JP3132964B2 - Matrix type liquid crystal display - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明はマトリックス型液晶表
示装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a matrix type liquid crystal display device.
【0002】[0002]
【従来の技術】マトリックス型液晶表示装置には、例え
ば図22に示すように、アクティブ駆動される捩じれネ
マティック型液晶表示装置(以下、TN−LCDとい
う)がある。このTN−LCDは、2枚の偏光子1、2
間に配置された液晶セル3を備えている。液晶セル3
は、対向して配置された2枚のガラス基板等からなる下
基板4と上基板5及びその間に介在された液晶6等を備
えている。液晶6は、90°連続して捩じれた捩じれネ
マティック液晶からなっている。下基板4の上面には画
素電極7がマトリックス状に配置され、その上面には下
配向膜8が設けられている。また、下基板4の上面側に
は、一部しか図示していないが、複数の走査線(ゲート
ライン)と複数の信号線(ドレインライン)9が交差し
て設けられ、その各交点近傍には薄膜トランジスタが設
けられている。薄膜トランジスタは、スイッチング素子
であり、画素電極7と走査線及び信号線9とを接続して
いる。上基板4の下面には共通電極(対向電極)10が
設けられ、その下面には上配向膜11が設けられてい
る。2. Description of the Related Art As a matrix type liquid crystal display device, for example, as shown in FIG. 22, there is a twisted nematic type liquid crystal display device (hereinafter referred to as TN-LCD) which is driven actively. This TN-LCD has two polarizers 1, 2
It has a liquid crystal cell 3 arranged between them. Liquid crystal cell 3
Is provided with a lower substrate 4 and an upper substrate 5 composed of two glass substrates and the like arranged facing each other, and a liquid crystal 6 and the like interposed therebetween. The liquid crystal 6 is composed of a twisted nematic liquid crystal twisted continuously by 90 °. Pixel electrodes 7 are arranged in a matrix on the upper surface of the lower substrate 4, and a lower alignment film 8 is provided on the upper surface. Although not shown, a plurality of scanning lines (gate lines) and a plurality of signal lines (drain lines) 9 are provided on the upper surface of the lower substrate 4 so as to intersect with each other. Is provided with a thin film transistor. The thin film transistor is a switching element, and connects the pixel electrode 7 with the scanning line and the signal line 9. A common electrode (counter electrode) 10 is provided on the lower surface of the upper substrate 4, and an upper alignment film 11 is provided on the lower surface.
【0003】そして、ある行の走査線に走査信号が入力
されてこの走査線と接続されているすべての薄膜トラジ
スタがオンした状態で、ある列の信号線9に画像データ
に応じた電圧信号が入力されると、この信号線9からオ
ン状態にある薄膜トラジスタを介して画素電極7に電圧
が印加され、この電圧の印加された画素電極7と共通電
極10との間の液晶6に電圧が印加され、これによって
その部分の液晶分子の配向が変化し、この変化に伴う光
学的な変化が偏光子1、2により視覚化され、所望の表
示、例えば白黒表示が行なわれることになる。When a scanning signal is input to a scanning line in a certain row and all the thin film transistors connected to the scanning line are turned on, a voltage signal corresponding to image data is applied to a signal line 9 in a certain column. When input, a voltage is applied to the pixel electrode 7 from the signal line 9 via the thin-film transistor in the ON state, and a voltage is applied to the liquid crystal 6 between the pixel electrode 7 to which the voltage is applied and the common electrode 10. This changes the orientation of the liquid crystal molecules in that portion, and the optical change accompanying this change is visualized by the polarizers 1 and 2, and a desired display, for example, a black and white display is performed.
【0004】ところで、このようなTN−LCDにおい
ては、特に画素電極7を多くして高精細な表示を可能に
した場合、ディスクリネーション(discrination)の発生
による表示品質の大幅な低下が大きな問題になってい
る。すなわち、TN−LCDがノーマリー・ホワイトモ
ードのものである場合、画素電極7に6V程度の電圧を
印加すると、1つの画素部12のうち、例えば図22に
おいて符号12aで示す点線の左側がプレチルト方向と
同一のチルト方向を持つノーマルチルト・ドメイン領域
12bで正常表示部となり、右側がプレチルト方向と逆
のチルト方向を持つリバースチルト・ドメイン領域12
cで光漏れを生じて白抜けをおこす異常表示部となり、
その間の符号12aで示す点線がディスクリネーション
・ラインとなる。この場合の1つの画素部12の平面図
を図23に示すと、同図において斜線で示す領域がリバ
ースチルト・ドメイン領域12cで光漏れを生じて白抜
けをおこす異常表示部となる。このように、画素部12
の一部に白抜けの部分が生じると、TN−LCDの表示
部全体でのコントラストが著しく低下し、表示品質が大
幅に低下してしまう。[0004] In such a TN-LCD, particularly when the number of pixel electrodes 7 is increased to enable high-definition display, a significant problem is that display quality is greatly reduced due to occurrence of disclination. It has become. That is, when a voltage of about 6 V is applied to the pixel electrode 7 when the TN-LCD is of the normally white mode, for example, the left side of the dotted line 12a in FIG. The normal display portion is formed by the no-multi tilt domain area 12b having the same tilt direction as the reverse tilt domain area 12 having the tilt direction opposite to the pre-tilt direction on the right side.
An abnormal display part that causes light leakage due to c and causes white spots,
A dotted line indicated by reference numeral 12a therebetween is a disclination line. FIG. 23 is a plan view of one pixel unit 12 in this case. In FIG. 23, a region indicated by hatching is an abnormal display unit in which light leakage occurs in the reverse tilt domain region 12c to cause white spots. Thus, the pixel portion 12
When a white spot occurs in a part of the TN-LCD, the contrast of the entire display portion of the TN-LCD is significantly reduced, and the display quality is significantly reduced.
【0005】このようなディスクリネーションの発生位
置について説明すると、下配向膜8及び上配向膜11の
各配向方向(ラビング方向)によって決定されるプレチ
ルト方向(液晶6の下配向膜8側及び上配向膜11側で
の両界面における液晶分子長軸の傾斜方向)と、画素電
極7と走査線及び信号線9との間に発生する横方向電界
の方向とが直交する位置に発生する。その理由は、誘電
率異方性Δεが正である液晶6のディレクタ(液晶分子
長軸が優先的に配向している方向の単位ベクトル)が局
所的な電界方向に沿って配向するため、プレチルト方向
と横方向電界の方向が直交する位置を境目にしてその左
右でディレクタが逆のチルト角で配向するからである。The position where such disclination occurs will be described. The pretilt direction (the lower alignment film 8 side and the upper direction of the liquid crystal 6) is determined by the respective alignment directions (rubbing directions) of the lower alignment film 8 and the upper alignment film 11. It is generated at a position where the direction of the horizontal electric field generated between the pixel electrode 7 and the scanning line and the signal line 9 is orthogonal to the direction of inclination of the long axis of the liquid crystal molecules at both interfaces on the alignment film 11 side. The reason is that the director (unit vector in the direction in which the long axis of the liquid crystal molecules is preferentially oriented) of the liquid crystal 6 having the positive dielectric anisotropy Δε is oriented along the local electric field direction, and thus the pretilt This is because the director is oriented at opposite tilt angles on the left and right sides of the position where the direction is perpendicular to the direction of the lateral electric field.
