JP3166742B2 - Dicing equipment - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はダイシング装置に係
り、特に被加工物である半導体ウェーハの形状を認識
し、該形状に基づいてカッティング領域等の設定を行う
ダイシング装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dicing apparatus, and more particularly, to a dicing apparatus that recognizes a shape of a semiconductor wafer as a workpiece and sets a cutting area and the like based on the shape.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、複数の半導体ウェーハ等のワーク
が収納されたカセットからワークを順次搬送機構によっ
て切断部に搬送し、ワークを所定形状に切断するダイシ
ング装置が知られている。また、このようなダイシング
装置において、2次元センサを用いたビデオカメラ等に
よってワークを撮像し、その画像データ処理すること
で、ワークの形状を認識するようにしたものが知られて
いる。ワークの形状は、例えばワークがシリコンウェハ
の場合は通常円形であるが、必ずしも円形とは限らず、
四角形やダイシング前の工程で割れて不規則な形となる
ものがある。そこで、上述のようにカメラでワークを撮
像しワークの形状を認識することで、ワークの形状に応
じてカッティング領域を限定して無駄な切断動作を削減
し、所望形状のワークを効率良く短時間で加工できるよ
うにしている。2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known a dicing apparatus which sequentially transports a workpiece from a cassette containing a plurality of workpieces such as semiconductor wafers to a cutting section by a transport mechanism and cuts the workpiece into a predetermined shape. Further, in such a dicing apparatus, there is known a dicing apparatus in which a workpiece is imaged by a video camera or the like using a two-dimensional sensor, and the image data is processed to recognize the shape of the workpiece. The shape of the work is, for example, usually circular when the work is a silicon wafer, but is not necessarily circular.
There are some squares and those that break in the process before dicing and become irregular. Therefore, as described above, by recognizing the shape of the work by imaging the work with the camera, the cutting area is limited according to the shape of the work to reduce unnecessary cutting operations, and the work having the desired shape can be efficiently and quickly performed. It can be processed with.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ワーク
サイズが大きくなると、ワーク全体を撮像するためにカ
メラをワークから遠くに離して設置しなければならず、
ワーク形状を認識するシステムに要するスペースが大き
くなるという問題があった。そして、これに伴って装置
全体も大型化するという問題が生じていた。However, as the size of the work increases, the camera must be installed far away from the work in order to image the entire work.
There is a problem that a space required for a system for recognizing a work shape becomes large. Then, a problem has arisen that the size of the entire apparatus is increased accordingly.
【0004】また、カメラとワークとの距離を近くして
ワーク全体を撮像しようとした場合には、超広角レンズ
等の高価なレンズが必要となり、コストが高くなるとい
う問題と共に、画像にゆがみが生じ、正確にワーク形状
を認識することができないという問題もあった。特に、
近年の半導体ウェーハが大径化しているため、シリコン
ウェーハをチップに切断するダイシング装置では、この
ような問題を解消することが重要な課題となっている。[0004] In addition, if an attempt is made to capture the entire work by shortening the distance between the camera and the work, an expensive lens such as an ultra-wide-angle lens is required, and the image is distorted in addition to the problem of high cost. As a result, there is a problem that the workpiece shape cannot be recognized accurately. In particular,
Since the diameter of a semiconductor wafer has been increased in recent years, it is an important issue to solve such a problem in a dicing apparatus for cutting a silicon wafer into chips.
【0005】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、ワークの形状を正確かつ効率良く認識できるよ
うにし、且つ、装置の小型化を実現するダイシング装置
を提供することを目的とする。[0005] The present invention has been made in view of such circumstances, and has as its object to provide a dicing apparatus capable of accurately and efficiently recognizing the shape of a work and realizing miniaturization of the apparatus. .
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、ワークが収納された収納部からワークを
搬送手段によってアライメント部に搬送し、該アライメ
ント部で前記ワークを撮像して該ワークをアライメント
し、切断部で前記ワークを切断するダイシング装置にお
いて、前記ワークが前記搬送手段によって前記アライメ
ント部に搬送されるまでの搬送路上に、前記アライメン
ト部の撮像手段とは別のラインスキャナを設置し、前記
ワークが前記搬送路を移動中に該ラインスキャナによっ
て前記ワークを撮像し、前記ワークの形状を検知するこ
とを特徴としている。According to the present invention, in order to achieve the above object, the present invention conveys a work from a storage section in which the work is stored to an alignment section by a transfer means, and images the work by the alignment section. In a dicing apparatus that aligns the work and cuts the work at a cutting unit, a line scanner separate from an imaging unit of the alignment unit is provided on a conveyance path until the work is conveyed to the alignment unit by the conveyance unit. Is installed, and the line scanner captures an image of the work while the work is moving along the transport path, and detects the shape of the work.
