JP3231566B2 - Process for producing (1'E) -3,4-bis (1'-butenyl) tetrahydro-2-furanone - Google Patents
Process for producing (1'E) -3,4-bis (1'-butenyl) tetrahydro-2-furanoneInfo
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Landscapes
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、オーストラリアに生息
し、レモンやマンダリンなどの柑橘類の害虫(カメムシ
科の昆虫:Biprorulus bibax Breddin)の誘引フェロモ
ンであるシス−(1′E)−3,4−ビス(1′−ブテ
ニル)テトラヒドロ−2−フラノールの合成中間体とし
て有用である下記式(A’)BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to cis- (1'E) -3,4 which is an inhabiting pheromone of citrus pests such as lemon and mandarin (insects of the family Biprorulus bibax Breddin) inhabiting Australia. Formula (A ') useful as a synthetic intermediate of -bis (1'-butenyl) tetrahydro-2-furanol
【化3】 で表されるシス−(1’E)−3,4−ビス(1’−ブ
テニル)テトラヒドロ−2−フラノンの新規な製法に関
する。Embedded image The present invention relates to a novel method for producing cis- (1′E) -3,4-bis (1′-butenyl) tetrahydro-2-furanone represented by the formula:
【0002】さらに詳しくは、下記式(C)More specifically, the following formula (C)
【化4】 の2(Z)−ヘキセン−1,4−ジオールまたは下記式
(D)Embedded image 2 (Z) -hexene-1,4-diol of the following formula (D)
【化5】 の2(E)−ヘキセン−1,4−ジオールから、下記式
(B)Embedded image From 2 (E) -hexene-1,4-diol of formula (B)
【化6】 [式中、Rは水酸基保護基を示す] の(3E,7E)−5−(オキシ置換メチル)−6−ヒ
ドロキシカルボニル−3,7−デカジエン、または下記
式(B’)Embedded image [Wherein R represents a hydroxyl-protecting group] (3E, 7E) -5- (oxy-substituted methyl) -6-hydroxycarbonyl-3,7-decadiene, or the following formula (B ′)
【化7】 [式中、Rは水酸基保護基を示す] のシス−(3E,7E)−5−(オキシ置換メチル)−
6−ヒドロキシカルボニル−3,7−デカジエンを形成
させ、該化合物から式(E)Embedded image [Wherein R represents a hydroxyl-protecting group] cis- (3E, 7E) -5- (oxy-substituted methyl)-
6-hydroxycarbonyl-3,7-decadiene is formed and the compound of formula (E)
【化8】 のメソ−(3E,7E)−5,6−ビス(ヒドロキシメ
チル)−3,7−デカジエンを経ることなく直接上記式
(A’)のシス−(1’E)−3,4−ビス(1’−ブ
テニル)テトラヒドロ−2−フラノンを製造する新規な
製法に関する。Embedded image Of the above formula (A ′) directly without passing through meso- (3E, 7E) -5,6-bis (hydroxymethyl) -3,7-decadiene. The present invention relates to a novel process for producing (1′-butenyl) tetrahydro-2-furanone.
【0003】[0003]
【従来の技術】従来、前記式(A’)化合物のシス−
(1’E)−3,4−ビス(1’−ブテニル)テトラヒ
ドロ−2−フラノンの製造法については、例えば、式
(E)化合物であるメソ−(3E,7E)−5,6−ビ
ス(ヒドロキシメチル)−3,7−デカジエンを経由
し、これを酸化することにより式(A’)化合物を得る
方法が幾つか提案されている。2. Description of the Related Art Conventionally, cis-
For the method for producing (1′E) -3,4-bis (1′-butenyl) tetrahydro-2-furanone, for example, meso- (3E, 7E) -5,6-bis which is a compound of formula (E) Several methods have been proposed for obtaining the compound of the formula (A ') by oxidizing this via (hydroxymethyl) -3,7-decadiene.
【0004】例えば、 (a)法:3(E)−ヘキセン酸を塩基(リチウムジイ
ソプロピルアミド)、次いでヨウ素と処理し、酸化的カ
ップリング反応を行い、コハク酸誘導体とし、更に該化
合物を還元剤(水素化リチウムアルミニウム)で還元し
て式(E)化合物とした後、これを酸化することによる
式(A’)化合物の合成法[TetrahedronLetters,33
(7),891〜894,1992]、 (b)法:ブタジエンと無水マレイン酸のジールス−ア
ルダー(Diels-Alder)反応物を出発原料に、11工程
を経て式(E)化合物とした後、酸化することによる式
(A’)化合物の合成法[Liebigs Ann.Chem.1992,1185
〜1190]、 (c)法: プロパルギルアルコールのテトラヒドロピ
ラニルエーテルから得られる(E)−3−ヘキセン酸
(E)−4’−(t−ブチルジメチルシリル)−1’−
エチル−2’ーブテニルのクライゼン転位反応を利用
し、式(B’)化合物を経由して式(E)化合物とした
後、これを酸化することによる式(A’)化合物の合成
法[liebigs Ann.Chem.1993,1287〜1294] などが提案されている。式(A)化合物も上記と同様に
式(B)化合物を経て合成される。(a)〜(c)法で
は、いずれの場合も式(E)化合物を酸化して式
(A’)化合物を得ている。その酸化反応には、炭酸銀
/セライト、二酸化マンガンあるいはピリジニウムクロ
ロクロメートなど、高価で毒性の強い酸化剤を使用して
いる。また、操作が繁雑であり、大量製造には必ずしも
満足できるものではなかった。For example, method (a): 3 (E) -hexenoic acid is treated with a base (lithium diisopropylamide) and then with iodine to carry out an oxidative coupling reaction to form a succinic acid derivative, and further to convert the compound into a reducing agent (Lithium aluminum hydride) to give a compound of formula (E), which is then oxidized to synthesize a compound of formula (A ′) [Tetrahedron Letters, 33
(7), 891 to 894, 1992], (b) Method: Starting from a Diels-Alder reaction product of butadiene and maleic anhydride as a starting material, the compound of formula (E) is obtained through 11 steps, Synthesis of compound of formula (A ') by oxidation [Liebigs Ann. Chem. 1992, 1185
~ 1190], Method (c): (E) -3-hexenoic acid (E) -4 '-(t-butyldimethylsilyl) -1'- obtained from tetrahydropyranyl ether of propargyl alcohol
A method for synthesizing a compound of the formula (A ') by converting the compound of the formula (E) into a compound of the formula (E) via the compound of the formula (B') by utilizing the Claisen rearrangement reaction of ethyl-2'butenyl [liebigs Ann] Chem. 1993, 1287-1294]. The compound of formula (A) is also synthesized via the compound of formula (B) in the same manner as described above. In each of the methods (a) to (c), the compound of the formula (E) is oxidized to obtain the compound of the formula (A ′). In the oxidation reaction, expensive and highly toxic oxidizing agents such as silver carbonate / celite, manganese dioxide or pyridinium chlorochromate are used. In addition, the operation is complicated, and mass production is not always satisfactory.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】上記(a)〜(c)の
方法によれば、式(E)化合物を酸化することにより式
(A’)化合物であるシス−(1’E)−3,4−ビス
(1’−ブテニル)テトラヒドロ−2−フラノンを生成
させることができる。上記の方法は、トランス体等を分
離した式(E)化合物を使用するため、純度よく式
(A’)化合物である上記フラノン化合物を製造するこ
とができる。しかし上記の方法は、式(B’)化合物か
ら式(A’)化合物にいたる工程が長いこと、式
(A’)化合物であるラクトン体への酸化には高価で毒
性の強い酸化剤を用いねばならないこと、また(c)法
においては、還元工程では無水条件が必要であり、酸化
工程では溶媒を大量に使用しなければならないなど操作
が非常に繁雑であること等の欠点があり、満足すべきも
のではなかった。According to the above methods (a) to (c), cis- (1'E) -3 which is a compound of the formula (A ') is obtained by oxidizing the compound of the formula (E). , 4-Bis (1′-butenyl) tetrahydro-2-furanone. Since the above method uses the compound of formula (E) from which the trans form or the like is separated, the above-mentioned furanone compound which is the compound of formula (A ′) can be produced with high purity. However, the above method requires a long process from the compound of the formula (B ′) to the compound of the formula (A ′), and uses an expensive and highly toxic oxidizing agent to oxidize the lactone compound as the compound of the formula (A ′). In the method (c), there are disadvantages such as the need for anhydrous conditions in the reduction step, the use of a large amount of solvent in the oxidation step, and very complicated operations. It was not something to be done.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
上述の課題を解決しうる工業的に有利な式(A’)化合
物の新規製造法を確立するため鋭意研究を行ってきた。
その結果、式(B’)化合物から還元、酸化工程を省略
し、一工程で上記フラノン化合物を合成できる製造方法
を提供できることを見いだした。この製造方法によれ
ば、使用する酸は一般的なものでよく、安価に製造でき
るという利点がある。特に好ましくは、出発原料として
2(Z)−ヘキセン−1,4−ジオールを選ぶことによ
り、式(A’)化合物の異性体であるトランス体の副生
成量が極めて少なく、好収率に、好純度にシス体である
式(A’)化合物が合成できることを見いだした。Means for Solving the Problems Accordingly, the present inventors have:
Intensive research has been conducted in order to establish a new production method of an industrially advantageous compound of the formula (A ') which can solve the above-mentioned problems.