【0006】このようなディスクリネーションは、画素
ピッチが小さい高精細画素で起こりやすく、また液晶界
面のプレチルト角が小さい配向膜で起こりやすく、また
高温動作時と室温動作時とでは前者の方がプレチルト角
が小さくなるので起こりやすく、さらに横方向電界が強
く発生する場合に起こりやすい。特に、画素ピッチが小
さくなるほど、正常表示部12bの画素部12に対する
相対面積比が減少するため、コントラストの低下が一層
ひどくなる。また、プレチルト角が小さくなると、リバ
ースチルトが起こりやすくなり、プレチルト方向と横方
向電界の方向とが直交する位置すなわちディスクリネー
ションの発生位置が画素部12内においてその内側に移
動する。したがって、自動車等の車に搭載される場合や
プロジェクタに使用される場合のように高精細でかつ高
温動作を要求されるTN−LCDほどディスクリネーシ
ョンが発生しやすく、これを改善する方法として、従来
では、ディスクリネーションの発生位置に応じて遮光膜
を設けることにより、ディスクリネーションによる光漏
れを低減するようにしていた。Such disclination is likely to occur in a high-definition pixel having a small pixel pitch, and is likely to occur in an alignment film having a small pretilt angle at a liquid crystal interface. In the case of high-temperature operation and room-temperature operation, the former is more likely to occur. This is likely to occur because the pretilt angle is small, and is likely to occur when a lateral electric field is strongly generated. In particular, as the pixel pitch decreases, the relative area ratio of the normal display section 12b to the pixel section 12 decreases, so that the decrease in contrast becomes more severe. When the pretilt angle is small, reverse tilt is likely to occur, and the position where the pretilt direction and the direction of the lateral electric field are orthogonal to each other, that is, the position where disclination occurs, moves inside the pixel section 12. Therefore, disclination is more likely to occur in a TN-LCD that requires high definition and high-temperature operation, such as when mounted on a vehicle such as an automobile or used in a projector, and as a method for improving this, Conventionally, light leakage due to disclination has been reduced by providing a light shielding film in accordance with the position where disclination occurs.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
遮光膜を設ける方法では、遮光膜の開口部の各開口縁
を、最寄りの走査線及び信号線9から、ディスクリネー
ションの最大浸透距離(例えば、両配向膜8、11間の
間隔(セルギャップ)の2倍程度)だけ等距離に離間し
た位置に設定しているので、開口率が大幅に低下してし
まうという問題があった。この発明の目的は、ディスク
リネーションによる光漏れを低減することができるとと
もに、開口率をなるべく大きくすることができるマトリ
クス型液晶表示装置を提供することにある。However, in the conventional method of providing a light-shielding film, each opening edge of the opening of the light-shielding film is moved from the nearest scanning line and signal line 9 to the maximum penetration distance of disclination (for example, In addition, since the apertures are set at positions equidistant from each other by an interval (about twice the cell gap) between the alignment films 8 and 11, there is a problem that the aperture ratio is significantly reduced. An object of the present invention is to provide a matrix type liquid crystal display device capable of reducing light leakage due to disclination and increasing the aperture ratio as much as possible.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】この発明は、複数の走査
線と複数の信号線が交差して形成され、隣接する前記走
査線と隣接する前記信号線との間に画素電極が形成さ
れ、該画素電極とそれに対応する前記走査線及び前記信
号線とを接続するスイッチング素子が形成され、前記画
素電極上に第1の配向膜が形成された第1の基板と、前
記画素電極に対向する対向電極が形成され、該対向電極
上に前記第1の配向膜とほぼ直交する方向に配向された
第2の配向膜が形成された第2の基板と、前記第1と第
2の配向膜間に介在された液晶とを備えたマトリックス
型液晶表示装置において、ディスクリネーションによる
光漏れが最大となる側の前記画素電極の辺部を含む隣接
する3辺に沿って、該画素電極の辺部と重なる領域と該
画素電極の辺部の外側に位置する領域とを有する3辺か
らなる補助容量電極を、前記第1の基板に前記画素電極
と絶縁膜を介して対向するように配置し、且つ前記補助
容量電極の隣接する3辺のうち、ディスクリネーション
による光漏れが相対的に大きい側の1辺の前記画素電極
側の端部を、相対的に小さい側の1辺の前記画素電極側
の端部よりも0.4d(dは第1の配向膜と第2の配向
膜との間の長さ)以上前記画素電極の内側に配置したも
のである。According to the present invention, a plurality of scanning lines and a plurality of signal lines are formed so as to intersect, and a pixel electrode is formed between the adjacent scanning lines and the adjacent signal lines. A switching element for connecting the pixel electrode to the scanning line and the signal line corresponding thereto is formed, and a first substrate having a first alignment film formed on the pixel electrode is opposed to the pixel electrode. A second substrate on which a counter electrode is formed, and a second alignment film oriented on the counter electrode in a direction substantially perpendicular to the first alignment film; and the first and second alignment films In a matrix type liquid crystal display device having a liquid crystal interposed therebetween, the edge of the pixel electrode extends along three adjacent sides including the edge of the pixel electrode on the side where light leakage due to disclination is maximized. Area outside the pixel electrode and outside the side of the pixel electrode The three sides or <br/> Ranaru auxiliary capacitor electrode having a region located, arranged to face each other through the pixel electrode and the insulating film on the first substrate, and adjacent the storage capacitor electrode of the three sides, the ends of one side of the pixel electrode side of the light leakage is relatively large side by disclination, than the end of the pixel electrode side of one side of the relatively small side 0 .4d (d is the first alignment film and the second alignment film)
(The length between the film and the film) .
【0009】[0009]
【作用】この発明によれば、補助容量電極を、ディスク
リネーションによる光漏れが最大となる側の画素電極の
辺部を含む隣接する3辺に沿って設け、補助容量電極の
ディスクリネーションによる光漏れが相対的に大きい側
の1辺の前記画素電極側の端部を、相対的に小さい側の
1辺の前記画素電極側の端部よりも0.4d以上前記画
素電極の内側に配置したので、ディスクリネーションに
よる光漏れを低減することができるとともに、開口率を
なるべく大きくすることができる。According to the present invention, the auxiliary capacitance electrode is provided along three adjacent sides including the side of the pixel electrode on the side where the light leakage due to disclination is maximized .
The side where light leakage due to disclination is relatively large
Of one side of the pixel electrode side to the relatively smaller side.
0.4 d or more than the edge of one side on the pixel electrode side.
Since it is arranged inside the elementary electrodes, light leakage due to disclination can be reduced, and the aperture ratio can be made as large as possible.
【0010】[0010]
【実施例】図1及び図2はこの発明の一実施例における
マトリックス型液晶表示装置の要部を示したものであ
る。ただし、図1は、図2における下基板24側のうち
下配向膜41を省略した状態の平面図を示す。このマト
リックス型液晶表示装置は、アクティブ駆動される透過
型の捩じれネマティック型液晶表示装置(以下、TN−
LCDという)であり、2枚の偏光子21、22間に配
置された液晶セル23を備えている。液晶セル23は、
対向して配置された2枚のガラス基板等からなる下基板
24と上基板25及びその間に介在された液晶26等を
備えている。液晶26は、90°連続して捩じれた捩じ
れネマティック液晶からなっている。1 and 2 show a main part of a matrix type liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 1. However, FIG. 1 is a plan view showing a state where the lower alignment film 41 is omitted from the lower substrate 24 side in FIG. This matrix type liquid crystal display device is a transmission type twisted nematic type liquid crystal display device (hereinafter, referred to as a TN-type) which is actively driven.
And a liquid crystal cell 23 disposed between the two polarizers 21 and 22. The liquid crystal cell 23
It has a lower substrate 24 and an upper substrate 25 made of two glass substrates and the like arranged facing each other, and a liquid crystal 26 interposed between them. The liquid crystal 26 is made of a twisted nematic liquid crystal twisted continuously by 90 °.
【0011】下基板24の上面側には複数の走査線(ゲ
ートライン)31と複数の信号線(ドレインライン)3
2が交差して設けられ、その各交点近傍にはスイッチン
グ素子としての薄膜トランジスタ33、画素電極34及
びシールド型の補助容量電極35が設けられている。す
なわち、下基板24の上面の所定の個所にはゲート電極
36を含む走査線31が形成され、他の所定の個所には
補助容量電極35が形成され、その上面全体にはゲート
絶縁膜37が形成されている。ゲート絶縁膜37の上面
の所定の個所にはアモルファスシリコンやポリシリコン
等からなる半導体薄膜38が形成されている。半導体薄
膜38の上下両端部の各上面及びその近傍にはソース電
極39及びドレイン電極40が形成され、またこれら電
極39、40の形成と同時に信号線32が形成されてい
る。ゲート絶縁膜37の上面の所定の個所には透明な画
素電極34がソース電極39に接続されて形成されてい
る。そして、全上面には下配向膜41が形成されてい
る。On the upper surface of the lower substrate 24, a plurality of scanning lines (gate lines) 31 and a plurality of signal lines (drain lines) 3
In the vicinity of each intersection, a thin film transistor 33 as a switching element, a pixel electrode 34, and a shield type auxiliary capacitance electrode 35 are provided. That is, the scanning line 31 including the gate electrode 36 is formed at a predetermined position on the upper surface of the lower substrate 24, the auxiliary capacitance electrode 35 is formed at another predetermined position, and the gate insulating film 37 is formed over the entire upper surface. Is formed. A semiconductor thin film 38 made of amorphous silicon, polysilicon or the like is formed at a predetermined location on the upper surface of the gate insulating film 37. A source electrode 39 and a drain electrode 40 are formed on and near each upper surface of the upper and lower ends of the semiconductor thin film 38, and a signal line 32 is formed simultaneously with the formation of these electrodes 39 and 40. A transparent pixel electrode 34 is formed at a predetermined location on the upper surface of the gate insulating film 37 so as to be connected to the source electrode 39. The lower alignment film 41 is formed on the entire upper surface.
