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JP3230556B2 - Reversible thermosensitive recording medium - Google Patents
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JP3230556B2 - Reversible thermosensitive recording medium - Google Patents

Reversible thermosensitive recording medium

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JP3230556B2
JP3230556B2 JP17001794A JP17001794A JP3230556B2 JP 3230556 B2 JP3230556 B2 JP 3230556B2 JP 17001794 A JP17001794 A JP 17001794A JP 17001794 A JP17001794 A JP 17001794A JP 3230556 B2 JP3230556 B2 JP 3230556B2
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JP
Japan
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acid
group
recording medium
thermosensitive recording
polysiloxane
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成之 原田
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、温度による感熱媒体の
可逆的な透明度の変化を利用して記録及び消去を行う可
逆性感熱記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reversible thermosensitive recording medium for performing recording and erasing by utilizing a reversible change in transparency of a thermosensitive medium depending on temperature.

【0002】[0002]

【従来の技術】可逆的な記録及び消去が可能な記録媒体
として、特開昭54−119377号公報及び同55−
154198号公報などにポリエステルなどの樹脂マト
リックス中に高級アルコールや高級脂肪酸などの低分子
有機化合物を分散した感熱記録層を支持体上に設けたも
のが開示されている。その感熱記録層は、温度により透
明度が変化して記録及び消去が可能となる。しかし、従
来の可逆性感熱記録媒体においては、サーマルヘッドな
どの加熱体により加熱して画像形成する際に、それらの
加熱体の熱及び圧力により表面が変形しやすいために画
像形成と消去を繰り返すうちに変形量が増大して透明で
あるべき部分の透明度が低下するという問題があった。
この問題を解決するために、特開昭63−221087
号公報においてシリコン樹脂、シリコンゴムなどのオー
バーコート層を設けて表面の摩擦係数を小さくする方法
が提案されている。しかしこのオーバーコート層は感熱
記録層との接着性が不十分なため、繰り返しの機械的作
用により剥れ、画像が劣化する問題が発生した。
2. Description of the Related Art As recording media capable of reversible recording and erasing, Japanese Patent Laid-Open Publication Nos.
JP-A-154198 discloses a substrate provided with a heat-sensitive recording layer in which a low molecular weight organic compound such as a higher alcohol or a higher fatty acid is dispersed in a resin matrix such as polyester. The transparency of the heat-sensitive recording layer changes depending on the temperature, thereby enabling recording and erasing. However, in a conventional reversible thermosensitive recording medium, when an image is formed by heating with a heating element such as a thermal head, the surface is easily deformed by the heat and pressure of the heating element, so that image formation and erasing are repeated. There has been a problem that the amount of deformation increases and the transparency of a portion that should be transparent decreases.
To solve this problem, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-221087 discloses
In Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. Hei 10 (1995) -207, there has been proposed a method of providing an overcoat layer of a silicone resin, a silicone rubber, or the like to reduce the surface friction coefficient. However, since the overcoat layer has insufficient adhesiveness to the heat-sensitive recording layer, there is a problem in that the overcoat layer peels off due to repeated mechanical action, thereby deteriorating the image.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、サーマルヘ
ッドなどの加熱体により画像形成と消去を繰り返し行っ
ても画像の劣化及び透明部の透明度の低下がない可逆性
感熱記録媒体を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a reversible thermosensitive recording medium which does not deteriorate the image and the transparency of the transparent portion even when the image formation and erasure are repeatedly performed by a heating element such as a thermal head. With the goal.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、ポリシロキサ
ン−ウレア−ポリアミドマルチブロック共重合体からな
るオーバーコート層を感熱記録層上に設けることにより
上記目的を達成できることを見出した。すなわち、本発
明によれば、支持体上に、樹脂マトリックス及び該樹脂
マトリックス中に分散させた低分子有機化合物を主成分
とし、透明度が温度変化に依存して可逆的に変化する感
熱記録層を設けた可逆性感熱記録媒体において、該感熱
記録層上にポリシロキサン−ウレア−ポリアミドマルチ
ブロック共重合体から成るオーバーコート層を設けたこ
とを特徴とする可逆性感熱記録媒体が提供される。ま
た、本発明によれば、前記ポリシロキサン−ウレア−ポ
リアミドマルチブロック共重合体が、下記一般式(1)
で表される繰り返し単位を有する共重合体であることを
特徴とする前記可逆性感熱記録媒体が提供される。
According to the present invention, it has been found that the above object can be achieved by providing an overcoat layer comprising a polysiloxane-urea-polyamide multiblock copolymer on a heat-sensitive recording layer. That is, according to the present invention, a heat-sensitive recording layer having a resin matrix and a low molecular weight organic compound dispersed in the resin matrix as main components and having a transparency that reversibly changes depending on a temperature change is provided on the support. In the provided reversible thermosensitive recording medium, there is provided a reversible thermosensitive recording medium characterized in that an overcoat layer comprising a polysiloxane-urea-polyamide multi-block copolymer is provided on the thermosensitive recording layer. Further, according to the present invention, the polysiloxane-urea-polyamide multi-block copolymer has the following general formula (1):
Wherein the reversible thermosensitive recording medium is a copolymer having a repeating unit represented by the formula:

【化1】 (式中、R1は、炭素数10以下の2価の有機基、R2
びR3は炭素数2以上の2価の有機基をそれぞれ表し、
1、L2、L3及びL4は、(a)炭素数1〜12のアル
キル基、(b)ハロゲン原子又はCN基で置換された炭
素数1〜12のアルキル基、(c)フェニル基及び、
(d)炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシ基又はハ
ロゲン原子で置換されたフェニル基からなる群より任意
に選択される基を表し、xは5〜300の整数、yは1
〜50、nは2〜30の整数をそれぞれ表す。)また、
本発明によれば、前記一般式(1)で表されるポリシロ
キサン−ウレア−ポリアミドマルチブロック共重合体
が、フィルムにしたときに50%以上の破断伸度を有す
ることを特徴とする前記可逆性感熱記録媒体が提供され
る。更に、本発明によれば、前記一般式(1)で表され
るポリシロキサン−ウレア−ポリアミドマルチブロック
共重合体が、180℃以上のガラス転移点を有すること
を特徴とする前記可逆性感熱記録媒体が提供される。更
にまた、本発明によれば、前記一般式(1)で表される
ポリシロキサン−ウレア−ポリアミドマルチブロック共
重合体が、0.20以下の動摩擦係数を有することを特
徴とする前記可逆性感熱記録媒体が提供される。
Embedded image (Wherein, R 1 represents a divalent organic group having 10 or less carbon atoms, R 2 and R 3 each represent a divalent organic group having 2 or more carbon atoms,
L 1 , L 2 , L 3 and L 4 represent (a) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (b) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms substituted with a halogen atom or a CN group, and (c) phenyl Group and
(D) represents a group arbitrarily selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group or a phenyl group substituted with a halogen atom, x is an integer of 5 to 300, and y is 1
To 50 and n each represent an integer of 2 to 30. )Also,
According to the present invention, the polysiloxane-urea-polyamide multi-block copolymer represented by the general formula (1) has a breaking elongation of 50% or more when formed into a film. A thermosensitive recording medium is provided. Further, according to the present invention, the polysiloxane-urea-polyamide multi-block copolymer represented by the general formula (1) has a glass transition point of 180 ° C. or higher. A medium is provided. Still further, according to the present invention, the polysiloxane-urea-polyamide multiblock copolymer represented by the general formula (1) has a dynamic friction coefficient of 0.20 or less. A recording medium is provided.

