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JP3205063B2 - Polymerizable monomer and method for producing the same - Google Patents
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JP3205063B2 - Polymerizable monomer and method for producing the same - Google Patents

Polymerizable monomer and method for producing the same

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JP3205063B2
JP3205063B2 JP20302792A JP20302792A JP3205063B2 JP 3205063 B2 JP3205063 B2 JP 3205063B2 JP 20302792 A JP20302792 A JP 20302792A JP 20302792 A JP20302792 A JP 20302792A JP 3205063 B2 JP3205063 B2 JP 3205063B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、重合性単量体とその製
造方法に関する。本発明によれば、殺菌力に優れ、安全
性と安定性が高く、かつその効力を長期間に亘つて持続
することのできる抗菌性重合体に容易に導くことのでき
る重合性単量体が提供される。
The present invention relates to a polymerizable monomer and a method for producing the same. According to the present invention, a polymerizable monomer which is excellent in bactericidal activity, has high safety and stability, and can easily lead to an antibacterial polymer which can maintain its efficacy over a long period of time. Provided.

【0002】本発明の重合性単量体から導かれる抗菌性
重合体は、例えば、上水、冷却水、プールの水などの殺
菌、スライムコントロールや漁網、船底、水中構造物な
どの防汚用組成物、食品包装材、建材、農業用資材、医
療品、口腔用材(歯ブラシ、練り歯磨きなど)、眼鏡フ
レーム、化粧品、衣料、家庭用品などの広い範囲の用途
に利用できる。
The antibacterial polymer derived from the polymerizable monomer of the present invention can be used, for example, for disinfection of tap water, cooling water, pool water, etc., slime control, antifouling of fishing nets, ship bottoms, underwater structures and the like. It can be used in a wide range of applications such as compositions, food packaging materials, building materials, agricultural materials, medical products, oral materials (toothbrushes, toothpastes, etc.), eyeglass frames, cosmetics, clothing, household goods, and the like.

【0003】[0003]

【従来の技術】従来の抗菌性化合物のうち、低分子量の
ものは、各種の製品を構成する材料(例えば、樹脂な
ど)に単に混合して用いられているため、抗菌性化合物
の外部への溶出と、それに伴う抗菌力の低下が避けられ
ず、更に当該製品と接触する生体に対する毒性などが問
題となる。
2. Description of the Related Art Among conventional antimicrobial compounds, those having a low molecular weight are simply used as a mixture with materials (for example, resins) constituting various products. Elution and the accompanying decrease in antibacterial activity are inevitable, and furthermore, there is a problem of toxicity to a living body coming into contact with the product.

【0004】これらの問題を解決すべく抗菌性をもつた
ポリマーの開発が進められている。公知の抗菌性ポリマ
ーとしては、例えば、一般式[化6]で表される繰り返
し単位からなるもの(特開昭61−100254号公報)、一般
式[化7]で表される繰り返し単位からなるもの(特開
昭61−246205号公報)などが知られている。
[0004] In order to solve these problems, development of polymers having antibacterial properties has been promoted. Known antibacterial polymers include, for example, those comprising a repeating unit represented by the general formula [Chemical Formula 6] (JP-A-61-100254) and those comprising a repeating unit represented by the general formula [Chemical Formula 7]. (JP-A-61-246205) and the like are known.

【0005】[0005]

【化6】 Embedded image

【0006】[式中R10はメチル基又はエチル基を示
し、R11は炭素数3〜30のアルキル基を示す。]
[In the formula, R 10 represents a methyl group or an ethyl group, and R 11 represents an alkyl group having 3 to 30 carbon atoms. ]

【0007】[0007]

【化7】 Embedded image

【0008】[式中R12は同一又は異なつて炭素数1〜
4のアルキル基を示し、R13は炭素数14〜20のアルキル
基を示し、X-は陰イオンを示す。]
Wherein R 12 is the same or different and has 1 to 1 carbon atoms
4 represents an alkyl group, R 13 represents an alkyl group having 14 to 20 carbon atoms, and X represents an anion. ]

【0009】しかしながらこれら公知の抗菌性ポリマー
はその抗菌力が充分満足できるものではない。
However, these known antibacterial polymers are not satisfactory in their antibacterial activity.

【0010】また上記抗菌性ポリマーの製造は、側鎖に
反応性クロル基を有するポリマーに第3級アミンを反応
させ、該反応性クロル基を第3級アミンにより置換する
ことにより行われるが、該置換を完全に行うことは困難
であり、従つてその分子中に塩素原子を含む活性な官能
基が多く残留するため、該抗菌性ポリマー自体の安定性
や人体への安全性などの点で問題がある。
The production of the above antibacterial polymer is carried out by reacting a polymer having a reactive chloro group on the side chain with a tertiary amine and replacing the reactive chloro group with a tertiary amine. It is difficult to completely perform the substitution, and therefore, many active functional groups containing a chlorine atom remain in the molecule, so that the stability of the antibacterial polymer itself and the safety to the human body are reduced. There's a problem.

【0011】かかる問題点を解消するために、抗菌性の
重合性モノマーを合成しこれと他のモノマーとの共重合
により、抗菌性ポリマーを製造することも行われてい
る。例えば一般式[化8]で表されるモノマーを含むコ
ポリマーを有効成分とする防汚塗料も知られている(特
開平2−64167号公報)。
In order to solve such problems, an antibacterial polymerizable monomer is synthesized, and an antibacterial polymer is produced by copolymerizing the polymerizable monomer with another monomer. For example, an antifouling paint containing a copolymer containing a monomer represented by the general formula [Chemical Formula 8] as an active ingredient is also known (JP-A-2-64167).

【0012】[0012]

【化8】 Embedded image

【0013】[式中R14は炭素数8〜22の直鎖もしくは
分岐アルキル基又はアルケニル基を示し、R15及びR16
は炭素数1〜3のアルキル基を示し、R17は水素原子又
はメチル基を示し、BはO−CO又はO−CH2を示
し、Xは一価の陰イオンを示す。]
Wherein R 14 represents a linear or branched alkyl or alkenyl group having 8 to 22 carbon atoms, and R 15 and R 16
Represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 17 represents a hydrogen atom or a methyl group, B represents O—CO or O—CH 2 , and X represents a monovalent anion. ]

【0014】また瀬沼らの報告によれば、クロルメチル
スチレンとセチルジメチルアミン〔C1633N(C
32〕とを反応させて、一般式[化9]で表される第
4級アンモニウム塩モノマーを得、これをアクリロニト
リルと共重合させてポリマーを得ている[(繊維高分子
材料研究所研究報告第159号(1988)、p.17〜2
2]。しかしながら、これらのポリマーもやはり充分満
足できる抗菌力を有していない。
According to the report of Senuma et al., Chloromethylstyrene and cetyldimethylamine [C 16 H 33 N (C
H 3 ) 2 ] to obtain a quaternary ammonium salt monomer represented by the general formula [Chemical Formula 9], which is copolymerized with acrylonitrile to obtain a polymer [(Research on Fiber Polymer Materials). Research Report No. 159 (1988), pp. 17-2
2]. However, these polymers also do not have sufficiently satisfactory antimicrobial activity.

【0015】[0015]

【化9】 Embedded image

【0016】更に米国特許第4009201号には、例
えば式[化10]で表されるカチオン性モノマーを得、
これを重合させてポリマーを製造しているが、該ポリマ
ーは吸着剤として用いられたりあるいは静電防止、色素
受容などの改善に有効であることが記載されているのみ
であり、これを抗菌性の用途に用いることは一切記載さ
れていない。加えて、上記モノマーは重合性ビニル基と
カチオン性基を含む官能基がエステル基を介して結合し
ているため加水分解し易く、従つて該カチオン性モノマ
ーから導かれるポリマーにおいてはカチオン性基(ジア
ンモニウム基)を含む側鎖がポリマー主鎖から脱離、溶
出して機能が低下するという問題がある。
Further, in US Pat. No. 4,092,201, for example, a cationic monomer represented by the formula [Formula 10] is obtained.
This is polymerized to produce a polymer, but it is only described that the polymer is used as an adsorbent or is effective in improving antistatic and dye acceptance, etc. No mention is made of its use in applications. In addition, the above-mentioned monomer is easily hydrolyzed because the functional group containing a polymerizable vinyl group and a cationic group is bonded via an ester group. Therefore, in a polymer derived from the cationic monomer, a cationic group ( There is a problem that the side chain containing a diammonium group) is desorbed and eluted from the polymer main chain, and the function is reduced.

【0017】[0017]

【化10】 Embedded image

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、殺菌
力に優れ、安全性と安定性が高く、且つその効力を長期
間に亘つて持続することのできる抗菌性重合体に容易に
導くことのできる重合性単量体を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an antibacterial polymer which has excellent bactericidal activity, high safety and stability, and can maintain its efficacy for a long period of time. To provide a polymerizable monomer that can be used.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明は一般式[化1]
で表される重合性単量体及びその製造方法に係る。
According to the present invention, there is provided a compound represented by the general formula:
And a method for producing the same.

