JP3226998B2 - 二重シール容器構造 - Google Patents
二重シール容器構造Info
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- JP3226998B2 JP3226998B2 JP35099192A JP35099192A JP3226998B2 JP 3226998 B2 JP3226998 B2 JP 3226998B2 JP 35099192 A JP35099192 A JP 35099192A JP 35099192 A JP35099192 A JP 35099192A JP 3226998 B2 JP3226998 B2 JP 3226998B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置又は液
晶製造装置などにおける基板の保管や搬送に用いる容器
の構造に関する。
晶製造装置などにおける基板の保管や搬送に用いる容器
の構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置や液晶製造装置などにお
いて、ウエハやガラス基板などの基板を保管、搬送する
場合には、テフロンやプラスチックなどを素材としたキ
ャリアにこれらの基板を入れて、このキャリアを容器に
装填し、この容器を保管、搬送していた。かかる一般的
な構造の容器は、板状の蓋材の上にウエハなどの基板を
載置し、容器本体のフランジをシール材を介して上記蓋
材上に密着させ、密閉された内部空間に上記基板を収納
している。
いて、ウエハやガラス基板などの基板を保管、搬送する
場合には、テフロンやプラスチックなどを素材としたキ
ャリアにこれらの基板を入れて、このキャリアを容器に
装填し、この容器を保管、搬送していた。かかる一般的
な構造の容器は、板状の蓋材の上にウエハなどの基板を
載置し、容器本体のフランジをシール材を介して上記蓋
材上に密着させ、密閉された内部空間に上記基板を収納
している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、半導
体製造工程等においては分子レベルの汚染まで問題にす
るようになってきているため、より高度な清浄度で上記
容器を保管、搬送することが要求されている。ところ
が、上記のような構成の従来の容器の場合には、容器の
内部空間は外部雰囲気とのシールが必ずしも完全ではな
いため、収納された基板が分子レベルで汚染されること
があるという課題があった。
体製造工程等においては分子レベルの汚染まで問題にす
るようになってきているため、より高度な清浄度で上記
容器を保管、搬送することが要求されている。ところ
が、上記のような構成の従来の容器の場合には、容器の
内部空間は外部雰囲気とのシールが必ずしも完全ではな
いため、収納された基板が分子レベルで汚染されること
があるという課題があった。
【０００４】また、上記容器を直接保管、搬送していた
ため、この容器外表面が汚染され、そこから容器内の基
板が汚染されるという課題があった。
ため、この容器外表面が汚染され、そこから容器内の基
板が汚染されるという課題があった。
【０００５】本発明はかかる課題を解決するためになさ
れたもので、容器を保管、搬送するための周囲雰囲気が
ローレベルのクリーン度であっても、容器の外表面の清
浄さが保たれ、容器内の被収納物の汚染を防止すること
ができる二重シール容器構造を提供することを目的とす
る。
れたもので、容器を保管、搬送するための周囲雰囲気が
ローレベルのクリーン度であっても、容器の外表面の清
浄さが保たれ、容器内の被収納物の汚染を防止すること
ができる二重シール容器構造を提供することを目的とす
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明にかかる二重シー
ル容器構造は、被収納物を収納する容器本体と、この容
器本体にシール部材を介して密着して内部空間を密閉す
る蓋部材とを備えた容器を、更に、カバー部材にシール
部材を介して密閉された内部空間に配設したものであ
る。
ル容器構造は、被収納物を収納する容器本体と、この容
器本体にシール部材を介して密着して内部空間を密閉す
る蓋部材とを備えた容器を、更に、カバー部材にシール
部材を介して密閉された内部空間に配設したものであ
る。
【０００７】なお、上記容器の内部空間及び上記カバー
部材の内部空間を、真空状態及び清浄な不活性ガスの充
満状態のいずれかの状態にするものである。
部材の内部空間を、真空状態及び清浄な不活性ガスの充
満状態のいずれかの状態にするものである。
【０００８】また、上記容器のシール部材による密着部
を、更にシールされた密閉構造のカバー部材により覆う
ものである。
を、更にシールされた密閉構造のカバー部材により覆う
ものである。
【０００９】
【作用】本発明においては、被収納物が密閉収納された
容器を、更に密閉構造のカバー部材の内部空間に配設し
ているので、カバー部材の外表面が周囲雰囲気に直接触
