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JP3169336B2 - Plating method of aluminum die casting - Google Patents
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JP3169336B2 - Plating method of aluminum die casting - Google Patents

Plating method of aluminum die casting

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JP3169336B2
JP3169336B2 JP11007296A JP11007296A JP3169336B2 JP 3169336 B2 JP3169336 B2 JP 3169336B2 JP 11007296 A JP11007296 A JP 11007296A JP 11007296 A JP11007296 A JP 11007296A JP 3169336 B2 JP3169336 B2 JP 3169336B2
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plating
pretreatment
treatment
casting
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、前処理を施したア
ルミダイカストの表面に鍍金を行うようにしたアルミダ
イカストの鍍金方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for plating an aluminum die-cast in which the surface of a pre-treated aluminum die-cast is plated.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、アルミダイカストの表面に無電
解又は電解鍍金を行う場合には、鍍金の「密着性」を高
めるためにエッチング等の前処理を行っている。すなわ
ちこの前処理は、アルミダイカストの表面を処理液によ
り溶解して荒らし、表面を凹凸状の粗面に形成するもの
であって、その凹凸状粗面の上に施された鍍金の「密着
性」を向上させている。
2. Description of the Related Art Generally, when performing electroless or electrolytic plating on the surface of an aluminum die-cast, pretreatment such as etching is performed in order to enhance the "adhesion" of the plating. In other words, this pretreatment involves dissolving and roughening the surface of the aluminum die-casting with a treatment liquid, and forming the surface on an uneven rough surface. The “adhesiveness” of the plating applied on the uneven rough surface ] Has been improved.

【0003】このようなアルミダイカストの鍍金におい
ては、上述した「密着性」の他に「光沢性」及び「平滑
性」が求められるが、このうち鍍金表面の「光沢性」を
向上させるための提案が、例えば特公平7−10904
0号公報に開示されている。このものに記載された鍍金
方法では、アルミニウム素材の表面をバフ研磨により平
滑にした上で前処理を行い、それに鍍金を施すようにし
ている。
[0003] In such aluminum die-casting plating, "glossiness" and "smoothness" are required in addition to the above-mentioned "adhesion", and among these, for improving the "glossiness" of the plating surface. If the proposal is, for example,
No. 0 discloses this. In the plating method described therein, the surface of an aluminum material is smoothed by buffing, pre-processed, and plated.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら本願発明
者は、上述した公報記載の研磨による鍍金方法によって
「光沢性」を向上させても、「平滑性」に関しては以下
のような問題があることを見出した。すなわち、上記公
報記載の研磨鍍金方法によれば、確かに「光沢性」を向
上させることはできるが、研磨の程度をどのように上げ
ても表面の一部に局部的な突起が残ってしまい、研磨の
みによっては十分な「平滑性」が得られないことが判明
した。この「局部突起」が如何にして形成されるかを本
願発明者が研究したところ、アルミダイカスト表面の大
部分を占める純粋なアルミ部材は、前記前処理により溶
解されて凹凸状粗面となるが、アルミダイカストに含有
されるSi,Cuのような不純物やその他の非溶解性成
分が、前処理によって溶解されないまま残存することが
あり、それが「不溶状局部突起」として形成されること
が解った。
However, the inventor of the present application has recognized that even if the "glossyness" is improved by the plating method by polishing described in the above-mentioned publication, there is the following problem with respect to "smoothness". I found it. That is, according to the polishing plating method described in the above-mentioned publication, it is possible to improve the "glossiness", but local projections remain on a part of the surface regardless of the degree of polishing. It was found that sufficient "smoothness" could not be obtained only by polishing. The present inventor has studied how this "local projection" is formed, and found that a pure aluminum member occupying most of the aluminum die-casting surface is melted by the pretreatment to become an uneven rough surface. It has been found that impurities such as Si and Cu and other non-soluble components contained in the aluminum die-casting may remain undissolved by the pretreatment, and are formed as “insoluble local projections”. Was.

