JP3198751B2 - Optical scanning device - Google Patents
Optical scanning deviceInfo
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- JP3198751B2 JP3198751B2 JP24366293A JP24366293A JP3198751B2 JP 3198751 B2 JP3198751 B2 JP 3198751B2 JP 24366293 A JP24366293 A JP 24366293A JP 24366293 A JP24366293 A JP 24366293A JP 3198751 B2 JP3198751 B2 JP 3198751B2
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は光走査装置に関し、特に
レーザービームとして微小スポットでかつ焦点深度の深
いベッセルビームを用いて被走査面上を光走査し、画像
の記録等を高精度に行なうようにした、例えばレーザー
ビームプリンタ(LBP)等に好適な光走査装置に関す
るものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical scanning device, and more particularly, to optically scan a surface to be scanned by using a Bessel beam having a small spot and a large depth of focus as a laser beam to record an image with high accuracy. The present invention relates to an optical scanning device suitable for, for example, a laser beam printer (LBP).
【0002】[0002]
【従来の技術】従来よりレーザービームは一般にガウス
ビームとして取り扱われ、その伝搬特性に基づく制約を
受けてきた。しかしながら近年非常に焦点深度が深く、
かつスポット径が小さいレーザービームとしてベッセル
ビーム(あるいは非回折性ビーム)が注目されている。2. Description of the Related Art Conventionally, a laser beam is generally treated as a Gaussian beam, and is subject to restrictions based on its propagation characteristics. However, in recent years the depth of focus is very deep,
A Bessel beam (or a non-diffractive beam) has attracted attention as a laser beam having a small spot diameter.
【0003】このベッセルビームの特徴は伝搬方向に垂
直な断面内での光強度分布が第1種0次ベッセル関数の
2乗に比例するものになっていることである。A characteristic of this Bessel beam is that the light intensity distribution in a section perpendicular to the propagation direction is proportional to the square of the first-order zero-order Bessel function.
【0004】図5は本出願人が先の特願平4−1376
45号で提案したベッセルビームを利用した光走査装置
の光学系の要部概略図である。FIG. 5 shows that the present applicant has previously filed Japanese Patent Application No. 4-1376.
It is a principal part schematic diagram of the optical system of the optical scanning device using the Bessel beam proposed in No. 45.
【0005】同図において光源手段51から画像情報に
基づき光変調し射出したレーザービームL51はベッセ
ルビーム発生手段52により、その光路を横切る平面A
0 を中心位置とするベッセルビームL52となり、該平
面A0 に集光された後、発散している。In FIG. 1, a laser beam L 51 emitted from a light source means 51 after being light-modulated based on image information is converted by a Bessel beam generating means 52 into a plane A crossing the optical path.
The beam becomes a Bessel beam L52 centered at 0 , and diverges after being focused on the plane A0.
【0006】該発散したベッセルビームL52は集光レ
ンズ53により収束され、光偏向器としての回転多面鏡
54の反射面(偏向面)に入射した後反射偏向され、f
−θ特性を有する結像レンズ55によって回転ドラム
(感光体ドラム)D0 の表面(被走査面)上に結像さ
れ、該表面の感光体(不図示)に静電潜像を形成してい
る。The divergent Bessel beam L52 is converged by a condenser lens 53, is incident on a reflecting surface (deflecting surface) of a rotary polygon mirror 54 as an optical deflector, is reflected and deflected, and f
The imaging lens 55 having a -θ properties imaged on a rotating drum (photosensitive drum) D 0 of the surface (surface to be scanned), to form an electrostatic latent image on the photosensitive body surface (not shown) I have.
【0007】同図において平面A0 と回転ドラムD0 の
表面とは光学的に略共役な関係に設定しているのでベッ
セルビームは、該回転ドラムD0 の表面近傍に形成され
る。このベッセルビームは前述した如く焦点深度が非常
に深いので、例えばその光学系に像面湾曲があっても、
あるいは回転ドラムD0 の位置が光軸方向に多少ズレて
もビームスポット径は変化せず、これにより高解像度の
光走査装置を得ていた。In FIG. 1, since the plane A 0 and the surface of the rotary drum D 0 are set to have an optically conjugate relationship, the Bessel beam is formed near the surface of the rotary drum D 0 . Since the Bessel beam has a very deep depth of focus as described above, for example, even if the optical system has a curvature of field,
Or the position of the rotary drum D 0 is the beam spot diameter is not changed even slightly shifted in the optical axis direction, thereby had received optical scanning apparatus with a high resolution.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】従来の光走査装置にお
いて回転ドラムD0 の表面(被走査面)近傍に形成され
るベッセルビームの断面強度分布は前述の如く第1種0
次ベッセル関数の2乗に比例するものである。[SUMMARY OF THE INVENTION Conventional cross-sectional intensity distribution of Bessel beams formed in the vicinity of the surface (surface to be scanned) of the rotary drum D 0 in the optical scanning device of the first kind as described above 0
It is proportional to the square of the following Bessel function.
