〜+8°(c
=0.85%、CHCl3)例22 :3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチ
ル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)
オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロマイシ
ンの9−O−[2−(1−ピペリジニル)エチル]オキ
シム Mp=194−196℃。[α]D =+10°(c=
0.6%、CHCl3)例23 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−(プロピルアミノ)エチル]
オキシム Rf=0.34(AcOEt−TEA95−5)例24 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−[[2−(ジメチルアミノ)
エチル]アミノ]エチル]オキシム Rf=0.17(AcOEt−MeOH−TEA80−
10−10)例25 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−(4−メチル−1−ピペラジ
ニル)エチル]オキシム Mp=160−162℃。[α]D =−3°(c=0.
4%、MeOH)例26 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−[[3−(ジメチルアミノ)
プロピル]アミノ]エチル]オキシム [α]D =+6°(c=1%、CHCl3)例27 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−[[2−(1−ピペリジニ
ル)エチル]アミノ]エチル]オキシム [α]D =+4°(c=0.7%、CHCl3)例28 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−[(1−メチルエチル)アミ
ノ]エチル]オキシム Mp=188−190℃。[α]D =+7°(c=1
%、CHCl3)例29 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−(ヘキサヒドロ−1H−アゼ
ピン−1−イル)エチル]オキシム Mp=206−208℃。[α]D =+1.2°(c=
0.85%、MeOH)例30 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−(2−アミノエチル]オキシム Mp=190−192℃例31 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−[(2−プロピニル)アミ
ノ]エチル]オキシム Mp=152−154℃例32 :3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチ
ル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)
オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロマイシ
ンの9−O−[2−[(フェニルメチル)アミノ]エチ
ル]オキシム Mp=200℃、次いで222−224℃。[α]D
+2°(c=1%、MeOH)例33 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−[メチル(フェニルメチル)
アミノ]エチル]オキシム Mp=130−135℃。[α]D =+15°(c=
0.9%、MeOH)例34 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−[[3−(ジエチルアミノ)
プロピル]メチル]アミノ]エチル]オキシム Rf=0.2(CH2 Cl2 −MeOH−NH4 OH9
0−10−1)
【0037】例35:(3S)3−O−デ[(2,6−
ジデオキシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L
−リボヘキソピラノシル)オキシ]−6−O−メチル−
3−オキソエリスロマイシンの9−O−[2−(ジメチ
ルアミノ)エチル]オキシム 0.59gの例3の工程Aで得た化合物及び0.27g
のN,N−ジメチルアミノエトキシアミン塩酸塩を12
ccのメタノールに溶解してなる溶液を4時間加熱還流
する。この溶液を含水エタノールで溶解し、水酸化アン
モニウムでpH=8〜9となし、次いでデカンテーショ
ンし、洗浄し、乾燥し、ろ過し、減圧下に蒸発乾固す
る。残留物(0.76g)をシリカでクロマトグラフィ
ー(溶離剤:酢酸エチル−トリエチルアミン95−5)
し、ヘキサンから結晶化して158mgの所期化合物を
得た。Mp=156℃。 NMRスペクトル:(CDCl3、 300MHz) 0.87(t) エチル CH3 1.33-1.41(s) 6及び12メチル 2.72(d,q) H2 3.48(d, J=10.5Hz) H3 〜3.72(d, J=1.5Hz) H5 4.32(d,d) H13 1.84(d, J=1Hz) 10メチル 5.77 H11 4.21 OCH2 2.66 CH2N 4.39(d) H'1 3.25(dd) H'2 2.48(m) H'3