【0012】一方、上基板25の下面の所定の個所には
遮光膜(ブラックマスク)42が形成され、その他の部
分つまり遮光膜42の各開口部42aには赤(R)、緑
(G)、青(B)の各カラーフィルタ43が形成されて
いる。カラーフィルタ43及び遮光膜42の下面には共
通電極(対向電極)44が形成され、共通電極44の下
面には上配向膜45が形成されている。なお、図1にお
ける一点差線は遮光膜42の開口部42aの開口縁を示
す。On the other hand, a light-shielding film (black mask) 42 is formed at a predetermined position on the lower surface of the upper substrate 25, and red (R) and green (G) are formed in other portions, that is, in the respective openings 42a of the light-shielding film 42. , Blue (B) color filters 43 are formed. A common electrode (counter electrode) 44 is formed on the lower surface of the color filter 43 and the light shielding film 42, and an upper alignment film 45 is formed on the lower surface of the common electrode 44. Note that the one-dot line in FIG. 1 indicates the opening edge of the opening 42 a of the light shielding film 42.
【0013】ここで、画素電極34、補助容量電極35
及び遮光膜42の開口部42aの位置関係について説明
する。補助容量電極35は、画素電極34の上辺部に対
応する位置において走査線31と平行して設けられた共
通直線部35aと、この共通直線部35aから画素電極
34の左辺部に沿って引き出された左側引出部35b
と、共通直線部35aから画素電極34の右辺部に沿っ
て引き出された右側引出部35cとからなっている。そ
して、共通直線部35aは画素電極34の上辺の内側に
配置され、全体的に画素電極34の上辺部と重ね合わさ
れている。左側引出部35bの右側部は画素電極34の
左辺部と重ね合わされている。右側引出部35cの左側
部は画素電極34の右辺部と重ね合わされている。そし
て、このような補助容量電極35と画素電極34との重
ね合わされた部分によって補助容量部が形成されてい
る。遮光膜42の開口部42aの上辺開口縁は画素電極
34の上辺の内側で且つ補助容量電極35の共通直線部
35aの内側に配置されている。遮光膜42の開口部4
2aの左辺開口縁は画素電極34の左辺の内側で且つ補
助容量電極35の左側引出部35bの外側に配置されて
いる。遮光膜42の開口部42aの右辺開口縁は画素電
極34の右辺の内側で且つ補助容量電極35の右側引出
部35cの外側に配置されている。遮光膜42の開口部
42aの下辺開口縁は画素電極34の下辺の内側に配置
されている。Here, the pixel electrode 34, the auxiliary capacitance electrode 35
The positional relationship between the openings 42a of the light shielding film 42 will be described. The auxiliary capacitance electrode 35 is provided at a position corresponding to the upper side of the pixel electrode 34 in parallel with the scanning line 31, and is drawn out from the common linear portion 35 a along the left side of the pixel electrode 34. Left drawer 35b
And a right extraction portion 35c extending from the common linear portion 35a along the right side of the pixel electrode 34. The common linear portion 35a is disposed inside the upper side of the pixel electrode 34, and entirely overlaps with the upper side of the pixel electrode 34. The right side of the left extraction portion 35b is overlapped with the left side of the pixel electrode 34. The left side portion of the right extraction portion 35c is overlapped with the right side portion of the pixel electrode 34. A portion where the auxiliary capacitance electrode 35 and the pixel electrode 34 overlap each other forms an auxiliary capacitance portion. The upper opening edge of the opening 42 a of the light-shielding film 42 is arranged inside the upper side of the pixel electrode 34 and inside the common linear portion 35 a of the auxiliary capacitance electrode 35. Opening 4 of light shielding film 42
The opening edge of the left side of 2a is disposed inside the left side of the pixel electrode 34 and outside the left extraction portion 35b of the auxiliary capacitance electrode 35. The opening edge of the right side of the opening 42 a of the light-shielding film 42 is arranged inside the right side of the pixel electrode 34 and outside the right extraction portion 35 c of the auxiliary capacitance electrode 35. The lower opening edge of the opening 42 a of the light-shielding film 42 is arranged inside the lower edge of the pixel electrode 34.
【0014】次に、画素電極34と遮光膜42の開口部
42aとの具体的な位置関係について説明するに、ま
ず、両配向膜41、45の配向方向とディスクリネーシ
ョンの発生位置との関係について説明する。まず、図3
に1つの画素電極34とその周囲の走査線31及び信号
線32の概略平面図を示す。この場合、画素電極34と
走査線31及び信号線32間の間隙部(以下、単に間隙
部という)の幅を一律にLとする。また、図3において
点線の矢印で示すように、下配向膜41の配向方向を左
斜め上方向とし、同図において実線の矢印で示すよう
に、上配向膜45の配向方向を左斜め下方向とした。ま
た、図3のZ−Z線に沿う概略断面図を図4に示す。こ
の場合、両配向膜41、45の間隔(セルギャップ)を
d=5μmとし、間隙部の幅Lをdとし、プレチルト角
θeを3°とした。Next, the specific positional relationship between the pixel electrode 34 and the opening 42a of the light-shielding film 42 will be described. First, the relationship between the alignment direction of both alignment films 41 and 45 and the position where disclination occurs is described. Will be described. First, FIG.
FIG. 1 shows a schematic plan view of one pixel electrode 34 and its surrounding scanning lines 31 and signal lines 32. In this case, the width of the gap between the pixel electrode 34 and the scanning line 31 and the signal line 32 (hereinafter simply referred to as the gap) is uniformly L. In addition, as shown by a dotted arrow in FIG. 3, the orientation direction of the lower alignment film 41 is set to an upper left diagonal direction, and as shown by a solid arrow in FIG. And FIG. 4 is a schematic sectional view taken along the line ZZ in FIG. In this case, the distance (cell gap) between the alignment films 41 and 45 was d = 5 μm, the width L of the gap was d, and the pretilt angle θe was 3 °.
【0015】そして、画素電極34に+6V、この画素
電極34の右側の信号線32に−6V、共通電極44及
び補助容量電極35に0Vそれぞれ印加し、液晶26の
配向ベクトルと等電位曲線を調べたところ、図5(A)
に示す結果が得られ、また液晶26の配向ベクトルとY
値(Y値透過率曲線)を調べたところ、図5(B)に示
す結果が得られた。図5(A)を見ると、電気力線が電
位カーブと垂直方向に生じ、間隙部の中心に対して同心
円状に走り、画素電極34から信号線31方向への横方
向電界の電気力線と両配向膜41、45の配向力による
チルトの向きが不自然な場所つまり間隙部の左側におい
てリバースチルトが発生し、間隙部の左側にディスクリ
ネーションが発生していることが分かる。一方、図5
(B)を見ると、間隙部の左側にディスクリネーション
による光漏れのピークが発生し、このピーク側での光漏
れの浸透距離が0.5d程度でピーク点でのY値が12
程度であり、一方ピーク反対側での光漏れの浸透距離が
0.3d程度で信号線端でのY値が10程度であること
が分かる。ただし、光漏れの浸透距離は、光漏れのY値
が完全な暗状態の10倍の明るさになる地点と画素電極
34の端部との距離Δx/dとした。Then, + 6V is applied to the pixel electrode 34, -6V is applied to the signal line 32 on the right side of the pixel electrode 34, and 0V is applied to the common electrode 44 and the auxiliary capacitance electrode 35, respectively, and the orientation vector and the equipotential curve of the liquid crystal 26 are examined. As shown in FIG.
Are obtained, and the orientation vector of the liquid crystal 26 and Y
When the value (Y value transmittance curve) was examined, the result shown in FIG. 5B was obtained. Referring to FIG. 5A, electric lines of force are generated in a direction perpendicular to the potential curve, run concentrically with respect to the center of the gap, and the electric lines of force of the horizontal electric field from the pixel electrode 34 toward the signal line 31 are formed. It can be seen that reverse tilt occurs at a place where the tilt direction due to the alignment force of both alignment films 41 and 45 is unnatural, that is, at the left side of the gap, and disclination occurs at the left side of the gap. On the other hand, FIG.
Referring to (B), a peak of light leakage due to disclination occurs on the left side of the gap, and the penetration distance of light leakage on the peak side is about 0.5 d, and the Y value at the peak point is 12
On the other hand, it can be seen that the penetration distance of light leakage on the opposite side of the peak is about 0.3 d and the Y value at the signal line end is about 10. However, the penetration distance of the light leakage was the distance Δx / d between the point where the Y value of the light leakage became 10 times the brightness of a completely dark state and the end of the pixel electrode 34.