【0009】又、このベッセルビームのサイドローブ
(回折リング)の強度は中心スポットのピークの強度を
100%とした場合、第1サイドローブの強度が16
%、第2サイドローブの強度が9%、そして第3サイド
ローブの強度が6%であり、サイドローブの光強度は比
較的大きい。The intensity of the side lobe (diffraction ring) of this Bessel beam is 16% when the intensity of the peak of the center spot is 100%.
%, The intensity of the second side lobe is 9%, and the intensity of the third side lobe is 6%, and the light intensity of the side lobe is relatively large.
【0010】この為、このベッセルビームを例えば記録
用ビームとして光走査装置(記録装置)に適用した場合
はサイドローブの強度が大きすぎて結果的に記録画像の
画質の低下を引き起こす場合があるという問題点があっ
た。For this reason, when this Bessel beam is applied, for example, as a recording beam to an optical scanning device (recording device), the intensity of the side lobe is too large, and as a result, the image quality of the recorded image may be reduced. There was a problem.
【0011】本発明はレーザービームをベッセルビーム
とすると共に被走査面近傍に所定形状のスリット部材を
配置し、該スリット部材により被走査面近傍に形成され
るベッセルビームのサイドローブ部の大部分を効果的に
遮光することにより、記録画像の画質の向上を図った光
走査装置の提供を目的とする。According to the present invention, a laser beam is used as a Bessel beam, and a slit member having a predetermined shape is arranged near a surface to be scanned. It is an object of the present invention to provide an optical scanning device that improves the image quality of a recorded image by effectively shielding light.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明の光走査装置は、
光源手段から射出したレーザービームをベッセルビーム
生成手段を介してサイドローブが同心円状に形成される
ベッセルビームとし、該ベッセルビームを偏向手段によ
り偏向させた後、結像光学系を介して被走査面上に導光
し、該被走査面上を光走査する光走査装置であって、該
被走査面近傍に回折によるスポットのボケが生じない程
度の小さな距離を隔てて、長手方向を主走査方向に略一
致させたスリット部材を配置し、該スリット部材により
該ベッセルビームのうち中心スポットを主に通過させ、
サイドローブ部の大部分を遮光するようにしたこと、及
び、前記ベッセルビーム生成手段と偏向手段との間に集
光レンズを設け、前記ベッセルビーム生成手段によって
偏向手段の前側に形成されたベッセルビームを集光レン
ズ及び前記結像光学系を介して被走査面上に結像させる
ように構成し、前記偏向手段の前側にベッセルビームが
形成される位置を集光レンズの前側焦点位置に設定し、
前記偏向手段を集光レンズの後側焦点位置に配置したこ
とを特徴としている。An optical scanning device according to the present invention comprises:
The laser beam emitted from the light source means is converted into a Bessel beam in which side lobes are formed concentrically via a Bessel beam generating means, and the Bessel beam is deflected by a deflecting means. An optical scanning device that guides light upward and optically scans the surface to be scanned, wherein the longitudinal direction is the main scanning direction at a small distance such that spots due to diffraction do not occur near the surface to be scanned. Arrange a slit member substantially matched to, mainly through the center spot of the vessel beam by the slit member,
Most of the side lobes are shielded from light, and a condenser lens is provided between the Bessel beam generating means and the deflecting means, and the Bessel beam formed on the front side of the deflecting means by the Bessel beam generating means Is formed on the surface to be scanned through the condenser lens and the imaging optical system, and a position where a Bessel beam is formed in front of the deflecting unit is set as a front focal position of the condenser lens. ,
It is characterized in that the deflecting means is arranged at a rear focal position of a condenser lens.
【0013】[0013]
【実施例】図1、図2は本発明の実施例1の主走査断面
図と副走査断面図である。1 and 2 are a main scanning sectional view and a sub-scanning sectional view of a first embodiment of the present invention.