【0007】本発明によれば、ワークを2次元センサを
用いたビデオカメラではなく、1次元センサを用いたラ
インスキャナによって撮像するようにしたため、ワーク
が大きくても装置が大型になるという不具合が防止され
る。また、ワークが搬送される搬送路上にラインスキャ
ナを設けるようにしたため、ワークの撮像に特別な時間
とスペースを必要とせず、加工時間の短縮、装置の小型
化が図れるようになる。また、広角レンズ等の使用が不
要であるため、取得した画像にひずみ等が生じず、ワー
クの形状を正確に認識することができる。According to the present invention, the work is imaged by a line scanner using a one-dimensional sensor instead of a video camera using a two-dimensional sensor. Is prevented. Further, since the line scanner is provided on the transport path on which the workpiece is transported, no special time and space are required for imaging the workpiece, so that the processing time can be reduced and the apparatus can be downsized. Further, since it is not necessary to use a wide-angle lens or the like, distortion or the like does not occur in the acquired image, and the shape of the work can be accurately recognized.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
るダイシング装置について詳説する。図1は、本発明が
適用された半導体ウェーハのダイシング装置の斜視図で
あり、図2はその平面図である。図1に示すように、前
記ダイシング装置1は、主として切断部10、洗浄部2
0、カセット収納部30、エレベータ部40、及び搬送
装置50等から構成されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A dicing apparatus according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view of a semiconductor wafer dicing apparatus to which the present invention is applied, and FIG. 2 is a plan view thereof. As shown in FIG. 1, the dicing apparatus 1 mainly includes a cutting unit 10 and a cleaning unit 2.
0, a cassette storage unit 30, an elevator unit 40, a transport device 50, and the like.
【0009】このダイシング装置1によるウェーハWの
切断工程を説明すると、まず、カセット収納部30に複
数枚収納されている加工前のウェーハWは、エレベータ
部40によって順次引き出され、そして、引き出された
ウェーハWは図2に示す位置P4にセットされる。尚、
図2に示すようにウェーハWはフレームFに接着されて
いる。次に、このウェーハWは、エレベータ部40の搬
送手段(この搬送手段については後述する。)によって
位置P1のプリロードステージに搬送され、その後、搬
送装置50によって切断部10のカッティングテーブル
(位置P2)上に載置される。ここで、ウェーハWはカ
ッティングテーブルに吸着保持される。吸着保持された
ウェーハWは、アライメント部18によってウェーハW
上のパターンが画像認識され、これに基づいてアライメ
ントされる。そして、アライメントされたウェーハW
は、切断部10の矢印A、Bで示すY軸方向移動と、カ
ッティングテーブルの矢印C、Dで示すX軸方向移動と
によって、2本のストリートが同時に切断される。最初
の2本のストリートが切断されると、切断部10のスピ
ンドルをストリートの1ピッチ分だけY軸方向に移動さ
せ、そして、カッティングテーブルを再びX軸方向に移
動させる。これによって、次の2本のストリートが切断
される。この切断動作を繰り返して行い、一方向(X方
向)の全てのストリートの切断が終了すると、カッティ
ングテーブルを90°回動させて、前記切断したストリ
ートに直交する他方向(図2上でY方向)のストリート
を順次切断する。これにより、ウェーハWは最終的にダ
イス状に切断され、チップ毎に分割される。The process of cutting the wafer W by the dicing apparatus 1 will be described. First, a plurality of unprocessed wafers W stored in the cassette storage unit 30 are sequentially pulled out by the elevator unit 40 and then drawn out. The wafer W is set at the position P4 shown in FIG. still,
As shown in FIG. 2, the wafer W is bonded to the frame F. Next, the wafer W is transferred to the preload stage at the position P1 by the transfer means of the elevator unit 40 (this transfer means will be described later), and thereafter, the cutting table (position P2) of the cutting unit 10 by the transfer device 50. Placed on top. Here, the wafer W is held by suction on the cutting table. The wafer W held by suction is transferred to the wafer W by the alignment unit 18.
