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JP3137662B2 - Manufacturing method of micro spherical mold - Google Patents
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JP3137662B2 - Manufacturing method of micro spherical mold - Google Patents

Manufacturing method of micro spherical mold

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JP3137662B2 JP2152691A JP2152691A JP3137662B2 JP 3137662 B2 JP3137662 B2 JP 3137662B2 JP 2152691 A JP2152691 A JP 2152691A JP 2152691 A JP2152691 A JP 2152691A JP 3137662 B2 JP3137662 B2 JP 3137662B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は微細な多数の半球状の
突起をもつ表面を形成するための金型の作製法に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a mold for forming a surface having a large number of fine hemispherical projections.

【0002】このような微細な多数の半球状の突起をも
った表面を持つ製品は、例えば無数のレンズに一種の幾
何学模様を現出する装飾フィルムや下地の図柄を流動感
をもった変形模様として浮き上がらせて見せるもので玩
具、ディスプレ―、カバ―フィルム、パネル等に利用さ
れる。
A product having such a surface having a large number of fine hemispherical projections is, for example, a decorative film which exhibits a kind of geometric pattern on a myriad of lenses or a pattern of an underlayer having a flowing feeling. It is used as toys, displays, covers, panels, etc.

【0003】[0003]

【従来の技術】このような微細な多数の半球状の突起を
もつ表面を形成する場合に使用する金型を製作する時
に、従来一般に採られている方法は型面を機械加工する
ものであるが、極めて微細な間隔で、微細でかつ多数の
窪みをもつ型面を形成することは極めて長時間を要する
煩雑な作業であり、かつ高価な作業であると共に安定し
た製品を得ることは困難であった。
2. Description of the Related Art When manufacturing a mold used for forming a surface having a large number of such fine hemispherical projections, a conventional method generally employed is to machine the mold surface. However, forming a mold surface having minute and numerous depressions at extremely fine intervals is a complicated operation requiring an extremely long time, and is an expensive operation, and it is difficult to obtain a stable product. there were.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】そこで微細な多数の半
球状の窪みからなる型面をもつ金型を写真技術とエッチ
ング技術とを組合せて行うことが、最近考えられて来た
が、この従来の技術では窪みの深さの調整を完全に行う
ことができず、中心部が最も深く、周辺部に行くに従っ
て、次第に浅くなる深度をもつをなす半球形の窪みを形
成することが困難である。
Therefore, it has recently been considered to combine a photographic technique and an etching technique with a mold having a mold surface composed of a large number of fine hemispherical depressions. It is difficult to completely adjust the depth of the dent by the technique described above, and it is difficult to form a hemispherical dent having a depth that is deepest in the center and gradually becomes shallower toward the periphery. .

【0005】このようなことから、微細な多数の高精度
の半球状の窪みからなる型面を容易かつ確実に製作する
ことができる技術の開発が望まれている。
[0005] In view of the above, there is a demand for the development of a technique capable of easily and surely manufacturing a mold surface including a large number of minute, high-precision hemispherical depressions.

【0006】この発明は上記の如き事情に鑑みてなされ
たものであって、微細な多数の高精度の半球状の窪みか
らなる型面をもつ金型を写真技術とエッチング技術とを
組合せ容易かつ確実に製作することが出来る作製法を提
供することを目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and it is easy to combine a photographic technique and an etching technique with a mold having a mold surface composed of a large number of minute, high-precision hemispherical depressions. It is an object of the present invention to provide a manufacturing method capable of reliably manufacturing.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この目的に対応して、こ
の発明の微細球面状型の作製法は、網点の中央が濃く周
辺に行くにしたがって濃度が薄くなるぼかし状の網点を
配列した網目パターンの密着露光による第1の焼付け
と、前記第1の焼付けの後に前記網目パターンを透明フ
ィルムと拡散シートを介して重ね焼きする第2の焼付け
によってエッチング用の原版を作製し、次に前記原版を
使用してエッチングにより型材の表面に多数の微細球面
を成形することを特徴としている。
In order to cope with this object, a method of manufacturing a micro-spherical mold according to the present invention is characterized in that the center of a halftone dot is dark and the circumference is small.
Blur-like halftone dots whose density becomes lighter toward the side
A first baking by contact exposure of the array to the mesh pattern, the transparent off the mesh pattern, after the first baking
A master for etching is prepared by a second baking in which the film and the diffusion sheet are overlapped, and a large number of fine spherical surfaces are formed on the surface of the mold by etching using the master. Features.