【0038】例36:(E)3−デ[(2,6−ジデオ
キシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボ
ヘキソピラノシル)オキシ]−11−デオキシ−10,
11−ジデヒドロ−6−O−メチル−3−オキソエリス
ロマイシンの9−O−[2−(ジメチルアミノ)エチ
ル]オキシム工程A :(3S)3−O−デ[(2,6−ジデオキシ−
3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソ
ピラノシル)オキシ]−6−O−メチルエリスロマイシ
ンアセテートの9−O−[2−(ジメチルアミノ)エチ
ル]オキシム 228mgの例35で得た化合物、96mgの炭酸カリ
ウム及び0.05ccの無水酢酸を4ccのアセトン中
で周囲温度で24時間撹拌する。さらに19mgの炭酸
カリウムと0.010ccの無水酢酸を添加し、4時間
撹拌し続ける。反応混合物を氷上に注ぎ、水酸化アンモ
ニウムでpHを8〜9にする。塩化メチレンで抽出し、
次いでで乾燥し、ろ過し、減圧下に蒸発乾固する。得ら
れた250mgの生成物をシリカでクロマトグラフィー
(溶離剤:酢酸エチル−トリエチルアミン95−5)
し、175mgの所望化合物を集めた。 NMRスペクトル:(CDCl3、 300MHz) 0.86(t) 15メチル 0.90(d) 6メチル 1.25-1.40 6 及び12メチル 1.83(d, J=1Hz) 10 CH3 2.06(s) OAc 2.73 H2 3.41(d, J=10Hz) 4.91(dd) H13 5.74(d, J=1Hz) H11 4.18(t) OCH2N 2.66 CH2N 4.60(d) H'1 4.77(dd) H'2 工程B :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−11−デオキシ−10,11−ジデヒ
ドロ−6−O−メチル−3−オキソエリスロマイシンの
9−O−[2−(ジメチルアミノ)エチル]オキシム 240μlのジメチルスルホキシドと240mgの1−
エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジ
イミド(EDAC)を2ccの塩化メチレンに溶解して
なる溶液に、160mgの上記工程Aで得た化合物を2
ccの塩化メチレンに溶解してなる溶液を添加する。周
囲温度で30分間撹拌し、次いで15℃に冷却し、温度
を保持しながら、260mgのトリフルオル酢酸ピリジ
ニウムを2ccの塩化メチレンに溶解したなる溶液を添
加する。この溶液を15℃で1時間撹拌し、5ccの水
を添加し、pHを水酸化アンモニウムで8〜9にもたら
し、塩化メチレンで抽出し、水洗し、乾燥し、ろ過し、
減圧下に蒸発乾固し、10ccのメタノールで溶解し、
16時間撹拌し、減圧下に蒸発乾固する。乾燥抽出物
(0.3g)をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:
酢酸エチル−トリエチルアミン95−5)する。62m
gの所望化合物を得た。 NMRスペクトル:(CDCl3、 300MHz) 0.86(t) 15CH3 1.77及び1.85 10CH3 3.89 H2 4.91(dd) H13 5.66及び5.76 H11 4.10〜4.30 OCH2 2.65 CH2N 3.20(dd) H'2 2.26及び2.30 N(CH3)2
【0039】例37:(E)3−デ[(2,6−ジデオ
キシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボ
ヘキソピラノシル)オキシ]−6−O−メチル−3−オ
キソエリスロマイシンの9−O−(3−ピペリジニル)
オキシム a)0.6gの例3で得た化合物と0.86gの後記の
製造例で得た化合物を12ccのメタノールに溶解して
なる溶液を65℃に6時間加熱する。溶媒を蒸発させ、
残留物を10ccの塩化メチレンで溶解し、10ccの
水を加え、pHを水酸化アンモニウムで8にする。デカ
ンテーションし、塩水で洗浄し、乾燥し、減圧下に蒸発
乾固した後、残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶
離剤:酢酸エチル−トリエチルアミン98−2)し、5
50mgの中間体ベンジルオキシカルボニル化合物を得
た。 b)水添分解 250mgの上で得た化合物を10ccのメタノールに
溶解してなる溶液と100mgのパラジウム担持活性炭
とを1.5バールの水素圧下に周囲温度で12時間撹拌
する。ろ過し、メタノールで洗浄した後、ろ液を減圧下
に蒸発乾固する。残留物(200mg)をシリカでクロ
マトグラフィー(溶離剤:クロロホルム−メタノール−
水酸化アンモニウム92−8−0.5)し、160mg
の所望化合物を得た。 NMRスペクトル:(CDCl3、 300MHz) 0.86(t) エチル CH3 1.39(s,d) 6 メチル 2.26(s) N(CH3)2 2.58 H10 2.67-3.16 -CH2 -NH-CH 2- 3.58 H'5 3.70 H8 3.87 H3 例37の出発物質の製造 :O−[1−(ベンジルオキシ
