JP3136161B2 - ステレオリソグラフィを使用した物体を製造する装置および方法 - Google Patents
ステレオリソグラフィを使用した物体を製造する装置および方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、ステレオリソグラフィを使用した物体を製
造する装置および方法に関する。
造する装置および方法に関する。
この種類の装置は、ドイツ特許第4134265号に開示さ
れている。その中で開示されているワイパーは、非粘着
性の被覆を有するか、あるいは低粘着特性を有する材料
から形成されている。もし、このようなワイパーの粘着
力が低ければ、ワイパーと液体樹脂材料の接触が、ワイ
ピング操作の間に局部的に壊される危険性がある。これ
は、いわゆる濡れの悪さ(デウエッティング)を引き起
こすことになる。しかしながら、もしワイパーが大きな
表面張力を有する材料から形成されていれば、樹脂材料
がワイパーの後側で再度もち上がるので、不規則な塗布
膜となる。
れている。その中で開示されているワイパーは、非粘着
性の被覆を有するか、あるいは低粘着特性を有する材料
から形成されている。もし、このようなワイパーの粘着
力が低ければ、ワイパーと液体樹脂材料の接触が、ワイ
ピング操作の間に局部的に壊される危険性がある。これ
は、いわゆる濡れの悪さ(デウエッティング)を引き起
こすことになる。しかしながら、もしワイパーが大きな
表面張力を有する材料から形成されていれば、樹脂材料
がワイパーの後側で再度もち上がるので、不規則な塗布
膜となる。
ステレオリソグラフィのために、様々な塗布工程が知
られている。欧州特許第0171069号によれば、光硬化樹
脂の液体層が、物体を液槽の中で所望の層厚を越える量
だけ降下させ、その後、その物体を液槽の表面から所定
の層厚だけ下の高さ位置まで上昇させることによって、
施される。欧州特許第0250121では、一層分の材料を一
つのインレットを使用して上から供給する方法が開示さ
れており、WO91/12120号ではスプレーチューブが使用さ
れている。上述の供給方法では、所望の層厚の調整速度
が最適化できない。
られている。欧州特許第0171069号によれば、光硬化樹
脂の液体層が、物体を液槽の中で所望の層厚を越える量
だけ降下させ、その後、その物体を液槽の表面から所定
の層厚だけ下の高さ位置まで上昇させることによって、
施される。欧州特許第0250121では、一層分の材料を一
つのインレットを使用して上から供給する方法が開示さ
れており、WO91/12120号ではスプレーチューブが使用さ
れている。上述の供給方法では、所望の層厚の調整速度
が最適化できない。
速く層厚を達成するために、ワイパーを使用した供給
方法が知られている。ドイツ特許第4134265号に記載さ
れている最も簡単な方法では、形成されるべき物体を支
持するサポートが、光硬化樹脂材料の液体の液槽内で所
望の層厚に対応する量だけ降下され、これにより、まだ
硬化してない材料が前に硬化した層の上にその端部から
流れ込む。ワイパーを用いて所望の層厚を達成する速度
を増加するために、材料は前に硬化した層上に広げられ
る。その塗布操作は、また、液槽内でサポートを所定の
層厚より大きい量だけ降下させ、次にワイパーを使用し
て広げることによって、迅速に行われることになる。し
かしながら、これらの方法は、得られた層厚が所望の層
厚よりも非常に大きいという欠点がある。出願人の知る
ところによれば、この問題は、液槽内でサポートを降下
させることによって排除された樹脂を集め、それを、連
続して稼働している低圧ポンプを用いてワイピング動作
中のワイパーの直前に再供給して見掛上連続塗布を達成
することによって、解決できる。良く知られている他の
供給方法は、いわゆるコーターチャンネル(塗布溝)方
法といわれるものである。即ち、降下操作によって排除
された樹脂を、全て一度のポンプ動作によって、ワイパ
ーの操作方向即ち走行方向においてワイパーの前に配置
された塗布溝に供給し、そこから、塗布溝の出口を通っ
てワイパーの直前に供給する。塗布溝からの樹脂の供給
は量は、その時の塗布溝内の充填レベルの関数として、
塗布されるべき表面に亘って指数的となる。すなわち、
塗布溝の中の樹脂が少なくなれば、供給量は少なくな
る。したがって、生成される層厚は塗布距離とともに減
少する。
方法が知られている。ドイツ特許第4134265号に記載さ
れている最も簡単な方法では、形成されるべき物体を支
持するサポートが、光硬化樹脂材料の液体の液槽内で所
望の層厚に対応する量だけ降下され、これにより、まだ
硬化してない材料が前に硬化した層の上にその端部から
流れ込む。ワイパーを用いて所望の層厚を達成する速度
を増加するために、材料は前に硬化した層上に広げられ
る。その塗布操作は、また、液槽内でサポートを所定の
層厚より大きい量だけ降下させ、次にワイパーを使用し
て広げることによって、迅速に行われることになる。し
かしながら、これらの方法は、得られた層厚が所望の層
厚よりも非常に大きいという欠点がある。出願人の知る
ところによれば、この問題は、液槽内でサポートを降下
させることによって排除された樹脂を集め、それを、連
続して稼働している低圧ポンプを用いてワイピング動作
中のワイパーの直前に再供給して見掛上連続塗布を達成
することによって、解決できる。良く知られている他の
供給方法は、いわゆるコーターチャンネル(塗布溝)方
法といわれるものである。即ち、降下操作によって排除
された樹脂を、全て一度のポンプ動作によって、ワイパ
ーの操作方向即ち走行方向においてワイパーの前に配置
された塗布溝に供給し、そこから、塗布溝の出口を通っ
てワイパーの直前に供給する。塗布溝からの樹脂の供給
は量は、その時の塗布溝内の充填レベルの関数として、
塗布されるべき表面に亘って指数的となる。すなわち、