As a result, they have found that it is possible to provide a production method capable of synthesizing the furanone compound in one step by omitting the reduction and oxidation steps from the compound of the formula (B ′). According to this production method, an acid to be used may be a general acid and has an advantage that it can be produced at low cost. Particularly preferably, by selecting 2 (Z) -hexene-1,4-diol as a starting material, the amount of by-products of the trans isomer, which is an isomer of the compound of the formula (A ′), is extremely small, and the yield is high. It has been found that a compound of formula (A '), which is a cis form, can be synthesized with high purity.
【0007】本発明は、下記式(B’)The present invention provides the following formula (B ')
【化9】 [式中、Rは水酸基保護基を示す] で表されるシス−(3E,7E)−5−(オキシ置換メ
チル)−6−ヒドロキシカルボニル−3,7−デカジエ
ンを有機溶媒中、酸で処理して下記式(A’)Embedded image [Wherein R represents a hydroxyl-protecting group] The cis- (3E, 7E) -5- (oxy-substituted methyl) -6-hydroxycarbonyl-3,7-decadiene represented by the formula is treated with an acid in an organic solvent. And the following formula (A ')
【化10】 で表されるシス−(1’E)−3,4−ビス(1’−ブ
テニル)テトラヒドロ−2−フラノンの製法を提供す
る。Embedded image A process for producing cis- (1′E) -3,4-bis (1′-butenyl) tetrahydro-2-furanone represented by the formula:
【0008】本発明において、出発原料として使用され
る(シス−)(3E,7E)−5−(オキシ置換メチ
ル)−6−ヒドロキシカルボニル−3,7−デカジエン
(式(B)化合物または式(B’)化合物)は、例え
ば、特願平5−95409号および平成6年11月28
日提出特許願(発明の名称:メソ−(3E,7E)−
5,6−ビス(ヒドロキシメチル)−3,7−デカジエ
ンの製法 )に詳細に記載した方法によって製造され
る。In the present invention, (cis-) (3E, 7E) -5- (oxy-substituted methyl) -6-hydroxycarbonyl-3,7-decadiene (compound of formula (B) or formula (B) B ') Compound) is disclosed, for example, in Japanese Patent Application No. 5-95409 and November 28, 1994.
Japanese Patent Application (Title of Invention: Meso- (3E, 7E)-)
Production method of 5,6-bis (hydroxymethyl) -3,7-decadiene).
【0009】本発明において、オキシ置換メチル基中の
オキシの置換基(R)としては水酸基保護機能を果たす
ものであれば特に制限はなく、次のものが例示される。
t−ブチルジメチルシリル基、ジメチルエチルシリル
基、イソプロピルジメチルシリル基、t−ブチルジフェ
ニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリエチル
シリル基、メトキシメチル基、テトラヒドロピラニル
基、4−メトキシテトラヒドロピラニル基、テトラヒド
ロフラニル基、1−エトキシエチル基またはベンジル基
等。以下、オキシ置換基がt−ブチルジメチルシリル基
である場合について説明する。特願平5−95409号
明細書には出発原料として2(E)−ヘキセン−1,4
−ジオールを、平成6年11月28日提出特許願には出
発原料として2(Z)−ヘキセン−1,4−ジオールを
使用して(3E,7E)−5−(t−ブチルジメチルシ
リロキシ)−6−ヒドロキシカルボニル−3,7−デカ
ジエンを経てメソ−(3E,7E)−5,6−ビス(ヒ
ドロキシメチル)−3,7−デカジエンを形成する方法
が詳細に記載されている。上記方法を次に説明する。In the present invention, the oxy substituent (R) in the oxy-substituted methyl group is not particularly limited as long as it has a hydroxyl group protecting function, and the following are exemplified.
t-butyldimethylsilyl group, dimethylethylsilyl group, isopropyldimethylsilyl group, t-butyldiphenylsilyl group, triisopropylsilyl group, triethylsilyl group, methoxymethyl group, tetrahydropyranyl group, 4-methoxytetrahydropyranyl group, A tetrahydrofuranyl group, a 1-ethoxyethyl group or a benzyl group; Hereinafter, the case where the oxy substituent is a t-butyldimethylsilyl group will be described. Japanese Patent Application No. 5-95409 discloses that 2 (E) -hexene-1,4 is used as a starting material.
-Diol was used in a patent application filed on November 28, 1994 using (3E, 7E) -5- (t-butyldimethylsilyloxy) using 2 (Z) -hexene-1,4-diol as a starting material. A method for forming meso- (3E, 7E) -5,6-bis (hydroxymethyl) -3,7-decadiene via 6) -6-hydroxycarbonyl-3,7-decadiene is described in detail. The above method will be described next.