【0020】[0020]

【化1】Embedded image

【0021】[式中、Rは水素原子、メチル基、クロ
ル基又はシアノ基を、Rは炭素数1〜4のアルキレン
基を、Rは炭素数3〜10のアルキレン基を、Rは炭
素数6〜18のアルキル基を、R〜Rは同一又は異な
つて炭素数1〜3のアルキル基を示。Aはメチレン
基、−CHO−、−CHCHO−、−CO−、−
CO−N(R)−、(Rは水素原子又はメチル基を
示す。)又はビニレン基を示す。mは0又は1を示す。
X及びYは同一又は異なつて1価の陰イオンを示すか或
いは両者で2価の陰イオンを示す。]
Wherein R 1 is a hydrogen atom, a methyl group, a chloro group or a cyano group; R 2 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms; R 3 is an alkylene group having 3 to 10 carbon atoms; 4 represents an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms, R 5 to R 8 is shows the same or different connexion alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. A is a methylene group, -CH 2 O -, - CH 2 CH 2 O -, - CO -, -
CO-N (R 9) - , indicating the (R 9 represents a hydrogen atom or a methyl group.) Or a vinylene group. m represents 0 or 1.
X and Y are the same or different and represent a monovalent anion, or both represent a divalent anion. ]

【0022】上記一般式(1)の本発明化合物におい
て、R3で示されるアルキレン基のうち炭素数4及び6
のものが抗菌性の観点から特に好ましい。またR4で示
されるアルキル基のうち炭素数10、12及び14のものが抗
菌性の観点から特に好ましい。
In the compound of the present invention represented by the general formula (1), the alkylene group represented by R 3 has 4 or 6 carbon atoms.
Are particularly preferred from the viewpoint of antibacterial properties. Among the alkyl groups represented by R 4 , those having 10, 12 and 14 carbon atoms are particularly preferred from the viewpoint of antibacterial properties.

【0023】上記一般式(1)において 及びYで
示される陰イオンとしては、陽電荷を中和できるもので
あれば特に限定されないが、例えば、塩素イオン、臭素
イオン、沃素イオン、硝酸イオン、過塩素酸イオン、酢
酸イオン、メチル硫酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオ
ン、クロルベンゼンスルホン酸イオン、トルエンスルホ
ン酸イオンなどの1価の陰イオン、硫酸イオン、メチル
リン酸イオンなどの2価の陰イオンを挙げることができ
る。
In the general formula (1), the anions represented by X and Y are not particularly limited as long as they can neutralize the positive charge. For example, chloride ions, bromine ions, iodine ions, nitrate ions Monovalent anions such as perchlorate, acetate, methylsulfate, benzenesulfonate, chlorobenzenesulfonate, and toluenesulfonate; and divalent anions such as sulfate and methylphosphate. Can be mentioned.

【0024】上記一般式(1)において、Aで示される
基がメチレン基 CO−、−CO−N(R)−、
(Rは前記に同じ。)又はビニレン基である本発明化
合物(1a)は、例えば一般式[化2]で表される化合
物と一般式[化3]で表される化合物を反応させること
により製造できる。
[0024] In the above general formula (1), the group represented by A is a methylene group, - CO -, - CO- N (R 9) -,
(R 9 is the same as described above) or the compound (1a) of the present invention, which is a vinylene group, is obtained by, for example, reacting a compound represented by the general formula [Formula 2] with a compound represented by the general formula [Formula 3]. Can be manufactured.

【0025】[0025]

【化2】Embedded image

【0026】[式中、R びXは前記に同
じ。Aはメチレン基 CO−、−CO−N
(R)−、(Rは前記に同じ。)又はビニレン基を
示す。]
[0026] [in the formula, R 3 ~ R 8 beauty X are the same as above. A 1 is a methylene group, - CO -, - CO- N
(R 9 ) —, (R 9 is as defined above) or a vinylene group. ]

【0027】[0027]

【化3】Embedded image

【0028】[式中、R、R、m及びYは前記に同
じ。Aはメチレン基 CO−、−CO−N
(R)−、(Rは前記に同じ。)又はビニレン基を
示す。]
Wherein R 1 , R 2 , m and Y are as defined above. A 1 is a methylene group, - CO -, - CO- N
(R 9 ) —, (R 9 is as defined above) or a vinylene group. ]

【0029】上記反応は、通常溶媒中にて必要に応じて
加熱下に行われる。溶媒としては反応に影響を与えない
ものであれば特に制限されず、例えば、メタノール、エ
タノール、プロパノールなどのアルコール類、ジメチル
エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、ベン
ゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類、ジクロルメタ
ン、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、アセト
ン、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミドなどを挙げることができる。尚、反応に際して
は、目的物(1a)及び化合物(3)が共に重合性であ
るので、必要に応じてヒドロキノン、カテコールなどの
通常の重合禁止剤を反応系に加えてもよい。化合物
(2)と化合物(3)の配合比は特に制限されず広い範
囲から適宜選択できるが、化合物(2)に対して化合物
(3)を通常0.7〜1.2倍モル程度、好ましくは0.9〜1.0
倍モル程度使用すれば良い。
The above reaction is usually carried out in a solvent, if necessary, with heating. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, and examples thereof include alcohols such as methanol, ethanol and propanol, ethers such as dimethyl ether and tetrahydrofuran, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, and dichloromethane. And halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, acetone, ethyl acetate, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide and the like. At the time of the reaction, since both the target compound (1a) and the compound (3) are polymerizable, ordinary polymerization inhibitors such as hydroquinone and catechol may be added to the reaction system as needed. The compounding ratio of the compound (2) and the compound (3) is not particularly limited and can be appropriately selected from a wide range, but the compound (3) is usually about 0.7 to 1.2 moles, preferably 0.9 to 1.0 times the mole of the compound (2).
What is necessary is just to use about twice mol.

【0030】上記一般式(2)のモノ4級アンモニウム
塩誘導体は、例えば一般式[化11]で表される低級ア
ルキル基置換アルカンジアミン誘導体に一般式[化1
2]で表される化合物を無溶媒下又は溶媒中にて必要に
応じて加熱下に反応させることにより製造される。
The mono-quaternary ammonium salt derivative represented by the general formula (2) is, for example, a lower alkyl group-substituted alkane diamine derivative represented by the general formula [Chemical Formula 11].
It is produced by reacting the compound represented by 2] without solvent or in a solvent, if necessary, with heating.

【0031】[0031]

【化11】 Embedded image

【0032】[式中、R3及びR5〜R8は上記に同
じ。]
Wherein R 3 and R 5 to R 8 are the same as above. ]

【0033】[0033]

【化12】 R4X [R4は上記に同じ] (12)Embedded image R 4 X [R 4 is the same as above] (12)

【0034】溶媒としては反応に影響を与えないもので
あれば特に制限されず、例えば、メタノール、エタノー
ルなどの低級アルコール類、アセトニトリルなどのニト
リル類、テトラヒドロフランなどのエーテル類を挙げる
ことができる。化合物(11)と化合物(12)の配合
比は特に制限されないが、通常化合物(12)に対して
化合物(11)を1.0〜5倍モル程度、好ましくは1.2〜
2.5倍モル程度とすればよい。
The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, and examples thereof include lower alcohols such as methanol and ethanol, nitriles such as acetonitrile, and ethers such as tetrahydrofuran. The compounding ratio of the compound (11) and the compound (12) is not particularly limited, but is usually about 1.0 to 5 times, preferably 1.2 to 5 times, the molar amount of the compound (11) with respect to the compound (12).
It may be about 2.5 times mol.

【0035】化合物(11)の具体例としては、例えば
N,N,N',N'−テトラメチル−1,3−プロパンジアミ
ン、N,N,N',N'−テトラメチル−1,4−ブタンジアミ
ン、N,N,N',N'−テトラメチル−1,5−ペンタンジア
ミン、N,N,N',N'−テトラメチル−1,6−ヘキサンジ
アミン、N,N,N',N'−テトラメチルオクタンジアミ
ン、N,N,N',N'−テトラメチルデカンジアミン、N,
N,N',N'−テトラエチルエチレンジアミン、N,N,
N',N'−テトラエチル−1,3−プロパンジアミン、N,
N,N',N'−テトラエチル−1,4−ブタンジアミン、N,
N,N',N'−テトラエチル−1,5−ペンタンジアミン、
N,N,N',N'−テトラエチル−1,6−ヘキサンジアミン
などを挙げることができる。また化合物(12)の具体
例としては、例えば、炭素数6〜18程度の塩化アルキ
ル、臭化アルキル、沃化アルキル、ベンゼンスルホン酸
アルキルエステル、クロルベンゼンスルホン酸アルキル
エステル、トルエンスルホン酸アルキルエステルなどを
挙げることができる。
Specific examples of compound (11) include, for example, N, N, N ', N'-tetramethyl-1,3-propanediamine, N, N, N', N'-tetramethyl-1,4 -Butanediamine, N, N, N ', N'-tetramethyl-1,5-pentanediamine, N, N, N', N'-tetramethyl-1,6-hexanediamine, N, N, N ' , N'-tetramethyloctanediamine, N, N, N ', N'-tetramethyldecanediamine, N,
N, N ', N'-tetraethylethylenediamine, N, N,
N ′, N′-tetraethyl-1,3-propanediamine, N,
N, N ', N'-tetraethyl-1,4-butanediamine, N,
N, N ', N'-tetraethyl-1,5-pentanediamine,
N, N, N ', N'-tetraethyl-1,6-hexanediamine and the like can be mentioned. Specific examples of compound (12) include, for example, alkyl chlorides, alkyl bromides, alkyl iodides, alkyl benzenesulfonates, alkyl chlorobenzenesulfonates, alkyltoluenesulfonates having about 6 to 18 carbon atoms, and the like. Can be mentioned.

