JP3238481B2 - Semiconductor read-only memory - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体読み出し専用記
憶装置(以下、半導体ROMと記す)に係り、特に出力
データの“1”→“1”または“0”→“1”の読み出
しモードにおける行線の切り換わり時の“0”グリッチ
の発生を防止する技術に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor read-only memory device (hereinafter referred to as a semiconductor ROM), and more particularly to a read mode of "1" → "1" or "0" → "1" of output data. The present invention relates to a technique for preventing generation of a “0” glitch when a row line is switched.
【0002】[0002]
【従来の技術】図7は、従来のCMOS型(相補性絶縁
ゲート型)のEPROM(紫外線消去・再書き込み可能
なROM)の一部を示すブロック図である。2. Description of the Related Art FIG. 7 is a block diagram showing a part of a conventional CMOS type (complementary insulated gate type) EPROM (UV erasable / rewritable ROM).
【0003】1はメモリセルアレイ、2は行アドレス入
力A7〜A3に応じてメモリセルアレイMAの行線を選
択制御する行デコーダ、3はメモリセルアレイ1の列線
を選択する列セレクタ、4は列アドレス入力A2〜A0
に応じて列セレクタ3を選択制御する列デコーダ、5は
センスアンプおよび出力バッファを含む出力回路、6は
出力バッファ制御回路である。図8は、図7のEPRO
Mの一部を示す回路図である。[0003] 1 is a memory cell array, 2 is a row decoder for selectively controlling a row line of the memory cell array MA according to row address inputs A7 to A3, 3 is a column selector for selecting a column line of the memory cell array 1, and 4 is a column address. Input A2 to A0
, A column decoder for selectively controlling the column selector 3 in accordance with the above, 5 is an output circuit including a sense amplifier and an output buffer, and 6 is an output buffer control circuit. FIG. 8 shows the EPRO of FIG.
FIG. 4 is a circuit diagram showing a part of M.
【0004】メモリセルアレイ1において、行列状に配
列されているメモリセル(S11〜S1n)、(S21〜S2
n)…は、セルトランジスタのゲート閾値が記憶データ
の“0”、“1”に応じて設定されている。WL0、W
L1…は行線、BL1〜BLnは列線である。行デコー
ダ2は、行アドレス入力をデコードするデコーダ回路お
よび行線駆動回路2b…とを有する。In the memory cell array 1, memory cells (S11 to S1n), (S21 to S2)
In (n),..., the gate threshold value of the cell transistor is set according to the stored data “0” or “1”. WL0, W
L1 are row lines, and BL1 to BLn are column lines. Row decoder 2 has a decoder circuit for decoding a row address input and row line drive circuits 2b.
【0005】列セレクタ3は、列線BL1〜BLnにそ
れぞれ直列に接続された列選択トランジスタCS1〜C
Snからなり、8組に区分され、各組の列選択トランジ
スタ同士の各他端が共通に接続されている。The column selector 3 includes column selection transistors CS1 to CS connected in series to column lines BL1 to BLn, respectively.
It is composed of Sn, divided into eight groups, and the other ends of the column selection transistors of each group are commonly connected.
【0006】列デコーダ4は、列アドレス入力をデコー
ドするデコーダ回路および列選択信号CL0、CL1、
CL2…を列選択信号線に供給する列選択トランジスタ
駆動回路4b…とを有する。The column decoder 4 includes a decoder circuit for decoding a column address input and column selection signals CL0, CL1,.
And a column selection transistor driving circuit 4b for supplying CL2 to the column selection signal line.
【0007】出力回路5は、各組の列選択トランジスタ
同士の共通接続点(共通列線DL0〜DL7)に読み出
された信号OT0〜OT7をそれぞれ検知・増幅する8
個のセンスアンプSA0〜SA7と、それぞれクロック
ドインバータからなり、動作時に各センスアンプSA0
〜SA7の出力を反転させて出力バスに出力する8個の
出力バッファBF0〜BF7とを有する。The output circuit 5 detects and amplifies signals OT0 to OT7 read at common connection points (common column lines DL0 to DL7) between the column selection transistors of each set.
And sense amplifiers SA0 to SA7 and a clocked inverter.
To eight output buffers BF0 to BF7 for inverting the outputs of .about.SA7 and outputting to the output bus.
【0008】出力バッファ制御回路6は、読み出しイネ
ーブル信号RDENに基づいて相補的な出力イネーブル
信号(OTEN、/OTEN)を出力バッファBF0〜
BF7に供給する。上記センスアンプSA0〜SA7
は、それぞれ図3に示すように構成されている。The output buffer control circuit 6 outputs complementary output enable signals (OTEN, / OTEN) based on the read enable signal RDEN to the output buffers BF0 to BF0.
Supply to BF7. The sense amplifiers SA0 to SA7
Are each configured as shown in FIG.
【0009】図3において、30はカレントミラー負荷
を有する差動回路であり、プリチャージ信号PSがイン
バータ31により反転された信号/PSを受けて活性化
される。差動回路30の一方の入力端と共通列線との間
に列線電圧クランプ回路が挿入されており、差動回路3
0の他方の入力端には例えば3Vのセンス基準電圧VREF
が供給される。In FIG. 3, reference numeral 30 denotes a differential circuit having a current mirror load, and a precharge signal PS is activated by receiving a signal / PS inverted by an inverter 31. A column line voltage clamp circuit is inserted between one input terminal of the differential circuit 30 and the common column line.
For example, a sense reference voltage VREF of 3 V is applied to the other input terminal of 0.
Is supplied.
【0010】上記クランプ回路においては、ゲート・ド
レイン相互が接続されたPMOSトランジスタP1がV
CCノード(例えば5Vの電源電圧)と差動回路30の一
方の入力端と間に接続されており、差動回路30の一方
の入力端と共通列線との間にNMOSトランジスタN1
が挿入されており、このトランジスタN1のゲートには
バイアス電圧BIASが供給される。In the above clamp circuit, the PMOS transistor P1 whose gate and drain are connected to each other has a voltage of V
An NMOS transistor N1 is connected between a CC node (for example, a power supply voltage of 5 V) and one input terminal of the differential circuit 30, and is connected between one input terminal of the differential circuit 30 and a common column line.
Is inserted, and a bias voltage BIAS is supplied to the gate of the transistor N1.
【0011】さらに、VCCノードと差動回路30の一方
の入力端との間には、プルアップ用のPMOSトランジ
スタP2が接続されており、そのゲートには接地電位V
SSが与えられる。また、VCCノードと差動回路30の他
方の入力端との間には、プルアップ用のPMOSトラン
ジスタP3が接続されており、そのゲートには前記反転
プリチャージ信号/PSが与えられる。上記ROMの通
常の読み出し動作はよく知られているので、以下、簡単
に説明する。Further, a pull-up PMOS transistor P2 is connected between the VCC node and one input terminal of the differential circuit 30, and the gate of the PMOS transistor P2 is connected to the ground potential V.
SS is given. A pull-up PMOS transistor P3 is connected between the VCC node and the other input terminal of the differential circuit 30, and the gate thereof is supplied with the inverted precharge signal / PS. The normal read operation of the ROM is well known, and will be briefly described below.
