JP3218277B2 - Organic semiconductor and manufacturing method thereof - Google Patents
Organic semiconductor and manufacturing method thereofInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外レ−ザ−を用
いるレーザーアブレーションにより得られる、ポリアセ
ン系骨格構造を有する有機半導体に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic semiconductor having a polyacene skeleton structure obtained by laser ablation using an ultraviolet laser.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、有機高分子材料の製造が、エレク
トロニクス産業をはじめとして多くの産業分野において
希求されている。特に、電気伝導度が半導体あるいは伝
導体領域にあり、シリコン、ゲルマニウム等の無機半導
体のようにp型あるいはn型半導体としての性質を有
し、それらのp−n接合等を利用して、ダイオ−ド、ト
ランジスタ−あるいは太陽電池等への応用が可能な有機
半導体、あるいは伝導体が望まれている。そして、この
ような要求に応えるべく、特公平1−44212号公報
には、ポリアセン系骨格構造を有する不溶不融性基体が
開示されている。この不溶不融性基体は、p、n両ド−
ピングが可能であり、耐熱性、耐薬品性、耐酸化性に優
れることから、エレクトロニクス分野で期待されている
ものである。しかしながら、該有機半導体は、熱反応を
用い合成することから、例えば、数μmの極薄層を形成
すること、繊細なパタ−ン加工、異なる電気伝導度を有
する半導体層の接合等に問題を残すものであった。2. Description of the Related Art In recent years, the production of organic polymer materials has been demanded in many industrial fields including the electronics industry. In particular, the electric conductivity is in the semiconductor or conductor region, and has properties as a p-type or n-type semiconductor like inorganic semiconductors such as silicon and germanium. Organic semiconductors or conductors that can be applied to semiconductors, transistors, or solar cells are desired. In order to meet such a demand, Japanese Patent Publication No. 44212/1994 discloses an insoluble and infusible substrate having a polyacene skeleton structure. This insoluble and infusible substrate has both p and n dopants.
It is expected in the electronics field because it can be pinged and has excellent heat resistance, chemical resistance, and oxidation resistance. However, since the organic semiconductor is synthesized using a thermal reaction, there are problems in, for example, forming an extremely thin layer of several μm, delicate pattern processing, joining of semiconductor layers having different electric conductivities, and the like. It was something to leave.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、上記問
題点に鑑み、鋭意研究を続けた結果本発明を完成したも
のであって、本発明の目的は、炭素原子間の共役系が発
達したポリアセン系骨格構造を有する不溶不融性基体で
ある有機半導体を提供することにある。また、本発明の
他の目的は、容易に製造可能な、極薄層有機半導体ある
いは繊細パタ−ンを有する有機半導体を提供することに
ある。更に本発明の他の目的は、耐熱性、耐薬品性、耐
酸化性に優れる有機半導体を提供することにある。In view of the above problems, the present inventors have made intensive studies and completed the present invention. An object of the present invention is to provide a conjugated system between carbon atoms. An object of the present invention is to provide an organic semiconductor which is an insoluble and infusible substrate having a developed polyacene skeleton structure. Another object of the present invention is to provide an organic semiconductor having an ultrathin organic semiconductor or a delicate pattern which can be easily manufactured. Still another object of the present invention is to provide an organic semiconductor having excellent heat resistance, chemical resistance, and oxidation resistance.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、紫外レー
ザーを用いたレーザーアブレーションを利用し、ポリア
セン系骨格構造を有する不溶不融性基体を合成すること
により、本発明を完成した。すなわち、本発明は、
(1)炭素、水素及び酸素からなる芳香族縮合ポリマ
ー、あるいは(2)炭素、水素及び酸素からなる芳香族
系縮合ポリマーの熱処理物であって水素原子/炭素原子
の原子比が0.05以上、である基体をターゲットと
し、紫外レーザーを用いたアブレーションにより生じる
フラグメントを基板上に堆積されることにより得られる
水素原子/炭素原子の原子比が0.51〜0.05のと
き、それに対応し電気伝導度が10 -8 S/cm以上10
2 S/cm以下であることを特徴とする有機半導体であ
る。更に本発明は、当該基体をターゲットとし、紫外レ
ーザーを用いたアブレーションにより生じるフラグメン
トを基板上に堆積させて得る、ターゲットとは異なる有
機半導体の製造方法に関する。 Means for Solving the Problems The present inventors have completed the present invention by synthesizing an insoluble and infusible substrate having a polyacene skeleton structure using laser ablation using an ultraviolet laser. That is, the present invention
(1) Aromatic condensation polymer composed of carbon, hydrogen and oxygen
-Or (2) aromatics composed of carbon, hydrogen and oxygen
Heat-treated condensed polymer containing hydrogen atoms / carbon atoms
And a hydrogen atom / carbon atom ratio of 0.51 to 0 obtained by depositing fragments generated by ablation using an ultraviolet laser on the substrate with a substrate having an atomic ratio of 0.05 or more as a target. .05 and
And the electrical conductivity corresponding to it is 10 -8 S / cm or more and 10
An organic semiconductor characterized by being 2 S / cm or less . Further, the present invention is directed to an ultraviolet laser targeting the substrate.