The upper pattern is image-recognized and aligned based on this. Then, the aligned wafer W
The two streets are cut at the same time by the movement of the cutting unit 10 in the Y-axis direction indicated by arrows A and B and the movement of the cutting table in the X-axis direction indicated by arrows C and D. When the first two streets are cut, the spindle of the cutting section 10 is moved by one street pitch in the Y-axis direction, and the cutting table is moved again in the X-axis direction. As a result, the next two streets are cut. This cutting operation is repeatedly performed, and when the cutting of all the streets in one direction (X direction) is completed, the cutting table is rotated by 90 ° and the other direction orthogonal to the cut street (the Y direction in FIG. 2). ) Is cut sequentially. Thereby, the wafer W is finally cut into a dice and divided into chips.
【0010】切断終了したウェーハWは、カッティング
テーブルによって位置P2に戻された後、搬送装置50
によって位置P3の洗浄部20のスピナテーブルに搬送
される。ここでウェーハWは、洗浄水により洗浄された
後、エアブローによって乾燥される。乾燥したウェーハ
Wは、搬送装置50によって位置P4に搬送され、エレ
ベータ部40によってカセット部30に向けて搬送さ
れ、所定のカセットに収納される。以上が前記ダイシン
グマシン1による1枚のウェーハWの切断工程の流れで
ある。After the cut wafer W is returned to the position P2 by the cutting table, the transfer device 50
Is transported to the spinner table of the cleaning unit 20 at the position P3. Here, the wafer W is dried by the air blow after being washed with the washing water. The dried wafer W is transferred to the position P4 by the transfer device 50, transferred to the cassette unit 30 by the elevator unit 40, and stored in a predetermined cassette. The above is the flow of the process of cutting one wafer W by the dicing machine 1.
【0011】ダイシングマシン1の切断部10は図2に
示すように、一対の切断装置14、16を有し、この切
断装置14、16は、モータ60、62、スピンドル6
4、66、及びスピンドル64、66の先端部に装着さ
れたブレード68、70を備えている。前記切断装置1
4、16は、スピンドル移動機構によってY軸方向に各
々独立して移動される。本実施の形態では、前記スピン
ドル移動機構としてリニアモータが適用されている。リ
ニアモータの原理、及び詳細な構造は周知であるのでこ
こでは省略する。As shown in FIG. 2, the cutting section 10 of the dicing machine 1 has a pair of cutting devices 14 and 16, and the cutting devices 14 and 16 include motors 60 and 62 and a spindle 6
4, 66, and blades 68, 70 mounted on the tips of the spindles 64, 66. The cutting device 1
4 and 16 are independently moved in the Y-axis direction by a spindle moving mechanism. In the present embodiment, a linear motor is applied as the spindle moving mechanism. The principle and the detailed structure of the linear motor are well known and will not be described here.
【0012】一方、図1に示すようにダイシングマシン
1のカセット収納部30は、4段構造に構成されてお
り、上から順にインスペクションステージ(ダミーウェ
ーハ収納部:枚葉処理ウェーハ収納部)32、第1カセ
ット収納部34、第2カセット収納部36、及びユーテ
ィリティカセット収納部38から構成されている。前記
第1、第2カセット収納部34、36は、通常のカセッ
トが収納される収納部である。これらのカセット収納部
34、36に収納されたカセットは、各々の扉35、3
7に設けられた把手35A、37Aで扉35、37を開
くことにより、ダイシングマシン本体から取り出すこと
ができる。前記通常のカセットとは、同一型番のウェー
ハが多数枚収納される大型のカセットである。但し、本
ダイシング装置1では後述するように切断前にウェーハ
の形状を認識することができるため、異なる形状のウェ
ーハ、例えば、割れウェーハ等が混在していても適切に
ウェーハを切断することが可能である。On the other hand, as shown in FIG. 1, the cassette accommodating section 30 of the dicing machine 1 has a four-stage structure, and includes inspection stages (dummy wafer accommodating section: single-wafer processing wafer accommodating section) 32 in order from the top. It comprises a first cassette storage section 34, a second cassette storage section 36, and a utility cassette storage section 38. The first and second cassette storage sections 34 and 36 are storage sections for storing normal cassettes. The cassettes stored in these cassette storage sections 34, 36 are provided with respective doors 35, 3
By opening the doors 35, 37 with the handles 35A, 37A provided on the 7, the user can take it out of the dicing machine body. The normal cassette is a large cassette in which a large number of wafers of the same model number are stored. However, since the dicing apparatus 1 can recognize the shape of the wafer before cutting, as described later, it is possible to appropriately cut the wafer even when wafers having different shapes, for example, cracked wafers and the like are mixed. It is.