【0005】そのため、例えばアルミダイカストの鍍金
面を、他の部材の平滑面に対し極めて小さいギャップを
介して対向させた場合には、鍍金表面に形成された「不
溶状局部突起」が他部材の平滑面側に衝突してしまうこ
とがある。従って、従来では、鍍金面に対して切削工程
等の後工程を施すことが一般に行われており、その後工
程により「不溶状局部突起」を除去することによって初
めて所定の「平滑性」を得ている。このような後工程
は、本来余分な工程である。
[0005] Therefore, for example, when the plating surface of aluminum die-casting is opposed to the smooth surface of another member via a very small gap, the “insoluble local projection” formed on the plating surface is formed by the other member. It may collide with the smooth surface side. Therefore, conventionally, a post-process such as a cutting process is generally performed on a plating surface, and a predetermined “smoothness” is obtained only by removing “insoluble local projections” in the subsequent process. I have. Such a post-process is essentially an extra process.

【0006】そこで本発明は、アルミダイカストの鍍金
面の光沢性及び平滑性を、良好かつ容易に得ることがで
きるようにしたアルミダイカストの鍍金方法を提供する
ことを目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a plating method of aluminum die casting which can obtain good and easy gloss and smoothness of a plating surface of aluminum die casting.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上述したように本願発明
者は、鍍金面に生じる「不溶状局部突起」が、アルミダ
イカストに含有されるSi,Cu等のような不溶性の不
純物が突起状に残存することによって形成されることを
見出したが、その「不溶状局部突起」の形成を抑えるた
めの手段として以下のような発明をなした。
As described above, the inventor of the present application has found that "insoluble local projections" generated on the plating surface are formed by projecting insoluble impurities such as Si, Cu, etc., contained in the aluminum die cast. Although it was found that it was formed by remaining, the following invention was made as a means for suppressing the formation of the “insoluble local protrusion”.

【0008】すなわち、上記目的を達成するため、請求
項1記載の発明は、アルミダイカストの表面を前処理に
より溶解して凹凸状の粗面を形成した後、その前処理後
の凹凸状粗面に対して無電解又は電解鍍金を施すように
したアルミダイカストの鍍金方法において、前記前処理
で溶解されることによって形成される凹凸状粗面と、前
記前処理では溶解されないことによって形成される不溶
状局部突起との間の段差を、所定の微少量以内とするよ
うに前処理を行うものである。
That is, in order to achieve the above object, an invention according to claim 1 is to provide an irregularly roughened surface after dissolving a surface of an aluminum die-cast by pretreatment to form a roughened surface. In an aluminum die-casting plating method in which electroless or electrolytic plating is performed on an uneven rough surface formed by being dissolved in the pretreatment, and an insoluble formed by not being dissolved in the pretreatment. The pre-processing is performed so that the step between the local projection and the projection is within a predetermined minute amount.

【0009】また、請求項2記載の発明は、アルミダイ
カストの表面を前処理により溶解して凹凸状の粗面を形
成した後、その前処理後の凹凸状粗面に対して無電解又
は電解鍍金を施すようにしたアルミダイカストの鍍金方
法において、前記前処理で溶解されることによって形成
される凹凸状粗面の最大高さと、前記前処理では溶解さ
れないことによって形成される不溶状局部突起との間の
段差を、所定の微少量以内、例えば1μm以内とするも
のである。
Further, the invention according to claim 2 is that, after the surface of the aluminum die-cast is melted by pretreatment to form a roughened surface having irregularities, the electroless or electrolytically roughened surface is roughened after the pretreatment. In the method of plating aluminum die cast so as to perform plating, the maximum height of the uneven rough surface formed by being melted in the pretreatment, and the insoluble local protrusion formed by not being melted in the pretreatment. Is set within a predetermined minute amount, for example, within 1 μm.

【0010】さらに、請求項3記載の発明は、アルミダ
イカストの表面を前処理により溶解して凹凸状の粗面を
形成した後、その前処理後の凹凸状粗面に対して無電解
又は電解鍍金を施すようにしたアルミダイカストの鍍金
方法において、前記前処理で溶解されることによって形
成される凹凸状粗面の平均粗さ(Rz)中心線と、前記
前処理では溶解されないことによって形成される不溶状
局部突起との間の段差を、所定の微少量以内、例えば
1.55μm以内とするように前処理を行うものであ
る。
Further, according to the present invention, the surface of the aluminum die-cast is melted by a pretreatment to form a roughened surface having irregularities, and then the electroless or electrolytically roughened surface is roughened after the pretreatment. In an aluminum die-casting plating method for performing plating, an average roughness (Rz) center line of an uneven rough surface formed by being melted in the pre-treatment, and being formed by not being melted in the pre-treatment. The pretreatment is performed so that the step between the insoluble local protrusion and the insoluble local protrusion is within a predetermined minute amount, for example, within 1.55 μm.