【0016】次に、図3に示す配向状態を時計方向に4
5°回転させた場合の配向状態を図6に示す。したがっ
て、この場合には、図6において点線の矢印で示すよう
に、下配向膜41の配向方向が上方向となり、同図にお
いて実線の矢印で示すように、上配向膜45の配向方向
が左方向となる。そして、その他の条件を図3に示す配
向状態の場合と同じとしたところ、図7(A)及び
(B)に示す結果が得られた。この場合には、特に図7
(B)を見ると、間隙部の右側にディスクリネーション
による光漏れのピークが発生し、このピーク側での光漏
れの浸透距離が0.7d程度でピーク点でのY値が25
程度であり、一方ピーク反対側での光漏れの浸透距離が
0.3d程度でY値が0程度であることが分かる。Next, the orientation state shown in FIG.
FIG. 6 shows the orientation state when rotated by 5 °. Accordingly, in this case, the orientation direction of the lower alignment film 41 becomes the upward direction as shown by the dotted arrow in FIG. 6, and the alignment direction of the upper alignment film 45 becomes the left direction as shown by the solid arrow in FIG. Direction. Then, when the other conditions were the same as those in the case of the orientation state shown in FIG. 3, the results shown in FIGS. 7A and 7B were obtained. In this case, in particular, FIG.
Referring to (B), a peak of light leakage due to disclination occurs on the right side of the gap.
On the other hand, it can be seen that the Y value is about 0 when the penetration distance of light leakage on the opposite side of the peak is about 0.3 d.
【0017】次に、図6に示す配向状態を時計方向に4
5°回転させた場合の配向状態を図8に示す。したがっ
て、この場合には、図8において点線の矢印で示すよう
に、下配向膜41の配向方向が右斜め上方向となり、同
図において実線の矢印で示すように、上配向膜45の配
向方向が左斜め上方向となる。そして、その他の条件を
図3に示す配向状態の場合と同じとしたところ、図9
(A)及び(B)に示す結果が得られた。この場合に
は、特に図9(B)を見ると、間隙部の右側にディスク
リネーションによる光漏れのピークが発生し、このピー
ク側での光漏れの浸透距離が0.8d程度で信号線端で
のY値が28程度であり、一方ピーク反対側での光漏れ
の浸透距離が0.6d程度で画素電極端でのY値が28
程度であることが分かる。Next, the orientation state shown in FIG.
FIG. 8 shows the orientation state when rotated by 5 °. Therefore, in this case, the orientation direction of the lower alignment film 41 is obliquely upward to the right, as indicated by the dotted arrow in FIG. 8, and the orientation direction of the upper alignment film 45, as indicated by the solid arrow in FIG. Is the diagonally upper left direction. Then, the other conditions were the same as in the case of the orientation state shown in FIG.
The results shown in (A) and (B) were obtained. In this case, especially when looking at FIG. 9B, a peak of light leakage due to disclination occurs on the right side of the gap, and the penetration distance of the light leakage on this peak side is about 0.8 d, and the signal line The Y value at the end is about 28, while the penetration distance of light leakage on the opposite side of the peak is about 0.6 d and the Y value at the pixel electrode end is about 28 d.
It turns out that it is about.
【0018】次に、図8に示す配向状態を時計方向に4
5°回転させた場合の配向状態を図10に示す。したが
って、この場合には、図10において点線の矢印で示す
ように、下配向膜41の配向方向が右方向となり、同図
において実線の矢印で示すように、上配向膜45の配向
方向が上方向となる。そして、その他の条件を図3に示
す配向状態の場合と同じとしたところ、図11(A)及
び(B)に示す結果が得られた。この場合には、特に図
11(B)を見ると、間隙部の右側にディスクリネーシ
ョンによる光漏れのピークが発生し、このピーク側での
光漏れの浸透距離が0.7d程度でピーク点でのY値が
8程度であり、一方ピーク反対側での光漏れの浸透距離
が0.5d程度で画素電極端でのY値が5程度であるこ
とが分かる。Next, the orientation state shown in FIG.
FIG. 10 shows the orientation state when rotated by 5 °. Therefore, in this case, the orientation of the lower alignment film 41 is rightward as shown by the dotted arrow in FIG. 10, and the orientation of the upper alignment film 45 is upward as shown by the solid arrow in FIG. Direction. Then, when the other conditions were the same as those in the case of the orientation state shown in FIG. 3, the results shown in FIGS. 11A and 11B were obtained. In this case, especially when looking at FIG. 11B, a peak of light leakage due to disclination occurs on the right side of the gap, and the light leakage penetration distance on this peak side is about 0.7 d, and the peak point is reached. It can be seen that the Y value at the end of the pixel electrode is about 8, while the penetration distance of light leakage on the side opposite to the peak is about 0.5d, and the Y value at the pixel electrode end is about 5.
【0019】以上のことから、両配向膜41、45の配
向方向とディスクリネーション発生位置との関係は、図
3に示す配向状態の場合と図6に示す配向状態の場合に
は、図12(A)及び図13(A)にそれぞれ示すよう
になる。まず、図3に示す配向状態の場合について説明
する。図5(B)に示すように、ピーク側での光漏れの
浸透距離が0.5d程度でピーク点でのY値が1程度2
であり、ピーク反対側での光漏れの浸透距離が0.3d
程度で信号線端でのY値が10程度であるので、図12
(A)に示すように、画素電極34の右辺から内側に
0.5d程度離れた領域にY値12程度の光漏れが発生
し、また画素電極34の左辺から内側に0.3d程度離
れた領域にY値10程度の光漏れが発生する。一方、図
3に示す配向状態を時計方向に90°回転させると、図
8に示す配向状態となる。したがって、図8に示す配向
状態の左右方向のディスクリネーション発生位置は、図
3に示す配向状態の上下方向のディスクリネーション発
生位置とみなすことができる。そして、図9(B)に示
すように、ピーク側での光漏れの浸透距離が0.8d程
度で信号端でのY値が28程度であり、ピーク反対側で
の光漏れの浸透距離が0.6d程度で画素電極端でのY
値が28程度であるので、図12(A)に示すように、
画素電極34の下辺から内側に0.8d程度離れた領域
にY値28程度の光漏れが発生し、また画素電極34の
上辺から内側に0.6d程度離れた領域にY値28程度
の光漏れが発生する。From the above, the relationship between the alignment directions of the alignment films 41 and 45 and the position where the disclination occurs is as shown in FIG. 12 between the alignment state shown in FIG. 3 and the alignment state shown in FIG. 13 (A) and FIG. 13 (A). First, the case of the orientation state shown in FIG. 3 will be described. As shown in FIG. 5B, the permeation distance of light leakage on the peak side is about 0.5 d, and the Y value at the peak point is about 1 2
And the penetration distance of light leakage on the opposite side of the peak is 0.3 d
Since the Y value at the end of the signal line is about 10 in FIG.
As shown in (A), light leakage of about Y value 12 occurs in a region about 0.5 d inward from the right side of the pixel electrode 34, and about 0.3 d inward from the left side of the pixel electrode 34. Light leakage with a Y value of about 10 occurs in the region. On the other hand, when the orientation state shown in FIG. 3 is rotated clockwise by 90 °, the orientation state shown in FIG. 8 is obtained. Therefore, the disclination occurrence position in the horizontal direction in the orientation state shown in FIG. 8 can be regarded as the disclination occurrence position in the vertical direction in the orientation state shown in FIG. Then, as shown in FIG. 9B, the penetration distance of the light leakage on the peak side is about 0.8d, the Y value at the signal end is about 28, and the penetration distance of the light leakage on the opposite side of the peak is About 0.6d, Y at the pixel electrode end
Since the value is about 28, as shown in FIG.
Light leakage of about Y value 28 occurs in a region about 0.8 d inward from the lower side of the pixel electrode 34, and light leakage of about 28 d in about 0.6 d inward from the upper side of the pixel electrode 34. Leaks occur.
【0020】そして、図8に示す配向状態の場合には、
図3に示す配向状態を時計方向に90°回転させた場合
に相当するので、図12(B)に示すようになる。ま
た、図8に示す配向状態を時計方向に90°回転させた
場合の配向状態では、図12(C)に示すようになり、
さらに時計方向に90°回転させた場合の配向状態で
は、図12(D)に示すようになる。Then, in the case of the orientation state shown in FIG.
Since this corresponds to the case where the orientation state shown in FIG. 3 is rotated clockwise by 90 °, it becomes as shown in FIG. Further, in the orientation state when the orientation state shown in FIG. 8 is rotated clockwise by 90 °, the orientation state becomes as shown in FIG.
FIG. 12D shows the orientation state when rotated further by 90 ° clockwise.
【0021】次に、図6に示す配向状態の場合について
説明する。図7(B)に示すように、ピーク側での光漏
れの浸透距離が0.7d程度でピーク点でのY値が25
程度であり、ピーク反対側での光漏れの浸透距離が0.