【0012】列アドレス入力がそのままで行アドレス入
力が変化した場合のアクセス時には、行選択により選択
された各メモリセルに接続されている各列線の電位は、
選択セルがオフ状態(記憶データ“0”の状態)の場合
には例えば3.5Vの高レベル(センス基準電圧VREFよ
り高いレベル)、選択セルがオン状態(記憶データ
“1”の状態)の場合には例えば2.5Vの低レベル
(センス基準電圧VREFより低いレベル)になる。この選
択列線の電位はセンスアンプおよび出力バッファを経て
出力データD0〜D7となる。この場合、選択列線の電
位の高レベル/低レベルが対応して読み出し読み出しデ
ータ出力の“0”レベル(低レベル)/“1”レベル
(高レベル)となる。At the time of access when the row address input changes while the column address input remains unchanged, the potential of each column line connected to each memory cell selected by row selection becomes
When the selected cell is in the OFF state (the state of the storage data “0”), for example, a high level of 3.5 V (higher than the sense reference voltage VREF), and the selected cell is in the ON state (the state of the storage data “1”). In this case, for example, it becomes a low level of 2.5 V (a level lower than the sense reference voltage VREF). The potential of this selected column line becomes output data D0 to D7 via a sense amplifier and an output buffer. In this case, the high level / low level of the potential of the selected column line corresponds to “0” level (low level) / “1” level (high level) of read / read data output.
【0013】即ち、選択されたメモリセルに接続されて
いる列線の電位は上記2.5Vと3.5Vとの間で変化
するので、読み出しデータ出力は“1”と“0”との間
を変化し、“1”→“0”あるいは“1”→“1”また
は“0”→“0”あるいは“0”→“1”のように変化
する。That is, since the potential of the column line connected to the selected memory cell changes between 2.5 V and 3.5 V, the read data output is between "1" and "0". And changes as “1” → “0” or “1” → “1” or “0” → “0” or “0” → “1”.
【0014】これに対して、行アドレス入力がそのまま
で列アドレス入力が変化した場合のアクセス時には、選
択されたメモリセルに接続されている列線のレベルに対
応した読み出しデータ出力が現れ、読み出しデータ出力
は、“1”→“0”あるいは“1”→“1”または
“0”→“0”あるいは“0”→“1”のように変化す
る。 ところで、通常、行線WL0、WL1…はポリシ
リコンやポリサイド等からなり、その抵抗分(R11〜R
1n-1)、(R21〜R2n-1)…が存在する。また、行線W
L0、WL1…には多数のセル(S11〜S1n)、(S21
〜S2n)…のゲート容量が負荷として存在する。On the other hand, at the time of access when the column address input changes while the row address input remains unchanged, a read data output corresponding to the level of the column line connected to the selected memory cell appears, and the read data is output. The output changes in the order of “1” → “0” or “1” → “1” or “0” → “0” or “0” → “1”. The row lines WL0, WL1,... Are usually made of polysilicon, polycide, etc.
1n-1), (R21 to R2n-1)... Also, row line W
A large number of cells (S11 to S1n), (S21
SS2n)... Exist as loads.
【0015】このような抵抗分や負荷容量の存在による
信号遅延によって、行線WL0、WL1…の行デコーダ
側の一端部に近い列線BL1近傍部の行選択信号に対し
て、行線WL0、WL1…の行デコーダ側とは反対側の
他端部(終端部)に近い列線BLn近傍部の行選択信号
の立上りが遅れ、列線BLnに接続されているセルの選
択が行選択開始時より遅れるので、出力データにグリッ
チが発生するという問題がある。以下、出力データにグ
リッチが発生する理由について詳述する。図9は、上記
EPROMのアドレス選択からデータ出力までの一例を
示すタイミング波形図である。Due to the signal delay due to the resistance and the load capacitance, the row lines WL0, WL1,... The rise of the row selection signal near the column line BLn near the other end (end) of the WL1... On the side opposite to the row decoder side is delayed, and the selection of the cell connected to the column line BLn starts at the time of row selection. There is a problem that a glitch occurs in the output data due to the delay. Hereinafter, the reason why the glitch occurs in the output data will be described in detail. FIG. 9 is a timing waveform chart showing an example from the address selection of the EPROM to the data output.
【0016】例えば選択セルS11、S1n-2からデータを
読み出す場合、行線WL0を選択して活性化(“H”レ
ベル)すると同時に列選択トランジスタCS1を選択す
るための列選択信号線CL0を活性化(“H”レベル)
した後、読み出しイネーブル信号RDENを活性化
(“H”レベル)する。この場合、選択セルS11近傍の
行線信号よりも選択セルS1n-2近傍の行線信号の立上り
が遅れるので、セルS11から共通列線DL0に読み出さ
れたデータのタイミングよりもセルS1n-2から共通列線
DL7に読み出されたデータのタイミングが遅れる。そ
して、読み出しイネーブル信号RDENの活性化から若
干遅れて出力イネーブル信号OTENが活性化(“H”
レベル)すると、共通列線DL0の読み出しデータOT
0が出力データD“として出力バス7に出力し、さら
に、共通列線DL7の読み出しデータOT7が出力デー
タD7として出力バス7に出力するようになる。For example, when reading data from the selected cells S11 and S1n-2, the row line WL0 is selected and activated ("H" level), and at the same time, the column selection signal line CL0 for selecting the column selection transistor CS1 is activated. (“H” level)
After that, the read enable signal RDEN is activated ("H" level). In this case, since the rise of the row line signal near the selected cell S1n-2 is delayed more than the row line signal near the selected cell S11, the cell S1n-2 is more advanced than the timing of the data read from the cell S11 to the common column line DL0. , The timing of the data read to the common column line DL7 is delayed. The output enable signal OTEN is activated (“H”) slightly after the activation of the read enable signal RDEN.
Level), the read data OT of the common column line DL0 is
0 is output to the output bus 7 as output data D ", and the read data OT7 of the common column line DL7 is output to the output bus 7 as output data D7.
【0017】この後、列アドレス入力および読み出しイ
ネーブル信号RDENをそのままにして、行アドレス入
力を変化させて選択行線をWL0からWL1に切り換え
て選択セルS21、S2n-2からデータを読み出す場合に
も、上記と同様に、選択セルS21近傍の行線信号よりも
選択セルS2n-2近傍の行線信号の立上りが遅れるので、
セルS21の出力データD0とセルS2n-2の出力データD
7とではタイミングの違いが生じる。Thereafter, when the row address input is changed and the selected row line is switched from WL0 to WL1 to read data from the selected cells S21 and S2n-2 while keeping the column address input and the read enable signal RDEN unchanged. Similarly to the above, the rise of the row line signal near the selected cell S2n-2 is delayed more than the row line signal near the selected cell S21.
Output data D0 of cell S21 and output data D of cell S2n-2
7 has a timing difference.
【0018】上記動作に際して、出力データD0は正常
に読み出されるが、出力データD7は“0”グリッチが
発生した後に正常に読み出される。即ち、列線BLn近
傍部の行選択信号の波形の立上りおよび立下りがなま
り、行アドレス入力の切り換え時に、列線BLn近傍部
の行選択信号の非選択期間が長くなる。この非選択期間
に、センスアンプの一方の入力端に接続されているPM
OSトランジスタP1およびP2により共通列線の電位
がプルアップされる。In the above operation, the output data D0 is normally read, but the output data D7 is normally read after a "0" glitch occurs. In other words, the rising and falling of the waveform of the row selection signal near the column line BLn becomes less, and the non-selection period of the row selection signal near the column line BLn becomes longer when the row address input is switched. During this non-selection period, the PM connected to one input terminal of the sense amplifier is
The potential of the common column line is pulled up by the OS transistors P1 and P2.