【0010】式(C)化合物である2(Z)−ヘキセン
−1,4−ジオールまたは式(D)化合物である2
(E)−ヘキセン−1,4−ジオールを有機溶媒中、塩
基の存在下に例えばt−ブチルジメチルシリルクロリド
(以下TBSClともいう)と反応させて式(F)化合
物The compound of formula (C), 2 (Z) -hexene-1,4-diol, or the compound of formula (D), 2
(E) -Hexene-1,4-diol is reacted with, for example, t-butyldimethylsilyl chloride (hereinafter also referred to as TBSCl) in an organic solvent in the presence of a base to give a compound of the formula (F)
【化11】 [式中、TBSはt−ブチルジメチルシリルを示す] である1−(t−ブチルジメチルシリロキシ)−2
(Z)−ヘキセン−4−オールまたは式(G)化合物Embedded image [Wherein TBS represents t-butyldimethylsilyl] 1- (t-butyldimethylsilyloxy) -2
(Z) -Hexen-4-ol or compound of formula (G)
【化12】 [式中、TBSはt−ブチルジメチルシリルを示す] である1−(t−ブチルジメチルシリロキシ)−2
(E)−ヘキセン−4−オールを形成させる第1工程、
該式(F)化合物または式(G)化合物を有機溶媒中、
ジシクロヘキシルカルボジイミド(以下DCCともい
う)の存在下に3(E)−ヘキセン酸と反応させて式
(H)化合物Embedded image [Wherein TBS represents t-butyldimethylsilyl] 1- (t-butyldimethylsilyloxy) -2
A first step of forming (E) -hexen-4-ol,
The compound of the formula (F) or the compound of the formula (G) is dissolved in an organic solvent,
Reacting with 3 (E) -hexenoic acid in the presence of dicyclohexylcarbodiimide (hereinafter also referred to as DCC) to obtain a compound of formula (H)
【化13】 [式中、TBSはt−ブチルジメチルシリルを示す] である(3E,2’Z)−3−ヘキセン酸4′−(t−
ブチルジメチルシリロキシ)−1′−エチル−2′−ブ
テニルまたは式(I)化合物Embedded image [Wherein TBS represents t-butyldimethylsilyl] (3E, 2′Z) -3-hexenoic acid 4 ′-(t-
Butyldimethylsilyloxy) -1'-ethyl-2'-butenyl or a compound of formula (I)
【化14】 [式中、TBSはt−ブチルジメチルシリルを示す] である(3E,2’Z)−3−ヘキセン酸4′−(t−
ブチルジメチルシリロキシ)−1′−エチル−2′−ブ
テニルを形成させる第2工程、該式(H)化合物または
式(I)化合物を有機溶媒中、塩基の存在下にエノール
化させた後、トリメチルシリルクロリド(以下TMSC
lともいう)でトリメチルシリルエーテル化し、次に転
移反応させ、続いて加水分解することにより式(B)化
合物である(3E,7E)−5−(t−ブチルジメチル
シリロキシメチル)−6−ヒドロキシカルボニル−3,
7−デカジエンを形成させる第3工程からなる製造方法
により、容易に式(B)化合物を合成することができ
る。式(B’)化合物は式(B)化合物を精製すること
で容易に得ることができる。以下に、式(B)化合物ま
たは式(B’)化合物を合成する第1工程から第3工程
を各工程別に詳細に説明する。Embedded image [Wherein TBS represents t-butyldimethylsilyl] (3E, 2′Z) -3-hexenoic acid 4 ′-(t-
(Butyldimethylsilyloxy) -1′-ethyl-2′-butenyl, a second step, after enolizing the compound of the formula (H) or the compound of the formula (I) in an organic solvent in the presence of a base, Trimethylsilyl chloride (hereinafter TMSC)
l)), followed by a transfer reaction, followed by hydrolysis to give the compound of formula (B) (3E, 7E) -5- (t-butyldimethylsilyloxymethyl) -6-hydroxy. Carbonyl-3,
The compound of formula (B) can be easily synthesized by the production method comprising the third step of forming 7-decadiene. The compound of the formula (B ′) can be easily obtained by purifying the compound of the formula (B). Hereinafter, the first to third steps for synthesizing the compound of the formula (B) or the compound of the formula (B ′) will be described in detail for each step.
【0011】第1工程の製造法:[式(C)または式(D)化合物の
合成] 式(F)化合物または式(G)化合物の合成原料である
式(C)化合物または式(D)化合物は公知であり、従
来提案の方法により合成することもできるし、また本発
明者らが見い出した方法により製造することもできる。
以下この製造法について説明する。酸の存在下にプロパ
ギルアルコールとエチルビニルエーテルまたは2,3−
ジヒドロピランとを反応させてプロパルギルアルコール
のエトキシエーテルあるいはテトラヒドロピラニルエー
テルを生成させる。該生成物とエチルマグネシウムブロ
ミドを反応させた後、プロパナールと反応させて1−エ
トキシエトキシ−2−ヘキシン−4−オールあるいは1
−テトラヒドロピラノキシ−2−ヘキシン−4−オール
を生成させる。次いで該生成物をメタノール中、p−ト
ルエンスルホン酸で処理して2−ヘキシン−1,4−ジ
オールを生成させる。更に該生成物をリンドラー触媒の
存在下、接触水素還元することにより、式(C)化合物
を、また水素化リチウムアルミニウムのような還元剤で
還元することにより式(D)化合物を得ることができ
る。 Production method of the first step: [Formula (C) or compound (D)
Synthesis] The compound of the formula (C) or the compound of the formula (D), which is a raw material for synthesizing the compound of the formula (F) or the compound of the formula (G), is known, and can be synthesized by a conventionally proposed method. They can also be manufactured by the method that they have found.
Hereinafter, this manufacturing method will be described. Propagyl alcohol and ethyl vinyl ether or 2,3-
Reaction with dihydropyran produces ethoxyether or tetrahydropyranyl ether of propargyl alcohol. After reacting the product with ethylmagnesium bromide, it is reacted with propanal to give 1-ethoxyethoxy-2-hexyn-4-ol or 1-ethoxyethoxy-2-hexyn-4-ol.
-To produce tetrahydropyranoxy-2-hexyn-4-ol. The product is then treated with p-toluenesulfonic acid in methanol to produce 2-hexyne-1,4-diol. Furthermore, the compound of formula (C) can be obtained by subjecting the product to catalytic hydrogen reduction in the presence of a Lindlar catalyst to reduce the compound of formula (C) and a reducing agent such as lithium aluminum hydride. .
【0012】第1工程によれば、式(C)化合物である
2(Z)−ヘキセン−1,4−ジオールまたは式(D)
化合物である2(E)−ヘキセン−1,4−ジオールを
有機溶媒中、塩基の存在下にt−ブチルジメチルシリル
クロリド(TBSCl)と反応させて式(F)化合物で
ある1−(t−ブチルジメチルシリロキシ)−2(Z)
−ヘキセン−4−オールまたは式(G)化合物である1
−(t−ブチルジメチルシリロキシ)−2(E)−ヘキ
セン−4−オールを容易に合成できる。According to the first step, 2 (Z) -hexene-1,4-diol which is a compound of the formula (C) or a compound of the formula (D)
The compound 2 (E) -hexene-1,4-diol is reacted with t-butyldimethylsilyl chloride (TBSCl) in an organic solvent in the presence of a base, and the compound of formula (F) 1- (t- Butyldimethylsilyloxy) -2 (Z)
-Hexen-4-ol or a compound of formula (G) 1
-(T-Butyldimethylsilyloxy) -2 (E) -hexen-4-ol can be easily synthesized.