3d程度でY値が0程度であるので、図13(A)に示
すように、画素電極34の左辺から内側に0.7d程度
離れた領域にY値25程度の光漏れが発生し、また画素
電極34の右辺から内側に0.3d程度離れた領域にY
値0程度の光漏れが発生する。一方、図6に示す配向状
態を時計方向に90°回転させると、図10に示す配向
状態となる。したがって、図10に示す配向状態の左右
方向のディスクリネーション発生位置は、図6に示す配
向状態の上下方向のディスクリネーション発生位置とみ
なすことができる。そして、図11(B)に示すよう
に、ピーク側での光漏れの浸透距離が0.7d程度でピ
ーク点でのY値が8程度であり、ピーク反対側での光漏
れの浸透距離が0.5d程度で画素電極端でのY値が5
程度であるので、図13(A)に示すように、画素電極
34の下辺から内側に0.7d程度離れた領域にY値8
程度の光漏れが発生し、また画素電極34の上辺から内
側に0.5d程度離れた領域にY値5程度の光漏れが発
生する。Next, the case of the orientation state shown in FIG. 6 will be described. As shown in FIG. 7B, the permeation distance of the light leakage on the peak side is about 0.7 d, and the Y value at the peak point is 25.
And the penetration distance of light leakage on the opposite side of the peak is 0.1.
Since the Y value is about 0 at about 3d, as shown in FIG. 13A, light leakage of about 25 Y values occurs in a region about 0.7d inward from the left side of the pixel electrode 34, and Y is located in a region about 0.3d inward from the right side of the pixel electrode 34.
Light leakage of about 0 occurs. On the other hand, when the orientation state shown in FIG. 6 is rotated clockwise by 90 °, the orientation state shown in FIG. 10 is obtained. Therefore, the position of occurrence of disclination in the horizontal direction in the orientation state shown in FIG. 10 can be regarded as the position of occurrence of disclination in the vertical direction in the orientation state shown in FIG. Then, as shown in FIG. 11 (B), the light leakage penetration distance on the peak side is about 0.7d, the Y value at the peak point is about 8, and the light leakage penetration distance on the opposite side of the peak is When about 0.5d, the Y value at the pixel electrode end is 5
As shown in FIG. 13A, the Y value of 8 is set in a region about 0.7d inward from the lower side of the pixel electrode 34.
A light leak of about 5 occurs, and a light leak of about Y value 5 occurs in a region about 0.5 d inward from the upper side of the pixel electrode 34.
【0022】そして、図10に示す配向状態の場合に
は、図6に示す配向状態を時計方向に90°回転させた
場合に相当するので、図13(B)に示すようになる。
また、図10に示す配向状態を時計方向に90°回転さ
せた場合の配向状態では、図13(C)に示すようにな
り、さらに時計方向に90°回転させた場合の配向状態
では、図13(D)に示すようになる。The orientation state shown in FIG. 10 corresponds to a case where the orientation state shown in FIG. 6 is rotated clockwise by 90 °, and is as shown in FIG. 13B.
FIG. 13C shows an orientation state when the orientation state shown in FIG. 10 is rotated 90 ° clockwise, and FIG. 13C shows an orientation state when the orientation state is further rotated clockwise 90 °. 13 (D).
【0023】このように、図12及び図13に示す8つ
の配向状態でのディスクリネーション発生位置がそれぞ
れ異なることになる。そこで、例えば図12(A)に示
す配向状態の場合には、図1及び図2に示す遮光膜42
の開口部42aの左辺開口縁と画素電極34の左辺との
間隔を0.3dとし、遮光膜42の開口部42aの右辺
開口縁と画素電極34の右辺との間隔を0.5dとし、
遮光膜42の開口部42aの下辺開口縁と画素電極34
の下辺との間隔を0.8dとし、遮光膜42の開口部4
2aの上辺開口縁と画素電極34の上辺との間隔を0.
6dとすると、ディスクリネーションによる光漏れを低
減することができるとともに、開口率をなるべく大きく
することができることになる。ところで、図12(A)
〜(D)に示す配向状態の場合には、光漏れの浸透距離
が最大の場合と最小の場合の差が0.5dであり、図1
3(A)〜(D)に示す配向状態の場合には、光漏れの
浸透距離が最大の場合と最小の場合の差が0.4dであ
り、したがってこのような差は0.4d以上とした方が
望ましい。As described above, the disclination positions in the eight orientation states shown in FIGS. 12 and 13 are different from each other. Thus, for example, in the case of the orientation state shown in FIG. 12A, the light shielding film 42 shown in FIGS.
The distance between the left edge of the opening 42a of the opening 42a and the left side of the pixel electrode 34 is 0.3d, the distance between the right edge of the opening 42a of the light shielding film 42 and the right side of the pixel electrode 34 is 0.5d,
The lower opening edge of the opening 42a of the light shielding film 42 and the pixel electrode 34
Of the light shielding film 42 is set to 0.8d.
2a is set to 0.
With 6d, light leakage due to disclination can be reduced, and the aperture ratio can be made as large as possible. By the way, FIG.
1D, the difference between the case where the penetration distance of light leakage is the maximum and the case where the penetration distance of the light leakage is the minimum is 0.5 d.
In the orientation states shown in FIGS. 3 (A) to 3 (D), the difference between the case where the penetration distance of the light leakage is the maximum and the case where the penetration distance is the minimum is 0.4d. It is desirable to do.
【0024】なお、図12及び図13に示されたディス
クリネーションによる光漏れの発生状況の平面図に対し
て、遮光膜42の開口縁の位置は、必ずしも画素電極3
4の各辺において異なるものとする必要はない。図12
(A)〜(D)を観察すると画素電極34の対辺側に現
れる光漏れの浸透距離及びY値は相互に近似しているか
ら、遮光膜42の開口縁を各対辺同士では同じ位置とす
ることもできる。また、特にY値が大きい方の対辺側の
開口縁の位置をそれぞれ異なる値、例えば0.6d及び
0.8d程度として、Y値が小さい方の対辺側の開口縁
の位置を共に同じ値、例えば0.3d〜0.5d程度と
してもよい。また、図13(A)〜(D)を観察すると
光漏れの浸透距離は隣接する2辺側で大きく、残りの2
辺側では小さいが、Y値は1辺側のみで大きく残りの3
辺側で小さいので、光漏れの浸透距離の大きい隣接する
2辺側の開口縁の位置を同じにして、残りの2辺側の開
口縁の位置をそれよりも小さくするか、あるいは、光漏
れの浸透距離及びY値が共に大きい1辺側の開口縁の位
置を大きくし、残りの辺側の開口縁の位置をそれよりも
小さく且つ同じ位置にしてもよい。In the plan views of the light leakage due to the disclination shown in FIGS. 12 and 13, the position of the opening edge of the light shielding film 42 is not necessarily the pixel electrode 3.
It is not necessary that each side of 4 be different. FIG.
When observing (A) to (D), the penetration distance and the Y value of the light leakage appearing on the opposite side of the pixel electrode 34 are close to each other, so that the opening edge of the light shielding film 42 is set to the same position on each opposite side. You can also. Further, particularly, the position of the opening edge on the opposite side where the Y value is larger is set to different values, for example, about 0.6d and 0.8d, and the position of the opening edge on the opposite side where the Y value is smaller is the same value. For example, it may be about 0.3d to 0.5d. Also, when observing FIGS. 13 (A) to 13 (D), the penetration distance of light leakage is large on two adjacent sides, and the remaining 2
Although the value is small on the side, the Y value is large only on one side and the remaining 3
Since the side edges are small, the positions of the opening edges on the adjacent two sides where the penetration distance of light leakage is large are the same, and the positions of the opening edges on the remaining two sides are smaller than that. , The position of the opening edge on one side where both the penetration distance and the Y value are large may be increased, and the positions of the opening edges on the remaining sides may be smaller and the same position.
【0025】ところで、配向膜41、45の配向方向が
走査線31に対して、斜め方向の場合でも、あるいは平
行または直交する方向の場合でも、実際の駆動では、走
査線31に供給される電圧の方が信号線32に供給され
る電圧よりも高いので、走査線31と画素電極34間の
電位差が信号線32と画素電極34間の電位差よりもか
なり大きくなる。したがって、ディスクリネーションに
よる光漏れをより一層低減するには、ディスクリネーシ
ョンによる光漏れの小さくなる側が走査線31側とな
り、大きくなる側が信号線32側となるようにした方が
望ましい。このことから、図12に示す4つの配向状態
の場合には、(B)及び(D)にそれぞれ示す配向状態
の方が(A)及び(C)にそれぞれ示す配向状態よりも
望ましい。また、図13に示す4つの配向状態の場合に
は、(A)及び(C)にそれぞれ示す配向状態の方が
(B)及び(D)にそれぞれ示す配向状態よりも望まし
い。By the way, even when the alignment direction of the alignment films 41 and 45 is oblique to the scanning line 31 or in a direction parallel or orthogonal to the scanning line 31, the voltage supplied to the scanning line 31 is actually driven. Is higher than the voltage supplied to the signal line 32, the potential difference between the scanning line 31 and the pixel electrode 34 is considerably larger than the potential difference between the signal line 32 and the pixel electrode 34. Therefore, in order to further reduce the light leakage due to the disclination, it is desirable that the side where the light leakage due to the disclination is small is on the scanning line 31 side and the side where the light leakage is large is on the signal line 32 side. For this reason, in the case of the four alignment states shown in FIG. 12, the alignment states shown in (B) and (D) are more preferable than the alignment states shown in (A) and (C). In the case of the four alignment states shown in FIG. 13, the alignment states shown in FIGS. 13A and 13C are more preferable than the alignment states shown in FIGS. 13B and 13D.
