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JP3203972B2 - Wavefront sensor - Google Patents
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JP3203972B2 - Wavefront sensor - Google Patents

Wavefront sensor

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JP3203972B2
JP3203972B2 JP22197094A JP22197094A JP3203972B2 JP 3203972 B2 JP3203972 B2 JP 3203972B2 JP 22197094 A JP22197094 A JP 22197094A JP 22197094 A JP22197094 A JP 22197094A JP 3203972 B2 JP3203972 B2 JP 3203972B2
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calculator
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匡 松下
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光波の波面を計測する波
面センサーに関するもので、特に使用環境や、入射光の
条件が変化しても高精度に計測する波面センサーに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wavefront sensor for measuring a wavefront of a light wave, and more particularly to a wavefront sensor for measuring the wavefront with high accuracy even when the use environment or the condition of incident light changes.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の装置として、C.S.Gardne
r et al."Design and Performance Analysis of Adapti
ve Optical Telescopes Using Laser Guide Stars" Pro
c.IEEEvol.78 NO.11 p1721-1743(1990)、およびT.Noguc
hi et al."Active Optics Experiments 1" Publ. Natl.
Astr. Obs. Japan vol.1 P49-55 (1989)に示されたも
のがある。図11は上記文献に示されたものを組合わせ
たものである。図において、1は望遠鏡の主鏡、2は副
鏡、3は主鏡コントローラ、4は参照光源用ランプ、5
はランプ光集光レンズ、6はピンホール、29は参照光
源、7はビームスプリッタ、8はコリメータレンズ、9
はレンズアレー、10はCCD、11はシャックハルト
マン方式の波面センサの光学系、25は波面センサの光
学系11の視野絞り、12は被計測光コリメータレン
ズ、13はデフォーマブルミラー、14はビームスプリ
ッタ、15は参照波面発生器、16は対物レンズ、17
は接眼レンズ、28は16、17、26から成るアフォ
ーカル光学系、18はレンズアレー、19はCCD、2
0はシャックハルトマン方式の波面センサの光学系、2
6は波面センサの光学系20の視野絞り、21は波面演
算器、22はデフォーマブルミラーコントローラ、23
は観測装置用集光レンズ、24は観測装置の像面、5
0,51は波面センサである。
2. Description of the Related Art Conventionally, this type of device has been known as CSGardne.
r et al. "Design and Performance Analysis of Adapti
ve Optical Telescopes Using Laser Guide Stars "Pro
c.IEEEvol.78 NO.11 p1721-1743 (1990), and T. Noguc
hi et al. "Active Optics Experiments 1" Publ. Natl.
Astr. Obs. Japan vol.1 P49-55 (1989). FIG. 11 shows a combination of the above-mentioned documents. In the figure, 1 is a primary mirror of a telescope, 2 is a secondary mirror, 3 is a primary mirror controller, 4 is a lamp for a reference light source, 5
Is a lamp light focusing lens, 6 is a pinhole, 29 is a reference light source, 7 is a beam splitter, 8 is a collimator lens, 9
Is a lens array, 10 is a CCD, 11 is an optical system of a Shack-Hartmann type wavefront sensor, 25 is a field stop of the optical system 11 of the wavefront sensor, 12 is an optical collimator lens to be measured, 13 is a deformable mirror, and 14 is a beam splitter. , 15 is a reference wavefront generator, 16 is an objective lens, 17
Is an eyepiece, 28 is an afocal optical system comprising 16, 17, and 26, 18 is a lens array, 19 is a CCD,
0 is the optical system of the Shack-Hartmann wavefront sensor, 2
6 is a field stop of the optical system 20 of the wavefront sensor, 21 is a wavefront calculator, 22 is a deformable mirror controller, 23
Is the condenser lens for the observation device, 24 is the image plane of the observation device, 5
Numerals 0 and 51 are wavefront sensors.

【0003】先ず、上記装置の概要について説明する。
星からの光は主鏡1および副鏡2で集光され、視野絞り
25、ビームスプリッタ7を通過した後コリメータレン
ズ12で平行光にされる。その後、デフォーマブルミラ
ー13、ビームスプリッタ14を介して集光レンズ23
により観測装置の像面24に集光され観測される。上記
の主鏡1は数mにも及ぶ大型望遠鏡であり、自重による
主鏡形状の変形が生じやすい。この対策として主鏡1に
能動支持機構を設け、最適形状に補正を行っている。星
の光は時間的に平均すれば平面波と考えられるため、ビ
ームスプリッタ7を反射した光を波面センサの光学系1
1で計測し、その出力を基に波面演算器21で波面形状
を算出することにより主鏡1の形状がわかる。主鏡コン
トローラ3は波面演算器21の出力を基に能動支持機構
を駆動し、主鏡1の形状を補正する。
[0003] First, the outline of the above-mentioned device will be described.
The light from the star is collected by the primary mirror 1 and the secondary mirror 2, passes through the field stop 25 and the beam splitter 7, and is converted into parallel light by the collimator lens 12. After that, the condenser lens 23 is passed through the deformable mirror 13 and the beam splitter 14.
Is focused on the image plane 24 of the observation device and observed. The above-mentioned primary mirror 1 is a large telescope having a length of several meters, and the primary mirror is easily deformed by its own weight. As a countermeasure against this, an active support mechanism is provided on the primary mirror 1 to correct the shape to an optimum shape. Since the light of the star is considered to be a plane wave when averaged over time, the light reflected by the beam splitter 7 is reflected by the optical system 1 of the wavefront sensor.
1, the shape of the primary mirror 1 can be known by calculating the wavefront shape by the wavefront calculator 21 based on the output. The primary mirror controller 3 drives the active support mechanism based on the output of the wavefront calculator 21 to correct the shape of the primary mirror 1.

【0004】また、短かい時間間隔を考えた場合、大気
には屈折率の空間的、時間的な変動がある。その結果、
星からの光は平面波からの乱れがあり、理想的な結像状
態が得られる望遠鏡であっても星の像が移動したり、ぼ
けを生じる。デフォーマブルミラー13は主鏡1で補正
できない上記のような短い時間周期で生じる星像の移
動、ぼけを補正するものである。星からの光の波面揺ら
ぎを波面センサの光学系20により求め、計測結果を基
にデフォーマブルミラコントローラ22はデフォーマブ
ルミラー13の制御を行い波面を補正する。
[0004] When a short time interval is considered, the atmosphere has spatial and temporal fluctuations in the refractive index. as a result,
Light from a star is disturbed by a plane wave, and the image of the star moves or blurs even with a telescope that provides an ideal imaging state. The deformable mirror 13 is for correcting the movement and blurring of the star image which occurs in such a short time period as cannot be corrected by the primary mirror 1. The wavefront fluctuation of the light from the star is obtained by the optical system 20 of the wavefront sensor, and the deformable mirror controller 22 controls the deformable mirror 13 based on the measurement result to correct the wavefront.

【0005】次に、波面センサ50,51の構成につい
て説明を行う。波面センサ50,51の光学系11,2
0の基本部分はレンズアレー9,18およびCCD1
0,19からなる。本方式の波面センサはレンズアレー
9,18の位置での被計測光の波面を計測するものであ
る。波面は伝搬により変化するため、波面センサの光学
系11ではコリメータレンズ8により主鏡1での波面を
レンズアレー9上に投影させている。波面センサ51の
アフォーカル光学系28はマイクロレンズアレー18の
寸法で決まる測定範囲と被測定波面の径の整合性を取っ
ている。
Next, the configuration of the wavefront sensors 50 and 51 will be described. Optical systems 11 and 12 of wavefront sensors 50 and 51
The basic parts of 0 are lens arrays 9, 18 and CCD1
0,19. The wavefront sensor of this method measures the wavefront of the light to be measured at the positions of the lens arrays 9 and 18. Since the wavefront changes due to propagation, in the optical system 11 of the wavefront sensor, the wavefront of the primary mirror 1 is projected onto the lens array 9 by the collimator lens 8. The afocal optical system 28 of the wavefront sensor 51 matches the measurement range determined by the dimensions of the microlens array 18 with the diameter of the wavefront to be measured.

