JP3229708B2 - プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法Info
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- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に係わるもの
であり、詳しくはＰＤＰにおけるライン状障壁の形成方
法に関するものである。
パネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に係わるもの
であり、詳しくはＰＤＰにおけるライン状障壁の形成方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＰＤＰにおける障壁の形成方法と
しては、ガラス基板上にガラスペーストをスクリーン印
刷によりパターン状に重ねて印刷を行い、このペースト
を乾燥、焼成して所望の障壁を形成する方法が一般的で
あったが、この方法は工程が複雑であると共に良好な線
幅精度が得られ難いことから、最近では、ガラス基板上
にガラスペーストを所定の厚さで塗布して乾燥させ、そ
の上に耐サブトラクティブ性を有するマスク層をパター
ン状に形成してから、このサブトラクティブ用マスク層
を介してサンドブラストや液体ホーニングにより所望パ
ターンの障壁を形成する所謂サブトラクティブ加工法に
よる障壁の形成方法が提案されている。
しては、ガラス基板上にガラスペーストをスクリーン印
刷によりパターン状に重ねて印刷を行い、このペースト
を乾燥、焼成して所望の障壁を形成する方法が一般的で
あったが、この方法は工程が複雑であると共に良好な線
幅精度が得られ難いことから、最近では、ガラス基板上
にガラスペーストを所定の厚さで塗布して乾燥させ、そ
の上に耐サブトラクティブ性を有するマスク層をパター
ン状に形成してから、このサブトラクティブ用マスク層
を介してサンドブラストや液体ホーニングにより所望パ
ターンの障壁を形成する所謂サブトラクティブ加工法に
よる障壁の形成方法が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記したサブトラクテ
ィブ加工法によりライン状の障壁を形成する場合、通常
は図１の（ａ）に示すように、ガラス基板１上に障壁用
のガラスペースト２を塗布して乾燥させ、その上に一定
幅のサブトラクティブ用マスク層３を形成している。こ
の形状をしたマスク層３を介してサブトラクティブ加工
を行うと、マスク層３の端部を除くところでは両脇から
しかガラスペースト２が研削されないのに比べ、マスク
層３の端部では研削が進むため（ｂ）に示すように障壁
２ａの端部における形状が逆台形状となり、所望の障壁
パターンを得ようと更に研削を行うと徐々にライン端部
の障壁幅が細くなり、ついには（ｃ）に示すようにマス
ク層３の剥離が起こり、剥離した部分の障壁２ａは研削
が進むため所望パターンの障壁が得られないという問題
点があった。
ィブ加工法によりライン状の障壁を形成する場合、通常
は図１の（ａ）に示すように、ガラス基板１上に障壁用
のガラスペースト２を塗布して乾燥させ、その上に一定
幅のサブトラクティブ用マスク層３を形成している。こ
の形状をしたマスク層３を介してサブトラクティブ加工
を行うと、マスク層３の端部を除くところでは両脇から
しかガラスペースト２が研削されないのに比べ、マスク
層３の端部では研削が進むため（ｂ）に示すように障壁
２ａの端部における形状が逆台形状となり、所望の障壁
パターンを得ようと更に研削を行うと徐々にライン端部
の障壁幅が細くなり、ついには（ｃ）に示すようにマス
ク層３の剥離が起こり、剥離した部分の障壁２ａは研削
が進むため所望パターンの障壁が得られないという問題
点があった。
【０００４】本発明は、上記のような問題点に鑑みなさ
れたものであり、その目的とするところは、サブトラク
ティブ加工時にマスク層の剥離を起こすことなく所望パ
ターンの障壁が形成できるＰＤＰの障壁形成方法を提供
することにある。
れたものであり、その目的とするところは、サブトラク
ティブ加工時にマスク層の剥離を起こすことなく所望パ
ターンの障壁が形成できるＰＤＰの障壁形成方法を提供
することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のＰＤＰの障壁形成方法は、ガラス基板上に
障壁用のガラスペーストを所定の厚さで塗布して乾燥さ
せ、その上にライン状のサブトラクティブ用マスク層を
形成した後、該サブトラクティブ用マスク層を介しての
サブトラクティブ加工によりライン状の障壁を形成する
ＰＤＰの障壁形成方法において、前記サブトラクティブ
用マスク層における端部の幅を広くすることを特徴とし
ており、この場合のサブトラクティブ加工はサンドブラ
ストを用いるものであっても液体ホーニングを用いるも
のであってもよい。
に、本発明のＰＤＰの障壁形成方法は、ガラス基板上に
障壁用のガラスペーストを所定の厚さで塗布して乾燥さ
せ、その上にライン状のサブトラクティブ用マスク層を
形成した後、該サブトラクティブ用マスク層を介しての