塗布溝の中の樹脂が少なくなれば、供給量は少なくな
る。したがって、生成される層厚は塗布距離とともに減
少する。
公知のワイパーを使用する時に遭遇する一般的な問題
は、使用される樹脂あるいはプラスチック材料とワイパ
ーとの相互作用、即ち、前記した濡れの悪さを生ずる相
互作用である。さらに、図8および9に示されるよう
に、“閉容積”(closed volumes)100即ち、固化した
樹脂101によって囲まれている液体樹脂の領域内でのワ
イパーの周囲の流れが、液槽の表面に片勾配を生じさ
せ、これにより、物体の寸法、特に“閉容積”内の部分
の寸法が変化する(CV+,CV−効果)。さらに、ワイパ
ーを使用する公知の塗布方法の欠点は、図10に示されて
いるように、塗布中に、固化した層と固化していない樹
脂との境界面に突出部102が生ずることである。さら
に、ワイパーの周囲の流れによって表面に凹凸が生じ、
物体の寸法が不正確となる。
は、使用される樹脂あるいはプラスチック材料とワイパ
ーとの相互作用、即ち、前記した濡れの悪さを生ずる相
互作用である。さらに、図8および9に示されるよう
に、“閉容積”(closed volumes)100即ち、固化した
樹脂101によって囲まれている液体樹脂の領域内でのワ
イパーの周囲の流れが、液槽の表面に片勾配を生じさ
せ、これにより、物体の寸法、特に“閉容積”内の部分
の寸法が変化する(CV+,CV−効果)。さらに、ワイパ
ーを使用する公知の塗布方法の欠点は、図10に示されて
いるように、塗布中に、固化した層と固化していない樹
脂との境界面に突出部102が生ずることである。さら
に、ワイパーの周囲の流れによって表面に凹凸が生じ、
物体の寸法が不正確となる。
本発明の目的は、ステレオリソグラフィを使用する3
次元物体を製造する装置および方法において、精度の向
上した物体を製造する方法および装置を提供することで
ある。特に、層厚の調整を確実簡単にすることである。
次元物体を製造する装置および方法において、精度の向
上した物体を製造する方法および装置を提供することで
ある。特に、層厚の調整を確実簡単にすることである。
この目的は、以下に述べる本発明による装置および方
法によってそれぞれ達成される。
法によってそれぞれ達成される。
すなわち、本発明によるステレオリソグラフィを使用
した物体を製造する装置は、電磁放射の作用により固化
する液体あるいは粉末の材料の浴を容れるためのタンク
と、 浴面に関連した位置に物体を位置付けるためのサ
ポートと、 電磁放射を行うことによって前記浴面にて前記材料の
層を固化するための装置を有するステレオリソグラフィ
によって物体を製造する装置において、 前記タンクを横切って延在し固化性材料を供給するた
めの供給装置を有し、該供給装置は、その下面に放出開
口部を有し、 前記供給装置は配量装置を備え、前記放出開口部は前
記配量装置の底面にそこを横切って延在する、幅が調整
可能なギャップを有し、 前記配量装置には、ポンプにより前記タンクから導管
を介して前記固化性材料が供給されることを特徴とする
ものである。
した物体を製造する装置は、電磁放射の作用により固化
する液体あるいは粉末の材料の浴を容れるためのタンク
と、 浴面に関連した位置に物体を位置付けるためのサ
ポートと、 電磁放射を行うことによって前記浴面にて前記材料の
層を固化するための装置を有するステレオリソグラフィ
によって物体を製造する装置において、 前記タンクを横切って延在し固化性材料を供給するた
めの供給装置を有し、該供給装置は、その下面に放出開
口部を有し、 前記供給装置は配量装置を備え、前記放出開口部は前
記配量装置の底面にそこを横切って延在する、幅が調整
可能なギャップを有し、 前記配量装置には、ポンプにより前記タンクから導管
を介して前記固化性材料が供給されることを特徴とする
ものである。
また、本発明による方法は、電磁放射を照射すること
によって固化する粘性の材料のそれぞれの層を塗布し、
その層の物体に対応する場所を照射により固化すること
によって物体を層状に形成する、ステレオリソグラフィ
によって3次元物体を製造する方法において、 サパートの表面あるいは先に固化された層の表面を横
切って前記材料の供給装置を移動することによって、規
定の層厚を有する層を設けることにより、該材料の層を
サポートあるいは先に固化された層上に塗布する際に、 層厚の調整の少なくとも一部を、前記供給装置の底面
に設けられた材料の放出ギャップの幅を調整することに
よって行い、 前記供給装置への前記材料の供給は該材料を収容した
タンクからポンプにより前記導管を介してなされること
を特徴とするものである。
によって固化する粘性の材料のそれぞれの層を塗布し、
その層の物体に対応する場所を照射により固化すること
によって物体を層状に形成する、ステレオリソグラフィ
によって3次元物体を製造する方法において、 サパートの表面あるいは先に固化された層の表面を横
切って前記材料の供給装置を移動することによって、規
定の層厚を有する層を設けることにより、該材料の層を
サポートあるいは先に固化された層上に塗布する際に、 層厚の調整の少なくとも一部を、前記供給装置の底面
に設けられた材料の放出ギャップの幅を調整することに
よって行い、 前記供給装置への前記材料の供給は該材料を収容した
タンクからポンプにより前記導管を介してなされること
を特徴とするものである。
本発明のさらなる特徴および利点は、図面を参照した
実施の形態の説明から明らかになるであろう。図面に関
して、 図1は、本発明の第1の実施の形態による装置の概略
説明図である。
実施の形態の説明から明らかになるであろう。図面に関
して、 図1は、本発明の第1の実施の形態による装置の概略
説明図である。
図2は、ワイパーの第1の実施例を示している。
図3は、ワイパーの第2の実施例を示している。
図4は、ワイパーの変形例を示している。