れることとなり、内部空間に配設された容器の外表面が
周囲雰囲気により汚染されることはない。
容器を、更に密閉構造のカバー部材の内部空間に配設し
ているので、カバー部材の外表面が周囲雰囲気に直接触
れることとなり、内部空間に配設された容器の外表面が
周囲雰囲気により汚染されることはない。
【００１０】
【実施例】以下、本発明に係る二重シール容器構造の一
実施例を図１乃至図４に基づいて説明する。
実施例を図１乃至図４に基づいて説明する。
【００１１】図１は本発明の第１実施例にかかる二重シ
ール容器構造の正面断面図、図２は図１の二重シール容
器構造に収納される容器の正面断面図である。
ール容器構造の正面断面図、図２は図１の二重シール容
器構造に収納される容器の正面断面図である。
【００１２】図２に示すように、容器１は、被収納物と
してのウエハやガラス基板などの基板２を収納する容器
本体３と、この容器本体３に弾性を有する円環状のＯリ
ング等のシール部材４を介して密着して内部空間５を密
閉する蓋部材６とを備えている。この場合、上記基板２
は、蓋部材６上に載置されている。シール部材４の下面
が密着する蓋部材６は円板状をなしており、またシール
部材４の上面が密着する断面円形のフランジ７は、有底
筒状の容器本体３に一体的に取付けられている。
してのウエハやガラス基板などの基板２を収納する容器
本体３と、この容器本体３に弾性を有する円環状のＯリ
ング等のシール部材４を介して密着して内部空間５を密
閉する蓋部材６とを備えている。この場合、上記基板２
は、蓋部材６上に載置されている。シール部材４の下面
が密着する蓋部材６は円板状をなしており、またシール
部材４の上面が密着する断面円形のフランジ７は、有底
筒状の容器本体３に一体的に取付けられている。
【００１３】内部空間５は、真空状態または清浄な不活
性ガスの充満状態になっている。この不活性ガスとして
は窒素ガスまたはアルゴンガス等が用いられる。
性ガスの充満状態になっている。この不活性ガスとして
は窒素ガスまたはアルゴンガス等が用いられる。
【００１４】図１は、上記容器１を固定式のステーショ
ンに設置した場合を示している。図に示すように、二重
シール容器１０は、内部空間５が真空状態または清浄な
不活性ガスの充満状態になっている容器１を、密閉構造
のカバー部材１１の内部空間１５に配設して構成されて
いる。
ンに設置した場合を示している。図に示すように、二重
シール容器１０は、内部空間５が真空状態または清浄な
不活性ガスの充満状態になっている容器１を、密閉構造
のカバー部材１１の内部空間１５に配設して構成されて
いる。
【００１５】カバー部材１１は、所定位置に固定された
板状の台板１２と、この台板１２上に弾性を有する円環
状のＯリング等の外部シール部材１３を介して密着して
取付けられた外カバー１４と、この外カバー１４の内部
であって且つ容器１の外部である内部空間１５を真空引
きするための真空ポンプ１６とを備えている。容器１
は、台板１２上に複数個設置された支持片１７により支
持されている。
板状の台板１２と、この台板１２上に弾性を有する円環
状のＯリング等の外部シール部材１３を介して密着して
取付けられた外カバー１４と、この外カバー１４の内部
であって且つ容器１の外部である内部空間１５を真空引
きするための真空ポンプ１６とを備えている。容器１
は、台板１２上に複数個設置された支持片１７により支
持されている。
【００１６】真空ポンプ１６は、台板１２に固定された
開閉バルブ１８を介して台板１２の下面側に固定されて
いる。真空ポンプ１６は、この開閉バルブ１８と、台板
１２に形成された貫通孔１９と、支持片１７により形成
された台板１２と蓋部材６との間の隙間２０とを介して
内部空間１５に連通している。また、外カバー１４に
は、開操作をすることにより内部空間１５の真空を破壊
するリークバルブ２３が取付けられている。
開閉バルブ１８を介して台板１２の下面側に固定されて
いる。真空ポンプ１６は、この開閉バルブ１８と、台板
１２に形成された貫通孔１９と、支持片１７により形成
された台板１２と蓋部材６との間の隙間２０とを介して
内部空間１５に連通している。また、外カバー１４に
は、開操作をすることにより内部空間１５の真空を破壊
するリークバルブ２３が取付けられている。
【００１７】次に、上記構成の二重シール容器１０によ
り基板２を保管、搬送する場合について説明する。先ず
最初に、予め容器１の内部空間５を真空状態又は清浄な
不活性ガスの充満状態にするとともに基板２を内部に収
納し、この容器１を台板１２上に支持片１７を介して載
置する。次いで、容器１を覆うように、外カバー１４を
台板１２上に外部シール部材１３を介して密着させる。
次いで、リークバルブ２３を閉じ、開閉バルブ１８を開
けた状態で真空ポンプ１６をＯＮする。すると、内部空
間１５内の空気は隙間２０、貫通孔１９、開閉バルブ１
８及び真空ポンプ１６を介して外部に排出され、やがて
内部空間１５は真空状態となる。この状態で開閉バルブ
１８を閉じるとともに真空ポンプ１６をＯＦＦして、二
重シール容器１０を保管、搬送することとなる。