カルボニル)ピペリジン−3−イル]ヒドロキシルアミ
ン塩酸塩工程A :1−ベンジルオキシカルボニル−3−ヒドロキ
シピペリジン 8.2gの炭酸カリウム、そして7.7ccのクロル蟻
酸ベンジルを10ccのジオキサンに溶解してなる溶液
を、5gの3−ヒドロキシピペリジンを50ccのジオ
キサンに溶解してなる溶液に0℃で滴下する。周囲温度
で撹拌し、さらに5gの炭酸カリウム、20ccの水、
そして3ccのクロル蟻酸ベンジルを10ccのジオキ
サンに溶解してなる溶液を添加する。全体を周囲温度で
1時間撹拌し、減圧下に濃縮し、10ccの水で溶解
し、エーテルで抽出し、乾燥し、減圧下に濃縮する。シ
リカでクロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル−ヘキ
サン1−1)した後、10.8gの所望化合物を得た。 IRスペクトル(CHCl3 ) OH 3612cm-1 C=O 1693cm-1 芳香族 1498cm-1 工程B :N−[[1−(ベンジルオキシカルボニル)ピ
ペリジン−3−イル]オキシ]フタルイミド 10.8gの工程Aで得た化合物、8.24gのN−ヒ
ドロキシフタルイミド及び13.25gのトリフェニル
ホスフィンを225ccのテトラヒドロフランに溶解し
てなる溶液に、10.05gのアゾジカルボン酸ジエチ
ルを25℃で30分間で添加する。4時間撹拌し、次い
で減圧下に溶媒を蒸発させる。得られた残留物をシリカ
でクロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル−ヘキサン
1−1)し、13gの所期化合物を2個のジアステレオ
マーとして得た。 IRスペクトル(CHCl3 ) COフタルイミド 1790、 1732cm-1 COカルボベンジルオキシ 1693cm-1 工程C :O−[1−(ベンジルオキシカルボニル)ピペ
リジン−3−イル]ヒドロキシルアミン塩酸塩 11.9gの工程Bで得た化合物と1.46ccのヒド
ラジン水和物を60ccのエタノールに溶解してなる溶
液を60℃で1時間撹拌する。不溶部分をろ別し、次い
でエーテルで洗浄し、ろ液を減圧下に蒸発乾固する。残
留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチ
ル−ヘキサン4−6)し、6gの所期化合物を塩基の形
で得た。 塩酸塩の製造 上で得た。化合物をエーテル−メタノール混合物に溶解
し、溶液を塩酸エーテルで処理する。分離し、エーテル
で洗浄し、乾燥した後、6.32gの所期塩酸塩を得
た。 IRスペクトル(CHCl3 ) ONH2 3330、 1586cm-1 CO 1688cm-1 フェニル 1498cm-1 NMRスペクトル:(CDCl3、 250MHz) 1.42-1.74 H4-H5 3.10-4.9 H2-H3 5.13 CH2 -Bz 5.23 NH3 7.36 ベンジル
【0040】例38:3−デ[(2,6−ジデオキシ−
3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソ
ピラノシル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエ
リスロマイシンの9−O−[2−[(2−メトキシエチ
ル)アミノ]エチル]オキシム工程A :3−O−デ(2,6−ジデオキシ−3−C−メ
チル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシ
ル)−6−O−メチルエリスロマイシンの9−O−[2
−(ブロム)エチル]オキシム 例12におけるようにして、例3の工程Aで製造した3
−O−デ(2,6−ジデオキシ−3−C−メチル−3−
O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)−6−O
−メチルエリスロマイシンに臭素反応剤を反応させるこ
とにより操作を行う。所期化合物を得た。工程B :3−O−デ(2,6−ジデオキシ−3−C−メ
チル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシ
ル)−6−O−メチルエリスロマイシンの9−O−[2
−[(2−メトキシエチル)アミノ]エチル]オキシム 0.72mgの工程Aで得た化合物を3ccの2−メト
キシエチルアミンに溶解してなる溶液を周囲温度で20
時間撹拌する。溶媒を減圧下に蒸発させ、残留物をシリ
カでクロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル−トリエ
チルアミン−メタノール9−0.5−0.5)し、73
0mgの所期化合物を得、これをエーテルから結晶化す
る。工程C :3−O−デ(2,6−ジデオキシ−3−C−メ
チル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシ
ル)−6−O−メチルエリスロマイシンの9−O−[2
−[(ベンジルオキシカルボニル)−(2−メトキシエ
チル)アミノ]エチル]オキシムの2’−O−(フェニ
ルメチルカーボネート) 620mgの工程Bで得た化合物と490mgの炭酸カ
リウムを10ccのジオキサン中に含む混合物に、5c
cのジオキサンに溶解した0.44ccのクロル蟻酸ベ