図5は、装置の第2の実施の形態の一部概略図を示し
ている。
ている。
図6は、図5の配量装置の断面図である。
図7a−bは、塗布操作を説明する概略断面図である。
図8は、従来のワイパーを使用した時に起こる問題の
概略図である。
概略図である。
図9a−cは、“閉容積”が存在する場合に従来のワイ
パーが使用された時に遭遇する問題点の概略図である。
パーが使用された時に遭遇する問題点の概略図である。
図10は、従来のワイパーを使用した時に起こるもう一
つの問題点の概略説明図である。
つの問題点の概略説明図である。
本発明の装置を、図1から7を参照して説明する。
開口上部を有するタンク1は、光硬化液体樹脂材料
3、例えばUV硬化樹脂によってあるレベル即ち液面2ま
で充填される。実質上平で水平な支持板5を有するサポ
ート4は、タンク1内の樹脂3中に配置される。支持板
5は、液面2に平行に延び、略図に示されている移動装
置即ち高さ調整装置6によって、液面2即ち支持板5に
垂直な方向で上方および下方に移動されまた位置付けら
れる。
3、例えばUV硬化樹脂によってあるレベル即ち液面2ま
で充填される。実質上平で水平な支持板5を有するサポ
ート4は、タンク1内の樹脂3中に配置される。支持板
5は、液面2に平行に延び、略図に示されている移動装
置即ち高さ調整装置6によって、液面2即ち支持板5に
垂直な方向で上方および下方に移動されまた位置付けら
れる。
支持板5上には、物体7が示されている。この物体
は、以下に述べる方法で、液面2および支持板5と平行
に延びている複数の層7a、7b、7c、および7dによって形
成されている。
は、以下に述べる方法で、液面2および支持板5と平行
に延びている複数の層7a、7b、7c、および7dによって形
成されている。
液面に隣接した最上部の層7dを固化する装置8は、光
源を有し光学系10によって収束光11を発生する照射装置
9を有する。偏向ミラー12は、タンク1上ほぼ中央にジ
ンバルに吊下され、略図で示されているピボット装置に
よって旋回させられる。その結果、ミラー12へ入射する
光11が、実質的に液面2上のいかなる場所にも向けられ
る反射光14として反射される。代わりに、公知のよう
に、各座標方向に各一つ宛ての2つの回転ミラーを用い
ることもできる。
源を有し光学系10によって収束光11を発生する照射装置
9を有する。偏向ミラー12は、タンク1上ほぼ中央にジ
ンバルに吊下され、略図で示されているピボット装置に
よって旋回させられる。その結果、ミラー12へ入射する
光11が、実質的に液面2上のいかなる場所にも向けられ
る反射光14として反射される。代わりに、公知のよう
に、各座標方向に各一つ宛ての2つの回転ミラーを用い
ることもできる。
図1に略図で示されているワイパー15は、タンク1の
頂部開口に配置されている。このワイパーはタンク1の
頂部開口を実質的に横切って延びていて、ワイパー15の
長さ方向が実質的に垂直な方向30に液面2を横切る水平
面内でワイパー15を移動させる移動装置26と結合してい
る。
頂部開口に配置されている。このワイパーはタンク1の
頂部開口を実質的に横切って延びていて、ワイパー15の
長さ方向が実質的に垂直な方向30に液面2を横切る水平
面内でワイパー15を移動させる移動装置26と結合してい
る。
移動装置26は、調整可能な速度でワイパー15を移動さ
せるように設計されている。
せるように設計されている。
プロセッサ24は、本質的に公知のステレオリソグラフ
ィック操作を行うために、照射装置9、ピボット装置1
3、高さ調整装置6、そして移動装置26と結合してい
る。
ィック操作を行うために、照射装置9、ピボット装置1
3、高さ調整装置6、そして移動装置26と結合してい
る。
図2から4は、ワイパーの種々の実施例を示し、ワイ
ピング操作中の進行方向が、適当に、それぞれ矢印30で
示されている。
ピング操作中の進行方向が、適当に、それぞれ矢印30で
示されている。
ワイパー15の外形および寸法は、それ自身本来公知の
方法で規定される。図2に示されている第1の実施例に
おいて、ワイパー15は第1材料で作られている本体16を
有している。第1表面部17を形成する材料層が、樹脂材
料3と滑らな接触を得るために、矢印30で示された走行
方向の前表面に施されている。その取り付けは、例え
ば、本体へ固着することによってなされる。この実施例
においては、本体は、対応する凹部を有し、そこに該第
1表面部を構成する被覆材料が固着されている。この第
1の実施例では、本体16は、vitonあるいはPTFEのよう
な材料、あるいは比較的低い表面張力値を有する材料か
ら作られている。アルミニウムあるいは鉄、あるいはそ
れに匹敵する同様の高い表面張カ値を有する材料の被覆
が前面に施されている。
方法で規定される。図2に示されている第1の実施例に
おいて、ワイパー15は第1材料で作られている本体16を
有している。第1表面部17を形成する材料層が、樹脂材
料3と滑らな接触を得るために、矢印30で示された走行
方向の前表面に施されている。その取り付けは、例え
ば、本体へ固着することによってなされる。この実施例
においては、本体は、対応する凹部を有し、そこに該第
1表面部を構成する被覆材料が固着されている。この第
1の実施例では、本体16は、vitonあるいはPTFEのよう
な材料、あるいは比較的低い表面張力値を有する材料か
ら作られている。アルミニウムあるいは鉄、あるいはそ
れに匹敵する同様の高い表面張カ値を有する材料の被覆
が前面に施されている。
図3に示されている変形例は、本体18が、アルミニウ
ムあるいは鉄のような材料、あるいはそれに匹敵する高
い表面張力値を有する材料からなる点で、先の実施例の
ものとは異なる。背面側は、表面部19において、viton
あるいはPTFEのような材料あるいは比較的低い表面張力
値を有する材料で被覆されている。この被覆は表面に固