【0011】さらにまた、請求項4記載の発明は、アル
ミダイカストの表面を前処理により溶解して凹凸状の粗
面を形成した後、その前処理後の凹凸状粗面に対して無
電解又は電解鍍金を施すようにしたアルミダイカストの
鍍金方法において、前記前処理で溶解されることによっ
て形成される凹凸状粗面の波形状高さを平均して得られ
る中心線を基準とした最大高さと、前記前処理では溶解
されないことによって形成される不溶状局部突起との間
の段差を、所定の微少量以内、例えば1μm以内するよ
うに前処理を行うものである。
Further, the invention according to claim 4 is characterized in that the surface of the aluminum die-cast is melted by pre-treatment to form an uneven rough surface, and then the electro-deformed or rough surface is roughened after the pre-treatment. In the method of plating aluminum die cast so as to perform electrolytic plating, the maximum height based on the center line obtained by averaging the corrugated height of the uneven rough surface formed by being melted in the pretreatment. The pretreatment is performed so that a step between the insoluble local protrusion formed by not being dissolved in the pretreatment and the step is within a predetermined minute amount, for example, 1 μm.

【0012】このような請求項1乃至4記載の発明によ
れば、前処理により溶解して形成される凹凸状粗面に対
する不溶状局部突起の高さが必要な微少量以内に制御さ
れることとなって、鍍金面の平滑性が良好に得られる。
According to the first to fourth aspects of the present invention, the height of the insoluble local projection with respect to the uneven rough surface formed by melting by the pretreatment is controlled within a necessary minute amount. Thus, good smoothness of the plated surface can be obtained.

【0013】一方、請求項5記載の発明は、請求項1又
は2又は3又は4記載の段差の所定微少量を、1〜1.
55μm以内とするように前処理を行い、鍍金後の表面
における段差を1μm以内の微少量とするものである。
On the other hand, according to a fifth aspect of the present invention, a predetermined small amount of the step according to the first or second or third or fourth aspect is set to 1 to 1.
The pretreatment is performed so as to be within 55 μm, and the step on the surface after plating is reduced to a very small amount within 1 μm.

【0014】このような請求項5記載の発明によれば、
前処理により溶解して形成される凹凸状粗面に対する不
溶状局部突起の高さが、1〜1.55μm以内に制御さ
れることとなり、鍍金面の平滑性が極めて良好に得られ
る。
According to the fifth aspect of the present invention,
The height of the insoluble local projections with respect to the uneven rough surface formed by melting by the pretreatment is controlled within 1 to 1.55 μm, so that the plating surface can have extremely good smoothness.

【0015】このとき請求項6記載の発明では、請求項
1又は2又は3又は4記載の不溶状局部突起は、アルミ
ダイカストに含有した不溶性の不純物により形成され
る。
In this case, in the invention according to claim 6, the insoluble local protrusion according to claim 1, 2, 3 or 4 is formed by insoluble impurities contained in the aluminum die-cast.

【0016】また、請求項7記載の発明では、請求項1
又は2又は3又は4記載の前処理が、エッチング処理と
して行われる。
Further, according to the invention of claim 7, according to claim 1,
Alternatively, the pretreatment described in 2 or 3 or 4 is performed as an etching process.

【0017】さらに、請求項8記載の発明では、請求項
7記載のエッチング処理は、フッ酸と硝酸とを1対3〜
5の割合で含有する処理液に、アルミダイカストの表面
を5〜10秒間浸して行う工程を備えている。
Further, in the invention according to the eighth aspect, the etching treatment according to the seventh aspect is characterized in that hydrofluoric acid and nitric acid are added in a ratio of 1 to 3 to 3: 1.
A step of immersing the surface of the aluminum die-cast in a treatment liquid containing 5 at a rate of 5 to 10 seconds.