【0036】また化合物(3)の具体例としては、例え
ば、ハロゲン原子が塩素、臭素又は沃素であるアリルハ
ライド又はメタリルハライド、ベンゼンスルホン酸アリ
ル、クロルベンゼンスルホン酸アリル、トルエンスルホ
ン酸アリル、クロルメチルスチレン、クロルメチルビニ
ルケトン、ブロモメチルビニルケトン、ベンゼンスルホ
ン酸メタリル、クロルベンゼンスルホン酸メタリル、ト
ルエンスルホン酸メタリル α−クロルメチルアクリ
ロニトリル、N−2−クロルエチルアクリルアミド、N
−2−ブロモエチルアクリルアミド、N−メチル−N−
2−ブロモエチルアクリルアミド、N−2−ブロモエチ
ルメタクリルアミド、N−メチル−N−2−ブロモエチ
ルメタクリルアミド、N−2−トシルオキシエチルアク
リルアミド、N−メチル−N−2−トシルオキシエチル
メタクリルアミドなどを挙げることができる。
Specific examples of compound (3) include, for example, allyl halide or methallyl halide in which the halogen atom is chlorine, bromine or iodine, allyl benzenesulfonate, allyl chlorobenzenesulfonate, allyl toluenesulfonate, chloro Methyl styrene, chloromethyl vinyl ketone, bromomethyl vinyl ketone, methallyl benzenesulfonate, methallyl chlorobenzenesulfonate, methallyl toluenesulfonate , α -chloromethylacrylonitrile, N-2-chloroethylacrylamide, N
-2-bromoethylacrylamide, N-methyl-N-
2-bromoethylacrylamide, N-2-bromoethylmethacrylamide, N-methyl-N-2-bromoethylmethacrylamide, N-2-tosyloxyethylacrylamide, N-methyl-N-2-tosyloxyethylmethacrylamide And the like.

【0037】更に上記一般式(1)において、Aで示さ
れる基が−CH2O−、−CH2CH2O−である本発明
化合物(1b)は、例えば一般式[化4]で表される化
合物と一般式[化5]で表される化合物を反応させるこ
とにより製造できる。
Furthermore in the general formula (1), the group represented by A is -CH 2 O -, - Table with CH 2 CH 2 O-in which the present invention compound (1b), for example the general formula [Formula 4] And a compound represented by the general formula [Chemical Formula 5].

【0038】[0038]

【化4】Embedded image

【0039】[式中R2〜R8、X及びYは上記に同
じ。]
Wherein R 2 to R 8 , X and Y are the same as above. ]

【0040】[0040]

【化5】Embedded image

【0041】[式中、R1は上記に同じ。A2はメチレン
基又はエチレン基を示す。Zはハロゲン原子、炭素数1
〜4の低級アルコキシ基、炭素数2〜5の低級アシルオ
キシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、クロルベンゼン
スルホニルオキシ基、トシルオキシ基又はメタンスルホ
ニルオキシ基を示す。]低級アシルオキシ基の例として
は例えばアセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリ
ルオキシ、バレリルオキシを挙げることができる。
Wherein R 1 is as defined above. A 2 represents a methylene group or an ethylene group. Z is a halogen atom, carbon number 1
A lower alkoxy group, a lower acyloxy group having 2 to 5 carbon atoms, a benzenesulfonyloxy group, a chlorobenzenesulfonyloxy group, a tosyloxy group or a methanesulfonyloxy group. Examples of the lower acyloxy group include acetyloxy, propionyloxy, butyryloxy, and valeryloxy.

【0042】上記反応は、通常溶媒中にて必要に応じて
加熱下に行われる。溶媒としては反応に影響を与えない
ものであれば特に制限されず、例えば、エーテル、テト
ラヒドロフラン、ジクロルメタン、クロロホルム、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどを挙げる
ことができる。尚、反応に際しては、目的物(1b)及
び化合物(5)が共に重合性であるので、必要に応じて
ヒドロキノン、カテコールなどの通常の重合禁止剤を反
応系に加えてもよい。塩基の使用量は特に制限はない
が、通常化学量論量程度とすればよい。化合物(4)と
化合物(5)の配合比は特に制限されないが、化合物
(5)に対して化合物(4)を通常0.7〜1.2倍モル程
度、好ましくは0.9〜1.0倍モル程度使用すれば良い。
The above reaction is usually carried out in a solvent, if necessary, with heating. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, and examples thereof include ether, tetrahydrofuran, dichloromethane, chloroform, dimethylformamide, and dimethylsulfoxide. At the time of the reaction, since both the target compound (1b) and the compound (5) are polymerizable, ordinary polymerization inhibitors such as hydroquinone and catechol may be added to the reaction system as needed. The amount of the base used is not particularly limited, but may be generally about the stoichiometric amount. The compounding ratio of the compound (4) to the compound (5) is not particularly limited, but the compound (4) may be used usually in an amount of about 0.7 to 1.2 times, preferably about 0.9 to 1.0 times, the compound (5). .

【0043】塩基は特に制限なく通常のものが使用で
き、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウムなどの無機塩基、ピリジン、ピペリジン、ジ
イソプロピルアミン、トリエチルアミン、ジアザビシク
ロオクタンなどの有機塩基などを挙げることができる。
The base can be any conventional one without any particular limitation. Examples thereof include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and sodium carbonate, and organic bases such as pyridine, piperidine, diisopropylamine, triethylamine and diazabicyclooctane. Can be mentioned.

【0044】また化合物(5)の具体例としては、例え
ばハロゲン原子が塩素、臭素又は沃素であるアリルハラ
イド又はメタリルハライド、4−ブロモ−1−ブテン、
トルエンスルホン酸3−ブテニル、ベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸若しくはクロルベンゼンスルホ
ン酸のアリルアルコール若しくはメタリルアルコールと
のエステル、2,3−ジクロルプロペンなどを挙げること
ができる。
Specific examples of compound (5) include, for example, allyl halide or methallyl halide in which the halogen atom is chlorine, bromine or iodine, 4-bromo-1-butene,
Examples thereof include 3-butenyl toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, esters of toluenesulfonic acid or chlorobenzenesulfonic acid with allyl alcohol or methallyl alcohol, and 2,3-dichloropropene.

【0045】化合物(4)は公知物質であり、例えば、
化合物(2)と一般式[化13]で表される化合物を反
応させることにより製造できる。
Compound (4) is a known substance.
It can be produced by reacting compound (2) with a compound represented by the general formula [Formula 13].

【0046】[0046]

【化13】 HO−R2Y [式中R2及びYは上記に同じ。] (13)Embedded image HO—R 2 Y wherein R 2 and Y are the same as above. ] (13)

【0047】この反応は、通常反応に影響を与えない溶
媒中にて必要に応じて加熱しながら行われる。化合物
(2)と化合物(13)の配合比は特に制限されない
が、化合物(2)に対して化合物(13)を通常1.0〜
3倍モル程度、好ましくは1.2〜2倍モル程度使用すれ
ば良い。化合物(13)の具体例としては、例えば2−
ハロゲノ−1−エタノール、3−ハロゲノ−1−プロパ
ノール、4−ハロゲノ−1−ブタノール、3−ハロゲノ
−2−メチル−1−プロパノール(ここでハロゲン原子
は塩素、臭素、沃素など)、ベンゼンスルホン酸−2−
ヒドロキシエチル、トルエンスルホン酸−2−ヒドロキ
シエチル、トルエンスルホン酸−3−ヒドロキシプロピ
ル、トルエンスルホン酸−4−ヒドロキシブチルなどを
挙げることができる。
This reaction is usually carried out in a solvent which does not affect the reaction, if necessary, with heating. The compounding ratio of the compound (2) and the compound (13) is not particularly limited, but the compound (13) is usually added to the compound (2) in an amount of from 1.0 to 1.0.
It may be used in an amount of about 3 moles, preferably about 1.2 to 2 moles. Specific examples of the compound (13) include, for example, 2-
Halogeno-1-ethanol, 3-halogeno-1-propanol, 4-halogeno-1-butanol, 3-halogeno-2-methyl-1-propanol (where halogen atoms are chlorine, bromine, iodine, etc.), benzenesulfonic acid -2-
Examples thereof include hydroxyethyl, 2-hydroxyethyl toluenesulfonic acid, 3-hydroxypropyl toluenesulfonic acid, and 4-hydroxybutyl toluenesulfonic acid.

【0048】更に化合物(4)は例えば以下の様にして
も製造できる。即ち、化合物(13)の水酸基を適当な
官能基Wで保護した一般式[化14]で表される化合物
を得、これと化合物(2)を反応させて一般式[化1
5]で表される化合物を得、更にこれを加水分解するこ
とにより、化合物(4)を製造することができる。Wで
表される官能基としては、例えばアセチル基、テトラヒ
ドロピラニル基、メトキシメチル基、ベンゼンスルホニ
ル基、トルエンスルホニル基等を挙げることができる。
Further, compound (4) can be produced, for example, as follows. That is, a compound represented by the general formula [Chemical Formula 14] in which the hydroxyl group of the compound (13) is protected by an appropriate functional group W is obtained, and this is reacted with the compound (2) to obtain a compound of the general formula [Chemical Formula 1]
Compound [4] can be produced by obtaining the compound represented by 5] and further hydrolyzing the compound. Examples of the functional group represented by W include an acetyl group, a tetrahydropyranyl group, a methoxymethyl group, a benzenesulfonyl group, and a toluenesulfonyl group.