【0026】一方、図1に示すように、画素電極34と
信号線32との間に接地電位または共通電極44と同電
位にされた補助容量電極35(左側引出部35b及び右
側引出部35c)が存在する場合には、この存在する補
助容量電極35がその部分の横方向電界を緩和するシー
ルド電極として作用する。このようなことは、画素電極
34と走査線31との間に補助容量電極35が存在する
場合も同様である。そこで、すでに説明したように、図
12(B)、(D)及び図13(A)、(C)にそれぞ
れ示す配向状態が望ましいが、さらにこれらの配置状態
において、ディスクリネーションによる光漏れが最大と
なる画素電極34の辺部を含む隣接する2辺または3辺
に沿って、該画素電極34の辺部と重なる領域と該画素
電極34の辺部の外側に位置する領域とを有するように
配置すると、ディスクリネーションによる光漏れをより
一層低減することができるとともに、開口率をより一層
大きくすることができることになる。On the other hand, as shown in FIG. 1, an auxiliary capacitance electrode 35 (left extraction portion 35b and right extraction portion 35c) between the pixel electrode 34 and the signal line 32 is set to the ground potential or the same potential as the common electrode 44. Is present, the existing auxiliary capacitance electrode 35 acts as a shield electrode for reducing the lateral electric field in that portion. The same applies to the case where the auxiliary capacitance electrode 35 exists between the pixel electrode 34 and the scanning line 31. Therefore, as described above, the orientation states shown in FIGS. 12B and 12D and FIGS. 13A and 13C are desirable. However, in these arrangement states, light leakage due to disclination may occur. Along the adjacent two or three sides including the side of the pixel electrode 34 which is the largest, there is a region overlapping the side of the pixel electrode 34 and a region located outside the side of the pixel electrode 34. In this arrangement, light leakage due to disclination can be further reduced, and the aperture ratio can be further increased.
【0027】このようなことから、図12(B)におい
て点線の矢印で示すように、下配向膜41の配向方向が
右斜め上方向である場合には、図14に示すように、補
助容量電極35を画素電極34の左辺側、右辺側及び下
辺側に配置した方が望ましい。図12(D)において点
線の矢印で示すように、下配向膜41の配向方向が左斜
め下方向である場合には、図15に示すように、補助容
量電極35を画素電極34の左辺側、右辺側及び上辺側
に配置した方が望ましい。図13(A)において点線の
矢印で示すように、下配向膜41の配向方向が上方向で
ある場合には、図16に示すように、補助容量電極35
を画素電極34の左辺側及び下辺側に配置した方が望ま
しい。図13(C)において点線の矢印で示すように、
下配向膜41の配向方向が下方向である場合には、図1
7に示すように、補助容量電極35を画素電極34の右
辺側及び上辺側に配置した方が望ましい。For this reason, when the orientation direction of the lower alignment film 41 is obliquely upward to the right as shown by the dotted arrow in FIG. 12B, as shown in FIG. It is preferable that the electrodes 35 are arranged on the left side, right side, and lower side of the pixel electrode 34. When the alignment direction of the lower alignment film 41 is obliquely downward to the left as shown by the dotted arrow in FIG. 12D, the auxiliary capacitance electrode 35 is connected to the left side of the pixel electrode 34 as shown in FIG. , On the right side and the upper side. As shown by the dotted arrow in FIG. 13A, when the orientation direction of the lower orientation film 41 is the upward direction, as shown in FIG.
Are preferably arranged on the left side and the lower side of the pixel electrode 34. As shown by a dotted arrow in FIG.
When the orientation direction of the lower orientation film 41 is downward, FIG.
As shown in FIG. 7, it is preferable that the auxiliary capacitance electrode 35 be disposed on the right side and the upper side of the pixel electrode 34.
【0028】なお、間隙部の幅Lを変化させてディスク
リネーションに対する依存性を調べたところ、図18
(A)及び(B)に示す結果が得られた。このうち図1
8(A)は間隙部の幅Lとピーク側での光漏れの浸透距
離との関係を示し、(B)は間隙部の幅Lとピーク側電
極端でのY値との関係を示す。これらの図において、実
線は図3に示す配向状態の場合を示し、点線は図6に示
す配向状態の場合を示し、一点差線は図8に示す配向状
態の場合を示し、二点差線は図10に示す配向状態の場
合を示す。そして、特に図18(A)を見ると、間隙部
の幅Lが大きいほど光漏れの浸透距離が小さく、且つ1
d以上であるとほとんど変化しないことが分かる。その
理由は、反対符号の画素電極34と信号線32との間の
距離が大きくなれば、横方向電界の大きさが当然のこと
ながら小さくなるからである。したがって、間隙部の幅
Lは、あまり大きくすると画素電極34の面積が小さく
なるので、1程度以上でなるべく小さい方が望ましい。The dependence on the disclination was examined by changing the width L of the gap.
The results shown in (A) and (B) were obtained. Figure 1
8A shows the relationship between the width L of the gap and the penetration distance of light leakage on the peak side, and FIG. 8B shows the relationship between the width L of the gap and the Y value at the peak-side electrode end. In these figures, the solid line shows the case of the orientation state shown in FIG. 3, the dotted line shows the case of the orientation state shown in FIG. 6, the dashed line shows the case of the orientation state shown in FIG. 11 shows a case of the orientation state shown in FIG. 18 (A), the greater the width L of the gap, the smaller the penetration distance of light leakage, and
It can be seen that there is almost no change if d or more. The reason is that if the distance between the pixel electrode 34 having the opposite sign and the signal line 32 increases, the magnitude of the horizontal electric field naturally decreases. Therefore, if the width L of the gap is too large, the area of the pixel electrode 34 becomes small. Therefore, it is preferable that the width L is as small as about 1 or more.
【0029】次に、プレチルト角θeを変化させてディ
スクリネーションに対する依存性を調べたところ、図1
9及び図20に示す結果が得られた。このうち図19
(A)はプレチルト角θeとピークのY値との関係を示
し、(B)はプレチルト角θeとピーク側での光漏れの
浸透距離との関係を示す。図20(A)はプレチルト角
θeとピーク反対側電極端でのY値との関係を示し、
(B)はプレチルト角θeとピーク反対側での光漏れの
浸透距離との関係を示す。これらの図において、実線は
図3に示す配向状態の場合を示し、点線は図6に示す配
向状態の場合を示し、一点差線は図8に示す配向状態の
場合を示し、二点差線は図10に示す配向状態の場合を
示す。そして、特に図19(B)を見ると、ピーク側で
の光漏れの浸透距離はプレチルト角θeが大きくなるほ
ど短くなる。特に、プレチルト角θeが5°以上の高プ
レチルト配向膜とすると、ディスクリネーションによる
光漏れを改善することができることが分かる。しかしな
がら、この発明は高プレチルト配向に限られるものでは
なく、プレチルト角が3°程度の通常の場合にも効果を
奏する。Next, the dependency on disclination was examined by changing the pretilt angle θe.
9 and the results shown in FIG. 20 were obtained. Among them, FIG.
(A) shows the relationship between the pretilt angle θe and the Y value of the peak, and (B) shows the relationship between the pretilt angle θe and the penetration distance of light leakage on the peak side. FIG. 20A shows the relationship between the pretilt angle θe and the Y value at the electrode end opposite to the peak,
(B) shows the relationship between the pretilt angle θe and the penetration distance of light leakage on the side opposite to the peak. In these figures, the solid line shows the case of the orientation state shown in FIG. 3, the dotted line shows the case of the orientation state shown in FIG. 6, the dashed line shows the case of the orientation state shown in FIG. 11 shows a case of the orientation state shown in FIG. 19B, the penetration distance of light leakage on the peak side becomes shorter as the pretilt angle θe becomes larger. In particular, it can be understood that light leakage due to disclination can be improved by using a high pretilt alignment film having a pretilt angle θe of 5 ° or more. However, the present invention is not limited to a high pretilt orientation, and is effective even in a normal case where the pretilt angle is about 3 °.