【0018】このような請求項8記載の発明によれば、
エッチング処理の時間を通常より短縮して行うことによ
って、前処理により溶解して形成される凹凸状粗面に対
する不溶状局部突起の高さが、必要量以内に制御される
こととなるため、鍍金面の平滑性の向上と同時に、作業
性の効率化が図られることとなる。
According to the eighth aspect of the present invention,
By shortening the time of the etching treatment from the usual time, the height of the insoluble local projections with respect to the uneven rough surface formed by melting in the pretreatment is controlled within a required amount, so that plating is performed. At the same time as the smoothness of the surface is improved, the efficiency of workability is improved.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
詳細に説明する。アルミダイカスト表面に鍍金をする場
合の前処理工程の一例を説明する。図1に示されている
前処理工程の適用材質は、ADC−12或はAC4Cで
あって、前処理工程が施される前における母材表面の凹
凸状態が、図2(a),(b) に表されている。この
処理前の母材表面には、凹凸が少ないため、このままで
は鍍金の「密着性」が良好でなくなることから、以下述
べるような前処理工程が施される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. An example of a pretreatment step when plating the surface of an aluminum die-cast will be described. The applied material of the pretreatment step shown in FIG. 1 is ADC-12 or AC4C, and the unevenness state of the base material surface before the pretreatment step is performed is shown in FIGS. ). Since the surface of the base material before this treatment has few irregularities, the "adhesion" of the plating is not good as it is, so that the following pretreatment process is performed.

【0020】前処理工程では、まず図1におけるステッ
プ1において溶剤脱脂が行われる。この溶剤脱脂工程に
は、トリクレン、トリエタン等の冷液・温液が用いら
れ、等温で十分な時間にわたって蒸気洗浄することによ
り行われる。
In the pretreatment step, first, in step 1 in FIG. 1, solvent degreasing is performed. In the solvent degreasing step, a cold liquid or a hot liquid such as trichlene or triethane is used, and the solvent degreasing is performed by performing steam cleaning at a constant temperature for a sufficient time.

【0021】水洗が行なわれた後のステップ2では、必
要に応じてまず苛性ソーダによるエッチング処理が行わ
れる。このエッチング処理には、5〜10%の苛性ソー
ダ溶液が用いられ、常温で1〜5分処理が行なわれる。
In the step 2 after the water washing, an etching treatment with caustic soda is performed first if necessary. In this etching treatment, a 5 to 10% caustic soda solution is used, and the treatment is performed at room temperature for 1 to 5 minutes.

【0022】水洗後、次のステップ3において、フッ酸
と硝酸とからなる硝フッ酸処理液を用いてエッチング処
理が行われる。この処理に用いられる硝フッ酸処理液を
構成するフッ酸と硝酸とは、1対3〜5の割合で配合さ
れており、例えばフッ酸67%(150cc/リット
ル)、硝酸50%(750cc/リットル)を含有して
いる。この硝フッ酸処理液は常温で用いられ、当該硝フ
ッ酸処理液中にアルミダイカストの表面が5〜10秒間
浸される。これによって、純粋なアルミ成分等の溶解性
の成分は、溶解によって凹凸状の粗面に形成されること
となるが、Si,Cu等の不純物やその他の非溶解性の
成分が表面に露出している部位は、上述したような硝フ
ッ酸エッチング処理によっては溶解されないまま残存す
る。従って、硝フッ酸エッチング処理の進行に伴い、上
記不純物やその他の非溶解性の成分が局部突起状に残存
することとなって「不溶状局部突起」が形成される。
After washing with water, in the next step 3, an etching treatment is performed using a nitric hydrofluoric acid treatment solution comprising hydrofluoric acid and nitric acid. The hydrofluoric acid and nitric acid constituting the nitric hydrofluoric acid treatment solution used in this treatment are mixed at a ratio of 1: 3 to 5; for example, hydrofluoric acid 67% (150 cc / liter), nitric acid 50% (750 cc / liter). Liters). This nitric hydrofluoric acid treatment liquid is used at room temperature, and the surface of the aluminum die-cast is immersed in the nitric hydrofluoric acid treatment liquid for 5 to 10 seconds. As a result, a soluble component such as a pure aluminum component is formed on an uneven rough surface by melting, but impurities such as Si and Cu and other insoluble components are exposed on the surface. Is left undissolved by the nitric hydrofluoric acid etching treatment as described above. Therefore, as the nitric hydrofluoric acid etching process proceeds, the above-mentioned impurities and other non-soluble components remain in the form of local protrusions, thereby forming “insoluble local protrusions”.