り基板２を保管、搬送する場合について説明する。先ず
最初に、予め容器１の内部空間５を真空状態又は清浄な
不活性ガスの充満状態にするとともに基板２を内部に収
納し、この容器１を台板１２上に支持片１７を介して載
置する。次いで、容器１を覆うように、外カバー１４を
台板１２上に外部シール部材１３を介して密着させる。
次いで、リークバルブ２３を閉じ、開閉バルブ１８を開
けた状態で真空ポンプ１６をＯＮする。すると、内部空
間１５内の空気は隙間２０、貫通孔１９、開閉バルブ１
８及び真空ポンプ１６を介して外部に排出され、やがて
内部空間１５は真空状態となる。この状態で開閉バルブ
１８を閉じるとともに真空ポンプ１６をＯＦＦして、二
重シール容器１０を保管、搬送することとなる。
【００１８】カバー部材１１の外部の周囲雰囲気２１が
ローレベルのクリーン度であった場合には、外カバー１
４の外表面４ａは汚染されるが、容器１の外表面１ａは
周囲雰囲気２１に直接には接触しないので汚染されず清
浄状態が保持される。
ローレベルのクリーン度であった場合には、外カバー１
４の外表面４ａは汚染されるが、容器１の外表面１ａは
周囲雰囲気２１に直接には接触しないので汚染されず清
浄状態が保持される。
【００１９】また、内部空間１５が真空状態なので、容
器１の内部空間５が不活性ガスの場合には、この内部空
間５に不純な分子が侵入することはなく、容器１の内部
の分子レベルでの清浄度が保持される。
器１の内部空間５が不活性ガスの場合には、この内部空
間５に不純な分子が侵入することはなく、容器１の内部
の分子レベルでの清浄度が保持される。
【００２０】このほか、内部空間５が真空である場合に
は、内部空間１５も真空であるため、容器１の蓋部材６
のフランジ７に対する押し付け力は弱くなるが、この内
部空間１５の真空度が低下してくるまでは容器１の内部
空間５の真空度を維持することが可能となる。
は、内部空間１５も真空であるため、容器１の蓋部材６
のフランジ７に対する押し付け力は弱くなるが、この内
部空間１５の真空度が低下してくるまでは容器１の内部
空間５の真空度を維持することが可能となる。
【００２１】ところで、二重シール容器１０は、図１に
示すような、固定式のステーションとしてもよいが、固
定式の台板１２の代わりに円板状の蓋を外部シール部材
１３を介して外カバー１４のフランジ２２に取付ければ
携帯可能となる。
示すような、固定式のステーションとしてもよいが、固
定式の台板１２の代わりに円板状の蓋を外部シール部材
１３を介して外カバー１４のフランジ２２に取付ければ
携帯可能となる。
【００２２】なお、図１のような固定式のステーション
を用いて真空ポンプ１６により内部空間１５の真空引き
を常時行えば、さらに容器１内の内部空間５の真空状態
は長期に渡り維持され、容器の外表面１ａと基板２の清
浄度は長期間維持可能となる。
を用いて真空ポンプ１６により内部空間１５の真空引き
を常時行えば、さらに容器１内の内部空間５の真空状態
は長期に渡り維持され、容器の外表面１ａと基板２の清
浄度は長期間維持可能となる。
【００２３】このように、内部空間１５は真空状態とな
るので、外カバー１４のフランジ部２２と台板１２との
密着部には大気圧による押し付け力が作用し、これによ
り密着部は密着される。これに対して、容器１のフラン
ジ７と蓋部材６との密着部４ａには大気圧による押圧力
がかからないので、クランプ又はボルト締め等によりフ
ランジ７と蓋部材６とを締付ける必要があるが、容器１
の自重でシールすることも可能である。
るので、外カバー１４のフランジ部２２と台板１２との
密着部には大気圧による押し付け力が作用し、これによ
り密着部は密着される。これに対して、容器１のフラン
ジ７と蓋部材６との密着部４ａには大気圧による押圧力
がかからないので、クランプ又はボルト締め等によりフ
ランジ７と蓋部材６とを締付ける必要があるが、容器１
の自重でシールすることも可能である。
【００２４】図３は本発明の第２実施例を示す図で、カ
バー部材の内部空間１５に清浄な不活性ガスを充填した
場合の携帯式構造の二重シール容器１０を示している。
なお、容器１の内部空間５が真空状態又は清浄な不活性
ガスの充満状態になっていることは上記第１実施例と同
様である。
バー部材の内部空間１５に清浄な不活性ガスを充填した
場合の携帯式構造の二重シール容器１０を示している。
なお、容器１の内部空間５が真空状態又は清浄な不活性
ガスの充満状態になっていることは上記第１実施例と同
様である。
【００２５】まず、第１実施例と同様な構成の容器１を
カバー部材３０の円板状の蓋材３１上に載置する。次
に、弾性を有する円環状の外部シール部材３２を介して
外カバー３３を容器１に被せる。外カバー３３のフラン
ジ３４と蓋材３１とはクランプ又はボルト締めなどによ
り締め付ける。そして、外カバー３３に設けられた不活
性ガス供給バルブ３５を開けてここから清浄な不活性ガ
スを内部空間１５内に充満させ、この状態で二重シール
容器１０を保管、搬送する。
カバー部材３０の円板状の蓋材３１上に載置する。次