【0013】式(C)または式(D)化合物から式
(F)または式(G)化合物への反応の反応温度および
反応時間は、例えば約−30℃〜約50℃程度、より好
ましくは約0℃〜約30℃の温度範囲で、約1時間〜約
24時間程度を採用できる。使用するTBSClの使用
量は、式(C)または式(D)化合物1モルに対して約
1.0モル〜約1.5モル程度の範囲内を例示できる。
この反応で用いる有機溶媒の具体例としては、例えばジ
クロルメタン、ジクロルエタン、クロルホルムなどのハ
ロゲン化炭化水素などが例示される。これらの有機溶媒
の使用量は、例えば式(C)または式(D)化合物1重
量部に対して約1〜約100重量部程度の範囲が好まし
く例示される。また、この反応で使用する塩基の種類と
しては、例えばトリエチルアミン、トリブチルアミン、
ピリジン、イミダゾールなどの含窒素有機塩基などが例
示される。その使用量は、式(C)または式(D)化合
物1モルに対して約1モル〜約5モル程度の範囲内が例
示される。この反応は、例えば4−(ジメチルアミノ)
ピリジン(以下DMAPともいう)などの反応促進剤の
存在下に行うのが好ましい。反応終了後、蒸留、洗浄、
抽出、乾燥、カラムクロマトグラフィーなどの通常の分
離手段を適宜に採用して好収率、好純度に式(F)また
は式(G)化合物を得ることができる。The reaction temperature and the reaction time of the reaction from the compound of formula (C) or (D) to the compound of formula (F) or (G) are, for example, about -30 ° C. to about 50 ° C., more preferably about 30 ° C. In the temperature range of 0 ° C. to about 30 ° C., about 1 hour to about 24 hours can be employed. The amount of TBSCl used can be in the range of about 1.0 mol to about 1.5 mol per 1 mol of the compound of formula (C) or (D).
Specific examples of the organic solvent used in this reaction include, for example, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, and chloroform. The use amount of these organic solvents is preferably, for example, in the range of about 1 to about 100 parts by weight per 1 part by weight of the compound of the formula (C) or (D). As the type of base used in this reaction, for example, triethylamine, tributylamine,
Examples thereof include nitrogen-containing organic bases such as pyridine and imidazole. The amount used is, for example, in the range of about 1 mol to about 5 mol per 1 mol of the compound of the formula (C) or the formula (D). This reaction is carried out, for example, by using 4- (dimethylamino)
It is preferable to carry out the reaction in the presence of a reaction accelerator such as pyridine (hereinafter also referred to as DMAP). After completion of the reaction, distillation, washing,
The compound of formula (F) or (G) can be obtained in good yield and good purity by appropriately employing ordinary separation means such as extraction, drying and column chromatography.
【0014】第2工程の製造法:[式(H)または式(I)化合物の
合成] 第2工程によれば、前記式(F)化合物である1−(t
−ブチルジメチルシリロキシ)−2(Z)−ヘキセン−
4−オールまたは式(G)化合物である1−(t−ブチ
ルジメチルシリロキシ)−2(E)−ヘキセン−4−オ
ールを有機溶媒中、ジシクロヘキシルカルボジイミド
(以下DCCともいう)の存在下に3(E)−ヘキセン
酸と反応させて式(H)化合物である(3E,2’Z)
−3−ヘキセン酸4′−(t−ブチルジメチルシリロキ
シ)−1′−エチル−2′−ブテニルまたは式(I)化
合物である(3E,2’E)−3−ヘキセン酸4′−
(t−ブチルジメチルシリロキシ)−1′−エチル−
2′−ブテニルを容易に合成できる。 Production method of the second step: [Formula (H) or compound (I)
Synthesis] According to the second step, the compound of formula (F) 1- (t
-Butyldimethylsilyloxy) -2 (Z) -hexene-
4-ol or 1- (t-butyldimethylsilyloxy) -2 (E) -hexen-4-ol, which is a compound of the formula (G), is dissolved in an organic solvent in the presence of dicyclohexylcarbodiimide (hereinafter also referred to as DCC). Reacting with (E) -hexenoic acid to obtain a compound of formula (H) (3E, 2′Z)
4 '-(t-butyldimethylsilyloxy) -1'-ethyl-2'-butenyl-3-hexenoic acid or (3E, 2'E) -3-hexenoic acid 4'- which is a compound of the formula (I)
(T-butyldimethylsilyloxy) -1′-ethyl-
2'-butenyl can be easily synthesized.
【0015】反応時間は反応温度によっても異なるが、
例えば約0℃〜約80℃程度の温度範囲で、約1時間〜
約10時間程度を採用できる。反応させる3(E)−ヘ
キセン酸の好ましい使用量は、式(F)または式(G)
化合物1モルに対して約1モル〜約2モル程度の範囲内
を挙げることができる。使用する有機溶媒の具体例とし
ては、例えばジクロルメタン、ジクロルエタン、クロル
ホルムなどのハロゲン化炭化水素などが例示される。こ
れらの有機溶媒の使用量は、例えば式(F)または式
(G)化合物1重量部に対して約1〜約100重量部程
度の範囲が例示される。また、DCCの使用量として
は、例えば式(F)または式(G)化合物1モルに対し
て約1モル〜約5モル程度の範囲内が好ましく例示され
る。この工程においてもDMAPなどの反応促進剤の存
在下に行うのが好ましい。反応終了後、蒸留、洗浄、抽
出、乾燥、カラムクロマトグラフィーなどの通常の分離
手段を適宜に採用して好収率、好純度に式(H)または
式(I)化合物が容易に合成される。Although the reaction time varies depending on the reaction temperature,
For example, in a temperature range of about 0 ° C. to about 80 ° C., for about 1 hour to
About 10 hours can be adopted. The preferred amount of 3 (E) -hexenoic acid to be reacted is the formula (F) or the formula (G)
The range is about 1 mol to about 2 mol per 1 mol of the compound. Specific examples of the organic solvent used include, for example, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, and chloroform. The amount of the organic solvent used is, for example, in the range of about 1 to about 100 parts by weight per 1 part by weight of the compound of the formula (F) or the formula (G). The amount of DCC used is preferably, for example, in the range of about 1 mol to about 5 mol per 1 mol of the compound of formula (F) or formula (G). This step is also preferably carried out in the presence of a reaction accelerator such as DMAP. After completion of the reaction, the compound of formula (H) or formula (I) is easily synthesized in good yield and high purity by appropriately employing ordinary separation means such as distillation, washing, extraction, drying, and column chromatography. .
【0016】第3工程の製造法:[式(B)化合物の合成] 第3工程によれば、前記式(H)化合物である(3E,
2’Z)−3−ヘキセン酸4′−(t−ブチルジメチル
シリロキシ)−1′−エチル−2′−ブテニルまたは式
(I)化合物である(3E,2’E)−3−ヘキセン酸
4′−(t−ブチルジメチルシリロキシ)−1′−エチ
ル−2′−ブテニルを有機溶媒中、塩基によりエノール
化させた後、TMSClでトリメチルシリルエーテル化
し、次に転移反応させ、続いて加水分解することにより
式(B)化合物である(3E,7E)−5−(t−ブチ
ルジメチルシリロキシメチル)−6−ヒドロキシカルボ
ニル−3,7−デカジエンが製造される。式(B’)化
合物は、式(B)化合物をカラムクロマトグラフィー、
蒸留など通常の分離手段を適宜に採用し、分離精製する
ことにより得られる。 Production method of the third step: [Synthesis of compound of formula (B)] According to the third step, the compound of the formula (H) (3E,
2'Z) -3-hexenoic acid 4 '-(t-butyldimethylsilyloxy) -1'-ethyl-2'-butenyl or (3E, 2'E) -3-hexenoic acid which is a compound of formula (I) After enolization of 4 '-(t-butyldimethylsilyloxy) -1'-ethyl-2'-butenyl with a base in an organic solvent, trimethylsilyl etherification with TMSCl, followed by a transfer reaction, followed by hydrolysis By doing so, (3E, 7E) -5- (t-butyldimethylsilyloxymethyl) -6-hydroxycarbonyl-3,7-decadiene which is a compound of the formula (B) is produced. The compound of the formula (B ′) is obtained by subjecting the compound of the formula (B) to column chromatography,
It is obtained by appropriately employing ordinary separation means such as distillation, and performing separation and purification.