【0019】したがって、新たに選択されたセルS2n-2
がオン状態であった場合には、出力データD7は、本来
は“1”→“1”または“0”→“1”と変化するはず
であるが、この変化の間(前記非選択期間)に過渡的に
“0”になる。このような“0”グリッチが発生する
と、オン状態の選択セルS2n-2に対する“1”データの
アクセスタイムが大幅に劣化してしまう。上記したよう
な現象は、EPROMに限らず、電気的消去・再書き込
み可能なROM(EEPROM)においても生じる。Therefore, the newly selected cell S2n-2
Is in the ON state, the output data D7 should originally change from "1" to "1" or "0" to "1", but during this change (the non-selection period). To "0" transiently. When such a “0” glitch occurs, the access time of “1” data to the selected cell S2n-2 in the ON state is significantly deteriorated. The above phenomenon occurs not only in the EPROM but also in an electrically erasable / rewritable ROM (EEPROM).
【0020】[0020]
【発明が解決しようとする課題】上記したように従来の
半導体ROMは、出力データの“1”→“1”または
“0”→“1”の読み出しモードにおいて、行線の抵抗
分や負荷容量による行選択信号の遅延に起因して、行線
の切り換わり時に“0”グリッチが発生し、“1”デー
タのアクセスタイムが大幅に劣化してしまうという問題
があった。As described above, in the conventional semiconductor ROM, in the read mode of "1" → "1" or "0" → "1" of the output data, the resistance of the row line and the load capacitance are reduced. As a result, a "0" glitch occurs at the time of switching the row lines due to the delay of the row selection signal, and the access time of the "1" data is greatly deteriorated.
【0021】本発明は上記の問題点を解決すべくなされ
たもので、出力データの“1”→“1”または“0”→
“1”の読み出しモードにおいて、行線の抵抗分や負荷
容量による行選択信号の遅延が生じても、行線の切り換
わり時に“0”グリッチが発生することを防止でき、
“1”データのアクセスタイムを改善し得る半導体読み
出し専用記憶装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is intended that output data "1" → "1" or "0" →
In the “1” read mode, even if the row selection signal is delayed due to the resistance of the row line or the load capacitance, it is possible to prevent a “0” glitch from being generated when the row line is switched.
An object of the present invention is to provide a semiconductor read-only memory device capable of improving the access time of "1" data.
【0022】[0022]
【課題を解決するための手段】本発明の半導体読み出し
専用記憶装置は、読み出し専用メモリセルが行列状に配
列されたメモリセルアレイと、このメモリセルアレイの
行線を選択する行デコーダと、上記メモリセルアレイの
列線を選択する列選択トランジスタと、この列選択トラ
ンジスタを制御する列デコーダと、上記列選択トランジ
スタを経た選択列線からの読み出し信号を検知・増幅す
るセンスアンプと、このセンスアンプの出力をバッファ
増幅するデータ出力バッファと、前記行デコーダとは行
線を挟んで反対側に配置され、行アドレス入力の遷移時
に前記行デコーダの全ての出力が非選択状態になってい
ることを検知する行デコーダ出力遷移検知回路と、この
行デコーダ出力遷移検知回路の検知出力を受けて前記デ
ータ出力バッファを非動作状態に制御する制御回路とを
具備し、前記行デコーダ出力遷移検知回路は、前記読み
出し専用メモリセルと同じ種類のトランジスタからな
り、ゲートに前記行線を介して前記行デコーダの各出力
がそれぞれ入力するダミーセル用トランジスタと、これ
らのダミーセル用トランジスタの各ドレインに共通に接
続されたダミー列線と、このダミー列線と電源との間に
接続され、ゲートにプリチャージ信号が供給されるプル
アップ用のトランジスタとを有する第1の論理回路と、
この第1の論理回路の出力および上記プリチャージ信号
が供給され、前記制御回路に検知出力を入力する第2の
論理回路とを備えることを特徴とする。また、本発明の
半導体読み出し専用記憶装置は、読み出し専用メモリセ
ルが行列状に配列されたメモリセルアレイと、このメモ
リセルアレイの行線を選択する行デコーダと、上記メモ
リセルアレイの列線を選択する列選択トランジスタと、
この列選択トランジスタを制御する列デコーダと、上記
列選択トランジスタを経た選択列線からの読み出し信号
を検知・増幅するセンスアンプと、このセンスアンプの
出力をバッファ増幅するデータ出力バッファと、前記行
デコーダとは行線を挟んで反対側に配置され、行アドレ
ス入力の遷移時に前記行デコーダの全ての出力が非選択
状態になっていることを検知する行デコーダ出力遷移検
知回路と、この行デコーダ出力遷移検知回路の検知出力
を受けて前記データ出力バッファを非動作状態に制御す
る制御回路とを具備し、前記行デコーダ出力遷移検知回
路は 、前記読み出し専用メモリセルと同じ種類のトラン
ジスタからなり、ゲートに前記行線を介して前記行デコ
ーダの各出力がそれぞれ入力するダミーセル用トランジ
スタと、これらのダミーセル用トランジスタの各ドレイ
ンに共通に接続されたダミー列線とを有するダミー列線
回路と、電流通路の一端が電源に接続され、ゲートにプ
リチャージ信号が供給されるプルアップ用の第1トラン
ジスタと、上記ダミー列線回路の出力ノードと前記第1
トランジスタの電流通路の他端との間に直列接続され、
一方のゲートが電源に接続され、他方のゲートにバイア
ス電圧が印加される第2,第3トランジスタと、一方の
入力端に前記第1トランジスタの電流通路の他端が接続
され、他方の入力端に上記プリチャージ信号が供給さ
れ、前記制御回路に検知出力を入力する論理回路とを備
えることを特徴とする。 According to the present invention, there is provided a semiconductor read-only memory device, a memory cell array in which read-only memory cells are arranged in a matrix, a row decoder for selecting a row line of the memory cell array, and the memory cell array. A column selection transistor for selecting the column line of the above, a column decoder for controlling the column selection transistor, a sense amplifier for detecting and amplifying a read signal from the selected column line passing through the column selection transistor, and an output of the sense amplifier. A data output buffer for buffer amplification and the row decoder
It is located on the opposite side across the line, and at the transition of the row address input
All the outputs of the row decoder are in a non-selected state.
The de receiving a row decoder output transition detection circuit which detects Rukoto, the detection output of the row decoder output transition detection circuit
And a control circuit for controlling the data output buffer to a non-operating state.
The row decoder output transition detection circuit includes
From the same type of transistor as the read-only memory cell.
And outputs each output of the row decoder to the gate through the row line.
And a dummy cell transistor,
Common to the drains of these dummy cell transistors.
Connected between the dummy column line and the power supply.
Pull connected to the gate and the precharge signal is supplied to the gate
A first logic circuit having an up transistor;
The output of the first logic circuit and the precharge signal
Is supplied and a detection output is input to the control circuit.