Fragmentation caused by laser ablation
Is different from the target obtained by depositing the target on the substrate.
The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor.
【0005】[0005]
【発明の実施の形態】本発明における炭素、水素及び酸
素からなる芳香族系縮合ポリマ−とは、特に限定されな
いが、芳香族炭化水素化合物とアルデヒド類との縮合物
である。芳香族炭化水素化合物としては、例えば、フェ
ノール、クレゾール、キシレノール等の如き、いわゆる
フェノール類が好ましい。例えば、下記式BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The aromatic condensed polymer comprising carbon, hydrogen and oxygen in the present invention is not particularly limited, but is a condensate of an aromatic hydrocarbon compound and an aldehyde. As the aromatic hydrocarbon compound, for example, so-called phenols such as phenol, cresol, and xylenol are preferable. For example,
【化1】 (ここで、x及びyは、それぞれ独立に、0、1又は2
である)で表されるメチレン・ビスフェノール類である
ことができ、あるいはヒドロキシ・ビフェニル類、ヒド
ロキシナフタレン類であることもできる。これらのう
ち、実用的にはフェノール類、特にフェノールが好まし
い。本発明における芳香族系縮合ポリマ−として、上記
のフェノール性水酸基を有する芳香族炭化水素化合物の
1部をフェノール性水酸基を有さない芳香族炭化水素化
合物、例えば、キシレン、トルエン、アニリン等で置換
した変成芳香族系縮合ポリマー、例えばフェノールとキ
シレンとホルムアルデヒドとの縮合物を用いることもで
き、メラミン、尿素で置換した変成芳香族系ポリマーを
用いることもできる。更に、フラン樹脂も好ましい。ま
た、アルデヒドとしては、ホルムアルデヒド、アセトア
ルデヒド、フルフラール等のアルデヒドを使用すること
ができるが、これらの中でもホルムアルデヒドが好適で
ある。フェノールホルムアルデヒド縮合物としては、ノ
ボラック型又はレゾール型あるいはそれらの混合物のい
ずれであってもよい。Embedded image (Where x and y are each independently 0, 1 or 2
Methylene bisphenols represented by the formula: or hydroxy biphenyls or hydroxynaphthalenes. Of these, phenols, particularly phenol, are practically preferred. As the aromatic condensation polymer in the present invention, a part of the aromatic hydrocarbon compound having a phenolic hydroxyl group is replaced with an aromatic hydrocarbon compound having no phenolic hydroxyl group, such as xylene, toluene, or aniline. A modified aromatic condensation polymer, for example, a condensate of phenol, xylene and formaldehyde, or a modified aromatic polymer substituted with melamine or urea can also be used. Further, a furan resin is also preferable. As the aldehyde, aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, and furfural can be used. Among them, formaldehyde is preferable. The phenol formaldehyde condensate may be any of a novolak type, a resol type or a mixture thereof.
【0006】本発明における炭素、水素及び酸素からな
る芳香族系縮合ポリマ−の熱処理物は、上記芳香族系ポ
リマ−を、好ましくは、非酸化性雰囲気下(真空も含
む)、200℃〜800℃、更に好ましくは、400℃
〜600℃の適当な温度まで徐々に加熱することにより
得られる。そして、本発明における炭素、水素及び酸素
からなる芳香族系縮合ポリマ−、あるいは炭素、水素及
び酸素からなる芳香族系縮合ポリマ−の熱処理物は、水
素原子/炭素原子の原子比が0.05以上、好ましくは
0.15以上である。The heat-treated product of the aromatic condensed polymer comprising carbon, hydrogen and oxygen in the present invention is preferably prepared by subjecting the aromatic polymer to a temperature of 200 ° C. to 800 ° C., preferably in a non-oxidizing atmosphere (including vacuum). ° C, more preferably 400 ° C
It is obtained by gradually heating to an appropriate temperature of ~ 600 ° C. The heat-treated aromatic condensed polymer composed of carbon, hydrogen and oxygen or the heat-treated aromatic condensed polymer composed of carbon, hydrogen and oxygen in the present invention has an atomic ratio of hydrogen atoms / carbon atoms of 0.05. Above, preferably 0.15 or more.