【0006】次に波面センサ50,51の測定原理を説
明する。波面演算器21はCCD10,19上の集光ス
ポットの移動からレンズアレー9,18の各レンズ(レ
ンズレット)に入射する波面の傾きを計測し、各レンズ
レットで計測された波面の傾きΔWi を加え合わせて波
面を求める。集光スポットの移動量Δrはレンズレット
に入射する波面の傾き角θとレンズアレーの焦点距離f
m から次式で求められる。 Δr=fm ・tanθ (1) いま、i番目のレンズレットで計測される波面の傾きΔ
i は、レンズレット口径をDm とすると、次式で求め
られる。 ΔWi =Dm ・tanθi =Dm ・Δri /fm (2) また、計測波面Wは、次式で表される。 W=ΣΔWi (3)
Next, the measurement principle of the wavefront sensors 50 and 51 will be described. The wavefront calculator 21 measures the inclination of the wavefront incident on each lens (lenslet) of the lens arrays 9 and 18 from the movement of the condensed spot on the CCDs 10 and 19, and the inclination of the wavefront ΔW i measured by each lenslet. To obtain the wavefront. The amount of movement Δr of the focused spot is determined by the inclination angle θ of the wavefront incident on the lenslet and the focal length f of the lens array.
It is obtained from m by the following equation. Δr = f m · tanθ (1 ) Now, the wavefront slope to be measured by the i-th lenslets Δ
Wi is obtained by the following equation, where Dm is the lenslet aperture. The ΔW i = D m · tanθ i = D m · Δr i / f m (2), measuring the wavefront W is expressed by the following equation. W = ΣΔW i (3)

【0007】波面計測はスポットの基準位置からの変位
を基に行うため、基準スポット位置が必要となる。参照
光源による集光スポットを基準スポット位置として用い
る。予め参照光源の出射波面を計測しておくことにより
基準のスポット位置が示す基準波面がわかる。被計測光
が入射したときのスポット位置の変位から、波面の変化
分を求め、上記基準波面に変化分を加えることにより計
測光の波面を求める。
Since the wavefront measurement is performed based on the displacement of the spot from the reference position, a reference spot position is required. A light spot focused by the reference light source is used as a reference spot position. By measuring the output wavefront of the reference light source in advance, the reference wavefront indicated by the reference spot position can be determined. From the displacement of the spot position when the light to be measured enters, a change in the wavefront is determined, and the wavefront of the measurement light is determined by adding the change to the reference wavefront.

【0008】参照光源15,29は波面センサに合った
出射光波面でなければならない。この波面センサ50は
鏡面形状の光波を計測するため入射光が球面波である必
要がある。参照光源29は波面センサ11の基準スポッ
ト位置を求めるものである。ランプ4から出た光はレン
ズ5でピンホール6に集光され、ピンホール6での回折
により歪みのない球面波が得られる。またアフォーカル
光学系28を有する波面センサ51には、コリメートし
た参照光を出射する参照波面発生器15を設けている。
The reference light sources 15, 29 must have an outgoing light wavefront suitable for the wavefront sensor. Since the wavefront sensor 50 measures a mirror-shaped light wave, the incident light needs to be a spherical wave. The reference light source 29 is for obtaining a reference spot position of the wavefront sensor 11. The light emitted from the lamp 4 is focused on the pinhole 6 by the lens 5, and a spherical wave without distortion due to diffraction at the pinhole 6 is obtained. The wavefront sensor 51 having the afocal optical system 28 is provided with a reference wavefront generator 15 that emits collimated reference light.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】従来の波面センサは、
以上のように構成されていて、波面センサの環境温度が
変化すると光学系の屈折率変化、形状変化および鏡筒の
熱膨脹によるレンズ間隔の変化等により収差が生じ、波
面計測誤差が生じるという課題があった。
SUMMARY OF THE INVENTION Conventional wavefront sensors are:
With the above configuration, when the environmental temperature of the wavefront sensor changes, aberration occurs due to a change in the refractive index of the optical system, a change in the shape, and a change in the lens interval due to the thermal expansion of the lens barrel. there were.

【0010】また、気圧変化による空気の屈折率変化に
よって波面センサの光学系の収差が生じ、波面計測誤差
が生じるという課題があった。
[0010] Another problem is that aberrations in the optical system of the wavefront sensor are caused by changes in the refractive index of air due to changes in air pressure, resulting in a wavefront measurement error.

【0011】この発明は上記のような課題を解決するた
めになされたもので、使用環境条件が変化しても高精度
に波面を計測する装置を得ることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and has as its object to obtain an apparatus for measuring a wavefront with high accuracy even when the use environment conditions change.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項1に係わる発明の波面センサは、レンズア
レーと、このレンズアレー上に被計測光を投影させるレ
ンズと、この投影された被計測光による前記レンズアレ
ーの集光スポット位置を検出する光電変換器と、を有す
る光学系を具備して前記被計測光の波面を計測する波面
センサにおいて、前記光学系に設けられた温度センサの
出力を基に、温度変化により生じる前記レンズのフォー
カス位置の変化を所定の式から算出し、算出されたフ
ォーカス位置の変化分を波面の変化分に変換して、該波
面の変化分を求める誤差波面演算器と、前記光電変換器
の出力を基に求めた前記被計測光の波面から前記波面の
変化分を差し引く波面演算器と、を設けたものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a wavefront sensor, comprising: a lens array; a lens for projecting light to be measured on the lens array; A photoelectric converter for detecting a position of a condensed spot of the lens array by the measured light, and a wavefront sensor for measuring a wavefront of the measured light, the temperature being provided in the optical system. based on the output of the sensor, to calculate the change in the focus position of the lens caused by temperature change from a predetermined equation, it converts the variation of the calculated focus position change amount of the wavefront, the wave
An error wavefront calculator for determining the variation of the surface, said determined based on an output of said photoelectric converter from the wavefront of the measuring light of the wavefront
And a wavefront calculator for subtracting the change .

【0013】また、請求項2に係わる発明の波面センサ
は、前記レンズのフォーカス位置の変化が、温度変化
による前記レンズの屈折率変化で生じるパワーの変化、
及び前記レンズの鏡筒の伸縮から算出されるものであ
る。
Further, the wavefront sensor of the invention according to claim 2, change of the focus position of the lens is, the change of power caused by the refractive index change of the lens due to the temperature change,
And the expansion and contraction of the lens barrel.

【0014】また、請求項3に係わる発明の波面センサ
は、レンズアレーと、このレンズアレー上に被計測光を
投影させるレンズと、この投影された被計測光による前
記レンズアレーの集光スポット位置を検出する光電変換
器と、を有する光学系を具備して前記被計測光の波面を
計測する波面センサにおいて、前記光学系に設けられた
気圧センサの出力を基に、気圧変化により生じる前記レ
ンズのフォーカス位置の変化分を所定の式から算出し、
算出されたフォーカス位置の変化分を波面の変化分に変
換して、該波面の変化分を求める誤差波面演算器と、前
記光電変換器の出力を基に求めた前記被計測光の波面か
ら前記波面の変化分を差し引く波面演算器と、を設けた
ものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a wavefront sensor, comprising: a lens array; a lens for projecting light to be measured on the lens array; and a condensing spot position of the lens array by the projected light to be measured. the Le a photoelectric converter for detecting, in a wavefront sensor for measuring wavefront to the target measurement light includes an optical system having a, which based on the output of the pressure sensor provided in the optical system, caused by atmospheric pressure change
Calculate the change of the focus position of the lens from a predetermined formula,
Change the calculated focus position change to the wavefront change
In other words, an error wavefront calculator for calculating the change in the wavefront and a wavefront calculator for subtracting the change in the wavefront from the wavefront of the measured light obtained based on the output of the photoelectric converter are provided. Things.

【0015】[0015]

【作用】上記のように構成された請求項1に係わる発明
の波面センサでは、誤差波面演算器が、温度センサの出
力を基に、温度変化により生じる、レンズアレー上に被
計測光を投影させるレンズのフォーカス位置の変化
波面の変化分を算出し、波面演算器が、光電変換器の
出力を基に求めた計測波面から上記波面の変化分を差し
引くことにより、温度変化の影響を受けない高精度の波
面計測をすることができる。
In the wavefront sensor according to the first aspect of the present invention, the error wavefront calculator projects the light to be measured on the lens array, which is generated by a temperature change, based on the output of the temperature sensor. The change amount of the wavefront is calculated from the change amount of the focus position of the lens, and the wavefront calculator subtracts the change amount of the wavefront from the measured wavefront obtained based on the output of the photoelectric converter to obtain the temperature. Highly accurate wavefront measurement that is not affected by changes can be performed.

【0016】また、上記のように構成された請求項2に
係わる発明の波面センサでは、前記レンズのフォーカス
位置の変化を、温度変化による前記レンズの屈折率変
化で生じるパワーの変化、及び前記レンズの鏡筒の伸縮
から算出するものである。
[0016] In the wavefront sensor of the invention according to claim 2 constructed as above, the change in the focus position of the lens, change of power caused by the refractive index change of the lens due to temperature changes, and the This is calculated from the expansion and contraction of the lens barrel.