【0023】従来は、この硝フッ酸エッチング処理の程
度、すなわち処理時間等についてはなんら制御されてお
らず、エッチング処理を十分に行なうという観点のみか
ら、比較的長時間にわたってエッチング処理が行なわれ
ている。このようにエッチング処理を比較的長時間、例
えば15秒のエッチング処理を行なった場合には、図3
(a),(b),(c)に示されているように、エッチ
ング処理の進行に伴い純粋なアルミ部材等の溶解性成分
の溶解が進行し、強い凹凸を有する粗面1が形成され
る。一方、溶解性成分の溶解が進行した分、上述したS
i,Cu等の不純物やその他の非溶解成分による不溶状
局部突起2がより高く形成されることとなり、その「不
溶状局部突起」が高く形成されることによって鍍金表面
の「平滑性」が害されることとなる。
Conventionally, the degree of nitric hydrofluoric acid etching, that is, the processing time, is not controlled at all, and the etching is performed for a relatively long time only from the viewpoint of performing the etching sufficiently. I have. When the etching process is performed for a relatively long time, for example, for 15 seconds, as shown in FIG.
As shown in (a), (b), and (c), the dissolution of a soluble component such as a pure aluminum member progresses with the progress of the etching process, and the rough surface 1 having strong irregularities is formed. You. On the other hand, as the dissolution of the soluble component progresses,
The insoluble local projections 2 due to impurities such as i and Cu and other undissolved components are formed higher, and the "insoluble local projections" are formed higher, thereby impairing the "smoothness" of the plating surface. It will be.

【0024】一方、本実施形態では、上述したように処
理時間を5〜10秒のように比較的短時間に設定してお
り、これによって凹凸状粗面の溶解が適宜の範囲に制御
され、凹凸状粗面における凹凸の最大高さと、不溶状局
部突起の頂部との間の段差が、所定の微少量、例えば1
μm以内となるように制御され、良好な「平滑性」が得
られるようになっている。
On the other hand, in the present embodiment, the processing time is set to a relatively short time such as 5 to 10 seconds as described above, whereby the dissolution of the uneven rough surface is controlled to an appropriate range. The step between the maximum height of the unevenness on the uneven rough surface and the top of the insoluble local projection is a predetermined minute amount, for example, 1
It is controlled to be within μm, so that good “smoothness” can be obtained.

【0025】例えば、図4(a),(b),(c)は、
硝フッ酸処理液によるエッチング処理を10秒に設定し
た場合の処理後の表面状態を表しており、この場合に
は、凹凸状粗面1に対して、比較的低い高さの不溶状局
部突起2が生じており、凹凸状粗面1における凹凸の最
大高さと、不溶状局部突起2の頂部との間の段差が約
0.3μm前後の微少量になされている。また、無電解
又は電解鍍金後の表面状態を表した図5(a),(b)
においては、1μm以内の段差となっている。
For example, FIGS. 4 (a), (b), and (c)
The surface state after the treatment when the etching treatment with the nitric hydrofluoric acid treatment liquid is set to 10 seconds is shown. In this case, the insoluble local protrusion having a relatively low height with respect to the uneven rough surface 1 is shown. 2, and the step between the maximum height of the unevenness on the uneven rough surface 1 and the top of the insoluble local protrusion 2 is made as small as about 0.3 μm. 5 (a) and 5 (b) showing the surface state after electroless or electrolytic plating.
Has a step within 1 μm.

【0026】さらに、図6(a),(b),(c)は、
硝フッ酸処理液によるエッチング処理を5秒に設定した
場合の処理後の表面状態を表しており、この場合には、
凹凸状粗面1に対して、さらに低い高さの不溶状局部突
起2が生じており、凹凸状粗面1における凹凸の最大高
さと、不溶状局部突起2の頂部との間の段差が約0.2
μm前後の極微少量になされている。また、無電解又は
電解鍍金後の表面状態を表した図7(a),(b)にお
いては、0.5μm以内の段差となっているに過ぎな
い。
FIGS. 6 (a), 6 (b) and 6 (c)
The surface state after the treatment when the etching treatment with the nitric hydrofluoric acid treatment liquid is set to 5 seconds is shown. In this case,
An insoluble local protrusion 2 having a lower height is formed on the uneven rough surface 1, and a step between the maximum height of the unevenness on the uneven rough surface 1 and the top of the insoluble local protrusion 2 is about 0.2
It is made in a very small amount of about μm. Further, in FIGS. 7A and 7B showing the surface state after electroless or electrolytic plating, the level difference is only 0.5 μm or less.