【0013】次に、ウェーハの形状を認識するためのラ
インスキャナについて説明する。通常のウェーハWは、
略円形に形成される(一部にオリフラ又はノッチ状の切
り欠きが形成されている)。しかしながら、常にこのよ
うな形状をしているとは限らず、4角形のものや割れて
しまった割れウェーハなども存在する。そこで、ウェー
ハを切断する前にウェーハの形状を認識しておくことで
ウェーハの形状に応じてウェーハのアライメント、及
び、ウェーハのカッティング領域の設定を適切に行うこ
とができる。本発明に係るダイシング装置では、例え
ば、図3に示すように、エレベータ部40の位置P4と
プリロードステージの位置P1の間に1次元センサ(C
CDラインセンサ)を用いたラインスキャナ100を設
置し、ウェーハWの搬送過程でウェーハWがこのライン
スキャナ100上を通過する際にこのウェーハWを撮像
するようにしている。これにより、ウェーハWの形状を
正確に認識することができる。また、ラインスキャナを
使用することにより、2次元センサを用いたビデオカメ
ラよりも形状認識システムのスペースをコンパクトにす
ることができ、装置全体を小型化することができる。装
置全体が小型化されればクリーンルームの有効利用の観
点からも有益である。尚、ラインスキャナ100は反射
型(投受光一体型)であってもよいし、透過型(投受光
分離型)であってもよい。Next, a line scanner for recognizing the shape of a wafer will be described. Normal wafer W is
It is formed in a substantially circular shape (a part is formed with an orientation flat or a notch-shaped notch). However, the shape is not always such a shape, and there are a square shape, a cracked broken wafer, and the like. Therefore, by recognizing the shape of the wafer before cutting the wafer, the alignment of the wafer and the setting of the cutting area of the wafer can be appropriately performed according to the shape of the wafer. In the dicing apparatus according to the present invention, for example, as shown in FIG. 3, a one-dimensional sensor (C) is provided between the position P4 of the elevator unit 40 and the position P1 of the preload stage.
A line scanner 100 using a CD line sensor) is installed, and an image of the wafer W is taken when the wafer W passes over the line scanner 100 in the process of transporting the wafer W. Thereby, the shape of the wafer W can be accurately recognized. Further, by using a line scanner, the space of the shape recognition system can be made more compact than a video camera using a two-dimensional sensor, and the entire apparatus can be made smaller. It is beneficial from the viewpoint of effective use of the clean room if the entire apparatus is reduced in size. Note that the line scanner 100 may be of a reflection type (integrated projection / reception type) or a transmission type (separated projection / reception type).
【0014】上記ラインスキャナ100の具体的な設置
位置について説明すると、例えばエレベータ部40の端
部が好適である。図4乃至図5は、それぞれラインスキ
ャナ100が設置されるエレベータ部40の構成を示し
た平面図及び側面図である。これらの図に示すようにエ
レベータ部40には、鉛直方向に昇降支柱102が配設
され、この昇降支柱102にガイドブロック104が昇
降自在に係合されている。前記ガイドブロック104
は、コ字形状に形成されたフレーム106に固定され、
このフレーム106に矩形状のサポートプレート108
が昇降支柱102に対して直交方向、即ち、水平方向に
固定されている。The specific installation position of the line scanner 100 will be described. For example, the end of the elevator unit 40 is preferable. 4 and 5 are a plan view and a side view showing the configuration of the elevator unit 40 in which the line scanner 100 is installed. As shown in these figures, an elevator column 102 is disposed in the elevator section 40 in a vertical direction, and a guide block 104 is engaged with the elevator column 102 so as to be able to move up and down. The guide block 104
Is fixed to a U-shaped frame 106,
The frame 106 has a rectangular support plate 108.