サブトラクティブ加工によりライン状の障壁を形成する
ＰＤＰの障壁形成方法において、前記サブトラクティブ
用マスク層における端部の幅を広くすることを特徴とし
ており、この場合のサブトラクティブ加工はサンドブラ
ストを用いるものであっても液体ホーニングを用いるも
のであってもよい。
【０００６】そして、上記サブトラクティブ用マスク層
はフォトレジストを用いてフォトリソ法により形成する
ことができる。
はフォトレジストを用いてフォトリソ法により形成する
ことができる。
【０００７】
【作用】上述の構成からなる障壁形成方法では、サブト
ラクティブ用マスク層がその端部の広い部分でガラスペ
ーストと密着しているため、サブトラクティブ加工時に
マスク層の端部の下側に位置するガラスペーストの研削
が進んでもそこから剥離が起こるのが防止される。
ラクティブ用マスク層がその端部の広い部分でガラスペ
ーストと密着しているため、サブトラクティブ加工時に
マスク層の端部の下側に位置するガラスペーストの研削
が進んでもそこから剥離が起こるのが防止される。
【０００８】
【実施例】以下、図２及び図３を参照しながら本発明の
実施例を説明する。
実施例を説明する。
【０００９】まず、電極を形成したガラス基板１の上に
ブレードコーター或いはスクリーン印刷により膜厚１５
０μｍで障壁用のガラスペースト２を塗布して乾燥させ
る。次いでその上にジアゾニウム塩添加ＰＶＡをスピン
ナー、ローラーコーター等で膜厚１０〜１５μｍに塗布
し、室温で乾燥させた後、マスクパターンを介して露光
を行った。露光条件は、３６５ｎｍで測定した時に強度
７００μＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 であ
る。露光後、水に１〜２分浸漬してからスプレー現像を
行って、図２に示すように、ガラスペースト２上にサブ
トラクティブ用マスク層３を形成した。本実施例では、
マスク層３を３００μｍピッチ（ライン幅１００μｍ、
スペース幅２００μｍ）で設けるとともに、その両端の
幅を１６０μｍとして台形状に広くした。
ブレードコーター或いはスクリーン印刷により膜厚１５
０μｍで障壁用のガラスペースト２を塗布して乾燥させ
る。次いでその上にジアゾニウム塩添加ＰＶＡをスピン
ナー、ローラーコーター等で膜厚１０〜１５μｍに塗布
し、室温で乾燥させた後、マスクパターンを介して露光
を行った。露光条件は、３６５ｎｍで測定した時に強度
７００μＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 であ
る。露光後、水に１〜２分浸漬してからスプレー現像を
行って、図２に示すように、ガラスペースト２上にサブ
トラクティブ用マスク層３を形成した。本実施例では、
マスク層３を３００μｍピッチ（ライン幅１００μｍ、
スペース幅２００μｍ）で設けるとともに、その両端の
幅を１６０μｍとして台形状に広くした。
【００１０】その後、研磨材としてアルミナ♯１０００
を用い、噴射圧力３ｋｇｆ／ｃｍ2、ノズルと基板１の
距離１８５ｍｍ、スキャン速度３０ｍｍ／ｓｅｃの条件
でサンドブラストすることによりガラスペースト２の不
要部分を除去し、図３に示すようにマスク層３の下に障
壁２ａを残した。このサンドブラスト加工中においてマ
スク層３が剥離することなく、ガラスペースト２に密着
した状態でサンドブラスト加工が行えた。続いて、マス
ク層３を剥離材で除去し、これとは別に電極及び蛍光層
を形成した前面板と合わせてＰＤＰを作製し良好な結果
を得た。
を用い、噴射圧力３ｋｇｆ／ｃｍ2、ノズルと基板１の
距離１８５ｍｍ、スキャン速度３０ｍｍ／ｓｅｃの条件
でサンドブラストすることによりガラスペースト２の不
要部分を除去し、図３に示すようにマスク層３の下に障
壁２ａを残した。このサンドブラスト加工中においてマ
スク層３が剥離することなく、ガラスペースト２に密着
した状態でサンドブラスト加工が行えた。続いて、マス
ク層３を剥離材で除去し、これとは別に電極及び蛍光層
を形成した前面板と合わせてＰＤＰを作製し良好な結果
を得た。
【００１１】なお、上記実施例では、サブトラクティブ
用マスク層３の両端を台形状に広くした例を挙げたが、
例えば図４に示すように湾曲状に広くしてもよく、要は
サブトラクティブ加工時に剥離を起こさないように広い
密着領域を持つ形状でありさえすれば任意の形状を採る
ことができる。
用マスク層３の両端を台形状に広くした例を挙げたが、
例えば図４に示すように湾曲状に広くしてもよく、要は
サブトラクティブ加工時に剥離を起こさないように広い
密着領域を持つ形状でありさえすれば任意の形状を採る
ことができる。
【００１２】本発明において、サブトラクティブ用マス
ク層を形成する材料であるフォトレジストとしては、上
記実施例に挙げたものの他に、ＯＳＢＲと称されるネガ
型の液体レジストをはじめとして以下に述べる種々の感
光性樹脂を使用できる。
ク層を形成する材料であるフォトレジストとしては、上
記実施例に挙げたものの他に、ＯＳＢＲと称されるネガ
型の液体レジストをはじめとして以下に述べる種々の感
光性樹脂を使用できる。
【００１３】例えば、水溶性樹脂マトリックス及び光重
合性多官能モノマーを主成分として含有する感光性樹脂