【0007】本発明に用いるポリアセン系骨格構造を有
する不溶不融性基体は、上述した炭素、水素及び酸素か
らなる芳香族系縮合ポリマ−、あるいは炭素、水素及び
酸素からなる芳香族系縮合ポリマ−の熱処理物であっ
て、水素原子/炭素原子の原子比が0.05以上である
基体をターゲットして、紫外レ−ザ−を用いたアブレー
ションにより生ずるフラグメントを基板状に堆積させる
ことにより得られる。アブレーションに用いる紫外レ−
ザ−(エキシマ−レ−ザ−)は、特に限定しないが、希
ガス−ハロゲンエキシマ−レ−ザ−が一般的であり、A
rFレ−ザ−(193nm)、KrClレ−ザ−(22
2nm)、KrFレ−ザ−(249nm)、XeClレ
−ザ−(308nm)等が挙げられる。この紫外レ−ザ
−の照射方法は、照射する基体、得ようとするポリアセ
ン系骨格構造を有する不溶不融性基体、あるいはその形
状により適宜選択されるが、例えば、照射出力は1mJ
/cm2 〜500mJ/cm2 、照射時間は0.1Hz
から30Hzで10秒から10時間、好ましくは、照射
出力は10mJ/cm2 〜100mJ/cm2 、照射時
間は0.5Hzから10Hzで30秒から2時間、で行
うことが有利である。このようにしてレーザーアブレー
ションにより生じるフラグメントは、基板上に推積され
る。これに用いる基板は特に限定しないが、例えばガラ
ス、アルミ、銅、ステンレス、白金、金等の金属板、ポ
リプロピレン、ポリエチレン等のポリマーのフィルムや
板、更には熱処理法に得られるポリアセン有機半導体
等、目的とする用途により選択される。そして、この堆
積用の基板は40℃〜500℃まで加熱して用いること
もできる。[0007] The insoluble and infusible substrate having a polyacene skeleton structure used in the present invention is an aromatic condensed polymer composed of carbon, hydrogen and oxygen, or an aromatic condensed polymer composed of carbon, hydrogen and oxygen. Which is obtained by depositing fragments produced by ablation using an ultraviolet laser on a substrate, targeting a substrate having an atomic ratio of hydrogen atoms / carbon atoms of 0.05 or more. . Ultraviolet ray used for ablation
The excimer laser is not particularly limited, but a rare gas-halogen excimer laser is generally used.
rF laser (193 nm), KrCl laser (22
2 nm), KrF laser (249 nm), XeCl laser (308 nm) and the like. The method of irradiating the ultraviolet laser is appropriately selected depending on the substrate to be irradiated, the insoluble and infusible substrate having a polyacene skeleton structure to be obtained, or the shape thereof. For example, the irradiation output is 1 mJ.
/ Cm 2 -500 mJ / cm 2 , irradiation time is 0.1 Hz
The irradiation power is advantageously from 10 mJ / cm 2 to 100 mJ / cm 2 , and the irradiation time is preferably from 0.5 Hz to 10 Hz and from 30 seconds to 2 hours. In this way, fragments generated by laser ablation are deposited on the substrate. The substrate used for this is not particularly limited, for example, glass, aluminum, copper, stainless steel, platinum, a metal plate such as gold, polypropylene, a film or plate of a polymer such as polyethylene, and a polyacene organic semiconductor obtained by a heat treatment method. It is selected according to the intended use. Then, the substrate for deposition can be heated to 40 ° C. to 500 ° C. for use.
【0008】本発明のポリアセン系骨格構造を有する不
溶不融性基体は、厚さ10μm以下で形成可能である。
また、2回以上の異なる条件でのアブレーション操作の
繰り返しにより、電気伝導度の異なる半導体接合フィル
ムも製造可能である。そして、この有機半導体の電気伝
導度は、10-12 S/cm以上102 S/cm以下であ
ることが好ましい。The insoluble and infusible substrate having a polyacene skeleton structure of the present invention can be formed with a thickness of 10 μm or less.
Further, by repeating the ablation operation two or more times under different conditions, it is possible to produce semiconductor bonding films having different electric conductivities. The electric conductivity of the organic semiconductor is preferably 10 −12 S / cm or more and 10 2 S / cm or less.