【0005】本発明の可逆性感熱記録媒体は、感熱記録
層の透明度の温度依存性に起因する透明状態から白濁不
透明状態への変化及び白濁不透明状態から透明状態への
変化を利用して、それぞれ記録及び消去することができ
る。この透明状態と白濁不透明状態との相違は次のよう
に推測される。すなわち、(i)透明状態では樹脂母材
中に分散された低分子有機化合物粒子は比較的大きな粒
子として存在して、一方から入射した光は、散乱される
ことなく他方側に透過するため透明に見えること、ま
た、(ii)白濁状態では低分子有機化合物粒子は微細
な結晶が集合した多結晶から成り、それぞれの結晶軸が
いろいろな方向を向いているため一方から入射した光は
低分子有機化合物粒子の結晶界面で何度も屈折し、散乱
されるため白く見えること、などに由来している。
The reversible thermosensitive recording medium of the present invention utilizes a change from a transparent state to a cloudy opaque state and a change from a cloudy opaque state to a transparent state due to the temperature dependence of the transparency of the heat-sensitive recording layer. Can be recorded and erased. The difference between the transparent state and the cloudy opaque state is presumed as follows. That is, in the (i) transparent state, the low-molecular-weight organic compound particles dispersed in the resin base material exist as relatively large particles, and light incident from one side is transmitted to the other side without being scattered, so that it is transparent. In addition, (ii) in the cloudy state, the low-molecular organic compound particles are composed of polycrystals in which fine crystals are aggregated, and since each crystal axis is oriented in various directions, light incident from one side is a low-molecular compound. This is because the organic compound particles are refracted and scattered many times at the crystal interface, and appear white because of scattering.

【0006】図1(熱による透明度の変化)において、
粒子母材とこれに分散された低分子有機化合物とを主成
分とする感熱層は、例えばT0以下の温度では白濁不透
明状態にある。これを温度T2まで加熱すると透明にな
り、この状態からT0以下の常温に戻しても透明状態を
維持する。これは温度T2からT0以下に至るまでに低分
子有機化合物が半溶融状態を経て多結晶から単結晶へと
結晶が成長するためと考えられる。更にT3以上の温度
まで加熱すると、最大透明状態と最大不透明状態の中間
状態になる。次に、この状態から温度を下げていくと、
透明状態にならずに再び最初の白濁不透明状態に戻る。
これは温度T3以上で低分子有機化合物が溶融後、冷却
されることにより多結晶が析出することによると考えら
れる。なお、この不透明状態のものをT1〜T2の温度ま
で加熱した後、常温すなわちT0以下の温度まで冷却す
ると透明と不透明の中間状態になる。また前記常温で透
明になったものを再びT3以上の温度まで加熱した後常
温に戻すと、再び白濁不透明状態に戻る。すなわち、常
温で不透明及び透明状態とその中間状態にすることがで
きる。従って、熱を選択的に与えることにより感熱層を
選択的に透明地に白濁画像を、白濁地に透明画像を形成
することができ、その変化は何回も繰り返すことができ
る。
In FIG. 1 (change in transparency due to heat),
Thermosensitive layer mainly composed of the particle matrix and low-molecular organic compound dispersed in this, for example, the cloudy opaque state at T 0 or lower. This became clear when heated to a temperature T 2, also maintains the transparent state returning to a normal temperature of T 0 or less from this state. This may be because the crystalline low molecular organic compounds down to T 0 or less from the temperature T 2 is between the single crystal from a polycrystalline via a semi-molten state grows. Upon further heating to T 3 or more temperature, it becomes an intermediate state of the maximum transparent state and the maximum opaque state. Next, when the temperature is lowered from this state,
It returns to the original cloudy and opaque state again without becoming transparent.
This is believed to be due to multi crystals precipitate by low-molecular organic compound at a temperature T 3 or more is melted, cooled. The opaque state is heated to a temperature of T 1 to T 2 , and then cooled to room temperature, that is, a temperature equal to or lower than T 0, to be in an intermediate state between transparent and opaque. Further Returning to room temperature after heating what became transparent at the room temperature to again T 3 or more temperature returns to cloudy opaque state again. That is, at room temperature, it can be made into an opaque and transparent state and an intermediate state. Therefore, by selectively applying heat, the heat-sensitive layer can selectively form a cloudy image on a transparent ground and a transparent image on a cloudy ground, and the change can be repeated many times.

【0007】以下、本発明更に詳しく説明する。本発明
の可逆性感熱記録媒体は、前記したように、ポリシロキ
サン−ウレア−ポリアミドマルチブロック共重合体から
なるオーバーコート層を可逆性記録層上面に設けること
を特徴とする。本発明で使用するポリシロキサン−ウレ
ア−ポリアミドマルチブロック共重合体としては、特に
100回以上の画像形成と消去の繰り返しによる透明度
の低下を防止する点で、下記一般式(1)で表される繰
り返し単位を有するポリシロキサン−ウレア−ポリアミ
ドマルチブロック共重合体が好ましい。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail. As described above, the reversible thermosensitive recording medium of the present invention is characterized in that an overcoat layer made of a polysiloxane-urea-polyamide multiblock copolymer is provided on the upper surface of the reversible recording layer. The polysiloxane-urea-polyamide multi-block copolymer used in the present invention is represented by the following general formula (1), particularly in terms of preventing a decrease in transparency due to repeated image formation and erasure of 100 times or more. Polysiloxane-urea-polyamide multiblock copolymers having repeating units are preferred.

【化1】 (式中、R1〜R3、L1〜L4、x、y、nは前記と同
じ。)
Embedded image (In the formula, R 1 to R 3 , L 1 to L 4 , x, y, and n are the same as described above.)

【0008】本発明のポリシロキサン−ウレア−ポリア
ミドマルチブロック共重合体は、1種類以上のジカルボ
ン酸化合物と1種類以上のジイソシアネート化合物とを
塩化リチウムの存在下で反応させて、両末端にイソシア
ネート基を有するポリアミドオリゴマーを合成し、得ら
れたオリゴマーを1種類以上のジアミノシロキサンオリ
ゴマーと反応させることによって得られる。
[0008] The polysiloxane-urea-polyamide multiblock copolymer of the present invention is obtained by reacting one or more dicarboxylic acid compounds with one or more diisocyanate compounds in the presence of lithium chloride to form an isocyanate group at both ends. Is obtained by synthesizing a polyamide oligomer having the following formula, and reacting the obtained oligomer with one or more kinds of diaminosiloxane oligomers.

【0009】この場合、ジカルボン酸化合物としては、
カルボン酸残基R3(R3は前記に同じ)を有するもので
あり、具体的には、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼ
ライン酸、セバシン酸、マレイン酸およびフマル酸もし
くはこれらの誘導体などの脂肪族ジカルボン酸、ベンゾ
フェノール−2,4′−ジカルボン酸、2,2′−ビフ
ェニルジカルボン酸、4,4′−ビフェニルジカルボン
酸、5−t−ブチルイソフタル酸、2,5−ジクロロテ
レフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、テトラブロモフ
タル酸、テトラブロモテレフタル酸、テトラクロロフタ
ル酸、テトラクロロフタル酸、テトラフルオロフタル
酸、テトラフルオロイソフタル酸、テトラフルオロテレ
フタル酸、4′−(2−チアゾールスルファミル)フタ
ル酸、1,1,3−トリメチル−3−フェニルインデン
−4′,5−ジカルボン酸、2,3−ナフタレンジカル
ボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸及び1,1,
3−トリメチル−3−フェニルインダン−4′,5−ジ
カルボン酸などの芳香族ジカルボン酸、またはイミダゾ
ール−4,5−ジカルボン酸、ピラジン−2,3−ジカ
ルボン酸、ピリジン−2,3−ジカルボン酸、ピリジン
−2,4−ジカルボン酸、ピリジン2,5−ジカルボン
酸、ピリジン−2,6−ジカルボン酸、ピリジン3,4
−ジカルボン酸、ピリジン−3,5−ジカルボン酸及び
チアゾリジン−2,4−ジカルボン酸などの複素環状芳
香族ジカルボン酸などが使用される。
In this case, as the dicarboxylic acid compound,
It has a carboxylic acid residue R 3 (R 3 is the same as above), and specifically includes oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacin Aliphatic dicarboxylic acids such as acid, maleic acid and fumaric acid or derivatives thereof, benzophenol-2,4'-dicarboxylic acid, 2,2'-biphenyldicarboxylic acid, 4,4'-biphenyldicarboxylic acid, 5-t -Butylisophthalic acid, 2,5-dichloroterephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, tetrabromophthalic acid, tetrabromoterephthalic acid, tetrachlorophthalic acid, tetrachlorophthalic acid, tetrafluorophthalic acid, tetrafluoroisophthalic acid, tetra Fluoroterephthalic acid, 4 '-(2-thiazolesulfamyl) phthalic acid, 1,1,3 Trimethyl-3-phenyl indene-4 ', 5-dicarboxylic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and 1,1,
Aromatic dicarboxylic acids such as 3-trimethyl-3-phenylindane-4 ', 5-dicarboxylic acid, or imidazole-4,5-dicarboxylic acid, pyrazine-2,3-dicarboxylic acid, pyridine-2,3-dicarboxylic acid Pyridine-2,4-dicarboxylic acid, pyridine-2,5-dicarboxylic acid, pyridine-2,6-dicarboxylic acid, pyridine 3,4
And heterocyclic aromatic dicarboxylic acids such as -dicarboxylic acid, pyridine-3,5-dicarboxylic acid and thiazolidine-2,4-dicarboxylic acid.