を使用することができる。この水溶性樹脂マトリックス
としては、ポリビニールアルコール−ポリ酢酸ビニル−
クロトン酸共重合体の部分ケン化物、ポリビニールアル
コール−ポリ酢酸ビニル−メタクリル酸、アルコール可
溶性ナイロンを用いることができ、一方、光重合性多官
能モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、テトラアクリレート、メタアクリレートを用い
ることができる。そして、この種の感光性樹脂を使用し
た場合には、サブトラクティブ加工後、過ヨウ素酸ナト
リウム水溶液でマスク層を剥離するものである。
合性多官能モノマーを主成分として含有する感光性樹脂
を使用することができる。この水溶性樹脂マトリックス
としては、ポリビニールアルコール−ポリ酢酸ビニル−
クロトン酸共重合体の部分ケン化物、ポリビニールアル
コール−ポリ酢酸ビニル−メタクリル酸、アルコール可
溶性ナイロンを用いることができ、一方、光重合性多官
能モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、テトラアクリレート、メタアクリレートを用い
ることができる。そして、この種の感光性樹脂を使用し
た場合には、サブトラクティブ加工後、過ヨウ素酸ナト
リウム水溶液でマスク層を剥離するものである。
【００１４】また、ポリビニールアルコール、ポリ酢酸
ビニルエマルジョン及びジアゾ樹脂を主成分として含有
する感光性樹脂、或いは、感光性ポリビニールアルコー
ル、ポリビニールアルコール及びポリ酢酸ビニルエマル
ジョンを主成分として含有する感光性樹脂を使用するこ
とができる。前者の場合、例えば、ポリビニールアルコ
ールを１０重量部、ポリ酢酸ビニルエマルジョンを固形
分５０％で２０〜６０重量部、ジアゾ樹脂を０．５〜
１．５重量部の割合で配合したものを用いるとよい。後
者の場合、感光性ポリビニールアルコールとしては、ポ
リアルコールの水酸基の一部にフォルミルスチリルピリ
ジニウム基（スチルバリゾリウム基）を有するものを用
いることができる。そして、これらの感光性樹脂を使用
した場合には、サブトラクティブ加工後、次亜塩素酸ソ
ーダ、過ハロゲン酸水溶液でマスク層を剥離するもので
ある。
ビニルエマルジョン及びジアゾ樹脂を主成分として含有
する感光性樹脂、或いは、感光性ポリビニールアルコー
ル、ポリビニールアルコール及びポリ酢酸ビニルエマル
ジョンを主成分として含有する感光性樹脂を使用するこ
とができる。前者の場合、例えば、ポリビニールアルコ
ールを１０重量部、ポリ酢酸ビニルエマルジョンを固形
分５０％で２０〜６０重量部、ジアゾ樹脂を０．５〜
１．５重量部の割合で配合したものを用いるとよい。後
者の場合、感光性ポリビニールアルコールとしては、ポ
リアルコールの水酸基の一部にフォルミルスチリルピリ
ジニウム基（スチルバリゾリウム基）を有するものを用
いることができる。そして、これらの感光性樹脂を使用
した場合には、サブトラクティブ加工後、次亜塩素酸ソ
ーダ、過ハロゲン酸水溶液でマスク層を剥離するもので
ある。
【００１５】また、ゼラチン、アクリルアミド誘導体及
びレドックス光重合開始剤を主成分として含有する感光
性樹脂を使用することができる。このアクリルアミド重
合体としては、アクリルアミド又はＮ，Ｎ’−メチレン
ビスアクリルアミドを用いることができ、レドックス光
重合開始剤としては、クエン酸鉄(III) アンモニウム又
はしゅう酸鉄(III) アンモニウムを用いることができ
る。そして、この感光性樹脂を使用した場合には、サブ
トラクティブ加工後、蛋白質分解酵素でマスク層を剥離
するものである。
びレドックス光重合開始剤を主成分として含有する感光
性樹脂を使用することができる。このアクリルアミド重
合体としては、アクリルアミド又はＮ，Ｎ’−メチレン
ビスアクリルアミドを用いることができ、レドックス光
重合開始剤としては、クエン酸鉄(III) アンモニウム又
はしゅう酸鉄(III) アンモニウムを用いることができ
る。そして、この感光性樹脂を使用した場合には、サブ
トラクティブ加工後、蛋白質分解酵素でマスク層を剥離
するものである。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、ガラス
基板上に障壁用のガラスペーストを所定の厚さで塗布し
て乾燥させ、その上にライン状のサブトラクティブ用マ
スク層を形成した後、該サブトラクティブ用マスク層を
介してのサブトラクティブ加工によりライン状の障壁を
形成するＰＤＰの障壁形成方法において、前記サブトラ
クティブ用マスク層における端部の幅を広くするように
したので、サブトラクティブ加工時にマスク層の端部の
下側に位置するガラスペーストの研削が進んでもそこか
ら剥離を起こすことなく、マスク層全体がガラスペース
トに密着した状態を維持してサブトラクティブ加工が行
われることから、良好なパターンの障壁を形成すること
ができる。
基板上に障壁用のガラスペーストを所定の厚さで塗布し
て乾燥させ、その上にライン状のサブトラクティブ用マ
スク層を形成した後、該サブトラクティブ用マスク層を
介してのサブトラクティブ加工によりライン状の障壁を