ンジルを滴下する。周囲温度で3時間撹拌した後、さら
に0.4ccのクロル蟻酸エチルと500mgの炭酸カ
リウムを添加し、周囲温度で20時間撹拌する。3cc
の水を加え、30分間撹拌し、次いで酢酸エチルで抽出
し、乾燥し、溶媒を蒸発させる。シリカでクロマトグラ
フィー(溶離剤:酢酸エチル)した後、616mgの所
期化合物を得た。Rf=0.27。工程D :3−O−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C−
メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシ
ル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロマ
イシンの9−O−[2−[(ベンジルオキシカルボニ
ル)−(2−メトキシエチル)アミノ]エチル]オキシ
ムの2’−O−(フェニルメチルカーボネート) 0.670ccのジメチルスルホキシドを4ccの塩化
メチレンに溶解したものに724mgの1−エチル−3
−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(E
DAC)を添加し、616mgの工程Cで得た化合物を
4ccの塩化メチレンに溶解してなる溶液を添加し、次
いで温度を約16℃に保持しながら15分間撹拌する。
5ccの塩化メチレンに溶解した724mgのトリフル
オル酢酸ピリジニウムを滴下する。3時間下撹拌した
後、10ccの塩化メチレンと10ccの水を添加し、
全体を水酸化アンモニウムを使用してpH=4にアルカ
リ性にし、次いでデカンテーションし、塩化ナトリウム
飽和水溶液で洗浄し、乾燥し、溶媒を蒸発させる。シリ
カでクロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル)し、3
69mgの所期化合物を得た。Rf=0.28。工程E :3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチ
ル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)
オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロマイシ
ンの9−O−[2−[(2−メトキシエチル)アミノ]
エチル]オキシム 369mgの工程Dで得た化合物を10ccのメタノー
ル中で100mgの9.5%パラジウム担持活性炭の存
在下に水素化(1.5バール)する。反応媒体を20時
間撹拌し、次いでろ過し、メタノールで洗浄し、溶媒を
蒸発させ、残留物をシリカでクロマトグラフィーする。
200mgの所期化合物を得た。Rf=0.23。
【0041】例39:(E)3−デ[(2,6−ジデオ
キシ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボ
ヘキソピラノシル)オキシ]−6−O−メチル−3−オ
キソエリスロマイシンの9−O−[2−[(3−(ジエ
チルアミノ)プロピル]メチル]アミノ]エチル]オキ
シム 例34に記載のように製造した100mgの(E)3−
デ[(2,6−ジデオキシ−3−C−メチル−3−O−
メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)オキシ]−6
−O−メチル−3−オキソエリスロマイシンの9−O−
[2−[[3−(ジエチルアミノ)プロピル]アミノ]
エチル]オキシムを6ccのクロロホルムに溶解してな
る溶液に7.5μlの蟻酸及び14.8μlのホルムア
ルデヒドを添加する。全体を周囲温度で1時間撹拌し、
次いで3時間加熱還流し、周囲温度に戻し、10ccの
水を加え、反応媒質を苛性ソーダを使用してpH=9ま
で塩基性にし、含水塩化メチレンで抽出し、有機相を乾
燥し、溶媒を減圧下に除去する。96mgの粗生成物を
集め、これをシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:酢
酸エチル−トリエチルアミン95−5)する。残留物を
塩化メチレンで溶解し、ろ過し、溶媒を蒸発させる。6
9mgの所期化合物を得た。 NMRスペクトル(ppm) 1.02(t) 2.52(q) NCH2CH3 2.35〜2.75 NCH2 CH2(6H)
【0042】例23、24、26、及び13で得た化合
物を出発時に使用して例39におけるように操作するこ
とにより、それぞれ例40〜43の化合物、そしてさら
に各種の化合物を製造した。例40 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−(メチルプロピルアミノ)エ
チル]オキシムRf=0.39(AcOEt−TEA9
6−4)例41 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−[[2−(ジメチルアミノ)
エチル]メチルアミノ]エチル]オキシム Rf=0.25(ETIso−MeOH−TEA80−
10−10)例42 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−[[3−(ジメチルアミノ)
プロピル]メチルアミノ]エチル]オキシム Rf=0.30(CH2 Cl2 −MeOH−TEA94