【0049】[0049]

【化14】WO−R2Y (13a)Embedded image WO-R 2 Y (13a)

【0050】[式中R2及びYは上記に同じ。Wは官能
基を示す。]
Wherein R 2 and Y are the same as above. W represents a functional group. ]

【0051】[0051]

【化15】 Embedded image

【0052】[式中R2〜R8、X、Y及びWは上記に同
じ。]
Wherein R 2 to R 8 , X, Y and W are the same as above. ]

【0053】化合物(2)と化合物(13a)の反応
は、適当な溶媒中にて必要に応じて加熱下に行われる。
溶媒としては反応に影響を与えないものであれば特に制
限されず、例えば化合物(2)の合成に用いたのと同様
のものを使用できる。化合物(13a)の使用量は特に
制限されず広い範囲から適宜選択できるが、通常化合物
(2)に対して1.0〜3倍モル程度、好ましくは1.2〜2
倍モル程度とすればよい。化合物(13a)の具体例と
しては、例えば、酢酸−2−ハロゲノエチル、2−ハロ
ゲノエチルテトラヒドロピラニルエーテル、トルエンス
ルホン酸4−ハロゲノブチル(ここでハロゲン原子は塩
素、臭素、沃素など)、エチレングリコールビスベンゼ
ンスルホン酸エステル、エチレングリコールビストルエ
ンスルホン酸エステルなどを挙げることができる。
The reaction between compound (2) and compound (13a) is carried out in a suitable solvent, if necessary, with heating.
The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction. For example, the same solvent as used in the synthesis of compound (2) can be used. The amount of the compound (13a) to be used is not particularly limited and can be appropriately selected from a wide range, but is usually about 1.0 to 3 times, preferably 1.2 to 2 times, the mole of the compound (2).
What is necessary is just to make it about 2 times mol. Specific examples of the compound (13a) include 2-halogenoethyl acetate, 2-halogenoethyl tetrahydropyranyl ether, 4-halogenobutyl toluenesulfonate (where the halogen atom is chlorine, bromine, iodine, etc.), ethylene glycol Bisbenzenesulfonic acid ester, ethylene glycol bistoluenesulfonic acid ester and the like can be mentioned.

【0054】化合物(4a)の加水分解は通常の方法に
従つて行われる。例えば化合物(4a)を希塩酸中にて
必要に応じて加熱することにより、容易に化合物(4)
に変換できる。
The hydrolysis of the compound (4a) is carried out according to a usual method. For example, by heating the compound (4a) in diluted hydrochloric acid as needed, the compound (4) can be easily prepared.
Can be converted to

【0055】尚、上記各反応で得られる本発明化合物及
びその中間体は、濾過、抽出、濃縮、再結晶などの通常
の手段により単離、精製できる。
The compounds of the present invention and their intermediates obtained by the above-mentioned reactions can be isolated and purified by usual means such as filtration, extraction, concentration and recrystallization.

【0056】[0056]

【実施例】以下に実施例を挙げて詳しく説明する。The present invention will be described in detail below with reference to examples.

【0057】実施例1 N,N,N',N'−テトラメチル−1,4−ジアミノブタン
(以下TMBと略す)23.1g(0.16モル)をアセトニト
リル 50mlに溶かし室温で撹拌下これにラウリルブロマ
イド 10.0g(0.04モル)を滴下し引き続いて70℃で3時
間加熱した。次に反応液を室温まで冷却し、生じた白色
沈殿を濾過すると、N,N,N',N'−テトラメチル−1,4
−ジアミノブタン−N,N'−ジラウリルジブロマイドが
0.12g副生していた(副生率 1.0%)。濾液を減圧下で
濃縮し大部分のTMBを留去し生じた白色ペースト状残
渣をヘキサン 40mlで洗浄し、デカンテーションにより
ヘキサン層を分離すると未反応TMBが完全に除去され
た白色ワツクス状物質が得られた。このものを真空ポン
プで充分減圧乾燥するとN,N,N',N'−テトラメチル
−1,4−ジアミノブタン−N−ラウリルブロマイド(以
下TML−C4と略す)が14.5g生成していた(収率92
%)。1 H−NMR(CDCl3)δppm:0.83(t,3H,CH
3)、1.19〜1.29(m,20H,CH2)、1.60〜2.00
(m,6H,CH2)、2.68(s,6H,CH3−N)、
3.05(s,6H,CH3−N)、3.15〜3.28(m,2
H,CH2N)、3.37〜3.45(m,2H,CH2N)
Example 1 23.1 g (0.16 mol) of N, N, N ', N'-tetramethyl-1,4-diaminobutane (hereinafter abbreviated as TMB) was dissolved in 50 ml of acetonitrile, and stirred at room temperature with lauryl bromide. 10.0 g (0.04 mol) was added dropwise, followed by heating at 70 ° C. for 3 hours. Next, the reaction solution was cooled to room temperature, and the resulting white precipitate was filtered to give N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,4.
-Diaminobutane-N, N'-dilauryldibromide
0.12g was produced as a by-product (by-product rate: 1.0%). The filtrate was concentrated under reduced pressure and most of the TMB was distilled off. The white paste-like residue generated was washed with 40 ml of hexane, and the hexane layer was separated by decantation to obtain a white wax-like substance from which unreacted TMB had been completely removed. Obtained. When thoroughly dried under reduced pressure This material with vacuum pump N, N, N ', N'- tetramethyl-1,4-diaminobutane -N- lauryl bromide (hereinafter abbreviated as TML-C 4) was produced 14.5g (Yield 92
%). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm: 0.83 (t, 3H, CH)
3), 1.19~1.29 (m, 20H , CH 2), 1.60~2.00
(M, 6H, CH 2) , 2.68 (s, 6H, CH 3 -N),
3.05 (s, 6H, CH 3 -N), 3.15~3.28 (m, 2
H, CH 2 N), 3.37~3.45 (m, 2H, CH 2 N)

【0058】実施例2〜6 TMBに代えてそれぞれN,N,N',N'−テトラメチル
−1,3−ジアミノプロパン(以下TMPと略す) 20.8g
(0.16モル)、N,N,N',N'−テトラメチル−1,6−ジ
アミノヘキサン(以下TMHと略す) 27.5g(0.16モ
ル)、N,N,N',N'−テトラメチル−1,8−ジアミノオ
クタン(以下TMOと略す) 32.0g(0.16モル)、N,
N,N',N'−テトラメチル−1,10−ジアミノデカン(以
下TMDと略す)36.5g(0.16モル)又はN,N,N',N'
−テトラエチル−1,6−ジアミノヘキサン(以下TEH
と略す)36.5g(0.16モル)を使用した他は実施例1と
同様に反応及び後処理をしてそれぞれ目的とするモノ四
級アンモニウム塩誘導体を得た。このとき少量のビス四
級アンモニウム塩誘導体が副生した。結果を表1に示
す。表においてEtはエチル基を示す。
Examples 2 to 6 Instead of TMB, 20.8 g of N, N, N ', N'-tetramethyl-1,3-diaminopropane (hereinafter abbreviated as TMP)
(0.16 mol), N, N, N ', N'-tetramethyl-1,6-diaminohexane (hereinafter abbreviated as TMH) 27.5 g (0.16 mol), N, N, N', N'-tetramethyl- 1,8-diaminooctane (hereinafter abbreviated as TMO) 32.0 g (0.16 mol), N,
N, N ', N'-tetramethyl-1,10-diaminodecane (hereinafter abbreviated as TMD) 36.5 g (0.16 mol) or N, N, N', N '
-Tetraethyl-1,6-diaminohexane (hereinafter referred to as TEH
The reaction and post-treatment were carried out in the same manner as in Example 1 except that 36.5 g (0.16 mol) was used to obtain the desired monoquaternary ammonium salt derivative. At this time, a small amount of a bisquaternary ammonium salt derivative was by-produced. Table 1 shows the results. In the table, Et represents an ethyl group.

【0059】実施例7〜10 TMBに代えてTMH 27.5g(0.16モル)を用い、ラウ
リルブロマイドに代えてそれぞれヘキシルブロマイド
6.6g(0.04モル)、デシルブロマイド 8.8g(0.04モ
ル)、テトラデシルブロマイド 11.1g(0.04モル)、又
はオクタデシルブロマイド 13.3g(0.04モル)を使用し
た他は実施例1と同様に反応及び後処理をしてそれぞれ
目的とするモノ四級アンモニウム塩誘導体を得た。この
とき少量のビス四級アンモニウム塩誘導体が副生してい
た。結果を表1に合わせて示す。
Examples 7 to 10 27.5 g (0.16 mol) of TMH was used in place of TMB, and hexyl bromide was used in place of lauryl bromide.
Reaction and post-treatment as in Example 1 except that 6.6 g (0.04 mol), 8.8 g (0.04 mol) of decyl bromide, 11.1 g (0.04 mol) of tetradecyl bromide, or 13.3 g (0.04 mol) of octadecyl bromide were used. To obtain the desired monoquaternary ammonium salt derivatives. At this time, a small amount of a bisquaternary ammonium salt derivative was by-produced. The results are shown in Table 1.