【0017】上記エノール化反応の反応温度は、例えば
約−100℃〜約0℃程度、より好ましくは約−80℃
〜約−50℃の温度範囲、また反応時間は、約0.5時
間〜約3.0時間程度を採用できる。この反応で用いる
有機溶媒の具体例としては、例えばヘキサメチレンホス
ホロアミド(HMPA)、テトラヒドロフラン(TH
F)、ジメトキシエタン、n−ヘキサン、トルエン、ベ
ンゼン、ジエチルエーテルなどが例示される。これらの
溶媒は単独もしくは混合物としても使用できる。有機溶
媒の使用量は、例えば式(H)または式(I)化合物1
重量部に対して約1〜約100重量部程度の範囲を好ま
しく例示できる。また、この反応で使用する塩基の種類
としては、例えばリチウムヘキサメチルジシラジド(L
HMDS)、リチウムジイソプロピルアミド、リチウム
テトラメチルピペラジド、ブチルリチウム、水素化ナト
リウムなどが例示される。その使用量は、式(H)また
は式(I)化合物1モルに対して約1モル〜約2モル程
度の範囲が例示される。生成したエノール化合物は、単
離することなく同一の反応系で次のエノールエーテル化
反応並びに転移反応に供することができる。The reaction temperature of the above enolization reaction is, for example, about -100 ° C to about 0 ° C, more preferably about -80 ° C.
A temperature range of about to -50C and a reaction time of about 0.5 to about 3.0 hours can be employed. Specific examples of the organic solvent used in this reaction include, for example, hexamethylene phosphoramide (HMPA), tetrahydrofuran (TH
F), dimethoxyethane, n-hexane, toluene, benzene, diethyl ether and the like. These solvents can be used alone or as a mixture. The amount of the organic solvent used is, for example, the compound of formula (H) or compound (I)
A preferred range is from about 1 to about 100 parts by weight based on parts by weight. As the type of base used in this reaction, for example, lithium hexamethyldisilazide (L
HMDS), lithium diisopropylamide, lithium tetramethylpiperazide, butyllithium, sodium hydride and the like. The amount used is, for example, about 1 mol to about 2 mol per 1 mol of the compound of the formula (H) or the formula (I). The produced enol compound can be subjected to the next enol etherification reaction and transfer reaction in the same reaction system without isolation.
【0018】この工程のエノールエーテル化反応及び転
移反応は、生成したエノールをTMSClでトリメチル
シリルエーテル化し、次に徐々に室温まで温度を上昇さ
せることにより、転移させる。TMSClでトリメチル
シリルエーテル化する工程の反応温度および反応時間
は、例えば約−100℃〜約0℃程度の温度範囲で、約
0.1時間〜約2時間程度を採用できる。また、TMS
Clの使用量は、式(H)または式(I)化合物1モル
に対して約1モル〜約3モル程度の範囲を挙げることが
できる。次いで、反応系を徐々に室温まで上昇させるこ
とにより転移反応を行い、転移反応後、反応系を塩酸な
どの希酸水溶液で加水分解することにより式(B’)化
合物であるシス−(3E,7E)−5−(t−ブチルジ
メチルシリロキシメチル)−6−ヒドロキシカルボニル
−3,7−デカジエンを高純度に含む化合物が製造され
る。本発明においては、出発原料としては式(B)化合
物あるいは式(B’)化合物のいずれをも使用できる。
式(B’)化合物は、式(B)化合物を精製してシス体
のみにしたものである。In the enol etherification reaction and the transfer reaction in this step, the formed enol is subjected to trimethylsilyl etherification with TMSCl, and then the temperature is gradually raised to room temperature to effect the transfer. The reaction temperature and reaction time in the step of trimethylsilyl etherification with TMSCl can be, for example, about 0.1 hour to about 2 hours in a temperature range of about -100 ° C to about 0 ° C. Also, TMS
The amount of Cl used can be in the range of about 1 mol to about 3 mol per 1 mol of the compound of formula (H) or formula (I). Next, a transfer reaction is carried out by gradually raising the reaction system to room temperature, and after the transfer reaction, the reaction system is hydrolyzed with a dilute aqueous acid solution such as hydrochloric acid to obtain the cis- (3E, A compound containing 7E) -5- (t-butyldimethylsilyloxymethyl) -6-hydroxycarbonyl-3,7-decadiene in high purity is produced. In the present invention, either a compound of formula (B) or a compound of formula (B ') can be used as a starting material.
The compound of the formula (B ′) is obtained by purifying the compound of the formula (B) into only the cis form.
【0019】本発明は、式(B’)化合物であるシス−
(3E,7E)−5−(オキシ置換メチル)−6−ヒド
ロキシカルボニル−3,7−デカジエンを有機溶媒中、
酸で処理して保護基であるオキシ置換基をはずすと同時
にラクトン化し、式(A’)化合物を得る方法である。The present invention relates to a compound of the formula (B ′)
(3E, 7E) -5- (oxy-substituted methyl) -6-hydroxycarbonyl-3,7-decadiene in an organic solvent,
In this method, the compound is treated with an acid to remove the oxy substituent as a protecting group, and at the same time, lactonized to obtain a compound of the formula (A ′).
【0020】本発明方法の反応温度は反応時間によって
も異なるが、例えば約0℃〜150℃、より好ましくは
約20℃〜100℃の範囲であり、反応時間は約0.5
時間〜16時間、より好ましくは約1時間〜3時間であ
る。使用される酸としては、フッ化水素酸、塩酸、硫
酸、硝酸、酢酸、p−トルエンスルホン酸等の鉱酸、有
機酸が例示される。酸の使用量としては、式(B’)の
化合物1モルに対し約0.001モル〜0.5モル、よ
り好ましくは約0.005モル〜0.05モルの範囲が
例示される。有機溶媒としては、アセトニトリル、ベン
ゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、メタノール、エ
タノールなどが例示される。有機溶媒の使用量として
は、式(B’)の化合物1重量部に対し約2重量部〜2
0重量部、より好ましくは約3重量部〜10重量部の範
囲が例示される。得られた式(A’)の化合物の精製に
は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、蒸留等通常
の精製手段が採用される。The reaction temperature of the process of the present invention varies depending on the reaction time, but is, for example, in the range of about 0 ° C. to 150 ° C., more preferably about 20 ° C. to 100 ° C., and the reaction time is about 0.5 ° C.
Hours to 16 hours, more preferably about 1 to 3 hours. Examples of the acid used include mineral acids such as hydrofluoric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid, and p-toluenesulfonic acid, and organic acids. The amount of the acid to be used is, for example, about 0.001 mol to 0.5 mol, more preferably about 0.005 mol to 0.05 mol, per 1 mol of the compound of the formula (B ′). Examples of the organic solvent include acetonitrile, benzene, toluene, tetrahydrofuran, methanol, ethanol and the like. The amount of the organic solvent used is about 2 parts by weight to 2 parts by weight per 1 part by weight of the compound of the formula (B ′).
A range of 0 parts by weight, more preferably about 3 parts by weight to 10 parts by weight is exemplified. For purification of the obtained compound of the formula (A ′), ordinary purification means such as silica gel column chromatography and distillation are employed.