【0010】また、前記イソシアネート化合物として
は、イソシアネート残基R2(R2は前記に同じ)を有す
るものであり、具体的には、1,6−ヘキサメチレンジ
イソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレ
ンジイソシアネート、1,12−ジイソシアネートドデ
カン、イソホロンジイソシアネート、p−フェニレンジ
イソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、ト
ルエン−2,4−ジイソシアネート、トルエン−2,6
−ジイソシアネート、4−イソプロピル−1,3−フェ
ニレンジイソシアネート、4−クロロ−1,3−フェニ
レンジイソシアネート、4−ブトキシ−1,3−フェニ
レンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネー
ト、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、
4,4′−ジイソシアネート−3,3′ジメチルジフェ
ニルメタン、4,4′−ジイソシアネートジフェニルエ
ーテル、3,4′−ジイソシアネートジフェニルエーテ
ル、4,4−ジイソシアネートビフェニル、4,4′−
ジイソシアネート3,3′−ジメチルビスフェニル及び
3,3′−ジクロロジフェニル−4,4′−ジイソシア
ネートなどが使用される。
The isocyanate compound has an isocyanate residue R 2 (R 2 is the same as described above). Specifically, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethyl Hexamethylene diisocyanate, 1,12-diisocyanate dodecane, isophorone diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, toluene-2,4-diisocyanate, toluene-2,6
-Diisocyanate, 4-isopropyl-1,3-phenylene diisocyanate, 4-chloro-1,3-phenylene diisocyanate, 4-butoxy-1,3-phenylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate,
4,4'-diisocyanate-3,3'dimethyldiphenylmethane, 4,4'-diisocyanate diphenyl ether, 3,4'-diisocyanate diphenyl ether, 4,4-diisocyanate biphenyl, 4,4'-
The diisocyanates 3,3'-dimethylbisphenyl and 3,3'-dichlorodiphenyl-4,4'-diisocyanate are used.

【0011】一方、ジアミノシロキサンオリゴマーとし
ては、一般式(1)におけるR1(R1は前記と同じ)、
1、L2、L3及びL4の各基を有し、両末端にアミノ基
を有するものであり、R1で表される基の具体例として
は、例えば、下記式(2)、(3)、(4)、(5)及
び(6)で表される基が挙げられる。
On the other hand, as the diaminosiloxane oligomer, R 1 in the general formula (1) (R 1 is the same as above),
It has each group of L 1 , L 2 , L 3 and L 4 and has an amino group at both terminals. Specific examples of the group represented by R 1 include, for example, the following formula (2): The groups represented by (3), (4), (5) and (6) are mentioned.

【化2】 (n1は1〜10の整数)Embedded image (N1 is an integer of 1 to 10)

【化3】 (n2は0〜4の整数)Embedded image (N 2 is 0-4 integer)

【化4】 (n3は1〜3の整数)Embedded image (N 3 is an integer of 1 to 3)

【化5】 (n4は0〜4の整数)Embedded image (Integer of n 4 is 0 to 4)

【化6】 (n5は1〜3の整数)Embedded image (N 5 is an integer of 1 to 3)

【0012】また、L1、L2、L3およびL4は下記の4
種類の基からなる群から任意に選択される基であり、同
一であっても異なっていても良い。 (a)炭素数1〜12の直鎖状又は分枝状のアルキル
基。 (b)1個以上のハロゲン原子又はCN基で置換され
た、炭素数1〜12の直鎖状又は分枝状のアルキル基。
この場合、ハロゲン原子には、Cl、Br、Fなどが包
含される。 (c)フェニル基。 (d)炭素数1〜4のアルキル基又はアルコキシ基又は
ハロゲン原子で置換されたフェニル基。
L 1 , L 2 , L 3 and L 4 are the following 4
It is a group arbitrarily selected from the group consisting of types of groups, and may be the same or different. (A) a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; (B) A linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and substituted with one or more halogen atoms or CN groups.
In this case, the halogen atom includes Cl, Br, F and the like. (C) phenyl group. (D) a phenyl group substituted with an alkyl group or alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom.

【0013】前記一般式(1)中のxは、ジアミノシロ
キサンオリゴマーを構成するシロキサンモノマーの平均
重合度を表し、5〜300の整数である。また、yはポ
リアミドオリゴマーの平均重合度を表し、1〜50の整
数である。更にnは、ジアミノキロキサンオリゴマーと
ポリアミドオリゴマーから構成される繰り返し単位の平
均重合度を表し、2〜30の整数である。
In the general formula (1), x represents the average degree of polymerization of the siloxane monomer constituting the diaminosiloxane oligomer, and is an integer of 5 to 300. Y represents the average degree of polymerization of the polyamide oligomer, and is an integer of 1 to 50. Further, n represents an average degree of polymerization of a repeating unit composed of a diaminokiloxane oligomer and a polyamide oligomer, and is an integer of 2 to 30.

【0014】本発明においては、例えば、300回以上
の画像形成と消去の繰り返しによる透明度の低下を防止
するためには、180℃以上のガラス転移点を有するマ
ルチブロック共重合体を使用するのが好ましく、そのた
めには前記ジカルボン酸化合物、イソシアネート化合物
の各原料として、以下に示すものを使用するのが好まし
い。
In the present invention, for example, in order to prevent a decrease in transparency due to repeated image formation and erasure of 300 times or more, it is preferable to use a multi-block copolymer having a glass transition point of 180 ° C. or more. For this purpose, it is preferable to use the following materials as the raw materials for the dicarboxylic acid compound and the isocyanate compound.

【0015】即ち、ジカルボン酸化合物としては、ベン
ゾフェノン−2,4′−ジカルボン酸、2,2′−ビス
フェニルジカルボン酸、4,4′−ビフェニルジカルボ
ン酸、5−t−ブチルイソフタル酸、2,5−ジクロロ
テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、テトラブロモ
フタル酸、テトラブロモテレフタル酸、テトラクロロフ
タル酸、テトラクロロテレフタル酸、テトラフルオロフ
タル酸、テトラフルオロイソフタル酸、テトラフルオロ
テレフタル酸、4′−(2−チアゾールスルファミル)
フタル酸、1,1,3−トリメチル−3−フェニルイン
デン−4′,5−ジカルボン酸、2,3−ナフタレンジ
カルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸及び1,
1,3−トリメチル−3−フェニルインダン−4′,5
−ジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸、またはイミ
ダゾール−4,5−ジカルボン酸、ピラジン−2,3−
ジカルボン酸、ピリジン−2,3−ジカルボン酸、ピリ
ジン−2,4−ジカルボン酸、ピリジン−2,5−ジカ
ルボン酸、ピリジン−2,6−ジカルボン酸、ピリジン
−3,4−ジカルボン酸、ピリジン−3,5−ジカルボ
ン酸及びチアゾリジン−2,4−ジカルボン酸などの複
素環状芳香族ジカルボン酸などが挙げられる。
That is, dicarboxylic acid compounds include benzophenone-2,4'-dicarboxylic acid, 2,2'-bisphenyldicarboxylic acid, 4,4'-biphenyldicarboxylic acid, 5-t-butylisophthalic acid, 5-dichloroterephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, tetrabromophthalic acid, tetrabromoterephthalic acid, tetrachlorophthalic acid, tetrachloroterephthalic acid, tetrafluorophthalic acid, tetrafluoroisophthalic acid, tetrafluoroterephthalic acid, 4'- (2-thiazolesulfamyl)
Phthalic acid, 1,1,3-trimethyl-3-phenylindene-4 ', 5-dicarboxylic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and 1,
1,3-trimethyl-3-phenylindane-4 ', 5
Aromatic dicarboxylic acids such as dicarboxylic acids, or imidazole-4,5-dicarboxylic acids, pyrazine-2,3-
Dicarboxylic acid, pyridine-2,3-dicarboxylic acid, pyridine-2,4-dicarboxylic acid, pyridine-2,5-dicarboxylic acid, pyridine-2,6-dicarboxylic acid, pyridine-3,4-dicarboxylic acid, pyridine- Heterocyclic aromatic dicarboxylic acids such as 3,5-dicarboxylic acid and thiazolidine-2,4-dicarboxylic acid are exemplified.