And a logic circuit . In addition, the present invention
Semiconductor read-only memory devices are read-only memory cells.
Memory cell array in which memory
A row decoder for selecting a row line of the recell array;
A column selection transistor for selecting a column line of the recell array;
A column decoder for controlling the column selection transistor;
Read signal from selected column line via column select transistor
Amplifier that detects and amplifies
A data output buffer for buffering the output;
The decoder is located on the opposite side of the row line, and the row address
All outputs of the row decoder are unselected at the transition of source input
Row decoder output transition detection
Detection circuit and the detection output of this row decoder output transition detection circuit
And controls the data output buffer to a non-operating state.
And a control circuit for detecting the row decoder output transition.
The path is of the same type as the read-only memory cell.
The gate consists of a gate, and the gate is
Cell transistor input to each output of the
And the drains of these dummy cell transistors.
Column line having a dummy column line commonly connected to
The circuit and one end of the current path are connected to the power supply and
The first transformer for pull-up to which the recharge signal is supplied
A transistor, an output node of the dummy column line circuit and the first
Connected in series with the other end of the current path of the transistor,
One gate is connected to the power supply and the other gate is
And a third transistor to which a source voltage is applied, and one of the transistors
The other end of the current path of the first transistor is connected to the input end
The precharge signal is supplied to the other input terminal.
A logic circuit for inputting a detection output to the control circuit.
It is characterized by
【0023】[0023]
【作用】出力データの“1”→“1”または“0”→
“1”の読み出しモードにおいて、行線の抵抗分や負荷
容量による行選択信号の遅延が生じ、行線の行デコーダ
側とは反対側の他端部に近い行選択信号の立上りが遅
れ、上記他端部の行選択信号の非選択期間が長くなり、
列線電位がプルアップされる。しかし、この非選択期間
(行線の切り換わり時)には、行デコーダ出力遷移検知
回路から検知出力(パルス)が発生する。制御回路は、
この検知出力が入力すると、出力バッファの動作を不可
能状態に制御する。したがって、この出力バッファの非
動作期間に出力データに“0”グリッチが発生すること
はなく、出力データは、本来通り“1”→“1”または
“0”→“1”と変化する。[Function] Output data "1" → "1" or "0" →
In the “1” read mode, the row selection signal is delayed due to the resistance of the row line and the load capacitance, and the rise of the row selection signal near the other end of the row line opposite to the row decoder side is delayed. The non-selection period of the row selection signal at the other end becomes longer,
The column line potential is pulled up. However, during this non-selection period (when the row line is switched), a detection output (pulse) is generated from the row decoder output transition detection circuit. The control circuit is
When this detection output is input, the operation of the output buffer is controlled to an impossible state. Therefore, no "0" glitch occurs in the output data during the non-operation period of the output buffer, and the output data changes from "1" to "1" or "0" to "1" as originally intended.
【0024】[0024]
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図1は、本発明の半導体ROMの一実施例
に係るEPROMの一部を示している。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows a part of an EPROM according to an embodiment of the semiconductor ROM of the present invention.
【0025】このEPROMは、図7を参照して前述し
た従来のEPROMと比べて、行デコーダ出力遷移検知
回路11が付加され、出力バッファ制御回路12が変更
されている点が異なり、その他は同じであるので図7中
と同一符号を付している。This EPROM is different from the conventional EPROM described above with reference to FIG. 7 in that a row decoder output transition detecting circuit 11 is added and an output buffer control circuit 12 is changed, and the other parts are the same. Therefore, the same reference numerals as in FIG. 7 are used.
【0026】即ち、1はメモリセルアレイ、2は行アド
レス入力A7〜A3に応じてメモリセルアレイ1の行線
を選択制御する行デコーダ、3はメモリセルアレイ1の
列線を選択する列セレクタ、4は列アドレス入力A2〜
A0に応じて列セレクタ3を選択制御する列デコーダ、
5はセンスアンプおよび出力バッファを含む出力回路、
11は行デコーダ出力遷移検知回路、12は出力バッフ
ァ制御回路である。上記行デコーダ出力遷移検知回路1
1は、前記行デコーダ2の出力の遷移状態を検知するも
のである。That is, 1 is a memory cell array, 2 is a row decoder for selectively controlling a row line of the memory cell array 1 in accordance with row address inputs A7 to A3, 3 is a column selector for selecting a column line of the memory cell array 1, and 4 is a column selector. Column address input A2
A column decoder for selectively controlling the column selector 3 according to A0;
5 is an output circuit including a sense amplifier and an output buffer;
11 is a row decoder output transition detection circuit, and 12 is an output buffer control circuit. Row decoder output transition detection circuit 1
1 is for detecting a transition state of the output of the row decoder 2.
【0027】上記出力バッファ制御回路12は、上記行
デコーダ出力遷移検知回路11の検知出力ENBが入力
している時には、読み出しイネーブル信号RDENの入
力を禁止して出力回路5の出力バッファ7を非動作状態
に制御する。When the detection output ENB of the row decoder output transition detection circuit 11 is being input, the output buffer control circuit 12 inhibits the input of the read enable signal RDEN and deactivates the output buffer 7 of the output circuit 5. Control the state.
【0028】図2は、図1のEPROMの一部を示す回
路図であり、図8を参照して前述した従来のEPROM
と比べて、行デコーダ出力遷移検知回路11、出力バッ
ファ制御回路12が異なり、その他は同じであるので図
8中と同一符号を付している。FIG. 2 is a circuit diagram showing a part of the EPROM shown in FIG. 1, and the conventional EPROM described with reference to FIG.
The row decoder output transition detection circuit 11 and the output buffer control circuit 12 are different from those of the first embodiment, and the other components are the same.
【0029】即ち、メモリセルアレイ1は、m行×n列
の行列状にメモリセル(S11〜S1n)、(S21〜S2n)
…が配列されている。これらの各メモリセルは、それぞ
れ浮遊ゲートおよび制御ゲートを有し、例えばソースが
接地電位VSSに接続されたNチャネルMOSトランジス
タからなり、そのゲート閾値が記憶データの“0”、
“1”に応じて設定されている。That is, the memory cell array 1 includes memory cells (S11 to S1n) and (S21 to S2n) in a matrix of m rows × n columns.
... are arranged. Each of these memory cells has a floating gate and a control gate, and is composed of, for example, an N-channel MOS transistor having a source connected to the ground potential VSS.
It is set according to “1”.
【0030】上記メモリセルアレイ1において、WL
0、WL1…は同一行のメモリセルのゲートに共通に接
続されている行線である。BL1〜BLnは同一列のメ
モリセルのドレインに共通に接続されている列線であ
る。In the memory cell array 1, WL
Are row lines commonly connected to the gates of the memory cells in the same row. BL1 to BLn are column lines commonly connected to the drains of the memory cells in the same column.
【0031】行デコーダ2は、行アドレス入力をデコー
ドするデコーダ回路およびこのデコーダ回路の出力に応
じて行線WL0、WL1…(例えばポリシリコン線)を
選択的に駆動する行線駆動回路2b…とを有する。The row decoder 2 includes a decoder circuit for decoding a row address input and a row line driving circuit 2b for selectively driving the row lines WL0, WL1 (for example, a polysilicon line) in accordance with the output of the decoder circuit. Having.