【0008】[0008]

【作用】網目パタ―ンフィルムと原版を密着させて焼付
けを行う第1の焼付け工程と、次に網目パタ―ンフィル
ムと原版との間に透明フィルムと拡散シ―トを挟んで焼
付けを行う第2の焼付け工程とを2重露光によって行
う。第1の焼付け工程で網目の輪郭がエッチング用原版
の上に転写された露光部分が形成され、第2の焼付け工
程でその露光部分に焼き込み深さの分布が与えられる結
果、原版上の露光部分の黒点は中央部で濃度が最も高
く、周辺部で濃度が低くなる。この原版を使用して型材
をエッチングすると、型材の型面には中央部で深度が大
きく、周辺部で深度が小さい半球状の表面を持つ窪みが
形成される。
[Function] A first baking step of baking the mesh pattern film and the original plate in close contact with each other, and then baking a transparent film and a diffusion sheet between the mesh pattern film and the original plate. The second printing step is performed by double exposure. In the first baking step, an exposed portion in which the outline of the mesh is transferred onto the etching master is formed, and in the second baking step, a distribution of the burning depth is given to the exposed portion. The black spots in the portion have the highest density at the center and have low density at the periphery. When the mold is etched using this master, a recess having a hemispherical surface with a large depth at the center and a small depth at the periphery is formed on the mold surface of the mold.

【0009】[0009]

【実施例】以下、この発明の詳細を一実施例を示す図面
について説明する。目的とする金型1は図1及び図2に
示されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The details of the present invention will be described below with reference to the drawings showing one embodiment. The target mold 1 is shown in FIG. 1 and FIG.

【0010】金型1は例えば銅製で、表面が多数の微細
な窪み2からなる型面3をなしている。窪み2は中央部
の深さh1 が最も大きく、周辺部に行くにしたがって深
さh2 がしだいに小さくなる半球状をなしている。
The mold 1 is made of, for example, copper, and has a mold surface 3 having a large number of fine depressions 2 on its surface. The depression 2 has a hemispherical shape in which the depth h 1 at the center is the largest and the depth h 2 is gradually reduced toward the periphery.

【0011】このような金型1を製作する作製法が図3
に示されている。
A manufacturing method for manufacturing such a mold 1 is shown in FIG.
Is shown in

【0012】すなわち、図3に示すように、網目パタ―
ンフィルム4を連続調用フィルム5に密着して重ねて露
光する。ここで用いる網目パタ―ンフィルム4は線数約
100線/インチの白黒の網点パタ―ンを保持するフィ
ルムであり、このような網目パタ―ンフィルムはスキャ
ナ―で出力して作成した。
That is, as shown in FIG.
The film 4 is exposed in close contact with the continuous tone film 5. The mesh pattern film 4 used here is a film holding a black and white halftone dot pattern of about 100 lines / inch, and such a mesh pattern film is produced by outputting with a scanner.

【0013】また、連続調用フィルム5としては例え
ば、市販の製品として富士写真フィルム社製のグラビア
フィルムまたはコニカ社製のグラビアフィルムを使用す
ることができる(第1の焼付け工程、図3a)。
As the continuous tone film 5, for example, a gravure film manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. or a gravure film manufactured by Konica Corporation can be used as a commercially available product (first baking step, FIG. 3A).

【0014】図3では網目パタ―ンフィルム4の網目を
斜線で表示したが、実際は中央が濃くて周辺に行くにし
たがって濃度が薄くなるぼかし状の網点である。
In FIG. 3, the mesh of the mesh pattern film 4 is indicated by diagonal lines, but it is actually a blurred halftone dot in which the center is deeper and the density becomes lighter toward the periphery.

【0015】次に第1の焼付け工程が終了した後に、未
現像のまま連続調用フィルム5に透明フィルム6及び拡
散シ―ト7を挟んで同じ網目パタ―ンフィルム4を重ね
て密着し、露光する。
Next, after the first baking step is completed, the same mesh pattern film 4 is overlaid and adhered to the continuous tone film 5 with the transparent film 6 and the diffusion sheet 7 interposed therebetween without being developed. I do.