Are fixed in a direction perpendicular to the lifting column 102, that is, in a horizontal direction.
【0015】前記サポートプレート108上には、モー
タ110が搭載されており、このモータ110のシャフ
ト112にはプーリ114が設けられている。前記プー
リ114には、無端状のベルト116が巻き掛けられ、
このベルト116は前記プーリ114とプーリ118と
によって張設されている。前記ベルト116には図5に
示すように連結部材120が固定され、この連結部材1
20にフィンガ部122が固定されている。また、フィ
ンガ部122は、ベルト116と平行に配設されたガイ
ドレール124にガイドブロック126を介して摺動自
在に係合されている。したがって、モータ110が駆動
され、ベルト116が移動されることにより、前記フィ
ンガ部122は図中実線で示す取出位置と、二点鎖線で
示す引出位置との範囲内で移動される。このフィンガ部
122の動作によって、カセット収納部30に収納され
たウェーハWが取り出され、そして、取り出されたウェ
ーハWがサポートプレート108上に設けられた載置プ
レート128、128、及び、レール130、130上
に載置される。これらの載置プレート128、128、
及びレール130、130はそれぞれ前記ベルト116
を挟んで両側に設けられ、前記フィンガ部122が前記
引出位置に移動された後のウェーハ開放動作によってウ
ェーハWがその載置プレート128、128上及びレー
ル130、130上に載置される。尚、載置プレート1
28、128、レール130、130はウェーハWが接
着されたフレームFを支持するようになっている。A motor 110 is mounted on the support plate 108, and a pulley 114 is provided on a shaft 112 of the motor 110. An endless belt 116 is wound around the pulley 114,
The belt 116 is stretched by the pulley 114 and the pulley 118. A connecting member 120 is fixed to the belt 116 as shown in FIG.
The finger part 122 is fixed to 20. The finger portion 122 is slidably engaged with a guide rail 124 provided in parallel with the belt 116 via a guide block 126. Accordingly, when the motor 110 is driven and the belt 116 is moved, the finger portion 122 is moved within a range between a take-out position indicated by a solid line in the drawing and a draw-out position indicated by a two-dot chain line. By the operation of the finger portion 122, the wafer W stored in the cassette storage portion 30 is taken out, and the taken-out wafer W is placed on the mounting plates 128, 128 provided on the support plate 108, and the rail 130, It is placed on 130. These mounting plates 128, 128,
And the rails 130 and 130 respectively
The wafer W is mounted on the mounting plates 128, 128 and the rails 130, 130 by a wafer opening operation after the finger portion 122 is moved to the pull-out position. The mounting plate 1
The rails 28, 128 and the rails 130, 130 support the frame F to which the wafer W is bonded.
【0016】このようにしてウェーハWがカセット収納
部30からエレベータ部40に取り出されると、次に、
エレベータ部40は、昇降支柱102の上端位置まで上
昇する。そして、再び、フィンガ部122の動作によっ
てウェーハWをプリロードステージの位置P1に搬送す
る。ラインスキャナ100は、図4、図5に示すように
載置プレート128の前端にウェーハWの搬送方向と垂
直に設置される。上述のようにウェーハWをカセット収
納部30からエレベータ部40に取り出す際に、又は、
載置プレート128からプリロードステージの位置P1
に搬送する際に、ウェーハWは、このラインスキャナ1
00の上方を通過する。ラインスキャナ100は、ウェ
ーハWが上方を通過している際にウェーハWを撮像し、
ウェーハW全体の画像を取得する。このようにラインス
キャナ100をエレベータ部40の端部に設置すること
でウェーハWの搬送と共にウェーハWの形状を認識する
ことができるため、ウェーハWの形状を認識するための
特別の時間やスペースを必要とせず、加工時間の短縮と
装置の小型化が図れる。尚、ウェーハWの撮像処理は、
ウェーハWがカセット収納部30からエレベータ部40
に取り出される際、又は、載置プレート128からプリ
ロードステージの位置P1に搬送される際のいずれでも
よい。When the wafer W is taken out of the cassette accommodating section 30 into the elevator section 40 in this manner, next,
The elevator section 40 rises to the upper end position of the lifting column 102. Then, the wafer W is transported to the position P1 of the preload stage again by the operation of the finger unit 122. The line scanner 100 is installed at the front end of the mounting plate 128 perpendicularly to the transfer direction of the wafer W as shown in FIGS. When taking out the wafer W from the cassette storage section 30 to the elevator section 40 as described above, or
From the mounting plate 128 to the position P1 of the preload stage
Is transferred to the line scanner 1
Pass above 00. The line scanner 100 captures an image of the wafer W while the wafer W is passing above,
An image of the entire wafer W is acquired. By setting the line scanner 100 at the end of the elevator unit 40 in this manner, the shape of the wafer W can be recognized together with the transfer of the wafer W, so that a special time or space for recognizing the shape of the wafer W is required. It is not necessary, and the processing time can be reduced and the size of the apparatus can be reduced. Incidentally, the imaging process of the wafer W
The wafer W is moved from the cassette storage section 30 to the elevator section 40.