【0014】同図において1は光源手段であり、例えば
半導体レーザより成っている。2はコリメーターレンズ
であり、光源手段1から画像情報に基づき光変調し射出
したレーザービーム(光ビーム)を平行光束としてい
る。In FIG. 1, reference numeral 1 denotes light source means, which is made of, for example, a semiconductor laser. Reference numeral 2 denotes a collimator lens, which converts a laser beam (light beam) emitted from the light source unit 1 based on image information into a parallel light beam.
【0015】3はベッセルビーム生成手段としてのアキ
シコンである。レーザービームはアキシコン3に垂直入
射している。アキシコン3により焦点深度の深いビーム
スポットを持つ第1種0次ベッセル関数の2乗に略比例
する強度分布を有するベッセルビームB1を生成してお
り、該ベッセルビームのサイドローブが同心円状に形成
されている。Reference numeral 3 denotes an axicon as a Bessel beam generating means. The laser beam is perpendicularly incident on the axicon 3. The axicon 3 generates a Bessel beam B1 having an intensity distribution substantially proportional to the square of the zeroth-order Bessel function of the first kind having a beam spot with a large depth of focus, and side lobes of the Bessel beam are formed concentrically. ing.
【0016】4は集光レンズ(集光手段)であり、ベッ
セルビームを集光して偏向手段としての光偏向器5の偏
向面(反射面)に入射させている。該光偏向器5は4つ
の偏向面5a〜5dを有した回転多面鏡より成ってお
り、モータ等の駆動手段(不図示)により回転軸Oを中
心に矢印C方向に等速回転している。A condensing lens (condensing means) 4 condenses the Bessel beam and makes it incident on a deflecting surface (reflection surface) of an optical deflector 5 as a deflecting means. The optical deflector 5 is composed of a rotating polygonal mirror having four deflecting surfaces 5a to 5d, and is rotated at a constant speed in the direction of arrow C about the rotation axis O by a driving means such as a motor (not shown). .
【0017】6は結像手段としてのf−θレンズ(結像
光学系)であり、2枚の球面レンズ6a,6bより成っ
ており、光偏向器5によって反射偏向されたレーザービ
ーム(ベッセルビーム)を被走査面8近傍に結像させて
いる。被走査面8は、例えば複写機やLBP等では感光
体ドラム面に相当している。Reference numeral 6 denotes an f-.theta. Lens (imaging optical system) as imaging means, which comprises two spherical lenses 6a and 6b, and a laser beam (Bessel beam) reflected and deflected by the optical deflector 5. ) Is formed near the surface 8 to be scanned. The scanned surface 8 corresponds to a photosensitive drum surface in a copying machine, an LBP, or the like, for example.
【0018】7はスリット部材であり、被走査面8近傍
に回折によるスポットのボケが生じない程度の小さな距
離dを隔てて配置している。スリット部材7はその開口
の長手方向が主走査方向に略一致するようにして設けて
いる。Reference numeral 7 denotes a slit member which is arranged in the vicinity of the surface 8 to be scanned with a small distance d such that a spot is not blurred due to diffraction. The slit member 7 is provided such that the longitudinal direction of the opening substantially coincides with the main scanning direction.
【0019】本実施例においては後述するようにスリッ
ト部材7の開口部7aによりベッセルビームのうち中心
スポットを主に通過させ、遮光部7bでサイドローブ部
の大部分を遮光するようにしている。In this embodiment, as will be described later, the opening 7a of the slit member 7 allows the center spot of the Bessel beam to pass mainly, and the light shielding portion 7b shields most of the side lobe portion from light.
【0020】図3は図1、図2に示したスリット部材7
の一部分をf−θレンズ側から見たときの拡大説明図で
あり、同図においてはスリット部材7の開口部7aとベ
ッセルビームとの位置関係を示している。FIG. 3 shows the slit member 7 shown in FIGS.
3 is an enlarged explanatory view when a part of is viewed from the f-θ lens side, and shows the positional relationship between the opening 7a of the slit member 7 and the Bessel beam.
【0021】同図に示すようにスリット部材7の開口部
7aは主走査方向に長く広がって形成されており、光走
査には何ら影響を及ぼすことなく形成されている。又副
走査方向に関しては中心部のビームを主に通過させ、そ
の他の部分の大部分を遮光部7bで遮光するような形状
より成っている。As shown in the figure, the opening 7a of the slit member 7 is formed to extend long in the main scanning direction, and is formed without affecting optical scanning. Further, in the sub-scanning direction, the beam is formed so as to mainly pass the beam at the center and to shield most of the other portions from light by the light shielding portion 7b.