−3−3)例43 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−[[2−(1−ピロリジニ
ル)エチル]メチルアミノ]エチル]オキシム Rf=0.2(AcOEt−MeOH−TEA92−5
−3)例44 :3−デオキシ−2,3−ジデヒドロ−3−O−
デ(2,6−ジデオキシ−3−C−メチル−3−O−メ
チル−α−L−リボヘキソピラノシル)−6−O−メチ
ルエリスロマイシンの9−O−[(2−メトキシエトキ
シ)メチル]オキシム [α]D =−32°(c=1%、CHCl3例45 :3−デ(2,6−ジデオキシ−3−C−メチル
−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)−
6−O−メチル−3−オキソエリスロマイシンの9−O
−[(2メチル−4−チアゾリル)メチル]オキシム Mp=116−118℃例46 :3−O−デ(2,6−ジデオキシ−3−C−メ
チル−α−L−リボヘキソピラノシル)−3−O−(フ
ェニルアミノカルボニル)エリスロマイシンの9−O−
[(2−メトキシエトキシ)メチル]オキシム [α]D =−18.5°(c=1%、CHCl3例47 :3−デ(2,6−ジデオキシ−3−C−メチル
−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノシル)オ
キシ−6−O−メチル−3−オキソエリスロマイシン例48 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−[[(テトラヒドロ−2−フ
リル)メチル]エチル]オキシム Mp=129−131℃例49 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−[(2−プロペニル)アミ
ノ]エチル]オキシム Mp=174−176℃例50 :(Z)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−オキシム Mp=228−230℃例51 :(2R)(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ
−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキ
ソピラノシル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソ
エリスロマイシンの(2−アミノ−3−メトキシ−3−
オキソプロピル)オキシム Rf=0.33(ETIso−MeOH−TEA85/
10/5)例52 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−[(3−(1H−イミダゾー
ル−1−イル)プロピル)アミノ]エチル]オキシム Rf=0.4(CH2 Cl2 −MeOH−NH4 OH9
0/10/1)例53 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[(2−ピペリジニル)メチル]オ
キシム Rf=0.5(AcOEt−MeOH−TEA10/5
/5)例54 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−(3−ピペリジニル)オキシム 異性体A Rf=0.35(CHCl3 −MeOH−NH4 OH9
2/8/0.5)例55 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−(3−ピペリジニル)オキシム 異性体B Rf=0.32(CHCl3 −MeOH−NH4 OH9
2/8/0.5)例56 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−(メチル(2−プロペニル)
アミノ)エチル]オキシム Mp=164−166℃例57 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[2−(メチルアミノ)エチル]オ
キシム Mp=163−165℃例58 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[3−(1−(ジフェニルメチル)
アゼチジニル)オキシム Rf=0.2(AcOEt−TEA98/2)例59 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−[(1−メチル−2−ピペリジニ
ル)メチル]オキシム Rf=0.38(AcOEt−TEA95/5)例60 :(E)3−デ[(2,6−ジデオキシ−3−C
−メチル−3−O−メチル−α−L−リボヘキソピラノ
シル)オキシ]−6−O−メチル−3−オキソエリスロ
マイシンの9−O−(1−アザビシクロ(2.2.2)
オクタン−3−イル)オキシム (ジオキソラート) Mp=182−184℃
【0043】式(I)の化合物の例として、上記の例に
相当する下記の化合物が挙げられる。ここで、X及び
X’は下記の意味を有する。
【化21】
【化22】
【化23】
【化24】
【化25】
【化26】