【0032】列セレクタ3は、メモリセルアレイ1の列
線BL1〜BLnにそれぞれ直列に接続された例えばN
チャネル列選択トランジスタCS1〜CSnからなり、
8組に区分され、各組の列選択トランジスタ同士の各他
端が共通に接続されている。列デコーダ4は、列アドレ
ス入力をデコードするデコーダ回路およびこのデコーダ
回路の出力に応じて列選択トランジスタCS1〜CSn
を選択的に駆動するための列選択信号CL0、CL1、
CL2…を列選択信号線(例えばアルミニウム線)に供
給する列選択駆動回路4b…とを有する。The column selector 3 is connected to, for example, N series connected to the column lines BL1 to BLn of the memory cell array 1, respectively.
It comprises channel column selection transistors CS1 to CSn,
It is divided into eight sets, and the other ends of the column select transistors of each set are commonly connected. The column decoder 4 includes a decoder circuit for decoding a column address input and column select transistors CS1 to CSn according to the output of the decoder circuit.
Column selection signals CL0, CL1,.
And a column selection drive circuit 4b for supplying CL2 to a column selection signal line (for example, an aluminum line).
【0033】出力回路5は、各組の列選択トランジスタ
同士の共通接続点(共通列線DL0〜DL7)に読み出
された信号OT0〜OT7をそれぞれ検知・増幅する8
個のセンスアンプSA0〜SA7と、それぞれクロック
ドインバータからなり、動作時に各センスアンプSA0
〜SA7の出力を反転させて出力バスに出力する8個の
出力バッファBF0〜BF7とを有する。The output circuit 5 detects and amplifies the signals OT0 to OT7 read out at the common connection points (common column lines DL0 to DL7) between the respective column selection transistors.
And sense amplifiers SA0 to SA7 and a clocked inverter.
To eight output buffers BF0 to BF7 for inverting the outputs of .about.SA7 and outputting to the output bus.
【0034】前記行デコーダ出力遷移検知回路11は、
2個のノア回路111、112が用いられている。第1
のノア回路111は、前記行線駆動回路2…の各出力が
それぞれ対応してゲートに入力するダミーセル用のNM
OSトランジスタ(SD1、SD2…)と、これらのダミー
セル用トランジスタの各ドレインに共通に接続されたダ
ミー列線DBLと、このダミー列線とVCCノードとの間
に接続され、ゲートにプリチャージ信号PSが入力する
プルアップ用のPMOSトランジスタP4とからなる。
この場合、前記ダミーセル用トランジスタ(SD1、SD2
…)は、前記行線WL0、WL1…の行デコーダ側とは
反対側に配置されており、前記メモリセル(S11〜S1
n)、(S21〜S2n)…と同じ種類のトランジスタが用
いられている。第2のノア回路112は、上記第1のノ
ア回路111の出力およびプリチャージ信号PSが入力
する。The row decoder output transition detection circuit 11
Two NOR circuits 111 and 112 are used. First
The NOR circuit 111 includes a dummy cell NM for which each output of the row line driving circuits 2...
The OS transistors (SD1, SD2...), A dummy column line DBL commonly connected to the drains of these dummy cell transistors, and a connection between the dummy column line and the VCC node. And a pull-up PMOS transistor P4 input thereto.
In this case, the dummy cell transistors (SD1, SD2
.. Are arranged on the opposite side of the row lines WL0, WL1,... From the row decoder side, and the memory cells (S11 to S1)
n), (S21-S2n)... are of the same type. The second NOR circuit 112 receives the output of the first NOR circuit 111 and the precharge signal PS.
【0035】上記行デコーダ出力遷移検知回路11にお
いては、プリチャージ信号PSが活性レベル(“L”)
の時に、プルアップ用トランジスタP4がオンになり、
ダミー列線DBLが“H”レベルにプリチャージされ
る。そして、行アドレス入力の遷移時に行デコーダ2の
全ての出力が非選択状態になっている時に、ダミーセル
用の各トランジスタ(SD1、SD2…)がオフになり、ダ
ミー列線DBLが“H”レベルを保持し、第2のノア回
路112の出力ENBが“L”レベル(検知出力レベ
ル)になる。その他の期間は、第2のノア回路112の
出力ENBが“H”レベルになる。プリチャージ信号P
Sが非活性レベル(“H”)の時には、第2のノア回路
112の出力ENBが“L”レベルになる。In the row decoder output transition detecting circuit 11, the precharge signal PS is at the active level ("L").
, The pull-up transistor P4 is turned on,
Dummy column line DBL is precharged to "H" level. When all the outputs of the row decoder 2 are in the non-selected state at the time of the transition of the row address input, the transistors (SD1, SD2...) For the dummy cells are turned off, and the dummy column line DBL is set to the “H” level. And the output ENB of the second NOR circuit 112 becomes “L” level (detection output level). During other periods, the output ENB of the second NOR circuit 112 is at “H” level. Precharge signal P
When S is at the inactive level (“H”), the output ENB of the second NOR circuit 112 goes to “L” level.
【0036】前記出力バッファ制御回路12は、行デコ
ーダ出力遷移検知回路11の出力および読み出しイネー
ブル信号RDENが入力するナンド回路121と、この
ナンド回路121の出力に基づいて相補的な出力イネー
ブル信号(OTEN、/OTEN)を発生して出力バッ
ファBF0〜BF7を制御するインバータ回路122と
からなる。The output buffer control circuit 12 includes a NAND circuit 121 to which the output of the row decoder output transition detection circuit 11 and the read enable signal RDEN are input, and a complementary output enable signal (OTEN) based on the output of the NAND circuit 121. , / OTEN) for controlling the output buffers BF0 to BF7.
【0037】上記出力バッファ制御回路12において
は、行デコーダ出力遷移検知回路11の出力ENBが
“H”レベルの時には、読み出しイネーブル信号RDE
Nが入力すると、相補的な出力イネーブル信号(OTE
N、/OTEN)を発生して出力バッファBF0〜BF
7を動作可能状態に制御する。これに対して、行デコー
ダ出力遷移検知回路11の出力ENBが“L”レベルの
時には、読み出しイネーブル信号RDENの入力を禁止
して出力バッファBF0〜BF7を非動作状態に制御す
る。なお、出力バス7には大きな負荷容量(外部容量も
含む)C0が寄生する。図3は、センスアンプSA0〜
SA7の1個の一例を示す回路図である。In the output buffer control circuit 12, when the output ENB of the row decoder output transition detection circuit 11 is at "H" level, the read enable signal RDE
When N is input, the complementary output enable signal (OTE
N, / OTEN) and output buffers BF0 to BF
7 to an operable state. On the other hand, when the output ENB of the row decoder output transition detection circuit 11 is at the “L” level, the input of the read enable signal RDEN is inhibited, and the output buffers BF0 to BF7 are controlled to the inactive state. A large load capacitance (including external capacitance) C0 is parasitic on the output bus 7. FIG. 3 shows sense amplifiers SA0 to SA0.
FIG. 9 is a circuit diagram illustrating an example of one of SA7s.