【0030】次に、図21はこの発明の他の実施例にお
けるマトリックス型液晶表示装置の要部を示したもので
ある。この図において、図2と同一名称部分には同一の
符号を付し、その説明を適宜省略する。この実施例で
は、図示していないが、薄膜トランジスタに対応する部
分における上基板25の下面にのみ遮光膜は設けられ、
それ以外の部分にはカラーフィルタ43のみが設けら
れ、その代わりに、補助容量電極35が遮光膜を兼ねて
いる。そして、例えば図2に示す場合と同様に、補助容
量電極35の開口部35aの左辺開口縁と画素電極34
の左辺との間隔を0.3dとし、補助容量電極35の開
口部35aの右辺開口縁と画素電極34の右辺との間隔
を0.5dとすると、ディスクリネーションによる光漏
れを低減することができるとともに、開口率をなるべく
大きくすることができることになる。また、配向膜4
1、45の配向状態を図12(B)、(D)及び図13
(A)、(C)にそれぞれ示す配向状態とし、且つ補助
容量電極35の配置状態を図14〜図17にそれぞれ示
す場合とほぼ同様とした方が望ましい。FIG. 21 shows a main part of a matrix type liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention. In this figure, the same parts as those in FIG. In this embodiment, although not shown, a light-shielding film is provided only on the lower surface of the upper substrate 25 in a portion corresponding to the thin film transistor,
In other portions, only the color filter 43 is provided. Instead, the auxiliary capacitance electrode 35 also serves as a light shielding film. Then, as in the case shown in FIG. 2, for example, the left edge of the opening 35a of the auxiliary capacitance electrode 35 and the pixel electrode 34
If the distance between the right side of the opening 35a of the auxiliary capacitance electrode 35 and the right side of the pixel electrode 34 is 0.5d, the light leakage due to disclination can be reduced. It is possible to increase the aperture ratio as much as possible. Also, the alignment film 4
13 (B), (D) and FIG.
It is desirable that the alignment states shown in FIGS. 14A and 14C are respectively set, and the arrangement state of the auxiliary capacitance electrodes 35 is almost the same as the cases shown in FIGS.
【0031】なお、薄膜トランジスタを遮光する遮光膜
を下基板24に設けた場合には、上基板25には遮光膜
を設ける必要はない。また、スイッチング素子として、
薄膜トラジスタの代わりに、MIM(金属−絶縁膜−金
属)等の非線形素子を用いてもよい。また、下配向膜4
1と上配向膜45の配向方向は、必ずしも90°の角度
で交差するもののみに限らず、90°〜130°の角度
で交差するものにも適用可能である。さらに、この発明
は、カラー表示や透過型でなく、白黒表示や反射型のT
N−LCDにも適用することができる。When a light-shielding film for shielding the thin film transistor is provided on the lower substrate 24, it is not necessary to provide the upper substrate 25 with a light-shielding film. In addition, as a switching element,
Instead of the thin film transistor, a non-linear element such as MIM (metal-insulating film-metal) may be used. The lower alignment film 4
The orientation directions of 1 and the upper alignment film 45 are not limited to those that intersect at an angle of 90 °, but can be applied to those that intersect at an angle of 90 ° to 130 °. Further, the present invention is not limited to a color display or a transmission type, but a black and white display or a reflection type T
It can also be applied to N-LCDs.
【0032】[0032]
【発明の効果】この発明によれば、補助容量電極を、デ
ィスクリネーションによる光漏れが最大となる側の画素
電極の辺部を含む隣接する3辺に沿って設け、補助容量
電極のディスクリネーションによる光漏れが相対的に大
きい側の1辺の前記画素電極側の端部を、相対的に小さ
い側の1辺の前記画素電極側の端部よりも0.4d以上
前記画素電極の内側に配置したので、ディスクリネーシ
ョンによる光漏れを低減することができるとともに、開
口率をなるべく大きくすることができる。According to the present invention, the auxiliary capacitance electrode is provided along three adjacent sides including the side of the pixel electrode on the side where light leakage due to disclination is maximized.
Light leakage due to electrode disclination is relatively large
The edge of the pixel electrode side of one side on the threshold side is relatively small.
0.4d or more than the pixel electrode side end of one side
Since it is arranged inside the pixel electrode, light leakage due to disclination can be reduced, and the aperture ratio can be made as large as possible.
【図1】この発明の一実施例におけるマトリックス型液
晶表示装置の要部を示す平面図。FIG. 1 is a plan view showing a main part of a matrix type liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1のX−X線に沿う断面図。FIG. 2 is a sectional view taken along line XX of FIG. 1;
【図3】1つの画素電極とその周囲の走査線及び信号線
の部分を示す概略平面図。FIG. 3 is a schematic plan view showing one pixel electrode and portions of a scanning line and a signal line around the pixel electrode.
【図4】図3のZ−Z線に沿う概略断面図。FIG. 4 is a schematic sectional view taken along the line ZZ in FIG. 3;
【図5】(A)は図3に示す配向状態における液晶の配
向ベクトル図と等電位曲線とを重ね合わせた図、(B)
は同配向状態における液晶の配向ベクトル図とY値とを
重ね合わせた図。5A is a diagram in which an alignment vector diagram of the liquid crystal in the alignment state shown in FIG. 3 and an equipotential curve are superimposed, and FIG.
FIG. 3 is a diagram in which the orientation vector diagram of the liquid crystal and the Y value in the same orientation state are superimposed.
【図6】図3に示す配向状態を時計方向に45°回転さ
せた場合の配向状態を示す概略平面。FIG. 6 is a schematic plan view showing an orientation state when the orientation state shown in FIG. 3 is rotated clockwise by 45 °.
【図7】(A)は図6に示す配向状態における液晶の配
向ベクトル図と等電位曲線とを重ね合わせた図、(B)
は同配向状態における液晶の配向ベクトル図とY値とを
重ね合わせた図。7A is a diagram in which an orientation vector diagram of the liquid crystal in the orientation state shown in FIG. 6 and an equipotential curve are superimposed, and FIG.
FIG. 3 is a diagram in which the orientation vector diagram of the liquid crystal and the Y value in the same orientation state are superimposed.
【図8】図6に示す配向状態を時計方向に45°回転さ
せた場合の配向状態を示す概略平面。FIG. 8 is a schematic plan view showing an alignment state when the alignment state shown in FIG. 6 is rotated clockwise by 45 °.
【図9】(A)は図8に示す配向状態における液晶の配
向ベクトル図と等電位曲線とを重ね合わせた図、(B)
は同配向状態における液晶の配向ベクトル図とY値とを
重ね合わせた図。9A is a diagram in which an orientation vector diagram of the liquid crystal in the orientation state shown in FIG. 8 and an equipotential curve are superimposed, and FIG.
FIG. 3 is a diagram in which the orientation vector diagram of the liquid crystal and the Y value in the same orientation state are superimposed.
【図10】図8に示す配向状態を時計方向に45°回転
させた場合の配向状態を示す概略平面。FIG. 10 is a schematic plan view showing an orientation state when the orientation state shown in FIG. 8 is rotated clockwise by 45 °.
【図11】(A)は図10に示す配向状態における液晶
の配向ベクトル図と等電位曲線とを重ね合わせた図、
(B)は同配向状態における液晶の配向ベクトル図とY
値とを重ね合わせた図。11A is a diagram in which an alignment vector diagram of a liquid crystal in the alignment state shown in FIG. 10 and an equipotential curve are superimposed, FIG.
(B) shows the orientation vector diagram of the liquid crystal in the same orientation state and Y
The figure which superimposed the value.
【図12】(A)は図3に示す配向状態におけるディス
クリネーション発生位置を説明するために示す図、
(B)〜(D)はそれぞれ(A)に示す配向状態から時
計方向に90°ずつ回転させた場合の各配向状態におけ
るディスクリネーション発生位置を説明するために示す
図。12A is a diagram illustrating a disclination generation position in the orientation state illustrated in FIG. 3;
(B)-(D) is a figure shown for demonstrating the disclination generation position in each orientation state at the time of rotating 90 degrees clockwise from the orientation state shown in (A), respectively.
【図13】(A)は図6に示す配向状態におけるディス
クリネーション発生位置を説明するために示す図、
(B)〜(D)はそれぞれ(A)に示す配向状態から時
計方向に90°ずつ回転させた場合の各配向状態におけ
るディスクリネーション発生位置を説明するために示す
図。13A is a view for explaining a disclination occurrence position in the orientation state shown in FIG. 6, FIG.