【0016】ここで使用する透明フィルム6は厚さ0.
1mmのもので、このような透明フィルムの市販のもの
としては株式会社東レ社製の東レ ルミラ―(商標)を
使用することができる。
The transparent film 6 used here has a thickness of 0.1 mm.
As a commercially available transparent film having a thickness of 1 mm, Toray Lumilar (trademark) manufactured by Toray Industries, Inc. can be used.

【0017】拡散シ―ト7としては厚さ0.1mmの乳
白色のシ―トを使用する。このような拡散シ―ト7の市
販のものとしては東洋クロス社製のルミパ―ルTC−1
10を使用することができる(第2の焼付け工程、図3
b)。
As the diffusion sheet 7, a milky white sheet having a thickness of 0.1 mm is used. A commercially available example of such a diffusion sheet 7 is Lumipar TC-1 manufactured by Toyo Cross Corporation.
10 (second baking step, FIG. 3).
b).

【0018】この第2の焼付け工程を終了した連続調用
フィルム5を現像してエチッング用の原版8を得る(現
像工程、図3c)。
After the completion of the second baking step, the continuous tone film 5 is developed to obtain an original plate 8 for etching (development step, FIG. 3c).

【0019】このエチッング用原版8は網目パタ―ンフ
ィルムの網目に対応した多数の微細な黒点11を有する
が、この黒点11は中央部の濃度が高く周辺部に行くに
従って濃度が低くなっている。その理由は、第1の焼付
け工程では連続調用フィルム5と網目パタ―ンフィルム
4とが密着して露光が行えるので、網目パタ―ンフィル
ム4の網目の濃度階調はそのまま連続調用フィルム5に
転写されるが、第2の焼付け工程では連続調用フィルム
5と網目パタ―ンフィルム4との間に透明フィルム6と
拡散シ―ト7が介在し、露光の際の光は透明フィルム6
と拡散シ―ト7における拡散または回り込みによって、
連続調用フィルム5の黒点11の中心に向かって光が集
中する傾向が生じ、その結果、連続調用フィルム5の黒
点11は中央部の濃度が高く、周辺部に行く従って濃度
が低いものが形成される。
This etching master 8 has a number of fine black spots 11 corresponding to the meshes of the mesh pattern film. The density of the black spots 11 is high at the center and lower at the periphery. . The reason is that in the first baking step, the continuous tone film 5 and the mesh pattern film 4 can be exposed in close contact with each other, so that the density tone of the mesh of the mesh pattern film 4 can be directly applied to the continuous tone film 5. In the second printing step, the transparent film 6 and the diffusion sheet 7 are interposed between the continuous tone film 5 and the mesh pattern film 4, and the light during the exposure is transmitted to the transparent film 6.
And the diffusion or wraparound at the diffusion sheet 7,
The light tends to concentrate toward the center of the black spot 11 of the continuous tone film 5, and as a result, the black spot 11 of the continuous tone film 5 has a high density at the central portion and goes to the peripheral portion and therefore has a low density. You.

【0020】次に第2の焼付け工程によって作製された
エッチング用の原版8を硬調の連続調フィルム12に密
着露光を行う(ポジ返し工程、図3d)。
Next, the original master 8 for etching produced in the second baking step is subjected to close-contact exposure to the high-contrast continuous tone film 12 (positive return step, FIG. 3D).

【0021】次に露光後の連続調フィルム12を現像し
て、ポジ原版13を得る(ポジ現像工程、図3e)。ポ
ジ原版13の上の黒点14は中央部の濃度が高く、周辺
部に行くにしたがって濃度が低いものとなっている。
Next, the exposed continuous tone film 12 is developed to obtain a positive original plate 13 (positive development step, FIG. 3e). The black spots 14 on the positive master 13 have a higher density at the center and a lower density toward the periphery.

【0022】次にカ―ボンチッシュ15にポジ原版13
を完全に密着させて露光を与える(カ―ボンチッシュ露
光工程、図3f)。
Next, the positive master 13 is placed on the carbonish 15.
Are exposed to light (carbon exposure step, FIG. 3f).

【0023】これによって露光後のカ―ボンチッシュ1
5aを得る(カ―ボンチッシュ形成工程、図3g)。
Thus, the exposed carbon tissue 1
5a is obtained (carbon tissue forming step, FIG. 3g).