形成するＰＤＰの障壁形成方法において、前記サブトラ
クティブ用マスク層における端部の幅を広くするように
したので、サブトラクティブ加工時にマスク層の端部の
下側に位置するガラスペーストの研削が進んでもそこか
ら剥離を起こすことなく、マスク層全体がガラスペース
トに密着した状態を維持してサブトラクティブ加工が行
われることから、良好なパターンの障壁を形成すること
ができる。
【図１】サブトラクティブ加工による従来の障壁形成方
法を示す工程図である。
法を示す工程図である。
【図２】サブトラクティブ用マスク層を形成した状態を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図３】サンドブラスト加工を施した状態を示す斜視図
である。
である。
【図４】別形状のサブトラクティブ用マスク層を形成し
た状態を示す斜視図である。
た状態を示す斜視図である。
１ ガラス基板 ２ ガラスペースト ２ａ 障壁 ３ サブトラクティブ用マスク層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01J 9/02 H01J 11/02
Claims (4)
- 【請求項１】 ガラス基板上に障壁用のガラスペースト
を所定の厚さで塗布して乾燥させ、その上にライン状の
サブトラクティブ用マスク層を形成した後、該サブトラ
クティブ用マスク層を介してのサブトラクティブ加工に
よりライン状の障壁を形成するプラズマディスプレイパ
ネルの障壁形成方法において、前記サブトラクティブ用
マスク層における端部の幅を広くすることを特徴とする
プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法。 - 【請求項２】 サブトラクティブ加工にサンドブラスト
を用いることを特徴とする請求項１記載のプラズマディ
スプレイパネルの障壁形成方法。 - 【請求項３】 サブトラクティブ加工に液体ホーニング
を用いることを特徴とする請求項１記載のプラズマディ
スプレイパネルの障壁形成方法。 - 【請求項４】 サブトラクティブ用マスク層を形成する
材料としてフォトレジストを用いることを特徴とする請
求項１，２又は３記載のプラズマディスプレイパネルの
障壁形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12483193A JP3229708B2 (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12483193A JP3229708B2 (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06314542A JPH06314542A (ja) | 1994-11-08 |
| JP3229708B2 true JP3229708B2 (ja) | 2001-11-19 |
Family
ID=14895181
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12483193A Expired - Fee Related JP3229708B2 (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3229708B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3624992B2 (ja) * | 1996-04-22 | 2005-03-02 | 富士通株式会社 | 表示パネルの隔壁形成方法 |
| TW396365B (en) * | 1997-08-27 | 2000-07-01 | Toray Industries | Plasma display decive and its method of manufacture |
| JP3427699B2 (ja) * | 1997-10-17 | 2003-07-22 | 富士通株式会社 | プラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法 |
| JP2005050559A (ja) * | 2003-07-29 | 2005-02-24 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 表示装置の製造方法 |
| CN101010637B (zh) | 2004-08-30 | 2010-07-28 | 东丽株式会社 | 显示器用部件的曝光方法和等离子体显示器用部件的制造方法 |
-
1993
- 1993-04-30 JP JP12483193A patent/JP3229708B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06314542A (ja) | 1994-11-08 |
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Legal Events
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