【0060】[0060]

【表1】 [Table 1]

【0061】実施例11 実施例3で得たTML−C6 11.1g(26.4ミリモル)を
アセトン 200mlに溶解し室温で撹拌下これに4−クロル
メチルスチレン 3.7g(24ミリモル)を滴下した。次に5
0℃で17時間加熱すると白色結晶が析出してきた。反応
液を室温まで冷却し生じた白色結晶を濾過して単離し冷
アセトンで洗浄後乾燥するとN,N,N',N'−テトラメ
チル−N−ラウリル−N'−(4−ビニル)ベンジルヘ
キサメチレンジアンモニウムブロマイドクロライド(T
MLS−C6と略す)が12.0g生成していた(収率87
%)。1 H−NMR(CDCl3)δppm:0.86(t,3H,CH
3)、1.92〜1.37(m,18H,CH2)、1.53〜1.73
(m,6H,CH2)、1.98〜2.21(m,4H,C
2)、3.26(s,6H,CH3N)、3.37(s,6H,
CH3N)、3.40〜3.50(m,2H,CH2N)、3.68〜
3.87(m,4H,CH2N)、4.95(s,2H,CH2
r)、5.38(d,1H,vinyl)、5.81(d,1H,viny
l)、6.71(dd,1H,vinyl)、7.46(d,2H,Ar
H)、7.62(d,2H,ArH)
Example 11 11.1 g (26.4 mmol) of TML-C 6 obtained in Example 3 was dissolved in 200 ml of acetone, and 3.7 g (24 mmol) of 4-chloromethylstyrene was added dropwise with stirring at room temperature. Then 5
When heated at 0 ° C. for 17 hours, white crystals precipitated. The reaction solution was cooled to room temperature, and the resulting white crystals were isolated by filtration, washed with cold acetone, and dried. N, N, N ', N'-tetramethyl-N-lauryl-N'-(4-vinyl) benzyl Hexamethylene diammonium bromide chloride (T
Abbreviated as MLS-C 6) was produced 12.0 g (yield: 87
%). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm: 0.86 (t, 3H, CH
3), 1.92~1.37 (m, 18H , CH 2), 1.53~1.73
(M, 6H, CH 2) , 1.98~2.21 (m, 4H, C
H 2), 3.26 (s, 6H, CH 3 N), 3.37 (s, 6H,
CH 3 N), 3.40~3.50 (m , 2H, CH 2 N), 3.68~
3.87 (m, 4H, CH 2 N), 4.95 (s, 2H, CH 2 A)
r), 5.38 (d, 1H, vinyl), 5.81 (d, 1H, viny)
l), 6.71 (dd, 1H, vinyl), 7.46 (d, 2H, Ar)
H), 7.62 (d, 2H, ArH)

【0062】実施例12〜15 4−クロルメチルスチレンに代えてそれぞれ臭化アリル
2.90g(24ミリモル)、4−ブロモ−1−ブテン 3.24g
(24ミリモル)、ブロモメチルビニルケトン3.58g(24
ミリモル)又はN−2−トシルオキシエチルアクリルア
ミド 6.79g(24ミリモル)を用い溶媒としてアセトンも
しくは酢酸エチルを使用した他は実施例11と同様に反
応及び後処理をしてそれぞれ目的とするビス四級アンモ
ニウム塩誘導体を得た。結果を表2に示す。
Examples 12 to 15 Allyl bromide was substituted for 4-chloromethylstyrene.
2.90 g (24 mmol), 4-bromo-1-butene 3.24 g
(24 mmol), 3.58 g of bromomethyl vinyl ketone (24
Mmol) or 6.79 g (24 mmol) of N-2-tosyloxyethylacrylamide, and reacted and worked up in the same manner as in Example 11 except that acetone or ethyl acetate was used as a solvent. An ammonium salt derivative was obtained. Table 2 shows the results.

【0063】[0063]

【表2】 [Table 2]

【0064】実施例16〜24 TML−C6に代えてそれぞれTML−C3 9.09g(24ミ
リモル)、TML−C4 9.43g(24ミリモル)、TML
−C8 11.7g(26ミリモル)、TML−C10 12.4g(26
ミリモル)、TMH−C6 8.76g(26ミリモル)、TM
D−C610.2g(26ミリモル)、TMT−C6 11.7g(26ミ
リモル)、TMO−C6 13.1g(26ミリモル)又はTE
L−C6 12.4g(26ミリモル)を使用した他は実施例1
1とほぼ同様に反応及び後処理をしてそれぞれ目的とす
るビス四級アンモニウム塩誘導体を得た。結果を表3に
示す。
[0064] Each TML-C 3 9.09g (24 mmol) in place of Example 16~24 TML-C 6, TML- C 4 9.43g (24 mmol), TML
-C 8 11.7 g (26 mmol), TML-C 10 12.4 g (26
Mmol), TMH-C 6 8.76g ( 26 mmol), TM
D-C 6 10.2g (26 mmol), TMT-C 6 11.7g ( 26 mmol), TMO-C 6 13.1g ( 26 mmol) or TE
Example 1 except that 12.4 g (26 mmol) of LC- 6 was used.
The reaction and post-treatment were carried out in substantially the same manner as in Example 1 to obtain the desired bis quaternary ammonium salt derivative. Table 3 shows the results.

【0065】[0065]

【表3】 [Table 3]

【0066】実施例25 実施例3で得たTML−C6 8.42g(20ミリモル)をメ
タノール 200mlに溶解し室温下でこれに3−ブロモ−1
−プロパノール 2.78g(20ミリモル)を加えた。次に混
合物を50℃に加熱し12時間反応させたのち減圧下で濃縮
すると白色固型残渣が11.1g得られた。これを酢酸エチ
ル100ml中に投入して洗浄後濾過して溶液層を除去し乾
燥することによりN,N,N',N'−テトラメチル−N−
(3−ヒドロキシ)プロピル−N'−ラウリルヘキサメ
チレンジアンモニウムジブロマイド(TMLP−C6
を白色結晶として9.96g得た(収率89%)。1 H−NMR(CDCl3) δppm:0.87(t,3H,C
3)、1.20〜1.57(m,26H,CH2)、1.63〜1.80
(m,4H,CH2)、3.25(t,2H,CH2O)、3.
39(s,6H,CH3N)、3.50(s,6H,CH
3N)、3.45〜3.59(m,8H,CH2N)
[0066] Example 25 Example 3 obtained in TML-C 6 8.42 g (20 mmol) thereto at room temperature was dissolved in methanol 200 ml 3- bromo-l
2.78 g (20 mmol) of propanol were added. Next, the mixture was heated to 50 ° C. and reacted for 12 hours, and then concentrated under reduced pressure to obtain 11.1 g of a white solid residue. This was poured into 100 ml of ethyl acetate, washed, filtered, the solution layer was removed and dried to obtain N, N, N ', N'-tetramethyl-N-.
(3-hydroxy) propyl -N'- lauryl hexamethylene diammonium dibromide (TMLP-C 6)
Was obtained as white crystals (yield 89%). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm: 0.87 (t, 3H, C
H 3), 1.20~1.57 (m, 26H, CH 2), 1.63~1.80
(M, 4H, CH 2) , 3.25 (t, 2H, CH 2 O), 3.
39 (s, 6H, CH 3 N), 3.50 (s, 6H, CH
3 N), 3.45~3.59 (m, 8H, CH 2 N)

【0067】実施例26 実施例3で得たTML−C6 16.8g(40ミリモル)をア
セトン 200mlに溶解し室温下でこれに酢酸2−ブロモエ
チル 6.67g(40ミリモル)を加えた。混合物を50℃で12
時間反応させ生じた白色結晶を濾過して単離するとN,
N,N',N'−テトラメチル−N−(2−アセトキシ)エ
チル−N'−ラウリルヘキサメチレンジアンモニウムジ
ブロマイド 23.1gが得られた。このものを2%希臭化水
素酸 120mlに溶解し60℃で15時間撹拌したのち混合物を
減圧濃縮した。得られた淡黄色蝋状物を酢酸エチル中に
投入して洗浄後、濾過して溶液層を除去して乾燥するこ
とによりN,N,N',N'−テトラメチル−N−(2−ヒ
ドロキシ)エチル−N'−ラウリルヘキサメチレンジア
ンモニウムジブロマイド(TMLE−C6と略す)をほ
ぼ白色の結晶として17.9g得た(収率82%)。1 H−NMR(CDCl3) δppm:0.86(t,3H,C
3)、1.22〜1.56(m,24H,CH2)、1.63〜1.79
(m,4H,CH2)、3.26(t,2H,CH2O)、3.
40(s,6H,CH3N)、3.51(s,6H,CH
3N)、3.46〜3.60(m,8H,CH2N)
[0067] was added thereto 2-bromoethyl acetate 6.67 g (40 mmol) 16.8 g TML-C 6 obtained in Example 26 Example 3 (40 mmol) at room temperature was dissolved in acetone 200 ml. Mix the mixture at 50 ° C for 12
The white crystals formed after the reaction for hours were isolated by filtration.
23.1 g of N, N ', N'-tetramethyl-N- (2-acetoxy) ethyl-N'-laurylhexamethylenediammonium dibromide were obtained. This was dissolved in 120 ml of 2% dilute hydrobromic acid, stirred at 60 ° C. for 15 hours, and then the mixture was concentrated under reduced pressure. The obtained pale yellow wax was put into ethyl acetate, washed, filtered, the solution layer was removed, and dried to obtain N, N, N ', N'-tetramethyl-N- (2- hydroxy) ethyl -N'- lauryl hexamethylene diammonium dibromide (abbreviated as TMLE-C 6) was obtained 17.9g as almost white crystals (82% yield). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm: 0.86 (t, 3H, C
H 3), 1.22~1.56 (m, 24H, CH 2), 1.63~1.79
(M, 4H, CH 2) , 3.26 (t, 2H, CH 2 O), 3.
40 (s, 6H, CH 3 N), 3.51 (s, 6H, CH
3 N), 3.46~3.60 (m, 8H, CH 2 N)