【0044】製薬組成物の例 下記の処方を有する錠剤を調製した。 (a) ・例1の化合物・・・150mg ・賦形剤・・・1gとするに要する量 (賦形剤の詳細:でんぷん、タルク、ステアリン酸マグ
ネシウム) (b) ・例7の化合物・・・150mg ・賦形剤・・・1gとするに要する量 (賦形剤の詳細:でんぷん、タルク、ステアリン酸マグ
ネシウム) (c) ・例10の化合物・・・150mg ・賦形剤・・・1gとするに要する量 (賦形剤の詳細:でんぷん、タルク、ステアリン酸マグ
ネシウム)
【0045】本発明の化合物の薬理学的研究 A)インビトロでの活性 液体培地中での希釈法 一組の試験管を用意し、これらに同一量の無菌栄養培地
を分配する。各試験管に被検化合物を量を増大しながら
分配し、次いで各試験管に細菌を播種する。37℃のオ
ーブンで24時間インキュベートした後、光透過法によ
り増殖の抑止率を決定する。これにより最小抑止濃度
(MIC)(μg /cm3 表わされる)が評価できる。下
記の結果が得られた。
【0046】
【表1】
【0047】
【表2】
【0048】
【表3】
【0049】
【表4】
【0050】
【表5】
【0051】
【表6】
【0052】
【表7】
【0053】B)インビボでの活性 黄色葡萄球菌(Staphylococcus aureus )による実験的
感染 マウスに黄色葡萄球菌を実験的に感染させることにより
例2の化合物の作用を研究する。黄色葡萄球菌No.54,14
6 をpH7で22時間培養し、生理学的食塩水で1/6 に
希釈したもの0.5ccを体重18〜20gの10匹づ
つの雄のマウスのバッチに腹腔内注射することにより感
染させる。所定量の被検化合物を感染時及び感染させて
から4時間後に経口投与する。下記の結果が得られた。
【表8】 全投与量DP50は12.49mg/kg である(リード−ミ
ュンシュ法)。結論 本発明の化合物はインビボでの良好な抗菌活性を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジャンフランソワ・シャント フランス国グレシ・アン・フランス、ア レ・エオル、2 (72)発明者 アレクシス・ドニ フランス国パリ、リュ・ルブラン、4 (72)発明者 クロード・フロマンタン フランス国パリ、リュ・ド・フランド ル、16 (72)発明者 オディル・ル・マルトレ フランス国パリ、アブニュ・ド・ベルサ イユ、42 (56)参考文献 特開 昭62−84095(JP,A) 特開 昭61−251696(JP,A) 特開 昭63−233985(JP,A) 特開 昭63−183597(JP,A) THE JOURNAL OF AN TIBIOTICS,Vol.43,N o.5(MAY 1990),p.570−573 Journal of Medici nal Chemistry,Vol. 17,No.9(1974)p.953−956 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07H 17/00,17/08 A61K 31/7048 - 31/7052 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次式(I) 【化1】 {ここで、X及びX' はそれらが結合している炭素原子
    と一緒になってC=O又はC=NORを形成し、ここ
    で、Rは、 ・水素原子、 ・少なくとも1個の窒素原子を含有し、他のヘテロ原子
    も含有し得る12員までの連結を含む飽和又は不飽和の
    芳香族又は非芳香族一又は二環式複素環式基(窒素原子
    上に4個までの炭素原子を含有するアルキル基が置換し
    ていてもよい)、或いは ・18個までの炭素原子を含有する直鎖状、分岐鎖状又
    は環状のアルキル、アルケニル又はアルキニル基(これ
    らは、下記の基・・ヒドロキシル、 ・・ハロゲン、 ・・シアノ、 ・・ニトロ、 ・・アミジニル、・・グアニジニル、 ・・前記の複素環式基、 ・・多くとも6個の炭素原子を有するアルキルオキシ、
    アルケニルオキシ又はアルキニルオキシ、 ・・多くとも6個の炭素原子を有するアルキルチオ、ア
    ルケニルチオ又はアルキニルチオ(硫黄原子はスルホキ
    シド又はスルホンに酸化されていてもよい)、 ・・アリール又はアラルキル、 ・・アリールオキシ又はアラルキルオキシ、 ・・アリールチオ又はアラルキルチオ(硫黄原子はスル
    ホキシド又はスルホンに酸化されていてもよい)、 (これらのアルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキ
    ニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニ
    ルチオ、アリール、アラルキル、アリールオキシ、アラ
    ルキルオキシ、アリールチオ又はアラルキルチオ基のそ
    れぞれは下記の基:ヒドロキシ、1〜6個の炭素原子を
    有するアルキルオキシ若しくはアルキルチオ、6個まで
    の炭素原子を有するアルケニルチオ若しくはアルキニル
    チオ、アミノ、6個までの炭素原子を有するモノアルキ
    ルアミノ、12個までの炭素原子を有するジアルキルア
    ミノ、アミジニル、グアニジル、前記の複素環式基、ア
