JP3185779B2 - 導電性ボールの搭載方法 - Google Patents
導電性ボールの搭載方法Info
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/0711—Apparatus therefor
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- Wire Bonding (AREA)
Description
のワークの電極上に、バンプを形成するための導電性ボ
ールを搭載する導電性ボールの搭載方法に関するもので
ある。
の製造工程において、ワークの電極にバンプ(突出電
極)を形成する方法として、半田ボールなどの導電性ボ
ールを用いる方法が知られている。また導電性ボールを
用いる方法として、搭載ヘッドを導電性ボールの供給部
の上方で上下動作を行わせることにより、搭載ヘッドで
多数個の導電性ボールをピックアップし、次いでこの搭
載ヘッドをワークの上方で上下動作を行わせて、多数個
の導電性ボールをワークの電極に一括して搭載する方法
が知られている。
の方法では、搭載ヘッドは、導電性ボールの供給部にお
いて余分な導電性ボール(本発明では、この余分なボー
ルのことを「エキストラボール」と称する)をピックア
ップしやすく、ワークにはこのエキストラボールも誤っ
て搭載されることとなって、不良ワークが生産されてし
まうという問題点があった。
誤ってワークに搭載されるのを解消できる導電性ボール
の搭載方法を提供することを目的とする。
の供給部に備えられた導電性ボールを搭載ヘッドの下面
に形成された吸着孔に吸着してピックアップしワークに
搭載する導電性ボールの搭載方法であって、搭載ヘッド
が導電性ボールをピックアップした後、搭載ヘッドの下
面に余分に付着したエキストラボールを検出し、また搭
載ヘッドが導電性ボールをワークに搭載した後、搭載ヘ
ッドの下面に残存付着する残存ボールを検出するように
した。
に付着したエキストラボールを検出し、エキストラボー
ルが検出されなかった搭載ヘッドの導電性ボールのみを
ワークに搭載できる。
実施の形態1の導電性ボールの搭載装置の側面図、図2
および図3は同導電性ボールの移送動作の説明図、図4
は同エキストラボールの検出部の斜視図、図5は同エキ
ストラボールの検出動作の説明図、図6は同残留ボール
の検出動作の説明図、図7は同搭載ヘッドの下部の部分
拡大断面図である。
半田ボールであり、容器2に貯溜されている。3は容器
2を載置する基台である。基台3の内部には、容器2内
の半田ボール1を流動化させるために、容器2を振動さ
せる振動手段や、容器2の内部へガスを送り込むガス供
給手段が内蔵されている。容器2の右壁には、ブラシ4
が上向きに突設されている。容器2や基台3は、半田ボ
ール1の供給部を構成している。
ンパ11にクランプして位置決めされている。クランパ
11は台部12に立設された支柱13に支持されてい
る。クランパ11と台部12と支柱13は、ワーク10
の位置決め部となっている。容器2とワーク10の間に
は、半田ボール1の回収部であるケース14が設けられ
ている。図4において、ケース14の両側部にはブラケ
ット15、16が立設されている。ブラケット15の内
面には発光素子17が装着されており、またブラケット
16の内面には受光素子18が装着されている(図5も
参照)。発光素子17と受光素子18は、ケーブル19
を介して検出部20に接続されている。検出部20は制
御部21に接続されている。Lは発光素子17から受光
素子18へ向って照射される光の光路である。この発光
素子17と受光素子18は、エキストラボールの検出手
段を構成している。
搭載ヘッド22はボックス23の下部に保持されてい
る。ボックス23の上部にはモータ24が設けられてい
る。ボックス23の内部には、モータ24に駆動される
送りねじなどの上下動手段が内蔵されており、モータ2
4が駆動すると、搭載ヘッド22は上下動作を行う。図
7に示すように、搭載ヘッド22の下部には吸着孔25
が多数開孔されている。搭載ヘッド22は空気圧ユニッ
ト(図外)に接続されており、空気圧ユニットが駆動す
ることにより、吸着孔25に半田ボール1を真空吸着し
て保持し、また真空吸着状態を解除することにより半田
ボール1を落下させる。
ル1を1個だけ吸着可能なテーパ状の凹部25aが形成
されており、半田ボール1が正常に吸着されるとこの凹