着させることによってなされる。図示の実施例において
は、本体18の背面側は凹部を有し、そこにvitonあるい
はPTFEの層が、第2の表面部を形成するために、取り付
けられる。
ムあるいは鉄のような材料、あるいはそれに匹敵する高
い表面張力値を有する材料からなる点で、先の実施例の
ものとは異なる。背面側は、表面部19において、viton
あるいはPTFEのような材料あるいは比較的低い表面張力
値を有する材料で被覆されている。この被覆は表面に固
着させることによってなされる。図示の実施例において
は、本体18の背面側は凹部を有し、そこにvitonあるい
はPTFEの層が、第2の表面部を形成するために、取り付
けられる。
図4に示されている実施例において、ワイパーは、矢
印30で示されている進行方向に見て、予備ワイパー20お
よび本来のワイパー部材21から形成される。両方のワイ
パーは、それらの上端で共通ヨーク22によって結合され
ている。これらの共通ヨークは、こうして構成されたワ
イパーを移動装置26に結合されている装置のホルダに設
置するためのものである。進行方向において先行する予
備ワイパー20は、アルミニウムあるいは鉄、あるいはこ
れに匹敵する高い表面張力値を有する材料から形成され
ている。それに続くワイパー部材21は、vitonあるいはP
TFEといった材料、あるいはこれに匹敵する低い表面張
力値を有する材料から形成されている。
印30で示されている進行方向に見て、予備ワイパー20お
よび本来のワイパー部材21から形成される。両方のワイ
パーは、それらの上端で共通ヨーク22によって結合され
ている。これらの共通ヨークは、こうして構成されたワ
イパーを移動装置26に結合されている装置のホルダに設
置するためのものである。進行方向において先行する予
備ワイパー20は、アルミニウムあるいは鉄、あるいはこ
れに匹敵する高い表面張力値を有する材料から形成され
ている。それに続くワイパー部材21は、vitonあるいはP
TFEといった材料、あるいはこれに匹敵する低い表面張
力値を有する材料から形成されている。
操作中において、前側の樹脂フィルムの破損が、比較
的高い表面張力のゆえに防止される。
的高い表面張力のゆえに防止される。
同時に、ワイパーの背面側の過剰な材料の累積が、低
い表面張力値のゆえに防止される。
い表面張力値のゆえに防止される。
図5から7に示されている本発明の装置のもう一つの
実施の形態は、図1から4に示されたワイパー15に加え
て、あるいはその代わりとして、塗布装置50を有してい
る。この装置は、塗布量あるいは樹脂量を正確に配量す
ることが可能で、この結果、層厚調整可能なワイパーを
使用することなく所望の層厚が得られる。
実施の形態は、図1から4に示されたワイパー15に加え
て、あるいはその代わりとして、塗布装置50を有してい
る。この装置は、塗布量あるいは樹脂量を正確に配量す
ることが可能で、この結果、層厚調整可能なワイパーを
使用することなく所望の層厚が得られる。
塗布装置50は、液面2上に配置され、作業面すなわち
液面2を横切って延びている配量装置51を有している。
ギャップ53が、液面2に面している配量装置の底面全体
を通じて延びている。図6に示されているように、配量
装置51は、液面2に直角な面内での断面が実質的に長方
形である2つの部品、すなわち顎部54aおよび54bを有す
る。顎部54a、54bは、それらの対向面間に配量装置51の
ギャップ53を規定するように、ボルト55とスペーサ56に
よって互いにねじ止めされている。ギャップ53の液面2
および配量装置の底面52のそれぞれとは反対側57で、ギ
ャップ53は、顎部54a、54bの間に置かれた例えばゴムあ
るいはシリコンからなる可撓性のあるガスケット58によ
って、密閉される。顎部54aの一つは、他の顎部54bと対
向する面に設けられた溝形の窪み59を有し、この溝形の
窪みは液面2の幅全体に亘って延びている。この窪み59
の目的は、図6示されていない注入口から一定の量の樹
脂を受けて、少量の樹脂の貯えをこの溝形の窪み59内に
維持することである。溝形の窪み59は、注入口に結合さ
れていない側の端部で閉じられており、したがって、樹
脂はギャップ53から強制的に押し出されねばならない。
液面2に面している底面側52において、顎部54aおよび5
4bは、それぞれの面に、突起60aおよび60bを有してい
る。これらの突起は、実質的に三角形の横断面を有し、
液面2の全幅に亘って延在している。突起60aおよび60b
はそれらの間のギャップ53と共に、樹脂を放出するため
の一種のノズルを形成する。ギャップ幅B、すなわち顎
部54aと54bとの間の距離は、スペーサ56の適切な選択に
よって調整される。通常、ギャップ幅はほぼ一つの層厚
に、すなわち、コンマ数ミリメータに選ばれる。液面2
上の配量装置51の高さは、図示されていない高さ調整装
置によって調整される。上記の実施の態様では、ノズル
60a、60bの放出開口部が、液面2の直上であるがそれに
接触しない高さに調整される。
液面2を横切って延びている配量装置51を有している。
ギャップ53が、液面2に面している配量装置の底面全体
を通じて延びている。図6に示されているように、配量
装置51は、液面2に直角な面内での断面が実質的に長方
形である2つの部品、すなわち顎部54aおよび54bを有す
る。顎部54a、54bは、それらの対向面間に配量装置51の
ギャップ53を規定するように、ボルト55とスペーサ56に
よって互いにねじ止めされている。ギャップ53の液面2
および配量装置の底面52のそれぞれとは反対側57で、ギ
ャップ53は、顎部54a、54bの間に置かれた例えばゴムあ
るいはシリコンからなる可撓性のあるガスケット58によ
って、密閉される。顎部54aの一つは、他の顎部54bと対
向する面に設けられた溝形の窪み59を有し、この溝形の