【0024】次に通常のグラビア版を作るのと同様に、
露光後のカ―ボンチッシュ15aを型材16に貼合さ
せ、エッチングを行う(エッチング工程、図3h)。エ
ッチング工程としては、例えばカ―ボンチッシュ15a
を型材16に貼合させ十分に温湯(40℃位)に浸漬し
た後、塩化第二鉄液について腐蝕を行う。腐蝕時間は約
30分で、最大深度50μの窪み2をもつ型面3を形成
することができる(エッチング工程、図3h)。
Next, like making a normal gravure plate,
The exposed carbon tissue 15a is bonded to the mold 16 and etched (etching step, FIG. 3h). As the etching step, for example, the carbon tissue 15a
Is adhered to the mold 16 and sufficiently immersed in hot water (about 40 ° C.), and then the ferric chloride solution is corroded. The erosion time is about 30 minutes, and a mold surface 3 having a depression 2 with a maximum depth of 50 μm can be formed (etching step, FIG. 3h).

【0025】型材16としては通常は銅材を使用する。As the mold member 16, a copper material is usually used.

【0026】これによって金型1が完成する(図3
i)。
Thus, the mold 1 is completed (FIG. 3)
i).

【0027】図4には、この発明の他の実施例が示され
ている。この実施例では前記の図3に示した実施例にお
ける第1の焼付け工程及び第2の焼付け工程をカ―ボン
チッシュに対して行い、そのカ―ボンチッシュを使用し
てエッチングを行うものである。
FIG. 4 shows another embodiment of the present invention. In this embodiment, the first baking step and the second baking step in the embodiment shown in FIG. 3 are performed on a carbon tissue, and etching is performed using the carbon tissue.

【0028】すなわち、図4に示すように、網目パタ―
ンフィルム4をカ―ボンチッシュ15に密着して重ねて
露光する(第1の焼付け工程、図4a)。
That is, as shown in FIG.
The film 4 is exposed in close contact with the carbon tissue 15 (first baking step, FIG. 4A).

【0029】次に第1の焼付け工程が終了した後、カ―
ボンチッシュ15に透明フィルム6及び拡散シ―ト7を
挟んで同じ網目パタ―ンフィルム4を重ねて密着し、露
光する(第2の焼付け工程、図4b)。
Next, after the first baking step is completed, the car
The same mesh pattern film 4 is overlaid on and adhered to the bonche 15 with the transparent film 6 and the diffusion sheet 7 interposed therebetween, and exposed (second baking step, FIG. 4B).

【0030】これによって露光後のカ―ボンチッシュ1
5aを得る(カ―ボンチッシュ形成工程、図4g)。
Thus, the exposed carbon tissue 1
5a is obtained (carbon tissue forming step, FIG. 4g).

【0031】この第2の焼付け工程を終了した露光後の
カ―ボンチッシュ15aを型材16に貼合せエッチング
を行う(エッチング工程、図4h)。
After the second baking step, the exposed carbon tissue 15a is bonded to the mold 16 and etched (etching step, FIG. 4h).

【0032】これによって金型1が完成する(図4
i)。
Thus, the mold 1 is completed (FIG. 4)
i).

【0033】このようにして製作された金型1は、例え
ば射出成形用の金型として使用され、型面3に射出され
た樹脂成形品には、型面3の多数の微細な窪み2に対応
して、多数の微細な突起が形成されている。
The mold 1 manufactured in this manner is used, for example, as a mold for injection molding. In the resin molded product injected into the mold surface 3, many small depressions 2 of the mold surface 3 are formed. Correspondingly, numerous fine projections are formed.

【0034】[0034]

【発明の効果】この発明の微細球面状型の作製法では第
1の焼付け工程と第2の焼付け工程によって、エッチン
グ用の原版8上に黒点の輪郭と濃度分布が与えられ、こ
の原版を使用したエッチングによって型面に輪郭と深度
分布が与えられた窪みが与えられるので、半球面状の表
面を有する多数の突起を持つ樹脂成形品を製造する場合
に使用する金型を得ることができる。
According to the method for manufacturing a microspherical mold of the present invention, the outline of black spots and the density distribution are given on the original plate 8 for etching by the first and second baking processes. Since the pit having the contour and the depth distribution is given to the mold surface by the etching performed, a mold used for manufacturing a resin molded product having a large number of protrusions having a hemispherical surface can be obtained.