部25aに収容される。一方、エキストラボール1Aは
凹部に収容されずに搭載ヘッド22の下面22aに付着
するので、正常に吸着された半田ボール1との間に高低
差が確保される。実施の形態1の導電性ボールの搭載装
置では、正常な半田ボール1とエキストラボール1Aと
の高低差を利用することによりエキストラボール1Aを
正常に吸着された半田ボール1と区別して検出できるよ
うにしている。
しての横長の移動テーブル26に保持されている。移動
テーブル26には送りねじ機構が内蔵されており、モー
タ27が駆動して送りねじ機構が作動すると、搭載ヘッ
ド22は容器2、ケース14、ワーク10の間を水平方
向へ移動する。
に構成されており、次に動作を説明する。図1におい
て、搭載ヘッド22は容器2の上方へ移動し、そこで下
降・上昇動作を行うことにより、その下部の吸着孔25
に半田ボール1を真空吸着してピックアップする。図7
は、半田ボール1をピックアップした搭載ヘッド22の
下部を示している。図示するように、各吸着孔25に
は、それぞれ1個の半田ボール1が真空吸着されている
が、この図7では、1個の余分な導電性ボール(エキス
トラボール)1Aが付着している。このエキストラボー
ル1Aをワーク10に搭載すると、ワーク10は不良品
になるので、エキストラボール1Aはワーク10に搭載
してはならない。なおエキストラボール1Aの発生原因
は、静電気による半田ボール同士の付着や吸着孔25の
真空漏れなどである。
クアップした搭載ヘッド22は、ワーク10へ向って右
方へ移動する(図2も参照)。このとき、搭載ヘッド2
2はブラシ4の上方を通過し、ブラシ4の上端部は搭載
ヘッド22の下面に保持された半田ボール1に摺接す
る。図7に示す半田ボールのうち、吸着孔25に直接正
しく真空吸着された正常な半田ボール1は、強く真空吸
着して保持されているためブラシ4が摺接しても落下し
ないが、エキストラボール1Aは静電気などにより弱い
力で保持されているので、ブラシ4に摺接すると落下し
て容器2に回収される。なお本実施の形態のように、搭
載ヘッドの移動路にブラシ4を設け、ブラシ4を半田ボ
ール1に摺接させるようにすれば、半田ボール1をワー
ク10へ移送する途中において、エキストラボール1A
を簡単に落下させて除去できる。またブラシ4を容器2
に設けることにより、ブラシ4で落下せられたエキスト
ラボール1Aをそのまま容器2に回収できる。
うに発光素子17と受光素子18の間を通過する。図5
および図7に示すように、搭載ヘッド22のレベルは、
正常な半田ボール1には光路Lは遮光されないが、正常
な半田ボール1よりも下方へ突出するエキストラボール
1Aには遮光される高さに設定されている。勿論、搭載
ヘッド22のレベルは、モータ24を駆動して行う。上
述のように、エキストラボール1Aはブラシ4で摺接落
下せられるものであるが、摺接落下は必ずしも成功する
ものではなく、図5および図7に示すようにエキストラ
ボール1Aがなおも残存付着している場合がある。この
ようなエキストラボール1Aは光路Lを遮光することに
より検出される。
された場合には、様々な対応方法があり、次にそのいく
つかを説明する。まず第1の方法は、搭載ヘッド22を
ケース14の上方で停止させ、そこで空気圧ユニット
(図外)を逆方向に作動させることにより、吸着孔25
からエアを吹き出すか、あるいは真空吸着状態を解除す
ることにより、搭載ヘッド22が保持するすべての半田
ボール1とエキストラボール1Aをケース14に落下さ
せて回収する。そして搭載ヘッド22を容器2の上方へ
復帰させ、ピックアップ動作をやり直す。
2、Q3で示すように、搭載ヘッド22を容器2の上方
へ戻し、矢印Q4で示すようにブラシ4の上方を再度移
動させて、ブラシ4によるエキストラボール1Aの摺接
落下をやり直す。
上方へ戻し、そこで搭載ヘッド22を下降させて搭載ヘ
ッド22の下面を容器2に大量に貯溜された半田ボール
1の層中に突入させ、その状態でモータ27を正逆駆動
することにより搭載ヘッド22を横方向にスクラブ動作
させることにより、エキストラボール1Aを強制的に振
り落す。以上のように、エキストラボール1Aは様々な
方法で除去できる。
搭載ヘッド22は、図1においてワーク10の上方へ移
動する。そこで搭載ヘッド22は下降して半田ボール1
をワーク10の電極上に着地させる。次に半田ボール1
の真空吸着状態を解除して搭載ヘッド22を上昇させれ
ば、半田ボール1はワーク10の電極上に搭載される。