【0021】以下に本発明について、実施例、参考例を
挙げて更に詳細に説明する。以下の各例において%は特
に断りの無い限り重量%を意味する。Now, the present invention will be described in further detail with reference to Examples and Reference Examples. In each of the following examples,% means% by weight unless otherwise specified.
【参考例1】1−(t−ブチルジメチルシリロキシ)−2(Z)−ヘ
キセン−4−オール[ 式(F)化合物]の合成 式(C)化合物58.0g(0.500mol)、トリ
エチルアミン60.7g(0.600mol)、DMA
P3.05g(25.0mmol)を含む乾燥塩化メチ
レン(850ml)溶液に、82.9g(0.550m
ol)のTBSClを含む乾燥塩化メチレン(80m
l)溶液を10〜20℃の温度範囲内で滴下する。滴下
後、更に室温下18時間撹拌した後、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液中に注入し、塩化メチレン(300ml×
2)で抽出した。塩化メチレン層を飽和食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウム乾燥後、濃縮した。得られた粗製
物(149g)を減圧下蒸留し、109gの目的とする
式(F)化合物を得た。 沸点:78℃〜79℃/2mmHg 収率:95%Reference Example 1 1- (t-butyldimethylsilyloxy) -2 (Z) -f
Synthesis of xen-4-ol [ compound of formula (F) compound] 58.0 g (0.500 mol) of compound (C), 60.7 g (0.600 mol) of triethylamine, DMA
To a solution of 3.05 g (25.0 mmol) of P in dry methylene chloride (850 ml) was added 82.9 g (0.550 m
ol) of TBSCl in dry methylene chloride (80 m
l) The solution is added dropwise within a temperature range of 10-20 ° C. After the dropwise addition, the mixture was further stirred at room temperature for 18 hours, poured into a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, and methylene chloride (300 ml ×
Extracted in 2). The methylene chloride layer was washed with saturated saline, dried over magnesium sulfate, and concentrated. The obtained crude product (149 g) was distilled under reduced pressure to obtain 109 g of the desired compound of the formula (F). Boiling point: 78 ° C. to 79 ° C./2 mmHg Yield: 95%
【0022】[0022]
【参考例2】1−(t−ブチルジメチルシリロキシ)−2(E)−ヘ
キセン−4−オール[式(G)化合物]の合成 式(D)化合物75.0g(0.647mol)、トリ
エチルアミン78.5g(0.776mol)、DMA
P3.95g(32.3mmol)及び塩化メチレン
1.100mlの混合物中にTBSCl107g(0.
711mol)の塩化メチレン(100ml)溶液を氷
水冷却下30分間で滴下する。更に室温下21時間撹拌
した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注入し有機
層を分離する。水層を塩化メチレンで抽出し、先の有機
層と合わせて飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾
燥後、濃縮する。得られた粗製物を減圧下蒸留し、目的
とする式(G)化合物を147g得た。 沸点:86℃〜87℃/2mmHg 収率:99%Reference Example 2 1- (t-butyldimethylsilyloxy) -2 (E) -f
Synthesis of xen-4-ol [compound of formula (G)] 75.0 g (0.647 mol) of compound (D), 78.5 g (0.776 mol) of triethylamine, DMA
In a mixture of 3.95 g (32.3 mmol) of P and 1.100 ml of methylene chloride, 107 g (0.
711 mol) in methylene chloride (100 ml) was added dropwise over 30 minutes while cooling with ice water. After further stirring at room temperature for 21 hours, the mixture is poured into a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and the organic layer is separated. The aqueous layer is extracted with methylene chloride, combined with the organic layer, washed with saturated saline, dried over magnesium sulfate, and concentrated. The obtained crude product was distilled under reduced pressure to obtain 147 g of the desired compound of the formula (G). Boiling point: 86 ° C to 87 ° C / 2mmHg Yield: 99%
【0023】[0023]
【参考例3】(3E,2’Z)−3−ヘキセン酸4′−(t−ブチル
ジメチルシリロキシ)−1′−エチル−2−ブテニル
[式(H)化合物]の合成 式(F)化合物103.5g(0.450mol)、D
CC111.4g(0.540mol)、DMAP5.
50g(45.0mmol)を含む乾燥塩化メチレン
(2000ml)溶液に、氷水冷却下3(E)−ヘキセ
ン酸66.8g(0.585mol)を含む塩化メチレ
ン(100ml)溶液を、7℃〜16℃で滴下する。滴
下後、更に室温下5時間撹拌した後、反応混合物を1N
塩酸(1000ml)中に注入し、塩化メチレン(50
0ml×1)で抽出した。塩化メチレン層を水、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、つ
いで、硫酸マグネシウム乾燥後、濃縮した。得られた残
留物(270g)をn−ペンタン(1000ml)とジ
エチルエーテル(400ml)の混合溶媒で希釈し、冷
蔵庫内(0〜5℃)で12時間静置した後、不溶物をセ
ライトで濾別し、濾液を減圧下で濃縮した。得られた粗
製物(186g)をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー処理および減圧下蒸留を数回繰り返した。114.1
gの目的とする式(H)化合物を得た。 沸点:110℃〜112℃/1mmHg 収率:78%Reference Example 3 4 '-(t-butyl) (3E, 2'Z) -3-hexenoic acid
Dimethylsilyloxy) -1'-ethyl-2-butenyl
Compound of formula (F) 103.5 g (0.450 mol ) of compound of formula (H)
CC 111.4 g (0.540 mol), DMAP5.
A solution of methylene chloride (100 ml) containing 66.8 g (0.585 mol) of 3 (E) -hexenoic acid was added to a solution of 50 g (45.0 mmol) in dry methylene chloride (2000 ml) under ice water cooling at 7 ° C to 16 ° C. And dripping. After the dropwise addition, the mixture was further stirred at room temperature for 5 hours.
It was poured into hydrochloric acid (1000 ml) and methylene chloride (50 ml) was added.