【0016】また、ジイソシアネートとしては、p−フ
ェニレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシア
ネート、トルエン−2,4−ジイソシアネート、トルエ
ン−2,6−ジイソシアネート、4−イソプロピル−
1,3−フェニレンジイソシアネート、4−クロロ−
1,3−フェニレンジイソシアネート、4−ブトキシ−
1,3−フェニレンジイソシアネート、m−キシリレン
ジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソ
シアネート、4,4’−ジイソシアネート−3,3’−
ジメチルジフェニルメタン、4,4’−ジイソシアネー
トジフェニルエーテル、3,4’−ジイソシアネートジ
フェニルエーテル、4,4’−ジイソシアネートビフェ
ニル、4,4’−ジイソシアネート−3,3’−ジメチ
ルビフェニル及び3,3’−ジクロロフェニル−4,
4’−ジイソシアネート等が挙げられる。
Examples of the diisocyanate include p-phenylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, toluene-2,4-diisocyanate, toluene-2,6-diisocyanate, and 4-isopropyl-isocyanate.
1,3-phenylene diisocyanate, 4-chloro-
1,3-phenylene diisocyanate, 4-butoxy-
1,3-phenylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diisocyanate-3,3'-
Dimethyldiphenylmethane, 4,4'-diisocyanate diphenyl ether, 3,4'-diisocyanate diphenyl ether, 4,4'-diisocyanate biphenyl, 4,4'-diisocyanate-3,3'-dimethylbiphenyl and 3,3'-dichlorophenyl-4 ,
4'-diisocyanate and the like.

【0017】また、オーバーコート層がサーマルヘッド
との摩擦力によって削られる場合もあり、そのためサー
マルヘッドの発熱部やその近傍にオーバーコート層の構
成物が融着又は付着して画像品質が低下したり、消去が
完全に行われない現象が発生する。この現象を抑制する
ためにフィルムの破断伸度が50%以上であるマルチブ
ロック共重合体を使用するのが望ましく、このような機
械的特性を有するポリシロキサン−ウレア−ポリアミド
マルチブロック共重合体を得るには、ジアミノシロキサ
ンオリゴマーの平均分子量に対して、それ以下の平均分
子量を有するポリアミドオリゴマーを使用するのが好ま
しい。
Further, the overcoat layer may be scraped off by frictional force with the thermal head, so that the components of the overcoat layer are fused or adhered to the heat generating portion of the thermal head and its vicinity, thereby deteriorating the image quality. Or a phenomenon that erasing is not performed completely occurs. In order to suppress this phenomenon, it is preferable to use a multi-block copolymer having a film elongation at break of 50% or more, and a polysiloxane-urea-polyamide multi-block copolymer having such mechanical properties is desired. To obtain it, it is preferable to use a polyamide oligomer having an average molecular weight lower than the average molecular weight of the diaminosiloxane oligomer.

【0018】更に、500回以上の画像形成と消去の繰
り返しによる透明度の低下を防止するためにはサーマル
ヘッドなどの発熱体とオーバーコート層との間に発生す
る摩擦力を小さくすることが望ましく、0.20以下の
動摩擦係数を有するマルチブロック共重合体を使用する
ことが好ましい。
Further, in order to prevent a decrease in transparency due to repetition of image formation and erasure 500 times or more, it is desirable to reduce a frictional force generated between a heating element such as a thermal head and an overcoat layer. It is preferable to use a multi-block copolymer having a dynamic friction coefficient of 0.20 or less.

【0019】本発明のポリシロキサン−ウレア−ポリア
ミドマルチブロック共重合体は、2種以上の共重合体を
混合使用しても性能劣化の問題を起こすことがないか
ら、任意の割合で混合使用することもできる。また、該
ポリシロキサン−ウレア−ポリアミドマルチブロック共
重合体は、従来から使用されている、例えばシリコン樹
脂、シリコンゴムなど、を混合使用することも可能であ
る。しかし、特別な場合を除いて混合使用の利点は少な
いから、一般的には前記のように目的に応じたジカルボ
ン酸化合物、ジイソシアネート化合物、及びアミノシロ
キサンオリゴマーを原料として製造した本発明の共重合
体をオーバーコート層に使用すれば良い。なお、本発明
のオーバーコートー層は0.1〜7.5μm程度の厚さ
が良く、好ましくは0.5〜3.5μmの厚さである。
The polysiloxane-urea-polyamide multi-block copolymer of the present invention does not cause a problem of performance deterioration even when two or more copolymers are mixed and used. You can also. The polysiloxane-urea-polyamide multi-block copolymer may be a mixture of conventionally used materials such as silicone resin and silicone rubber. However, since the advantages of mixed use are small except in special cases, generally, the copolymer of the present invention produced from a dicarboxylic acid compound, a diisocyanate compound, and an aminosiloxane oligomer according to the purpose as described above is used. May be used for the overcoat layer. The overcoat layer of the present invention has a thickness of about 0.1 to 7.5 μm, preferably 0.5 to 3.5 μm.

【0020】感熱記録層は、マトリックス樹脂及び低分
子有機化合物等を溶媒に分散又は溶解した溶液を、支持
体上に塗布、乾燥させる方法等により形成できるが、感
熱記録層の形成に使用する溶媒は、マトリックス樹脂及
び低分子有機化合物の種類によって種々選択できるが、
例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフラ
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、塩
化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、メタノール、
エタノール、トルエン、キシレン、ベンゼン、などが挙
げられる。なお、分散液を使用した場合はもちろんであ
るが、溶液を使用した場合も得られる感熱層中では低分
子有機化合物は微粒子として析出し、分散状態で存在す
る。
The heat-sensitive recording layer can be formed by a method in which a solution in which a matrix resin and a low molecular weight organic compound or the like are dispersed or dissolved in a solvent is coated on a support and dried. Can be variously selected depending on the type of matrix resin and low molecular weight organic compound,
For example, ethyl acetate, butyl acetate, tetrahydrofuran, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, methanol,
Examples include ethanol, toluene, xylene, and benzene. The low-molecular-weight organic compound precipitates as fine particles in the heat-sensitive layer obtained when the solution is used, as well as when the dispersion is used, and exists in a dispersed state.

【0021】本発明において、可逆性感熱記録媒体の感
熱記録層中のマトリックス樹脂は、膜形成可能であり、
その膜が透明性に優れ機械的に安定であることが好まし
い。このような樹脂としては、ポリ塩化ビニル;塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
マレイン酸共重合体及び塩化ビニル−アクリレート共重
合体などの塩化ビニル系共重合体;ポリ塩化ビニリデ
ン;塩化ビニリエデン−塩化ビニル共重合体及び塩化ビ
ニリデン−アクリロニトリル共重合体などの塩化ビニリ
デン系共重合体;ポリエステル;ポリアミド;ポリアク
リレート;ポリメタクリレート;ポリアクリレート−ポ
リメタクリレート共重合体;シリコーン樹脂などが挙げ
られる。これらは単独あるいは2種類以上混合して使用
される。
In the present invention, the matrix resin in the thermosensitive recording layer of the reversible thermosensitive recording medium can form a film,
It is preferable that the film has excellent transparency and is mechanically stable. As such a resin, polyvinyl chloride; vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-
Vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-
Vinyl chloride copolymers such as maleic acid copolymer and vinyl chloride-acrylate copolymer; polyvinylidene chloride; vinylidene chloride copolymers such as vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer and vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer Polyester; polyamide; polyacrylate; polymethacrylate; polyacrylate-polymethacrylate copolymer; and silicone resin. These may be used alone or as a mixture of two or more.