半田ボール1が搭載されたワーク10は、加熱炉(図
外)へ送られ、半田ボール1を加熱溶融固化させてバン
プが形成される。なお半田ボール1を加熱溶融するため
には、フラックスが必要である。フラックスは図示しな
い手段により、搭載ヘッド22の下面に保持された半田
ボール1の下面若しくはワーク10の電極上に塗布され
る。
ク10に半田ボール1を搭載したならば、搭載ヘッド2
2は容器2の上方へ復帰する。図6は、この復帰中にケ
ース14上を通過する搭載ヘッド22を示している。1
Bは搭載ヘッド22の下面に残存する半田ボール(以
下、「残存ボール」と称する)である。残存ボール1B
は、ワーク10への搭載に失敗して、搭載ヘッド22の
下面に残存付着するものである。
とにより検出される。なお、モータ24を駆動すること
により、搭載ヘッド22の高さを、往路よりも復路をわ
ずかに低くするか、あるいは図外のリフターによりケー
ス14をわずかに高くすることにより、図6に示すよう
に残存ボール1Bで光路Lを遮光させ、これを検出する
ことができる。
のワーク10は半田ボール不足の不良品であるので、ラ
インから除去するか、若しくは半田ボール1が存在しな
い電極上に別途のリカバリー手段により半田ボール1を
補充する。また図6において、搭載ヘッド22の吸着孔
25からエアを吹き出すことにより、残存ボール1Bは
ケース14に強制的に落下させて回収する。次いでこの
搭載ヘッド22は容器2の上方へ復帰し、上述した動作
が繰り返される。
態2の導電性ボールの搭載装置の側面図、図9は同カメ
ラの明暗画像図である。30はカメラ、31は上方へ照
明光を照射する光源であり、上記発光素子17と受光素
子18に替えて、搭載ヘッド22の移動路の下方に設け
られている。容器2内の半田ボール1をピックアップし
た搭載ヘッド22は、このカメラ30の上方へ移動し、
カメラ30で観察される。
ている。半田ボール1は光沢のある金属の球体であり、
下方から光を照射すると、そのセンターに入射した光の
みが下方へ強く反射されてカメラ30に入射するので、
半田ボール1のセンターのみが明るく観察される。なお
搭載ヘッド22の下面は、カメラ30で黒く観察される
ように、黒色などの暗色にしておく。図9において、
1’は正常な半田ボール1の画像、1A’はエキストラ
ボールの画像である。したがってこの画像を周知画像処
理技術によって解析することにより、エキストラボール
1Aの存在を簡単に検出できる。
形態3の導電性ボールの搭載装置の側面図、図11は同
部分側面図である。32はレーザユニットであり、上記
発光素子17と受光素子18に替えて、搭載ヘッド22
の移動路の下方に設けられている。
を照射し、このレーザスポット光を搭載ヘッド22の下
面全面にスキャンニングさせてその反射光を受光すれ
ば、搭載ヘッド22の下面のレベル分布を検出できる。
エキストラボール1Aは正常な半田ボール1よりも下方
へ突出しているので、このレベル分布を周知解析技術で
解析することにより、エキストラボール1Aの有無を簡
単に確認できる。
って、図6に示す残存ボール1Bの検出も、図8に示す
カメラ30や図10に示すレーザユニット32で行って
もよい。また導電性ボールとしては、半田ボール以外に
も、金ボールなども使用できる。
着したエキストラボールを検出し、エキストラボールが
検出されなかった搭載ヘッドの導電性ボールのみをワー
クに搭載できる。また導電性ボールをワークに搭載した
後に残存する残存ボールの検出も簡単に行うことができ
る。
置の側面図
置の導電性ボールの移送動作の説明図
置の導電性ボールの移送動作の説明図
置のエキストラボールの検出部の斜視図
置のエキストラボールの検出動作の説明図
置の残留ボールの検出動作の説明図
置の搭載ヘッドの下部の部分拡大断面図
置の側面図
置のカメラの明暗画像図
装置の側面図
装置の部分側面図
Claims (7)
- 【請求項1】導電性ボールの供給部に備えられた導電性
ボールを搭載ヘッドの下面に形成された吸着孔に吸着し
てピックアップしワークに搭載する導電性ボールの搭載
方法であって、搭載ヘッドが導電性ボールをピックアッ
プした後、搭載ヘッドの下面に余分に付着したエキスト
ラボールを検出し、また搭載ヘッドが導電性ボールをワ
ークに搭載した後、搭載ヘッドの下面に残存付着する残
存ボールを検出するようにしたことを特徴とする導電性
ボールの搭載方法。 - 【請求項2】前記吸着孔に正常に吸着された導電性ボー