May be taken out, or may be carried from the mounting plate 128 to the position P1 of the preload stage.
【0017】図6は上記ダイシング装置Wの右側側面図
であり、ラインスキャナの設置可能な位置の一例を示し
た図である。上述のようにラインスキャナをエレベータ
部40の端部に設置する場合は、同図符号150で示す
位置が対応する。エレベータ部40以外にラインスキャ
ナを設置できる位置としては、同図に示すようにプリロ
ードステージの端部152、又は、インスペクションス
テージ32のウェーハ取出し口154等も可能である。
尚、同図に示す位置以外でもウェーハWが搬送される所
望の搬送経路にラインスキャナを設置することができ
る。但し、ウェーハWの搬送経路が直線的でない、或い
は、搬送中にウェーハが回転しながら移動するような位
置にラインスキャナを設置する場合には、ラインスキャ
ナで取得した画像を補正する必要がある。FIG. 6 is a right side view of the dicing apparatus W, showing an example of a position where the line scanner can be installed. When the line scanner is installed at the end of the elevator unit 40 as described above, the position indicated by reference numeral 150 in FIG. As a position where the line scanner can be installed other than the elevator unit 40, the end 152 of the preload stage, the wafer outlet 154 of the inspection stage 32, or the like can be used as shown in FIG.
In addition, a line scanner can be installed at a desired transfer path on which the wafer W is transferred at a position other than the position shown in FIG. However, when the transfer path of the wafer W is not linear, or when the line scanner is installed at a position where the wafer moves while rotating during the transfer, it is necessary to correct the image acquired by the line scanner.
【0018】また、ラインスキャナを一定速度で移動さ
せてウェーハWを撮像することも可能である。例えば、
同図符号156で示すようにプリロードステージの上方
に、ラインスキャナを矢印158方向に移動可能に設置
し、プリロードステージ上で静止しているウェーハW上
でラインスキャナを一定速度で走査してウェーハW全体
の画像を取得することも可能である。また、ウェーハW
が静止する他の位置(エレベータ部40、カッティング
テーブル上等)でラインスキャナを移動させてウェーハ
Wを撮像することも可能である。It is also possible to image the wafer W by moving the line scanner at a constant speed. For example,
As shown by reference numeral 156 in the figure, a line scanner is installed movably in the direction of arrow 158 above the preload stage, and the line scanner scans the wafer W at a constant speed on the wafer W stationary on the preload stage. It is also possible to obtain the entire image. Also, the wafer W
It is also possible to take an image of the wafer W by moving the line scanner at another position (e.g., the elevator unit 40, on the cutting table, etc.) where the camera is stationary.