【0022】一方、低分子有機化合物としては記録層中
で熱により多結晶から単結晶に変化するものであればよ
く、一般に30〜200℃の融点を、好ましくは50〜
150℃の融点を有する低分子有機化合物が使用され
る。このような低分子有機化合物としてはアルカノー
ル;アルカンジオール;ハロゲン化アルカノール;ハロ
ゲン化アルカンジオール;アルキルアミン;アルカン;
アルケン;アルキン;ハロゲン化アルカン;ハロゲン化
アルケン;ハロゲン化アルキン;シクロアルカン;シク
ロアルケン;シクロアルキン;飽和又は不飽和モノ又は
ジカルボン酸又はこれらのエステル、アミド又は塩;飽
和又は不飽和ハロゲン化脂肪酸又はこれらのエステル、
アミド又は塩;アリルカルボン酸又はこれらのエステ
ル、アミド又は塩;ハロゲン化アリルカルボン酸又はこ
れらのエステル、アミド又は塩;チオアルコール;チオ
カルボン酸又はこれらのエステル、アミド又は塩;チオ
アルコールのカルボン酸エステルなどが挙げられる。こ
れらは単独で又は2種類以上混合して使用される。これ
らの化合物の炭素数は10〜60、好ましくは10〜3
8、特に10〜30が好ましい。エステル中のアルコー
ル基部分は飽和していてもよく、飽和していなくてもよ
く、またハロゲン置換されていてもよい。いずれにして
も低分子有機化合物は分子中に少なくても1個の酸素、
窒素、硫黄またはハロゲンを含有する基、例えば−OH
−、−COOH、−CONH、−COOR、−NH−、
−S−、−S−S−または−O−などの有する化合物で
あることが好ましい。
On the other hand, the low molecular weight organic compound may be any compound that changes from polycrystal to single crystal by heat in the recording layer, and generally has a melting point of 30 to 200 ° C., preferably 50 to 200 ° C.
Low molecular organic compounds having a melting point of 150 ° C. are used. Such low molecular organic compounds include alkanols; alkanediols; halogenated alkanols; halogenated alkanediols; alkylamines;
Alkenes; alkynes; halogenated alkanes; halogenated alkenes; halogenated alkynes; cycloalkanes; cycloalkenes; cycloalkynes; saturated or unsaturated mono- or dicarboxylic acids or their esters, amides or salts; These esters,
Amides or salts; allylcarboxylic acids or their esters, amides or salts; halogenated allylcarboxylic acids or their esters, amides or salts; thioalcohols; thiocarboxylic acids or their esters, amides or salts; carboxylic esters of thioalcohols And the like. These may be used alone or as a mixture of two or more. These compounds have 10 to 60 carbon atoms, preferably 10 to 3 carbon atoms.
8, particularly preferably 10 to 30. The alcohol group in the ester may be saturated, may not be saturated, and may be halogen-substituted. In any case, the low molecular weight organic compound contains at least one oxygen,
Groups containing nitrogen, sulfur or halogen, such as -OH
-, -COOH, -CONH, -COOR, -NH-,
It is preferably a compound having -S-, -SS- or -O-.

【0023】さらに具体的には、これらの化合物として
は、ラウリン酸、ドデカン酸、ミリスチン酸、ペンタデ
カン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ノナ
デカン酸、アラキン酸、ヘンエイコサン酸、トリコサン
酸、リグノセリン酸、ペンタコサン酸、セロチン酸、ヘ
プタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸及びオレイン酸
などの高級脂肪酸;ステアリン酸メチル、ステアリン酸
テトラデシル、ステアリン酸オクタデシル、ラウリン酸
オクタデシル、パルミチン酸テトラデシル及びベヘン酸
ドデシルなどの高級脂肪酸のエステル; C1633−O−C1633, C1633−S−C16331837−S−C1837, C1225−S−C12251939−S−C1939, C1225−S−S−C1225 などのエーテル又はチオエーテルなどが挙げられる。中
でも本発明では高級脂肪酸、特にパルミチン酸、ペンタ
デカン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ヘンエイコサン
酸、トリコサン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、リグノセ
リン酸、などの16以上の炭素数を有する高級脂肪酸が
好ましく、16〜24の炭素数を有する高級脂肪酸が更
に好ましい。
More specifically, these compounds
Is lauric acid, dodecanoic acid, myristic acid, pentade
Canoic acid, palmitic acid, stearic acid, behenic acid, nona
Decanoic acid, arachiic acid, heneicosanoic acid, trichosan
Acid, lignoceric acid, pentacosanoic acid, cerotic acid,
Butacosanoic acid, montanic acid, melicic acid and oleic acid
Higher fatty acids such as methyl stearate, stearic acid
Tetradecyl, octadecyl stearate, lauric acid
Octadecyl, tetradecyl palmitate and behenic acid
Esters of higher fatty acids such as dodecyl; C16H33-OC16H33, C16H33-SC16H33 C18H37-SC18H37, C12Htwenty five-SC12Htwenty five C19H39-SC19H39, C12Htwenty five-S-S-C12Htwenty five   And ethers and thioethers. During ~
However, in the present invention, higher fatty acids, especially palmitic acid,
Decanoic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, heneicosane
Acid, trichosanoic acid, stearic acid, behenic acid, lignose
Higher fatty acids having 16 or more carbon atoms such as phosphoric acid
Preferably, higher fatty acids having 16 to 24 carbon atoms are further added.
Preferred.

【0024】また、透明化できる温度の幅を広げるに
は、上記に示した低分子有機化合物を適宜組み合わせる
か、又はそのような低分子有機化合物と融点の異なる他
の材料とを組み合わせればよい。これらは例えば特開昭
63−39378号公報、特開昭63−130380号
公報、特願昭63−14754号公報及び特願平1−1
40109号公報などに記載されているが、これらに限
定されるものではない。
Further, in order to widen the range of the temperature at which the liquid crystal can be made transparent, the above-mentioned low molecular weight organic compound may be appropriately combined, or such a low molecular weight organic compound may be combined with another material having a different melting point. . These are described, for example, in JP-A-63-39378, JP-A-63-130380, Japanese Patent Application No. 63-14754 and Japanese Patent Application No. 1-1.
It is described in, for example, Japanese Patent No. 40109, but is not limited thereto.

【0025】なお、感熱層中の低分子有機化合物と樹脂
母材との割合は、重量比で約2:1〜1:16が好まし
く、1:2〜1:6が更に好ましい。樹脂母材の比率が
これ以下になると低分子有機化合物を樹脂母材中に保持
した膜を形成することが困難となり、またこれ以上にな
ると低分子有機化合物の量が少ないため不透明化が困難
になる。
The ratio between the low molecular weight organic compound and the resin matrix in the heat sensitive layer is preferably about 2: 1 to 1:16, more preferably 1: 2 to 1: 6 by weight. When the ratio of the resin base material is less than this, it becomes difficult to form a film holding the low molecular weight organic compound in the resin base material, and when the ratio is more than this, it is difficult to make the film opaque because the amount of the low molecular weight organic compound is small. Become.

【0026】感熱層の厚みは1〜30μmが好ましく、
2〜20μmが更に好ましい。感熱層が厚すぎると熱感
度が低下して均一に透明化することが困難となる。ま
た、感熱層が薄すぎると白濁度が低下してコントラスト
が低くなる。更に、感熱層中の低分子有機化合物の量を
増加させて白濁度を増すことができる。
The thickness of the heat-sensitive layer is preferably 1 to 30 μm,
2-20 μm is more preferred. When the heat-sensitive layer is too thick, the heat sensitivity is lowered, and it is difficult to make the heat-sensitive layer transparent uniformly. On the other hand, if the heat-sensitive layer is too thin, the turbidity decreases and the contrast decreases. Further, the turbidity can be increased by increasing the amount of the low molecular organic compound in the heat-sensitive layer.