【0009】本発明の有機半導体の赤外吸収スペクトル
は、前述の如く各種基体上に形成された場合、ATR法
を用いて測定することができる。1180カイザ−〜1
280カイザ−の範囲の吸収ピ−クは、芳香環のC−H
結合の面内振動に起因し、1560カイザ−〜1640
カイザ−の範囲のピ−クは、芳香環の骨格変形に起因
し、紫外レ−ザ−照射により、1180カイザ−〜12
80カイザ−の範囲の吸収ピ−クの減少、あるいは15
60カイザ−〜1640カイザ−の範囲のピ−クの増加
が見られることから、本発明の有機半導体は縮合芳香環
が発達した、すなわちベンゼン環の共役系を構成する2
個の炭素間の結合を主な結合として有するポリアセン系
骨格構造を有すると理解される。The infrared absorption spectrum of the organic semiconductor of the present invention, when formed on various substrates as described above, can be measured by the ATR method. 1180 Kaiser-1
The absorption peak in the range of 280 Kaiser is the C—H of the aromatic ring.
Due to the in-plane vibration of the coupling, 1560 Kaiser to 1640
The peaks in the Kaiser range are due to deformation of the skeleton of the aromatic ring, and are irradiated with ultraviolet laser light from 1180 Kaiser to 12
Reduced absorption peak in the range of 80 Kaiser, or 15
Since an increase in peaks in the range of 60 to 1640 Kaiser is observed, the organic semiconductor of the present invention has developed a condensed aromatic ring, that is, 2 which constitutes a conjugated system of a benzene ring.
It is understood to have a polyacenic skeleton structure having a bond between carbon atoms as a main bond.
【0010】[0010]
【発明の効果】本発明の有機半導体は、芳香族系ポリマ
−、あるいは芳香族系ポリマ−の熱処理物を出発原料と
し、炭素原子間の共役系が発達したポリアセン系骨格構
造を有する不溶不融性基体である有機半導体である。そ
して、本発明によれば、容易に製造可能な極薄層有機半
導体、繊細パターンを有する有機半導体、極薄膜等の微
細形状を有する有機半導体が提供される。The organic semiconductor of the present invention is made of an aromatic polymer or a heat-treated aromatic polymer as a starting material, and has an insoluble infusible material having a polyacene skeleton structure in which a conjugated system between carbon atoms is developed. An organic semiconductor that is a conductive substrate. According to the present invention, an organic semiconductor having a minute shape such as an ultrathin layer organic semiconductor, an organic semiconductor having a delicate pattern, and an ultrathin film that can be easily manufactured is provided.
【0011】[0011]
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。The present invention will be specifically described below with reference to examples.
【0012】〔実施例1〕10-2Torr程度に排気し
たチャンバー内で厚さ500μmのフェノール樹脂板を
ターゲットとして、波長308nm(XeCl)のエキ
シマーレーザー光を出力20mJpluse-1で60分
間集光照射することによりアブレーションさせた。アブ
レーションによって生じたフラグメントをガラス基板上
に堆積させることにより、薄膜を得た。この際、基板温
度は20℃であった。該薄膜の電気伝導度は室温で10
-8S/cmであり、茶褐色を呈していた。図1にこの薄
膜のSEM写真を示す。この写真を見れば、厚さ0.5
μmの極めて緻密な薄膜が基板上に形成されていること
が判る。この薄膜に対してX線回析測定を行った結果2
θ=20°〜25°付近にかなりブロードな回析ピーク
を示し、膜の構造はアモルファスであった。この薄膜の
元素分析を行ったところ、水素原子/炭素原子の原子比
は0.51であった。Example 1 An excimer laser beam having a wavelength of 308 nm (XeCl) was irradiated for 60 minutes at an output of 20 mJplus -1 using a phenol resin plate having a thickness of 500 μm as a target in a chamber evacuated to about 10 −2 Torr. To ablate. A thin film was obtained by depositing fragments generated by ablation on a glass substrate. At this time, the substrate temperature was 20 ° C. The electrical conductivity of the thin film is 10 at room temperature.
-8 S / cm and brownish color. FIG. 1 shows an SEM photograph of this thin film. If you look at this picture, the thickness is 0.5
It can be seen that an extremely dense thin film of μm is formed on the substrate. Results of X-ray diffraction measurement of this thin film 2
A fairly broad diffraction peak was shown around θ = 20 ° to 25 °, and the structure of the film was amorphous. Elemental analysis of this thin film revealed that the atomic ratio of hydrogen atoms / carbon atoms was 0.51.