【0027】この場合の上記凹凸状粗面の基準位置とし
ては、上述した凹凸の最大高さの他に、凹凸状粗面にお
けるの平均粗さ(Rz)中心線や、凹凸粗面における波
形状を平均して得られる中心線を基準とした最大高さ等
を採用することができる。
In this case, the reference position of the uneven rough surface may be, in addition to the maximum height of the uneven surface described above, the average roughness (Rz) center line of the uneven rough surface, or the wavy shape of the uneven rough surface. The maximum height or the like based on a center line obtained by averaging can be adopted.

【0028】図1に戻って、このようなエッチング処理
を終了して水洗の後、次のステップ4において亜鉛置換
が行われる。この亜鉛置換は、例えば、K−102を1
対1の濃度とした溶液が用いられ、常温で20〜30秒
にわたって行われる。この亜鉛置換は、次のステップ5
における酸洗いを挟んでステップ6で再度行われる。上
記ステップ5における酸洗いは、例えば、硝酸の67%
溶液(300cc/リットル)を用いて、常温で10〜
15秒にわたって行われる。
Returning to FIG. 1, after such an etching process is completed and washed with water, in the next step 4, zinc substitution is performed. This zinc substitution, for example,
A one-to-one concentration solution is used and is carried out at room temperature for 20-30 seconds. This zinc substitution is performed in the next step 5
Is carried out again in step 6 with the pickling in step. The pickling in the above step 5 is, for example, 67% of nitric acid.
Using a solution (300 cc / liter) at room temperature
Performed over 15 seconds.

【0029】このようなステップ1からステップ6まで
の前処理工程が完了すると、水洗が行われた後に、所定
の無電解又は電解鍍金がステップ7で実行される。そし
て、無電解又は電解鍍金の完了後に水洗が行なわれ、乾
燥工程が最後に実行される。
When the pre-processing steps from step 1 to step 6 are completed, a predetermined electroless or electrolytic plating is performed in step 7 after washing with water. After completion of the electroless or electrolytic plating, washing is performed, and the drying step is finally performed.

【0030】このように本実施形態においては、エッチ
ング処理工程により溶解して形成される凹凸状粗面に対
する不溶状局部突起の高さが、エッチング処理の時間を
通常より短縮して行うことによって必要な微少量以内に
制御されることとなり、極めて良好な鍍金面の平滑性
が、短時間の処理で効率的に行われる。
As described above, in the present embodiment, the height of the insoluble local projections with respect to the uneven rough surface formed by melting in the etching step is required by shortening the etching time compared to the normal time. It is controlled within a very small amount, and very good plating surface smoothness can be efficiently performed in a short time.

【0031】以上、本発明者によってなされた発明の実
施形態を具体的に説明したが、本発明は上記実施形態に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変形可能であるというのはいうまでもない。
Although the embodiments of the present invention made by the inventor have been specifically described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be variously modified without departing from the gist thereof. Needless to say.

【0032】例えば、エッチング処理液としては、上述
した実施形態における硝フッ酸処理液に限定されること
はなく、他のあらゆる処理液を採用することができる。
For example, the etching treatment liquid is not limited to the nitric hydrofluoric acid treatment liquid in the above-described embodiment, and any other treatment liquid can be used.