【0019】次に上述のようにウェーハの形状を認識し
た後のダイシング装置の制御部の制御について簡単に説
明する。例えば、図7に示すような割れウェーハW’を
切断する場合、この割れウェーハW’が上記ラインスキ
ャナ100上を通過するときに、ラインスキャナ100
によって割れウェーハW’の画像が取得される。制御部
は、この画像に基づいて割れウェーハW’の形状を正確
に認識する。次に、この割れウェーハW’をカッティン
グテーブルに搬送し、アライメント部18によって割れ
ウェーハW’上のパターンを撮像する。そして、所定の
パターンが形成されている位置を複数箇所で検出する。
このとき、制御部は、割れウェーハW’の形状をすでに
認識しているため、割れウェーハW’上の所定パターン
の検出位置を図7に示すように割れウェーハW’の範囲
内で、且つ、できるだけ中央の位置Aと左右上下に離れ
た位置B〜E、即ち、割れウェーハW’の輪郭に近い位
置に選ぶことができる。このように、パターンの検出位
置を確実に割れウェーハW’の範囲内に設定できること
で、パターン検出不能によるアライメントのエラーを防
止することができる。また、割れウェーハW’の範囲内
において、できるだけ離れた複数の位置のパターンを検
出することで、精度の高いアライメントが可能となる。Next, the control of the control unit of the dicing apparatus after recognizing the shape of the wafer as described above will be briefly described. For example, when cutting a broken wafer W ′ as shown in FIG. 7, when the broken wafer W ′ passes over the line scanner 100,
As a result, an image of the cracked wafer W ′ is obtained. The control unit accurately recognizes the shape of the broken wafer W ′ based on the image. Next, the broken wafer W ′ is transported to the cutting table, and the pattern on the broken wafer W ′ is imaged by the alignment unit 18. Then, the position where the predetermined pattern is formed is detected at a plurality of locations.
At this time, since the control unit has already recognized the shape of the broken wafer W ', the detection position of the predetermined pattern on the broken wafer W' is within the range of the broken wafer W 'as shown in FIG. The position can be selected as close as possible to the center position A and the positions B to E separated from the left, right, up and down, that is, the positions close to the contour of the broken wafer W ′. As described above, since the pattern detection position can be reliably set within the range of the broken wafer W ′, it is possible to prevent an alignment error due to the inability to detect the pattern. Further, by detecting patterns at a plurality of positions as far apart as possible within the range of the cracked wafer W ′, highly accurate alignment can be performed.
【0020】このようにしてアライメントが終了する
と、次に割れウェーハW’の切断加工を実行するが、こ
のとき、制御部は割れウェーハW’の外形を正確に認識
しているため、カッティング領域を最小限に設定するこ
とができる。即ち、カッティングテーブルを左右に移動
させてブレード68、70(図2参照)によって割れウ
ェーハW’を切断する際に、割れウェーハW’の送り範
囲を割れウェーハW’がブレード68、70の位置に存
在する範囲に制限することができる。これにより、割れ
ウェーハW’が存在しない位置を切断するという無駄な
時間を省くことができ、加工時間を短縮することができ
る。When the alignment is completed in this manner, the cutting process of the cracked wafer W 'is performed next. At this time, since the control unit accurately recognizes the outer shape of the cracked wafer W', the cutting area is set. Can be set to a minimum. That is, when the cutting table is moved to the left and right to cut the broken wafer W ′ by the blades 68 and 70 (see FIG. 2), the feed range of the broken wafer W ′ is set to the position of the blades 68 and 70. It can be limited to the range that exists. This can save unnecessary time for cutting a position where the broken wafer W ′ does not exist, thereby shortening the processing time.
【0021】以上、上記実施の形態では、半導体ウェー
ハを切断するダイシング装置について説明したが、これ
に限らず本発明は、所望のワークを切断するダイシング
装置に適用することができる。In the above embodiment, the dicing apparatus for cutting a semiconductor wafer has been described. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied to a dicing apparatus for cutting a desired work.
【0022】[0022]
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るダイシ
ング装置によれば、ワークを2次元センサを用いたビデ
オカメラではなく1次元センサを用いたラインスキャナ
によって撮像するようにしたため、ワークが大きくても
装置が大型になるという不具合が防止される。即ち、2
次元センサを用いたビデオカメラではワークが大きくな
るとワーク全体を撮像するためにカメラをワークから遠
くに離す必要があるため、これに要するスペースが大き
くなるという不具合があったが、ラインスキャナではワ
ークが大きくてもワークとの距離を遠くする必要がな
く、ワークの形状を認識するためのスペースを小さくす
ることができる。As described above, according to the dicing apparatus according to the present invention, the work is imaged not by a video camera using a two-dimensional sensor but by a line scanner using a one-dimensional sensor. However, the problem that the apparatus becomes large is prevented. That is, 2
In a video camera using a dimensional sensor, when the work becomes large, the camera needs to be far away from the work in order to image the entire work. Even if it is large, it is not necessary to increase the distance from the work, and the space for recognizing the shape of the work can be reduced.