【0027】感熱層には以上の成分のほかに、透明画像
の形成を容易にするために高融点溶剤及び界面活性剤な
どの添加剤を添加することができる。高融点溶剤とし
て、リン酸トリブチル、リン酸トリ−2−エチルヘキシ
ル、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、オレイ
ン酸ブチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−n
−オクチル、フタル酸ジ−2−エチルヘキシル、フタル
酸ジイソノニル、フタル酸ジオクチルデシル、フタル酸
ジイソデシル、フタル酸ブチルベンジル、アジピン酸ジ
ブチル、アジピン酸ジ−n−ヘキシル、アジピン酸ジ−
2−エチルヘキシル、アゼライン酸ジ−2−エチルヘキ
シル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−2−エチル
ヘキシル、ジエチレングリコールジベンゾエート、トリ
エチレングリコールジ−2−エチルブチラート、アセチ
ルリシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブチル、
ブチルフタリルブチルグリコレート及びアセチルクエン
酸トリブチルなどが挙げられる。
In addition to the above components, additives such as a high melting point solvent and a surfactant can be added to the heat-sensitive layer in order to facilitate formation of a transparent image. As a high melting point solvent, tributyl phosphate, tri-2-ethylhexyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, butyl oleate, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, di-phthalate n
-Octyl, di-2-ethylhexyl phthalate, diisononyl phthalate, dioctyldecyl phthalate, diisodecyl phthalate, butylbenzyl phthalate, dibutyl adipate, di-n-hexyl adipate, di-adipate-
2-ethylhexyl, di-2-ethylhexyl azelate, dibutyl sebacate, di-2-ethylhexyl sebacate, diethylene glycol dibenzoate, triethylene glycol di-2-ethyl butyrate, methyl acetyl ricinoleate, methyl acetyl ricinoleate,
Butyl phthalyl butyl glycolate and acetyl tributyl citrate are included.

【0028】界面活性剤及びその他の添加剤として、多
価アルコール高級脂肪酸エステル;多価アルコール高級
アルキルエーテル;多価アルコール高級脂肪酸エステ
ル、高級アルコール、高級アルキルフェノール、高級脂
肪酸高級アルキルアミン、高級脂肪酸アミド、油脂又は
ポリプロピレングリコールの低級オレフィンオキサイド
付加物;アセチレングリコール;高級アルキルベンゼン
スルホン酸のNa、Ba、Ca又はMg塩;高級脂肪
酸、芳香族カルボン酸、高級脂肪族スルホン酸、芳香族
スルホン酸、硫酸モノエステル又はリン酸モノ又はジエ
ステルのCa、Ba又はMg塩;低度硫酸化油;ポリ長
鎖アルキルアクリレート;アクリル系オリゴマー;ポリ
長鎖アルキルメタクリレート;長鎖アルキルメタクリレ
ート−アミン含有モノマー共重合体;スチレン−無水マ
レイン酸共重合体及びオレフィン−無水マレイン酸共重
合体などが挙げられる。
As a surfactant and other additives, polyhydric alcohol higher fatty acid ester; polyhydric alcohol higher alkyl ether; polyhydric alcohol higher fatty acid ester, higher alcohol, higher alkylphenol, higher fatty acid higher alkylamine, higher fatty acid amide, Lower olefin oxide adducts of oils and fats or polypropylene glycol; acetylene glycol; Na, Ba, Ca or Mg salts of higher alkylbenzene sulfonic acids; higher fatty acids, aromatic carboxylic acids, higher aliphatic sulfonic acids, aromatic sulfonic acids, monoesters of sulfuric acid Or Ca, Ba or Mg salts of phosphoric acid mono- or diesters; low-sulfated oils; poly-long-chain alkyl acrylates; acrylic oligomers; poly-long-chain alkyl methacrylates; Over copolymer; a styrene - maleic acid copolymer and olefin anhydride - like maleic anhydride copolymer.

【0029】本発明において、可逆性感熱記録材料の支
持体としては前記したようにプラスチックフィルム、ガ
ラス板及び金属板などが用いられる。
In the present invention, as the support of the reversible thermosensitive recording material, a plastic film, a glass plate, a metal plate and the like are used as described above.

【0030】この記録材料の画像コントラストを向上さ
せるために記録層の背面に光反射層を設けることも可能
である。この場合には記録層の厚みを薄くしても高いコ
ントラストが得られる。具体的には特開昭64−140
79号に記載されたAl、Ni、Sn、Au及びAgな
どを蒸着する方法が挙げられる。
In order to improve the image contrast of the recording material, a light reflection layer can be provided on the back surface of the recording layer. In this case, high contrast can be obtained even if the thickness of the recording layer is reduced. Specifically, JP-A-64-140
No. 79 describes a method of depositing Al, Ni, Sn, Au, Ag and the like.

【0031】支持体がAl蒸着層のような樹脂との接着
力に乏しい材料には、特開昭64−14079号公報に
記載された感熱層との間に接着層を設ける方法を用いて
もよい。更に、オーバーコート層形成液の溶剤やモノマ
ー成分などから可逆性記録材料を保護するために、特開
平1−133781号に記載されたオーバーコート層と
可逆性記録材料との間に中間層を設ける方法を用いても
よい。中間層の材料としては感熱層中に樹脂母材として
挙げたものの他に下記のような熱硬化性樹脂及び熱可塑
性樹脂を使用することができる。すなわち、具体的に
は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリウレ
タン、飽和ポリエステル、不飽和ポリエステル、エポキ
シ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート、ポリアミ
ドなどが挙げられる。中間層の厚さは用途により異なる
が約0.1〜2μmが好ましい。これ以下になると保護
効果が減少し、それ以上になると熱感度が低下する。
For a material having a poor adhesion to a resin such as an Al vapor-deposited layer, a method of providing an adhesive layer between the support and a heat-sensitive layer described in JP-A-64-14079 may be used. Good. Further, an intermediate layer is provided between the overcoat layer and the reversible recording material described in JP-A-1-1337981 in order to protect the reversible recording material from a solvent, a monomer component, and the like of the overcoat layer forming liquid. A method may be used. As the material of the intermediate layer, the following thermosetting resins and thermoplastic resins can be used in addition to those listed as the resin base material in the thermosensitive layer. That is, specific examples include polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polyurethane, saturated polyester, unsaturated polyester, epoxy resin, phenol resin, polycarbonate, polyamide, and the like. The thickness of the intermediate layer varies depending on the application, but is preferably about 0.1 to 2 μm. Below this, the protective effect decreases, and above that, the thermal sensitivity decreases.

【0032】また、実開平2−3876号に記載された
ように磁気記録層を設け、磁気及び熱によって記録でき
る磁気可逆性感熱記録媒体として使用することも可能で
ある。
Further, as described in JP-A-2-3876, a magnetic recording layer can be provided and used as a magnetic reversible thermosensitive recording medium capable of recording by magnetism and heat.

【0033】[0033]

【実施例】次に、実施例及び比較例を示す。なお、以下
に示す部及び%はすべて重量基準である。
Next, examples and comparative examples will be described. All parts and percentages shown below are based on weight.

【0034】実施例1 75μm厚のポリエチレンテレフタレート(RET)フ
ィルム上に、8部のステアリン酸ステアリル、3部のフ
タル酸ジ(2−エチルヘキシル)、28部の塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体(UCC社製、VYHH)及び2
00部のテトラヒドロフランからなる溶液をワイヤーバ
ーで塗工し、80℃で3分間乾燥して15μm厚の感熱
記録層を設けた。この記録層上に10部のポリアミド樹
脂(東レ社製、CM8000)と90部のメチルアルコ
ールからなる溶液をワイヤーバーで塗工し、80℃で1
分間乾燥して0.5μm厚の中間層を設けた。この中間
層上に1500の平均分子量を有するα、ω−ビス(3
−アミノプロピル)ポリ(ジメチルシロキサン)、及び
4,4′−ジイソシアネート−3,3′−ジメチルジフ
ェニルメタンとアゼライン酸/イソフタル酸(50/5
0)とから誘導された7320の平均分子量を有する両
末端ジイソシアネートポリアミドオリゴマーとからな
る、ポリシロキサン−ウレア−ポリアミド共重合体(破
断伸度20%、ガラス転移点160℃)の4%のN,N
−ジメチルアセトアミド溶液をワイヤーバーで塗工し、
120℃で10分間乾燥して、2.5μm厚のオーバー
コート層を設け、可逆性感熱記録媒体を得た。オーバー
コート層の動摩擦係数は0.25であった。
Example 1 On a 75 μm thick polyethylene terephthalate (RET) film, 8 parts of stearyl stearate, 3 parts of di (2-ethylhexyl) phthalate and 28 parts of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (UCC) VYHH) and 2
A solution consisting of 00 parts of tetrahydrofuran was applied with a wire bar and dried at 80 ° C. for 3 minutes to provide a 15 μm thick thermosensitive recording layer. A solution consisting of 10 parts of a polyamide resin (manufactured by Toray Industries, Inc., CM8000) and 90 parts of methyl alcohol was coated on this recording layer with a wire bar,
After drying for an minute, an intermediate layer having a thickness of 0.5 μm was provided. On this intermediate layer, an α, ω-bis (3
-Aminopropyl) poly (dimethylsiloxane), and 4,4'-diisocyanate-3,3'-dimethyldiphenylmethane and azelaic acid / isophthalic acid (50/5
0) derived from a polysiloxane-urea-polyamide copolymer (elongation at break, 20%, glass transition point 160 ° C) consisting of 4% N, N
-Applying a dimethylacetamide solution with a wire bar,
After drying at 120 ° C. for 10 minutes, a 2.5 μm thick overcoat layer was provided to obtain a reversible thermosensitive recording medium. The dynamic friction coefficient of the overcoat layer was 0.25.