窪みは液面2の幅全体に亘って延びている。この窪み59
の目的は、図6示されていない注入口から一定の量の樹
脂を受けて、少量の樹脂の貯えをこの溝形の窪み59内に
維持することである。溝形の窪み59は、注入口に結合さ
れていない側の端部で閉じられており、したがって、樹
脂はギャップ53から強制的に押し出されねばならない。
液面2に面している底面側52において、顎部54aおよび5
4bは、それぞれの面に、突起60aおよび60bを有してい
る。これらの突起は、実質的に三角形の横断面を有し、
液面2の全幅に亘って延在している。突起60aおよび60b
はそれらの間のギャップ53と共に、樹脂を放出するため
の一種のノズルを形成する。ギャップ幅B、すなわち顎
部54aと54bとの間の距離は、スペーサ56の適切な選択に
よって調整される。通常、ギャップ幅はほぼ一つの層厚
に、すなわち、コンマ数ミリメータに選ばれる。液面2
上の配量装置51の高さは、図示されていない高さ調整装
置によって調整される。上記の実施の態様では、ノズル
60a、60bの放出開口部が、液面2の直上であるがそれに
接触しない高さに調整される。
この実施の形態において、塗布中に配量装置51が移動
する方向においてギャップ53の後側になる配量装置51の
面に、図示されていない付加的なワイパーが設けられて
いる。このワイパーは、ギャップ53から出てくる材料を
平らにするために機能する。
する方向においてギャップ53の後側になる配量装置51の
面に、図示されていない付加的なワイパーが設けられて
いる。このワイパーは、ギャップ53から出てくる材料を
平らにするために機能する。
この配量装置は、前記の移動装置26に結合され、液面
2に平行に、調整された可変走行速度wで移動するよう
に制御される。
2に平行に、調整された可変走行速度wで移動するよう
に制御される。
図5に特に示されているように、配量装置51のギャッ
プ53の注入口61は、導管62を介してタンク1内の樹脂液
3と連通していて、樹脂液および配量装置51の間にポン
プ63が設けられ、漏出なく且つ連続した供給が行われ
る。ポンプ63は、タンク1から導管を介して、樹脂3
を、予め調整された圧力で配量装置51に供給する。ポン
プ63は、大きなストロークボリュームを有するベローポ
ンプとして形成されることが好ましい。ポンプ63のスト
ロークボリュームは、一塗布操作に対して単一のストロ
ークのみが必要とされる大きさとされる。一実施例とし
て、ポンプ63の放出圧力は約1バールである。ポンプ63
は、樹脂3を一定の予め調整されたボリュームレートで
放出するように制御装置65によって制御される。このボ
リュームレートは、変化する、すなわち樹脂の粘性の変
化に基づく反作用圧から独立している。
プ53の注入口61は、導管62を介してタンク1内の樹脂液
3と連通していて、樹脂液および配量装置51の間にポン
プ63が設けられ、漏出なく且つ連続した供給が行われ
る。ポンプ63は、タンク1から導管を介して、樹脂3
を、予め調整された圧力で配量装置51に供給する。ポン
プ63は、大きなストロークボリュームを有するベローポ
ンプとして形成されることが好ましい。ポンプ63のスト
ロークボリュームは、一塗布操作に対して単一のストロ
ークのみが必要とされる大きさとされる。一実施例とし
て、ポンプ63の放出圧力は約1バールである。ポンプ63
は、樹脂3を一定の予め調整されたボリュームレートで
放出するように制御装置65によって制御される。このボ
リュームレートは、変化する、すなわち樹脂の粘性の変
化に基づく反作用圧から独立している。
さらに、制御装置65は、配量装置51の全走行範囲に亘
って、放出される樹脂3の放出ボリュームレートを制御
するように設計されており、それによってギャップ53を
介して放出される樹脂の量が調量される。ポンプの制御
装置65は中央制御24内に結合され、ポンプの駆動は中央
制御内に設けられたプロセッサによって制御される。か
くして、ギャップ53を介して放出される樹脂のボリュー
ムレートが、それぞれの所望の層厚の関数として制御さ
れる。
って、放出される樹脂3の放出ボリュームレートを制御
するように設計されており、それによってギャップ53を
介して放出される樹脂の量が調量される。ポンプの制御
装置65は中央制御24内に結合され、ポンプの駆動は中央
制御内に設けられたプロセッサによって制御される。か
くして、ギャップ53を介して放出される樹脂のボリュー
ムレートが、それぞれの所望の層厚の関数として制御さ
れる。
図7に示されている好ましい実施例において、配量装
置51の突起60a、60bは、液面2の直上というよりむし
ろ、液面2から距離D、例えば、3から5ミリメートル
はなれて配置されている。この場合、ポンプ63は、小さ
なストローク量で運続して操作される、すなわち、一つ
の層の塗布のために数ストロークが必要とされる。この
場合、ポンプ63は、5バールまでの高い放出圧を有す
る。連続して放出圧を保証するために、ポンプ63は、高
い供給圧を一定に維持するために導管62にガス量を付加
するアキュムレータ66に連通している。
置51の突起60a、60bは、液面2の直上というよりむし
ろ、液面2から距離D、例えば、3から5ミリメートル
はなれて配置されている。この場合、ポンプ63は、小さ
なストローク量で運続して操作される、すなわち、一つ
の層の塗布のために数ストロークが必要とされる。この
場合、ポンプ63は、5バールまでの高い放出圧を有す
る。連続して放出圧を保証するために、ポンプ63は、高
い供給圧を一定に維持するために導管62にガス量を付加
するアキュムレータ66に連通している。
このように高圧作業状態においては、制御されない樹
脂の漏出を安全に防ぐために、可動樹脂案内導管を使用
しないことは利点である。この場合、ポンプ63は、配量
装置と共に移動することになる。