【0022】尚、本実施例においてはサイドローブ部の
一部が被走査面に到達するが、このときのサイドローブ
部の光強度は中心スポットのピークの強度に比べて非常
に弱いので、光走査を行なう際には殆ど影響されること
はない。In this embodiment, a part of the side lobe reaches the surface to be scanned, but the light intensity of the side lobe at this time is much weaker than the intensity of the peak of the center spot. The scan is hardly affected.
【0023】本実施例においては図1に示すように半導
体レーザ1から射出したレーザービームをコリメーター
レンズ2により平面波に変換し、アキシコン3に垂直入
射させている。そしてアキシコン3から出射したレーザ
ービームは互いに干渉しあい、その光路を横切る平面
(位置)A近傍に第1種0次ベッセル関数の2乗に略比
例する強度分布を有するベッセルビームB1を形成して
いる。そして該ベッセルビームB1は平面Aから離れる
に従い発散するが、集光レンズ4により収束作用を受
け、回転多面鏡5の偏向面(反射面)5b近傍に略リン
グ形状に集光している。In this embodiment, as shown in FIG. 1, a laser beam emitted from a semiconductor laser 1 is converted into a plane wave by a collimator lens 2 and vertically incident on an axicon 3. The laser beams emitted from the axicon 3 interfere with each other to form a Bessel beam B1 having an intensity distribution substantially proportional to the square of the first-order zero-order Bessel function near a plane (position) A crossing the optical path. . Although the Bessel beam B1 diverges as it moves away from the plane A, it is converged by the condenser lens 4 and converges in a substantially ring shape near the deflection surface (reflection surface) 5b of the rotary polygon mirror 5.
【0024】尚、本実施例において平面Aは集光レンズ
4の前側焦点位置に対応し、又回転多面鏡5の各偏向面
5a〜5dは該集光レンズ4の後側焦点位置に対応する
ように設定している。In this embodiment, the plane A corresponds to the front focal position of the condenser lens 4, and the deflecting surfaces 5a to 5d of the rotary polygon mirror 5 correspond to the rear focal position of the condenser lens 4. Is set as follows.
【0025】そして回転多面鏡5で反射偏向されたレー
ザービームはf−θレンズ6によって収束作用を受け、
スリット部材7近傍にベッセルビームB2を形成してい
る。尚平面Aとスリット部材7の位置とは光学的に略共
役な関係に設定している。The laser beam reflected and deflected by the rotary polygon mirror 5 is converged by the f-θ lens 6,
A Bessel beam B2 is formed near the slit member 7. Note that the plane A and the position of the slit member 7 are set to have an optically conjugate relationship.
【0026】そしてスリット部材7によって図3に示す
如くサイドローブS1 〜SN の大部分はスリット部材7
の遮光部7bによって遮光され、中心スポットS0 とサ
イドローブS1 〜SN の一部のみが該スリット部材7の
開口部7aを通過し被走査面に到達する。これにより極
めて解像度の高い光走査装置を得ている。尚、このとき
サイドローブの一部は被走査面に到達するが、前述した
如くサイドローブの光強度は非常に弱い為、その影響に
よる記録画像の画質の低下は殆ど受けることはない。As shown in FIG. 3, most of the side lobes S 1 to S N are formed by the slit member 7.
The light shielding by the shielding portion 7b, only a part of the central spot S 0 and the side lobe S 1 to S N reaches the scanned surface through an opening 7a of the slit member 7. As a result, an optical scanning device with extremely high resolution is obtained. At this time, part of the side lobes reaches the surface to be scanned. However, as described above, the light intensity of the side lobes is very weak, so that the image quality of the recorded image is hardly reduced due to the influence.
【0027】図4は図1、図2に示したスリット部材7
近傍に形成されるビームスポットの様子を示した副走査
断面図である。FIG. 4 shows the slit member 7 shown in FIGS.
FIG. 5 is a sub-scan sectional view showing a state of a beam spot formed in the vicinity.
【0028】同図においてはベッセルビームB2を形成
するスポットS0 ,S1 〜SN のうちサイドローブS1
〜SN の大部分がスリット部材7の遮光部7bによって
遮光され、中心スポットS0 が主にスリット部材7の開
口部7aを通過し被走査面8上に到達している様子を示
している。In the figure, the side lobe S 1 of the spots S 0 , S 1 to S N forming the Bessel beam B2 is shown.
SS N is largely shielded by the light shielding portion 7b of the slit member 7, and the center spot S 0 mainly passes through the opening 7a of the slit member 7 and reaches the surface 8 to be scanned. .