【0068】実施例27 実施例26で得たTMLE−C6 5.46g(10ミリモル)
と臭化アリル 1.45g(12ミリモル)をジクロルメタン 5
0mlに溶解し室温で撹拌下にトリエチルアミン 1.01g(1
0ミリモル)を滴下した。混合物を40℃で15時間撹拌し
たのち室温まで冷却し生じた白色沈殿を濾過して除去し
た。濾液を濃縮すると淡黄色蝋状物が得られた。このも
のをアセトンで充分洗浄した後乾燥することによりN,
N,N',N'−テトラメチル−N−(2−アリルオキシ)
エチル−N'−ラウリルヘキサメチレンジアンモニウム
ジブロマイドをほぼ白色の結晶として4.2g得た(収率72
%)。1H−NMR(CDCl3) δppm:0.86(t,3
H,CH3)、1.22〜1.57(m,24H,CH2)、1.63〜
1.80(m,4H,CH2)、3.12(d,2H,CH
2O)、3.26(t,2H,CH2O)、3.40(s,6H,
CH3N)、3.52(s,6H,CH3N)、3.45〜3.60
(m,8H,CH2N)、5.39(d,1H,vinyl)、5.
68(m,1H,vinyl)、5.92(d,1H,vinyl)
Example 27 5.46 g (10 mmol) of TMLE-C 6 obtained in Example 26
And 1.45 g (12 mmol) of allyl bromide in dichloromethane 5
0 ml and triethylamine 1.01 g (1
0 mmol) was added dropwise. After the mixture was stirred at 40 ° C. for 15 hours, it was cooled to room temperature and the resulting white precipitate was removed by filtration. The filtrate was concentrated to give a pale yellow wax. This is thoroughly washed with acetone and dried to obtain N,
N, N ', N'-tetramethyl-N- (2-allyloxy)
4.2 g of ethyl-N'-lauryl hexamethylene diammonium dibromide was obtained as almost white crystals (yield 72
%). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm: 0.86 (t, 3
H, CH 3), 1.22~1.57 ( m, 24H, CH 2), 1.63~
1.80 (m, 4H, CH 2 ), 3.12 (d, 2H, CH
2 O), 3.26 (t, 2H, CH 2 O), 3.40 (s, 6H,
CH 3 N), 3.52 (s , 6H, CH 3 N), 3.45~3.60
(M, 8H, CH 2 N ), 5.39 (d, 1H, vinyl), 5.
68 (m, 1H, vinyl), 5.92 (d, 1H, vinyl)

【0069】実施例28 TMLE−C6に代えて実施例25で得たTMLP−C6
5.60g(10ミリモル)を使用したほかは実施例27と同
様に反応と後処理を行つて目的とするN,N,N',N'−
テトラメチル−N−(2−アリルオキシ)プロピル−
N'−ラウリルヘキサメチレンジアンモニウムジブロマ
イドをほぼ白色の結晶として3.9g得た(収率65%)。1 H−NMR(CDCl3) δppm:0.88(t,3H,C
3)、1.21〜1.60(m,26H,CH2)、1.63〜1.80
(m,4H,CH2)、3.12(d,2H,CH2O)、3.
24(t,2H,CH2O)、3.40(s,6H,CH
3N)、3.54(s,6H,CH3N)、3.45〜3.61(m,
8H,CH2N)、5.41(d,1H,vinyl)、5.66
(m,1H,vinyl)、5.90(d,1H,vinyl)
Example 28 TMLP-C 6 obtained in Example 25 in place of TMLE-C 6
The reaction and after-treatment were carried out in the same manner as in Example 27 except that 5.60 g (10 mmol) was used to obtain the desired N, N, N ', N'-
Tetramethyl-N- (2-allyloxy) propyl-
3.9 g of N'-lauryl hexamethylene diammonium dibromide was obtained as almost white crystals (65% yield). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm: 0.88 (t, 3H, C
H 3), 1.21~1.60 (m, 26H, CH 2), 1.63~1.80
(M, 4H, CH 2) , 3.12 (d, 2H, CH 2 O), 3.
24 (t, 2H, CH 2 O), 3.40 (s, 6H, CH
3 N), 3.54 (s, 6H, CH 3 N), 3.45~3.61 (m,
8H, CH 2 N), 5.41 (d, 1H, vinyl), 5.66
(M, 1H, vinyl), 5.90 (d, 1H, vinyl)

【0070】比較例1(米国特許第4009201号の
ポリマー) 実施例25で得たN,N,N',N'−テトラメチル−N−
(3−ヒドロキシ)プロピル−N'−ラウリルヘキサメ
チレンジアンモニウムジブロマイド 5.60g(10ミリモ
ル)、ハイドロキノン 50mgとメタクリル酸クロライド
1.15g(11ミリモル)をジクロルメタン 40mlに溶解し室
温下で撹拌した。これにピリジン 0.87g(11ミリモル)
をゆつくり滴下した後そのまま18時間撹拌を継続し生
じた白色沈殿を濾過して除去した。濾液を濃縮すると淡
黄色蝋状物が得られ、これをアセトンで充分洗浄した後
乾燥することによりN,N,N',N'−テトラメチル−N
−メタクリルオキシプロピル−N'−ラウリルヘキサメ
チレンジアンモニウムジブロマイドをほぼ白色の結晶と
して4.89g得た(収率78%)。1 H−NMR(CDCl3) δppm:0.87(t,3H,C
3)、1.20〜1.57(m,26H,CH2)、1.63〜1.81
(m,4H,CH2)、2.03(s,3H,CH3)、3.25
(t,2H,CH2O)、3.39(s,6H,CH3N)、
3.50(s,6H,CH3N)、3.45〜3.59(m,8H,
CH2N)、5.72(s,1H,vinyl)、6.27(s,1
H,vinyl)
Comparative Example 1 (Polymer of US Pat. No. 4,092,201) N, N, N ', N'-tetramethyl-N- obtained in Example 25
5.60 g (10 mmol) of (3-hydroxy) propyl-N'-lauryl hexamethylene diammonium dibromide, 50 mg of hydroquinone and methacrylic acid chloride
1.15 g (11 mmol) was dissolved in 40 ml of dichloromethane and stirred at room temperature. 0.87 g (11 mmol) of pyridine
After slowly adding dropwise, stirring was continued for 18 hours as it was, and the resulting white precipitate was removed by filtration. The filtrate was concentrated to give a pale yellow wax, which was thoroughly washed with acetone and dried to give N, N, N ', N'-tetramethyl-N
4.89 g of -methacryloxypropyl-N'-laurylhexamethylenediammonium dibromide was obtained as almost white crystals (yield 78%). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm: 0.87 (t, 3H, C
H 3), 1.20~1.57 (m, 26H, CH 2), 1.63~1.81
(M, 4H, CH 2) , 2.03 (s, 3H, CH 3), 3.25
(T, 2H, CH 2 O ), 3.39 (s, 6H, CH 3 N),
3.50 (s, 6H, CH 3 N), 3.45~3.59 (m, 8H,
CH 2 N), 5.72 (s, 1H, vinyl), 6.27 (s, 1
H, vinyl)

【0071】上記で得られたN,N,N',N'−テトラメ
チル−N−メタクリルオキシプロピル−N'−ラウリル
ヘキサンメチレンジアンモニウムジブロマイド 3.14g
(5ミリモル)とスチレン 5.21g(50ミリモル)をメタ
ノール 10mlに溶解しこれにAIBN 40mg(0.25ミリモ
ル)をメタノール 1mlに溶解した液を加えた。混合物
を窒素雰囲気下、65℃で22時間反応させると少し白濁し
た粘稠な溶液となつた。反応液を多量の水中に投入して
重合反応を停止し生じた白色重合体を濾過して単離し減
圧乾燥することにより白色ポリマーを得た。これをメタ
ノールに再溶解して水中に投入する操作を2回繰返して
精製、乾燥することにより白色粉状重合体を5.7g得た。
該白色粉状物はTLC,IR及び1H−NMR分析の結
果から原料のジアンモニウムジブロマイドとスチレンと
の共重合体であることを確認した。
3.14 g of N, N, N ′, N′-tetramethyl-N-methacryloxypropyl-N′-laurylhexanemethylenediammonium dibromide obtained above
(5 mmol) and 5.21 g (50 mmol) of styrene were dissolved in 10 ml of methanol, and a solution of 40 mg (0.25 mmol) of AIBN dissolved in 1 ml of methanol was added. The mixture was reacted at 65 ° C. for 22 hours under a nitrogen atmosphere to give a slightly cloudy viscous solution. The reaction solution was poured into a large amount of water to terminate the polymerization reaction, and the resulting white polymer was isolated by filtration and dried under reduced pressure to obtain a white polymer. The procedure of re-dissolving this in methanol and throwing it into water was repeated twice to purify and dry to obtain 5.7 g of a white powdery polymer.
From the results of TLC, IR and 1 H-NMR analysis, the white powder was confirmed to be a copolymer of diammonium dibromide and styrene as raw materials.