0 ml x 1). The methylene chloride layer was washed with water, a saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate and saturated saline, then dried over magnesium sulfate and concentrated. The obtained residue (270 g) was diluted with a mixed solvent of n-pentane (1000 ml) and diethyl ether (400 ml), and allowed to stand in a refrigerator (0 to 5 ° C.) for 12 hours. Separately, the filtrate was concentrated under reduced pressure. The obtained crude product (186 g) was subjected to silica gel column chromatography and distillation under reduced pressure several times. 114.1
g of the desired compound of formula (H) was obtained. Boiling point: 110 ° C to 112 ° C / 1 mmHg Yield: 78%
【0024】[0024]
【参考例4】(3E,2’E)−3−ヘキセン酸4′−(t−ブチル
ジメチルシリロキシ)−1′−エチル−2−ブテニル
[式(I)化合物]の合成 式(G)化合物69.0g(0.300mol)、DC
C74.3g(0.360mol)、DMAP3.67
g(30.0mmol)及び塩化メチレン1400ml
の混合物中へ氷水冷却下3(E)−ヘキセン酸44.5
g(0.390mol)の塩化メチレン(140ml)
溶液を1時間で滴下する。更に室温下3時間撹拌した
後、希塩酸中に注入し、塩化メチレンで抽出する。有機
層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、再び水で洗浄
し、硫酸マグネシウム乾燥後、濃縮する。残渣をn−ペ
ンタン、エーテルの混合溶媒に希釈し、不溶物を濾別
し、濾液を濃縮する。得られた粗製物を減圧下蒸留し、
目的とする式(I)化合物85gを得た。 沸点:132℃〜133℃/2mmHg 収率:87%Reference Example 4 4 '-(t-butyl) (3E, 2'E) -3-hexenoic acid
Dimethylsilyloxy) -1'-ethyl-2-butenyl
Compound of formula (G) 69.0 g (0.300 mol) of [formula (I) compound] , DC
C 74.3 g (0.360 mol), DMAP 3.67
g (30.0 mmol) and 1400 ml of methylene chloride
3 (E) -hexenoic acid 44.5 into a mixture of
g (0.390 mol) of methylene chloride (140 ml)
The solution is added dropwise in one hour. After further stirring at room temperature for 3 hours, the mixture is poured into dilute hydrochloric acid and extracted with methylene chloride. The organic layer is washed with water, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and water again, dried over magnesium sulfate and concentrated. The residue is diluted with a mixed solvent of n-pentane and ether, insolubles are removed by filtration, and the filtrate is concentrated. The obtained crude product was distilled under reduced pressure,
85 g of the desired compound of formula (I) was obtained. Boiling point: 132 ° C. to 133 ° C./2 mmHg Yield: 87%
【0025】[0025]
【参考例5】(3E,7E)−5−(t−ブチルジメチルシリロキシ
メチル)−6−ヒドロキシカルボニル−3,7−デカジ
エン[式(B)化合物]の合成 アルゴン雰囲気下、1.0M−LHMDSのTHF溶液
100ml(100mmol)と乾燥THF420ml
の混合溶液に式(H)化合物27.1g(83.3mm
ol)の乾燥THF(10ml)溶液を−68〜−65
℃で滴下した。同温度で3時間撹拌した後、12.7g
のTMSCl(0.117mol)とトリエチルアミン
1.18mg(11.7mmol)を含む乾燥THF
(2ml)懸濁液を−68℃〜−65℃で滴下した。同
温度で15分間撹拌した後、室温まで時間をかけて昇温
した。室温下で更に1時間撹拌した。反応混合物を食塩
飽和の1N塩酸(200ml)中に注入した後、THF
層を分離し、水層を酢酸エチル(300ml×2)で抽
出した。抽出物に有機層を合わせた後、飽和食塩水で洗
浄し、硫酸マグネシウム乾燥し、減圧下濃縮することに
より式(B)化合物を得た。 収率:100% IR(薄膜)νmax(cm−1):3600〜240
0(br,m),1705(s),1460(m,
),1250(s),1210(m),1110
(s),970(m),835(s),775(s)。Reference Example 5 (3E, 7E) -5- (t-butyldimethylsilyloxy)
Methyl) -6-hydroxycarbonyl-3,7-decadi
Synthesis of ene [compound of formula (B)] Under argon atmosphere, 100 ml (100 mmol) of a 1.0 M LHMDS THF solution and 420 ml of dry THF
27.1 g (83.3 mm) of the compound of formula (H)
ol) in dry THF (10 ml).
It was added dropwise at ° C. After stirring at the same temperature for 3 hours, 12.7 g
Dry THF containing TMSCl (0.117 mol) and triethylamine 1.18 mg (11.7 mmol)
(2 ml) The suspension was added dropwise at -68 ° C to -65 ° C. After stirring at the same temperature for 15 minutes, the temperature was raised to room temperature over time. The mixture was further stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was poured into 1N hydrochloric acid saturated with sodium chloride (200 ml), and THF was added.
The layers were separated and the aqueous layer was extracted with ethyl acetate (300ml × 2). The organic layer was combined with the extract, washed with saturated saline, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain the compound of formula (B). Yield: 100% IR (thin film) ν max (cm −1 ): 3600 to 240
0 (br, m), 1705 (s), 1460 (m,
), 1250 (s), 1210 (m), 1110
(S), 970 (m), 835 (s), and 775 (s).
【0026】[0026]
【参考例6】(3E,7E)−5−(t−ブチルジメチルシリロキ
シ)−6−ヒドロキシカルボニル−3,7−デカジエン
[式(B)化合物の合成] 1.0M−LHMDSのTHF3.3ml(3.3mm
ol)とHMPA4.8mlおよびTHF12.7ml
の混合溶液に式(I)化合物0.98g(3.0mmo
l)のTHF(0.5ml)溶液を−70℃〜−68
℃、5分間で滴下した。同温度で100分間撹拌した
後、トリメチルシリルクロリド0.42g(3.9mm
ol)とトリエチルアミン40mg(0.39mmo
l)のTHF(1ml)懸濁液を加え、冷却を止め、室
温まで昇温した。室温で10時間撹拌した後、食塩飽和
の希塩酸中に反応混合物を注入し、エーテル抽出した。
有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム乾燥
し、濃縮して式(B)化合物0.93gを得た。 収率:95%Reference Example 6 (3E, 7E) -5- (t-butyldimethylsilyloxy)
B) -6-hydroxycarbonyl-3,7-decadiene
[Synthesis of compound of formula (B)] THF of 1.0 M-LHMDS 3.3 ml (3.3 mm
ol) with 4.8 ml of HMPA and 12.7 ml of THF
In a mixed solution of 0.98 g (3.0 mmol) of the compound of the formula (I).
l) in THF (0.5 ml) at -70 ° C to -68.
C., dropwise over 5 minutes. After stirring at the same temperature for 100 minutes, 0.42 g of trimethylsilyl chloride (3.9 mm
ol) and triethylamine 40 mg (0.39 mmol)
1) A suspension of THF (1 ml) was added, cooling was stopped, and the temperature was raised to room temperature. After stirring at room temperature for 10 hours, the reaction mixture was poured into dilute hydrochloric acid saturated with sodium chloride and extracted with ether.
The organic layer was washed with saturated saline, dried over magnesium sulfate, and concentrated to obtain 0.93 g of the compound of the formula (B). Yield: 95%
【0027】[0027]
【参考例7】参考例5で得られた(3E,7E)−5−
(t−ブチルジメチルシリロキシ)−6−ヒドロキシカ
ルボニル−3,7−デカジエン(式(B)化合物)
(4.9g、15mmol)のアセトニトリル(25m
l)溶液に、46%フッ化水素酸(1.3ml)を加
え、2時間加熱還流した。冷却後、反応混合物を飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液に注入し、酢酸エチルで抽出し
た。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、2.7g
の下記式(A)化合物を得た(収率93%)。 シス体:トランス体=95:5 屈折率:n24 D:1.4752Reference Example 7 (3E, 7E) -5 obtained in Reference Example 5
(T-butyldimethylsilyloxy) -6-hydroxycarbonyl-3,7-decadiene (compound of formula (B))
(4.9 g, 15 mmol) in acetonitrile (25 m
l) To the solution, 46% hydrofluoric acid (1.3 ml) was added, and the mixture was heated under reflux for 2 hours. After cooling, the reaction mixture was poured into a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with saturated saline, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 2.7 g.