【0038】このセンスアンプにおいて、30はカレン
トミラー負荷を有する差動回路であり、プリチャージ信
号PSがインバータ31により反転された信号/PSを
受けて活性化される。差動回路30の一方の入力端と共
通列線との間に列線電圧クランプ回路が挿入されてお
り、差動回路30の他方の入力端には例えば3Vのセン
ス基準電圧VREFが供給される。In this sense amplifier, reference numeral 30 denotes a differential circuit having a current mirror load, and a precharge signal PS is activated by receiving a signal / PS inverted by an inverter 31. A column line voltage clamp circuit is inserted between one input terminal of the differential circuit 30 and a common column line, and a sense reference voltage VREF of, for example, 3 V is supplied to the other input terminal of the differential circuit 30. .
【0039】上記クランプ回路においては、ゲート・ド
レイン相互が接続されたPMOSトランジスタP1がV
CCノード(例えば5Vの電源電圧)と差動回路30の一
方の入力端と間に接続されており、差動回路30の一方
の入力端と共通列線との間にNMOSトランジスタN1
が挿入されており、このトランジスタN1のゲートには
バイアス電圧BIASが供給される。In the above clamp circuit, the PMOS transistor P1 whose gate and drain are connected to each other has a voltage of V
An NMOS transistor N1 is connected between a CC node (for example, a power supply voltage of 5 V) and one input terminal of the differential circuit 30, and is connected between one input terminal of the differential circuit 30 and a common column line.
Is inserted, and a bias voltage BIAS is supplied to the gate of the transistor N1.
【0040】さらに、VCCノードと差動回路30の一方
の入力端との間には、プルアップ用のPMOSトランジ
スタP2が接続されており、そのゲートには接地電位V
SSが与えられる。また、VCCノードと差動回路30の他
方の入力端との間には、プルアップ用のPMOSトラン
ジスタP3が接続されており、そのゲートには前記反転
プリチャージ信号/PSが与えられる。Further, a pull-up PMOS transistor P2 is connected between the VCC node and one input terminal of the differential circuit 30, and the gate of the PMOS transistor P2 is connected to the ground potential V.
SS is given. A pull-up PMOS transistor P3 is connected between the VCC node and the other input terminal of the differential circuit 30, and the gate thereof is supplied with the inverted precharge signal / PS.
【0041】次に、上記EPROMの動作を説明する。
ここで、通常の読み出し動作は、基本的には図7に示し
たEPROMの動作と同様であるのでその詳述を省略
し、以下、出力データの“1”→“1”または“0”→
“1”の読み出しモードにおける読み出し動作について
説明する。図4は、上記EPROMのアドレス選択から
データ出力までの一例を示すタイミング波形図である。Next, the operation of the EPROM will be described.
Here, the normal read operation is basically the same as the operation of the EPROM shown in FIG. 7, so that the detailed description is omitted, and hereinafter, the output data “1” → “1” or “0” →
The read operation in the read mode “1” will be described. FIG. 4 is a timing waveform diagram showing an example from the address selection of the EPROM to the data output.
【0042】いま、例えば選択セルS11、S1n-2からデ
ータを読み出す場合、行線WL0を選択して活性化
(“H”レベル)すると同時に列選択トランジスタCS
1を選択するための列選択信号線CL0を活性化
(“H”レベル)した後、読み出しイネーブル信号RD
ENを活性化(“H”レベル)する。この場合、選択セ
ルS11近傍の行線信号よりも選択セルS1n-2近傍の行線
信号の立上りが遅れるので、セルS11から共通列線DL
0に読み出されたデータのタイミングよりもセルS1n-2
から共通列線DL7に読み出されたデータのタイミング
が遅れる。そして、読み出しイネーブル信号RDENの
活性化から若干遅れて出力イネーブル信号OTENが活
性化(“H”レベル)すると、共通列線DL0の読み出
しデータOT0が出力データD“として出力バス7に出
力し、さらに、共通列線DL7の読み出しデータOT7
が出力データD7として出力バス7に出力するようにな
る。For example, when reading data from the selected cells S11 and S1n-2, the row line WL0 is selected and activated ("H" level), and at the same time, the column selection transistor CS is read.
After activating (“H” level) the column selection signal line CL0 for selecting “1”, the read enable signal RD
EN is activated ("H" level). In this case, the rise of the row line signal near the selected cell S1n-2 is delayed more than the row line signal near the selected cell S11.
Cell S1n-2 than the timing of the data read to 0
, The timing of the data read to the common column line DL7 is delayed. Then, when the output enable signal OTEN is activated ("H" level) slightly after the activation of the read enable signal RDEN, the read data OT0 of the common column line DL0 is output to the output bus 7 as the output data D ". , Read data OT7 of the common column line DL7
Are output to the output bus 7 as output data D7.
【0043】この後、列アドレス入力および読み出しイ
ネーブル信号RDENをそのままにして、行アドレス入
力を変化させて選択行線をWL0からWL1に切り換え
て選択セルS21、S2n-2からデータを読み出す場合に
も、上記と同様に、選択セルS21近傍の行線信号よりも
選択セルS2n-2近傍の行線信号の立上りが遅れるので、
セルS21の出力データD0とセルS2n-2の出力データD
7とではタイミングの違いが生じる。Thereafter, while the column address input and the read enable signal RDEN remain unchanged, the row address input is changed to switch the selected row line from WL0 to WL1 to read data from the selected cells S21 and S2n-2. Similarly to the above, the rise of the row line signal near the selected cell S2n-2 is delayed more than the row line signal near the selected cell S21.
Output data D0 of cell S21 and output data D of cell S2n-2
7 has a timing difference.
【0044】上記したような動作に際して、新たに選択
されたセルS2n-2がオン状態であった場合、つまり、出
力データD7の“1”→“1”または“0”→“1”の
読み出しモードにおいて、行線WL1の抵抗分(R21〜
R2n)や負荷容量による行選択信号の遅延が生じ、行デ
コーダ側とは反対側の他端部(終端部)に近い行選択信
号の立上りが遅れ、上記他端部の行選択信号の非選択期
間が長くなり、この非選択期間に、センスアンプの一方
の入力端に接続されているPMOSトランジスタP1、
P2により共通列線の電位がプルアップされる。In the above operation, when the newly selected cell S2n-2 is in the ON state, that is, reading "1" → "1" or "0" → "1" of the output data D7. In the mode, the resistance (R21 to R21) of the row line WL1 is used.
R2n) and the load capacitance cause a delay in the row selection signal, which delays the rise of the row selection signal near the other end (termination) opposite to the row decoder, and deselects the row selection signal at the other end. The period becomes longer, and during this non-selection period, the PMOS transistors P1, P2 connected to one input terminal of the sense amplifier,
The potential of the common column line is pulled up by P2.
【0045】しかし、本実施例のEEPROMにおいて
は、上記非選択期間(行線の切り換わり時)には、行デ
コーダ出力遷移検知回路11から検知出力ENBが発生
する。出力バッファ制御回路12は、この検知出力EN
Bが入力すると、出力バッファBF0〜BF7の動作を
不可能状態に制御する。However, in the EEPROM of this embodiment, a detection output ENB is generated from the row decoder output transition detection circuit 11 during the non-selection period (when the row line is switched). The output buffer control circuit 12 outputs the detection output EN
When B is input, the operation of the output buffers BF0 to BF7 is controlled to an impossible state.