【0017】また、上記のように構成された請求項
係わる発明の波面センサでは、誤差波面演算器が、気圧
センサの出力を基に、気圧変化により生じる、レンズア
レー上に被計測光を投影させるレンズのフォーカス位置
の変化分から波面の変化分を算出し、波面演算器が、光
電変換器の出力を基に求めた計測波面から上記波面の変
化分を差し引くことにより、気圧変化の影響を受けない
高精度の波面計測をすることができる。
In the wavefront sensor according to the third aspect of the present invention, the error wavefront calculator operates according to a lens pressure generated by a pressure change based on the output of the pressure sensor.
Focus position of the lens that projects the measured light onto the ray
The change of the wavefront is calculated from the change of the wavefront, and the wavefront calculator calculates the change of the wavefront from the measured wavefront obtained based on the output of the photoelectric converter.
By subtracting the chemical component, highly accurate wavefront measurement that is not affected by changes in atmospheric pressure can be performed.

【0018】[0018]

【実施例】実施例1. 図1は本発明の実施例1を示す構成図である。図1にお
いて図11と同一符号は同一または相当部分を示す。図
1において、1は望遠鏡の主鏡、2は望遠鏡の副鏡、8
はコリメータレンズ、9はレンズアレー、10はCC
D、11は波面センサの光学系、100は波面センサ、
101は温度センサ、102は誤差波面演算器、103
は波面演算器である。
[Embodiment 1] FIG. 1 is a configuration diagram showing a first embodiment of the present invention. 1, the same reference numerals as those in FIG. 11 indicate the same or corresponding parts. In FIG. 1, 1 is the primary mirror of the telescope, 2 is the secondary mirror of the telescope, 8
Is a collimator lens, 9 is a lens array, 10 is CC
D and 11 are wavefront sensor optical systems, 100 is a wavefront sensor,
101 is a temperature sensor, 102 is an error wavefront calculator, 103
Is a wavefront calculator.

【0019】従来例で説明したように、温度変化により
光学材料の屈折率変化、形状変化、鏡筒の熱膨脹による
レンズ間隔の変化等で生じる収差により波面計測誤差が
生じる。本実施例は、温度センサ101、誤差波面演算
器102を設けて、使用温度において発生する収差を誤
差波面として求め、波面演算器103でCCD10の出
力から求めた計測波面から上記誤差波面を差し引くこと
で温度補償を行うものである。
As described in the conventional example, a wavefront measurement error occurs due to an aberration caused by a change in refractive index and a shape of an optical material due to a change in temperature, a change in a lens interval due to thermal expansion of a lens barrel, and the like. In the present embodiment, a temperature sensor 101 and an error wavefront calculator 102 are provided, an aberration generated at a use temperature is obtained as an error wavefront, and the error wavefront is subtracted from the measurement wavefront obtained from the output of the CCD 10 by the wavefront calculator 103. Temperature compensation.

【0020】以下、誤差波面演算器102の詳細につい
て説明する。誤差波面演算器102は、温度センサ10
1の出力を基に温度変化によってコリメータレンズ8で
生じるフォーカス位置の変化を所定の式から算出し、こ
れを波面に変換する。さらに、誤差波面演算器102は
レンズアレー9とCCD10の線膨脹率の違いによるス
ポット位置の変位で生じる波面を算出する。誤差波面演
算器102は上記の2波面を加え合わせたものを誤差波
面として波面演算器103に出力する。
The details of the error wavefront calculator 102 will be described below. The error wavefront calculator 102 is connected to the temperature sensor 10
The change of the focus position generated in the collimator lens 8 due to the temperature change based on the output of 1 is calculated from a predetermined formula, and this is converted into a wavefront. Further, the error wavefront calculator 102 calculates a wavefront caused by a displacement of the spot position due to a difference in linear expansion rate between the lens array 9 and the CCD 10. The error wavefront calculator 102 outputs the sum of the two wavefronts to the wavefront calculator 103 as an error wavefront.

【0021】誤差波面演算器102が行う演算内容を、
温度変化によるコリメータレンズ8のフォーカス位置の
変化を算出する方法、上記フォーカス位置の変化から誤
差波面を求める方法、およびレンズアレー9とCCD1
0の線膨脹率の違いによる誤差波面を求める方法に分け
て以下、順に説明する。
The calculation performed by the error wavefront calculator 102 is
A method for calculating a change in the focus position of the collimator lens 8 due to a change in temperature, a method for obtaining an error wavefront from the change in the focus position, a method for calculating the lens array 9 and the CCD 1
The method will be described below in order of the method of obtaining the error wavefront due to the difference in the linear expansion coefficient of 0.

【0022】コリメータレンズ8のフォーカス位置の変
化は、温度変化によるコリメータレンズの屈折率変化で
生じるパワーの変化、および鏡筒の伸縮によって生じ
る。コリメータレンズ8のバックフォーカスをfb 、鏡
筒の線膨脹係数をαとすると、温度Tの変化に対するフ
ォーカス位置の変化は式(101)のように表わせる。 dx/dT=(dfb /dT)+αfb =(−1/φ)・(β−α) (101) ここで、β=(1/φ)・dφ/dT :熱分散率
A change in the focus position of the collimator lens 8 is caused by a change in power caused by a change in the refractive index of the collimator lens due to a change in temperature, and an expansion and contraction of the lens barrel. Assuming that the back focus of the collimator lens 8 is f b and the linear expansion coefficient of the lens barrel is α, a change in the focus position with respect to a change in the temperature T can be expressed as in Expression (101). dx / dT = (df b / dT) + αf b = (− 1 / φ) · (β−α) (101) where β = (1 / φ) · dφ / dT: heat dispersion coefficient

【0023】よって、温度変化が分かった場合のフォー
カス位置変化は次式により求められる。 Δx=(−1/φ)・(β−α)・ΔT (102)
Therefore, a change in focus position when a change in temperature is known can be obtained by the following equation. Δx = (− 1 / φ) · (β−α) · ΔT (102)

【0024】また、フォーカス位置変化Δxと誤差波面
ΔWT は以下のように関係づけられる。 ΔWT =Δx/8λF2 (103) ここで、λは波長、FはレンズのF値である。
[0024] The focus position change Δx and error wavefront [Delta] W T is related as follows. ΔW T = Δx / 8λF 2 (103) where λ is the wavelength and F is the F value of the lens.

【0025】よって、式(103)と温度変化によるコ
リメータレンズのフォーカス位置変化の式(102)か
ら誤差波面は次式により算出することができる。 ΔWT =(1/8λF2 ) ・(−1/φ)・(β−α)・ΔT (104)
Therefore, the error wavefront can be calculated by the following equation from the equation (103) and the equation (102) of the change of the focus position of the collimator lens due to the temperature change. ΔW T = (1 / 8λF 2 ) · (−1 / φ) · (β−α) · ΔT (104)

【0026】次いで、レンズアレーとCCDの線膨脹率
の違いで生じる誤差波面について説明する。レンズアレ
ー基板材料の線膨脹率をαm ,CCDの線膨脹率をαc
光軸からの距離をrとする。温度変化による形状変化で
生じるスポット移動量Δrは次式で表される。 Δr=(αm −αc )ΔT・r (105)
Next, a description will be given of an error wavefront caused by a difference in linear expansion coefficient between the lens array and the CCD. The linear expansion coefficient of the lens array substrate material is α m , and the linear expansion coefficient of the CCD is α c
Let r be the distance from the optical axis. The spot movement amount Δr generated by a shape change due to a temperature change is expressed by the following equation. Δr = (α m −α c ) ΔT · r (105)

【0027】スポット移動量Δrと誤差波面の関係は以
下のように関係づけられる。 ここで、nはレンズアレー数、fm はレンズアレーの焦
点距離,Dm はレンズレットの開口径である。
The relationship between the spot movement amount Δr and the error wavefront is related as follows. Here, n is the number of lens arrays, f m is the focal length of the lens array, and D m is the aperture diameter of the lenslet.

【0028】以上から温度変化に対する誤差波面の変化
の関係は以下の式で表される。 dWM /dT =Σ(Dm /fm )・(αm −αc )・ri (107)
From the above, the relationship between the change in the error wavefront and the change in temperature is expressed by the following equation. dW M / dT = Σ (D m / f m) · (α m -α c) · r i (107)

【0029】よって、温度変化ΔTが生じたときの誤差
波面は式(108)で算出することができる。 ΔWM =(dWM /dT)・ΔT (108)
Therefore, the error wavefront when the temperature change ΔT occurs can be calculated by equation (108). ΔW M = (dW M / dT) · ΔT (108)

【0030】以上に説明した式(104)および式(1
08)により誤差波面演算器102では誤差波面ΔW
T ,ΔWM を求め、波面演算器103で式(109)の
ように温度変化の影響を受けた計測波面Wから誤差波面
を差し引くことにより、正しい波面WI を求めることが
できる。 WI =W−(ΔWT +ΔWM ) (109)
The equations (104) and (1) described above
08), the error wavefront calculator 102 calculates the error wavefront ΔW
T and ΔW M are obtained, and the correct wavefront W I can be obtained by subtracting the error wavefront from the measurement wavefront W affected by the temperature change by the wavefront calculator 103 as shown in Expression (109). W I = W− (ΔW T + ΔW M ) (109)

【0031】実施例2. 図2は本発明の実施例2を示す構成図である。図2にお
いて図11と同一符号は同一または相当部分を示す。図
2において、1は望遠鏡の主鏡、2は望遠鏡の副鏡、8
はコリメータレンズ、9はレンズアレー、10はCC
D、11は波面センサの光学系、200は波面センサ、
201は気圧センサ、202は誤差波面演算器、203
は波面演算器である。
Embodiment 2 FIG. FIG. 2 is a configuration diagram showing a second embodiment of the present invention. 2, the same reference numerals as those in FIG. 11 indicate the same or corresponding parts. In FIG. 2, 1 is the primary mirror of the telescope, 2 is the secondary mirror of the telescope, 8
Is a collimator lens, 9 is a lens array, 10 is CC
D and 11 are optical systems of a wavefront sensor, 200 is a wavefront sensor,
201 is an atmospheric pressure sensor, 202 is an error wavefront calculator, 203
Is a wavefront calculator.