【0072】このものをジメチルホルムアミドを溶媒に
してGPC分析(ポリスチレン基準)するとMn=6.1
万 多分散度Mw/Mn=1.7であつた。ポリビニル硫
酸カリウム(PVSK)を用いたコロイド滴定法によつ
て四級アンモニウム基の含量を定量することにより原料
ジアンモニウムジブロマイドとスチレンとの共重合組成
は8:92であつた。
GPC analysis (based on polystyrene) using dimethylformamide as a solvent gave Mn = 6.1.
The polydispersity Mw / Mn was 1.7. By determining the content of quaternary ammonium groups by a colloid titration method using polyvinyl potassium sulfate (PVSK), the copolymer composition of starting material diammonium dibromide and styrene was 8:92.

【0073】参考例1(ポリマーの合成) 実施例11で得たTMLS−C6 3.44g(6ミリモル)
とスチレン 5.62g(54ミリモル)をメタノール 10mlに
溶解しこれにAIBN 50mg(0.3ミリモル)をメタノー
ル 2mlに溶かした液を加えた。混合物を窒素雰囲気下
65℃で22時間撹拌すると粘稠溶液となつた。該反応液を
比較例1と同様に後処理することにより白色粉状重合体
を6.3g得た。該白色重合体はTLC,IR及び1H−N
MR分析の結果からTMLS−C6とスチレンとの共重
合体であることを確認した。
Reference Example 1 (Synthesis of polymer) 3.44 g (6 mmol) of TMLS-C 6 obtained in Example 11
And 5.62 g (54 mmol) of styrene were dissolved in 10 ml of methanol, and a solution of 50 mg (0.3 mmol) of AIBN dissolved in 2 ml of methanol was added thereto. Mixture under nitrogen atmosphere
Stirring at 65 ° C. for 22 hours resulted in a viscous solution. The reaction solution was post-treated in the same manner as in Comparative Example 1 to obtain 6.3 g of a white powdery polymer. The white polymer is TLC, IR and 1 H-N
It was confirmed that the results of the MR analysis, a copolymer of TMLS-C 6 and styrene.

【0074】比較例1と同様にGPC分析するとMn=
15.8万 多分散度Mw/Mn=1.4であつた。コロイド
滴定法によつて四級アンモニウム基の含量を定量するこ
とによりTMLS−C6とスチレンとの共重合組成は1
3:87であつた。
When GPC analysis was performed in the same manner as in Comparative Example 1, Mn =
158,000 The polydispersity was Mw / Mn = 1.4. Copolymer composition of TMLS-C 6 and styrene by quantifying the amount of O connexion quaternary ammonium group in the colloid titration 1
3:87.

【0075】試験例1 抗菌加工布の調製 参考例1及び比較例1で合成した化合物を供試化合物と
し、それぞれの化合物をメタノールに溶解し、0.1、0.2
及び0.5wt%のメタノール溶液とした。次に綿カナキ
ン、JIS標準布(以下布と略す)を上記メタノール溶
液に浸して、該溶液を含浸(パデイング法)処理した。
次いですばやく重量を測定した後、105℃、30分間キユ
アリングし、充分、布に供試化合物を固着させ、所謂、
「抗菌加工布」として以下の試験に用いた。
Test Example 1 Preparation of Antibacterial Finished Cloth The compounds synthesized in Reference Example 1 and Comparative Example 1 were used as test compounds.
And a 0.5 wt% methanol solution. Next, cotton kanakin and a JIS standard cloth (hereinafter abbreviated as cloth) were immersed in the above methanol solution, and the solution was impregnated (padding method).
Then, after quickly measuring the weight, the sample was cured at 105 ° C. for 30 minutes, and the test compound was sufficiently fixed on the cloth.
It was used for the following tests as "antibacterial processed cloth".

【0076】尚、抗菌加工布に固着された供試化合物の
重量(mg/g布)は次の式[I]で表される。 C=(B−A)(W/100)(1/A)(1000)……[I] A:最初の布の重量(g/一定面積) B:キユアリング直前の布の重量(g/一定面積) C:抗菌加工布に固着された供試化合物の重量(mg/g
布) W:供試化合物のメタノール溶液の濃度(wt%)
The weight (mg / g cloth) of the test compound fixed to the antibacterial cloth is represented by the following formula [I]. C = (BA) (W / 100) (1 / A) (1000) ... [I] A: Weight of the first cloth (g / constant area) B: Weight of the cloth immediately before clearing (g / constant) Area) C: Weight of the test compound fixed on the antibacterial cloth (mg / g)
Cloth) W: Concentration of methanol solution of test compound (wt%)

【0077】上記(1)式よりW値とC値との関係は以
下のようになつた。 W:(供試化合物のメタノール C:(抗菌加工布に固着された 溶液の濃度) 供試化合物の重量) (wt%) (mg/g布) 0.1 1.0 0.2 2.0 0.5 5.0
From the above equation (1), the relationship between the W value and the C value is as follows. W: (Methanol of test compound C: (Concentration of solution fixed to antibacterial cloth) Weight of test compound) (wt%) (mg / g cloth) 0.1 1.0 0.2 2.0 0.5 5.0

【0078】抗菌性試験 上記のようにして得た「抗菌加工布」を、日本防菌防黴
学会の「抗菌加工を施した繊維製品の細菌生育抑制試験
法」(以下、抗菌繊維試験法と略す)に準じて試験し
た。尚、供試菌は、これにPseudomonas aeruginosa
ATCC 10145を加えて、Staphylococcus aureus F
DA 209P、Bacillus subtilis ATCC 6633、Kl
ebsiella pneumoniae ATCC 4352、Escherichia c
oli IFO 3301、Pseudomonas aeruginosa ATC
C 10145の5菌株を用いた。生菌数の計測方法は日本防
菌防黴学会編、防菌防黴ハンドブツク、1986、p678〜69
1を参考にした。
Antibacterial activity test The “antibacterial fabric” obtained as described above was used in combination with the “Bacterial Growth Inhibition Test Method for Antibacterial Processed Textile Products” of the Japan Society of Bacteria and Fungi Abbreviated). The test bacteria were Pseudomonas aeruginosa
Add ATCC 10145 and add Staphylococcus aureus F
DA 209P, Bacillus subtilis ATCC 6633, Kl
ebsiella pneumoniae ATCC 4352, Escherichia c
oli IFO 3301, Pseudomonas aeruginosa ATC
Five strains of C10145 were used. The method for measuring the number of viable bacteria is described in the Japan Society of Antimicrobial and Antifungal Processes, Handbook of Antimicrobial and Antifungal Products, 1986, p. 678-69.
I referred to 1.

【0079】結果の表示 試験結果の表示は、以下のようにした。初発菌数をN
(I)、薬剤添加(試料)区の培養後の菌数をN(D)
として、次式(2)より殺菌指数を求めた。 殺菌指数=log N(I)−log N(D)……(2)
Display of Results The test results were displayed as follows. N for the number of initial bacteria
(I) N (D)
The bactericidal index was determined from the following equation (2). Disinfection index = log N (I) -log N (D) (2)

【0080】次に、この殺菌指数を以下の4段階に区分
して、殺菌指数が1未満の場合……1、殺菌指数が1以
上2未満の場合……2、殺菌指数が2以上3未満の場合
……3、殺菌指数が3以上の場合……4で表し、その結
果を表4,5,6に示した。
Next, this germicidal index is divided into the following four stages, and when the germicidal index is less than 1 ... 1, when the germicidal index is 1 or more and less than 2 ... 2, the germicidal index is 2 or more and less than 3 In the case of ...... 3, and in the case where the bactericidal index is 3 or more, ... 4, the results are shown in Tables 4, 5, and 6.

【0081】参考例2 3−(トリメトキシリル)−プロピルジメチルオクタデ
シルアンモニウムクロライドを供試化合物とし、水に溶
解した後、試験例1の方法に準じて、抗菌加工布を調製
し、抗菌性試験を行つた。尚、抗菌加工布中の供試化合
物濃度は試験例1と同様とした。結果は表4,5,6に
示した。
Reference Example 2 3- (trimethoxylyl) -propyldimethyloctadecyl ammonium chloride was used as a test compound and dissolved in water. Then, an antibacterial processed cloth was prepared according to the method of Test Example 1, and an antibacterial test was conducted. Went. The test compound concentration in the antibacterial cloth was the same as in Test Example 1. The results are shown in Tables 4, 5, and 6.

【0082】参考例3 ドデシル−ジ(アミノエチル)グリシンを供試化合物と
し、水に溶解した後、試験例1の方法に準じて抗菌加工
布を調製し、抗菌性試験を行つた。尚、抗菌加工布中の
供試化合物濃度は試験例1と同様とした。結果は表4,
5,6に示した。
Reference Example 3 Dodecyl-di (aminoethyl) glycine was used as a test compound and dissolved in water. Then, an antibacterial cloth was prepared according to the method of Test Example 1, and an antibacterial test was conducted. The test compound concentration in the antibacterial cloth was the same as in Test Example 1. Table 4 shows the results.
5 and 6.

【0083】参考例4 合成ゼオライトの微粉末 250gを採取し、0.1M硝酸銀水
溶液 500mlを加えて得られた混合物を室温にて5時間撹
拌下に保持して、イオン交換を行つた。かかるイオン交
換法により得られた銀−ゼオライトを濾過した後、水洗
して過剰の銀イオンを除去した。次に水洗済みの銀−ゼ
オライトを100〜105℃で乾燥してから粉砕して銀−ゼオ
ライトの微粉末を得た。
Reference Example 4 250 g of fine powder of synthetic zeolite was sampled, and 500 ml of a 0.1 M silver nitrate aqueous solution was added. The resulting mixture was stirred at room temperature for 5 hours to carry out ion exchange. After filtering the silver-zeolite obtained by the ion exchange method, it was washed with water to remove excess silver ions. Next, the washed silver-zeolite was dried at 100 to 105 ° C. and then pulverized to obtain a fine silver-zeolite powder.