【0046】したがって、データ読み出し時における出
力データD0〜D7の間でのアクセスタイム差が生じな
くなると共に、出力バッファBF0〜BF7の非動作期
間に出力データD7に“0”グリッチが発生することは
なく、出力データD7は、本来通り“1”→“1”また
は“0”→“1”と変化する。Therefore, there is no difference in the access time between the output data D0 to D7 during data reading, and no "0" glitch occurs in the output data D7 during the non-operation period of the output buffers BF0 to BF7. , The output data D7 changes from “1” → “1” or “0” → “1” as it should be.
【0047】このように出力データに“0”グリッチが
発生しないと、出力ラッチ回路(図示せず)のラッチタ
イミングの余裕が生じるので、メモリシステムの設計が
容易になると共にメモリシステムの誤動作の発生が防止
される。図5は、図2中の行デコーダ出力遷移検知回路
11の変形例を示す回路図である。If the "0" glitch does not occur in the output data as described above, a margin for latch timing of an output latch circuit (not shown) occurs, so that the design of the memory system becomes easy and the malfunction of the memory system occurs. Is prevented. FIG. 5 is a circuit diagram showing a modification of the row decoder output transition detection circuit 11 in FIG.
【0048】50は前記したようなダミーセルSD1、S
D2…およびダミー列線DBLを含むダミー列線回路であ
り、このダミー列線回路50の出力ノードと前記プルア
ップ用トランジスタP4との間に、2個のNMOSトラ
ンジスタN2、N3が直列に挿入されている。そして、
上記NMOSトランジスタN2のゲートはVCCノードに
接続されており、上記NMOSトランジスタN3のゲー
トには前記バイアス電圧BIASが印加される。その他の構
成は、図2中の行デコーダ出力遷移検知回路11と同じ
であるので、同じ符号を付している。図6(a)乃至図
6(c)は、図2中のダミーセルの変形例を示してい。Reference numeral 50 denotes the dummy cells SD1, S1 as described above.
And a dummy column line DBL. Two NMOS transistors N2 and N3 are inserted in series between the output node of the dummy column line circuit 50 and the pull-up transistor P4. ing. And
The gate of the NMOS transistor N2 is connected to the Vcc node, and the bias voltage BIAS is applied to the gate of the NMOS transistor N3. Other configurations are the same as those of the row decoder output transition detection circuit 11 in FIG. FIGS. 6A to 6C show modifications of the dummy cell in FIG.
【0049】即ち、図6(a)は、通常のNMOSトラ
ンジスタ、図6(b)は、EEPROMセル、図6
(c)は、消去ゲートを有するフラッシュ型のEEPR
OMセルを示している。6A is a normal NMOS transistor, FIG. 6B is an EEPROM cell, and FIG.
(C) shows a flash type EEPROM having an erase gate.
OM cell is shown.
【0050】[0050]
【発明の効果】上述したように本発明によれば、出力デ
ータの“1”→“1”または“0”→“1”の読み出し
モードにおいて、行線の抵抗分や負荷容量の存在による
行選択信号の遅延が生じても、行線の切り換わり時に
“0”グリッチが発生することを防止でき、“1”デー
タのアクセスタイムを改善し得る半導体読み出し専用記
憶装置を実現することができる。As described above, according to the present invention, in the read mode of "1" → "1" or "0" → "1" of the output data, the row line resistance or load capacitance causes the row data. Even if the selection signal is delayed, it is possible to prevent a "0" glitch from being generated when the row line is switched, and to realize a semiconductor read-only memory device capable of improving the access time of "1" data.
【図1】本発明の一実施例に係るEPROMを示すブロ
ック図。FIG. 1 is a block diagram showing an EPROM according to one embodiment of the present invention.
【図2】図1のEPROMの一部を示す回路図。FIG. 2 is a circuit diagram showing a part of the EPROM of FIG. 1;
【図3】図2中のセンスアンプの1個分を取り出して一
例を示す回路図。FIG. 3 is a circuit diagram showing one example of a sense amplifier taken out from FIG. 2;
【図4】図1のEPROMの読み出し動作の一例を示す
タイミング波形図。FIG. 4 is a timing waveform chart showing an example of a read operation of the EPROM of FIG. 1;
【図5】図2中の行デコーダ出力遷移検知回路の変形例
を示す回路図。FIG. 5 is a circuit diagram showing a modified example of the row decoder output transition detection circuit in FIG. 2;
【図6】図2中のダミーセルの変形例を示す回路図。FIG. 6 is a circuit diagram showing a modification of the dummy cell in FIG. 2;
【図7】従来のEPROMの一部を示すブロック図。FIG. 7 is a block diagram showing a part of a conventional EPROM.
【図8】図7のEPROMの一部を示す回路図。FIG. 8 is a circuit diagram showing a part of the EPROM of FIG. 7;
【図9】図7のEPROMの読み出し動作の一例を示す
タイミング波形図。9 is a timing waveform chart showing an example of a read operation of the EPROM of FIG.
1…メモリセルアレイ、2…行デコーダ、3…列セレク
タ、4…列デコーダ、5…出力回路、7…出力バス、1
1…行デコーダ出力遷移検知回路、12…出力バッファ
制御回路、50…ダミー列線回路、111、112…ノ
ア回路、121…ナンド回路、122…インバータ回
路、S11〜S1n、S21〜S2n…メモリセル、WL0、W
L1…行線、BL1〜BLn…列線、CS1〜CSn…
列選択トランジスタ、DL1〜DLn…共通列線、SA
0〜SA7…センスアンプ、BF0〜BF7…出力バッ
ファ、SD1、SD2…ダミーセル、DBL…ダミー列線。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Memory cell array, 2 ... Row decoder, 3 ... Column selector, 4 ... Column decoder, 5 ... Output circuit, 7 ... Output bus, 1
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Row decoder output transition detection circuit, 12 ... Output buffer control circuit, 50 ... Dummy column line circuit, 111, 112 ... NOR circuit, 121 ... NAND circuit, 122 ... Inverter circuit, S11-S1n, S21-S2n ... Memory cell , WL0, W
L1 ... row line, BL1 to BLn ... column line, CS1 to CSn ...