    リール、アリールオキシ、アリールチオ、アラルキル、
    アラルキルオキシ及びアラルキルチオ基(これらの基も
    下記の基:メチル、エチル、プロピル、カルバモイル、
    アミノメチル、ジメチルアミノメチル、アミノエチル、
    ジメチルアミノエチル、カルボキシ、メチルオキシカル
    ボニル、エチルオキシカルボニルから選ばれる基で置換
    されていてもよい)のうちの1個以上で置換されていて
    もよい)、 ・・基N(R'1)( R'2)(ここで、R'1及びR'2は、
    同一であっても異なっていてもよく、水素原子、18個
    までの炭素原子を有する直鎖状、分岐鎖状若しくは環状
    のアルキル、アルケニル若しくはアルキニル基、アリー
    ル又はアラルキルキを表わし、これらのR'1及びR'2
    それぞれは下記の基:ヒドロキシ、8個までの炭素原子
    を有するアルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニ
    ルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ若しくはアル
    キニルチオ、アミノ、4個までの炭素原子を有するモノ
    アルキルアミノ、8個までの炭素原子を有するジアルキ
    ルアミノ、シアノ、遊離の、エステル化された若しくは
    塩形成されたカルボキシル、又は8個までの炭素原子を
    有するアシル若しくはカルバモイルから選ばれる1個以
    上の基で、基Si(alk)3 若しくはSi(Oal
    k)3 (ここで、alkは4個までの炭素原子を有する
    アルキル基を表わす)で、又は前記の複素環式基で置換
    されていてもよく、或いはR'1とR'2はそれらが結合し
    ている窒素原子と一緒になって12員までの連結を含む
    飽和又は不飽和の芳香族又は非芳香族一又は二環式複素
    環式基(他のヘテロ原子を含有し得る)を形成する)、 ・・第四アンモニウム基、 ・・1,2−エポキシエチル、2,2−ジメチル−1,
    2−エポキシエチル又はこの基を求核性試薬により開環
    することにより得られる基、 ・・基−C(O)−B1 (ここで、B1 は多くとも6個
    の炭素原子を有するアルキル若しくはアルキルオキシ基
    か又はアリール、アラルキル、アリールオキシ若しくは
    アラルキルオキシ基を表わす)、 ・・遊離の若しくは保護されたホルミル、遊離の、エス
    テル化された若しくは塩形成されたカルボキシ、チオシ
    アネート、アシル又はカルバモイル、 ・・基(CH2)n R' (ここで、R' はアミノ酸の残基
    を表わし、nは0〜6の整数を表わす)のうちから選ば
    れる1個以上の基で置換されていてもよい)を表わし、
    或いはXは基N(Ra)( Rb)(ここで、 ・Ra 及びRb は同一であっても異なっていてもよく、
    水素原子、又は18個までの炭素原子を含有し、1個以
    上のヘテロ原子も含有し得る置換されていてもよい炭化
    水素基を表わし、 ・Ra 及びRb は、それらが結合している窒素原子と一
    緒になって、少なくとも1個の窒素原子を含有し、酸
    素、硫黄及び窒素原子から選ばれるさらに他のヘテロ原
    子も含有し得る12員までの連結を含む飽和又は不飽和
    の芳香族又は非芳香族一又は二環式複素環式基を形成す
    ることができ、或いは ・Ra 及びRb は基Aと一緒になって9−N,11−O
    環を形成することができる)を表わし、且つX' は水素
    原子を表わし、 Y及びY' は、X及びX' と同一であっても異なってい
    てもよく、X及びX'の意味を有し、 Bは水素原子又は基OR4 (ここで、R4 は水素原子を
    表わす)を表わすか或いは基Aと一緒になってカーボネ
    ート又はカルバメート基を形成し、 Aはこれを有する炭素原子及び10位置の炭素原子と共
    に二重結合を形成し、或いはAは基OR'4(ここで、
    R'4は水素原子を表わす)を表わすか又は基Bと一緒に
    なってカーボネート基を形成し、或いはAは基N
    (R'5)(R'6)(ここで、R'5はBと共にカルバメート
    基を形成するC=O基を表わし、R'6は水素原子、12
    個までの炭素原子を有するアルキル、アラルキル若しく
    はアルキルオキシ基、又は基(CH2q N(R7)( R
    8)(ここで、R7 及びR8 は同一であっても異なってい
    てもよく、水素原子又は18個までの炭素原子を有する
    アルキル若しくはアラルキル基を表わし、或いは窒素原
    子と一緒になって前記の複素環を形成し、qは1〜6の
    整数を表わす)を表わす)を表わし、或いはAは基O−
    CH2 −O−(CH2n −N(R9)( R10) (ここ
    で、R9 及びR10は水素原子又は8個までの炭素原子を
    有するアルキル基を表わし、或いは窒素原子と一緒にな
    って前記の複素環を形成し、nは1〜6の整数を表わ
    す)を表わし、 R2 は8個までの炭素原子を有するアルキル基、又はC
    ONH2 、CONHCOR11又はCONHSO2