【0032】従来例に示したように、気圧変化により大
気の屈折率が変化することによって、波面計測誤差が生
じる。本実施例では、補償手段として気圧センサ201
と誤差波面演算器202を設けて、使用気圧における誤
差波面を求め、波面演算器203でCCD10の出力か
ら求めた気圧変化の影響を受けた計測波面から上記誤差
波面を差し引くことで気圧補償を行うものである。
As shown in the conventional example, a change in the refractive index of the atmosphere due to a change in atmospheric pressure causes a wavefront measurement error. In this embodiment, the pressure sensor 201 is used as the compensation means.
And an error wavefront calculator 202 are provided to obtain an error wavefront at the used atmospheric pressure, and the wavefront calculator 203 performs pressure compensation by subtracting the error wavefront from the measurement wavefront affected by the pressure change obtained from the output of the CCD 10. Things.

【0033】以下、誤差波面演算器202の詳細につい
て説明する。誤差波面演算器202は、気圧センサ20
1の出力を基に気圧変化によりコリメータレンズ8で生
じるレンズパワーの変化を算出し、これを波面に変換
し、誤差波面として波面演算器203に出力する。
The details of the error wavefront calculator 202 will be described below. The error wavefront calculator 202 is a
A change in the lens power generated in the collimator lens 8 due to a change in the atmospheric pressure is calculated based on the output of No. 1 and converted into a wavefront, which is output to the wavefront calculator 203 as an error wavefront.

【0034】以下、誤差波面演算器202が行う気圧変
化によるコリメータレンズ8のパワー変化の算出方法、
パワー変化から誤差波面への変換方法の2点について説
明する。
A method for calculating a change in power of the collimator lens 8 due to a change in atmospheric pressure performed by the error wavefront calculator 202 will be described below.
Two points of a method of converting a power change into an error wavefront will be described.

【0035】先ず、気圧変化によるコリメータレンズ8
のパワー変化の算出方法について説明する。気圧Pの変
化によるパワーφの変化は次式で表される。 (dφ/dP) =(dφ/dna )(dna /dP) (201)
First, the collimator lens 8 due to the change in air pressure
The calculation method of the power change will be described. The change in the power φ due to the change in the atmospheric pressure P is expressed by the following equation. (Dφ / dP) = (dφ / dn a) (dn a / dP) (201)

【0036】これから気圧変化によるフォーカス位置の
変化dxは次式で表される。 dx/dP =(dx/dφ)(dφ/dna )(dna /dP) =(−1/φ2 )(dφ/dna )(dna /dP) =(1/φ)(1/n−na )(dna /dP) =(1/φ)・γ・(dna /dP) (202) 但し、γ=1/n−na :気圧分散 (203)
From this, the change dx of the focus position due to the change in atmospheric pressure is expressed by the following equation. dx / dP = (dx / dφ ) (dφ / dn a) (dn a / dP) = (- 1 / φ 2) (dφ / dn a) (dn a / dP) = (1 / φ) (1 / n-n a) (dn a / dP) = (1 / φ) · γ · (dn a / dP) (202) where, γ = 1 / n-n a: pressure variance (203)

【0037】よって気圧変化によるデフォーカス波面収
差の割合は、レンズ間媒質の屈折率変化を介して次式で
表される。 dWP /dP =(1/8λF2 )(dx/dP) =(D/8λF)・γ・(dna /dP) (204)
Therefore, the ratio of the defocus wavefront aberration due to the change in atmospheric pressure is expressed by the following equation through the change in the refractive index of the inter-lens medium. dW P / dP = (1 / 8λF 2) (dx / dP) = (D / 8λF) · γ · (dn a / dP) (204)

【0038】従って、気圧変化ΔPが生じたときの誤差
波面(波面の変化分)ΔWP は式(205)より算出す
ることができる。 ΔW=(dWP /dP)・ΔP (205)
[0038] Therefore, the error wavefront (variation of the wavefront) [Delta] W P at the time when the change in air pressure ΔP caused can be calculated from equation (205). ΔW = (dW P / dP) · ΔP (205)

【0039】以上のように、式(205)により誤差波
面演算器202で誤差波面ΔWP を求め、波面演算器2
03で式(206)のように気圧変化の影響を受けた計
測波面Wから誤差波面を差し引くことにより正しい波面
I を求めることができる。 WI =W−ΔWP (206)
[0039] As described above, determine the error wavefront [Delta] W P in error wavefront calculator 202 according to equation (205), the wavefront calculator 2
In 03, the correct wavefront W I can be obtained by subtracting the error wavefront from the measurement wavefront W affected by the atmospheric pressure change as in the equation (206). W I = W−ΔW P (206)

【0040】実施例3. 図3は本発明の実施例3を示す構成図である。図3にお
いて図11と同一符号は同一または相当部分を示す。図
3において、301は温度補償アフォーカル光学系、3
02はレンズアレー、303は対物レンズ、304は接
眼レンズ、19はCCDである。なお、ここでCCD1
9の出力を基に波面を求める波面演算器は図示していな
い。
Embodiment 3 FIG. FIG. 3 is a configuration diagram showing a third embodiment of the present invention. 3, the same reference numerals as those in FIG. 11 indicate the same or corresponding parts. In FIG. 3, reference numeral 301 denotes a temperature-compensated afocal optical system;
02 is a lens array, 303 is an objective lens, 304 is an eyepiece, and 19 is a CCD. Here, CCD1
The wavefront calculator for obtaining the wavefront based on the output of the reference numeral 9 is not shown.

【0041】本実施例では、レンズアレー302とCC
D19との線膨脹率の違いにより生じる誤差波面を温度
補償アフォーカル光学系301の残留収差により補償す
るものである。レンズアレー302の基板材料の線膨脹
率をαm 、CCD19の線膨脹率をαc とする。スポッ
ト移動量と誤差波面の関係は前出の式(107)で表さ
れ、これをθとおくと ここで、nはレンズアレー数、fm はレンズアレーの焦
点距離,Dm はレンズレットの開口径である。
In this embodiment, the lens array 302 and the CC
An error wavefront generated due to a difference in linear expansion coefficient from D19 is compensated by residual aberration of the temperature compensation afocal optical system 301. Let the linear expansion coefficient of the substrate material of the lens array 302 be α m and the linear expansion coefficient of the CCD 19 be α c . The relationship between the spot movement amount and the error wavefront is expressed by the above equation (107). Here, n is the number of lens arrays, f m is the focal length of the lens array, and D m is the aperture diameter of the lenslet.

【0042】次いで、温度補償条件を満たすアフォーカ
ル光学系301のレンズパワーに関して説明する。先
ず、温度変化によるアフォーカル光学系301のパワー
変化の算出方法について説明する。アフォーカル光学系
301のパワーは式(302)で表される。 φ=φo +φe −eφo φe =(m+1)φo −meφo 2 (302) 但し、 φo :対物レンズ303のパワー φe :接眼レンズ304のパワー m=φe /φo :アフォーカル光学系301の倍率 e=(1/φo )+(1/φe ) ={(m+1)/m}・(1/φo )(303) :対物レンズ303と接眼レンズ304の間隔
Next, the lens power of the afocal optical system 301 satisfying the temperature compensation condition will be described. First, a method of calculating a power change of the afocal optical system 301 due to a temperature change will be described. The power of the afocal optical system 301 is expressed by equation (302). φ = φ o + φ e −eφ o φ e = (m + 1) φ o −meφ o 2 (302) where φ o : power of the objective lens 303 φ e : power of the eyepiece 304 m = φ e / φ o : Magnification of afocal optical system 301 e = (1 / φ o ) + (1 / φ e ) = {(m + 1) / m} · (1 / φ o ) (303): Distance between objective lens 303 and eyepiece 304