【0013】〔実施例2〕厚さ500μmのフェノール
樹脂板を窒素雰囲気下500℃で熱処理することによ
り、水素原子/炭素原子の原子比が0.46である不溶
不融性基体を得た。該不溶不融性基体をターゲットとし
て用いる以外は実施例1と同様にして、厚さ約1μmの
薄膜を得た。該薄膜の水素原子/炭素原子の原子比は
0.38であり、電気伝導度は2×10-5S/cmであ
った。Example 2 A phenol resin plate having a thickness of 500 μm was heat-treated at 500 ° C. in a nitrogen atmosphere to obtain an insoluble infusible substrate having an atomic ratio of hydrogen atoms / carbon atoms of 0.46. A thin film having a thickness of about 1 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the insoluble infusible substrate was used as a target. The atomic ratio of hydrogen atoms / carbon atoms of the thin film was 0.38, and the electric conductivity was 2 × 10 −5 S / cm.
【図1】 実施例1で得られた本発明半導体薄膜の電子
顕微鏡写真(20000倍)である。FIG. 1 is an electron micrograph (20,000 ×) of the semiconductor thin film of the present invention obtained in Example 1.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特許2968179(JP,B2) 特公 平1−44212(JP,B2) Appl.Phys.Lett.,65 (11),12 September 1994,pp.1370−1372 Appl.Phys.Lett.,62 (9),1 March 1993,pp. 1026−1028 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 51/00 C08G 81/10 C23C 14/12 H01L 21/203 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References Patent 2968179 (JP, B2) Japanese Patent Publication No. 1-44212 (JP, B2) Appl. Phys. Lett. , 65 (11), 12 September 1994, pp. 1370-1372 Appl. Phys. Lett. , 62 (9), 1 March 1993, pp. 1026-1028 (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 51/00 C08G 81/10 C23C 14/12 H01L 21/203
Claims (3)
縮合ポリマー、あるいは (2)炭素、水素及び酸素からなる芳香族系縮合ポリマ
ーの熱処理物であって水素原子/炭素原子の原子比が
0.05以上 、 である基体をターゲットとし、紫外レーザーを用いたア
ブレーションにより生じるフラグメントを基板上に堆積
されることにより得られる水素原子/炭素原子の原子比
が0.51〜0.05のとき、それに対応し電気伝導度
が10 -8 S/cm以上10 2 S/cm以下であることを
特徴とする有機半導体。1. An aromatic compound comprising (1) carbon, hydrogen and oxygen
A condensation polymer or (2) an aromatic condensation polymer comprising carbon, hydrogen and oxygen
-Heat-treated product with an atomic ratio of hydrogen atoms / carbon atoms
Atomic ratio of hydrogen atoms / carbon atoms obtained by depositing fragments generated by ablation using an ultraviolet laser on a substrate, targeting at a substrate of 0.05 or more
Is 0.51 to 0.05, the corresponding electrical conductivity
Is an organic semiconductor, which is 10 −8 S / cm or more and 10 2 S / cm or less .
を特徴とする請求項1記載の有機半導体。2. The organic semiconductor according to claim 1, wherein the thickness of the organic semiconductor is 10 μm or less.
縮合ポリマー、あるいは (2)炭素、水素及び酸素からなる芳香族系縮合ポリマ
ーの熱処理物であって水素原子/炭素原子の原子比が
0.05以上、 である基体をターゲットとし、紫外レーザーを用いたア
ブレーションにより生じるフラグメントを基板上に堆積
させて得る、ターゲットとは異なる有機半導体の製造方
法。 3. An aromatic compound comprising (1) carbon, hydrogen and oxygen
A condensation polymer or (2) an aromatic condensation polymer comprising carbon, hydrogen and oxygen
-Heat-treated product with an atomic ratio of hydrogen atoms / carbon atoms
A target using a substrate of 0.05 or more and an ultraviolet laser
Deposition of fragments generated by brazing on the substrate
How to produce an organic semiconductor different from the target
Law.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25921595A JP3218277B2 (en) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | Organic semiconductor and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP25921595A JP3218277B2 (en) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | Organic semiconductor and manufacturing method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0983041A JPH0983041A (en) | 1997-03-28 |
| JP3218277B2 true JP3218277B2 (en) | 2001-10-15 |
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ID=17331003
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| JP25921595A Expired - Fee Related JP3218277B2 (en) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | Organic semiconductor and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3218277B2 (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2968179B2 (en) | 1994-09-13 | 1999-10-25 | 鐘紡株式会社 | Organic semiconductor |
-
1995
- 1995-09-11 JP JP25921595A patent/JP3218277B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2968179B2 (en) | 1994-09-13 | 1999-10-25 | 鐘紡株式会社 | Organic semiconductor |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| Appl.Phys.Lett.,62(9),1 March 1993,pp.1026−1028 |
| Appl.Phys.Lett.,65(11),12 September 1994,pp.1370−1372 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0983041A (en) | 1997-03-28 |
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