【0033】また、本発明は、上述した実施形態のよう
なエッチング処理の時間を短縮することに限定されるこ
とはなく、エッチング処理以外の処理工程で前処理の程
度を小さくするようにしてもよい。
Further, the present invention is not limited to shortening the time of the etching process as in the above-described embodiment, and may reduce the degree of the pre-processing in the process steps other than the etching process. Good.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上述べたように本発明は、前処理によ
り溶解して形成される凹凸状粗面に対する不溶状局部突
起の高さを、前処理の程度を適宜に小さくして行うこと
によって必要な微少量以内に制御し、極めて良好な無電
解又は電解鍍金面の「平滑性」を簡易な処理で鍍金作業
性の効率化を図るようにしたものであるから、アルミダ
イカストの無電解又は電解鍍金品質を容易かつ大幅に向
上せさることができるとともに、切削加工等の後工程を
省略することもでき、アルミダイカストに対する無電解
又は電解鍍金工程の信頼性及び生産性を高めることがで
きる。
As described above, according to the present invention, the height of the insoluble local projections with respect to the uneven rough surface formed by melting by the pretreatment is reduced by appropriately reducing the degree of the pretreatment. It is controlled within the required minute amount, and the extremely good electroless or electrolytic plating surface `` smoothness '' is made to improve the efficiency of plating work by simple processing, so that the electroless or aluminum die casting The quality of electrolytic plating can be easily and significantly improved, and post-processes such as cutting can be omitted, so that the reliability and productivity of the electroless or electrolytic plating process for aluminum die casting can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態にかかる前処理工程を表し
たフロー図である。
FIG. 1 is a flowchart showing a pretreatment step according to an embodiment of the present invention.

【図2】前処理工程を施す前の母材表面凹凸状態を表し
た拡大線図である。
FIG. 2 is an enlarged diagram illustrating a state of a surface roughness of a base material before a pretreatment process is performed.

【図3】硝フッ酸エッチング処理を15秒とした場合の
表面凹凸状態を表した拡大線図である。
FIG. 3 is an enlarged diagram showing a state of surface unevenness when a nitric hydrofluoric acid etching process is performed for 15 seconds.

【図4】硝フッ酸エッチング処理を10秒とした場合の
表面凹凸状態を表した拡大線図である。
FIG. 4 is an enlarged diagram showing a state of surface irregularities when a nitric hydrofluoric acid etching process is performed for 10 seconds.

【図5】図4の表面に無電解又は電解鍍金を施した後の
表面凹凸状態を表した拡大線図である。
FIG. 5 is an enlarged diagram showing a surface unevenness state after electroless or electrolytic plating is performed on the surface of FIG. 4;

【図6】硝フッ酸エッチング処理を5秒とした場合の表
面凹凸状態を表した拡大線図である。
FIG. 6 is an enlarged diagram showing a state of surface irregularities when a nitric hydrofluoric acid etching process is performed for 5 seconds.

【図7】図6の表面に無電解又は電解鍍金を施した後の
表面凹凸状態を表した拡大線図である。
FIG. 7 is an enlarged diagram showing a surface unevenness state after electroless or electrolytic plating is performed on the surface of FIG. 6;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 凹凸粗面 2 不溶状局部突起 1 Rough surface with irregularities 2 Insoluble local protrusion