【0043】アフォーカル光学系301のパワーの温度
変化率は式(304)で表される。 (dφ/dT) =φo {d(m+1)/dT} +(m+1)(dφO /dT) −mφo 2 (de/dT) −2meφo (dφO /dT) −eφo 2 (dm/dT) (304) 対物レンズ303と接眼レンズ304のパワ−の熱分散
βo 、βe を等しくとることで、アフォーカル光学系3
01の倍率mが温度によって変わらないようにすると、
次式で表わされる。 dm/dT=0 (305) 以上の式(303),(304),(305)を用いる
と、アフォーカル光学系301のパワーの温度変化率は
式(306)で示される。 dφ/dT=−(m+1)φo (αB +βo ) (306) 但し、αB =(1/e)・(de/dT):鏡筒の線膨
脹率 βo =(1/φo )・(dφo /dT)
The temperature change rate of the power of the afocal optical system 301 is expressed by equation (304). (Dφ / dT) = φ o {d (m + 1) / dT} + (m + 1) (dφ O / dT) -mφ o 2 (de / dT) -2meφ o (dφ O / dT) -eφ o 2 (dm / DT) (304) By making the thermal dispersions β o and β e of the power of the objective lens 303 and that of the eyepiece 304 equal, the afocal optical system 3 is obtained.
Assuming that the magnification m of 01 does not change with temperature,
It is expressed by the following equation. dm / dT = 0 (305) Using the above equations (303), (304), and (305), the temperature change rate of the power of the afocal optical system 301 is expressed by equation (306). dφ / dT = − (m + 1) φ oB + β o ) (306) where α B = (1 / e) · (de / dT): linear expansion coefficient of the lens barrel β o = (1 / φ o) ) ・ (Dφ o / dT)

【0044】よって、温度補償条件としてスポット移動
で生じる誤差波面θを打ち消す波面を生じさせるため、
次式を満足させる必要がある。 (dWT /dT) =(1/8λF2 )・(dΔx/dφ)・(dφ/dT) =(1/8λF2 )・(−1/φ2 )・(dφ/dT) =−θ (307)
Therefore, as a temperature compensation condition, a wavefront that cancels the error wavefront θ generated by the spot movement is generated.
The following equation must be satisfied. (DW T / dT) = (8λF 2 ) · (dΔx / dφ) · (dφ / dT) = (1 / λF 2 ) · (−1 / φ 2 ) · (dφ / dT) = − θ ( 307)

【0045】一方、複数種材料で構成される薄肉レンズ
を近接させた合成レンズにおいて、i番目の材料の分散
をμi 、レンズパワーをφi としたとき、合成パワーお
よび色消し条件から、 が成り立つ必要がある。この条件と、上記の温度補償条
件を満たすパワーに関する式(307)を加えた3式か
ら各レンズのパワーを決定する。
On the other hand, in a synthetic lens in which thin lenses composed of a plurality of types of materials are brought close to each other, when the dispersion of the i-th material is μ i and the lens power is φ i , Must be satisfied. The power of each lens is determined from this equation and three equations obtained by adding the equation (307) relating to the power satisfying the above temperature compensation condition.

【0046】以上のように、最低3種の材料を用いて対
物レンズ303および接眼レンズ304を構成すること
により、合成パワー条件を満足した上で色消し、温度補
償の2条件を必ず満足する波面センサを構成することが
できる。
As described above, by constructing the objective lens 303 and the eyepiece 304 using at least three kinds of materials, the wavefront which satisfies the combined power condition, achromatizes, and always satisfies the two conditions of temperature compensation. A sensor can be configured.

【0047】実施例4. 図4は本発明の実施例4を示す構成図である。図4にお
いて図11と同一符号は同一または相当部分を示す。図
4において、1は望遠鏡の主鏡、2は望遠鏡の副鏡、4
00は波面センサ、401は気圧補償コリメータレンズ
である。なお、ここでCCD10の出力を基に波面を求
める波面演算器は図示していない。
Embodiment 4 FIG. FIG. 4 is a configuration diagram showing a fourth embodiment of the present invention. 4, the same reference numerals as those in FIG. 11 indicate the same or corresponding parts. In FIG. 4, 1 is the primary mirror of the telescope, 2 is the secondary mirror of the telescope, 4
00 is a wavefront sensor, and 401 is a barometric compensation collimator lens. Here, a wavefront calculator for obtaining a wavefront based on the output of the CCD 10 is not shown.

【0048】式(401)で示される気圧分散γはいわ
ゆる色消しレンズにおける分散μと同様に扱うことがで
きる。 γ=1/(n−na ) (401)
The atmospheric pressure dispersion γ represented by the equation (401) can be handled in the same manner as the dispersion μ in a so-called achromatic lens. γ = 1 / (n-n a) (401)

【0049】コリメータレンズ401を異種材料を組み
合わせた複数レンズで構成すると等価的に気圧分散γと
いった材料特性を合成してつくりだすことが可能であ
る。複数種材料で構成される薄肉レンズを近接させた合
成レンズにおいて、i番目の材料の分散をμi 、気圧分
散をγi 、レンズパワーをφi としたとき、コリメータ
レンズ401について、以下の条件を満足する必要があ
る。
When the collimator lens 401 is composed of a plurality of lenses combining different materials, it is possible to equivalently synthesize and create material characteristics such as atmospheric pressure dispersion γ. In a synthetic lens in which thin lenses made of a plurality of types of materials are brought close to each other, when the ith material has a dispersion of μ i , a pressure dispersion of γ i , and a lens power of φ i , the following conditions are satisfied for the collimator lens 401. Needs to be satisfied.

【0050】以上のように、最低3種材料を用いてコリ
メータレンズを構成すれば、合成パワー条件を満足した
上で色消し、気圧補償の2条件を必ず満足させるアフォ
ーカル光学系を構成することができる。
As described above, if a collimator lens is formed by using at least three kinds of materials, an afocal optical system that satisfies the combined power condition, achromatizes, and always satisfies the two conditions of the atmospheric pressure compensation is required. Can be.

【0051】実施例5. 図5は本発明の実施例5を示す構成図である。図5にお
いて図11と同一符号は同一または相当部分を示す。図
5において、501は校正値演算器、502は波面セン
サ角度コントローラ、29は参照光源である。
Embodiment 5 FIG. FIG. 5 is a configuration diagram showing a fifth embodiment of the present invention. 5, the same reference numerals as those in FIG. 11 indicate the same or corresponding parts. In FIG. 5, reference numeral 501 denotes a calibration value calculator, 502 denotes a wavefront sensor angle controller, and 29 denotes a reference light source.

【0052】本実施例では、波面の傾きを正確に算出す
るのに必要なCCD10とレンズアレー9間の距離を直
接的に測定せず、実装状態で計測し校正ている。
In the present embodiment, the distance between the CCD 10 and the lens array 9 required for accurately calculating the inclination of the wavefront is not directly measured, but is measured and calibrated in the mounted state.

【0053】従来例に示すように、CCD10上のスポ
ット位置のずれ量Δrとtanθとの関係は以下の式で
表される。 tanθ=Δr/lm (501) ここで、lm はマイクロレンズアレー9とCCD10間
の距離である。いま、波面センサへ入射角θの光を入射
し、基準スポット位置からのずれΔrを計測し、上記
θ、Δrから式(501)により距離lm を求める。
As shown in the conventional example, the relationship between the deviation amount Δr of the spot position on the CCD 10 and tan θ is expressed by the following equation. tanθ = Δr / l m (501 ) , where, l m is the distance between the microlens array 9 and CCD 10. Now, light having an incident angle θ is incident on the wavefront sensor, the deviation Δr from the reference spot position is measured, and the distance l m is obtained from the above θ and Δr by the equation (501).

【0054】以下、波面センサの校正方法について説明
する。 (1)波面演算器21が参照光源29により基準スポッ
ト位置を計測し、 (2)波面センサ角度コントローラ502が波面センサ
の光学系11をθだけ傾けるとともに、上記傾斜角θを
校正値演算器501に送出する。 (3)波面演算器21が校正データ用スポット位置を計
測し、 (4)波面演算器21が校正データ用スポット位置から
基準スポット位置を差し引いたスポット位置の変位Δr
を校正値演算器501に送出する。 (5)校正値演算器501がΔrとθから画素を単位と
するレンズアレー9とCCD10間の距離lm を算出
し、波面演算器21は内部のメモリにデータを格納す
る。以上により校正を終了する。
Hereinafter, a method of calibrating the wavefront sensor will be described. (1) The wavefront calculator 21 measures the reference spot position by the reference light source 29. (2) The wavefront sensor angle controller 502 tilts the optical system 11 of the wavefront sensor by θ, and calculates the tilt angle θ as a calibration value calculator 501. To send to. (3) The wavefront calculator 21 measures the calibration data spot position, and (4) the wavefront calculator 21 subtracts the reference spot position from the calibration data spot position to obtain a displacement Δr of the spot position.
Is sent to the calibration value calculator 501. (5) The calibration value calculator 501 calculates a distance l m between the lens array 9 and the CCD 10 in pixel units from Δr and θ, and the wavefront calculator 21 stores data in an internal memory. Thus, the calibration is completed.