に、弾性を有する円環状の外部シール部材３２を介して
外カバー３３を容器１に被せる。外カバー３３のフラン
ジ３４と蓋材３１とはクランプ又はボルト締めなどによ
り締め付ける。そして、外カバー３３に設けられた不活
性ガス供給バルブ３５を開けてここから清浄な不活性ガ
スを内部空間１５内に充満させ、この状態で二重シール
容器１０を保管、搬送する。
【００２６】したがって、容器１の内部空間５が真空の
場合には、シール部材４に漏れがあったとしても、周囲
雰囲気２１の酸素や水分などはカバー部材３０により遮
断されるので、容器１内には侵入しないこととなり、容
器１の外表面１ａ及び基板２の清浄度の維持が図れる。
このほか、内部空間５が清浄な不活性ガスである場合に
は、内部空間１５にも清浄な不活性ガスが充満している
ので両空間５，１５内のそれぞれのガスが容器１のフラ
ンジ７と蓋部材６との間の密着部４ａを通って置換した
としても容器１が汚染されることはなく、やはり容器の
外表面１ａ及び基板２の分子レベルでの清浄度は維持さ
れる。
場合には、シール部材４に漏れがあったとしても、周囲
雰囲気２１の酸素や水分などはカバー部材３０により遮
断されるので、容器１内には侵入しないこととなり、容
器１の外表面１ａ及び基板２の清浄度の維持が図れる。
このほか、内部空間５が清浄な不活性ガスである場合に
は、内部空間１５にも清浄な不活性ガスが充満している
ので両空間５，１５内のそれぞれのガスが容器１のフラ
ンジ７と蓋部材６との間の密着部４ａを通って置換した
としても容器１が汚染されることはなく、やはり容器の
外表面１ａ及び基板２の分子レベルでの清浄度は維持さ
れる。
【００２７】なお、本第２実施例では非固定式の蓋材３
１を用いたので、この二重シール容器１０は携帯可能な
構造になっている。
１を用いたので、この二重シール容器１０は携帯可能な
構造になっている。
【００２８】図４は本発明の第３実施例を示す図で、図
２に示す構造の容器１の密着部４ａをカバー部材４０
を、更にシール部材４２により密閉した場合の二重シー
ル容器１０を示している。カバー部材４０は、容器１の
容器本体３に固定された外カバー４１と、弾性を有する
円環状の外部シール部材４２，４３を介して外カバー４
１及び蓋部材６にそれぞれ密着している蓋材４４とを備
えている。外カバー４１の内部空間４５は、真空状態ま
たは清浄な不活性ガスの充満状態にすることができるよ
うになっている。このように、容器１を二重にシールし
たので、密着部４ａにたとえ漏れがあったとしても容器
１の内部空間５が周囲雰囲気２１により直接に汚染され
ることはない。
２に示す構造の容器１の密着部４ａをカバー部材４０
を、更にシール部材４２により密閉した場合の二重シー
ル容器１０を示している。カバー部材４０は、容器１の
容器本体３に固定された外カバー４１と、弾性を有する
円環状の外部シール部材４２，４３を介して外カバー４
１及び蓋部材６にそれぞれ密着している蓋材４４とを備
えている。外カバー４１の内部空間４５は、真空状態ま
たは清浄な不活性ガスの充満状態にすることができるよ
うになっている。このように、容器１を二重にシールし
たので、密着部４ａにたとえ漏れがあったとしても容器
１の内部空間５が周囲雰囲気２１により直接に汚染され
ることはない。
【００２９】なお、各図中同一符号は同一または相当部
分を示す。
分を示す。
【００３０】
【発明の効果】本発明にかかる二重シール容器構造は上
記のように構成したので、保管、搬送の周囲雰囲気がロ
ーレベルのクリーン度であっても、カバー部材により汚
染を遮断することができ、容器の外表面の清浄さが保た
れるとともに容器内の被収納物の汚染を防止することが
できる。
記のように構成したので、保管、搬送の周囲雰囲気がロ
ーレベルのクリーン度であっても、カバー部材により汚
染を遮断することができ、容器の外表面の清浄さが保た
れるとともに容器内の被収納物の汚染を防止することが
できる。
【図１】図１乃至図４は本発明にかかる二重シール容器
構造の一実施例を示す図で、図１は第１実施例にかかる
二重シール容器構造の正面断面図である。
構造の一実施例を示す図で、図１は第１実施例にかかる
二重シール容器構造の正面断面図である。
【図２】図１の二重シール容器構造に収納される容器の
正面断面図である。
正面断面図である。
【図３】第２実施例にかかる二重シール容器構造の正面
断面図である。
断面図である。
【図４】第３実施例にかかる二重シール容器構造の部分
断面図である。
断面図である。
１ 容器 ２ 基板（被収納物） ３ 容器本体 ４，１３，３２，４２ シール部材 ４ａ 密着部 ５ 内部空間 ６ 蓋部材 １０ 二重シール容器 １１，３０，４０ カバー部材 １５，４５ 内部空間