【0035】この金型を利用すれば、従来は作製が困難
であった微細半球状レンズシ―トの作製が容易となり、
玩具、ディスプレ―、シ―トカバ―パネル等々に特殊な
レンズ効果をもたせることができる。
The use of this mold facilitates the production of a fine hemispherical lens sheet, which was conventionally difficult to produce.
Special lens effects can be applied to toys, displays, sheet cover panels, etc.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】金型を示す拡大斜視説明図である。FIG. 1 is an enlarged perspective explanatory view showing a mold.

【図2】金型の断面拡大説明図である。FIG. 2 is a cross-sectional enlarged explanatory view of a mold.

【図3】この発明における製造工程を示すブロック図で
ある。
FIG. 3 is a block diagram showing a manufacturing process in the present invention.

【図4】この発明における他の製造工程を示すブロック
図である。
FIG. 4 is a block diagram showing another manufacturing process according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 金型 2 窪み 3 型面 4 網目パタ―ンフィルム 5 連続調用フィルム 6 透明フィルム 7 拡散シ―ト 8 原版 11 黒点 12 硬調の連続調フィルム 13 ポジ原版 14 黒点 15 カ―ボンチッシュ 15a 露光後のカ―ボンチッシュ 16 型材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Die 2 Dent 3 Mold surface 4 Mesh pattern film 5 Continuous tone film 6 Transparent film 7 Diffusion sheet 8 Master 11 Black spot 12 Hard tone continuous tone film 13 Positive original 14 Black spot 15 Carbon 15a After exposure -Bonchish 16 type material

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岸 良一 東京都文京区小石川四丁目14番12号 共 同印刷株式会社内 (56)参考文献 特開 昭58−28353(JP,A) 特開 昭55−22758(JP,A) 特開 平4−52286(JP,A) 特公 昭43−22374(JP,B1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C23F 1/00 - 3/06 B29C 33/38 G02B 3/00 G03F 7/26 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Ryoichi Kishi Inventor, Kyodo Printing Co., Ltd., 4-14-12 Koishikawa, Bunkyo-ku, Tokyo (56) Reference JP-A-58-28353 (JP, A) JP-A Sho 55-22758 (JP, A) JP-A-4-52286 (JP, A) JP-B-43-22374 (JP, B1) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C23F 1/00 -3/06 B29C 33/38 G02B 3/00 G03F 7/26

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 網点の中央が濃く周辺に行くにしたがっ
て濃度が薄くなるぼかし状の網点を配列した網目パター
ンの密着露光による第1の焼付けと、前記第1の焼付け
の後に前記網目パターンを透明フィルムと拡散シートを
介して重ね焼きする第2の焼付けによってエッチング用
の原版を作製し、次に前記原版を使用してエッチングに
より型材の表面に多数の微細球面を成形することを特徴
とする微細球面状型の作製法。
(1) As the center of a halftone dot goes deeper toward the periphery,
A first baking by close-contact exposure of a mesh pattern in which blurred halftone dots whose density becomes thinner is arranged, and after the first baking, the mesh pattern is formed by using a transparent film and a diffusion sheet.
Producing a master for etching by a second baking of multiple layers through the intermediary process, and then forming a large number of microspheres on the surface of a mold by etching using the master; Law.
【請求項2】 前記エッチング用の原版は前記第1の焼
付けと前記第2の焼付けがなされた連続調フィルムであ
り、前記原版をポジ返ししてポジ原版を作製し、次に前
記ポジ原版をカーボンチッシュに密着して露光し、次に
露光後のカーボンチッシュを型材の表面に重ねてエッチ
ングを行い、前記型材の表面を成形することを特徴とす
る請求項1の微細球面状型の作製法。
2. The etching master is a continuous tone film on which the first printing and the second printing have been performed, and the master is turned back to form a positive master. 2. The method for producing a fine spherical mold according to claim 1, wherein the exposure is carried out in close contact with a carbon tissue, and then the exposed carbon tissue is superimposed on the surface of the mold and etched to form the surface of the mold. .
【請求項3】 前記エッチング用の原版は前記第1の焼
付けと前記第2の焼付けがなされたカーボンチッシュで
あり、前記2度焼きされたカーボンチッシュを型材の表
面に重ねてエッチングを行い、前記型材の表面を成形す
ることを特徴とする請求項1の微細球面状型の作製法。
3. The etching master is a carbon tissue that has been subjected to the first baking and the second baking, and the twice-baked carbon tissue is superposed on a surface of a mold and etched. 2. The method for producing a fine spherical mold according to claim 1, wherein the surface of the mold is formed.
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