脂の漏出を安全に防ぐために、可動樹脂案内導管を使用
しないことは利点である。この場合、ポンプ63は、配量
装置と共に移動することになる。
さらに、塗布層あるいは基準要素の表面の表面レベル
を測定する測定装置を設けることも可能である。基準要
素は、例えば、作業領域の境界線に同時に構築されたキ
ューブである。測定装置は、使用される層の厚さを決定
する。
を測定する測定装置を設けることも可能である。基準要
素は、例えば、作業領域の境界線に同時に構築されたキ
ューブである。測定装置は、使用される層の厚さを決定
する。
本発明の方法において、図5に示されている塗布装置
50を使用して物体の層をそれぞれ固化するために、以下
のステップが行われる。
50を使用して物体の層をそれぞれ固化するために、以下
のステップが行われる。
製造工程を開始する前に、ギャップ幅Bが、適切なス
ペーサを選択することによって所望の層厚の寸法に調整
される。この調整は、また、使用される樹脂の粘性の関
数としてなされる。
ペーサを選択することによって所望の層厚の寸法に調整
される。この調整は、また、使用される樹脂の粘性の関
数としてなされる。
第1ステップにおいて、タンク1内のサポート4は、
高さ調整装置6を使用して所望の層厚に対応した量だ
け、降下される。
高さ調整装置6を使用して所望の層厚に対応した量だ
け、降下される。
この時、ポンプ63はタンク1から規定された量の樹脂
3を供給する。その際、供給量が新たな層を供給するの
に十分であるように、供給ポンプのストロークボリュー
ムが調整される。その後、移動装置26が制御され、配量
装置が液面2を横切って移動する。その際、導管62を介
してギャップ53に流入する樹脂が、配量装置51のギャッ
プ即ちノズル60a、60bを介して先に固化した層の表面に
供給される。配量装置51にその移動方向において後ろに
配置されたワイパー15は、供給された樹脂3の層を平ら
にする。供給された材料の配量装置の走行方向における
均一な分布は、配量装置の供給ボリュームレートおよび
走行速度wを調整することによって得られる。構成要素
欠陥は、配量装置の動作中に塗布量を変化させることに
よって防ぐことができる。
3を供給する。その際、供給量が新たな層を供給するの
に十分であるように、供給ポンプのストロークボリュー
ムが調整される。その後、移動装置26が制御され、配量
装置が液面2を横切って移動する。その際、導管62を介
してギャップ53に流入する樹脂が、配量装置51のギャッ
プ即ちノズル60a、60bを介して先に固化した層の表面に
供給される。配量装置51にその移動方向において後ろに
配置されたワイパー15は、供給された樹脂3の層を平ら
にする。供給された材料の配量装置の走行方向における
均一な分布は、配量装置の供給ボリュームレートおよび
走行速度wを調整することによって得られる。構成要素
欠陥は、配量装置の動作中に塗布量を変化させることに
よって防ぐことができる。
例えば、構成要素は、異なった量の樹脂で塗布される
ように、形成場所内に配置される。
ように、形成場所内に配置される。
図9cに示されているCV+効果は、ポンプ63のストロー
クボリュームを1.8倍の層量に対応するように調整する
ことによって有利に防ぐことができる。
クボリュームを1.8倍の層量に対応するように調整する
ことによって有利に防ぐことができる。
塗布層は、物体に対応する場所を、レーザー光14を使
用して固化する。このために、ピボット装置13が制御さ
れ、偏向された光ビーム14が塗布層の所望の場所を照射
し、その位置の樹脂3を硬化させる。
用して固化する。このために、ピボット装置13が制御さ
れ、偏向された光ビーム14が塗布層の所望の場所を照射
し、その位置の樹脂3を硬化させる。
上記のステップは、物体7が完成するまで繰り返され
る。
る。
本方法のもう一つの実施例によれば、図7aおよび7bに
示されているように、形成工程を開始する前に、ノズル
60a、60bが、液面2上、例えば3〜5mmの間隔Dをもっ
て配置されるように、配量装置51の高さが調整される。
示されているように、形成工程を開始する前に、ノズル
60a、60bが、液面2上、例えば3〜5mmの間隔Dをもっ
て配置されるように、配量装置51の高さが調整される。
前述の実施例にあるように、第1ステップは、タンク
1内でサポート4を、所望の層厚に対応する量だけ降下
させることである。ポンプ63は5バールまでの高い供給
圧で動作される。この目的のために、制御装置65は、ス
トロークボリュームが対応する層量よりも小さくなるよ
うに調整し、その結果、ポンプ63は、一塗布操作中に数
ストローク動作を行い、連続したポンプ動作を行う。ア
キュムレータ66は、ギャップ53への注入口61内の樹脂3
の一定圧力を保証する。高い供給圧の結果として、ギャ
ップ53内の樹脂3の速度vは高くなり、その結果、フィ
ルム層70が、図7aおよび7bに示されるように、ノズル60
a、60bの下側で、先に固化した層あるいは先の未固化層
の上に形成される。配量装置51の走行速度wおよびポン
プ63の供給圧力は、ノズル60a、60bから出る樹脂が、所
望の層厚hに対応した幅を有するフィルム層70を、先の
層の固化領域(図7b)、あるいは未固化領域(図7a)上
に形成するように、調整される。この場合、液面2の樹
脂3と、ノズル60a、60bから放出される材料との間には
何も相互作用はなく、したがって、特に、図9b、9cに示
されているCV+およびCV−の影響、あるいは図10に示さ
れている突起のような不利な影響が避けされる。
1内でサポート4を、所望の層厚に対応する量だけ降下
させることである。ポンプ63は5バールまでの高い供給
圧で動作される。この目的のために、制御装置65は、ス
トロークボリュームが対応する層量よりも小さくなるよ
うに調整し、その結果、ポンプ63は、一塗布操作中に数