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 アルミダイカストの表面を前処理により
溶解して凹凸状の粗面を形成した後、その前処理後の凹
凸状粗面に対して無電解又は電解鍍金を施すようにした
アルミダイカストの鍍金方法において、 前記前処理で溶解される成分によって形成される凹凸状
粗面と、前記前処理では溶解されない成分によって形成
される不溶状局部突起との間の段差を、所定の微少量以
内とするように前処理を行うことを特徴とするアルミダ
イカストの鍍金方法。
1. An aluminum die casting in which the surface of an aluminum die casting is melted by a pretreatment to form a roughened surface having irregularities, and then electroless plating or electrolytic plating is performed on the roughened surface after the pretreatment. In the plating method, the step between the uneven rough surface formed by the component dissolved in the pre-treatment and the insoluble local protrusion formed by the component not dissolved in the pre-treatment is within a predetermined minute amount. A method of plating aluminum die-casting, wherein a pretreatment is performed as follows.
【請求項2】 アルミダイカストの表面を前処理により
溶解して凹凸状の粗面を形成した後、その前処理後の凹
凸状粗面に対して無電解又は電解鍍金を施すようにした
アルミダイカストの鍍金方法において、 前記前処理で溶解される成分によって形成される凹凸状
粗面の最大高さと、前記前処理では溶解されない成分に
よって形成される不溶状局部突起との間の段差を、所定
の微少量以内とするように前処理を行うことを特徴とす
るアルミダイカストの鍍金方法。
2. An aluminum die casting wherein the surface of the aluminum die casting is melted by a pretreatment to form a roughened surface with irregularities, and then the electroless plating is performed on the roughened surface after the pretreatment. In the plating method, the step between the maximum height of the uneven rough surface formed by the components dissolved in the pre-treatment and the insoluble local protrusions formed by the components not dissolved in the pre-treatment, A method of plating aluminum die-casting, wherein a pre-treatment is performed to keep the amount within a very small amount.
【請求項3】 アルミダイカストの表面を前処理により
溶解して凹凸状の粗面を形成した後、その前処理後の凹
凸状粗面に対して無電解又は電解鍍金を施すようにした
アルミダイカストの鍍金方法において、 前記前処理で溶解される成分によって形成される凹凸状
粗面の平均粗さ(Rz)中心線と、前記前処理では溶解
されない成分によって形成される不溶状局部突起との間
の段差を、所定の微少量以内とするように前処理を行う
ことを特徴とするアルミダイカストの鍍金方法。
3. An aluminum die casting wherein the surface of the aluminum die casting is melted by a pretreatment to form a roughened surface having irregularities, and then the electroless plating is performed on the roughened surface after the pretreatment. In the plating method, the average roughness (Rz) center line of the uneven rough surface formed by the component dissolved in the pretreatment and the insoluble local protrusion formed by the component not dissolved in the pretreatment. A plating process for aluminum die-casting, wherein the pre-treatment is performed so that the step is within a predetermined minute amount.
【請求項4】 アルミダイカストの表面を前処理により
溶解して凹凸状の粗面を形成した後、その前処理後の凹
凸状粗面に対して無電解又は電解鍍金を施すようにした
アルミダイカストの鍍金方法において、 前記前処理で溶解される成分によって形成される凹凸状
粗面の波形状高さを平均して得られる中心線を基準とし
た最大高さと、前記前処理では溶解されない成分によっ
て形成される不溶状局部突起との間の段差を、所定の微
少量以内とするように前処理を行うことを特徴とするア
ルミダイカストの鍍金方法。
4. An aluminum die cast wherein the surface of the aluminum die cast is melted by pretreatment to form a roughened surface having irregularities, and then the electroless plating is performed on the roughened surface having irregularities after the pretreatment. In the plating method of, the maximum height based on the center line obtained by averaging the corrugated height of the uneven rough surface formed by the components dissolved in the pre-treatment, and the components that are not dissolved in the pre-treatment A method of plating aluminum die-casting, wherein a pre-treatment is performed so that a step between the formed insoluble local projection and the formed insoluble local projection is within a predetermined minute amount.
【請求項5】 請求項1又は2又は3又は4記載の段差
の所定微少量を、1〜1.55μm以内とするように前
処理を行い、鍍金後の表面における段差を1μm以内の
微少量としたことを特徴とするアルミダイカストの鍍金
方法。
5. A pretreatment is performed so that a predetermined minute amount of the step according to claim 1 or 2 or 3 or 4 is within 1 to 1.55 μm, and a minute amount of the step on the surface after plating is within 1 μm. A method of plating aluminum die-casting, characterized in that:
【請求項6】 請求項1又は2又は3又は4記載の不溶
状局部突起を形成する成分が、アルミダイカストに含有
された不溶性の不純物からなることを特徴とするアルミ
ダイカストの鍍金方法。
6. A method for plating an aluminum die cast, wherein the component for forming the insoluble local protrusion according to claim 1, 2, 3 or 4 comprises an insoluble impurity contained in the aluminum die cast.
【請求項7】 請求項1又は2又は3又は4記載の前処
理が、エッチング処理であることを特徴とするアルミダ
イカストの鍍金方法。
7. A method for plating aluminum die cast, wherein the pretreatment according to claim 1, 2, 3 or 4 is an etching treatment.
【請求項8】 請求項7記載のエッチング処理は、フッ
酸と硝酸とを1対3〜5の割合で含有する処理液に、ア
ルミダイカストの表面を5〜10秒間浸して行う工程を
有していることを特徴とするアルミダイカストの鍍金方
法。
8. An etching process according to claim 7, wherein the surface of the aluminum die-cast is immersed in a processing solution containing hydrofluoric acid and nitric acid at a ratio of 1: 3 to 5 for 5 to 10 seconds. A method of plating aluminum die-casting.
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