ルとエキストラボールの高低差を利用し、発光素子から
受光素子へ照射された光の遮光によりエキストラボール
を検出することを特徴とする請求項1記載の導電性ボー
ルの搭載方法。 - 【請求項3】前記吸着孔に導電性ボールを1個だけ吸着
可能な凹部を形成して、前記正常に吸着された導電性ボ
ールと前記エキストラボールの高低差を確保することを
特徴とする請求項2記載の導電性ボールの搭載方法。 - 【請求項4】光源から前記搭載ヘッドに光を照射して導
電性ボールが明るく観察される前記搭載ヘッドの下面の
画像をカメラで入手し、この画像から光沢のある金属の
球体であるエキストラボールを検出することを特徴とす
る請求項1記載の導電性ボールの搭載方法。 - 【請求項5】前記搭載ヘッドの下面を暗色として光沢の
ある金属の球体である導電性ボールを明るく観察するこ
とを特徴とする請求項4記載の導電性ボールの搭載方
法。 - 【請求項6】前記吸着孔に正常に吸着された導電性ボー
ルとエキストラボールの高低差を利用し、レーザユニッ
トにより前記搭載ヘッドの下面のレベル分布をスキャン
ニングしてエキストラボールを検出することを特徴とす
る請求項1記載の導電性ボールの搭載方法。 - 【請求項7】前記導電性ボールの供給部が導電性ボール
を貯溜する容器から成り、エキストラボールが検出され
たときは、前記搭載ヘッドの下面を前記容器に貯溜され
た導電性ボールの層中に突入させ、エキストラボールを
前記搭載ヘッドから強制的に落して前記容器に回収する
ようにしたことを特徴とする請求項1乃至6の何れかに
記載の導電性ボールの搭載方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03402699A JP3185779B2 (ja) | 1999-02-12 | 1999-02-12 | 導電性ボールの搭載方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03402699A JP3185779B2 (ja) | 1999-02-12 | 1999-02-12 | 導電性ボールの搭載方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03029996A Division JP3147765B2 (ja) | 1996-02-19 | 1996-02-19 | 導電性ボールの搭載装置および搭載方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11274213A JPH11274213A (ja) | 1999-10-08 |
| JP3185779B2 true JP3185779B2 (ja) | 2001-07-11 |
Family
ID=12402869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03402699A Expired - Lifetime JP3185779B2 (ja) | 1999-02-12 | 1999-02-12 | 導電性ボールの搭載方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3185779B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5743488B2 (ja) | 2010-10-26 | 2015-07-01 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置および半導体装置の製造方法 |
-
1999
- 1999-02-12 JP JP03402699A patent/JP3185779B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5743488B2 (ja) | 2010-10-26 | 2015-07-01 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置および半導体装置の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11274213A (ja) | 1999-10-08 |
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