Was obtained (yield 93%). Cis isomer: trans isomer: 95: 5 Refractive index: n 24 D : 1.4752
【化15】 Embedded image
【0028】[0028]
【参考例8】参考例6で得られた(3E,7E)−5−
(t−ブチルジメチルシリロキシ)−6−ヒドロキシカ
ルボニル−3,7−デカジエン(式(B)化合物)
(5.9g、20mmol)のメタノール(30ml)
溶液に、p−トルエンスルホン酸(0.12g)を加
え、室温下3時間撹拌した。一旦メタノールを減圧下に
留去し、得られた残渣にベンゼン30mlを加え、2時
間加熱還流した。冷却後、反応混合物を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液に注入後、酢酸エチルで抽出し、酢酸エ
チル層を飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製して3.5gの式(A)化
合物を得た(収率91%)。 シス体:トランス体=87:13Reference Example 8 (3E, 7E) -5 obtained in Reference Example 6
(T-butyldimethylsilyloxy) -6-hydroxycarbonyl-3,7-decadiene (compound of formula (B))
(5.9 g, 20 mmol) of methanol (30 ml)
To the solution was added p-toluenesulfonic acid (0.12 g), and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The methanol was once distilled off under reduced pressure, 30 ml of benzene was added to the obtained residue, and the mixture was heated under reflux for 2 hours. After cooling, the reaction mixture was poured into a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, extracted with ethyl acetate, and the ethyl acetate layer was washed with saturated saline. After drying over magnesium sulfate, the mixture was concentrated under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 3.5 g of the compound of the formula (A) (yield: 91%). Cis-form: trans-form = 87: 13
【0029】[0029]
【実施例1】参考例5で得られた(3E,7E)−5−
(t−ブチルジメチルシリロキシ)−6−ヒドロキシカ
ルボニル−3,7−デカジエン(式(B)化合物)
(2.1g、6.4mmol)を中圧シリカゲルカラム
クロマトグラフィー(シリカゲル:100g)で分離精
製し、シス−(3E,7E)−5−(t−ブチルジメチ
ルシリロキシ)−6−ヒドロキシカルボニル−3,7−
デカジエン(式(B’)化合物)を1.7g(収率81
%)得た。これを参考例7と同様に処理することによ
り、シス−(1’E)−3,4−ビス(1’−ブテニ
ル)テトラヒドロ−2−フラノン(式(A’)化合物)
0.91g(収率90%)を得た。Example 1 (3E, 7E) -5 obtained in Reference Example 5
(T-butyldimethylsilyloxy) -6-hydroxycarbonyl-3,7-decadiene (compound of formula (B))
(2.1 g, 6.4 mmol) was separated and purified by medium pressure silica gel column chromatography (silica gel: 100 g), and cis- (3E, 7E) -5- (t-butyldimethylsilyloxy) -6-hydroxycarbonyl- 3,7-
1.7 g of decadiene (compound of formula (B ')) (yield 81
%)Obtained. This was treated in the same manner as in Reference Example 7 to give cis- (1′E) -3,4-bis (1′-butenyl) tetrahydro-2-furanone (compound of formula (A ′))
0.91 g (yield 90%) was obtained.
【0030】[0030]
【実施例2】参考例6で得られた式(B)化合物(3.
3g,10mmol)を中圧シリカゲルカラムクロマト
グラフィー(シリカゲル:165g)で分離精製し、式
(B’)化合物を2.3g(収率70%)得た。これを
参考例8と同様に処理することにより、式(A’)化合
物1.3g(収率92%)を得た。Example 2 The compound of the formula (B) obtained in Reference Example 6 (3.
(3 g, 10 mmol) was separated and purified by medium pressure silica gel column chromatography (silica gel: 165 g) to obtain 2.3 g (yield: 70%) of the compound of the formula (B '). This was treated in the same manner as in Reference Example 8 to obtain 1.3 g (yield 92%) of the compound of the formula (A ′).
【0031】[0031]
【発明の効果】本発明によれば、(シス−)(3E,7
E)−5−(オキシ置換メチル)−6−ヒドロキシカル
ボニル−3,7−デカジエン[式(B’)化合物]か
ら、僅か一工程で好収率に(シス−)(1’E)−3,
4−ビス(1’−ブテニル)テトラヒドロ−2−フラノ
ン[式(A’)化合物]を製造できる。式(A’)化合
物は、オーストラリアに生息し、レモンやマンダリンな
どの柑橘類害虫(カメムシ科の昆虫:Biprorulus bibax
Breddin)の誘引フェロモンであるシス−(1′E)−
3,4−ビス(1′−ブテニル)テトラヒドロ−2−フ
ラノールの合成中間体として有用である。According to the present invention, (cis-) (3E, 7
E) From (5- (oxy-substituted methyl) -6-hydroxycarbonyl-3,7-decadiene [compound of formula (B ')], (cis-) (1'E) -3 is obtained in only one step in good yield. ,
4-bis (1′-butenyl) tetrahydro-2-furanone [compound of formula (A ′)] can be produced. The compound of the formula (A ′) inhabits Australia and is a citrus pest such as lemon or mandarin (Hemiptera: Biprorulus bibax
Cis- (1'E)-, an attractive pheromone of Breddin)
It is useful as an intermediate for the synthesis of 3,4-bis (1'-butenyl) tetrahydro-2-furanol.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 Liebigs Ann.Che m.,(1993),(12),p1287−1294 R.T.MORRISON,R.N. BOYD著、中西香爾他訳、「モリソン ボイド有機化学(中)第5版」、東京化 学同人、1989年10月2日発行、第5版第 2刷、p1057−1059,1094−1096 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 307/33 CA(STN) REGISTRY(STN)──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (56) References Liebigs Ann. Chem. , (1993), (12), p1287-1294. T. MORRISON, R.A. N. Boyd, Translated by Koji Nakanishi et al., "Morrison Boyd Organic Chemistry (Middle) 5th Edition", Tokyo Kagaku Dojin, issued October 2, 1989, 5th edition, 2nd print, pp. 1057-1059, 1094- 1096 (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) C07D 307/33 CA (STN) REGISTRY (STN)
Claims (1)
チル)−6−ヒドロキシカルボニル−3,7−デカジエ
ンを有機溶媒中、酸と接触させることを特徴とする下記
式(A’) 【化2】 で表されるシス−(1’E)−3,4−ビス(1’−ブ
テニル)テトラヒドロ−2−フラノンの製法。1. The following formula (B ′): [Wherein R represents a hydroxyl-protecting group] cis- (3E, 7E) -5- (oxy-substituted methyl) -6-hydroxycarbonyl-3,7-decadiene represented by the following formula: The following formula (A ′): A method for producing cis- (1′E) -3,4-bis (1′-butenyl) tetrahydro-2-furanone represented by the formula:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33436694A JP3231566B2 (en) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | Process for producing (1'E) -3,4-bis (1'-butenyl) tetrahydro-2-furanone |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33436694A JP3231566B2 (en) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | Process for producing (1'E) -3,4-bis (1'-butenyl) tetrahydro-2-furanone |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08169882A JPH08169882A (en) | 1996-07-02 |
| JP3231566B2 true JP3231566B2 (en) | 2001-11-26 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33436694A Expired - Fee Related JP3231566B2 (en) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | Process for producing (1'E) -3,4-bis (1'-butenyl) tetrahydro-2-furanone |
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|---|---|
| JP (1) | JP3231566B2 (en) |
-
1994
- 1994-12-16 JP JP33436694A patent/JP3231566B2/en not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| Liebigs Ann.Chem.,(1993),(12),p1287−1294 |
| R.T.MORRISON,R.N.BOYD著、中西香爾他訳、「モリソンボイド有機化学(中)第5版」、東京化学同人、1989年10月2日発行、第5版第2刷、p1057−1059,1094−1096 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08169882A (en) | 1996-07-02 |
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