【0055】波面計測を行う際、予め以上のような校正
を行うことにより、実際のレンズアレー9とCCD10
間の距離が正確に求められ、波面計測精度が向上させる
ことができる。
When the wavefront measurement is performed, the actual calibration of the lens array 9 and the CCD 10
The distance between them is accurately determined, and the accuracy of wavefront measurement can be improved.

【0056】実施例6. 図6は本発明の実施例6を示す構成図である。図6にお
いて図11と同一符号は同一または相当部分を示す。図
6において、600は波面センサ、601はハーフミラ
ー、602は校正光導入用ハーフミラー、603はアレ
ー状光源NA調整マスク、604はアレー状光源、60
5はシャッタである。なお、ここでCCD19の出力を
基に波面を求める波面演算器は図示していない。
Embodiment 6 FIG. FIG. 6 is a configuration diagram showing a sixth embodiment of the present invention. 6, the same reference numerals as those in FIG. 11 indicate the same or corresponding parts. In FIG. 6, 600 is a wavefront sensor, 601 is a half mirror, 602 is a calibration light introducing half mirror, 603 is an array-shaped light source NA adjustment mask, 604 is an array-shaped light source,
5 is a shutter. Here, a wavefront calculator for obtaining a wavefront based on the output of the CCD 19 is not shown.

【0057】本実施例では、従来の技術の項で説明した
アフォーカル系28を有する波面センサに必要なコリメ
ートした参照光を出射する参照波面発生器15に代わ
り、簡素な構成で参照光を得るようにしている。
In the present embodiment, the reference light is obtained by a simple configuration instead of the reference wavefront generator 15 for emitting the collimated reference light required for the wavefront sensor having the afocal system 28 described in the section of the prior art. Like that.

【0058】先ず、波面センサの構成について説明す
る。アレー状光源604出射光を波面センサの光学系2
0に導入するため、校正光導入用ハーフミラー602
を、CCD19の前面に配置している。上記のハーフミ
ラー601、602により生じるCCD19の鏡像位置
にアレー状光源604を設置している。アレー状光源6
04の前面に設けたNA調整用マスク603は、平板内
にアレー状光源604に対応する数の開口を設けたもの
であり、アレー状光源604を構成する各光源の出射角
を制限し、各光源の出射光とレンズアレー18を構成す
るレンズを1対1に対応させる。レンズアレー18のF
値をFとし、アレー状光源604からマスク603まで
の距離をxとした場合、マスク603の開口径Dは次式
で得られる。 D=x/F (601)
First, the configuration of the wavefront sensor will be described. The light emitted from the array-shaped light source 604 is converted into the optical system 2 of the wavefront sensor
0, the half mirror 602 for introducing the calibration light
Are arranged in front of the CCD 19. An array light source 604 is installed at a mirror image position of the CCD 19 generated by the half mirrors 601 and 602. Array light source 6
The NA adjustment mask 603 provided on the front surface of the light source 04 has a number of openings corresponding to the number of the array light sources 604 in a flat plate, and limits the emission angle of each light source constituting the array light source 604. The light emitted from the light source and the lenses constituting the lens array 18 are made to correspond one-to-one. F of lens array 18
When the value is F and the distance from the array light source 604 to the mask 603 is x, the aperture diameter D of the mask 603 is obtained by the following equation. D = x / F (601)

【0059】アレー状光源604出射光は、校正光導入
用ハーフミラー602を介して波面センサに導入され、
ハーフミラー601で反射した後、レンズアレー18に
よってCCD19上に集光する。なお、参照光源使用時
にはシャッタ605により被計測光を遮断する。
The light emitted from the array light source 604 is introduced into the wavefront sensor via the calibration light introducing half mirror 602,
After being reflected by the half mirror 601, the light is focused on the CCD 19 by the lens array 18. When the reference light source is used, the measured light is blocked by the shutter 605.

【0060】次に、参照光源を用いた計測波面の補正方
法について説明する。アレー状光源604の出射光は、
波面センサの光学系を2回通過するため、光学系収差の
2倍の影響が計測されることになる。アレー状光源60
4には、例えば、レ−ザダイオードアレーを用いること
により、正確な配列が得られるため、スポットの配列の
乱れは光学系収差の影響で生じたものとなる。測定され
たスポットの配列の乱れを基に波面を求め、その1/2
を光学系の収差で生じる誤差波面として、波面演算器2
1が波面計測時に計測波面から先に求めた誤差波面を差
し引くことにより、正しい波面が計測できる。
Next, a method of correcting a measurement wavefront using a reference light source will be described. The output light of the array light source 604 is
Since the light passes through the optical system of the wavefront sensor twice, the effect of twice the optical system aberration is measured. Array light source 60
In No. 4, an accurate arrangement can be obtained by using, for example, a laser diode array, and the disturbance of the arrangement of the spots is caused by the influence of the optical system aberration. The wavefront is determined based on the measured disorder of the arrangement of the spots, and the half is obtained.
Is the error wavefront caused by the aberration of the optical system,
By subtracting the previously obtained error wavefront from the measured wavefront at the time of wavefront measurement, the correct wavefront can be measured.

【0061】従来の方式では、周囲温度変化等により参
照光源29の位置が光軸方向に移動した場合、波面セン
サには歪んだ球面波が入射し、スポットの位置が変化す
る。しかし、本実施例では、アレー状光源604の設置
位置が、光軸方向に移動した場合、CCDとの共役関係
が崩れることによるスポットのぼけが生じる。しかし、
波面演算器21において、一般に用いられるスポットの
重心をもってスポット位置計測と定義すると、ぼけが生
じた場合でも重心位置は変化しない。
In the conventional method, when the position of the reference light source 29 moves in the optical axis direction due to a change in ambient temperature or the like, a distorted spherical wave enters the wavefront sensor, and the position of the spot changes. However, in this embodiment, when the installation position of the array-like light source 604 moves in the optical axis direction, spot blurring occurs due to collapse of the conjugate relationship with the CCD. But,
If the wavefront calculator 21 defines spot position measurement using the center of gravity of a commonly used spot, the position of the center of gravity does not change even when blur occurs.

【0062】以上のように、使用環境条件の変化に対し
て強い参照光源が実現でき、また、このことは、アレー
状光源の配置位置をCCDと共役位置とする際の製造上
の公差を緩くとることができる。
As described above, it is possible to realize a reference light source that is strong against a change in use environment conditions. This also reduces the manufacturing tolerance when the arrangement position of the array-like light source is conjugate with the CCD. Can be taken.

【0063】実施例7. 図7は本発明の実施例7を示す構成図である。図7にお
いて図11および図6と同一符号は同一または相当部分
を示す。図7において、700は波面センサ、701は
偏光板、704はアレー状偏光光源である。なお、ここ
でCCD19の出力を基に波面を求める波面演算器は図
示していない。
Embodiment 7 FIG. FIG. 7 is a configuration diagram showing a seventh embodiment of the present invention. 7, the same reference numerals as those in FIGS. 11 and 6 indicate the same or corresponding parts. 7, reference numeral 700 denotes a wavefront sensor, 701 denotes a polarizing plate, and 704 denotes an array-shaped polarized light source. Here, a wavefront calculator for obtaining a wavefront based on the output of the CCD 19 is not shown.

【0064】本実施例では、被計測光が偏光しており、
実施例6のハーフミラー601の代りに偏光板701を
用い、アレー状光源604にはアレー状偏光光源704
を用いている。
In this embodiment, the light to be measured is polarized.
A polarizing plate 701 is used instead of the half mirror 601 of the sixth embodiment, and an array-like polarized light source 704 is used as the array-like light source 604.
Is used.

【0065】アレー状偏光光源704は、ハーフミラー
602および偏光板701で生じるCCD19の鏡像位
置に設置し、且つ被計測光の偏光方向と直交させる。偏
光板701の偏光方向と被計測光の偏光方向とを一致さ
せて設置すると、被計測光は、偏光板704を透過し、
CCD19上に集光スポットを形成する。参照光は偏光
板701により反射され、CCD19上にスポットを形
成する。なお、アレー状偏光光源704使用時には、シ
ャッタ605により被計測光を遮断する。その他の動作
に関しては実施例6と同様である。
The array-shaped polarized light source 704 is installed at a mirror image position of the CCD 19 generated by the half mirror 602 and the polarizing plate 701, and is orthogonal to the polarization direction of the light to be measured. When the polarization direction of the polarizing plate 701 and the polarization direction of the measured light are set to coincide with each other, the measured light transmits through the polarizing plate 704,
A focused spot is formed on the CCD 19. The reference light is reflected by the polarizing plate 701 and forms a spot on the CCD 19. When the array-shaped polarized light source 704 is used, the measured light is blocked by the shutter 605. Other operations are the same as in the sixth embodiment.