【0029】又、同図においてスリット部材7と被走査
面8との間隔dは回折による中心スポットS0 のボケが
発生しない程度の小さな値に設定している。In the figure, the distance d between the slit member 7 and the surface 8 to be scanned is set to a small value such that the center spot S 0 is not blurred by diffraction.
【0030】尚、本実施例においては回転多面鏡5を回
転させることによって被走査面8上を主走査方向に微小
スポットで光走査すると共に、該被走査面8を副走査方
向に移動もしくは回動させることにより、2次元的に画
像を光走査(記録)するようにしている。In this embodiment, by rotating the rotary polygon mirror 5, the surface 8 to be scanned is optically scanned with a minute spot in the main scanning direction, and the surface 8 to be scanned is moved or rotated in the sub scanning direction. By moving the image, the image is optically scanned (recorded) two-dimensionally.
【0031】このように本実施例では被走査面近傍に形
成されるレーザービームが非回折性ビーム(ベッセルビ
ーム)となっており、この非回折性ビームは前述の如く
焦点深度が非常に深いので、例えばその光学系の像面湾
曲が大きかったり、あるいは光学部品の配置位置の誤差
や変動があったりしても画像の劣化が起きることはな
く、常に高画質の画像を得ることができる。As described above, in this embodiment, the laser beam formed near the surface to be scanned is a non-diffracting beam (Bessel beam), and the non-diffracting beam has a very large depth of focus as described above. For example, even if the field curvature of the optical system is large, or if there is an error or fluctuation in the arrangement position of the optical component, the image does not deteriorate, and a high-quality image can always be obtained.
【0032】尚、本実施例においては回転対称な光学系
に本発明を適用した場合を示したが、例えば面倒れ補正
機能を有する回転非対称な光学系にも本発明は前述の実
施例と同様に適用することができる。In this embodiment, the case where the present invention is applied to a rotationally symmetric optical system has been described. However, the present invention is also applicable to a rotationally asymmetric optical system having a surface tilt correcting function, for example. Can be applied to
【0033】又、本実施例においてはベッセルビームを
発生させる手段としてアキシコンを用いてベッセルビー
ムを形成しているが、この形成方法に限らず例えば瞳フ
ィルタや該アキシコンと同等の光学的作用を有する回折
格子等を用いてベッセルビームを形成するようにしても
良い。In this embodiment, an axicon is used to generate a Bessel beam as a means for generating a Bessel beam. However, the present invention is not limited to this forming method, and has, for example, a pupil filter and an optical action equivalent to that of the axicon. A Bessel beam may be formed using a diffraction grating or the like.
【0034】又、本実施例においてはスリット部材と被
走査面との間の距離dを回折によるスポットのボケが生
じない程度の小さな距離に設定したが、該スリット部材
を被走査面を含むユニットと一体的に構成しても良い。Further, in this embodiment, the distance d between the slit member and the surface to be scanned is set to a small distance which does not cause blurring of the spot due to diffraction. And may be configured integrally.
【0035】例えば被走査面が感光体ドラムである場合
には感光体ドラムユニットとスリット部材とを一体的に
構成するようにすれば良い。これにより回折によるスポ
ットのボケの発生を防止することができる。For example, when the surface to be scanned is a photosensitive drum, the photosensitive drum unit and the slit member may be integrally formed. This can prevent spot blurring due to diffraction.
【0036】更に本実施例においてはスリット部材の副
走査方向の幅を中心スポットS0 のみを通すような狭い
幅より形成したが、この幅を被走査面の感度特性に合わ
せ、中心スポットS0 と数個の回折リングとを通す程度
の広い幅より形成しても良い。この場合にはスリット部
材と被走査面との間の距離dをより大きく設定すること
ができる。Further, in the present embodiment, the width of the slit member in the sub-scanning direction is formed to be narrow such that only the center spot S 0 passes. However, this width is adjusted to the sensitivity characteristic of the surface to be scanned, and the center spot S 0 is formed. And a width as wide as it passes through and several diffraction rings. In this case, the distance d between the slit member and the surface to be scanned can be set larger.
【0037】尚、本実施例においてはサイドローブ部を
遮光する手段としてスリット部材を用いたが、該サイド
ローブ部を効果的に遮光できる光学部材なら何を用いて
も本発明は前述の実施例と同様に適用することができ
る。In this embodiment, the slit member is used as a means for shielding the side lobe portion. However, the present invention can be applied to any optical member capable of effectively shielding the side lobe portion. The same can be applied.