【0035】実施例2 実施例1と同様にして記録層と中間層を設けた後、15
00の平均分子量を有するα、ω−ビス(3−アミノプ
ロピル)ポリ(ジメチルシロキサン)、及び1,6−ジ
イソシアネートヘキサンとアジピン酸とから誘導された
1500の平均分子量を有する両末端ジイソシアネート
ポリアミドオリゴマーとからなる、ポリシロキサン−ウ
レア−ポリアミド共重合体(破断伸度55%、ガラス転
移点120℃)の4%のN,N−ジメチルアセトアミド
溶液をワイヤーバーで塗工し、120℃で10分間乾燥
して、2.5μm厚のオーバーコート層を設け、可逆性
感熱記録媒体を得た。オーバーコート層の動摩擦係数は
0.23であった。
Example 2 After providing a recording layer and an intermediate layer in the same manner as in Example 1,
Α, ω-bis (3-aminopropyl) poly (dimethylsiloxane) having an average molecular weight of 00, and a di-isocyanate polyamide oligomer having both ends terminated with an average molecular weight of 1500 derived from 1,6-diisocyanatohexane and adipic acid; , A 4% N, N-dimethylacetamide solution of a polysiloxane-urea-polyamide copolymer (55% elongation at break, glass transition point 120 ° C) is coated with a wire bar and dried at 120 ° C for 10 minutes. Thus, an overcoat layer having a thickness of 2.5 μm was provided to obtain a reversible thermosensitive recording medium. The dynamic friction coefficient of the overcoat layer was 0.23.

【0036】実施例3 実施例1と同様にして記録層と中間層を設けた後、15
00の平均分子量を有するα、ω−ビス(3−アミノプ
ロピル)ポリ(ジメチルシロキサン)、及び4,4′−
ジフェニルメタンジイソシアネートとアゼライン酸/イ
ソフタル酸(50/50)から誘導された1400の平
均分子量を有する両末端ジイソシアネートポリアミドオ
リゴマーとからなる、ポリシロキサン−ウレア−ポリア
ミド共重合体(破断伸度85%、ガラス転移点130
℃)の4%のN,N−ジメチルアセトアミド溶液をワイ
ヤーバーで塗工し、120℃で10分間乾燥して、2.
5μm厚のオーバーコート層を設け、可逆性感熱記録媒
体を得た。オーバーコート層の動摩擦係数は0.19で
あった。
Example 3 After providing a recording layer and an intermediate layer in the same manner as in Example 1,
Α, ω-bis (3-aminopropyl) poly (dimethylsiloxane) having an average molecular weight of 00, and 4,4′-
A polysiloxane-urea-polyamide copolymer (85% elongation at break, glass transition) consisting of diphenylmethane diisocyanate and a di-isocyanate polyamide oligomer having both ends terminated with an average molecular weight of 1400 derived from azelaic acid / isophthalic acid (50/50) Point 130
C) with a 4% N, N-dimethylacetamide solution with a wire bar and dried at 120C for 10 minutes.
An overcoat layer having a thickness of 5 μm was provided to obtain a reversible thermosensitive recording medium. The dynamic friction coefficient of the overcoat layer was 0.19.

【0037】実施例4 実施例1と同様にして記録層を設けた後、3500の平
均分子量を有するα、ω−ビス(3−アミノプロピル)
ポリ(ジメチルシロキサン)、及び4,4′−ジフェニ
ルメタンジイソシアネートとアゼライン酸/イソフタル
酸(50/50)から誘導された15050の平均分子
量を有する両末端ジイソシアネートポリアミドオリゴマ
ーとからなる、ポリシロキサン−ウレア−ポリアミド共
重合体(破断伸度20%、ガラス転移点185℃)の4
%のN,N−ジメチルアセトアミド溶液をワイヤーバー
で塗工し、120℃で10分間乾燥して、2.5μm厚
のオーバーコート層を設け、可逆性感熱記録媒体を得
た。オーバーコート層の動摩擦係数は0.20であっ
た。
Example 4 After a recording layer was provided in the same manner as in Example 1, α, ω-bis (3-aminopropyl) having an average molecular weight of 3500
Polysiloxane-urea-polyamide comprising poly (dimethylsiloxane) and di-isocyanate polyamide oligomers with both ends terminated with 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and azelaic acid / isophthalic acid (50/50) and having an average molecular weight of 15050 4 of copolymer (elongation at break: 20%, glass transition point: 185 ° C)
% N, N-dimethylacetamide solution was applied with a wire bar, and dried at 120 ° C. for 10 minutes to provide a 2.5 μm thick overcoat layer to obtain a reversible thermosensitive recording medium. The dynamic friction coefficient of the overcoat layer was 0.20.

【0038】実施例5 実施例1と同様にして記録層を設けた後、3500の平
均分子量を有するα、ω−ビス(3−アミノプロピル)
ポリ(ジメチルシロキサン)、及び4,4′−ジフェニ
ルメタンジイソシアネートとイソフタル酸から誘導され
た3500の平均分子量を有する両末端ジイソシアネー
トポリアミドオリゴマーとからなる、ポリシロキサン−
ウレア−ポリアミド共重合体(破断伸度60%、ガラス
転移点190℃)の4%のN,N−ジメチルアセトアミ
ド溶液をワイヤーバーで塗工し、120℃で10分間乾
燥して、2.5μm厚のオーバーコート層を設け、可逆
性感熱記録媒体を得た。オーバーコート層の動摩擦係数
は0.18であった。
Example 5 After a recording layer was formed in the same manner as in Example 1, α, ω-bis (3-aminopropyl) having an average molecular weight of 3500
Poly (dimethylsiloxane) and polysiloxane comprising 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and a di-isocyanate polyamide oligomer having both ends terminated with an average molecular weight of 3500 derived from isophthalic acid.
A 4% N, N-dimethylacetamide solution of a urea-polyamide copolymer (elongation at break: 60%, glass transition point: 190 ° C.) is applied with a wire bar, dried at 120 ° C. for 10 minutes, and dried at 2.5 μm. A thick overcoat layer was provided to obtain a reversible thermosensitive recording medium. The dynamic friction coefficient of the overcoat layer was 0.18.

【0038】比較例1 実施例1と同様にして可逆性感熱記録層を設け、中間層
とオーバーコート層は設けないで可逆性感熱記録媒体を
得た。
Comparative Example 1 A reversible thermosensitive recording medium was obtained in the same manner as in Example 1, except that an intermediate layer and an overcoat layer were not provided.

【0039】比較例2 実施例1と同様にして可逆性感熱記録層と中間層を設
け、その中間層上に3部のオルガノポリシロキサン(信
越シリコン社製、KS−779H)、0.01部の触媒
(信越シリコン社製、PL−8)及び92部のトルエン
から成る溶液をワイヤーバーで塗布し、80℃で1分間
乾燥して0.12μm厚のオーバーコート層を設けて可
逆性感熱記録媒体を得た。
Comparative Example 2 A reversible thermosensitive recording layer and an intermediate layer were provided in the same manner as in Example 1. On the intermediate layer, 3 parts of organopolysiloxane (KS-779H, manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., Ltd.) and 0.01 part were used. A solution consisting of a catalyst (PL-8, manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., Ltd.) and 92 parts of toluene was applied with a wire bar, dried at 80 ° C. for 1 minute, provided with an overcoat layer having a thickness of 0.12 μm, and reversible thermosensitive recording. I got the medium.