    11(ここで、R11は18個までの炭素原子を含有し、1
    個以上のヘテロ原子も含有し得る炭化水素基を表わす)
    を表わし、 R3 はα又はβ位置にあって、水素原子、8個までの炭
    素原子を有するアルキル基、基(CH2)n −N(R12)
    (R13) (ここで、R12及びR13は水素原子、8個まで
    の炭素原子を有するアルキル基を表わし、或いは窒素原
    子と一緒になって前記の複素環を形成し、nは1〜6の
    整数を表わす)、又は基N(R14)(R15)(ここで、R
    14及びR15は同一であっても異なっていてもよく、水素
    原子、8個までの炭素原子若しくはヘテロ原子を有する
    アルキル基又は8個までの炭素原子を有するアルキル若
    しくはアルキルオキシ基を表わす)を表わし、 Zは水素原子又は18個までの炭素原子を含有する脂肪
    酸の残基を表わし、 X及びX' 又はY及びY' により表わされ得るオキシム
    はsyn又はanti配置であり得る}の化合物又は式
    (I)の化合物の酸付加塩。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の式(I)の化合物又は
    れらの製薬上許容できる酸との付加塩の少なくとも1種
    を活性成分として含有する抗菌剤組成物。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の式(I)の化合物又は
    付加塩を製造するにあたり、次式(II) 【化2】 (ここで、X、X' 、R2 、B及びAは前記の意味を有
    する)の化合物に水性媒体中で酸を作用させて次式(II
    I) 【化3】 の化合物を得、この化合物に2' 位置のヒドロキシル官
    能基の保護剤を作用させて次式(IV) 【化4】 (ここで、OMは保護されたヒドロキシル基を表わし、
    他の置換基は前記の意味を有する)の化合物を得、この
    化合物に3位置のヒドロキシル官能基の酸化剤を作用さ
    せて次式(V) 【化5】 の化合物を得、所望ならば、この化合物に基R'3(ここ
    で、R'3は水素原子を除いたR3 と同じ意味を有する)
    の導入剤を作用させ、次いで(a)適当ならば、2' 位
    置のヒドロキシル官能基の遊離化剤を作用させて次式
    (IA ) 【化6】 の化合物、即ちYとY' がそれらが結合している炭素原
    子と共にケトン官能基を形成する式(I)化合物を得、
    次いで所望ならば、この式(IA )の化合物にケトン又
    はβ−ケトエステル官能基のオキシム化剤を作用させて
    式(I)の所望化合物を得、次いで所望ならば、得られ
    た化合物に2’位置のヒドロキシルのエステル化剤を作
    用させ、或いは(b)ケトン又はβ−ケトエステル官能
    基のオキシム化剤を作用させ、次いで適当ならば、2'
    位置のヒドロキシル官能基の遊離化剤を作用させて式
    (I)の所望化合物を得、次いで所望ならば、このよう
    にして得られた式(I)の化合物に酸を作用させて塩を
    形成させることを特徴とする式(I)の化合物又は式
    (I)の化合物の酸付加塩の製造法。
  4. 【請求項4】 新規な工業用化合物としての請求項3記
    載の式(II)(ただし、6−O−メチルエリスロマイシ
    ンを除く)の化合物
  5. 【請求項5】 新規な工業用化合物としての請求項3記
    載の式(III) (ただし、3−Oデ(2,6−ジデオキ
    シ−3−C−メチル−3−O−メチル−α−L−リボへ
    キソピラノシル)−6−O−メチルエリスロマイシンを
    除く)の化合物。
  6. 【請求項6】 新規な工業用化合物としての請求項3記
    載の式(IV)の化合物。
  7. 【請求項7】 新規な工業用化合物としての請求項3記
    載の式(V)の化合物。
  8. 【請求項8】 XとX' がC=NOR基を形成する式
    (I)の化合物を製造するにあたり、X及びX' がC=
    NOR基を表わす式(IVA )の化合物が、相当する式
    (II)のケトンから酸性媒体中でNH2 ORを作用させ
    て反応のpHに応じて対応する次式(IVA ) 【化7】 (ここで、Aは10(11)位置に不飽和がないならば
    OH基を表わし、又はAは10(11)位置に不飽和が
    あるならば水素原子を表わす)の10(11)位置が飽
    和又は不飽和の化合物を得るようにすることによって製
    造されることを特徴とする請求項3記載の製造法。
  9. 【請求項9】 XとX' がC=NOR基(ここで、Rは
    前記の通りである)を形成する式(I)の化合物を製造
    するにあたり、X及びX' がケト基を形成する式(I
    A )の化合物に式NH2 ORの化合物を作用させて、X
    とX' がC=NOR基を形成し且つZが水素原子を表わ
    す相当する式(I)の化合物を得、次いで適当ならば、
    この化合物をエステル化又は塩形成することを特徴とす
    る請求項3記載の製造法。
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