【0038】[0038]
【発明の効果】本発明によれば前述の如くベッセルビー
ムを用いて被走査面上を光走査する際、該ベッセルビー
ムのサイドローブ部の大部分を被走査面近傍に設けた所
定形状の開口部を有するスリット部材により効果的に遮
光することにより、実質的に焦点深度の深い光強度の大
きい微小スポットのみで被走査面上を光走査することが
でき、これにより装置の高性能化を図ることができる光
走査装置を達成することができる。According to the present invention, when optical scanning is performed on a surface to be scanned by using a Bessel beam as described above, most of the side lobe portions of the Bessel beam are formed in a predetermined shape provided near the surface to be scanned. By effectively shielding light with a slit member having a portion, it is possible to optically scan the surface to be scanned with only a small spot having a large depth of focus and a large light intensity, thereby improving the performance of the apparatus. Optical scanning device that can be achieved.
【図1】 本発明の実施例1の主走査断面図FIG. 1 is a main scanning sectional view of a first embodiment of the present invention.
【図2】 本発明の実施例1の副走査断面図FIG. 2 is a cross-sectional view in the sub-scanning direction according to the first embodiment of the present invention.
【図3】 本発明の実施例1のスリット部材とベッセル
ビームとの位置関係を示した説明図FIG. 3 is an explanatory diagram showing a positional relationship between a slit member and a Bessel beam according to the first embodiment of the present invention.
【図4】 本発明の実施例1のスリット部材近傍のスポ
ットの様子を示した説明図FIG. 4 is an explanatory diagram showing a state of a spot near a slit member according to the first embodiment of the present invention.
【図5】 従来の光走査装置の光学系の要部概略図FIG. 5 is a schematic view of a main part of an optical system of a conventional optical scanning device.
1 光源手段 2 コリメーターレンズ 3 ベッセルビーム生成手段(アキシコン) 4 集光手段 5 偏向手段 6 結像光学系 7 スリット部材 8 被走査面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light source means 2 Collimator lens 3 Bessel beam generation means (axicon) 4 Condensing means 5 Deflection means 6 Imaging optical system 7 Slit member 8 Scanning surface
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 26/10 Continuation of front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G02B 26/10
Claims (1)
ベッセルビーム生成手段を介してサイドローブが同心円
状に形成されるベッセルビームとし、該ベッセルビーム
を偏向手段により偏向させた後、結像光学系を介して被
走査面上に導光し、該被走査面上を光走査する光走査装
置であって、該被走査面近傍に回折によるスポットのボ
ケが生じない程度の小さな距離を隔てて、長手方向を主
走査方向に略一致させたスリット部材を配置し、該スリ
ット部材により該ベッセルビームのうち中心スポットを
主に通過させ、サイドローブ部の大部分を遮光するよう
にしたこと、及び、前記ベッセルビーム生成手段と偏向
手段との間に集光レンズを設け、前記ベッセルビーム生
成手段によって偏向手段の前側に形成されたベッセルビ
ームを集光レンズ及び前記結像光学系を介して被走査面
上に結像させるように構成し、前記偏向手段の前側にベ
ッセルビームが形成される位置を集光レンズの前側焦点
位置に設定し、前記偏向手段を集光レンズの後側焦点位
置に配置したことを特徴とする光走査装置。1. A laser beam emitted from a light source means is converted into a vessel beam in which side lobes are formed concentrically via a Bessel beam generating means, and after the Bessel beam is deflected by a deflecting means, an image forming optical system is formed. An optical scanning device that guides light onto a surface to be scanned through an optical scanning device and optically scans the surface to be scanned, wherein the optical scanning device is disposed at a small distance such that a spot blur due to diffraction does not occur near the surface to be scanned. A slit member whose direction is substantially coincident with the main scanning direction is arranged, the slit member allows the center spot of the Bessel beam to pass mainly, and most of the side lobe portion is shielded from light. A condenser lens is provided between the Bessel beam generating means and the deflecting means, and the Bessel beam formed by the Bessel beam generating means on the front side of the deflecting means is provided to the condenser lens and And forming a position where a Bessel beam is formed on the front side of the deflecting means at a front focal position of a condenser lens, wherein the deflecting means An optical scanning device, wherein is disposed at a rear focal position of a condenser lens.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24366293A JP3198751B2 (en) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | Optical scanning device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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1993
- 1993-09-02 JP JP24366293A patent/JP3198751B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JPH0772404A (en) | 1995-03-17 |
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