(B)-(D) is a figure shown for demonstrating the disclination generation position in each orientation state at the time of rotating 90 degrees clockwise from the orientation state shown in (A), respectively.
【図14】図12(B)に示す配向状態における補助容
量電極の配置状態を示す図。FIG. 14 is a diagram showing an arrangement state of storage capacitor electrodes in the orientation state shown in FIG.
【図15】図12(D)に示す配向状態における補助容
量電極の配置状態を示す図。FIG. 15 is a diagram showing an arrangement state of auxiliary capacitance electrodes in the orientation state shown in FIG.
【図16】図13(A)に示す配向状態における補助容
量電極の配置状態を示す図。FIG. 16 is a diagram showing an arrangement state of storage capacitor electrodes in the orientation state shown in FIG.
【図17】図13(C)に示す配向状態における補助容
量電極の配置状態を示す図。FIG. 17 is a view showing an arrangement state of storage capacitor electrodes in the orientation state shown in FIG.
【図18】(A)は間隙部の幅Lとピーク側での光漏れ
の浸透距離との関係を示す図、(B)は間隙部の幅Lと
ピーク側電極端でのY値との関係を示す図。18A is a diagram showing the relationship between the width L of the gap and the penetration distance of light leakage at the peak side, and FIG. 18B is a diagram showing the relationship between the width L of the gap and the Y value at the peak-side electrode end; The figure which shows a relationship.
【図19】(A)はプレチルト角θeとピークのY値と
の関係を示す図、(B)はプレチルト角θeとピーク側
での光漏れの浸透距離との関係を示す図。19A is a diagram illustrating a relationship between a pretilt angle θe and a Y value of a peak, and FIG. 19B is a diagram illustrating a relationship between a pretilt angle θe and a penetration distance of light leakage on a peak side.
【図20】(A)はプレチルト角θeとピーク反対側電
極端でのY値との関係を示す図、(B)はプレチルト角
θeとピーク反対側での光漏れの浸透距離との関係を示
す図。FIG. 20A is a diagram showing the relationship between the pretilt angle θe and the Y value at the electrode end on the opposite side of the peak, and FIG. 20B is a diagram showing the relationship between the pretilt angle θe and the penetration distance of light leakage on the opposite side of the peak. FIG.
【図21】この発明の他の実施例におけるマトリックス
型液晶表示装置の要部を示す断面図。FIG. 21 is a sectional view showing a main part of a matrix type liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention.
【図22】従来のマトリックス型液晶表示装置の一部の
断面図。FIG. 22 is a cross-sectional view of a part of a conventional matrix type liquid crystal display device.
【図23】1つの画素部においてディスクリネーション
が発生した様子を示す平面図。FIG. 23 is a plan view showing a state where disclination has occurred in one pixel portion.
24 下基板 25 上基板 26 液晶 31 走査線 32 信号線 33 薄膜トランジスタ 34 画素電極 35 補助容量電極 41 下配向膜 42 遮光膜 42a 開口部 44 共通電極(対向電極) 45 上配向膜 Reference Signs List 24 lower substrate 25 upper substrate 26 liquid crystal 31 scan line 32 signal line 33 thin film transistor 34 pixel electrode 35 auxiliary capacitance electrode 41 lower alignment film 42 light shielding film 42a opening 44 common electrode (opposite electrode) 45 upper alignment film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1337 G02F 1/136 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/1337 G02F 1/136
Claims (6)
形成され、隣接する前記走査線と隣接する前記信号線と
の間に画素電極が形成され、該画素電極とそれに対応す
る前記走査線及び前記信号線とを接続するスイッチング
素子が形成され、前記画素電極上に第1の配向膜が形成
された第1の基板と、前記画素電極に対向する対向電極
が形成され、該対向電極上に前記第1の配向膜とほぼ直
交する方向に配向された第2の配向膜が形成された第2
の基板と、前記第1と第2の配向膜間に介在された液晶
とを備えたマトリックス型液晶表示装置において、 ディスクリネーションによる光漏れが最大となる側の前
記画素電極の辺部を含む隣接する3辺に沿って、該画素
電極の辺部と重なる領域と該画素電極の辺部の外側に位
置する領域とを有する3辺からなる補助容量電極を、前
記第1の基板に前記画素電極と絶縁膜を介して対向する
ように配置し、且つ前記補助容量電極の隣接する3辺の
うち、ディスクリネーションによる光漏れが相対的に大
きい側の1辺の前記画素電極側の端部を、相対的に小さ
い側の1辺の前記画素電極側の端部よりも0.4d(d
は第1の配向膜と第2の配向膜との間の長さ)以上前記
画素電極の内側に配置していることを特徴とするマトリ
ックス型液晶表示装置。1. A plurality of scanning lines and a plurality of signal lines are formed to intersect with each other, and a pixel electrode is formed between the adjacent scanning line and the adjacent signal line, and the pixel electrode and the corresponding pixel electrode are formed. A switching element for connecting a scanning line and the signal line is formed, a first substrate on which a first alignment film is formed on the pixel electrode, and a counter electrode facing the pixel electrode are formed. A second alignment film formed on an electrode and having a second alignment film oriented in a direction substantially orthogonal to the first alignment film;
And a liquid crystal interposed between the first and second alignment films, comprising a side of the pixel electrode on a side where light leakage due to disclination is maximized. Along the three adjacent sides , an auxiliary capacitance electrode having three sides having a region overlapping with the side of the pixel electrode and a region located outside the side of the pixel electrode is provided on the first substrate by the pixel. An end on the pixel electrode side of one of three adjacent sides of the storage capacitor electrode, the side on which light leakage due to disclination is relatively large among the three sides adjacent to the storage capacitor electrode; Is smaller than the edge on the pixel electrode side of one side on a relatively small side by 0.4 d (d
Is a length between the first alignment film and the second alignment film) or more inside the pixel electrode.
査線の配線方向を左右方向としたとき、右斜め上方向、
左斜め下方向、上方向及び下方向のいずれかの方向とし
たことを特徴とする請求項1記載のマトリックス型液晶
表示装置。2. An obliquely rightward upper direction, wherein the orientation direction of the first orientation film is a horizontal direction of a wiring direction of the scanning line.
2. The matrix type liquid crystal display device according to claim 1, wherein the direction is one of a left oblique downward direction, an upward direction, and a downward direction.
査線の配線方向を左右方向としたとき、右斜め上方向と
し、且つ前記補助容量電極を前記画素電極の左辺側、右
辺側及び下辺側に配置したことを特徴とする請求項1記
載のマトリックス型液晶表示装置。3. An alignment direction of the first alignment film is a diagonally upper right direction when a wiring direction of the scanning line is a horizontal direction, and the auxiliary capacitance electrode is a left side and a right side of the pixel electrode. 2. A matrix type liquid crystal display device according to claim 1, wherein said matrix type liquid crystal display device is arranged on a lower side.
査線の配線方向を左右方向としたとき、左斜め下方向と
し、且つ前記補助容量電極を前記画素電極の左辺側、右
辺側及び上辺側に配置したことを特徴とする請求項1記
載のマトリックス型液晶表示装置。4. An alignment direction of the first alignment film is a diagonally lower left direction when a wiring direction of the scanning line is a horizontal direction, and the auxiliary capacitance electrode is a left side and a right side of the pixel electrode. 2. The matrix type liquid crystal display device according to claim 1, wherein said matrix type liquid crystal display device is arranged on an upper side.
査線の配線方向を左右方向としたとき、上方向とし、且
つ前記補助容量電極を前記画素電極の左辺側及び下辺側
に配置したことを特徴とする請求項1記載のマトリック
ス型液晶表示装置。5. An alignment direction of the first alignment film is set to an upper direction when a wiring direction of the scanning line is set to a horizontal direction, and the auxiliary capacitance electrode is disposed on a left side and a lower side of the pixel electrode. 2. A matrix type liquid crystal display device according to claim 1, wherein:
査線の配線方向を左右方向としたとき、下方向とし、且
つ前記補助容量電極を前記画素電極の右辺側及び上辺側
に配置したことを特徴とする請求項1記載のマトリック
ス型液晶表示装置。6. An alignment direction of the first alignment film is set to a downward direction when a wiring direction of the scanning line is set to a horizontal direction, and the auxiliary capacitance electrode is disposed on a right side and an upper side of the pixel electrode. 2. A matrix type liquid crystal display device according to claim 1, wherein:
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|---|---|---|---|
| JP25981594A JP3132964B2 (en) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | Matrix type liquid crystal display |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP25981594A JP3132964B2 (en) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | Matrix type liquid crystal display |
Related Child Applications (1)
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Families Citing this family (1)
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|---|---|---|---|---|
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1994
- 1994-09-30 JP JP25981594A patent/JP3132964B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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