【0040】(評価方法)以上のように作成した可逆性
感熱記録媒体を薄膜サーマルヘッドを用いて0.5μJ
/dotの印字エネルギーで画像を形成した後、65℃
まで再加熱して画像を消去する操作を500回繰り返し
た。1回目、100回目、300回目及び500回目の
画像部と非画像部の濃度を、裏面に黒色紙をおいてマク
ベス濃度計RD514で測定し、その結果を表1に示し
た。
(Evaluation method) The reversible thermosensitive recording medium prepared as described above was subjected to 0.5 μJ using a thin film thermal head.
After forming an image with a printing energy of / dot, 65 ° C.
The operation of reheating until erasing the image was repeated 500 times. The density of the image portion and the non-image portion at the first, 100th, 300th, and 500th times was measured with a Macbeth densitometer RD514 with black paper on the back surface. The results are shown in Table 1.

【0041】[0041]

【表1】 [Table 1]

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明の可逆性感熱記録媒体は、前記特
定構造のポリシロキサン−ウレア−ポリアミドマルチブ
ロック共重合体からなるオーバーコート層を可逆性感熱
記録層上面に設けることによって、サーマルヘッドなど
の発熱体による画像形成と消去の繰り返しにおける非画
像部の透明度の低下を抑制することが可能となる。ま
た、該重合体として、その原料としてジイソシアネート
化合物及び/又はジカルボン酸化合物に少なくとも1個
の芳香族基を有するジイソシアネート化合物及び/又は
ジカルボン酸化合物を使用することにより、上記の透明
度の低下をさらに抑制することが可能となる。また、該
重合体として、フィルムにしたときの破断伸度が50%
以上であるポリシロキサン−ウレア−ポリアミドマルチ
ブロック共重合体を使用することによりオーバーコート
層構成物がサーマルヘッドなどの発熱体やその近傍に融
着又は付着して画像品質を低下させたり不完全な消去の
発生を防止することができる。更に、該重合体として、
180℃以上のガラス転移点を有するポリシロキサン−
ウレア−ポリアミドマルチブロック共重合体を使用する
ことにより、上記の透明度の低下をさらに抑制すること
が可能となる。更にまた、該重合体として、0.20以
下の動摩擦係数を有するポリシロキサン−ウレア−ポリ
アミドマルチブロック共重合体を使用することにより、
サーマルヘッドなどの発熱体とオーバーコート層との間
に発生する磨擦力が小さくなり、オーバーコート層の変
形が抑制されて、上記の透明度の低下をさらに防止する
ことが可能となる。
As described above, the reversible thermosensitive recording medium of the present invention is provided with an overcoat layer comprising the polysiloxane-urea-polyamide multi-block copolymer having the above-mentioned specific structure on the upper surface of the reversible thermosensitive recording layer. It is possible to suppress a decrease in the transparency of the non-image portion due to the repetition of image formation and erasing by the heating element. Further, by using a diisocyanate compound and / or a dicarboxylic acid compound having at least one aromatic group in the diisocyanate compound and / or the dicarboxylic acid compound as a raw material for the polymer, the above-mentioned decrease in transparency is further suppressed. It is possible to do. The polymer has a breaking elongation of 50% when formed into a film.
By using the above polysiloxane-urea-polyamide multi-block copolymer, the overcoat layer composition is fused or adhered to a heating element such as a thermal head or the vicinity thereof, thereby deteriorating image quality or incompletely forming the image. Erasure can be prevented. Further, as the polymer,
Polysiloxane having a glass transition point of 180 ° C. or higher
By using the urea-polyamide multi-block copolymer, it is possible to further suppress the above-mentioned decrease in transparency. Furthermore, by using a polysiloxane-urea-polyamide multi-block copolymer having a dynamic friction coefficient of 0.20 or less as the polymer,
The frictional force generated between the heating element such as a thermal head and the overcoat layer is reduced, and the deformation of the overcoat layer is suppressed, so that the above-described decrease in transparency can be further prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係わる感熱層で画像の形成・消去を行
なう場合の説明図。
FIG. 1 is an explanatory diagram in a case where an image is formed / erased by a heat-sensitive layer according to the present invention.

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41M 5/36 B41M 5/28 - 5/34 Continuation of the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) B41M 5/36 B41M 5/28-5/34

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 支持体上に、樹脂マトリックス及び該樹
脂マトリックス中に分散させた低分子有機化合物を主成
分とし、透明度が温度変化に依存して可逆的に変化する
感熱記録層を設けた可逆性感熱記録媒体において、該感
熱記録層上にポリシロキサン−ウレア−ポリアミドマル
チブロック共重合体から成るオーバーコート層を設けた
ことを特徴とする可逆性感熱記録媒体。
1. A reversible thermosensitive recording layer comprising, as a main component, a resin matrix and a low molecular weight organic compound dispersed in the resin matrix, and having a transparency that reversibly changes depending on a temperature change. A reversible thermosensitive recording medium, characterized in that an overcoat layer comprising a polysiloxane-urea-polyamide multiblock copolymer is provided on the thermosensitive recording layer.
【請求項2】 前記ポリシロキサン−ウレア−ポリアミ
ドマルチブロック共重合体が、下記一般式(1)で表さ
れる繰り返し単位を有する共重合体であることを特徴と
する請求項1記載の可逆性感熱記録媒体。 【化1】 (式中、R1は、炭素数10以下の2価の有機基、R2
びR3は炭素数2以上の2価の有機基をそれぞれ表し、
1、L2、L3及びL4は、(a)炭素数1〜12のアル
キル基、(b)ハロゲン原子又はCN基で置換された炭
素数1〜12のアルキル基、(c)フェニル基及び、
(d)炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシ基又はハ
ロゲン原子で置換されたフェニル基からなる群より任意
に選択される基を表し、xは5〜300の整数、yは1
〜50、nは2〜30の整数をそれぞれ表す。)
2. The reversible feeling according to claim 1, wherein the polysiloxane-urea-polyamide multiblock copolymer is a copolymer having a repeating unit represented by the following general formula (1). Thermal recording medium. Embedded image (Wherein, R 1 represents a divalent organic group having 10 or less carbon atoms, R 2 and R 3 each represent a divalent organic group having 2 or more carbon atoms,
L 1 , L 2 , L 3 and L 4 represent (a) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, (b) an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms substituted with a halogen atom or a CN group, and (c) phenyl Group and
(D) represents a group arbitrarily selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group or a phenyl group substituted with a halogen atom, x is an integer of 5 to 300, and y is 1
To 50 and n each represent an integer of 2 to 30. )
【請求項3】 前記一般式(1)のR2及び/又はR
3が、少なくとも1個の芳香族基を含有する2価の基で
あることを特徴とする請求項2に記載の可逆性感熱記録
媒体。
3. R 2 and / or R in the general formula (1)
3. The reversible thermosensitive recording medium according to claim 2, wherein 3 is a divalent group containing at least one aromatic group.
【請求項4】 前記一般式(1)で表されるポリシロキ
サン−ウレア−ポリアミドマルチブロック共重合体が、
フィルムにしたときに50%以上の破断伸度を有するこ
とを特徴とする請求項2記載の可逆性感熱記録媒体。
4. The polysiloxane-urea-polyamide multiblock copolymer represented by the general formula (1),
The reversible thermosensitive recording medium according to claim 2, wherein the recording medium has a breaking elongation of 50% or more when formed into a film.
【請求項5】 前記一般式(1)で表されるポリシロキ
サン−ウレア−ポリアミドマルチブロック共重合体が、
180℃以上のガラス転移点を有することを特徴とする
請求項2記載の可逆性感熱記録媒体。
5. The polysiloxane-urea-polyamide multiblock copolymer represented by the general formula (1),
3. The reversible thermosensitive recording medium according to claim 2, having a glass transition point of 180 [deg.] C. or higher.
【請求項6】 前記一般式(1)で表わされるポリシロ
キサン−ウレア−ポリアミドマルチブロック共重合体
が、0.20以下の動摩擦係数を有することを特徴とす
る請求項2に記載の可逆性感熱記録媒体。
6. The reversible heat-sensitive material according to claim 2, wherein the polysiloxane-urea-polyamide multi-block copolymer represented by the general formula (1) has a dynamic friction coefficient of 0.20 or less. recoding media.
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