ストローク動作を行い、連続したポンプ動作を行う。ア
キュムレータ66は、ギャップ53への注入口61内の樹脂3
の一定圧力を保証する。高い供給圧の結果として、ギャ
ップ53内の樹脂3の速度vは高くなり、その結果、フィ
ルム層70が、図7aおよび7bに示されるように、ノズル60
a、60bの下側で、先に固化した層あるいは先の未固化層
の上に形成される。配量装置51の走行速度wおよびポン
プ63の供給圧力は、ノズル60a、60bから出る樹脂が、所
望の層厚hに対応した幅を有するフィルム層70を、先の
層の固化領域(図7b)、あるいは未固化領域(図7a)上
に形成するように、調整される。この場合、液面2の樹
脂3と、ノズル60a、60bから放出される材料との間には
何も相互作用はなく、したがって、特に、図9b、9cに示
されているCV+およびCV−の影響、あるいは図10に示さ
れている突起のような不利な影響が避けされる。
その後、この層は、前記の実施例と同じ方法で物体に
対応する場所で固化される。
対応する場所で固化される。
上記の塗布方法および対応する装置は、前記の否定的
効果を防ぐことができ、層厚は容易に調整および可変で
きるので有利である。層厚は、配量装置のギャップ幅、
走行速度、およびポンプの設定供給量を変化させること
によって容易に調整できる。高い供給圧および狭いギャ
ップ内での対応する高い圧力降下によって、ギャップを
通って放出される速度への重力の影響が除去されるの
で、層厚の正確性が増加される。さらに、ポンプの放出
量を、一つの層の形成と他の層の形成との間で、あるい
は一つの層を形成している間に変化させることによっ
て、層厚を所望の物体の特性に容易に適合させることが
できる。
効果を防ぐことができ、層厚は容易に調整および可変で
きるので有利である。層厚は、配量装置のギャップ幅、
走行速度、およびポンプの設定供給量を変化させること
によって容易に調整できる。高い供給圧および狭いギャ
ップ内での対応する高い圧力降下によって、ギャップを
通って放出される速度への重力の影響が除去されるの
で、層厚の正確性が増加される。さらに、ポンプの放出
量を、一つの層の形成と他の層の形成との間で、あるい
は一つの層を形成している間に変化させることによっ
て、層厚を所望の物体の特性に容易に適合させることが
できる。
以下、符号の説明をする。
1 タンク 2 浴面 4 サポート 6 高さ調整装置 7 物体 15 ワイパー 26 移動装置 51 配量装置 53 ギャップ 62 導管 63 ポンプ 65 制御装置 66 アキュムレータ B ギャップの幅
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クルック,ガブリエレ ドイツ連邦共和国,80809 ミュンヘン, シュライスハイマー シュトラーセ 207ツェー (56)参考文献 特開 平5−169549(JP,A) 特開 平4−144737(JP,A) 欧州特許出願公開361847(EP,A 2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B29C 67/00
Claims (10)
- 【請求項1】電磁放射の作用により固化する液体あるい
は粉末の材料の浴を容れるためのタンクと、 浴面に関連した位置に物体を位置付けるためのサポート
と、 電磁放射を行うことによって前記浴面にて前記材料の層
を固化するための装置を有するステレオリソグラフィに
よって物体を製造する装置において、 該装置は、前記タンクを横切って延在し前記材料を供給
するための供給装置を有し、該供給装置は、その下面に
放出開口部を有し、 該装置は、さらに、前記供給装置とポンプをつなぐ導管
を有し、 前記供給装置は配量装置を備え、前記放出開口部は前記
配量装置の底面に該底面に沿って延在する、幅が調整可
能なギャップを有し、 前記配量装置には、前記ポンプにより前記タンクから導
管を介して前記固化性材料が供給され、 前記ポンプが、前記材料を一定の予め調整されたボリュ
ームレートで供給するように設計されている制御装置と
結合していることを特徴とする物体を製造する装置。 - 【請求項2】前記ポンプが、一つの層に必要な材料の量
と同じかあるいはそれ以上であるストローク量を有する
ベローポンプから形成され、一層を形成するために一ス
トロークのみで良いことを特徴とする請求の範囲第1項
記載の装置。 - 【請求項3】前記ポンプが、一つの層に必要な材料の量
よりも小さいストローク量を有するベローポンプとして
形成されていることを特徴とする請求の範囲第1項記載
の装置。 - 【請求項4】前記ポンプが、供給圧を一定に維持するた
めに、前記導管にガス量を導入するアキュムレータに連
通していることを特徴とする請求の範囲第3項記載の装
置。 - 【請求項5】前記ポンプが前記配量装置と連通してい
て、前記浴面を横切って該配量装置と共に移動可能であ
ることを特徴とする請求の範囲第1項−第4項いずれか
1項記載の装置。 - 【請求項6】電磁放射を照射することによって固化する
粘性の材料のそれぞれの層を塗布し、その層の物体に対
応する場所を照射により固化することによって物体を層
状に形成する、ステレオリソグラフィによって3次元物
体を製造する方法において、 サポートの表面あるいは先に固化された層の表面を横切
って供給装置を移動することによって規定される層厚を
有する層を配置することにより、前記材料の層をサポー
トあるいは先に固化された層上に塗布する際に、 層厚の調整の少なくとも一部を、前記供給装置の底面に
設けられた前記材料の放出ギャップの幅を調整すること
によって行い、 前記供給装置への前記材料の供給は該材料を収容したタ
ンクからポンプにより導管を介してなされ、 前記材料の浴を含むタンク内で物体を形成すること、お
よび実質的に一定の予め調整されたボリュームレートで
前記材料を供給するポンプを使用して前記材料を前記タ