Column selection transistor, DL1 to DLn ... common column line, SA
0 to SA7: sense amplifier, BF0 to BF7: output buffer, SD1, SD2: dummy cell, DBL: dummy column line.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−76095(JP,A) 特開 昭64−17298(JP,A) 特表 昭61−500513(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 17/00 G11C 11/34 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-60-76095 (JP, A) JP-A-64-17298 (JP, A) Special table 61-500513 (JP, A) (58) Field (Int. Cl. 7 , DB name) G11C 17/00 G11C 11/34
Claims (5)
されたメモリセルアレイと、 このメモリセルアレイの行線を選択する行デコーダと、 上記メモリセルアレイの列線を選択する列選択トランジ
スタと、 この列選択トランジスタを制御する列デコーダと、 上記列選択トランジスタを経た選択列線からの読み出し
信号を検知・増幅するセンスアンプと、 このセンスアンプの出力をバッファ増幅するデータ出力
バッファと、前記行デコーダとは行線を挟んで反対側に配置され、行
アドレス入力の遷移時に前記行デコーダの全ての出力が
非選択状態になっていることを検知する 行デコーダ出力
遷移検知回路と、 この行デコーダ出力遷移検知回路の検知出力を受けて前
記データ出力バッファを非動作状態に制御する制御回路
とを具備し、 前記行デコーダ出力遷移検知回路は、前記読み出し専用
メモリセルと同じ種類のトランジスタからなり、ゲート
に前記行線を介して前記行デコーダの各出力がそれぞれ
入力するダミーセル用トランジスタと、これらのダミー
セル用トランジスタの各ドレインに共通に接続されたダ
ミー列線と、このダミー列線と電源との間に接続され、
ゲートにプリチャージ信号が供給されるプルアップ用の
トランジスタとを有する第1の論理回路と、 この第1の論理回路の出力および上記プリチャージ信号
が供給され、前記制御回路に検知出力を入力する第2の
論理回路とを備える ことを特徴とする半導体読み出し専
用記憶装置。A memory cell array in which read-only memory cells are arranged in a matrix; a row decoder for selecting a row line of the memory cell array; a column selection transistor for selecting a column line of the memory cell array; a column decoder for controlling the transistor, a sense amplifier for detecting and amplifying a read signal from the selected column line passing through the column selection transistor, and a data output buffer for buffering amplifying the output of the sense amplifier, the row decoder and row Lines located on opposite sides of the line
At the transition of the address input, all outputs of the row decoder
A row decoder output transition detection circuit for detecting that it is a non-selected state, before receiving the detection output of the row decoder output transition detection circuit
A control circuit for controlling the data output buffer to a non-operating state , wherein the row decoder output transition detection circuit is
It consists of the same type of transistor as the memory cell and has a gate
Output of the row decoder via the row line
Input dummy cell transistors and these dummy cells
A transistor commonly connected to each drain of the cell transistor
Connected between the dummy column line and the power supply,
For pull-up where the precharge signal is supplied to the gate
A first logic circuit having a transistor, an output of the first logic circuit and the precharge signal
Is supplied and a detection output is input to the control circuit.
A semiconductor read-only memory device comprising a logic circuit .
装置において、前記第1の論理回路及び前記第2の論理
回路はそれぞれ、ノア回路であることを特徴とする半導
体読み出し専用記憶装置。2. The semiconductor read-only memory according to claim 1, wherein:
In the apparatus, the first logic circuit and the second logic
A semiconductor read-only memory device, wherein each circuit is a NOR circuit .
されたメモリセルアレイと、 このメモリセルアレイの行線を選択する行デコーダと、 上記メモリセルアレイの列線を選択する列選択トランジ
スタと、 この列選択トランジスタを制御する列デコーダと、 上記列選択トランジスタを経た選択列線からの読み出し
信号を検知・増幅するセンスアンプと、 このセンスアンプの出力をバッファ増幅するデータ出力
バッファと、 前記行デコーダとは行線を挟んで反対側に配置され、行
アドレス入力の遷移時に前記行デコーダの全ての出力が
非選択状態になっていることを検知する行デコーダ出力
遷移検知回路と、 この行デコーダ出力遷移検知回路の検知出力を受けて前
記データ出力バッファを非動作状態に制御する制御回路
とを具備し、 前記行デコーダ出力遷移検知回路は、前記読み出し専用
メモリセルと同じ種類のトランジスタからなり、ゲート
に前記行線を介して前記行デコーダの各出力がそれぞれ
入力するダミーセル用トランジスタと、これらのダミー
セル用トランジスタの各ドレインに共通に接続されたダ
ミー列線とを有するダミー列線回路と、 電流通路の一端が電源に接続され、ゲートにプリチャー
ジ信号が供給されるプルアップ用の第1トランジスタ
と、 上記ダミー列線回路の出力ノードと前記第1トランジス
タの電流通路の他端との間に直列接続され、一方のゲー
トが電源に接続され、他方のゲートにバイアス電圧が印
加される第2,第3トランジスタと、 一方の入力端に前記第1トランジスタの電流通路の他端
が接続され、他方の入力端に上記プリチャージ信号が供
給され、前記制御回路に検知出力を入力する論理回路と
を備える ことを特徴とする半導体読み出し専用記憶装
置。3. The read-only memory cells are arranged in a matrix.
Memory cell array, a row decoder for selecting a row line of the memory cell array, and a column selection transistor for selecting a column line of the memory cell array.
, A column decoder controlling the column selection transistor, and reading from a selected column line via the column selection transistor.
A sense amplifier that detects and amplifies signals, and a data output that buffers and amplifies the output of this sense amplifier
A buffer and the row decoder are disposed on opposite sides of the row line,
At the transition of the address input, all outputs of the row decoder
Row decoder output to detect non-selection status
The transition detection circuit and the row decoder output
Control circuit for controlling the data output buffer to a non-operating state
Comprising the door, the row decoder output transition detection circuit, said read-only
It consists of the same type of transistor as the memory cell and has a gate
Output of the row decoder via the row line
Input dummy cell transistors and these dummy cells
A transistor commonly connected to each drain of the cell transistor
A dummy column line circuit having a me column line , one end of a current path connected to a power supply,
First transistor for pull-up to which a signal is supplied
When the output node of the dummy column line circuit first transistor
Connected in series with the other end of the current path of the
Connected to the power supply, and the bias voltage is impressed on the other gate.
Second and third transistors to be applied, and one input terminal connected to the other end of the current path of the first transistor.
Is connected, and the precharge signal is supplied to the other input terminal.
A logic circuit for supplying a detection output to the control circuit.
The semiconductor read only memory device, characterized in that it comprises a.
装置において、前記論理回路は、ノア回路であることを
特徴とする半導体読み出し専用記憶装置。4. A semiconductor read-only memory according to claim 3,
In the device, the logic circuit is a NOR circuit .
の半導体読み出し専用記憶装置において、前記制御回路
は、上記行デコーダ出力遷移検知回路の検知出力が入力
している時には、読み出しイネーブル信号の入力を禁止
して前記データ出力バッファを非動作状態に制御するこ
とを特徴とする半導体読み出し専用記憶装置。5. The method according to claim 1, wherein:
Semiconductor read-only memory device, wherein the control circuit
Is the detection output of the row decoder output transition detection circuit
Disables input of read enable signal
The semiconductor read only memory device comprising a this <br/> for controlling said data output buffer to the non-operating state by.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19035592A JP3238481B2 (en) | 1992-07-17 | 1992-07-17 | Semiconductor read-only memory |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19035592A JP3238481B2 (en) | 1992-07-17 | 1992-07-17 | Semiconductor read-only memory |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0636580A JPH0636580A (en) | 1994-02-10 |
| JP3238481B2 true JP3238481B2 (en) | 2001-12-17 |
Family
ID=16256816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19035592A Expired - Lifetime JP3238481B2 (en) | 1992-07-17 | 1992-07-17 | Semiconductor read-only memory |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3238481B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7352618B2 (en) * | 2004-12-15 | 2008-04-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Multi-level cell memory device and associated read method |
| JP4805698B2 (en) * | 2006-03-13 | 2011-11-02 | 株式会社東芝 | Semiconductor memory device |
-
1992
- 1992-07-17 JP JP19035592A patent/JP3238481B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0636580A (en) | 1994-02-10 |
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