【0066】以上のように、偏光板701は校正光をほ
ぼ100%反射するとともに、被計測光をほぼ100%
透過するため、校正用に挿入した偏光板701による参
照光および被計測光の光量損失の極めて少ない光学系を
実現することができる。
As described above, the polarizing plate 701 reflects the calibration light almost 100%, and the measured light almost 100%.
Since the light is transmitted, it is possible to realize an optical system in which the amount of light loss of the reference light and the light to be measured by the polarizing plate 701 inserted for calibration is extremely small.

【0067】実施例8. 図8は本発明の実施例8を示す構成図である。図8にお
いて図11および図6と同一符号は同一または相当部分
を示す。図8において、800は波面センサ、801は
ダイクロイックミラー、804は被計測光と波長の異な
るアレー状光源である。なお、ここでCCD19の出力
を基に波面を求める波面演算器は図示していない。
Embodiment 8 FIG. FIG. 8 is a configuration diagram showing Embodiment 8 of the present invention. 8, the same reference numerals as those in FIGS. 11 and 6 denote the same or corresponding parts. In FIG. 8, 800 is a wavefront sensor, 801 is a dichroic mirror, and 804 is an array-like light source having a wavelength different from that of the light to be measured. Here, a wavefront calculator for obtaining a wavefront based on the output of the CCD 19 is not shown.

【0068】本実施例では、被計測光と参照光の波長が
異なる。ダイクロイックミラー801は、被計測光の波
長域では光を透過し、参照光の波長域では反射するよう
に構成している。
In this embodiment, the wavelengths of the light to be measured and the reference light are different. The dichroic mirror 801 is configured to transmit light in the wavelength range of the light to be measured and reflect the light in the wavelength range of the reference light.

【0069】アレー状光源804は、ハーフミラー60
2とダイクロイックミラー801とで生じるCCD19
の鏡像位置に設置している。被計測光はダイクロイック
ミラー801を通過しCCD19上にスポットを形成す
る。一方、アレー状光源804出射光は、ハーフミラー
602により導入されダイクロイックミラー801によ
り反射され、CCD19上にスポットを形成する。な
お、参照光源使用時には、シャッタ605により被計測
光を遮断する。その他の動作に関しては実施例6と同様
である。
The array-like light source 804 is
CCD 19 generated between the light source 2 and the dichroic mirror 801
It is installed at the mirror image position of. The measured light passes through the dichroic mirror 801 to form a spot on the CCD 19. On the other hand, the light emitted from the array light source 804 is introduced by the half mirror 602 and reflected by the dichroic mirror 801 to form a spot on the CCD 19. When the reference light source is used, the measured light is blocked by the shutter 605. Other operations are the same as in the sixth embodiment.

【0070】以上のように、ダイクロイックミラー80
1は、参照光をほぼ100%反射するとともに、被計測
光もほぼ100%透過するため、ダイクロイックミラー
801による参照光および被計測光の光量損失の極めて
少ない光学系を実現することができる。
As described above, the dichroic mirror 80
1 reflects almost 100% of the reference light and transmits almost 100% of the light to be measured, so that it is possible to realize an optical system in which the dichroic mirror 801 has a very small loss of light amount of the reference light and the light to be measured.

【0071】実施例9. 図9は本発明の実施例9を示す構成図である。図9にお
いて図11と同一符号は同一または相当部分を示す。図
9において、900は波面センサ、901は可変径の絞
り、902は絞り径コントローラ、903は絞り径演算
手段である絞り径演算器、904はFFT演算手段であ
るFFT演算器である。
Embodiment 9 FIG. FIG. 9 is a configuration diagram showing a ninth embodiment of the present invention. 9, the same reference numerals as those in FIG. 11 denote the same or corresponding parts. 9, reference numeral 900 denotes a wavefront sensor, 901 denotes a diaphragm having a variable diameter, 902 denotes a diaphragm diameter controller, 903 denotes a diaphragm diameter calculator as aperture diameter calculator, and 904 denotes an FFT calculator as FFT calculator.

【0072】本実施例では、迷光を抑制するため、アフ
ォーカル光学系の対物レンズ16による集光状態に合わ
せ、絞り径を変化させるものである。
In this embodiment, in order to suppress stray light, the aperture diameter is changed in accordance with the state of light condensing by the objective lens 16 of the afocal optical system.

【0073】迷光を抑制するため、絞り径は被計測光を
けらない程度に小さくすることが必要である。対物レン
ズ16の前側焦点面を波面計測位置とした場合、対物レ
ンズ16による点像強度分布は計測波面のフーリエ変換
結果に従う。FFT演算器904は波面演算器21で求
めた計測波面のフーリエ変換を行い、点像強度分布を求
める。絞り径演算器903は上記点像強度分布にしきい
値を与え、しきい値を越えた範囲を絞り径とする。この
情報に基づいて絞り径コントローラ902が絞り径を調
整する。
In order to suppress stray light, it is necessary to reduce the diameter of the stop so as not to cut off the light to be measured. When the front focal plane of the objective lens 16 is set as the wavefront measurement position, the point image intensity distribution by the objective lens 16 follows the Fourier transform result of the measurement wavefront. The FFT calculator 904 performs a Fourier transform of the measured wavefront obtained by the wavefront calculator 21 to obtain a point image intensity distribution. An aperture diameter calculator 903 gives a threshold value to the point image intensity distribution, and sets a range exceeding the threshold value as an aperture diameter. The aperture diameter controller 902 adjusts the aperture diameter based on this information.

【0074】以上のように、固定絞りの場合に問題にな
っていた迷光が低減でき、誤動作を抑えることができ
る。
As described above, stray light which has been a problem in the case of a fixed aperture can be reduced, and malfunction can be suppressed.

【0075】実施例10. 図10は本発明の実施例10を示す構成図である。図1
0において図11と同一符号は同一または相当部分を示
す。図10において、8は第1のコリメータレンズ、1
11,113はそれぞれ第1と第2のダイクロイックミ
ラー、114,115はバンドパスフィルタ、116,
118はミラー、117は第2のコリメータレンズ、1
10は波面センサである。なお、ここでCCD19の出
力を基に波面を求める波面演算器は図示していない。
Embodiment 10 FIG. FIG. 10 is a configuration diagram showing a tenth embodiment of the present invention. FIG.
At 0, the same reference numerals as those in FIG. 11 indicate the same or corresponding parts. In FIG. 10, reference numeral 8 denotes a first collimator lens, 1
11 and 113 are first and second dichroic mirrors, 114 and 115 are band-pass filters, 116 and 115, respectively.
118 is a mirror, 117 is a second collimator lens, 1
10 is a wavefront sensor. Here, a wavefront calculator for obtaining a wavefront based on the output of the CCD 19 is not shown.

【0076】望遠鏡は副鏡2を交換する構成であり、副
鏡2の変更にともない図10の破線のようにF値も変化
する。従来例に示したように、F値の変化によりコリメ
ータレンズ8を交換するか、各F値に対応する別の波面
センサを用意する必要があった。
The telescope has a configuration in which the sub-mirror 2 is exchanged, and the F-number changes as the sub-mirror 2 is changed, as shown by the broken line in FIG. As shown in the conventional example, it is necessary to replace the collimator lens 8 according to a change in the F value or to prepare another wavefront sensor corresponding to each F value.

【0077】異なるF値でレンズアレー18に入射する
波面の径を同一にするには、第1のコリメータレンズ8
の焦点距離をF値に合わせ変更すればよい。本実施例は
第1のダイクロイックミラー111により光路を分離
し、分離した光路中にF値に適合する第2のコリメータ
レンズ117を設置することでF値の変化に対応するも
のである。
To make the diameters of the wavefronts incident on the lens array 18 with different F-numbers the same, the first collimator lens 8
May be changed according to the F value. In the present embodiment, the optical path is separated by the first dichroic mirror 111, and a second collimator lens 117 suitable for the F value is installed in the separated optical path to cope with a change in the F value.

【0078】光路の変更により第2のコリメータレンズ
117および光路長を自由に設定できるため、F値に適
した第2のコリメータレンズ117を用いることがで
き、且つレンズアレー18以降を共用することができ
る。なお、レンズアレーには2波長の光が入射するため
バンドパスフィルタ114、115を交換し波長選択を
行う。
Since the second collimator lens 117 and the optical path length can be freely set by changing the optical path, the second collimator lens 117 suitable for the F-number can be used, and the lens array 18 and subsequent ones can be shared. it can. Since light of two wavelengths enters the lens array, the wavelength selection is performed by exchanging the bandpass filters 114 and 115.

【0079】以上のように、F値によって光学系全体を
交換する必要がなくなるとともに、バンドパスフィルタ
114、115以外に可動部品が存在しないため、光学
系の公差を小さく抑えることができ高精度の波面計測を
実現することができる。
As described above, it is not necessary to replace the entire optical system depending on the F value, and since there are no movable parts other than the bandpass filters 114 and 115, the tolerance of the optical system can be suppressed to a small value and high accuracy can be achieved. Wavefront measurement can be realized.