ンクから前記供給装置に供給することを特徴とする3次
元物体の製造方法。 - 【請求項7】前記ポンプによって運ばれる材料のボリュ
ームレートを、前記供給装置の全走行範囲に亘って制御
することを特徴とする請求の範囲第6項記載の方法。 - 【請求項8】前記浴から、一つの層に要求される量の材
料を前記ポンプの単一ポンピングステップによってポン
ピングすることを特徴とする請求の範囲第6項または第
7項いずれか1項記載の方法。 - 【請求項9】前記浴から、一つの層に要求される量の材
料を、数回のポンピングステップによって供給し、該ポ
ンプを実質的に絶えず稼働させていることを特徴とする
請求の範囲第6項−第8項いずれか1項記載の方法。 - 【請求項10】層厚の調整の少なくとも一部を、前記ポ
ンプの供給圧を変化させることによって行うことを特徴
とする請求の範囲第6項−第9項いずれか1項記載の方
法。
Applications Claiming Priority (3)
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|---|---|---|---|
| DE19515165.8 | 1995-04-25 | ||
| DE19515165A DE19515165C2 (de) | 1995-04-25 | 1995-04-25 | Vorrichtung zum Herstellen eines Objektes mittels Stereolithographie |
| PCT/EP1996/001703 WO1996033859A1 (de) | 1995-04-25 | 1996-04-24 | Vorrichtung und verfahren zum herstellen eines objektes mittels stereolithographie |
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| JP11128576A Division JPH11333937A (ja) | 1995-04-25 | 1999-05-10 | ステレオリソグラフィを使用した物体を製造する装置および方法 |
| JP2000287047A Division JP2001105503A (ja) | 1995-04-25 | 2000-09-21 | ステレオリソグラフィを使用した物体を製造する装置および方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09511709A JPH09511709A (ja) | 1997-11-25 |
| JP3136161B2 true JP3136161B2 (ja) | 2001-02-19 |
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| JP8105546A Withdrawn JPH08309864A (ja) | 1995-04-25 | 1996-04-25 | ステレオリソグラフィーを用いた物体の製造装置 |
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|---|---|---|---|
| JP8105546A Withdrawn JPH08309864A (ja) | 1995-04-25 | 1996-04-25 | ステレオリソグラフィーを用いた物体の製造装置 |
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| JP2000287047A Pending JP2001105503A (ja) | 1995-04-25 | 2000-09-21 | ステレオリソグラフィを使用した物体を製造する装置および方法 |
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|---|---|
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| EP (2) | EP0739704B1 (ja) |
| JP (4) | JP3136161B2 (ja) |
| DE (2) | DE19515165C2 (ja) |
| WO (1) | WO1996033859A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
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| US7332537B2 (en) | 1996-09-04 | 2008-02-19 | Z Corporation | Three dimensional printing material system and method |
| JP3235781B2 (ja) * | 1997-02-06 | 2001-12-04 | トヨタ自動車株式会社 | 積層造形における散布方法及びその装置 |
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| DE19813742C1 (de) * | 1998-03-27 | 1999-07-15 | Eos Electro Optical Syst | Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes sowie Vorrichtung zum Aufbringen einer Schicht eines pulverförmigen Materials auf eine Oberfläche |
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