【0023】また、ビデオカメラでワークを撮像する場
合にスペースを小さくしようとすると、超広角レンズ等
の使用が不可欠となるため、撮像した画像にゆがみが生
じたり、このゆがみを補正するために補正システムや高
精度の光学系レンズが必要となりコストがかかるという
問題があったが、ラインスキャナを使用することで、こ
のような問題は解消され、安価な装置で精度の高いワー
ク形状認識が可能となる。In order to reduce the space when photographing a workpiece with a video camera, it is necessary to use an ultra-wide-angle lens or the like. Therefore, the captured image may be distorted or may be corrected to correct the distortion. The system and high-precision optical system lens were required, which was costly.However, using a line scanner solved such problems, and it became possible to recognize workpiece shapes with high accuracy using inexpensive equipment. Become.
【0024】更に、ワークが搬送される搬送路上にライ
ンスキャナを設けるようにしたため、ワークの撮像に特
別な時間とスペースを必要せず、加工時間の短縮、装置
の小型化が図れるようになる。Further, since the line scanner is provided on the transporting path on which the workpiece is transported, no special time and space are required for capturing the workpiece, the processing time can be reduced, and the apparatus can be downsized.
【図1】図1は、本発明が適用されたダイシング装置の
実施の形態を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a dicing apparatus to which the present invention is applied.
【図2】図2は、図1に示したダイシング装置の平面図
である。FIG. 2 is a plan view of the dicing apparatus shown in FIG.
【図3】図3は、ウェーハの形状認識に使用するライン
スキャナの説明に用いた説明図である。FIG. 3 is an explanatory view used for explaining a line scanner used for shape recognition of a wafer;
【図4】図4は、エレベータ部の構成を示した平面図で
ある。FIG. 4 is a plan view showing a configuration of an elevator unit.
【図5】図5は、エレベータ部の細部を省略して要部を
示した側面図である。FIG. 5 is a side view showing a main part of the elevator part, omitting details.
【図6】図6は、ラインスキャナの設置位置を示した図
である。FIG. 6 is a diagram illustrating an installation position of a line scanner.
【図7】図7は、割れウェーハの一例を示した図であ
る。FIG. 7 is a diagram illustrating an example of a broken wafer.
【図8】図8は、割れウェーハのパターン検出位置の一
例を示した図である。FIG. 8 is a diagram showing an example of a pattern detection position of a broken wafer.
1…ダイシング装置 10…切断部 40…エレベータ部 90…カメラ 100…ラインスキャナ W…ウェーハ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Dicing apparatus 10 ... Cutting part 40 ... Elevator part 90 ... Camera 100 ... Line scanner W ... Wafer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/301 H01L 21/68 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/301 H01L 21/68
Claims (2)
送手段によってアライメント部に搬送し、該アライメン
ト部で前記ワークを撮像して該ワークをアライメント
し、切断部で前記ワークを切断するダイシング装置にお
いて、 前記ワークが前記搬送手段によって前記アライメント部
に搬送されるまでの搬送路上に、前記アライメント部の
撮像手段とは別のラインスキャナを設置し、前記ワーク
が前記搬送路を移動中に該ラインスキャナによって前記
ワークを撮像し、前記ワークの形状を検知することを特
徴とするダイシング装置。A transfer means for transferring the work from a storage section in which the work is stored to an alignment section;
Align the work by imaging the work
And, in the dicing device for cutting the workpiece by the disconnected portion, the alignment portion and the workpiece by the conveying means
Of the alignment unit on the transport path until it is transported to
A dicing apparatus, further comprising a line scanner provided separately from an imaging unit , wherein the line scanner captures an image of the work while the work is moving along the transport path, and detects a shape of the work.
る収納部からワークを取り出し、該取り出したワークを
所定位置まで搬送する搬送手段に設置され、前記収納部
からワークを取り出す際に、又は、前記所定位置にワー
クを搬送する際に、前記ラインスキャナによって前記ワ
ークを撮像することを特徴とする請求項1のダイシング
装置。2. The line scanner according to claim 1, wherein the line scanner is installed in a transport unit that takes out the work from a storage unit in which the work is stored, and transports the work to a predetermined position. The dicing apparatus according to claim 1, wherein the work is imaged by the line scanner when the work is transported to the predetermined position.
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