【0080】[0080]

【発明の効果】以上のように構成された本発明によれ
ば、使用環境条件が変化しても、高精度に被計測光の波
面を計測できる波面センサを得ることができる。
According to the present invention configured as described above, it is possible to obtain a wavefront sensor capable of measuring the wavefront of the light to be measured with high accuracy even when the use environment conditions change.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1の波面センサの構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of a wavefront sensor according to a first embodiment.

【図2】実施例2の波面センサの構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of a wavefront sensor according to a second embodiment.

【図3】実施例3の波面センサの構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram of a wavefront sensor according to a third embodiment.

【図4】実施例4の波面センサの構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram of a wavefront sensor according to a fourth embodiment.

【図5】実施例5の波面センサの構成図である。FIG. 5 is a configuration diagram of a wavefront sensor according to a fifth embodiment.

【図6】実施例6の波面センサの構成図である。FIG. 6 is a configuration diagram of a wavefront sensor according to a sixth embodiment.

【図7】実施例7の波面センサの構成図である。FIG. 7 is a configuration diagram of a wavefront sensor according to a seventh embodiment.

【図8】実施例8の波面センサの構成図である。FIG. 8 is a configuration diagram of a wavefront sensor according to an eighth embodiment.

【図9】実施例9の波面センサの構成図である。FIG. 9 is a configuration diagram of a wavefront sensor according to a ninth embodiment.

【図10】実施例10の波面センサの構成図である。FIG. 10 is a configuration diagram of a wavefront sensor according to a tenth embodiment.

【図11】従来の波面センサを含む装置(望遠鏡)の構
成図である。
FIG. 11 is a configuration diagram of an apparatus (telescope) including a conventional wavefront sensor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:望遠鏡の主鏡 2:望遠鏡の副鏡 4:参照光源用ランプ 5:ランプ光集光レンズ 6:ピンホール 7:ビームスプリッタ 8:コリメータレンズ(第1コリメータレンズ) 9:レンズアレー 10:CCD 11:波面センサの光学系 13:デフォーマブルミラー 14:ビームスプリッタ 16:対物レンズ 17:接眼レンズ 18:レンズアレー 19:CCD 20:波面センサの光学系 21:波面演算器 22:デフォーマブルミラー 28:アフォーカル光学系 29:参照光源 50:波面センサ 51:波面センサ 100:波面センサ 101:温度センサ 102:誤差波面演算器 103:波面演算器 110:波面センサ 111,113:ダイクロイックミラー 114,115:バンドパスフィルタ 117:第2コリメータレンズ 116,118:ミラー 200:波面センサ 201:気圧センサ 202:誤差波面演算器 203:波面演算器 301:温度補償アフォーカル光学系 302:レンズアレー 303:対物レンズ 304:接眼レンズ 400:波面センサ 401:気圧補償コリメータレンズ 501:校正値演算器 502:波面センサ角度コントローラ 600:波面センサ 601:ハーフミラー 602:校正光導入用ハーフミラー 603:アレー状光源NA調整マスク 604:アレー状光源 605:シャッタ 700:波面センサ 701:偏光板 704:アレー状偏光光源 800:波面センサ 801:ダイクロイックミラー 804:被計測光と波長の異なるアレー状光源 900:波面センサ 901:可変径の絞り 902:絞り径コントローラ 903:絞り径演算器 904:FFT演算器 1: Primary mirror of telescope 2: Secondary mirror of telescope 4: Lamp for reference light source 5: Lamp light focusing lens 6: Pinhole 7: Beam splitter 8: Collimator lens (first collimator lens) 9: Lens array 10: CCD 11: Optical system of wavefront sensor 13: Deformable mirror 14: Beam splitter 16: Objective lens 17: Eyepiece 18: Lens array 19: CCD 20: Optical system of wavefront sensor 21: Wavefront calculator 22: Deformable mirror 28: Afocal optical system 29: Reference light source 50: Wavefront sensor 51: Wavefront sensor 100: Wavefront sensor 101: Temperature sensor 102: Error wavefront calculator 103: Wavefront calculator 110: Wavefront sensor 111, 113: Dichroic mirror 114, 115: Band Pass filter 117: second collimator lens 11 6, 118: mirror 200: wavefront sensor 201: barometric pressure sensor 202: error wavefront calculator 203: wavefront calculator 301: temperature compensation afocal optical system 302: lens array 303: objective lens 304: eyepiece 400: wavefront sensor 401: Barometric pressure compensation collimator lens 501: Calibration value calculator 502: Wavefront sensor angle controller 600: Wavefront sensor 601: Half mirror 602: Half mirror for introducing calibration light 603: Array-shaped light source NA adjustment mask 604: Array-shaped light source 605: Shutter 700: Wavefront sensor 701: Polarizing plate 704: Array-like polarized light source 800: Wavefront sensor 801: Dichroic mirror 804: Array-like light source having a different wavelength from the light to be measured 900: Wavefront sensor 901: Variable-diameter aperture 902: Aperture diameter controller 903: Aperture Diameter calculator 904: FFT calculator

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−18719(JP,A) 特開 平5−323213(JP,A) 特開 平4−372811(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01M 11/00 G02B 23/02 Continuation of the front page (56) References JP-A-5-18719 (JP, A) JP-A-5-323213 (JP, A) JP-A-4-372811 (JP, A) (58) Fields investigated (Int .Cl. 7 , DB name) G01M 11/00 G02B 23/02

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 レンズアレーと、このレンズアレー上に
被計測光を投影させるレンズと、この投影された被計測
光による前記レンズアレーの集光スポット位置を検出す
る光電変換器と、を有する光学系を具備して前記被計測
光の波面を計測する波面センサにおいて、 前記光学系に設けられた温度センサの出力を基に、温度
変化により生じる前記レンズのフォーカス位置の変化分
を所定の式から算出し、算出されたフォーカス位置の変
化分を波面の変化分に変換して、該波面の変化分を求め
る誤差波面演算器と、 前記光電変換器の出力を基に求めた前記被計測光の波面
から前記波面の変化分を差し引く波面演算器と、を設け
たことを特徴とする波面センサ。
1. An optical system comprising: a lens array; a lens for projecting light to be measured on the lens array; and a photoelectric converter for detecting a position of a condensed spot of the lens array by the projected light to be measured. A wavefront sensor for measuring a wavefront of the measured light, comprising a system, based on an output of a temperature sensor provided in the optical system, a change amount of a focus position of the lens caused by a temperature change is calculated from a predetermined formula. Calculate, convert the calculated change in the focus position into a change in the wavefront, and an error wavefront calculator for obtaining the change in the wavefront, and the measured light obtained based on the output of the photoelectric converter. A wavefront calculator for subtracting the change in the wavefront from the wavefront.
【請求項2】 前記レンズのフォーカス位置の変化分
は、温度変化による前記レンズの屈折率変化で生じるパ
ワーの変化、及び前記レンズの鏡筒の伸縮から算出され
ることを特徴とする請求項1記載の波面センサ。
2. The method according to claim 1, wherein the change in the focus position of the lens is calculated from a change in power caused by a change in the refractive index of the lens due to a change in temperature, and expansion and contraction of a lens barrel of the lens. A wavefront sensor as described.
【請求項3】 レンズアレーと、このレンズアレー上に
被計測光を投影させるレンズと、この投影された被計測
光による前記レンズアレーの集光スポット位置を検出す
る光電変換器と、を有する光学系を具備して前記被計測
光の波面を計測する波面センサにおいて、 前記光学系に設けられた気圧センサの出力を基に、気圧
変化により生じる前記レンズのフォーカス位置の変化分
を所定の式から算出し、算出されたフォーカス位置の変
化分を波面の変化分に変換して、該波面の変化分を求め
る誤差波面演算器と、 前記光電変換器の出力を基に求めた前記被計測光の波面
から前記波面の変化分を差し引く波面演算器と、を設け
たことを特徴とする波面センサ。
3. An optical system comprising: a lens array; a lens for projecting light to be measured on the lens array; and a photoelectric converter for detecting a position of a condensed spot of the lens array by the projected light to be measured. A wavefront sensor for measuring the wavefront of the light to be measured, comprising a system, based on an output of a pressure sensor provided in the optical system, a change in focus position of the lens caused by a change in pressure.
Is calculated from a predetermined formula, and the change of the calculated focus position is calculated.
An error wavefront calculator that converts the chemical component into a change in the wavefront, and obtains the change in the wavefront, and subtracts the change in the wavefront from the wavefront of the measured light obtained based on the output of the photoelectric converter. A wavefront sensor, comprising: a wavefront calculator.
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JPH0886689A (en) 1996-04-02

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