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−294766（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−282087（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−179146（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−256868（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−153472（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−65152（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−294472（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−291166（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−234949（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B65D 81/20 H01L 21/68
Claims (3)
- 【請求項１】 被収納物を収納する容器本体と、この容
器本体にシール部材を介して密着して内部空間を密閉す
る蓋部材とを備えた容器を、更に、カバー部材にシール
部材を介して密閉された内部空間に配設したことを特徴
とする二重シール容器構造。 - 【請求項２】 上記容器の内部空間及び上記カバー部材
の内部空間を、真空状態及び清浄な不活性ガスの充満状
態のいずれかの状態にしたことを特徴とする請求項１記
載の二重シール容器構造。 - 【請求項３】 被収納物を収納する容器本体と、この容
器本体にシール部材を介して密着して内部空間を密閉す
る蓋部材とを備えた容器の密着部を、更に上記容器本体
に固着されたカバー部材にシール部材を介して密閉され
た内部空間に配設したことを特徴とする二重シール容器
構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35099192A JP3226998B2 (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | 二重シール容器構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35099192A JP3226998B2 (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | 二重シール容器構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06179472A JPH06179472A (ja) | 1994-06-28 |
| JP3226998B2 true JP3226998B2 (ja) | 2001-11-12 |
Family
ID=18414297
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35099192A Expired - Fee Related JP3226998B2 (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | 二重シール容器構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3226998B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20100102616A (ko) * | 2007-12-18 | 2010-09-24 | 인티그리스, 인코포레이티드 | 기판의 오염물을 제어하기 위한 방법 및 장치 |
| JP5503389B2 (ja) * | 2010-04-16 | 2014-05-28 | 株式会社ダン・タクマ | 保管システムおよび保管方法 |
| US10090179B2 (en) * | 2011-06-28 | 2018-10-02 | Brooks Automation, Inc. | Semiconductor stocker systems and methods |
| WO2014116681A2 (en) | 2013-01-22 | 2014-07-31 | Brooks Automation, Inc. | Substrate transport |
| CN117022888B (zh) * | 2023-08-17 | 2025-06-03 | 国网安徽省电力有限公司 | 一种电力仪表存储设备 |
-
1992
- 1992-12-04 JP JP35099192A patent/JP3226998B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06179472A (ja) | 1994-06-28 |
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