【0084】次にこれを、95%硫酸で測定した相対粘度
2.3の6−ナイロン乾燥チツプに0.1,0.2及び0.5wt%の
濃度となるように添加した後、混合した。
Next, the relative viscosity was measured with 95% sulfuric acid.
The resulting mixture was added to a 6-nylon dry chip of 2.3 so as to have a concentration of 0.1, 0.2 and 0.5% by weight, and then mixed.

【0085】次いで、このナイロンを常法に従い溶融紡
糸した後、延伸して120デニール/4フイラメントの延
伸糸を得た。次に該延伸糸を編んで布にした後、精錬
し、これを抗菌加工布として試験例1の方法に準じて抗
菌試験を行つた。結果は表4,5,6に示した。
Next, this nylon was melt-spun according to a conventional method, and then drawn to obtain a drawn yarn of 120 denier / 4 filament. Next, the drawn yarn was knitted into a cloth, then refined, and this was used as an antibacterial processed cloth and subjected to an antibacterial test according to the method of Test Example 1. The results are shown in Tables 4, 5, and 6.

【0086】[0086]

【表4】 [Table 4]

【0087】[0087]

【表5】 [Table 5]

【0088】[0088]

【表6】 [Table 6]

【0089】試験例2 抗菌力に及ぼす洗濯処理の影響 試験例1で得られた抗菌加工布のうち固着された供試化
合物が2.0(mg/g布)の濃度のものについてJIS−L
−0217(1976),103の方法で洗濯処理前、及び洗濯処
理後に試験例1に従つて抗菌性試験を行って抗菌力に及
ぼす洗濯処理の影響を調べた。
Test Example 2 Influence of Laundry Treatment on Antibacterial Activity Among the antibacterial processed cloths obtained in Test Example 1, those having a fixed test compound concentration of 2.0 (mg / g cloth) JIS-L
The antibacterial test was carried out according to Test Example 1 before and after the washing treatment according to the methods of No. 0217 (1976) and 103 to examine the effect of the washing treatment on the antibacterial activity.

【0090】尚、洗濯処理は各回において、洗剤として
「ニツサンノニオン NS−210」(日本油脂株式会社
製)を水1リツトルに対して0.5グラムの割合で使用
し、水温40℃、浴比1:30で家庭用電気洗濯機により5
分間洗濯し、その後、5分間水をオーバーフローさせな
がら水洗した。抗菌性試験の結果を表7,8に示した。
In each washing process, "Nitsusan Nonion NS-210" (manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) was used as a detergent at a rate of 0.5 g per liter of water, at a water temperature of 40 ° C. and a bath ratio of 1 g. : 5 by home electric washing machine at 30
After washing for 5 minutes, the product was washed with water while overflowing with water for 5 minutes. Tables 7 and 8 show the results of the antibacterial test.

【0091】[0091]

【表7】 [Table 7]

【0092】[0092]

【表8】 [Table 8]

【0093】[0093]

【発明の効果】本発明によれば殺菌力に優れ、安全性と
安定性が高く、且つその効力を長期間に亘つて持続する
ことのできる抗菌性重合体に容易に導くことのできる重
合性単量体が得られる。
Industrial Applicability According to the present invention, a polymerizable compound having excellent sterilizing power, high safety and stability, and which can easily lead to an antibacterial polymer which can maintain its efficacy over a long period of time. A monomer is obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07C 225/06 C07C 225/06 231/22 231/22 233/38 233/38 (72)発明者 濱 裕司 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚 化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 赤田 充生 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚 化学株式会社徳島研究所内 (56)参考文献 特開 昭61−69884(JP,A) 特開 平5−139942(JP,A) 特開 平5−139943(JP,A) 特開 平5−139944(JP,A) 特開 平5−201842(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 211/63 C07C 209/12 C07C 209/20 C07C 221/00 C07C 225/06 C07C 231/22 C07C 233/38 C07C 209/60 CA(STN) REGISTRY(STN)────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI C07C 225/06 C07C 225/06 231/22 231/22 233/38 233/38 (72) Inventor Yuji Hama Kawauchi, Tokushima City, Tokushima Prefecture 463 Kagasuno-cho, Otsuka Chemical Co., Ltd. Tokushima Research Laboratories (72) Inventor Mitsuo Akada 463 Kagasuno, Kawauchi-cho, Tokushima-shi, Tokushima Pref. Otsuka Chemical Co., Ltd. Tokushima Research Laboratories (56) References JP-A-5-139942 (JP, A) JP-A-5-139943 (JP, A) JP-A-5-139944 (JP, A) JP-A-5-201842 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 7 , DB name) C07C 211/63 C07C 209/12 C07C 209/20 C07C 221/00 C07C 225/06 C07C 231/22 C07C 233/38 C07C 209/60 CA (STN) )

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一般式[化1]で表される重合性単量
体。 【化1】 [式中、Rは水素原子、メチル基、クロル基又はシア
ノ基を、Rは炭素数1〜4のアルキレン基を、R
炭素数3〜10のアルキレン基を、Rは炭素数6〜18の
アルキル基を、R〜Rは同一又は異なつて炭素数1
〜3のアルキル基を示。Aはメチレン基、−CH
−、−CHCHO−、−CO−、−CO−N
(R)−、(Rは水素原子又はメチル基を示す。)
又はビニレン基を示す。mは0又は1を示す。X及びY
は同一又は異なつて1価の陰イオンを示すか或いは両者
で2価の陰イオンを示す。]
1. A polymerizable monomer represented by the general formula [1]. Embedded image [Wherein, R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a chloro group or a cyano group, R 2 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R 3 represents an alkylene group having 3 to 10 carbon atoms, and R 4 represents a carbon atom. R 5 to R 8 are the same or different and have 1 carbon atom.
Shows the to 3 alkyl group. A is a methylene group, -CH 2 O
-, - CH 2 CH 2 O -, - CO -, - CO-N
(R 9) -, (R 9 represents a hydrogen atom or a methyl group.)
Or a vinylene group. m represents 0 or 1. X and Y
Represents the same or different monovalent anions or both represent divalent anions. ]
【請求項2】 一般式[化2]で表される化合物と一般
式[化3]で表される化合物を反応させることを特徴と
する請求項1の重合性単量体の製造方法。 【化2】 [式中、Rは炭素数3〜10のアルキレン基を、R
炭素数6〜18のアルキル基を、R〜Rは同一又は異
なつて炭素数1〜3のアルキル基を示。Xは1価の陰
イオンを示す。] 【化3】 [式中、Rは水素原子、メチル基、クロル基又はシア
ノ基を示し、Rは炭素数1〜4のアルキレン基を示
し、Aはメチレン基、−CO−、−CO−N(R
−、(Rは水素原子又はメチル基を示す。)又はビニ
レン基を示す。mは0又は1を示す。Yは1価の陰イオ
ンを示す。]
2. The method for producing a polymerizable monomer according to claim 1, wherein the compound represented by the general formula [Chemical Formula 2] is reacted with the compound represented by the general formula [Chemical Formula 3]. Embedded image [Wherein, R 3 represents an alkylene group having 3 to 10 carbon atoms, R 4 represents an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms, and R 5 to R 8 represent an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms which are the same or different. You . X represents a monovalent anion. ] [Wherein, R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a chloro group or a cyano group, R 2 represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and A 1 represents a methylene group, —CO—, —CO—N ( R 9 )
—, (R 9 represents a hydrogen atom or a methyl group) or a vinylene group. m represents 0 or 1. Y represents a monovalent anion. ]
【請求項3】 一般式[化4]で表される化合物と一般
式[化5]で表される化合物を塩基存在下に反応させる
ことを特徴とする請求項1の重合性単量体の製造方法。 【化4】 [式中、Rは炭素数1〜4のアルキレン基を、R
炭素数3〜10のアルキレン基を、Rは炭素数6〜18の
アルキル基を、R〜Rは同一又は異なつて炭素数1
〜3のアルキル基を示。X及びYは同一又は異なつて
1価の陰イオンを示すか或いは両者で2価の陰イオンを
示す。] 【化5】 [式中、Rは水素原子、メチル基、クロル基又はシア
ノ基を示す。Aはメチレン基又はエチレン基を示す。
Zはハロゲン原子、炭素数1〜4の低級アルコキシ基、
炭素数2〜5の低級アシルオキシ基、ベンゼンスルホニ
ルオキシ基、クロルベンゼンスルホニルオキシ基、トシ
ルオキシ基又はメタンスルホニルオキシ基を示す。]
3. The polymerizable monomer according to claim 1, wherein the compound represented by the general formula [Chem. 4] and the compound represented by the general formula [Chem. 5] are reacted in the presence of a base. Production method. Embedded image [Wherein, R 2 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R 3 is an alkylene group having 3 to 10 carbon atoms, R 4 is an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms, and R 5 to R 8 are the same. Or a different number of carbon atoms
Shows the to 3 alkyl group. X and Y are the same or different and represent a monovalent anion, or both represent a divalent anion. ] [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a chloro group or a cyano group. A 2 represents a methylene group or an ethylene group.
Z is a halogen atom, a lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms,
It represents a lower acyloxy group having 2 to 5 carbon atoms, a benzenesulfonyloxy group, a chlorobenzenesulfonyloxy group, a tosyloxy group or a methanesulfonyloxy group. ]
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